JP2001116904A - Multilayered antireflection film - Google Patents
Multilayered antireflection filmInfo
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Abstract
Description
【0001】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は、LCD、CRT、
PDPなどの各種ディスプレイ、眼鏡レンズなどの各種
レンズにおける表面の反射率低下に有効な反射防止膜に
関する。特に、量産性と高い膜硬度を実現する多層反射
防止膜に関する。The present invention relates to an LCD, a CRT,
The present invention relates to an antireflection film effective for reducing the reflectance of the surface of various displays such as PDPs and various lenses such as spectacle lenses. In particular, the present invention relates to a multilayer antireflection film that achieves mass productivity and high film hardness.
【0002】[0002]
【従来の技術】近年、LCDの普及、大型化や野外での
使用に伴い、視認性確保、防汚性や耐熱性の向上が求め
られている。視認性の向上は、ディスプレイにとって重
要な課題であり、活発に視認性向上のための検討が行わ
れている。一般に視認性を低下させる要因は外光の表面
反射による景色の写り込みであり、これらに対する対処
として、最表面に反射防止膜を設ける方法が用いられて
いる。この反射防止膜は、その機能発現のために最表面
に設けられるため、必然的に反射防止膜の性能に対して
多くの高品質化が要求される。例えば、反射率低減、指
紋や油脂などの付着防止や易除去性、高温環境下での諸
性能の維持などである。従来、可視光域をカバーできる
反射防止膜としては、金属酸化物等の透明薄膜を積層さ
せた多層膜が用いられてきた。単層膜では、単色光に対
してのみ有効であるのに対し、多層膜においては積層数
が多いほど広い波長域で有効な反射防止が実現される。
しかしながら、従来、このような多層膜は物理的または
化学的蒸着法などにより金属酸化物等を3層以上積層し
たものが用いられてきた。このような多層蒸着した反射
防止膜は、あらかじめ最適に設計された各層の屈折率と
膜厚との関係に従い、その膜厚を高精度に制御した蒸着
を何回も行う必要があり、非常に高コストかつ大面積へ
の処理が困難なものであった。一方、上記多層膜形成方
法以外に、高い生産性を得るために、無機あるいは有機
超微粒子を分散させた溶液をスピンコート、ディップコ
ート、ロールコートなどを用いて塗布、焼成する方法に
関する提案がなされている。しかしながら、この方法に
よると、大量生産には有利であるが、基本的に高温での
焼成過程を必要とするため、耐熱性のないプラスチック
を基材とする場合には、蒸着法に比べ、機械的強度、密
着性、耐久性に劣るものであった。2. Description of the Related Art In recent years, as LCDs have become widespread, large-sized, and used outdoors, it has been required to ensure visibility and to improve antifouling properties and heat resistance. Improving visibility is an important issue for displays, and studies are actively being made to improve visibility. In general, the factor that lowers visibility is reflection of scenery due to surface reflection of external light, and a method of providing an anti-reflection film on the outermost surface has been used as a countermeasure against them. Since this antireflection film is provided on the outermost surface in order to exhibit its function, it is inevitably required to improve the performance of the antireflection film in many ways. For example, reduction of reflectance, prevention of adhesion of fingerprints and fats and oils, easy removability, maintenance of various performances in a high temperature environment, and the like. Conventionally, as an antireflection film capable of covering a visible light region, a multilayer film in which transparent thin films such as metal oxides are stacked has been used. A single-layer film is effective only for monochromatic light, whereas a multilayer film has more effective antireflection in a wider wavelength range as the number of layers increases.
However, heretofore, such a multilayer film has been used in which three or more metal oxides or the like are laminated by a physical or chemical vapor deposition method or the like. According to the relationship between the refractive index and the film thickness of each layer, which has been optimally designed in advance, it is necessary to perform the deposition in which the film thickness is controlled with high precision many times. High cost and difficult to process on a large area. On the other hand, in addition to the above-mentioned multilayer film forming method, in order to obtain high productivity, a method in which a solution in which inorganic or organic ultrafine particles are dispersed is applied using spin coating, dip coating, roll coating, or the like, and a method for firing is proposed. ing. However, although this method is advantageous for mass production, it basically requires a high-temperature sintering process. It was inferior in mechanical strength, adhesion, and durability.
【0003】また、有機樹脂を塗布、紫外線や電子線照
射あるいは、加熱硬化させた膜を高屈折率層として用い
る試みも提案されているが、一般的に耐熱性に乏しく、
高温高湿下での耐久性に劣るものであった。[0003] Further, attempts have been made to use a film obtained by applying an organic resin, irradiating ultraviolet rays or electron beams, or heat-curing, as a high refractive index layer, but generally has poor heat resistance.
The durability under high temperature and high humidity was poor.
【0004】[0004]
【発明が解決しようとする課題】本発明は、このような
問題に鑑みてなされたものであり、反射率が1%以下の
低い値を示し、同時に膜硬度、耐久性、密着性、耐熱性
に優れた多層反射防止膜を低コストで、大量かつ大面積
に処理可能な方法で提供することを目的とする。SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made in view of the above problems, and has a low reflectance of 1% or less, and at the same time, a film hardness, durability, adhesion, and heat resistance. It is an object of the present invention to provide a multilayer antireflection film excellent in quality by a method capable of processing a large amount and a large area at low cost.
【0005】[0005]
【課題を解決するための手段】第1発明は、透明基材上
に光学干渉層が積層されてなる多層反射防止膜におい
て、下記一般式(1)According to a first aspect of the present invention, there is provided a multilayer antireflection film comprising an optical interference layer laminated on a transparent substrate, wherein the multilayer antireflection film has the following general formula (1):
【0006】[0006]
【化6】 Embedded image
【0007】で示されるベンゾイル置換ポリ(p−フェ
ニレン)、及び/又は下記一般式(2)A benzoyl-substituted poly (p-phenylene) represented by the following general formula (2):
【0008】[0008]
【化7】 Embedded image
【0009】で示されるベンゾイル置換ポリ(p/m−
フェニレン)を、N−メチルピロリドン、ジメチルホル
ムアミド及びハロゲン化炭化水素から選ばれる少なくと
も一種の溶剤を含有する溶剤に溶解させて得られる溶液
を塗布、乾燥して形成される層を高屈折率層として少な
くとも一層を含有することを特徴とする多層反射防止膜
である。The benzoyl-substituted poly (p / m-
Phenylene) is dissolved in a solvent containing at least one solvent selected from N-methylpyrrolidone, dimethylformamide and halogenated hydrocarbons, and a solution obtained by coating and drying is used as a high refractive index layer. A multilayer antireflection film characterized by containing at least one layer.
【0010】次に、第2発明は、第1発明記載の高屈折
率層とそれに隣接した、屈折率が1.6以下である低屈
折率層が、N−メチルピロリドン、ジメチルホルムアミ
ド及びハロゲン化炭化水素の少なくとも一種の溶剤を5
重量%以上含有する溶液を塗布、乾燥により形成される
ことを特徴とする。Next, a second invention provides the high refractive index layer according to the first invention and an adjacent low refractive index layer having a refractive index of 1.6 or less, wherein N-methylpyrrolidone, dimethylformamide and halogenated 5 at least one hydrocarbon solvent
It is characterized by being formed by applying and drying a solution containing at least weight%.
【0011】第3発明は、第2発明記載の、光学干渉層
として用いられる低屈折率層のうち、最表面に形成され
る層が、下記一般式(3)[0011] In a third aspect, the layer formed on the outermost surface of the low refractive index layer used as the optical interference layer according to the second aspect is represented by the following general formula (3):
【0012】[0012]
【化8】 Embedded image
【0013】(但し、Rは1〜5個の炭素原子を有する
アルキル基を表す。)で示される珪素化合物(A)と、
下記一般式(4)Wherein R represents an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, and a silicon compound (A) represented by the following formula:
The following general formula (4)
【0014】[0014]
【化9】 Embedded image
【0015】(但し、R1 は、1〜5個の炭素原子を有
するアルキル基を表し、そしてnは、0から12の整数
を表す。)で示される珪素化合物(B)と、下記一般式
(5)(Wherein R 1 represents an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, and n represents an integer of 0 to 12), and the following general formula: (5)
【0016】[0016]
【化10】 Embedded image
【0017】(但し、R2 は、水素原子又は1〜12個
の炭素原子を有する非置換の若しくは置換基を有するア
ルキル基を表す。)で示されるアルコール(C)と、蓚
酸(D)とを、珪素化合物(A)1モルに対して珪素化
合物(B)0.05〜0.43モルの比率に、珪素化合
物(A)と珪素化合物(B)に含まれる全アルコキシ基
1モルに対してアルコール(C)0.5〜100モルの
比率に、そして珪素化合物(A)と珪素化合物(B)に
含まれる全アルコキシ基1モルに対して蓚酸(D)0.
2〜2モルの比率に含有する反応混合物を形成させ、そ
してこの反応混合物を、その中の珪素原子から換算され
た0.5〜10重量%のSiO2 濃度に維持すると共
に水の不存在を維持しながら、当該反応混合物中珪素化
合物(A)及び珪素化合物(B)の全残存量が5モル%
以下となるまで、50〜180℃で加熱することによ
り、これにより生じたポリシロキサンの溶液を生成さ
せ、次いで当該ポリシロキサンの溶液、及びN−メチル
ピロリドン、ジメチルホルムアミド及びハロゲン化炭化
水素の少なくとも一種の溶剤を5重量%以上含有する塗
布液を被塗布層表面に塗布し、そしてこの塗布により得
られた塗膜を80〜450℃で熱硬化させることにより
形成され、且つ、1.28〜1.38の屈折率と90〜
115度の水接触角を示す被膜層であることを特徴とす
る多層反射防止膜である。Wherein R 2 represents a hydrogen atom or an unsubstituted or substituted alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, and oxalic acid (D) In a ratio of 0.05 to 0.43 mol of the silicon compound (B) to 1 mol of the silicon compound (A), and 1 mol of the total alkoxy groups contained in the silicon compound (A) and the silicon compound (B). Oxalic acid (D) was added to the alcohol (C) in a ratio of 0.5 to 100 moles and to 1 mole of all alkoxy groups contained in the silicon compound (A) and the silicon compound (B).
A reaction mixture containing between 2 and 2 moles is formed and the reaction mixture is maintained at a SiO2 concentration of 0.5 to 10% by weight, calculated from the silicon atoms therein, while maintaining the absence of water. While the total remaining amount of the silicon compound (A) and the silicon compound (B) in the reaction mixture is 5 mol%
By heating at 50 to 180 ° C. until the following, a solution of the resulting polysiloxane is formed, and then a solution of the polysiloxane and at least one of N-methylpyrrolidone, dimethylformamide and a halogenated hydrocarbon Is formed by applying a coating solution containing 5% by weight or more of the solvent to the surface of the layer to be coated, and thermally curing the coating film obtained at this temperature at 80 to 450 ° C. A refractive index of .38 and 90-
A multilayer antireflection film, which is a coating layer having a water contact angle of 115 degrees.
【0018】第4発明は、第3発明において、反応混合
物の形成において、珪素化合物(A)、珪素化合物
(B)、アルコール(C)及び蓚酸(D)の他に、変成
剤(E)としてメチルトリメトキシシラン、メチルトリ
エトキシシラン、エチルトリメトキシシラン、エチルト
リエトキシシラン、プロピルトリメトキシシラン、プロ
ピルトリエトキシシラン、ブチルトリメトキシシラン、
ブチルトリエトキシシラン、ペンチルトリメトキシシラ
ン、ペンチルトリエトキシシラン、ヘプチルトリメトキ
シシラン、ヘプチルトリエトキシシラン、オクチルトリ
メトキシシラン、オクチルトリエトキシシラン、ドデシ
ルトリメトキシシラン、ドデシルトリエトキシシラン、
ヘキサデシルトリメトキシシラン、ヘキサデシルトリエ
トキシシラン、オクタデシルトリメトキシシラン、オク
タデシルトリエトキシシラン、フェニルトリメトキシシ
ラン、フェニルトリエトキシシラン、ビニルトリメトキ
シシラン、ビニルトリエトキシシラン、γ−アミノプロ
ピルトリメトキシシラン、γ−アミノプロピルトリエト
キシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシ
ラン、γ−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、
γ−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、γ−
メタクリロキシプロピルトリエトキシシラン、ジメチル
ジメトキシシラン及びジメチルジエトキシシランからな
る群から選ばれる少なくとも一種のアルキルアルコキシ
シランを珪素化合物(A)1モルに対して0.02〜
0.2モルの比率に併用する、多層反射防止膜である。According to a fourth aspect of the present invention, in the third aspect of the present invention, in the formation of the reaction mixture, in addition to the silicon compound (A), the silicon compound (B), the alcohol (C) and the oxalic acid (D), Methyltrimethoxysilane, methyltriethoxysilane, ethyltrimethoxysilane, ethyltriethoxysilane, propyltrimethoxysilane, propyltriethoxysilane, butyltrimethoxysilane,
Butyltriethoxysilane, pentyltrimethoxysilane, pentyltriethoxysilane, heptyltrimethoxysilane, heptyltriethoxysilane, octyltrimethoxysilane, octyltriethoxysilane, dodecyltrimethoxysilane, dodecyltriethoxysilane,
Hexadecyltrimethoxysilane, hexadecyltriethoxysilane, octadecyltrimethoxysilane, octadecyltriethoxysilane, phenyltrimethoxysilane, phenyltriethoxysilane, vinyltrimethoxysilane, vinyltriethoxysilane, γ-aminopropyltrimethoxysilane, γ-aminopropyltriethoxysilane, γ-glycidoxypropyltrimethoxysilane, γ-glycidoxypropyltriethoxysilane,
γ-methacryloxypropyltrimethoxysilane, γ-
At least one alkylalkoxysilane selected from the group consisting of methacryloxypropyltriethoxysilane, dimethyldimethoxysilane and dimethyldiethoxysilane is used in an amount of from 0.02 to 1 mol per mol of the silicon compound (A).
It is a multilayer antireflection film used together with a ratio of 0.2 mol.
【0019】また、第5発明は、第3発明及び第4発明
において、塗布液の添加物として、シリカゾル、アルミ
ナゾル、チタニアゾル、ジルコニアゾル、フッ化マグネ
シウムゾル、セリアゾルからなる群から選ばれる少なく
とも一種を併用することを特徴とする、多層反射防止膜
である。According to a fifth aspect, in the third and fourth aspects, at least one selected from the group consisting of silica sol, alumina sol, titania sol, zirconia sol, magnesium fluoride sol, and ceria sol is used as an additive of the coating solution. A multilayer antireflection film characterized by being used in combination.
【0020】[0020]
【発明の実施の形態】次に実施の形態を挙げて本発明を
更に詳細に説明する。BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION Next, the present invention will be described in more detail with reference to embodiments.
【0021】ベンゾイル置換ポリ(p−フェニレン)
(重合体)、及び/又はベンゾイル置換ポリ(p/m−
フェニレン)(共重合体)は、N−メチルピロリドン、
ジメチルホルムアミド、ハロゲン化炭化水素類などの溶
剤に溶解可能なパウダーであり、これらの溶剤に溶解さ
せた溶液として使用することができる。ハロゲン化炭化
水素の具体例としては、塩化メチレン、クロロホルム、
四塩化炭素、ブロモホルム、1,2−ジクロロエタン、
1,1−ジクロロエタン、トリクロロエタン及びテトラ
クロロエタンなどが挙げられる。これらの溶剤は、一種
単独で、あるいは二種以上を混合して使用することもで
きる。Benzoyl-substituted poly (p-phenylene)
(Polymer) and / or benzoyl-substituted poly (p / m-
Phenylene) (copolymer) is N-methylpyrrolidone,
It is a powder that can be dissolved in solvents such as dimethylformamide and halogenated hydrocarbons, and can be used as a solution dissolved in these solvents. Specific examples of the halogenated hydrocarbon include methylene chloride, chloroform,
Carbon tetrachloride, bromoform, 1,2-dichloroethane,
Examples thereof include 1,1-dichloroethane, trichloroethane, and tetrachloroethane. These solvents can be used alone or in combination of two or more.
【0022】また、成膜性向上を目的に、他の溶剤を混
合することも可能である。溶液中の固形分濃度は、特に
限定されるものではなく、ポリマーの平均分子量、塗布
法、必要な膜厚などの条件によって異なるが、固形分濃
度で0.5〜20重量%の範囲で調整することが好まし
い。0.5重量%以下では、所望の膜厚を得ることが難
しく、20重量%以上では、ワニスの粘度が高くなり取
り扱いにくくなる。It is also possible to mix another solvent for the purpose of improving the film forming property. The solid concentration in the solution is not particularly limited, and varies depending on conditions such as the average molecular weight of the polymer, the coating method, and the required film thickness, but is adjusted in the range of 0.5 to 20% by weight in terms of the solid concentration. Is preferred. If it is less than 0.5% by weight, it is difficult to obtain a desired film thickness, and if it is more than 20% by weight, the varnish has a high viscosity and is difficult to handle.
【0023】使用するベンゾイル置換ポリ(p−フェニ
レン)、及びベンゾイル置換ポリ(p/m−フェニレ
ン)の、ゲルパーミネーションクロマトグラフィーによ
り測定された、ポリスチレン換算の数平均分子量として
は、15,000〜120,000が好ましい。ベンゾ
イル置換ポリ(p−フェニレン)及びベンゾイル置換ポ
リ(p/m−フェニレン)の数平均分子量(ポリスチレ
ン換算)は、これらをN−メチルピロリドンに溶解させ
た溶液をゲルパーミネーションクロマトグラフィー(溶
媒:ジメチルホルムアミド/テトラヒドロフラン=9
9:1、LiBr30mM、H3 PO4 30mM)によ
り測定した。The benzoyl-substituted poly (p-phenylene) and the benzoyl-substituted poly (p / m-phenylene) used have a number average molecular weight in terms of polystyrene, as measured by gel permeation chromatography, of 15,000 to 120,000 is preferred. The number-average molecular weight (in terms of polystyrene) of benzoyl-substituted poly (p-phenylene) and benzoyl-substituted poly (p / m-phenylene) is determined by gel permeation chromatography (solvent: dimethyl) using a solution obtained by dissolving these in N-methylpyrrolidone. Formamide / tetrahydrofuran = 9
9: 1, LiBr 30 mM, H 3 PO 4 30 mM).
【0024】調整された溶液は、透明基材上に、通常用
いられる塗布法により塗布、乾燥することで、1.68
〜1.70の屈折率を有する高屈折率層が容易に得られ
る。乾燥には、熱風、ホットプレート、オーブンなどが
用いられ、80℃〜500℃の温度で、5分〜30分程
度加熱することにより、所望の高屈折率層が形成され
る。The prepared solution is applied to a transparent substrate by a commonly used coating method and dried to obtain 1.68.
A high refractive index layer having a refractive index of ~ 1.70 can be easily obtained. Hot air, a hot plate, an oven, or the like is used for drying, and a desired high refractive index layer is formed by heating at a temperature of 80 ° C. to 500 ° C. for about 5 minutes to 30 minutes.
【0025】乾燥温度は、用いる基材により限定され、
基材の耐熱温度以下で行われなければならない。前記透
明基材は、特に限定されるものでなく、PET、ポリカ
ーボネート、トリアセチルセルロース、ガラスなどを用
いることができる。プラスチック基材に関しては、反射
防止層の耐擦傷性を向上させる目的で、ハードコート処
理されたものを使用するのも有効である。The drying temperature is limited by the substrate used,
It must be performed below the heat resistant temperature of the substrate. The transparent substrate is not particularly limited, and PET, polycarbonate, triacetyl cellulose, glass, or the like can be used. As for the plastic substrate, it is also effective to use a hard-coated one for the purpose of improving the scratch resistance of the antireflection layer.
【0026】前記塗布法としては、通常公知の方法、例
えば、スピンコート法、ディップコート法、ロールコー
ト法、グラビアコート法などを用いることができる。上
記のようにして得られた高屈折率層は、高硬度であり、
かつ500℃程度の耐熱性を有していることを特徴とし
ている。これにより、耐熱性、耐久性に優れた反射防止
膜を得ることが可能となる。As the coating method, a generally known method, for example, a spin coating method, a dip coating method, a roll coating method, a gravure coating method, or the like can be used. The high refractive index layer obtained as described above has a high hardness,
In addition, it has a heat resistance of about 500 ° C. This makes it possible to obtain an antireflection film having excellent heat resistance and durability.
【0027】該高屈折率層中には、帯電防止性能の付
与、屈折率調整を目的とした添加剤を混合することもで
きる。添加剤としては、チタニア、アルミナ、アンチモ
ンなどを成分とする複合金属酸化物などが挙げられる。
これらは、該高屈折率層の透明性、膜硬度などを損なわ
ない程度に混合されることが望ましい。In the high refractive index layer, additives for the purpose of imparting antistatic performance and adjusting the refractive index can be mixed. Examples of the additive include a composite metal oxide containing titania, alumina, antimony, and the like as components.
These are desirably mixed to such an extent that the transparency and the film hardness of the high refractive index layer are not impaired.
【0028】また、本発明の多層反射防止膜は、光学干
渉層として上記高屈折率層と積層される低屈折率層を備
える。この低屈折率層としては、屈折率が1.6以下の
従来公知のものを用いることができる。例えば、二酸化
珪素、酸化アルミニウムなどの無機酸化物が挙げられ
る。Further, the multilayer antireflection film of the present invention includes a low refractive index layer laminated on the high refractive index layer as an optical interference layer. As the low refractive index layer, a conventionally known layer having a refractive index of 1.6 or less can be used. For example, inorganic oxides such as silicon dioxide and aluminum oxide can be used.
【0029】本発明は、これらの低屈折率層の形成用塗
布液中に、下層の高屈折率層を溶解する、N−メチルピ
ロリドン、ジメチルホルムアミド及びハロゲン化炭化水
素からなる群から選ばれた少なくとも一種の溶剤が5重
量%以上含まれていることを特徴とする。従来、樹脂層
と無機質層との構成においては、層間の接着力が弱く、
膜の剥離が起こるという欠陥があった。しかし、本発明
のように、下層を溶解し得る溶剤を上層塗布液に含有す
ることにより、上層膜成分が下層表面に入り込み、その
後の乾燥により、層間接着力が強固なものとなる。この
効果を発現するためには、上記溶剤が5重量%以上必要
となる。含有量の上限については、成膜性、塗布液安定
性により決定される。The present invention is selected from the group consisting of N-methylpyrrolidone, dimethylformamide and halogenated hydrocarbon, which dissolves the lower high refractive index layer in the coating liquid for forming the low refractive index layer. It is characterized in that at least one solvent is contained in an amount of 5% by weight or more. Conventionally, in the configuration of the resin layer and the inorganic layer, the adhesion between the layers is weak,
There was a defect that the film was peeled off. However, as in the present invention, when a solvent capable of dissolving the lower layer is contained in the upper layer coating solution, the components of the upper layer film enter the lower layer surface, and the interlayer adhesion becomes stronger by subsequent drying. In order to exhibit this effect, the above solvent is required to be 5% by weight or more. The upper limit of the content is determined by the film forming property and the stability of the coating solution.
【0030】また、本発明の多層反射防止膜の最表層と
しては、汚れ防止の点からフッ素系材料が望ましい。こ
のような材料としては、有機溶剤に溶解させた、フッ化
ビニリデン共重合体、フルオロオレフィン/炭化水素オ
レフィン共重合体、含フッ素エポキシ樹脂、含フッ素エ
ポキシアクリレート、含フッ素シリコーン、含フッ素シ
ランが挙げられる。特に好ましくは、請求項記載の含フ
ッ素シランが望ましい。これにより、反射防止特性、膜
硬度、密着性、汚れ防止性能などに優れた反射防止膜を
得ることができる。The outermost layer of the multilayer antireflection film of the present invention is preferably a fluorine-based material from the viewpoint of preventing contamination. Examples of such a material include a vinylidene fluoride copolymer, a fluoroolefin / hydrocarbon olefin copolymer, a fluorine-containing epoxy resin, a fluorine-containing epoxy acrylate, a fluorine-containing silicone, and a fluorine-containing silane dissolved in an organic solvent. Can be Particularly preferably, the fluorinated silane described in the claims is desirable. As a result, an antireflection film having excellent antireflection characteristics, film hardness, adhesion, antifouling performance, and the like can be obtained.
【0031】最表面となる低屈折率層の膜厚は光学設計
により異なるが、反射率の最低値が、400〜700n
m、より好ましくは500〜600nmとなるように設
計するのが望ましい。Although the thickness of the low refractive index layer as the outermost surface varies depending on the optical design, the minimum value of the reflectance is 400 to 700 n.
m, more preferably 500 to 600 nm.
【0032】該低屈折率層は、上述の高屈折率層の形成
と同様な方法で行うことができる。The low refractive index layer can be formed in the same manner as in the formation of the above high refractive index layer.
【0033】本発明の多層反射防止膜において、用いる
ことのできる光学干渉層としては、前記高屈折率層と低
屈折率層を順に一層ずつ積層した光学干渉層の他に、中
屈折率層と高屈折率層と低屈折率層を順に積層した光学
干渉層を用いることができる。この場合、中屈折率層と
しては、基材もしくはハードコート層と請求項記載の高
屈折率層の間に位置する屈折率を有する層を用いる。In the multilayer antireflection film of the present invention, as the optical interference layer that can be used, in addition to the above-mentioned optical interference layer in which the high refractive index layer and the low refractive index layer are laminated one by one, a medium refractive index layer and An optical interference layer in which a high refractive index layer and a low refractive index layer are sequentially stacked can be used. In this case, a layer having a refractive index located between the substrate or the hard coat layer and the high refractive index layer described in the claims is used as the middle refractive index layer.
【0034】本発明の多層反射防止膜は、各種ディスプ
レイ(LCD、PDP、CRT)や各種レンズに利用す
ることができる。このような反射防止膜を有するディス
プレイ、レンズは、入射光の反射が防止され、視認性が
格段に向上する。The multilayer antireflection film of the present invention can be used for various displays (LCD, PDP, CRT) and various lenses. In a display or a lens having such an antireflection film, reflection of incident light is prevented and visibility is remarkably improved.
【0035】[0035]
【実施例】以下、実施例により本発明を更に詳細に説明
するが、本発明は、これらに限定されるものではない。EXAMPLES The present invention will be described in more detail with reference to the following Examples, but it should not be construed that the present invention is limited thereto.
【0036】実施例1 100μm厚の、ハードコート処理されたPETフィル
ム上に、高屈折率層、低屈折率層を順に積層し、多層反
射防止膜を形成した。高屈折率層を形成するための塗液
は以下の様に調整した。Example 1 A high-refractive-index layer and a low-refractive-index layer were sequentially laminated on a 100-μm-thick hard-coated PET film to form a multilayer antireflection film. The coating liquid for forming the high refractive index layer was adjusted as follows.
【0037】100mlのフラスコに、ベンゾイル置換
ポリ(p−フェニレン)(数平均分子量:117,32
0)[商品名:Parmax−1000(商標) ma
xdem社製]0.5gを秤量し、更にN−メチルピロ
リドン49.5gを加え、70℃加温下で攪拌、溶解さ
せた。In a 100 ml flask, benzoyl-substituted poly (p-phenylene) (number average molecular weight: 117,32)
0) [Product name: Parmax-1000 (trademark) ma
0.5 g of Xdem] was further weighed, 49.5 g of N-methylpyrrolidone was further added, and the mixture was stirred and dissolved while heating at 70 ° C.
【0038】次いで、この塗液をスピンコーターを用い
て基材上に塗布し、120℃で30分間乾燥を行って高
屈折率層を形成した。形成された高屈折率層の屈折率
は、1.67で、膜厚は80nmであった。Next, this coating solution was applied on a substrate using a spin coater and dried at 120 ° C. for 30 minutes to form a high refractive index layer. The refractive index of the formed high refractive index layer was 1.67, and the film thickness was 80 nm.
【0039】次に、低屈折率層を形成するための塗液は
以下の様に調整した。Next, the coating liquid for forming the low refractive index layer was adjusted as follows.
【0040】還流管を備え付けた四つ口フラスコにエタ
ノール70.6gをはかりとり、攪拌下に無水蓚酸1
2.0gを少量づつ添加し、蓚酸を溶解させた。次い
で、この溶液を還流温度まで加熱し、還流下でテトラエ
トキシシラン9.4gとトリデカフルオロオクチルトリ
メトキシシラン6.2gとγ−グリシドキシプロピルト
リメトキシシラン1.2gとγ−アミノプロピルトリメ
トキシシラン0.6gの混合物を滴下した。滴下終了
後、還流下に加熱を5時間続けた後、冷却することによ
りポリシロキサンの溶液を得た。この溶液をガスクロマ
トグラフィーで分析したところ、アルコキシドモノマー
は検出されなかった。70.6 g of ethanol was weighed into a four-necked flask equipped with a reflux tube, and oxalic anhydride 1 was stirred under stirring.
2.0 g was added little by little to dissolve oxalic acid. Next, this solution was heated to reflux temperature, and under reflux 9.4 g of tetraethoxysilane, 6.2 g of tridecafluorooctyltrimethoxysilane, 1.2 g of γ-glycidoxypropyltrimethoxysilane and 1.2 g of γ-aminopropyltrimethoxysilane. A mixture of 0.6 g of methoxysilane was added dropwise. After the completion of the dropwise addition, heating was continued under reflux for 5 hours and then cooled to obtain a polysiloxane solution. When this solution was analyzed by gas chromatography, no alkoxide monomer was detected.
【0041】更に、粒子径8nmのコロイド状シリカを
SiO2 として15.7重量%含有するメタノール分散
シリカゾルを51.0gとエタノール134g、N−メ
チルピロリドン15.0gを混合し、低屈折率層形成用
塗液を得た。Further, 51.0 g of a methanol-dispersed silica sol containing 15.7% by weight of colloidal silica having a particle diameter of 8 nm as SiO 2 , 134 g of ethanol and 15.0 g of N-methylpyrrolidone were mixed to form a low refractive index layer. A coating liquid for use was obtained.
【0042】この塗液をスピンコーターを用いて高屈折
率層の形成された基材上に塗布し、120℃で30分間
加熱硬化を行った。得られた低屈折率層の屈折率は1.
36で膜厚は約90nmであった。また、水の接触角は
104度であった。This coating solution was applied on a substrate on which a high refractive index layer was formed using a spin coater, and was cured by heating at 120 ° C. for 30 minutes. The refractive index of the obtained low refractive index layer was 1.
At 36, the film thickness was about 90 nm. The contact angle of water was 104 degrees.
【0043】実施例2 実施例1と同様に、100μm厚の、ハードコート処理
されたPETフィルム上に、高屈折率層、低屈折率層を
順に積層し、反射防止処理フィルムを作製した。Example 2 As in Example 1, a high refractive index layer and a low refractive index layer were sequentially laminated on a 100 μm-thick hard-coated PET film to produce an antireflection-treated film.
【0044】高屈折率層を形成するための塗液は以下の
ように調整した。The coating liquid for forming the high refractive index layer was adjusted as follows.
【0045】100mlのフラスコに、ベンゾイル置換
ポリ(p/m−フェニレン)(数平均分子量:46,0
00)[商品名Parmax−1200(商標) ma
xdem社製]0.5gを秤量し、更にN−メチルピロ
リドン49.5gを加え、70℃加温下で攪拌、溶解さ
せた。In a 100 ml flask, benzoyl-substituted poly (p / m-phenylene) (number average molecular weight: 46.0
00) [trade name Parmax-1200 (trademark) ma
0.5 g of Xdem] was further weighed, 49.5 g of N-methylpyrrolidone was further added, and the mixture was stirred and dissolved while heating at 70 ° C.
【0046】次いで、この塗液をスピンコーターを用い
て基材上に塗布し、120℃で30分間乾燥を行って高
屈折率層を形成した。形成された高屈折率層の屈折率
は、1.68で、膜厚は75nmであった。Next, this coating solution was applied on a substrate using a spin coater, and dried at 120 ° C. for 30 minutes to form a high refractive index layer. The refractive index of the formed high refractive index layer was 1.68, and the film thickness was 75 nm.
【0047】次に、実施例1と同様に低屈折率層を形成
し、反射防止処理フィルムを得た。Next, a low refractive index layer was formed in the same manner as in Example 1 to obtain an antireflection-treated film.
【0048】実施例3 ベンゾイル置換ポリ(p−フェニレン)[商品名:Pa
rmax−1000(商標) maxdem社製]の数
平均分子量を32,000とした以外は、実施例1と同
様に、反射防止処理フィルムを作製した。このとき、得
られた高屈折率層の屈折率は、1.67で膜厚は70n
mであった。Example 3 Benzoyl-substituted poly (p-phenylene) [trade name: Pa
rmax-1000 (manufactured by maxdem)], an antireflection-treated film was produced in the same manner as in Example 1 except that the number average molecular weight was 32,000. At this time, the refractive index of the obtained high refractive index layer was 1.67 and the film thickness was 70 n.
m.
【0049】実施例4 ベンゾイル置換ポリ(p/m−フェニレン)[商品名P
armax−1200(商標) maxdem社製]の
数平均分子量を22,800とした以外は、実施例2と
同様にして、反射防止処理フィルムを作製した。このと
き得られた高屈折率層の屈折率は1.70で膜厚は60
nmであった。Example 4 Benzoyl-substituted poly (p / m-phenylene) [trade name P
armmax-1200 (manufactured by maxdem)], and an antireflection-treated film was produced in the same manner as in Example 2 except that the number average molecular weight was 22,800. The high refractive index layer thus obtained has a refractive index of 1.70 and a thickness of 60.
nm.
【0050】実施例5 ベンゾイル置換ポリ(p/m−フェニレン)[商品名P
armax−1200(商標) maxdem社製]
「数平均分子量を17,200とした以外は、実施例2
と同様にして、反射防止処理フィルムを作製した。この
とき得られた高屈折率層の屈折率は1.70で膜厚は6
5nmであった。Example 5 Benzoyl-substituted poly (p / m-phenylene) [trade name P
armmax-1200 (trademark) manufactured by maxdem]
Example 2 except that the number average molecular weight was 17,200.
In the same manner as in the above, an antireflection-treated film was produced. The high refractive index layer obtained at this time had a refractive index of 1.70 and a thickness of 6
It was 5 nm.
【0051】実施例6 高屈折率層の膜厚を165nmとした以外は、実施例1
と同様に反射防止フィルムを作製した。Example 6 Example 1 was repeated except that the thickness of the high refractive index layer was 165 nm.
An anti-reflection film was produced in the same manner as in 1.
【0052】実施例7 高屈折率層の膜厚を162nmとした以外は、実施例2
と同様に反射防止フィルムを作製した。Example 7 Example 2 was repeated except that the thickness of the high refractive index layer was changed to 162 nm.
An anti-reflection film was produced in the same manner as in 1.
【0053】実施例8 ハードコート処理されたトリアセチルセルロースフィル
ム上に高屈折率層、低屈折率層を順に積層し、反射防止
処理フィルムを作製した。Example 8 A high-refractive-index layer and a low-refractive-index layer were sequentially laminated on a hard-coated triacetylcellulose film to prepare an antireflection-treated film.
【0054】各層とも100℃で乾燥した以外は実施例
1と同様に行った。The same procedure as in Example 1 was carried out except that each layer was dried at 100 ° C.
【0055】実施例9 ソーダライムガラス上に高屈折率層、低屈折率層を順に
積層し、反射防止処理フィルムを作製した。各層とも4
00℃で乾燥した以外は、実施例1と同様に行った。Example 9 A high-refractive-index layer and a low-refractive-index layer were sequentially laminated on soda lime glass to prepare an antireflection-treated film. 4 for each layer
Except for drying at 00 ° C., the procedure was the same as in Example 1.
【0056】この時、高屈折層は屈折率が1.70で膜
厚が80nmであった。また、低屈折率層は屈折率が
1.36で膜厚が80nmであった。At this time, the high refractive layer had a refractive index of 1.70 and a thickness of 80 nm. The low refractive index layer had a refractive index of 1.36 and a thickness of 80 nm.
【0057】比較例1 ハードコート処理されたPETフィルム上に高屈折率
層、低屈折率層を順に積層し、反射防止フィルムを作製
した。Comparative Example 1 A high-refractive index layer and a low-refractive index layer were sequentially laminated on a hard-coated PET film to produce an antireflection film.
【0058】高屈折率層を形成するための塗液は以下の
ように調整した。200mlナスフラスコにエタノール
を81.0gはかりとり、テトラエトキシシランを3.
2g、テトラエトキシチタン14.0gを混合、攪拌し
た。次いで、60%硝酸0.4gと水1.4gを加え、
30分間室温で攪拌し、塗液を調整した。The coating liquid for forming the high refractive index layer was adjusted as follows. 81.0 g of ethanol was weighed into a 200 ml eggplant flask, and tetraethoxysilane was added to the flask.
2 g and 14.0 g of tetraethoxytitanium were mixed and stirred. Then, 0.4 g of 60% nitric acid and 1.4 g of water were added,
The mixture was stirred at room temperature for 30 minutes to prepare a coating solution.
【0059】この塗液をスピンコーターを用いて基材上
に塗布し、120℃で30分間乾燥を行って高屈折率層
を形成した。形成された高屈折率層の屈折率は、1.7
4で、膜厚は72nmであった。This coating solution was applied on a substrate using a spin coater, and dried at 120 ° C. for 30 minutes to form a high refractive index layer. The refractive index of the formed high refractive index layer is 1.7.
In No. 4, the film thickness was 72 nm.
【0060】その後の低屈折率層の形成は実施例1と同
様に行い、反射防止処理フィルムを得た。The subsequent formation of a low refractive index layer was performed in the same manner as in Example 1 to obtain an antireflection-treated film.
【0061】比較例2 ハードコート処理されたPETフィルム上に高屈折率
層、低屈折率層を順に積層し、反射防止フィルムを作製
した。高屈折率層形成用塗液は、比較例1と同様で、乾
燥膜厚が160nmとなるように成膜を行った。その後
の低屈折率層の形成は実施例1と同様に行い、反射防止
処理フィルムを得た。Comparative Example 2 A high-refractive-index layer and a low-refractive-index layer were sequentially laminated on a hard-coated PET film to prepare an antireflection film. The coating liquid for forming a high refractive index layer was formed in the same manner as in Comparative Example 1 so that the dry film thickness was 160 nm. Subsequent formation of the low refractive index layer was performed in the same manner as in Example 1 to obtain an antireflection-treated film.
【0062】また、屈折率、膜厚は以下の方法で測定し
た。The refractive index and the film thickness were measured by the following methods.
【0063】屈折率:溝尻光学(株)製エリプソメータ
ー DVA−36Lを用い、633nmでの屈折率を測
定した。Refractive index: The refractive index at 633 nm was measured using an ellipsometer DVA-36L manufactured by Mizojiri Optical Co., Ltd.
【0064】膜厚:乾燥膜にカッターで傷を付け、硬化
後にランクテイラーホブソン社製タリステップを用い、
段差を測定する事で膜厚とした。なお、屈折率、膜厚の
測定は、シリコン基板上に同一条件にて成膜したものを
用いた。Thickness: The dried film is scratched with a cutter, and after curing, using a Talystep manufactured by Rank Taylor Hobson,
The film thickness was determined by measuring the step. The measurement of the refractive index and the film thickness used a film formed on a silicon substrate under the same conditions.
【0065】作製した反射防止処理基材の鉛筆硬度、耐
擦傷性、反射率は以下の方法で測定した。結果を表1に
示す。The pencil hardness, scratch resistance and reflectivity of the prepared antireflection-treated substrate were measured by the following methods. Table 1 shows the results.
【0066】鉛筆硬度:JIS規格K5400に従い測
定した。Pencil hardness: Measured according to JIS K5400.
【0067】反射率:(株)島津製作所製分光光度計U
V3100PCを用い、5°絶対反射率を測定した。こ
の時、反射防止処理のされていない面は、黒色インクで
処理し、遮光した状態で測定した。Reflectance: Spectrophotometer U manufactured by Shimadzu Corporation
Using V3100PC, 5 ° absolute reflectance was measured. At this time, the surface that had not been subjected to the anti-reflection treatment was treated with black ink and measured in a light-shielded state.
【0068】耐擦傷性:#0000番のスチールウール
を用いて、200g荷重10往復後の傷の付き具合で評
価した。Scratch Resistance: Using # 0000 steel wool, the degree of scratching after 10 reciprocations under a load of 200 g was evaluated.
【0069】耐久性:温度65℃×湿度95%の条件で
1000時間放置し、反射スペクトルの変化、クラック
の発生、密着性について評価した。Durability: The sample was left for 1000 hours under conditions of a temperature of 65 ° C. and a humidity of 95%, and evaluated for changes in reflection spectrum, generation of cracks, and adhesion.
【0070】密着性:基盤目クロスカットによるセロテ
ープ剥離試験によって測定した。Adhesion: The adhesion was measured by a cellophane tape peeling test using a cross cut with a base.
【0071】指紋除去性:膜表面に指紋を付け、ティッ
シュで数回擦り、指紋の除去具合を目視で判断した。Fingerprint removal property: A fingerprint was attached to the film surface, rubbed several times with a tissue, and the degree of fingerprint removal was visually judged.
【0072】[0072]
【表1】 表1 評価結果 反射率 鉛筆硬度 耐擦傷性 密着性 耐久性 指紋除去性 実施例1 0.2 3H ○ ○ ○ ○ 実施例2 0.2 3H ○ ○ ○ ○ 実施例3 0.2 3H ○ ○ ○ ○ 実施例4 0.2 3H ○ ○ ○ ○ 実施例5 0.1 3H ○ ○ ○ ○ 実施例6 0.2 3H ○ ○ ○ ○ 実施例7 0.2 3H ○ ○ ○ ○ 実施例8 0.3 3H ○ ○ ○ ○ 実施例9 0.1 8H ○ ○ ○ ○ 比較例1 0.2 H △ △ △ ○比較例2 0.2 H × △ × ○ (注記) [耐擦傷性評価]:(○)傷つかず;(△)数本の傷がつく;(×)無数の傷 がつく [耐久性評価]:(○)変化なし;(△)スペクトル変化;(×)スペクトル 変化、クラック発生、密着性変化 [密着性評価]:(○)全くはがれなし;(△)部分的にはがれ;(×)全面 はがれ [指紋除去性評価]:(○)指紋跡なし (×)指紋跡あり[Table 1] Table 1 Evaluation results Reflectivity Pencil hardness Abrasion resistance Adhesion durability Durability Fingerprint removal Example 1 0.2 3H ○ ○ ○ ○ Example 2 0.2 3H ○ ○ ○ ○ Example 3 0.2 3H ○ ○ ○ ○ Example 4 0.23H ○ ○ ○ ○ Example 5 0.13H ○ ○ ○ ○ Example 6 0.23H ○ ○ ○ ○ Example 7 0.23H ○ ○ ○ ○ Example 8 0.3 3H ○ ○ ○ ○ Example 9 0.18H ○ ○ ○ ○ Comparative Example 1 0.2 H △ △ △ ○ Comparative Example 2 0.2 H × △ × ○ (Note) [Scratch resistance [Evaluation]: (○) No damage; (△) Several scratches; (×) Countless scratches [Durability evaluation]: (○) No change; (△) Spectrum change; (×) Spectrum change , Crack generation, change in adhesion [Evaluation of adhesion]: (○) No peeling; (△) Partial peeling; There removal assessment] :( ○) without fingerprints (×) fingerprints
【0073】[0073]
【発明の効果】本発明により、反射防止性能、膜硬度、
耐久性に優れた反射防止膜を生産性に優れた方法で提供
することができる。これらは、各種ディスプレイ、レン
ズの視認性向上に有用なものである。According to the present invention, antireflection performance, film hardness,
An antireflection film having excellent durability can be provided by a method having excellent productivity. These are useful for improving the visibility of various displays and lenses.
フロントページの続き Fターム(参考) 2K009 AA05 BB24 CC09 CC21 CC42 DD02 DD06 4F100 AA06C AA06H AA19C AA19H AA20C AA20H AA21C AA21H AA27C AA27H AH06C AH06K AK42 AK80B AK80K AR00A AR00B AR00C BA02 BA03 BA07 BA08 BA10A BA10C CA23C GB41 JB05C JJ03 JK12 JL00 JL06 JM01C JN01A JN06 JN18B JN18C JN30B 5G435 AA01 AA14 FF02 HH03 KK07Continued on the front page F term (reference) 2K009 AA05 BB24 CC09 CC21 CC42 DD02 DD06 4F100 AA06C AA06H AA19C AA19H AA20C AA20H AA21C AA21H AA27C AA27H AH06C AH06K AK42 AK80B03 BA08BA03 BA00 BA03 BA00 JN01A JN06 JN18B JN18C JN30B 5G435 AA01 AA14 FF02 HH03 KK07
Claims (5)
る多層反射防止膜において、下記一般式(1) 【化1】 で示されるベンゾイル置換ポリ(p−フェニレン)、及
び/又は下記一般式(2) 【化2】 で示されるベンゾイル置換ポリ(p/m−フェニレン)
を、N−メチルピロリドン、ジメチルホルムアミド及び
ハロゲン化炭化水素からなる群から選ばれる少なくとも
一種の溶剤を含有する溶剤に溶解させて得られる溶液を
塗布、乾燥して形成される層を、高屈折率層として少な
くとも一層を含有することを特徴とする多層反射防止
膜。1. A multilayer antireflection film comprising an optical interference layer laminated on a transparent substrate, wherein the multilayer antireflection film has the following general formula (1): And / or a benzoyl-substituted poly (p-phenylene) represented by the following general formula (2): A benzoyl-substituted poly (p / m-phenylene) represented by
Is dissolved in a solvent containing at least one solvent selected from the group consisting of N-methylpyrrolidone, dimethylformamide and halogenated hydrocarbons, and a layer obtained by applying and drying the solution is coated with a high refractive index. A multilayer antireflection film comprising at least one layer as a layer.
が1.6以下である低屈折率層が、N−メチルピロリド
ン、ジメチルホルムアミド及びハロゲン化炭化水素類か
らなる群から選ばれる少なくとも一種の溶剤を5重量%
以上含有する溶液の塗布、乾燥により形成されることを
特徴とする、請求項1に記載の多層反射防止膜。2. The high-refractive-index layer and the adjacent low-refractive-index layer having a refractive index of 1.6 or less are at least selected from the group consisting of N-methylpyrrolidone, dimethylformamide and halogenated hydrocarbons. 5% by weight of a solvent
The multilayer antireflection film according to claim 1, wherein the multilayer antireflection film is formed by applying and drying a solution containing the above.
のうち、最表面に形成される層が、下記一般式(3) 【化3】 (但し、Rは1〜5個の炭素原子を有するアルキル基を
表す。)で示される珪素化合物(A)と、下記一般式
(4) 【化4】 (但し、R1 は、1〜5個の炭素原子を有するアルキル
基を表し、そしてnは、0から12の整数を表す。)で
示される珪素化合物(B)と、下記一般式(5) 【化5】 (但し、R2 は、水素原子又は1〜12個の炭素原子を
有する非置換の若しくは置換基を有するアルキル基を表
す。)で示されるアルコール(C)と、蓚酸(D)と
を、珪素化合物(A)1モルに対して珪素化合物(B)
0.05〜0.43モルの比率に、珪素化合物(A)と
珪素化合物(B)に含まれる全アルコキシ基1モルに対
してアルコール(C)0.5〜100モルの比率に、そ
して珪素化合物(A)と珪素化合物(B)に含まれる全
アルコキシ基1モルに対して蓚酸(D)0.2〜2モル
の比率に含有する反応混合物を形成させ、そしてこの反
応混合物を、その中の珪素原子から換算された0.5〜
10重量%のSiO2 濃度に維持すると共に水の不存
在を維持しながら、当該反応混合物中珪素化合物(A)
及び珪素化合物(B)の全残存量が5モル%以下となる
まで、50〜180℃で加熱することにより、これによ
り生じたポリシロキサンの溶液を生成させ、次いで当該
ポリシロキサンの溶液、及びN−メチルピロリドン、ジ
メチルホルムアミド及びハロゲン化炭化水素の少なくと
も一種の溶剤を5重量%以上含有する塗布液を被塗布層
表面に塗布し、そしてこの塗布により得られた塗膜を8
0〜450℃で熱硬化させることにより形成され、且
つ、1.28〜1.38の屈折率と90〜115度の水
接触角を示す被膜層である、請求項1又は請求項2に記
載の多層反射防止膜。3. A low refractive index layer used as an optical interference layer, a layer formed on the outermost surface is represented by the following general formula (3). (Where R represents an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms) and a silicon compound (A) represented by the following general formula (4): (However, R 1 represents an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, and n represents an integer of 0 to 12.) and a silicon compound (B) represented by the following general formula (5) Embedded image Wherein R 2 represents a hydrogen atom or an unsubstituted or substituted alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, and an oxalic acid (D) Silicon compound (B) per mole of compound (A)
The alcohol (C) is in a ratio of 0.05 to 0.43 mol, and the alcohol (C) is in a ratio of 0.5 to 100 mol with respect to 1 mol of all alkoxy groups contained in the silicon compound (A) and the silicon compound (B). A reaction mixture containing 0.2 to 2 mol of oxalic acid (D) to 1 mol of all alkoxy groups contained in compound (A) and silicon compound (B) is formed, and the reaction mixture is formed therein. 0.5-converted from the silicon atom of
The silicon compound (A) in the reaction mixture was maintained while maintaining a SiO 2 concentration of 10% by weight and the absence of water.
And heating at 50 to 180 ° C. until the total remaining amount of the silicon compound (B) becomes 5 mol% or less, thereby producing a solution of the polysiloxane produced thereby, and then a solution of the polysiloxane and N 2 A coating solution containing at least one solvent of 5% by weight or more of methylpyrrolidone, dimethylformamide and a halogenated hydrocarbon is applied to the surface of the layer to be coated;
3. The coating layer according to claim 1, wherein the coating layer is formed by thermosetting at 0 to 450 ° C., and has a refractive index of 1.28 to 1.38 and a water contact angle of 90 to 115 degrees. 4. Multilayer anti-reflective coating.
(A)、珪素化合物(B)、アルコール(C)及び蓚酸
(D)の他に、変成剤(E)としてメチルトリメトキシ
シラン、メチルトリエトキシシラン、エチルトリメトキ
シシラン、エチルトリエトキシシラン、プロピルトリメ
トキシシラン、プロピルトリエトキシシラン、ブチルト
リメトキシシラン、ブチルトリエトキシシラン、ペンチ
ルトリメトキシシラン、ペンチルトリエトキシシラン、
ヘプチルトリメトキシシラン、ヘプチルトリエトキシシ
ラン、オクチルトリメトキシシラン、オクチルトリエト
キシシラン、ドデシルトリメトキシシラン、ドデシルト
リエトキシシラン、ヘキサデシルトリメトキシシラン、
ヘキサデシルトリエトキシシラン、オクタデシルトリメ
トキシシラン、オクタデシルトリエトキシシラン、フェ
ニルトリメトキシシラン、フェニルトリエトキシシラ
ン、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシ
ラン、γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、γ−ア
ミノプロピルトリエトキシシラン、γ−グリシドキシプ
ロピルトリメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピル
トリエトキシシラン、γ−メタクリロキシプロピルトリ
メトキシシラン、γ−メタクリロキシプロピルトリエト
キシシラン、ジメチルジメトキシシラン及びジメチルジ
エトキシシランからなる群から選ばれる少なくとも一種
のアルキルアルコキシシランを珪素化合物(A)1モル
に対して0.02〜0.2モルの比率に併用する、請求
項3記載の多層反射防止膜4. In the formation of the reaction mixture, in addition to the silicon compound (A), the silicon compound (B), the alcohol (C) and the oxalic acid (D), methyltrimethoxysilane, methyltriethoxy as a modifying agent (E) Silane, ethyltrimethoxysilane, ethyltriethoxysilane, propyltrimethoxysilane, propyltriethoxysilane, butyltrimethoxysilane, butyltriethoxysilane, pentyltrimethoxysilane, pentyltriethoxysilane,
Heptyltrimethoxysilane, heptyltriethoxysilane, octyltrimethoxysilane, octyltriethoxysilane, dodecyltrimethoxysilane, dodecyltriethoxysilane, hexadecyltrimethoxysilane,
Hexadecyltriethoxysilane, octadecyltrimethoxysilane, octadecyltriethoxysilane, phenyltrimethoxysilane, phenyltriethoxysilane, vinyltrimethoxysilane, vinyltriethoxysilane, γ-aminopropyltrimethoxysilane, γ-aminopropyltriethoxy Consists of silane, γ-glycidoxypropyltrimethoxysilane, γ-glycidoxypropyltriethoxysilane, γ-methacryloxypropyltrimethoxysilane, γ-methacryloxypropyltriethoxysilane, dimethyldimethoxysilane and dimethyldiethoxysilane The multilayer antireflection according to claim 3, wherein at least one alkylalkoxysilane selected from the group is used in a ratio of 0.02 to 0.2 mol per 1 mol of the silicon compound (A).
ルミナゾル、チタニアゾル、ジルコニアゾル、フッ化マ
グネシウムゾル、セリアゾルからなる群から選ばれる少
なくとも一種のゾルを併用する、請求項3記載の多層反
射防止膜5. The multilayer antireflection film according to claim 3, wherein at least one sol selected from the group consisting of silica sol, alumina sol, titania sol, zirconia sol, magnesium fluoride sol, and ceria sol is used as an additive of the coating solution.
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