JP5233061B2 - Antireflection film - Google Patents

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Description

【発明の属する技術分野】
本発明はディスプレイの表示画面表面に設けられた偏光フィルム、あるいはディスプレイ上に適用される反射防止フィルムに関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION
The present invention relates to a polarizing film provided on a display screen surface of a display or an antireflection film applied on the display.

【従来の技術】
多くのディスプレイは、室内外を問わず外光などが入射するような環境下で使用される。この外光などの入射光は、ディスプレイ表面等において正反射され、反射像が表示光と混合し表示品質を低下させ、表示画像を見にくくしている。
特に、最近のオフィスのOA化に伴い、コンピューターを使用する頻度が増し、ディスプレイと相対していることが長時間化した。これにより反射像等による表示品質の低下は、目の疲労など健康障害等を引き起こす要因とも考えられている。
さらに、近年、アウトドアライフの普及に伴い、各種ディスプレイを室外で使用する機会が益々増える傾向にあり、表示品質をより向上して表示画像を明確に認識できるようなディスプレイが要求されている。
これらの要求を満たすために、例えば、透明基材の表面に、金属酸化物などからなる高屈折率層と低屈折率層を積層した反射防止フィルム、あるいは無機や有機フッ素化合物などの低屈折率層を単層で形成した可視光の広範囲にわたり反射防止効果を有する反射防止フィルムをディスプレイ表面に貼り合わせる等して利用することが知られている。
これとは別に、透明プラスチックフィルム基材の表面に透明な微粒子を含むコーティング層を形成し、凹凸状の表面により外光を乱反射させるなどしても、同様の効果を得られることが知られている。
[Prior art]
Many displays are used in an environment where external light or the like enters regardless of whether indoors or outdoors. Incident light such as external light is specularly reflected on the display surface or the like, and the reflected image is mixed with display light to lower the display quality and make the display image difficult to see.
In particular, with the recent office use of office automation, the frequency of using computers has increased, and the fact that it is opposed to a display has become longer. As a result, a decrease in display quality due to a reflection image or the like is considered to be a factor causing health problems such as eye fatigue.
Further, in recent years, with the spread of outdoor life, there has been an increasing tendency to use various displays outdoors, and there is a demand for a display that can further improve display quality and clearly recognize a display image.
In order to satisfy these requirements, for example, an antireflection film in which a high refractive index layer and a low refractive index layer made of a metal oxide or the like are laminated on the surface of a transparent substrate, or a low refractive index such as an inorganic or organic fluorine compound. It is known that an antireflection film having an antireflection effect over a wide range of visible light formed by a single layer is bonded to the display surface.
Aside from this, it is known that the same effect can be obtained by forming a coating layer containing transparent fine particles on the surface of the transparent plastic film substrate and irregularly reflecting external light by the uneven surface. Yes.

【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、上記反射防止フィルムは、指紋、皮脂、汗、化粧品などの汚れが付着しやすく、また、付着したそれらの汚れが拭き取りにくく、使用するごとに防汚性能が大きく低下するといった問題があった。
[Problems to be solved by the invention]
However, the antireflection film has a problem that dirt such as fingerprints, sebum, sweat, cosmetics and the like is easily adhered, and the adhered dirt is difficult to wipe off, and the antifouling performance is greatly deteriorated every time it is used. .

本発明は、上記の問題点を解決するためになされたもので、優れた防汚性を有し、かつ光学性能や機械的強度に優れた反射防止フィルムを提供することを目的とする。
The present invention has been made to solve the above-described problems, and an object thereof is to provide an antireflection film having excellent antifouling properties and excellent optical performance and mechanical strength.

【課題を解決するための手段】
上記目的を達成するために、請求項1に係る発明は、透明プラスチックフィルム基材上に、ハードコート層および高屈折率層をこの順に有し、該高屈折率層上に直接低屈折率層を積層した光学機能層を備える反射防止フィルムであって、
前記高屈折率層が、酸化チタン、ITO、酸化ニオブ、酸化ジルコニウムから選ばれる少なくとも1種類の材料についてPVD法またはCVD法をおこなうことにより形成され、屈折率が1.7以上を有しており、
前記低屈折率層が、有機珪素化合物もしくは該有機珪素化合物の重合体のいずれかからなる組成物に、防汚性を有するフッ素含有有機珪素化合物もしくは該フッ素含有有機珪素化合物の重合体のいずれかからなる組成物を添加したコーティング溶液を塗布し乾燥し、前記有機珪素化合物もしくは該有機珪素化合物の重合体と、前記防汚性を有するフッ素含有有機珪素化合物もしくは該防汚性を有するフッ素含有有機珪素化合物の重合体の共重合体により形成され、屈折率が1.7以下を有しており、
前記ハードコート層に酸化珪素もしくはフッ化マグネシウムが混合分散されている
ことを特徴とする反射防止フィルム。
[Means for Solving the Problems]
In order to achieve the above object, the invention according to claim 1 has a hard coat layer and a high refractive index layer in this order on a transparent plastic film substrate, and a low refractive index layer directly on the high refractive index layer. An antireflection film comprising an optical functional layer laminated with
The high refractive index layer is formed by subjecting at least one material selected from titanium oxide, ITO, niobium oxide, and zirconium oxide to a PVD method or a CVD method, and has a refractive index of 1.7 or more. ,
Either the fluorine-containing organic silicon compound or the fluorine-containing organic silicon compound polymer having antifouling property is added to the composition in which the low refractive index layer is composed of either an organic silicon compound or a polymer of the organic silicon compound. A coating solution containing the composition is applied and dried, and the organosilicon compound or the polymer of the organosilicon compound and the antifouling fluorine-containing organosilicon compound or the antifouling fluorine-containing organic Formed of a copolymer of a polymer of a silicon compound and having a refractive index of 1.7 or less,
An antireflection film, wherein silicon oxide or magnesium fluoride is mixed and dispersed in the hard coat layer.

【発明の実施の形態】
以下、本発明の好ましい実施形態について詳細に説明する。
図1は、本発明の反射防止フィルムの一例を示した断面図である。
図1に示すように、本発明の反射防止フィルム1は、透明プラスチックフィルム基材2、ハードコート層3、光学機能層として反射防止層4から構成されている。そして、反射防止層4は、高屈折率層4aと防汚性を有する樹脂または化合物を添加した低屈折率層4bからなるものである。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION
Hereinafter, preferred embodiments of the present invention will be described in detail.
FIG. 1 is a cross-sectional view showing an example of the antireflection film of the present invention.
As shown in FIG. 1, the antireflection film 1 of the present invention comprises a transparent plastic film base material 2, a hard coat layer 3, and an antireflection layer 4 as an optical functional layer. The antireflection layer 4 is composed of a high refractive index layer 4a and a low refractive index layer 4b to which an antifouling resin or compound is added.

本発明における透明プラスチックフィルム基材2としては、種々の有機高分子からなる基材をあげることができる。通常、光学部材として使用される基材は、透明性、屈折率、分散などの光学特性、さらには耐衝撃性、耐熱性、耐久性などの諸物性の点から、ポリオレフィン系(ポリエチレン、ポリプロピレン等)、ポリエステル系(ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等)、ポリアミド系(ナイロン−6、ナイロン−66等)、ポリスチレン、ポリ塩化ビニル、ポリイミド、ポリビニルアルコール、エチレンビニルアルコール、アクリル、セルロース系(トリアセチルセルロース、ジアセチルセルロース、セロファン等)等、あるいはこれらの有機高分子の共重合体などが挙げられる。
Examples of the transparent plastic film substrate 2 in the present invention include substrates made of various organic polymers. Usually, the base material used as an optical member is a polyolefin-based material (polyethylene, polypropylene, etc.) from the viewpoints of optical properties such as transparency, refractive index, dispersion, and various physical properties such as impact resistance, heat resistance, and durability. ), Polyester (polyethylene terephthalate, polyethylene naphthalate, etc.), polyamide (nylon-6, nylon-66, etc.), polystyrene, polyvinyl chloride, polyimide, polyvinyl alcohol, ethylene vinyl alcohol, acrylic, cellulose (triacetyl cellulose) , Diacetylcellulose, cellophane, etc.), or a copolymer of these organic polymers.

これらの透明プラスチックフィルム基材2を構成する有機高分子に、公知の添加剤、例えば、帯電防止剤、紫外線吸収剤、可塑剤、滑剤、着色剤、酸化防止剤、難燃剤等を含有させたものも使用することができる。
また、この透明プラスチックフィルム基材2としては、単層、あるいは複数の有機高分子を積層したものでも良い。また、その厚みは、特に限定されるものではないが、70〜200μmが好ましい。
The organic polymer constituting these transparent plastic film substrates 2 contains known additives such as antistatic agents, ultraviolet absorbers, plasticizers, lubricants, colorants, antioxidants, flame retardants and the like. Things can also be used.
The transparent plastic film substrate 2 may be a single layer or a laminate of a plurality of organic polymers. The thickness is not particularly limited, but is preferably 70 to 200 μm.

本発明におけるハードコート層3は、透明プラスチックフィルム基材2の表面の硬度を向上させ、鉛筆等の荷重のかかる引っ掻きによる傷を防止し、また、透明プラスチックフィルム基材2の屈曲による反射防止層のクラック発生を抑制することができ、反射防止フィルムの機械的強度が改善できる。ハードコート層2は1分子中に2個以上の(メタ)アクリロイルオキシ基を含有する多官能性モノマーを主成分とする重合物からなる。
The hard coat layer 3 in the present invention improves the hardness of the surface of the transparent plastic film substrate 2, prevents scratches caused by scratching with a load such as a pencil, and the antireflection layer by bending of the transparent plastic film substrate 2. Generation of cracks can be suppressed, and the mechanical strength of the antireflection film can be improved. The hard coat layer 2 is composed of a polymer mainly composed of a polyfunctional monomer containing two or more (meth) acryloyloxy groups in one molecule.

多官能性モノマーとしては、1,4−ブタンジオールジ(メタ)アクリレート、1,6−ヘキサンジオールジ(メタ)アクリレート、ネオペンチルグリコール(メタ)アクリレート、エチレングリコールジ(メタ)アクリレート、トリエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、トリプロピレングリコールジ(メタ)アクリレート、ジプロピレングリコールジ(メタ)アクリレート、3−メチルペンタンジオールジ(メタ)アクリレート、ジエチレングリコールビスβ−(メタ)アクリロイルオキシプロピネート、トリメチロールエタントリ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート、トリ(2−ヒドロキシエチル)イソシアネートジ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、2,3−ビス(メタ)アクリロイルオキシエチルオキシメチル[2. 2.1]ヘプタン、ポリ1,2−ブタジエンジ(メタ)アクリレート、1,2−ビス(メタ)アクリロイルオキシメチルヘキサン、ノナエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、テトラデカンエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、10−デカンジオール(メタ)アクリレート、3,8−ビス(メタ)アクリロイルオキシメチルトリシクロ[5.2.10]デカン、水素添加ビスフェノールAジ(メタ)アクリレート、2,2−ビス(4−(メタ)アクリロイルオキシジエトキシフェニル)プロパン、1,4−ビス((メタ)アクリロイルオキシメチル)シクロヘキサン、ヒドロキシピバリン酸エステルネオペンチルグリコールジ(メタ)アクリレート、ビスフェノールAジグリシジルエーテルジ(メタ)アクリレート、エボキシ変成ビスフェノールAジ(メタ)アクリレート等を挙げることができる。
As polyfunctional monomers, 1,4-butanediol di (meth) acrylate, 1,6-hexanediol di (meth) acrylate, neopentyl glycol (meth) acrylate, ethylene glycol di (meth) acrylate, triethylene glycol Di (meth) acrylate, tripropylene glycol di (meth) acrylate, dipropylene glycol di (meth) acrylate, 3-methylpentanediol di (meth) acrylate, diethylene glycol bis β- (meth) acryloyloxypropionate, trimethylolethane Tri (meth) acrylate, trimethylolpropane tri (meth) acrylate, pentaerythritol tri (meth) acrylate, dipentaerythritol hexa (meth) acrylate, tri (2-H Rokishiechiru) isocyanate di (meth) acrylate, pentaerythritol tetra (meth) acrylate, 2,3-bis (meth) acryloyloxyethyl oxymethyl [2. 2.1] heptane, poly 1,2-butadiene di (meth) acrylate, 1,2-bis (meth) acryloyloxymethylhexane, nonaethylene glycol di (meth) acrylate, tetradecanethylene glycol di (meth) acrylate, 10 -Decanediol (meth) acrylate, 3,8-bis (meth) acryloyloxymethyltricyclo [5.2.10] decane, hydrogenated bisphenol A di (meth) acrylate, 2,2-bis (4- (meta ) Acryloyloxydiethoxyphenyl) propane, 1,4-bis ((meth) acryloyloxymethyl) cyclohexane, hydroxypivalate ester neopentyl glycol di (meth) acrylate, bisphenol A diglycidyl ether di (meth) acrylate, eboxy Forming bisphenol A di (meth) acrylate, and the like.

多官能モノマーは、一種類のみを使用しても良いし、二種類以上を併用しても良い。また、必要で有れば単官能モノマーと併用して共重合させることもできる。ハードコート層3は透明プラスチックフィルム基材1と屈折率が同等もしくは近似していることがより好ましい。膜厚は3μm以上あれば十分な強度となるが、透明性、塗工精度、取り扱いから5〜7μmの範囲が好ましい。
Only one type of polyfunctional monomer may be used, or two or more types may be used in combination. Further, if necessary, it can be copolymerized in combination with a monofunctional monomer. It is more preferable that the hard coat layer 3 has a refractive index equivalent to or close to that of the transparent plastic film substrate 1. If the film thickness is 3 μm or more, the strength is sufficient.

前記ハードコート層3に平均粒子径0.01〜3μmの無機あるいは有機物微粒子を混合分散させるか、または、表面形状を凹凸させることで一般的にアンチグレアと呼ばれる光拡散性処理を施すことができる。これらの微粒子は透明であれば特に限定されるものではないが、低屈折率材料が好ましく、酸化珪素、フッ化マグネシウムが安定性、耐熱性等で好ましい。これらのハードコート層3は、透明プラスチックフィルム基材2に対して平滑に、かつ、均一に塗布されるものであれば、塗布方法はいかなる方法でも構わない。さらに塗布後、エンボス加工したものであっても構わない。
A light diffusive treatment generally called anti-glare can be performed by mixing and dispersing inorganic or organic fine particles having an average particle diameter of 0.01 to 3 μm in the hard coat layer 3 or by making the surface shape uneven. These fine particles are not particularly limited as long as they are transparent, but a low refractive index material is preferable, and silicon oxide and magnesium fluoride are preferable in terms of stability, heat resistance, and the like. The hard coat layer 3 may be applied by any method as long as it is applied smoothly and uniformly to the transparent plastic film substrate 2. Further, it may be embossed after coating.

本発明における反射防止層4は、高屈折率層4aと低屈折率層4bを、順次、所定の光学膜厚(nd)で積層させることにより機能を発現するものである。高屈折率層4aとは、屈折率が1.70以上のものであり、低屈折率層4bとは、屈折率が1.70以下のものである。
The antireflection layer 4 in the present invention exhibits a function by sequentially laminating a high refractive index layer 4a and a low refractive index layer 4b with a predetermined optical film thickness (nd). The high refractive index layer 4a has a refractive index of 1.70 or higher, and the low refractive index layer 4b has a refractive index of 1.70 or lower.

本発明における高屈折率層4aを形成する材料としては、金属酸化物〔酸化ジルコニウム、酸化ニオブ、酸化スズ、酸化チタン、酸化亜鉛、酸化インジウム、酸化アンチモン、酸化ビスマス、酸化セレン、酸化トリウム、酸化アルミニウム、酸化イットリウム、酸化マグネシウム、酸化セリウム、ITO(Indium Tin Oxide)等〕等の一種単独または二種以上の組み合わせが挙げられる。これらの中で、特に酸化チタン、ITO、酸化ニオブ、酸化ジルコニウムは透明高屈折率材料として、本発明に適している。この高屈折率層4aは、PVD(Physical Vapor Deposition)法(真空蒸着法、反応性蒸着法、イオンビームアシスト法、スパッタリング法、イオンプレーティング法等)、CVD(Chemical Vapor Deposition)法等の公知の方法により形成される。
As a material for forming the high refractive index layer 4a in the present invention, metal oxides [zirconium oxide, niobium oxide, tin oxide, titanium oxide, zinc oxide, indium oxide, antimony oxide, bismuth oxide, selenium oxide, thorium oxide, oxide Aluminum, yttrium oxide, magnesium oxide, cerium oxide, ITO (Indium Tin Oxide), etc.] alone or in combination of two or more. Among these, titanium oxide, ITO, niobium oxide, and zirconium oxide are particularly suitable for the present invention as transparent high refractive index materials. The high refractive index layer 4a is formed by a known method such as a PVD (Physical Vapor Deposition) method (vacuum vapor deposition method, reactive vapor deposition method, ion beam assist method, sputtering method, ion plating method, etc.), CVD (Chemical Vapor Deposition) method, or the like. It is formed by the method.

また、防汚剤添加低屈折率層4bを形成する材料としては、防汚性を有する樹脂もしくは化合物が添加されている低屈折率材料で有ればいかなるものでも良い。
例えば、有機珪素化合物、若しくはこの有機珪素化合物の重合体のいずれかからなる組成物に、防汚性を有するフッ素含有有機珪素化合物、もしくはこのフッ素含有有機珪素化合物の重合体のいずれかからなる組成物を添加する。
Further, the material for forming the antifouling agent-added low refractive index layer 4b may be any material as long as it is a low refractive index material to which an antifouling resin or compound is added.
For example, a composition comprising either an organosilicon compound or a polymer of this organosilicon compound, and a composition comprising any of a fluorine-containing organosilicon compound having antifouling properties or a polymer of this fluorine-containing organosilicon compound Add ingredients.

例えば、有機珪素化合物としては、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、テトラ−n−プロポキシシラン、テトライソプロポキシシラン、テトラブトキシシラン、ビニル基含有珪素化合物〔ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン等〕、アミノ基含有珪素化合物〔N−(2−アミノエチル)−3−アミノプロピルトリメトキシシラン、3−アミノプロピルトリメトキシシラン、3−アミノプロピルトリエトキシシラン等〕、エポキシ基含有珪素化合物〔3−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、2−(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチルトリメトキシシラン等〕、クロル基含有珪素化合物〔3−クロロプロピルトリメトキシシラン、3−クロロプロピルトリエトキシシラン等〕、メタクリロキシ基含有珪素化合物〔3−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、3−メタクリロキシプロピルトリエトキシシラン等〕、アクリロキシ基含有珪素化合物〔3−アクリロキシプロピルトリメトキシシラン、3−アクリロキシプロピルトリエトキシシラン等〕、イソシアナート基含有珪素化合物〔3−イソシアナートプロピルトリメトキシシラン、3−イソシアナートプロピルトリエトキシシラン等〕等が例示でき、それらを単独に、あるいは2種類以上併せて用いてもよい。
For example, as an organosilicon compound, tetramethoxysilane, tetraethoxysilane, tetra-n-propoxysilane, tetraisopropoxysilane, tetrabutoxysilane, vinyl group-containing silicon compound (vinyltrimethoxysilane, vinyltriethoxysilane, etc.), Amino group-containing silicon compounds [N- (2-aminoethyl) -3-aminopropyltrimethoxysilane, 3-aminopropyltrimethoxysilane, 3-aminopropyltriethoxysilane, etc.], epoxy group-containing silicon compounds [3-glycol Sidoxypropyltrimethoxysilane, 2- (3,4-epoxycyclohexyl) ethyltrimethoxysilane, etc.], chloro group-containing silicon compounds [3-chloropropyltrimethoxysilane, 3-chloropropyltriethoxysilane, etc.], methacryloxy groups Contains Elemental compounds [3-methacryloxypropyltrimethoxysilane, 3-methacryloxypropyltriethoxysilane, etc.], acryloxy group-containing silicon compounds [3-acryloxypropyltrimethoxysilane, 3-acryloxypropyltriethoxysilane, etc.], isocyanate Examples thereof include a silicon group-containing silicon compound [3-isocyanatopropyltrimethoxysilane, 3-isocyanatopropyltriethoxysilane, etc.], and these may be used alone or in combination of two or more.

また、防汚性を有するフッ素含有有機珪素化合物としては、CF(CHSi(OCH、CFCF(CHSi(OCH、CF(CF(CHSi(OCH、CF(CF(CHSi(OCH、CF(CF(CHSi(OCH、CF(CF(CHSi(OCH、CF(CF(CHSi(OCH、CF(CF(CHSi(OCH、CF(CF(CHSi(OCH、CF(CF(CHSi(OCH、CF(CHSi(OC、CFCF(CHSi(OC、CF(CF(CHSi(OC、CF(CF(CHSi(OC、CF(CF(CHSi(OC、CF(CF(CHSi(OC、CF(CF(CHSi(OC、CF(CF(CHSi(OC、CF(CF(CHSi(OC、CF(CF(CHSi(OC等が例示でき、それらを単独に、あるいは2種類以上併せて用いてもよい。
Examples of the fluorine-containing organosilicon compound having antifouling properties include CF 3 (CH 2 ) 2 Si (OCH 3 ) 3 , CF 3 CF 2 (CH 2 ) 2 Si (OCH 3 ) 3 , and CF 3 (CF 2 ) 2 (CH 2 ) 2 Si (OCH 3 ) 3 , CF 3 (CF 2 ) 3 (CH 2 ) 2 Si (OCH 3 ) 3 , CF 3 (CF 2 ) 4 (CH 2 ) 2 Si (OCH 3 ) 3 , CF 3 (CF 2 ) 5 (CH 2 ) 2 Si (OCH 3 ) 3 , CF 3 (CF 2 ) 6 (CH 2 ) 2 Si (OCH 3 ) 3 , CF 3 (CF 2 ) 7 (CH 2 ) ) 2 Si (OCH 3 ) 3 , CF 3 (CF 2 ) 8 (CH 2 ) 2 Si (OCH 3 ) 3 , CF 3 (CF 2 ) 9 (CH 2 ) 2 Si (OCH 3 ) 3 , CF 3 ( CH 2) 2 Si (OC 2 H 5 3, CF 3 CF 2 (CH 2) 2 Si (OC 2 H 5) 3, CF 3 (CF 2) 2 (CH 2) 2 Si (OC 2 H 5) 3, CF 3 (CF 2) 3 (CH 2 ) 2 Si (OC 2 H 5 ) 3 , CF 3 (CF 2 ) 4 (CH 2 ) 2 Si (OC 2 H 5 ) 3 , CF 3 (CF 2 ) 5 (CH 2 ) 2 Si (OC 2 H) 5 ) 3 , CF 3 (CF 2 ) 6 (CH 2 ) 2 Si (OC 2 H 5 ) 3 , CF 3 (CF 2 ) 7 (CH 2 ) 2 Si (OC 2 H 5 ) 3 , CF 3 (CF 2 ) 8 (CH 2 ) 2 Si (OC 2 H 5 ) 3 , CF 3 (CF 2 ) 9 (CH 2 ) 2 Si (OC 2 H 5 ) 3 and the like can be exemplified, and these can be used alone or in two types You may use together.

上記の有機珪素化合物を用いた重合体と、防汚性を有するフッ素含有有機珪素化合物を用いた重合体を用いて共重合体を作製する方法は限定されないが、加水分解によって作製する場合の触媒としては、塩酸、蓚酸、硝酸、酢酸、フッ酸、ギ酸、リン酸、蓚酸、アンモニア、アルミニウムアセトナート、ジブチルスズラウレート、オクチル酸スズ化合物、メタンスルホン酸、トリクロロメタンスルホン酸、パラトルエンスルホン酸、トリフロロ酢酸等が例示でき、それらを単独に、或いは2種類以上併せて用いてもよい。
A method for producing a copolymer using a polymer using the above organosilicon compound and a polymer using a fluorine-containing organosilicon compound having antifouling properties is not limited. As hydrochloric acid, oxalic acid, nitric acid, acetic acid, hydrofluoric acid, formic acid, phosphoric acid, oxalic acid, ammonia, aluminum acetonate, dibutyltin laurate, tin octylate compound, methanesulfonic acid, trichloromethanesulfonic acid, paratoluenesulfonic acid, Trifluoroacetic acid etc. can be illustrated and they may be used alone or in combination of two or more.

上記の有機珪素化合物、もしくはこの有機珪素化合物の重合体のいずれかからなる組成物に、防汚性を有するフッ素含有有機珪素化合物、もしくはこのフッ素含有有機珪素化合物の重合体のいずれかからなる組成物を添加する。
A composition comprising any one of the above-described organosilicon compound or a polymer of this organosilicon compound, and a composition comprising any of a fluorine-containing organosilicon compound having antifouling properties or a polymer of this fluorine-containing organosilicon compound. Add ingredients.

上記の低屈折率材料は、通常、揮発性溶媒に希釈して塗布される。希釈溶媒として用いられるものは、特に限定されないが、組成物の安定性、下地に対する濡れ性、揮発性などを考慮して、メタノール、エタノール、イソプロパノール、ブタノール、2−メトキシエタノール等のアルコール類、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチル等のケトン類、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル類、ジイソプロピルエーテル等のエーテル類、エチレングリコール、プロピレングリコール、ヘキシレングリコール等のグリコール類、エチルセロソルブ、ブチルセロソルブ、エチルカルビトール、ブチルカルビトール等のグリコールエーテル類、ヘキサン、ヘプタン、オクタン等の脂肪族炭化水素類、ハロゲン化炭化水素、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素、N−メチ
ルピロリドン、ジメチルホルムアミド等が挙げられる。また、溶媒は1種類のみならず2種類以上の混合物として用いることも可能である。
The low refractive index material is usually applied after being diluted in a volatile solvent. Although what is used as a dilution solvent is not specifically limited, Alcohols, such as methanol, ethanol, isopropanol, butanol, 2-methoxyethanol, acetone, in consideration of the stability of a composition, the wettability with respect to a foundation | substrate, volatility, etc. , Ketones such as methyl ethyl ketone and methyl isobutyl, esters such as methyl acetate, ethyl acetate and butyl acetate, ethers such as diisopropyl ether, glycols such as ethylene glycol, propylene glycol and hexylene glycol, ethyl cellosolve, butyl cellosolve, ethyl Glycol ethers such as carbitol and butyl carbitol, aliphatic hydrocarbons such as hexane, heptane and octane, halogenated hydrocarbons, aromatic hydrocarbons such as benzene, toluene and xylene, N-methylpyrrole Emissions, dimethylformamide and the like. Further, the solvent can be used not only as one type but also as a mixture of two or more types.

本発明における低屈折率層は、前記低屈折率材料を、ウェットコーティング法(ディップコーティング法、スピンコーティング法、フローコーティング法、スプレーコーティング法、ロールコーティング法、グラビアロールコーティング法、エアドクターコーティング法、プレードコーティング法、ワイヤードクターコーティング法、ナイフコーティング法、リバースコーティング法、トランスファロールコーティング法、マイクログラビアコーティング法、キスコーティング法、キャストコーティング法、スロットオリフィスコーティング法、カレンダーコーティング法、ダイコーティング法等)等の公知の塗工方法によって形成される。
The low refractive index layer in the present invention is obtained by applying the low refractive index material to a wet coating method (dip coating method, spin coating method, flow coating method, spray coating method, roll coating method, gravure roll coating method, air doctor coating method, (Plade coating method, wire doctor coating method, knife coating method, reverse coating method, transfer roll coating method, micro gravure coating method, kiss coating method, cast coating method, slot orifice coating method, calendar coating method, die coating method, etc.) It is formed by a known coating method.

塗工後、加熱乾燥により塗膜中の溶媒を揮発させ、その後、加熱、加湿、紫外線照射、電子線照射等を行い塗膜を硬化させる。
また、この低屈折率層の厚さ(d)は、低屈折率層の屈折率をnとすると、nd=λ/4であることが好ましい。
After coating, the solvent in the coating film is volatilized by heating and drying, and then the coating film is cured by heating, humidification, ultraviolet irradiation, electron beam irradiation, and the like.
The thickness (d) of the low refractive index layer is preferably nd = λ / 4, where n is the refractive index of the low refractive index layer.

【実施例】
以下、本発明の実施例について詳細に説明するが、本発明は実施例に限定されるものではない。
透明プラスチックフィルム基材2のTACフィルム(厚さ:80μm)上に、多官能アクリルモノマーであるジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレートからなるハードコートコーティング剤をマイクログラビア法により膜厚5nmで塗布し、ハードコート層3を形成した。
高屈折率層4aを形成する材料として、TiOを使用した。成膜方法は、プラズマアシストEB蒸着方を採用した。膜厚は、光学式膜厚モニターにより監視し、目的光量に達したときに成膜をとめ、所定の光学膜厚(nd:23nm,n:2.30)を得た。
【Example】
Examples of the present invention will be described in detail below, but the present invention is not limited to the examples.
On the TAC film (thickness: 80 μm) of the transparent plastic film substrate 2, a hard coat coating agent comprising dipentaerythritol hexaacrylate and pentaerythritol tetraacrylate, which are polyfunctional acrylic monomers, is applied at a film thickness of 5 nm by the microgravure method. Then, the hard coat layer 3 was formed.
TiO 2 was used as a material for forming the high refractive index layer 4a. As a film forming method, a plasma assisted EB deposition method was adopted. The film thickness was monitored by an optical film thickness monitor, and when the target light amount was reached, the film formation was stopped to obtain a predetermined optical film thickness (nd: 23 nm, n: 2.30).

Si(OCを95mol%、CF(CF(CHSi(OCH)を5mol%で混合し、1.0N−HClを触媒に用いた低屈折率材料を作製し、マイクログラビア法を用いてコーティング溶液を膜厚100nmで塗布し、120℃で1分間乾燥を行うことにより、低屈折率層を形成した。
A low-refractive index material in which Si (OC 2 H 5 ) 4 is mixed at 95 mol%, CF 3 (CF 2 ) 7 (CH 2 ) 2 Si (OCH 3 ) is mixed at 5 mol%, and 1.0 N HCl is used as a catalyst. A low refractive index layer was formed by applying a coating solution with a film thickness of 100 nm using a micro gravure method and drying at 120 ° C. for 1 minute.

上記で得られた反射防止フィルムについて評価した結果を以下に示す。
まず、分光光度計(日立製作所製U4000)により反射防止フィルムの反射率を測定したところ、その平均反射率は、0.8%となり良好な反射防止性能が得られたことがわかった。
The result evaluated about the antireflection film obtained above is shown below.
First, when the reflectance of the antireflection film was measured with a spectrophotometer (U4000 manufactured by Hitachi, Ltd.), it was found that the average reflectance was 0.8%, and good antireflection performance was obtained.

つぎに、接触角計〔CA−X型:協和界面科学(株)製〕を用いて、反射防止フィルム表面の純水接触角を測定したところ、105°となり、高い撥水性を示した。反射防止フィルム表面に付着させた油性ペンをセルロース製不織布〔ベンコットM−3:旭化成(株)製〕で拭き取り、その取れ易さを目視判定で行ったところ、油性ペンを完全に拭き取ることができた。また、反射防止フィルム表面に付着させた指紋をセルロース製不織布〔ベンコットM−3:旭化成(株)製〕で拭き取り、その取れ易さを目視判定で行ったところ、指紋を完全に拭き取ることができた。以上のように、本発明の反射防止フィルムは優れた防汚性能を有していることがわかった。
最後に、反射防止フィルム表面をスチールウール〔ボンスター♯0000:日本スチールウール(株)製〕により250g/cm2で20回擦り、傷の有無を目視判定で行った結果、傷は認められなかった。また、反射防止フィルム表面を、3Hの鉛筆(三菱鉛筆製)で500g荷重にて引っ掻き試験をしたところ、傷は認められなかった。さらに、反射防止フィルム表面を1mm角100点カット後、粘着セロハンテープ(ニチバン製、工業用24mm巾)による剥離の有無を目視判定で行ったところ、剥離は観測されなかった。
このように、実施例により得られた本発明の反射防止フィルムは反射防止性能と防汚性能に優れるとともに、機械強度にも優れるものであることがわかった。
Next, when the contact angle meter [CA-X type: manufactured by Kyowa Interface Science Co., Ltd.] was used to measure the pure water contact angle on the surface of the antireflection film, it was 105 °, indicating high water repellency. The oil-based pen attached to the surface of the antireflection film is wiped with a cellulose nonwoven fabric [Bencott M-3: manufactured by Asahi Kasei Co., Ltd.], and when it is easily removed by visual judgment, the oil-based pen can be completely wiped off. It was. In addition, the fingerprint attached to the surface of the antireflection film is wiped with a cellulose nonwoven fabric [Bencot M-3: manufactured by Asahi Kasei Co., Ltd.], and when the ease of removal is determined by visual judgment, the fingerprint can be completely wiped off. It was. As described above, it was found that the antireflection film of the present invention has excellent antifouling performance.
Finally, the surface of the antireflection film was rubbed 20 times with steel wool [Bonster # 0000: manufactured by Nippon Steel Wool Co., Ltd.] 20 times at 250 g / cm 2. Further, when the surface of the antireflection film was scratched with a 3H pencil (Mitsubishi Pencil Co., Ltd.) under a load of 500 g, no scratch was observed. Further, after the surface of the antireflection film was cut at 100 points of 1 mm square, the presence or absence of peeling with an adhesive cellophane tape (manufactured by Nichiban, industrial width 24 mm) was visually determined. No peeling was observed.
As described above, it was found that the antireflection film of the present invention obtained by Examples was excellent in antireflection performance and antifouling performance and also in mechanical strength.

【発明の効果】
本発明によれば、最外層となる低屈折率層に防汚性を有する樹脂もしくは化合物を添加させることで、優れた防汚性を有し、かつ光学性能や機械的強度に優れた反射防止フィルムを提供することができる。
本発明の反射防止フィルムは、ディスプレイの表示画面表面に設けられた偏光フィルム、あるいはディスプレイ上に有効に適用されるものである。
【Effect of the invention】
According to the present invention, by adding a resin or compound having antifouling property to the low refractive index layer which is the outermost layer, antireflection having excellent antifouling property and excellent optical performance and mechanical strength A film can be provided.
The antireflection film of the present invention is effectively applied to a polarizing film provided on the display screen surface of the display or the display.

Claims (1)

透明プラスチックフィルム基材上に、ハードコート層および高屈折率層をこの順に有し、該高屈折率層上に直接低屈折率層を積層した光学機能層を備える反射防止フィルムであって、
前記高屈折率層が、酸化チタン、ITO、酸化ニオブ、酸化ジルコニウムから選ばれる少なくとも1種類の材料についてPVD法またはCVD法をおこなうことにより形成され、屈折率が1.7以上を有しており、
前記低屈折率層が、有機珪素化合物もしくは該有機珪素化合物の重合体のいずれかからなる組成物に、防汚性を有するフッ素含有有機珪素化合物もしくは該フッ素含有有機珪素化合物の重合体のいずれかからなる組成物を添加したコーティング溶液を塗布し乾燥し、前記有機珪素化合物もしくは該有機珪素化合物の重合体と、前記防汚性を有するフッ素含有有機珪素化合物もしくは該防汚性を有するフッ素含有有機珪素化合物の重合体の共重合体により形成され、屈折率が1.7以下を有しており、
前記ハードコート層に酸化珪素もしくはフッ化マグネシウムが混合分散されている
ことを特徴とする反射防止フィルム。
An antireflection film comprising an optical functional layer having a hard coat layer and a high refractive index layer in this order on a transparent plastic film substrate, and a low refractive index layer directly laminated on the high refractive index layer,
The high refractive index layer is formed by subjecting at least one material selected from titanium oxide, ITO, niobium oxide, and zirconium oxide to a PVD method or a CVD method, and has a refractive index of 1.7 or more. ,
Either the fluorine-containing organic silicon compound or the fluorine-containing organic silicon compound polymer having antifouling property is added to the composition in which the low refractive index layer is composed of either an organic silicon compound or a polymer of the organic silicon compound. A coating solution containing the composition is applied and dried, and the organosilicon compound or the polymer of the organosilicon compound and the antifouling fluorine-containing organosilicon compound or the antifouling fluorine-containing organic Formed of a copolymer of a polymer of a silicon compound and having a refractive index of 1.7 or less,
An antireflection film, wherein silicon oxide or magnesium fluoride is mixed and dispersed in the hard coat layer.
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