JP2002265866A - Low-refractive index coating material and antireflection film - Google Patents

Low-refractive index coating material and antireflection film

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JP2002265866A
JP2002265866A JP2001070024A JP2001070024A JP2002265866A JP 2002265866 A JP2002265866 A JP 2002265866A JP 2001070024 A JP2001070024 A JP 2001070024A JP 2001070024 A JP2001070024 A JP 2001070024A JP 2002265866 A JP2002265866 A JP 2002265866A
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JP
Japan
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refractive index
low refractive
coating agent
low
hard coat
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JP2001070024A
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Japanese (ja)
Inventor
Koichi Ohata
浩一 大畑
Toshiaki Yoshihara
俊昭 吉原
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Toppan Inc
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Toppan Printing Co Ltd
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a single layer antireflection film of a low-refractive index, excellent in abrasion resistance and an antifouling property with a fingerprint, etc. SOLUTION: The low-refractive index coating material and the antireflection film are characterized by comprising a copolymer of a composition A composed either of an organosilicon compound represented by Si(OR)4 (R is a linear or branched alkyl) or a polymer of the compound and a composition B composed either of a perfluoropolyether group-containing silicon compound represented by Rf-(OC3 F6 )n -O-(CF2 )m -(CH2 )l -O-(CH2 )s -Si(OR)3 (Rf is a 1-16C linear or branched perfluoroalkyl; n is an integer of 1-50; m is an integer of 0-3; l is an integer of 0-3 and satisfies 6>=m+l>0; s is an integer of 0-6; and R is an linear or branched alkyl) or a polymer of the compound.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、低屈折率コーティ
ング剤、およびこの低屈折率コーティング剤を透明基材
上に設けたディスプレイ(液晶ディスプレイ、CRTデ
ィスプレイ、プロジェクションディスプレイ、プラズマ
ディスプレイ、ELディスプレイ等)の表示画面表面に
適用される反射防止フィルムに関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a low refractive index coating agent and a display provided with the low refractive index coating agent on a transparent substrate (liquid crystal display, CRT display, projection display, plasma display, EL display, etc.). The present invention relates to an antireflection film applied to the surface of a display screen.

【0002】[0002]

【従来の技術】多くのディスプレイは、室内外を問わず
外光などが入射するような環境下で使用される。この外
光などの入射光は、ディスプレイ表面等において正反射
され、反射像が表示光と混合し表示品質を低下させ、表
示画像を見にくくしている。特に、最近のオフィスのO
A化に伴い、コンピューターを使用する頻度が増し、デ
ィスプレイと相対していることが長時間化した。これに
より反射像等による表示品質の低下は、目の疲労など健
康障害等を引き起こす要因とも考えられている。更に
は、近年ではアウトドアライフの普及に伴い、各種ディ
スプレイを室外で使用する機会が益々増える傾向にあ
り、表示品質をより向上して表示画像を明確に認識でき
るような要求が出てきている。
2. Description of the Related Art Many displays are used in an environment where external light or the like is incident regardless of whether indoors or outdoors. The incident light such as external light is specularly reflected on the display surface or the like, and the reflected image is mixed with the display light to lower the display quality, making it difficult to view the display image. Especially in recent offices
With the shift to A, the frequency of using a computer has increased, and it has been a long time to use the computer. It is considered that the deterioration of the display quality due to the reflection image or the like causes a health disorder such as eye fatigue. Furthermore, in recent years, with the widespread use of outdoor life, opportunities for using various displays outdoors tend to increase more and more, and there is a demand for further improving display quality and clearly displaying display images.

【0003】これらの要求を満たす為の例として、透明
プラスチックフィルム基材の表面に透明な微粒子を含む
コーティング層を形成し、凹凸状の表面により外光を乱
反射させることが知られている。
As an example for satisfying these requirements, it has been known that a coating layer containing transparent fine particles is formed on the surface of a transparent plastic film substrate, and external light is irregularly reflected by an uneven surface.

【0004】これとは別に、透明プラスチックフィルム
基材の表面に、金属酸化物などから成る高屈折率層と低
屈折率層を積層した、或いは無機化合物や有機フッ素化
合物などの低屈折率層を単層で形成した可視光の広範囲
にわたり反射防止効果を有する反射防止フィルムをディ
スプレイ表面に張り合わせる等して利用することが知ら
れている。
Separately, a high refractive index layer and a low refractive index layer made of a metal oxide or the like are laminated on the surface of a transparent plastic film substrate, or a low refractive index layer made of an inorganic compound or an organic fluorine compound is formed on the surface. It is known that an antireflection film having an antireflection effect over a wide range of visible light formed of a single layer is used by bonding it to a display surface or the like.

【0005】上記の金属化合物などから成る高屈折率層
と低屈折率層を積層した、或いは無機化合物や有機フッ
素化合物などの低屈折率層を単層で形成した反射防止層
は、一般的に、PVD(Physical Vapor
Deposition)法(真空蒸着法、反応性蒸着
法、イオンビームアシスト法、スパッタリング法、イオ
ンプレーティング法等)、CVD(Chemical
Vapor Deposition)法等のドライコー
ティング法により形成される。このようなドライコーテ
ィング法は、基材の大きさが限定され、又、連続生産に
は適さなく、生産コストが高いという欠点が有る。
[0005] An antireflection layer in which a high refractive index layer and a low refractive index layer made of the above metal compound or the like are laminated or a low refractive index layer made of an inorganic compound or an organic fluorine compound is formed as a single layer is generally used. , PVD (Physical Vapor)
Deposition (vacuum deposition, reactive deposition, ion beam assist, sputtering, ion plating, etc.), CVD (Chemical)
It is formed by a dry coating method such as a Vapor Deposition method. Such a dry coating method has disadvantages in that the size of the substrate is limited, and it is not suitable for continuous production, and the production cost is high.

【0006】そこで、大面積化、及び連続生産が可能で
有るために低コスト化が可能なウェットコーティング法
(ディップコーティング法、スピンコーティング法、フ
ローコーティング法、スプレーコーティング法、ロール
コーティング法、グラビアロールコーティング法、エア
ドクターコーティング法、プレードコーティング法、ワ
イヤードクターコーティング法、ナイフコーティング
法、リバースコーティング法、トランスファロールコー
ティング法、マイクログラビアコーティング法、キスコ
ーティング法、キャストコーティング法、スロットオリ
フィスコーティング法、カレンダーコーティング法、ダ
イコーティング法等)による反射防止フィルムの生産が
注目されている。
[0006] Therefore, a wet coating method (dip coating method, spin coating method, flow coating method, spray coating method, roll coating method, gravure roll, etc.), which can be manufactured at a low cost because of its large area and continuous production, is possible. Coating method, air doctor coating method, blade coating method, wire doctor coating method, knife coating method, reverse coating method, transfer roll coating method, microgravure coating method, kiss coating method, cast coating method, slot orifice coating method, calendar coating Method, die coating method, etc.) has attracted attention.

【0007】ウェットコーティング法による低屈折率層
を得る手段としては、屈折率の低いフッ素元素を含有
する材料を用いる手法と、層中に空孔を設け、空気の
混入により屈折率を低くする手法とに大別される。上記
の手法により、低屈折率層を構成する具体的な材料とし
ては、フッ素含有有機材料、低屈折率の微粒子等が挙げ
られ、これらの材料を単独に、或いは組み合わせること
が提案されている。例えば、特開平2−19801号公
報には、フッ素含有有機材料を用いることが提案されて
いる。特開平6−230201号公報には、フッ素含有
有機材料と低屈折率微粒子を用いることが提案されてい
る。特開平7−331115号公報には、フッ素含有有
機材料とアルコキシシランを用いることが提案されてい
る。特開平8−211202号公報には、アルコキシシ
ランと低屈折率微粒子を用いることが提案されている。
As a means for obtaining a low refractive index layer by a wet coating method, a method using a material containing a fluorine element having a low refractive index and a method of providing a hole in the layer and lowering the refractive index by mixing air. They are roughly divided into Specific materials constituting the low-refractive-index layer by the above method include a fluorine-containing organic material, fine particles having a low refractive index, and the like, and it has been proposed to use these materials alone or in combination. For example, Japanese Patent Application Laid-Open No. Hei 2-19801 proposes using a fluorine-containing organic material. JP-A-6-230201 proposes to use a fluorine-containing organic material and low refractive index fine particles. JP-A-7-331115 proposes using a fluorine-containing organic material and an alkoxysilane. Japanese Patent Application Laid-Open No. Hei 8- 211202 proposes to use alkoxysilane and fine particles having a low refractive index.

【0008】[0008]

【発明が解決しようとする課題】この反射防止フィルム
の最外層に使用する低屈折率層は、屈折率が低いことは
もちろん、擦過などによる傷が付きにくいことが必要で
ある。又、人が使用するにあたって、指紋、皮脂、汗、
化粧品などの汚れが付着することを防止し、また、付着
しても容易に拭き取れるようにしなければならない。
The low refractive index layer used as the outermost layer of the antireflection film needs to have not only a low refractive index but also not to be easily damaged by abrasion or the like. Also, when used by humans, fingerprints, sebum, sweat,
It is necessary to prevent the attachment of dirt such as cosmetics and to make it easy to wipe off even if attached.

【0009】しかし、従来技術においての低屈折率層
は、屈折率、機械強度、防汚性の特性を全て満足するこ
とが出来ない。これらの特性を全て満たしていなけれ
ば、実用上、低屈折率層の単層を有する反射防止フィル
ムに使用することは出来ない。
However, the low refractive index layer in the prior art cannot satisfy all of the characteristics of refractive index, mechanical strength and antifouling property. If all of these properties are not satisfied, it cannot be practically used for an antireflection film having a single low refractive index layer.

【0010】本発明は、以上のような従来技術の課題を
解決しようとするものであり、屈折率が非常に低く、擦
過などによる低屈折率層の表面に傷が付きにくく、低屈
折率層の剥離がなく、また低屈折率層の表面に、指紋、
皮脂、汗、化粧品などの汚れが付着することを防止し、
付着しても容易に拭き取ることが可能な低屈折率層の単
層を有する反射防止フィルムを提供することを目的とす
る。
The present invention has been made to solve the above-mentioned problems of the prior art, and has a very low refractive index, the surface of the low refractive index layer is hardly scratched by rubbing or the like, and the low refractive index layer is hardly damaged. No peeling, and fingerprints,
Prevents sebum, sweat, dirt such as cosmetics from attaching,
It is an object of the present invention to provide an antireflection film having a single low refractive index layer that can be easily wiped off even if it adheres.

【0011】[0011]

【課題を解決するための手段】上記課題を解決するた
め、請求項1に係る発明は、下記一般式(1)で示され
る有機珪素化合物、若しくはこの有機珪素化合物の重合
体のいずれかからなる組成物Aと、下記一般式(2)で
示されるパーフルオロポリエーテル基含有珪素化合物、
若しくはこのパーフルオロポリエーテル基含有珪素化合
物の重合体のいずれかからなる組成物Bとの共重合体か
らなることを特徴とする低屈折率コーティング剤であ
る。
Means for Solving the Problems In order to solve the above problems, the invention according to claim 1 comprises an organic silicon compound represented by the following general formula (1) or a polymer of the organic silicon compound. A composition A, a perfluoropolyether group-containing silicon compound represented by the following general formula (2),
Alternatively, a low-refractive-index coating agent comprising a copolymer with the composition B comprising any of the polymers of the perfluoropolyether group-containing silicon compound.

【0012】Si(OR)4 ・・・・・(1) (但し、Rは直鎖状または分岐状アルキル基である)Si (OR) 4 ... (1) (where R is a linear or branched alkyl group)

【0013】 Rf−(OC36n−O−(CF2m−(CH2l−O−(CH2s−S i(OR)3 ・・・・・( 2) (但し、Rfは炭素数1〜16の直鎖状または分岐状パ
ーフルオロアルキル基、nは1〜50の整数、mは0〜
3の整数、lは0〜3の整数、sは0〜6の整数、但
し、6≧m+l>0、Rは直鎖状または分岐状アルキル
基である)
Rf- (OC 3 F 6 ) n -O- (CF 2 ) m- (CH 2 ) 1 -O- (CH 2 ) s -Si (OR) 3 (2) (where, Rf is a linear or branched perfluoroalkyl group having 1 to 16 carbon atoms, n is an integer of 1 to 50, and m is 0 to 0)
An integer of 3, 1 is an integer of 0 to 3, s is an integer of 0 to 6, provided that 6 ≧ m + 1> 0, and R is a linear or branched alkyl group.

【0014】請求項2に係る発明は、請求項1記載の低
屈折率コーティング剤において、組成物Aと組成物Bの
混合モル比が、モル%で表したとき50:50〜99:
1であることを特徴とする。
According to a second aspect of the present invention, in the low refractive index coating agent according to the first aspect, the mixing molar ratio of the composition A and the composition B is 50:50 to 99:
It is characterized by being 1.

【0015】請求項3に係る発明は、請求項1又は2記
載の低屈折率コーティング剤において、平均粒径0.5
〜200nmの中空シリカゾルを添加したことを特徴と
する。
According to a third aspect of the present invention, there is provided the low refractive index coating agent according to the first or second aspect, wherein the average particle diameter is 0.5.
It is characterized in that a hollow silica sol of up to 200 nm is added.

【0016】請求項4に係る発明は、請求項1〜3のい
ずれかに記載の低屈折率コーティング剤において、前記
中空シリカゾルの添加量が5〜95wt%であり、その
屈折率が1.40〜1.34の範囲であることを特徴と
する。
According to a fourth aspect of the present invention, in the low refractive index coating agent according to any one of the first to third aspects, the addition amount of the hollow silica sol is 5 to 95 wt%, and the refractive index thereof is 1.40. characterized in that it is a range of ~1.34.

【0017】請求項5に係る発明は、透明基材上に、請
求項1ないし4のいずれかの低屈折率コーティング剤を
塗布し、低屈折率層を設けたことを特徴とする反射防止
フィルムである。
According to a fifth aspect of the present invention, there is provided an antireflection film comprising a low refractive index layer provided by applying the low refractive index coating agent according to any one of the first to fourth aspects on a transparent substrate. It is.

【0018】請求項6に係る発明は、請求項5記載の反
射防止フィルムにおいて、前記透明基材と低屈折率層と
の間にハードコート層を設けたことを特徴とする。
According to a sixth aspect of the invention, in the antireflection film according to the fifth aspect, a hard coat layer is provided between the transparent substrate and the low refractive index layer.

【0019】請求項7に係る発明は、請求項6記載の反
射防止フィルムにおいて、前記ハードコート層が、(メ
タ)アクリロイルオキシ基を含有する多官能性モノマー
を主成分とする重合体からなることを特徴とする。
According to a seventh aspect of the present invention, in the antireflection film according to the sixth aspect, the hard coat layer is made of a polymer containing a polyfunctional monomer containing a (meth) acryloyloxy group as a main component. It is characterized by.

【0020】請求項8に係る発明は、請求項6又は7記
載の反射防止フィルムにおいて、前記ハードコート層の
低屈折率層を設ける面を表面処理したことを特徴とす
る。
The invention according to claim 8 is the antireflection film according to claim 6 or 7, wherein the surface of the hard coat layer on which the low refractive index layer is provided is surface-treated.

【0021】請求項9に係る発明は、請求項8記載の反
射防止フィルムにおいて、前記表面処理が、アルカリ処
理であることを特徴とする。
According to a ninth aspect of the present invention, in the antireflection film according to the eighth aspect, the surface treatment is an alkali treatment.

【0022】[0022]

【発明の実施の形態】以下、本発明を詳細に説明する。
図1は、本発明の反射防止フィルムの一例を示した断面
図である。図に示すように、透明プラスチックフィルム
基材2上の少なくとも片面に、ハードコート層3、低屈
折率層4を形成した場合の反射防止フィルム1である。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION Hereinafter, the present invention will be described in detail.
FIG. 1 is a sectional view showing an example of the antireflection film of the present invention. As shown in the figure, an antireflection film 1 in which a hard coat layer 3 and a low refractive index layer 4 are formed on at least one surface of a transparent plastic film substrate 2.

【0023】透明プラスチックフィルム基材2として
は、種々の有機高分子からなる基材をあげることができ
る。通常、光学部材として使用される基材は、透明性、
屈折率、分散などの光学特性、さらには耐衝撃性、耐熱
性、耐久性などの諸物性の点から、ポリオレフィン系
(ポリエチレン、ポリプロピレン等)、ポリエステル系
(ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレ
ート等)、ポリアミド系(ナイロン−6、ナイロン−6
6等)、ポリスチレン、ポリ塩化ビニル、ポリイミド、
ポリビニルアルコール、エチレンビニルアルコール、ア
クリル、セルロース系(トリアセチルセルロース、ジア
セチルセルロース、セロファン等)等、或いはこれらの
有機高分子の共重合体などからなっている。
Examples of the transparent plastic film substrate 2 include substrates made of various organic polymers. Usually, the substrate used as an optical member is transparent,
Polyolefins (polyethylene, polypropylene, etc.), polyesters (polyethylene terephthalate, polyethylene naphthalate, etc.), polyamides in view of optical properties such as refractive index and dispersion, and various physical properties such as impact resistance, heat resistance, and durability System (nylon-6, nylon-6
6), polystyrene, polyvinyl chloride, polyimide,
It is made of polyvinyl alcohol, ethylene vinyl alcohol, acryl, cellulose (triacetyl cellulose, diacetyl cellulose, cellophane, etc.), or a copolymer of these organic polymers.

【0024】これらの透明プラスチックフィルム基材を
構成する有機高分子に、公知の添加剤、例えば、帯電防
止剤、紫外線吸収剤、可塑剤、滑剤、着色剤、酸化防止
剤、難燃剤等を含有させたものも使用することができ
る。
Known organic additives such as antistatic agents, ultraviolet absorbers, plasticizers, lubricants, coloring agents, antioxidants, flame retardants, etc. are contained in the organic polymer constituting these transparent plastic film substrates. Those that have been used can also be used.

【0025】また、この透明プラスチックフィルム基材
としては、単層、あるいは複数の有機高分子を積層した
ものでも良い。また、その厚みは、特に限定されるもの
ではないが、70〜200μmが好ましい。
The transparent plastic film substrate may be a single layer or a laminate of a plurality of organic polymers. The thickness is not particularly limited, but is preferably 70 to 200 μm.

【0026】ハードコート層3は、透明プラスチック基
材表面の硬度を向上させ、鉛筆等の荷重のかかる引っ掻
きによる傷を防止し、また、透明プラスチックフィルム
基材の屈曲による反射防止層のクラック発生を抑制する
ことができ、反射防止フィルムの機械的強度が改善でき
る。ハードコート層は1分子中に2個以上の(メタ)ア
クリロイルオキシ基を含有する多官能性モノマーを主成
分とする重合物からなる。多官能性モノマーとしては、
1,4−ブタンジオールジ(メタ)アクリレート、1,
6−ヘキサンジオールジ(メタ)アクリレート、ネオ
ペンチルグリコール(メタ)アクリレート、エチレング
リコールジ(メタ)アクリレート、トリエチレングリコ
ールジ(メタ)アクリレート、トリプロピレングリコー
ルジ(メタ)アクリレート、ジプロピレングリコールジ
(メタ)アクリレート、3−メチルペンタンジオールジ
(メタ)アクリレート、ジエチレングリコールビスβ−
(メタ)アクリロイルオキシプロピネート、トリメチロ
ールエタントリ(メタ)アクリレート、トリメチロール
プロパントリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリト
ールトリ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトー
ルヘキサ(メタ)アクリレート、トリ(2−ヒドロキシ
エチル)イソシアネートジ(メタ)アクリレート、ペン
タエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、2,3
−ビス(メタ)アクリロイルオキシエチルオキシメチル
[2.2.1]ヘプタン、ポリ1,2−ブタジエンジ
(メタ)アクリレート、1,2−ビス(メタ)アクリロ
イルオキシメチルヘキサン、ノナエチレングリコールジ
(メタ)アクリレート、テトラデカンエチレングリコー
ルジ(メタ)アクリレート、10−デカンジオール(メ
タ)アクリレート、3,8−ビス(メタ)アクリロイル
オキシメチルトリシクロ[5.2.10]デカン、水素
添加ビスフェノールAジ(メタ)アクリレート、2,2
−ビス(4−(メタ)アクリロイルオキシジエトキシフ
ェニル)プロパン、1,4−ビス((メタ)アクリロイ
ルオキシメチル)シクロヘキサン、ヒドロキシピバリン
酸エステルネオペンチルグリコールジ(メタ)アクリレ
ート、ビスフェノールAジグリシジルエーテルジ(メ
タ)アクリレート、エポキシ変成ビスフェノールAジ
(メタ)アクリレート等を挙げることができる。多官能
モノマーは、一種類のみを使用しても良いし、二種類以
上を併用しても良い。また、必要で有れば単官能モノマ
ーと併用して共重合させることもできる。
The hard coat layer 3 improves the hardness of the surface of the transparent plastic substrate, prevents scratches caused by a heavy load such as a pencil, and prevents cracks in the antireflection layer due to bending of the transparent plastic film substrate. Can be suppressed, and the mechanical strength of the antireflection film can be improved. The hard coat layer is composed of a polymer mainly composed of a polyfunctional monomer containing two or more (meth) acryloyloxy groups in one molecule. As the polyfunctional monomer,
1,4-butanediol di (meth) acrylate, 1,
6-hexanediol di (meth) acrylate, neopentyl glycol (meth) acrylate, ethylene glycol di (meth) acrylate, triethylene glycol di (meth) acrylate, tripropylene glycol di (meth) acrylate, dipropylene glycol di (meth) ) Acrylate, 3-methylpentanediol di (meth) acrylate, diethylene glycol bis β-
(Meth) acryloyloxypropinate, trimethylolethane tri (meth) acrylate, trimethylolpropane tri (meth) acrylate, pentaerythritol tri (meth) acrylate, dipentaerythritol hexa (meth) acrylate, tri (2-hydroxyethyl) Isocyanate di (meth) acrylate, pentaerythritol tetra (meth) acrylate, 2,3
-Bis (meth) acryloyloxyethyloxymethyl [2.2.1] heptane, poly1,2-butadienedi (meth) acrylate, 1,2-bis (meth) acryloyloxymethylhexane, nonaethylene glycol di (meth) ) Acrylate, tetradecane ethylene glycol di (meth) acrylate, 10-decanediol (meth) acrylate, 3,8-bis (meth) acryloyloxymethyltricyclo [5.2.10] decane, hydrogenated bisphenol A di (meth) ) Acrylate, 2,2
-Bis (4- (meth) acryloyloxydiethoxyphenyl) propane, 1,4-bis ((meth) acryloyloxymethyl) cyclohexane, hydroxypivalic acid ester neopentyl glycol di (meth) acrylate, bisphenol A diglycidyl ether di (Meth) acrylate, epoxy-modified bisphenol A di (meth) acrylate, and the like. As the polyfunctional monomer, only one kind may be used, or two or more kinds may be used in combination. If necessary, it can be copolymerized with a monofunctional monomer.

【0027】ハードコート層は、透明プラスチックフィ
ルム基材と屈折率が同等もしくは近似していることがよ
り好ましい。膜厚は3μm以上あれば十分な強度となる
が、透明性、塗工精度、取り扱いから5〜7μmの範囲
が好ましい。
It is more preferable that the hard coat layer has a refractive index equal or similar to that of the transparent plastic film substrate. If the film thickness is 3 μm or more, sufficient strength is obtained, but a range of 5 to 7 μm is preferable in terms of transparency, coating accuracy and handling.

【0028】前記ハードコート層に平均粒径0.01〜
3μmの無機或いは有機物微粒子を混合分散させる。ま
たは表面形状を凹凸させることで一般的にアンチグレア
と呼ばれる光拡散性処理を施すことが出来る。これらの
微粒子は透明であれば特に限定されるものではないが、
低屈折率材料が好ましく、酸化珪素、フッ化マグネシウ
ムが安定性、耐熱性等で好ましい。これらのハードコー
ト層は均一に塗布されるものであれば、塗布方法はいか
なる方法でも構わない。
The hard coat layer has an average particle size of 0.01 to
3 μm inorganic or organic fine particles are mixed and dispersed. Alternatively, light diffusion treatment generally called anti-glare can be performed by making the surface shape uneven. These fine particles are not particularly limited as long as they are transparent,
Low refractive index materials are preferable, and silicon oxide and magnesium fluoride are preferable in terms of stability, heat resistance and the like. These hard coat layers may be applied in any manner as long as they can be applied uniformly.

【0029】ハードコート層上に本発明の低屈折率コー
ティング剤を塗工する前に、表面処理を行うことが必要
である。表面処理を行うことにより、ハードコート層と
低屈折率層との密着性を向上させることができる。ハー
ドコート層の表面処理としては、高周波放電プラズマ
法、電子ビーム法、イオンビーム法、蒸着法、スパッタ
リング法、アルカリ処理法、酸処理法、コロナ処理法、
大気圧グロー放電プラズマ法等を挙げることができる。
特に、アルカリ処理法が有効である。アルカリ処理に使
用するアルカリ水溶液としては、例えば、水酸化ナトリ
ウム、水酸化カリウム等の水溶液、それらに更にアルコ
ール等の各種有機溶媒を加えたアルカリ水溶液等を挙げ
ることができる。アルカリ処理の条件は、例えば、水酸
化ナトリウム水溶液を用いた場合、0.1〜10Nの濃
度の水溶液として使用することが望ましく、更には、1
〜2Nの濃度が望ましい。また、アルカリ水溶液の温度
は、0〜100℃、好ましくは、20〜80℃である。
アルカリ処理の時間は、0.01〜10時間、好ましく
は、0.1〜1時間である。
Before applying the low refractive index coating agent of the present invention on the hard coat layer, it is necessary to perform a surface treatment. By performing the surface treatment, the adhesion between the hard coat layer and the low refractive index layer can be improved. The surface treatment of the hard coat layer includes a high-frequency discharge plasma method, an electron beam method, an ion beam method, an evaporation method, a sputtering method, an alkali treatment method, an acid treatment method, a corona treatment method,
Atmospheric pressure glow discharge plasma method can be used.
In particular, an alkali treatment method is effective. Examples of the aqueous alkali solution used for the alkali treatment include aqueous solutions of sodium hydroxide, potassium hydroxide and the like, and aqueous alkali solutions obtained by further adding various organic solvents such as alcohol thereto. The conditions of the alkali treatment are, for example, when an aqueous sodium hydroxide solution is used, it is preferable to use an aqueous solution having a concentration of 0.1 to 10N.
A concentration of ~ 2N is desirable. The temperature of the aqueous alkali solution is 0 to 100 ° C, preferably 20 to 80 ° C.
The time of the alkali treatment is 0.01 to 10 hours, preferably 0.1 to 1 hour.

【0030】本発明の低屈折率コーティング剤は、下記
一般式(1)で示される有機珪素化合物、若しくはこの
有機珪素化合物の重合体のいずれかからなる組成物A
と、下記一般式(2)で示されるパーフルオロポリエー
テル基含有珪素化合物、若しくはこのパーフルオロポリ
エーテル基含有珪素化合物の重合体のいずれかからなる
組成物Bとの共重合体からなることを特徴とする。
The low refractive index coating agent of the present invention is a composition A comprising an organosilicon compound represented by the following general formula (1) or a polymer of the organosilicon compound.
And a copolymer of a perfluoropolyether group-containing silicon compound represented by the following general formula (2) and a composition B comprising a polymer of the perfluoropolyether group-containing silicon compound. Features.

【0031】Si(OR)4 ・・・・・(1)Si (OR) 4 (1)

【0032】 Rf−(OC36n−O−(CF2m−(CH2l−O−(CH2s−S i(OR)3 ・・・・・( 2)Rf— (OC 3 F 6 ) n —O— (CF 2 ) m — (CH 2 ) 1 —O— (CH 2 ) s —Si (OR) 3 ・ ・ ・ ・ ・ (2)

【0033】一般式(1)において、Rは直鎖状または
分岐状アルキル基であり、一般式(1)で表される有機
珪素化合物としては、Si(OCH34、Si(OC2
5 4、Si(OC374、Si〔OCH(C
32)〕4、Si(OC494等が例示でき、それら
を単独に、あるいは2種類以上併せて用いてもよい。
In the general formula (1), R is linear or
An organic compound represented by the general formula (1), which is a branched alkyl group
As the silicon compound, Si (OCHThree)Four, Si (OCTwo
HFive) Four, Si (OCThreeH7)Four, Si [OCH (C
HThree)Two)]Four, Si (OCFourH9)FourEtc. can be exemplified.
May be used alone or in combination of two or more.

【0034】次に、一般式(2)で表されるパーフルオ
ロポリエーテル基含有珪素化合物に関して説明する。一
般式(2)において、Rfは炭素数1〜16の直鎖状ま
たは分岐状パーフルオロアルキル基であり、特に、CF
3―、C25―、C37―が好ましい。Rは炭素数1〜
5の直鎖状または分岐状アルキル基であり、特に、―O
CH3、―OC25が好ましい。また、nは1〜50の
整数、mは0〜3の整数、lは0〜3の整数、sは0〜
6の整数、但し、6≧m+l>0である。
Next, the perfluoropolyether group-containing silicon compound represented by the general formula (2) will be described. In the general formula (2), Rf is a linear or branched perfluoroalkyl group having 1 to 16 carbon atoms.
3 -, C 2 F 5 - , C 3 F 7 - is preferred. R is carbon number 1
5 is a linear or branched alkyl group,
CH 3 and —OC 2 H 5 are preferred. N is an integer of 1 to 50; m is an integer of 0 to 3; l is an integer of 0 to 3;
An integer of 6, where 6 ≧ m + 1> 0.

【0035】上記一般式(1)で表される有機珪素化合
物、又は一般式(2)で表されるパーフルオロポリエー
テル基含有珪素化合物を用いて重合体を、或いは、一般
式(1)で表される有機珪素化合物、若しくはその重合
体と、一般式(2)で表されるパーフルオロポリエーテ
ル基含有珪素化合物、若しくはその重合体を用いて共重
合体を作製する方法は限定されないが、加水分解によっ
て作製するにあたっての触媒としては、公知であり、塩
酸、蓚酸、硝酸、酢酸、フッ酸、ギ酸、リン酸、蓚酸、
アンモニア、アルミニウムアセトナート、ジブチルスズ
ラウレート、オクチル酸スズ化合物、メタンスルホン
酸、トリクロロメタンスルホン酸、パラトルエンスルホ
ン酸、トリフロロ酢酸等が例示でき、それらを単独に、
或いは2種類以上併せて用いてもよい。
A polymer is prepared using the organosilicon compound represented by the general formula (1) or the perfluoropolyether group-containing silicon compound represented by the general formula (2), or A method for producing a copolymer using the organosilicon compound represented by the formula (2) or a perfluoropolyether group-containing silicon compound represented by the general formula (2) or a polymer thereof is not limited. As a catalyst for producing by hydrolysis, known, hydrochloric acid, oxalic acid, nitric acid, acetic acid, hydrofluoric acid, formic acid, phosphoric acid, oxalic acid,
Ammonia, aluminum acetonate, dibutyltin laurate, tin octylate compounds, methanesulfonic acid, trichloromethanesulfonic acid, paratoluenesulfonic acid, trifluoroacetic acid, etc.
Alternatively, two or more kinds may be used in combination.

【0036】上記の低屈折率コーティング剤に、中空シ
リカゾルを添加することにより、低屈折率化が可能とな
る。中空シリカゾルは内部に空気を含有しているため
に、それ自身の屈折率は、通常のシリカ(屈折率=1.
46)と比較して著しく低い(屈折率=1.34)。ま
た、この中空シリカゾルを低屈折率コーティング゛剤に
添加した場合、このシリカゾルは中空であるために、マ
トリックスである有機珪素化合物、パーフルオロポリエ
ーテル基含有珪素化合物がシリカゾル内部に浸漬するこ
とが無く、屈折率の上昇を防ぐことが出来る。
By adding a hollow silica sol to the above low refractive index coating agent, it is possible to lower the refractive index. Since the hollow silica sol contains air therein, its own refractive index is ordinary silica (refractive index = 1.
46) (refractive index = 1.34). Also, when this hollow silica sol is added to a low refractive index coating agent, the silica sol is hollow, so that the organic silicon compound as the matrix and the perfluoropolyether group-containing silicon compound are not immersed inside the silica sol. , The refractive index can be prevented from rising.

【0037】中空シリカゾルの平均粒径は、0.5〜2
00nmの範囲内であれは良い。この平均粒径が200
nmよりも大きくなると、低屈折率層の表面においてレ
イリー散乱によって光が散乱され、白っぽく見え、その
透明性が低下する。また、この平均粒径が0.5nm未
満であると、中空シリカゾルが凝集しやすくなってしま
う。
The average particle size of the hollow silica sol is 0.5 to 2
A value within the range of 00 nm is good. This average particle size is 200
When it is larger than nm, light is scattered by Rayleigh scattering on the surface of the low-refractive-index layer, looks whitish, and its transparency is reduced. If the average particle size is less than 0.5 nm, the hollow silica sol tends to aggregate.

【0038】前記低屈折率コーティング剤は、通常、揮
発性溶媒に希釈して塗布される。希釈溶媒として用いら
れるものは、特に限定されないが、組成物の安定性、ハ
ードコート層に対する濡れ性、揮発性などを考慮して、
メタノール、エタノール、イソプロパノール、ブタノー
ル、2−メトキシエタノール等のアルコール類、アセト
ン、メチルエチルケトン、メチルイソブチル等のケトン
類、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル
類、ジイソプロピルエーテル等のエーテル類、エチレン
グリコール、プロピレングリコール、ヘキシレングリコ
ール等のグリコール類、エチルセロソルブ、ブチルセロ
ソルブ、エチルカルビトール、ブチルカルビトール等の
グリコールエーテル類、ヘキサン、ヘプタン、オクタン
等の脂肪族炭化水素類、ハロゲン化炭化水素、ベンゼ
ン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素、N−メチ
ルピロリドン、ジメチルホルムアミド等が挙げられる。
また、溶媒は1種類のみならず2種類以上の混合物とし
て用いることも可能である。
The low refractive index coating agent is usually applied after being diluted in a volatile solvent. What is used as the diluting solvent is not particularly limited, but in consideration of the stability of the composition, wettability to the hard coat layer, volatility, and the like,
Alcohols such as methanol, ethanol, isopropanol, butanol and 2-methoxyethanol; ketones such as acetone, methyl ethyl ketone and methyl isobutyl; esters such as methyl acetate, ethyl acetate and butyl acetate; ethers such as diisopropyl ether; ethylene glycol Glycols such as propylene glycol, hexylene glycol, ethyl cellosolve, butyl cellosolve, ethyl carbitol, glycol ethers such as butyl carbitol, hexane, heptane, aliphatic hydrocarbons such as octane, halogenated hydrocarbons, benzene, Examples thereof include aromatic hydrocarbons such as toluene and xylene, N-methylpyrrolidone, dimethylformamide and the like.
Further, the solvent may be used not only as one kind but also as a mixture of two or more kinds.

【0039】前記低屈折率コーティング剤は、ウェット
コーティング法(ディップコーティング法、スピンコー
ティング法、フローコーティング法、スプレーコーティ
ング法、ロールコーティング法、グラビアロールコーテ
ィング法、エアドクターコーティング法、プレードコー
ティング法、ワイヤードクターコーティング法、ナイフ
コーティング法、リバースコーティング法、トランスフ
ァロールコーティング法、マイクログラビアコーティン
グ法、キスコーティング法、キャストコーティング法、
スロットオリフィスコーティング法、カレンダーコーテ
ィング法、ダイコーティング法等)により表面処理を行
ったハードコート層上に塗工される。塗工後、加熱乾燥
により塗膜中の溶媒を揮発させ、その後、加熱、加湿、
紫外線照射、電子線照射等を行い塗膜を硬化させる。
The low refractive index coating agent can be prepared by a wet coating method (dip coating method, spin coating method, flow coating method, spray coating method, roll coating method, gravure roll coating method, air doctor coating method, plaid coating method, wire coating method). Doctor coating, knife coating, reverse coating, transfer roll coating, microgravure coating, kiss coating, cast coating,
It is coated on the hard coat layer which has been subjected to surface treatment by a slot orifice coating method, a calendar coating method, a die coating method, or the like. After coating, the solvent in the coating film is volatilized by heating and drying, and then heating, humidification,
The coating film is cured by irradiating ultraviolet rays, irradiating an electron beam, or the like.

【0040】本発明の低屈折率コーティング剤を用いて
形成された低屈折率層の屈折率は、前記透明プラスチッ
クフィルム基材、ハードコート層のいずれの屈折率より
も低い値であり、また、この低屈折率層の厚さ(d)
は、低屈折率層の屈折率をnとすると、nd=λ/4で
あることが好ましい。
The refractive index of the low-refractive-index layer formed using the low-refractive-index coating agent of the present invention is lower than those of the transparent plastic film substrate and the hard coat layer. Thickness (d) of this low refractive index layer
Is preferably nd = λ / 4, where n is the refractive index of the low refractive index layer.

【0041】[0041]

【実施例】以下、本発明の実施例について詳細に説明す
るが、本発明は実施例に限定されるものではない。
Embodiments of the present invention will be described below in detail, but the present invention is not limited to the embodiments.

【0042】〈実施例1〉 (ハードコート層の形成)透明プラスチックフィルム基
材2としてTACフィルム(厚さ80μm)を用いた。
また、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、及
びペンタエリスリトールテトラアクリレートを用いてハ
ードコート層用の塗布液を調整した。このハードコート
層用塗布液をマイクログラビア法を用いてTACフィル
ム上に膜厚5μmで塗布し、120Wのメタルハライド
ランプを20cmの距離から10sec.照射すること
により、ハードコート層3を形成した。 (表面処理)上記のハードコート層を形成したTACフ
ィルムを、50℃に加熱した1.5N−NaOH水溶液
に2分間浸漬しアルカリ処理を行い、水洗後、その後、
0.5wt%−H2SO4水溶液に室温で30秒間浸漬し
中和させ、水洗、乾燥を行った。 (低屈折率層の作製)Si(OC25)4を95mol
%、C37―(OC3F624―O―(CF2 2―C24
―O―CH2Si(OCH33を5mol%で混合し、
1.0N−HClを触媒に用いた低屈折率コーティング
剤を作製した。上記表面処理を行ったハードコート層を
形成したTACフィルム上にマイクログラビア法を用い
てコーティング溶液を膜厚100nmで塗布し、120
℃で1分間乾燥を行うことにより、低屈折率層4を形成
した。
Example 1 (Formation of Hard Coat Layer) Base of Transparent Plastic Film
As the material 2, a TAC film (80 μm in thickness) was used.
Also, dipentaerythritol hexaacrylate, and
And pentaerythritol tetraacrylate
A coating solution for a hard coat layer was prepared. This hard coat
TAC fill using microgravure method
120μm metal halide with a thickness of 5μm
The lamp was moved from a distance of 20 cm for 10 sec. Irradiate
Thereby, the hard coat layer 3 was formed. (Surface treatment) The TAC film having the hard coat layer formed thereon
1.5N NaOH aqueous solution heated to 50 ° C
Immersed for 2 minutes in an alkaline treatment, washed with water, and then
0.5wt% -HTwoSOFourImmerse in aqueous solution for 30 seconds at room temperature
It was neutralized, washed with water and dried. (Production of Low Refractive Index Layer) Si (OCTwoHFive95 mol of 4)
%, CThreeF7-(OC3F6)twenty four-O- (CFTwo) Two―CTwoHFour
-O-CHTwoSi (OCHThree)ThreeAt 5 mol%,
Low refractive index coating using 1.0N-HCl as catalyst
An agent was prepared. Hard coat layer that has been subjected to the above surface treatment
Using the microgravure method on the formed TAC film
Coating solution with a thickness of 100 nm,
Forming a low refractive index layer 4 by drying at 1 ° C. for 1 minute
did.

【0043】〈実施例2〉ハードコート層の形成、及び
表面処理は実施例1と同一である。 (低屈折率層の作製)Si(OC25)4を95mol
%、C37―(OC3624―O―(CF22―C24
―O―CH2Si(OCH33を5mol%で混合した
マトリックスに対して、平均粒径60nmの中空シリカ
ゾルを50wt%添加し、1.0N−HClを触媒に用
いた低屈折率コーティング剤を作製した。上記表面処理
を行ったハードコート層を形成したTACフィルム上に
マイクログラビア法を用いてコーティング溶液を膜厚1
00nmで塗布し、120℃で1分間乾燥を行うことに
より、低屈折率層を形成した。
Example 2 The formation of the hard coat layer and the surface treatment were the same as in Example 1. (Preparation of low refractive index layer) 95 mol of Si (OC 2 H 5 ) 4
%, C 3 F 7 - ( OC 3 F 6) 24 -O- (CF 2) 2 -C 2 H 4
The -O-CH 2 Si (OCH 3 ) 3 with respect to the matrix was mixed with 5 mol%, the hollow silica sol having an average particle diameter of 60nm was added 50 wt%, the low-refractive index coating agent using 1.0 N-HCl in the catalyst Was prepared. A coating solution having a thickness of 1 was applied on the TAC film on which the hard coat layer having been subjected to the surface treatment was formed by using a microgravure method.
A low refractive index layer was formed by coating at 00 nm and drying at 120 ° C. for 1 minute.

【0044】〈実施例3〉ハードコート層の形成、及び
表面処理は実施例1と同一である。 (低屈折率層の作製)Si(OC254(A)と、C3
7―(OC3624―O―(CF22―C24―O―
CH2Si(OCH33(B)の混合モル%を20:8
0、80:20、95:5とした3種類のマトリックス
に対して、平均粒径60nmの中空シリカゾルを10w
t%添加し、1.0N−HClを触媒に用いた3種類の
低屈折率コーティング剤を作製した。上記で作製したア
ルカリ処理を行ったハードコート層付きTACフィルム
基材上にマイクログラビア法を用いて膜厚100nmで
塗布し、120℃で1分間乾燥を行うことにより、低屈
折率層を形成した。実施例1と同一の表面処理を行った
ハードコート層を形成したTACフィルム上にマイクロ
グラビア法を用いて3種類の低屈折率コーティング剤を
各々膜厚100nmで塗布し、120℃で1分間乾燥を
行うことにより、低屈折率層を形成した。
Example 3 The formation of the hard coat layer and the surface treatment were the same as in Example 1. (Production of Low Refractive Index Layer) Si (OC 2 H 5 ) 4 (A) and C 3
F 7 - (OC 3 F 6 ) 24 -O- (CF 2) 2 -C 2 H 4 -O-
The mixed mole% of CH 2 Si (OCH 3 ) 3 (B) was
Hollow silica sol having an average particle size of 60 nm was added to three types of matrices of 0, 80:20, and 95: 5 in 10 watts.
Three types of low-refractive-index coating agents were prepared by adding 1.0% tN and using 1.0N-HCl as a catalyst. A low-refractive-index layer was formed by applying a film having a thickness of 100 nm on the TAC film substrate with a hard coat layer having been subjected to the alkali treatment prepared above using a microgravure method and drying at 120 ° C. for 1 minute. . Using a microgravure method, three types of low-refractive-index coating agents each having a thickness of 100 nm were applied to a TAC film on which a hard coat layer having been subjected to the same surface treatment as in Example 1 was formed, and dried at 120 ° C. for 1 minute. Was performed to form a low refractive index layer.

【0045】〈実施例4〉ハードコート層の形成、及び
表面処理は実施例1と同一である。 (低屈折率層の作製)Si(OC254を95mol
%、C37―(OC3624―O―(CF2 2―C24
―O―CH2Si(OCH33を5mol%で混合した
マトリックスに対して、平均粒径60nmの中空シリカ
ゾルの添加量を5、10、50、75wt%とした4種
類を、1.0N−HClを触媒に用いた4種類の低屈折
率コーティング剤を作製した。実施例1と同一の表面処
理を行ったハードコート層を形成したTACフィルム上
にマイクログラビア法を用いて4種類の低屈折率コーテ
ィング剤を各々膜厚100nmで塗布し、120℃で1
分間乾燥を行うことにより、低屈折率層を形成した。
<Example 4> Formation of a hard coat layer, and
The surface treatment is the same as in the first embodiment. (Production of Low Refractive Index Layer) Si (OCTwoHFive)Four95 mol
%, CThreeF7-(OCThreeF6)twenty four-O- (CFTwo) Two―CTwoHFour
-O-CHTwoSi (OCHThree)ThreeWas mixed at 5 mol%
Hollow silica with an average particle size of 60 nm for the matrix
Four types with sol addition amount of 5, 10, 50, 75 wt%
And four kinds of low refraction using 1.0N-HCl as a catalyst
A coating agent was prepared. Same surface treatment as in Example 1.
On TAC film with hard coat layer
Four types of low refractive index coating using microgravure method
Coating agents each having a thickness of 100 nm,
After drying for a minute, a low refractive index layer was formed.

【0046】〈比較例1〉ハードコート層の形成、及び
表面処理は実施例1と同一である。 (低屈折率層の作製)Si(OC254を100mo
l%とし、1.0N−HClを触媒に用いた低屈折率コ
ーティング剤を作製した。実施例1と同一の表面処理を
行ったハードコート層を形成したTACフィルム上にマ
イクログラビア法を用いて低屈折率コーティング剤を膜
厚100nmで塗布し、120℃で1分間乾燥を行うこ
とにより、低屈折率層を形成した。
Comparative Example 1 The formation of the hard coat layer and the surface treatment were the same as in Example 1. (Production of Low Refractive Index Layer) Si (OC 2 H 5 ) 4
1%, and a low refractive index coating agent using 1.0N-HCl as a catalyst was prepared. A low-refractive-index coating agent having a thickness of 100 nm was applied to the TAC film on which a hard coat layer having been subjected to the same surface treatment as in Example 1 was formed by a microgravure method, and dried at 120 ° C. for 1 minute. A low refractive index layer was formed.

【0047】上記の実施例、比較例において、各種物性
評価方法と評価結果を以下に示す。
In the above Examples and Comparative Examples, various physical property evaluation methods and evaluation results are shown below.

【0048】(各種物性評価方法) (a)光学特性 (a)−1 反射率測定:フィルム面をサンドペーパー
でこすり、艶消しの黒色塗料を塗布した後、波長550
nmの光の入射角5゜での片面の反射率を測定した。 (b)防汚性 (b)−1 接触角測定:接触角計〔CA−X型:協和
界面科学(株)製〕を用いて、乾燥状態(20℃−65
%RH)で直径1.8μlの液滴を針先に作り、これを
基材(固体)の表面に接触させて液滴を作った。接触角
とは、固体と液体が接する点における液体表面に対する
接線と固体表面がなす角で、液体を含む方の角度で定義
した。液体には、蒸留水を使用した。 (b)−2 油性ペンの拭き取り性:基材表面に付着し
た油性ペンをセルロース製不織布〔ベンコットM−3:
旭化成(株)製〕で拭き取り、その取れ易さを目視判定
を行った。判定基準を以下に示す。 ○:油性ペンを完全に拭き取ることが出来る。 △:油性ペンの拭き取り跡が残る。 ×:油性ペンを拭き取ることが出来ない。 (b)−3 指紋の拭き取り性:基材表面に付着した指
紋をセルロース製不織布〔ベンコットM−3:旭化成
(株)製〕で拭き取り、その取れ易さを目視判定を行っ
た。判定基準を以下に示す。 ○:指紋を完全に拭き取ることが出来る。 △:指紋の拭き取り跡が残る。 ×:指紋の拭き取り跡が拡がり、拭き取ることが出来な
い。 (c)機械強度 (c)−1 耐擦傷性:基材表面をスチールウール〔ボ
ンスター#0000:日本スチールウール(株)製〕に
より250g/cm2で20回擦り、傷の有無を目視判
定を行った(スチールウール試験)。判定基準を以下に
示す。 ○:傷を確認することが出来ない。 △:数本傷を確認できる。 ×:傷が多数確認できる。 (c)−2 密着性:基材表面を1mm角100点カッ
ト後、粘着セロハンテープ〔ニチバン(株)製工業用2
4mm巾セロテープ〕による剥離の有無を目視判定を行
った(クロスカットテープピール試験)。
(Methods for evaluating various physical properties) (a) Optical properties (a) -1 Measurement of reflectance: After rubbing the film surface with sandpaper and applying a matte black paint, the wavelength was 550.
The reflectivity of one side at an incident angle of 5 nm was measured. (B) Antifouling property (b) -1 Contact angle measurement: Using a contact angle meter [CA-X: manufactured by Kyowa Interface Science Co., Ltd.], dry state (20 ° C-65).
% RH), a droplet having a diameter of 1.8 μl was formed at the needle tip, and this was brought into contact with the surface of the substrate (solid) to form a droplet. The contact angle is an angle formed by a tangent to the liquid surface at a point where the solid and the liquid come into contact with each other, and is defined as an angle including the liquid. Distilled water was used as the liquid. (B) -2 Wipeability of oily pen: Cellulose nonwoven fabric [Bencott M-3:
(Manufactured by Asahi Kasei Corporation)], and the ease of removal was visually determined. The criteria are shown below. :: The oil pen can be completely wiped off. Δ: Wipe marks of oily pen remain. ×: The oily pen cannot be wiped off. (B) -3 Wiping property of fingerprint: The fingerprint adhering to the substrate surface was wiped off with a cellulose nonwoven fabric (Bencott M-3: manufactured by Asahi Kasei Corporation), and the ease of removal was visually determined. The criteria are shown below. :: The fingerprint can be completely wiped off. Δ: Fingerprint wiping remains. ×: The trace of wiping of the fingerprint spread and could not be wiped off. (C) Mechanical strength (c) -1 Scratch resistance: The surface of the base material was rubbed 20 times with steel wool (Bonstar # 0000: manufactured by Nippon Steel Wool Co., Ltd.) at 250 g / cm2 to visually determine the presence or absence of scratches. (Steel wool test). The criteria are shown below. :: No scratch can be confirmed. Δ: Several scratches can be confirmed. ×: Many scratches can be confirmed. (C) -2 Adhesion: After cutting 100 points of 1 mm square on the surface of the base material, the adhesive cellophane tape [Nichiban Industrial Co., Ltd. 2
[4 mm wide cellophane tape] was visually checked for the presence or absence of peeling (cross cut tape peel test).

【0049】(各種物性評価結果)表1に実施例1,
2、比較例1の評価結果を、表2に実施例3の評価結
果、又表3に実施例4の評価結果を示す。
(Results of Evaluation of Various Physical Properties)
2, the evaluation results of Comparative Example 1, Table 2 shows the evaluation results of Example 3, and Table 3 shows the evaluation results of Example 4.

【0050】[0050]

【表1】 [Table 1]

【0051】[0051]

【表2】 [Table 2]

【0052】[0052]

【表3】 [Table 3]

【0053】[0053]

【発明の効果】本発明は、透明プラスチックフィルム基
材上の少なくとも片面に、多官能性モノマーを主成分と
する重合体からなるハードコート層を設け、そのハード
コート層表面にアルカリ処理などの前処理を施した後、
有機珪素化合物、中空シリカゾルからなる低屈折率コー
ティング剤を塗布してなる低屈折率層を有していること
から、屈折率が非常に低く、擦過などによる低屈折率層
の表面に傷が付きにくく、低屈折率層の剥離がなく、ま
た、低屈折率層の表面に、指紋、皮脂、汗、化粧品など
の汚れが付着することを防止し、付着しても容易に拭き
取ることが可能な低屈折率層の単層を有する反射防止フ
ィルムを提供できる。
According to the present invention, a hard coat layer made of a polymer containing a polyfunctional monomer as a main component is provided on at least one surface of a transparent plastic film substrate, and the surface of the hard coat layer is subjected to an alkali treatment or the like. After processing,
Since it has a low-refractive-index layer coated with a low-refractive-index coating agent composed of an organosilicon compound and hollow silica sol, the refractive index is extremely low, and the surface of the low-refractive index layer is scratched due to scratching or the like. It is difficult to peel off the low-refractive index layer, and it is possible to prevent fingerprints, sebum, sweat, cosmetics, etc. from adhering to the surface of the low-refractive index layer, and to easily wipe off even if it adheres. An antireflection film having a single low refractive index layer can be provided.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の反射防止フィルムの一例を示す断面図
である。
FIG. 1 is a cross-sectional view showing an example of the antireflection film of the present invention.

【図2】本発明の低屈折率層の断面図である。FIG. 2 is a sectional view of a low refractive index layer of the present invention.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1・・・反射防止フィルム 2・・・基材 3・・・ハードコート層 4・・・低屈折率層 5・・・マトリックス 6・・・中空シリカゾル DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Anti-reflection film 2 ... Substrate 3 ... Hard coat layer 4 ... Low refractive index layer 5 ... Matrix 6 ... Hollow silica sol

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) H04N 5/72 G02B 1/10 Z Fターム(参考) 2K009 AA02 AA15 BB28 CC09 CC24 CC42 DD02 4J038 DL031 DL072 HA446 JC32 KA06 KA21 NA19 PB03 PB08 PC08 5C058 AA01 BA08 BA30 DA01 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on the front page (51) Int.Cl. 7 Identification symbol FI Theme coat ゛ (Reference) H04N 5/72 G02B 1/10 Z F-term (Reference) 2K009 AA02 AA15 BB28 CC09 CC24 CC42 DD02 4J038 DL031 DL072 HA446 JC32 KA06 KA21 NA19 PB03 PB08 PC08 5C058 AA01 BA08 BA30 DA01

Claims (9)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】下記一般式(1)で示される有機珪素化合
物、若しくはこの有機珪素化合物の重合体のいずれかか
らなる組成物Aと、下記一般式(2)で示されるパーフ
ルオロポリエーテル基含有珪素化合物、若しくはこのパ
ーフルオロポリエーテル基含有珪素化合物の重合体のい
ずれかからなる組成物Bとの共重合体からなることを特
徴とする低屈折率コーティング剤。 Si(OR)4 ・・・・・(1) (但し、Rは直鎖状または分岐状アルキル基である) Rf−(OC36n−O−(CF2m−(CH2l−O−(CH2s−S i(OR)3 ・・・・・( 2) (但し、Rfは炭素数1〜16の直鎖状または分岐状パ
ーフルオロアルキル基、nは1〜50の整数、mは0〜
3の整数、lは0〜3の整数、sは0〜6の整数、但
し、6≧m+l>0、Rは直鎖状または分岐状アルキル
基である)
1. A composition A comprising an organosilicon compound represented by the following general formula (1) or a polymer of this organosilicon compound, and a perfluoropolyether group represented by the following general formula (2): A low-refractive-index coating agent comprising a copolymer with a composition B comprising a silicon compound containing the compound or a polymer of the silicon compound containing a perfluoropolyether group. Si (OR) 4 (1) (where R is a linear or branched alkyl group) Rf- (OC 3 F 6 ) n -O- (CF 2 ) m- (CH 2 ) l -O- (CH 2) s -S i (OR) 3 (2) (where, Rf is a linear or branched perfluoroalkyl group having 1 to 16 carbon atoms, n is an integer of 1 to 50, and m is 0 to 0)
An integer of 3, 1 is an integer of 0 to 3, s is an integer of 0 to 6, provided that 6 ≧ m + 1> 0, and R is a linear or branched alkyl group.
【請求項2】請求項1記載の低屈折率コーティング剤に
おいて、組成物Aと組成物Bの混合モル比が、モル%で
表したとき50:50〜99:1であることを特徴とす
る低屈折率コーティング剤。
2. The low refractive index coating agent according to claim 1, wherein the mixing molar ratio of the composition A and the composition B is 50:50 to 99: 1 in terms of mol%. Low refractive index coating agent.
【請求項3】前記低屈折率コーティング剤に、平均粒径
0.5〜200nmの中空シリカゾルを添加したことを
特徴とする請求項1又は2記載の低屈折率コーティング
剤。
3. The low refractive index coating agent according to claim 1, wherein a hollow silica sol having an average particle size of 0.5 to 200 nm is added to said low refractive index coating agent.
【請求項4】前記中空シリカゾルの添加量が5〜95w
t%であり、その屈折率が1.40〜1.34の範囲で
あることを特徴とする請求項1〜3のいずれかに記載の
低屈折率コーティング剤。
4. The addition amount of said hollow silica sol is 5 to 95 watts.
The low refractive index coating agent according to any one of claims 1 to 3, wherein the coating agent has a refractive index of 1.40 to 1.34.
【請求項5】透明基材上に、請求項1ないし4のいずれ
かの低屈折率コーティング剤を塗布し、低屈折率層を設
けたことを特徴とする反射防止フィルム。
5. An anti-reflection film comprising a low refractive index layer formed by applying the low refractive index coating agent according to claim 1 on a transparent substrate.
【請求項6】前記透明基材と低屈折率層との間にハード
コート層を設けたことを特徴とする請求項5記載の反射
防止フィルム。
6. The anti-reflection film according to claim 5, wherein a hard coat layer is provided between the transparent substrate and the low refractive index layer.
【請求項7】前記ハードコート層が、(メタ)アクリロ
イルオキシ基を含有する多官能性モノマーを主成分とす
る重合体からなることを特徴とする請求項6記載の反射
防止フィルム。
7. The anti-reflection film according to claim 6, wherein said hard coat layer is made of a polymer mainly composed of a polyfunctional monomer having a (meth) acryloyloxy group.
【請求項8】前記ハードコート層の低屈折率層を設ける
面を表面処理したことを特徴とする請求項6又は7記載
の反射防止フィルム。
8. The antireflection film according to claim 6, wherein a surface of the hard coat layer on which the low refractive index layer is provided is surface-treated.
【請求項9】前記表面処理が、アルカリ処理であること
を特徴とする請求項8記載の反射防止フィルム。
9. The antireflection film according to claim 8, wherein said surface treatment is an alkali treatment.
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