JPH10120445A - Filter for displaying device and displaying device - Google Patents

Filter for displaying device and displaying device

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JPH10120445A
JPH10120445A JP8276703A JP27670396A JPH10120445A JP H10120445 A JPH10120445 A JP H10120445A JP 8276703 A JP8276703 A JP 8276703A JP 27670396 A JP27670396 A JP 27670396A JP H10120445 A JPH10120445 A JP H10120445A
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film
group
display device
coating composition
filter
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Hirofumi Kondo
洋文 近藤
Hideaki Hanaoka
英章 花岡
Tomio Kobayashi
富夫 小林
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To obtain a filter for a displaying device having a reflection preventing property, excellent in fouling resistance, scratching resistance and processing resistance by coating the surface of a reflection preventing membrane installed on a glass base material with a coating composition containing a specific alkoxysilane compound. SOLUTION: This filter 10 for a displaying device is obtained by installing a single-layered or multiple-layered reflection preventing membrane 2 on the one side surface of a glass base material 1, and a surface modifying membrane 3 using a coating composition containing an alkoxysilane compound having a perfluoropolyether group expressed by the following formula. The formula: Rf [COR1 R2 -Si(OR3 )3 ]j [Rf is a perfluoropolyether group; R1 is a bivalent atom or group of atoms; R2 is a non-substituted or substituted bivalent hydrocarbon group; R3 is a non-substituted or substituted monovalent hydrocarbon group; (j) is 1 or 2]. The coating composition preferably contains catalyst such as an acid, a base, a phosphoric acid ester and a β-diketone.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、耐汚染性、耐擦傷
性、耐加工性などに優れた反射防止性を有し、CRTの
反射防止フィルターや前面板などとして使用される表示
装置用フィルター及びそれを有する表示装置に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an anti-reflection filter having excellent anti-reflection properties such as stain resistance, abrasion resistance and processing resistance, and used as a CRT anti-reflection filter or a front panel. And a display device having the same.

【0002】[0002]

【従来の技術】透明材料を通して物を見る場合、反射光
が強く、反射像が明瞭であることは煩わしく、例えば眼
鏡用レンズではゴースト、フレアなどと呼ばれる反射像
が生じて目に不快感を与えたりする。またルッキングガ
ラスなどではガラス面上の反射した光のために内容物が
判然としない問題が生ずる。更に、テレビなどの陰極線
管や液晶などの平面ディスプレーのパネル面においても
画像を鮮明にするため、パネル面の反射は少ない方が好
ましい。
2. Description of the Related Art When an object is viewed through a transparent material, it is troublesome that the reflected light is strong and the reflected image is clear. For example, a reflected image called a ghost or a flare occurs in a lens for spectacles, causing discomfort to the eyes. Or Further, in the case of a looking glass or the like, there is a problem that the contents are not clear due to the reflected light on the glass surface. Furthermore, in order to make the image clear even on a panel surface of a flat display such as a cathode ray tube or a liquid crystal of a television, it is preferable that the reflection on the panel surface is small.

【0003】従来より反射防止のために屈折率が基材と
異なる物質を、真空蒸着法などにより基材上に被覆形成
させる方法が行われていた。この場合反射防止効果を最
も高いものとするためには、基材を被覆する物質の厚み
の選択が重要であることが知られている。
Conventionally, a method of forming a material having a refractive index different from that of the base material on the base material by a vacuum deposition method or the like for preventing reflection has been performed. In this case, in order to maximize the antireflection effect, it is known that it is important to select the thickness of the substance covering the substrate.

【0004】例えば単層被膜においては基材より低屈折
率の物質を光学的膜厚を対象とする光波長の1/4ない
しはその奇数倍に選択することが極小の反射率すなわち
極大の透過率を与えることが知られている。ここで、光
学的膜厚とは、被膜形成材料の屈折率と該被膜の膜厚の
積で与えられるものである。さらに複層の反射防止膜の
形成が可能であり、この場合の膜厚の選択に関していく
つかの提案がされている(光学技術コンタクト Vol.9,
No.8,第17頁 (1971) )。
For example, in the case of a single-layer film, it is necessary to select a substance having a lower refractive index than that of the base material to have an optical thickness of 1/4 or an odd multiple of the target light wavelength, that is, a minimum reflectance, that is, a maximum transmittance. It is known to give. Here, the optical film thickness is given by the product of the refractive index of the film forming material and the film thickness of the film. Furthermore, it is possible to form a multilayer antireflection film, and in this case, several proposals have been made regarding the selection of the film thickness (Optical Technology Contact Vol. 9,
No. 8, page 17 (1971)).

【0005】一方、特開昭58−46301号公報、特
開昭59−49501号公報、特開昭59−50401
号公報には前記の光学的膜厚の条件を満足させる複層か
らなる反射防止膜を液状組成物を用いて形成する方法に
ついて記載されている。
On the other hand, JP-A-58-46301, JP-A-59-49501, and JP-A-59-50401.
Japanese Patent Application Laid-Open Publication No. H11-176,086 describes a method of forming an antireflection film comprising a plurality of layers, which satisfies the above-mentioned optical film thickness condition, using a liquid composition.

【0006】[0006]

【発明が解決しようとする課題】蒸着法により形成され
た反射防止膜は被膜形成材料が主として無機酸化物ある
いは無機ハロゲン化物であり、反射防止膜は本質的には
高い表面硬度を有する半面、手垢、指紋、汗、ヘアーリ
キッド、ヘアースプレーなどの汚れが目立ち易く、また
この汚れが除去しにくいという欠点があった。さらには
表面のすべり性が悪いために傷が太くなるなどの問題点
を有している。また水に対する濡れ性が大きいために雨
滴、水の飛沫が付着すると大きく拡がり、眼鏡レンズな
どにおいては大面積にわたって物体がゆがんで見えるな
どの問題点があった。
The antireflection film formed by the vapor deposition method is mainly composed of an inorganic oxide or an inorganic halide as a film-forming material. There is a drawback that dirt such as fingerprints, sweat, hair liquid, hair spray and the like are conspicuous and the dirt is difficult to remove. Further, there is a problem in that the surface is poor in slipperiness and the scratches become thicker. In addition, since wettability to water is large, raindrops and water droplets spread greatly when they adhere, and there is a problem in that an object appears distorted over a large area in an eyeglass lens or the like.

【0007】特開昭58−46301号公報、特開昭5
9−49501号公報、特開昭59−50401号公報
に記載の反射防止膜においても硬い表面硬度を付与する
ためには最表層膜中にシリカ微粒子などに代表される無
機物を30重量%以上含ませることが必要であるが、こ
のような膜組成から得られる反射防止膜は、表面のすべ
りが悪く、布などの磨耗によって傷がつき易いなどの問
題点を有している。
JP-A-58-46301, JP-A-5-46301
In order to impart a hard surface hardness also to the antireflection film described in JP-A-9-49501 and JP-A-59-50401, the outermost layer film contains 30% by weight or more of an inorganic substance typified by silica fine particles or the like. However, the antireflection film obtained from such a film composition has problems such as poor surface slip and easy damage due to abrasion of a cloth or the like.

【0008】これらの問題点を改良する目的で各種の表
面処理剤が提案され、市販されているが、いずれも水や
各種の溶剤によって溶解するために一時的に機能を付与
するものであり、永続性がなく耐久性に乏しいものであ
った。また、特開平3−266801号公報には、撥水
性を付与するために、フッ素系樹脂層を形成させる報告
がある。しかしながらこれらのフッ素系樹脂では確かに
撥水性は増すが、摩擦あるいは磨耗に対して満足する結
果が得られていない。
Various surface treatment agents have been proposed and marketed for the purpose of resolving these problems, but all of them have a temporary function because they are dissolved by water or various solvents. There was no durability and poor durability. Further, JP-A-3-266801 reports that a fluorine-based resin layer is formed in order to impart water repellency. However, although these fluororesins certainly increase the water repellency, satisfactory results with respect to friction or wear have not been obtained.

【0009】本発明は、このような実状に鑑みて成さ
れ、耐汚染性、耐擦傷性、耐加工性などに優れた反射防
止性を有し、CRTなどの表示装置の前面板等として使
用されて好適な表示装置用フィルター、およびそれを有
する表示装置を提供することを目的とする。
The present invention has been made in view of such circumstances, has excellent anti-reflection properties such as stain resistance, scratch resistance, and processing resistance, and is used as a front plate of a display device such as a CRT. It is an object of the present invention to provide a suitable display device filter and a display device having the same.

【0010】[0010]

【課題を解決するための手段】本発明者は、上記の問題
点を解決するために鋭意検討した結果、以下に述べる本
発明に到達したものである。すなわち、上記目的を達成
するために、本発明にかかる表示装置用フィルターは、
ガラス基材上に設けられた単層又は多層の反射防止膜の
表面が、下記一般式(1)で示されるパーフルオロポリ
エーテル基を有するアルコキシシラン化合物を含有する
コーティング組成物を用いた表面改質膜で被覆されてい
ることを特徴とする。
The present inventors have made intensive studies to solve the above-mentioned problems, and as a result, have reached the present invention described below. That is, in order to achieve the above object, the display device filter according to the present invention,
The surface of a single-layer or multi-layer antireflection film provided on a glass substrate is modified using a coating composition containing an alkoxysilane compound having a perfluoropolyether group represented by the following general formula (1). Characterized by being coated with a membrane.

【0011】 Rf {COR1 −R2 −Si(OR3 3 j …(1) (但し、式中Rfはパーフロオロポリエーテル基、R1
二価の原子又は原子団、R2は非置換又は置換の二価炭
化水素基、R3は非置換又は置換の一価炭化水素基を示
し、jは1又は2である。) また、本発明にかかる表示装置は、ガラス基材と、該ガ
ラス基材上に設けられた単層又は多層の反射防止膜と、
該反射防止膜上に、上記一般式(1)で示されるパーフ
ルオロポリエーテル基を有するアルコキシシラン化合物
を含有するコーティング組成物を用いた表面改質膜とを
有することを特徴とする。
R f {COR 1 —R 2 —Si (OR 3 ) 3j (1) (where R f is a perfluoropolyether group, R 1 is a divalent atom or atomic group, R 2 is an unsubstituted or substituted divalent hydrocarbon group, R 3 is an unsubstituted or substituted monovalent hydrocarbon group, and j is 1 or 2.) In addition, the display device according to the present invention includes a glass group Material, a single-layer or multilayer antireflection film provided on the glass substrate,
A surface modified film using a coating composition containing an alkoxysilane compound having a perfluoropolyether group represented by the above general formula (1) on the antireflection film.

【0012】本発明者等は、上記したような従来技術に
おける問題を解決するために、種々検討を行う過程にお
いて、ガラス基材上に形成された酸化珪素等の反射防止
膜に対するパーフルオロポリエーテル化合物による表面
処理によって、耐摩擦磨耗、あるいは耐汚染性が向上す
るという知見を得た。しかしながら、たしかにこの化合
物による表面処理は非常に効果があるが、化学的な安定
性、例えば溶剤処理等でその効果が著しく低減するとの
結論に達した。これはとりもなおさず、表面のSiO2
との相互作用に係るものと考えられる。
In order to solve the above-mentioned problems in the prior art, the present inventors conducted various investigations and found that a perfluoropolyether for an antireflection film such as silicon oxide formed on a glass substrate was used. It has been found that the surface treatment with a compound improves the friction and abrasion resistance or the stain resistance. However, it was concluded that the surface treatment with this compound was very effective, but the effect was significantly reduced by chemical stability, for example, by solvent treatment. Again, this is the SiO 2 on the surface
It is thought to be related to the interaction with

【0013】そこで、本発明者らはさらに鋭意検討を行
なった結果、一般式(1)で表されるようなパーフルオ
ロポリエーテル基を有するアルコキシシラン化合物で被
覆することによって反射防止性を有する表示装置等の表
面の耐磨耗性あるいは耐汚染性の問題を解決しようとし
た。つまり、SiO2 表面との相互作用を持たせるため
にアルコキシシラン構造部を分子構造中に含み、表面で
強固な結合をなさせるものである。それゆえに、従来不
満足であった、耐溶剤性等の問題を克服することができ
るものである。
The inventors of the present invention have conducted further intensive studies. As a result, a display having an antireflection property is obtained by coating with an alkoxysilane compound having a perfluoropolyether group represented by the general formula (1). An attempt was made to solve the problem of abrasion resistance or contamination resistance of the surface of a device or the like. In other words, an alkoxysilane structure is included in the molecular structure in order to have an interaction with the SiO 2 surface, and a strong bond is formed on the surface. Therefore, problems such as solvent resistance, which have been unsatisfactory in the past, can be overcome.

【0014】従って、上記式(1)で示されるパーフル
オロポリエーテル基を持つアルコキシシラン化合物を含
有するコーティング組成物は、反射防止膜表面に耐摩耗
性、耐汚染性、耐溶剤性等の特性を有する表面改質膜を
形成することができる。この場合、基材との反応を促進
する触媒として酸又は塩基、リン酸エステル、及びアセ
チルアセトン等のβ−ジケトン類から選ばれる1種又は
2種以上をコーティング組成物に添加することにより、
加熱温度を低くしても基材との強い結合を形成できる。
そのため、製造プロセス的に有利になると共に、表面改
質膜の加熱による変質を防止でき、良質の表面改質膜を
形成することができる。
Accordingly, the coating composition containing the alkoxysilane compound having a perfluoropolyether group represented by the above formula (1) has properties such as abrasion resistance, stain resistance and solvent resistance on the surface of the antireflection film. Can be formed. In this case, by adding one or more selected from β-diketones such as an acid or base, a phosphate ester, and β-diketone such as acetylacetone to the coating composition as a catalyst for promoting the reaction with the base material,
Even if the heating temperature is lowered, a strong bond with the substrate can be formed.
Therefore, it is advantageous in terms of the manufacturing process, and it is possible to prevent deterioration of the surface modified film due to heating, and to form a high quality surface modified film.

【0015】なお、上記パーフルオロポリエーテル基を
持つアルコキシシラン化合物の溶液調整時に、触媒とし
て酸あるいは塩基を用いることは一般に知られているこ
とであるが、本発明のように、防汚膜を形成するような
例えば10nm程度の薄膜の場合には、潤滑特性等のト
ライボロジー効果は知られていない。更に、燐酸エステ
ル系の触媒、あるいはアセチルアセトンのようなβ−ジ
ケトンを酸又は塩基と共に添加することによる効果も知
られていない。反射防止フィルターのような薄膜材料に
おいては、その膜厚から耐久性への要求は厳しいものが
あり、その耐久性を向上させるためにこのような触媒を
添加することを試みたものである。
It is generally known that an acid or a base is used as a catalyst when preparing a solution of the above alkoxysilane compound having a perfluoropolyether group. In the case of a thin film having a thickness of, for example, about 10 nm, tribological effects such as lubrication properties are not known. Furthermore, the effect of adding a phosphate ester catalyst or a β-diketone such as acetylacetone together with an acid or a base is not known. In a thin film material such as an anti-reflection filter, there is a severe demand for durability from the film thickness, and an attempt has been made to add such a catalyst in order to improve the durability.

【0016】[0016]

【発明の実施の形態】以下、本発明を実施形態に基づき
より詳細に説明する。図1は、本発明の一実施態様に係
る表示装置用フィルターにおける断面構造を示す。図1
に示す表示装置用フィルター10は、ガラス基材1の一
表面上に反射防止膜2が設けられており、この上面に表
面改質膜3が形成されている。
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Hereinafter, the present invention will be described in more detail based on embodiments. FIG. 1 shows a sectional structure of a filter for a display device according to an embodiment of the present invention. FIG.
In the display device filter 10 shown in FIG. 1, an antireflection film 2 is provided on one surface of a glass substrate 1, and a surface modification film 3 is formed on this upper surface.

【0017】たとえば、表示装置用フィルター10を、
図2に示すCRT100のパネル101に接着して用い
ることができる。フィルター10をパネル101に接着
する接着剤としては、特に限定されず、各種の公知のも
のを用いることができるが、一般には紫外線硬化樹脂系
接着剤が使用され、かつその硬化層の屈折率が上記パネ
ルの屈折率と近似する、例えばその差が0.8%以内と
なるものであることが好ましい。具体的には、例えば、
分子量550以上のビスフェノールA型エポキシ(メ
タ)アクリレート10重量%、ウレタン(メタ)アクリ
レート20重量%、水酸基含有モノ(メタ)アクリレー
ト70重量%、光重合開始剤3%およびその他の添加剤
数%程度を含有する組成物などが用いられ得る。
For example, the display device filter 10 is
It can be used by bonding to the panel 101 of the CRT 100 shown in FIG. The adhesive for bonding the filter 10 to the panel 101 is not particularly limited, and various known adhesives can be used. Generally, an ultraviolet curable resin-based adhesive is used, and the refractive index of the cured layer is It is preferable that the refractive index is close to the refractive index of the panel, for example, the difference is within 0.8%. Specifically, for example,
Bisphenol A type epoxy (meth) acrylate having a molecular weight of 550 or more 10% by weight, urethane (meth) acrylate 20% by weight, hydroxyl group-containing mono (meth) acrylate 70% by weight, photopolymerization initiator 3% and other additives about several% And the like.

【0018】また、本発明の表示装置用フィルター10
は、パネル101の前面に取り外し自在に取り付けるタ
イプのフィルターであっても良い。取り外し自在に装着
する場合には、本発明に係る表示装置用フィルターの外
周部には、枠体が装着され、この枠体に対して本発明に
係る表示装置用フィルターが張設されることになる。
Further, the filter 10 for a display device of the present invention.
May be a type of filter that is detachably attached to the front surface of the panel 101. In a case where the display device filter is detachably mounted, a frame is attached to an outer peripheral portion of the display device filter according to the present invention, and the display device filter according to the present invention is stretched over the frame. Become.

【0019】なお、フィルター10が接着又は取り付け
られる対象となる表示装置のパネルとしては、CRTの
ような曲率を有するパネルに限らず、液晶ディスプレイ
装置あるいはプラズマディスプレーのような平面表示装
置のパネルの他、各種の表示装置のパネルが含まれる。
The display panel to which the filter 10 is attached or attached is not limited to a panel having a curvature such as a CRT, but may be a panel of a flat display such as a liquid crystal display or a plasma display. And panels of various display devices.

【0020】一方、図2は、本発明の表示装置としての
陰極線管100をも示す斜視図であり、この場合のパネ
ル101の一実施態様にかかる断面構造を図3に示す。
この場合における表示装置100は、ガラス基材として
のCRTのガラスパネル101の表面に直接反射防止膜
2が設けられており、この反射防止膜2の表面に表面改
質膜3が設けられている。
FIG. 2 is a perspective view also showing a cathode ray tube 100 as a display device of the present invention. FIG. 3 shows a cross-sectional structure of one embodiment of the panel 101 in this case.
In the display device 100 in this case, the antireflection film 2 is provided directly on the surface of a glass panel 101 of a CRT as a glass substrate, and the surface modification film 3 is provided on the surface of the antireflection film 2. .

【0021】本発明の表示装置としては、反射防止膜が
形成されたガラス基材を有する表示装置すべてが対象と
なり、CRT以外に、例えば液晶ディスプレー、プラズ
マディスプレー等の平面表示装置なども含む。本発明に
おいて、図1、図3に示すガラス基材1、101として
は、特に限定されるものではなく、珪酸、ホウ酸、リン
酸等を主成分として含む非結晶固体であれば良く、例え
ばソーダガラス、鉛ガラス、硬質ガラス、石英ガラス、
液晶化ガラス等が挙げられる(例えば、化学便覧基礎
編、P.T−537、日本化学会編)。CRTとしては
ストロンチウムやバリウムを含む珪酸ガラスが好ましく
用いられ、液晶表示素子装置では無アルカリガラスが好
ましく用いられる。
The display device of the present invention is applicable to all display devices having a glass substrate on which an anti-reflection film is formed, and includes flat display devices such as liquid crystal displays and plasma displays in addition to CRTs. In the present invention, the glass substrates 1 and 101 shown in FIGS. 1 and 3 are not particularly limited, and may be any non-crystalline solid containing silicic acid, boric acid, phosphoric acid, or the like as a main component. Soda glass, lead glass, hard glass, quartz glass,
Liquid crystallized glass and the like (for example, Chemical Handbook Basic Edition, PT-537, The Chemical Society of Japan). As the CRT, silicate glass containing strontium or barium is preferably used, and in a liquid crystal display device, non-alkali glass is preferably used.

【0022】このようなガラス基材1上部に形成される
反射防止膜2は、単層または多層構造を有するものであ
って、各種の組み合わせが可能である。特に多層構造と
する場合には、その表層膜より下層を形成する物質の膜
構成は要求される性能、例えば耐熱性、反射防止性、反
射光色、耐久性、表面硬度などに応じて適宜実験等に基
づき決定することができる。
The anti-reflection film 2 formed on the glass substrate 1 has a single-layer or multi-layer structure, and various combinations are possible. In particular, in the case of a multilayer structure, the film configuration of the material forming the lower layer below the surface layer film may be appropriately tested according to required performances, such as heat resistance, antireflection property, reflected light color, durability, surface hardness, and the like. Can be determined based on the above.

【0023】これらの反射防止膜を形成する二酸化珪素
を含めた各種無機物の皮膜化方法としては、真空蒸着、
イオンプレーティング、スパッタリングに代表される各
種のPVD(Physical Vapor Deposition )法がある。
反射防止膜を得る上で、上記のPVD法に適した無機物
としては、SiO2 以外に、例えば、Al2 3 、Zr
2 、TiO2 、Ta2 5 、TaHf2 、SiO、T
iO、Ti2 3 、HfO2 、ZnO、In2 3 /S
nO2 、Y2 3 、Yb2 3 、Sb2 3 、MgO、
CeO2 などの無機酸化物が例示できる。
Silicon dioxide for forming these antireflection films
Methods for forming various inorganic films, including, vacuum deposition,
Each type represented by ion plating and sputtering
There is a kind of PVD (Physical Vapor Deposition) method.
In order to obtain an anti-reflection film, an inorganic substance suitable for the above-mentioned PVD method
As SiOTwoBesides, for example, AlTwoOThree, Zr
OTwo, TiOTwo, TaTwoOFive, TaHfTwo, SiO, T
iO, TiTwoOThree, HfOTwo, ZnO, InTwoOThree/ S
nOTwo, YTwoO Three, YbTwoOThree, SbTwoOThree, MgO,
CeOTwoAnd the like.

【0024】なおこのようなPVD法によって形成され
る反射防止膜の最外表層膜は、主として二酸化珪素から
構成されるものであることが好ましい。二酸化珪素以外
の場合には十分な表面硬度が得られないばかりでなく、
本発明の目的とする耐汚染性、耐擦傷性の向上、さらに
はこれらの性能の耐久性が顕著に現れない虞があるため
である。しかしながら、本発明は、主として、このよう
な反射防止膜の表面を被覆する表面改質膜の構成に係る
ものであるゆえ、特に反射防止膜の最外表層膜の材質を
限定するものではなく、二酸化珪素以外のもので構成さ
れていてもよい。
It is preferable that the outermost surface layer of the antireflection film formed by the PVD method is mainly composed of silicon dioxide. In the case other than silicon dioxide, not only sufficient surface hardness cannot be obtained, but also
This is because there is a possibility that the improvement of stain resistance and abrasion resistance, which are the object of the present invention, and the durability of these properties may not be remarkably exhibited. However, the present invention mainly relates to the configuration of the surface modified film covering the surface of such an antireflection film, and thus does not particularly limit the material of the outermost surface film of the antireflection film, It may be composed of something other than silicon dioxide.

【0025】また、この反射防止膜の最外表層膜の膜厚
は、反射防止効果以外の要求性能によってそれぞれ決定
されるべきものであるが、特に反射防止効果を最大限に
発揮させる目的には表層膜の光学的膜厚を対象とする光
波長の1/4ないしはその奇数倍に選択することが極小
の反射率すなわち極大の透過率を与えるという点から好
ましい。
The thickness of the outermost surface layer of the anti-reflection film should be determined according to the required performance other than the anti-reflection effect. It is preferable to select the optical film thickness of the surface layer to be 1 / of the target light wavelength or an odd multiple thereof, from the viewpoint of giving a minimum reflectance, that is, a maximum transmittance.

【0026】一方、前記表層膜の下層部の構成等につい
ては特に限定されない。すなわち、前記表層膜を直接基
材上に被膜形成させることも可能であるが、反射防止効
果をより顕著なものとするためには、基材上に表層膜よ
り屈折率の高い皮膜を一層以上被覆することが有効であ
る。これらの複層の反射防止膜の膜厚および屈折率の選
択に関してもいくつかの提案がなされている(例えば、
光学技術コンタクト Vol.9 No.8 p.17 (1971) )。
On the other hand, the structure of the lower layer of the surface film is not particularly limited. That is, although it is possible to form the surface layer directly on the substrate, it is possible to form a film having a higher refractive index than the surface layer on the substrate in order to make the antireflection effect more remarkable. Coating is effective. Some proposals have also been made regarding the selection of the film thickness and the refractive index of these multilayer antireflection films (for example,
Optical Technology Contact Vol.9 No.8 p.17 (1971)).

【0027】また下層部に、カーボンスパッタ膜、カー
ボンCVD膜などの無機光透過膜を設けることも可能で
ある。しかして本発明においては、上記したような単層
または多層の反射防止膜2の表面を、下記一般式(1)
で表されるパーフルオロポリエーテル基を有するアルコ
キシシラン化合物を含有するコーティング組成物から形
成される表面改質膜3で被覆するものである。
It is also possible to provide an inorganic light transmitting film such as a carbon sputter film or a carbon CVD film in the lower part. In the present invention, the surface of the single-layer or multi-layer antireflection film 2 as described above is formed by the following general formula (1).
This is covered with a surface modified film 3 formed from a coating composition containing an alkoxysilane compound having a perfluoropolyether group represented by

【0028】 Rf {COR1 −R2 −Si(OR3 3 j …(1) (但し、式中Rfはパーフロオロポリエーテル基、R1
二価の原子又は原子団、R2は非置換又は置換の二価炭
化水素基、R3は非置換又は置換の一価炭化水素基を示
し、jは1又は2である。) Rf としてのパーフルオロポリエーテル基の分子構造と
しては、特に限定されるものではなく、各種鎖長のパー
フルオロポリエーテル基が含まれるが、好ましくはC1
〜C3 程度のパーフルオロアルキルオキシ基を繰り返し
単位とする一価又は二価のパーフルオロポリエーテルで
ある。一価のパーフルオロポリエーテルとしては、具体
的には例えば、次に示すようなものがある。
R f {COR 1 —R 2 —Si (OR 3 ) 3j (1) (where R f is a perfluoropolyether group, R 1 is a divalent atom or atomic group, R 2 is an unsubstituted or substituted divalent hydrocarbon group, R 3 is an unsubstituted or substituted monovalent hydrocarbon group, and j is 1 or 2.) Molecular structure of a perfluoropolyether group as R f as it is not specifically limited, but include perfluoropolyether group of various chain lengths, preferably C 1
A monovalent or divalent perfluoropolyether having a perfluoroalkyloxy group of about to C 3 as a repeating unit. Specific examples of the monovalent perfluoropolyether include the following.

【0029】[0029]

【化1】 Embedded image

【0030】また、二価のパーフルオロポリエーテル基
としては、例えば次のようなものがある。
Examples of the divalent perfluoropolyether group include the following.

【0031】[0031]

【化2】 Embedded image

【0032】なお上記化学構造式中の、l、m、n、
k、p及びqはそれぞれ1以上の整数を示す。しかしな
がら、前記したようにパーフルオロポリエーテルの分子
構造はこれら例示したものに限定されるものではない。
一般式(1)におけるR1としての結合原子ないし結合
原子団としては特に限定されるものではないが、通常
は、例えばO、NH、S等の原子あるいは原子団であ
る。
In the above chemical structural formula, l, m, n,
k, p and q each represent an integer of 1 or more. However, as described above, the molecular structure of the perfluoropolyether is not limited to those exemplified above.
The bonding atom or bonding atomic group as R 1 in the general formula (1) is not particularly limited, but is usually an atom or an atomic group such as O, NH, and S.

【0033】また一般式(1)におけるR2は非置換又
は置換の二価炭化水素基であり、例えばメチレン基、エ
チレン基、プロピレン基、ブチレン基などのアルキレン
基が例示され、炭素数は特に制限されない。また、R3
は、アルコキシ基を構成する非置換又は置換の一価炭化
水素基であり、炭素数は特に限定されるものではない
が、例えば、C1 〜C5 程度、例えばメチル基、エチル
基、プロピル基、イソプロピル基等のアルキル基が例示
される。なお、上記R1〜R3では、当該炭素原子鎖の柔
軟性ないしゆらぎ性を損なわない限りにおいて、一部に
不飽和結合、特性基、芳香環などの環状構造を有するも
のであってもよく、さらに、短鎖の分岐鎖ないし側鎖を
有するものであってもよい。
R 2 in the general formula (1) is an unsubstituted or substituted divalent hydrocarbon group, for example, an alkylene group such as a methylene group, an ethylene group, a propylene group or a butylene group. Not restricted. Also, R 3
Is an unsubstituted or substituted monovalent hydrocarbon group constituting an alkoxy group, and the number of carbon atoms is not particularly limited. For example, about C 1 to C 5 , for example, a methyl group, an ethyl group, and a propyl group And an alkyl group such as an isopropyl group. In the above R 1 to R 3 , as long as the flexibility or the fluctuation property of the carbon atom chain is not impaired, the carbon atom chain may partially have a cyclic structure such as an unsaturated bond, a characteristic group, or an aromatic ring. Further, it may have a short-chain branched chain or a side chain.

【0034】また、この一般式(1)で表されるアルコ
キシ化合物の分子量は特に限定されないが、安定性、取
り扱い易さなどの点から数平均分子量で500〜100
00、さらに好ましくは500〜2000程度のものが
使用される。さらにこのような化合物により形成される
表面改質膜の膜厚についても、特に限定されるものでは
ないが、反射防止性と水に対する静止接触角とのバラン
スおよび表面硬度との関係から、0.1nm〜100n
m、さらに好ましくは10nm以下、具体的には0.5
nm〜5nm程度であることが望ましい。
The molecular weight of the alkoxy compound represented by the general formula (1) is not particularly limited, but is preferably 500 to 100 in terms of number average molecular weight from the viewpoints of stability, ease of handling and the like.
00, more preferably about 500-2000. Further, the thickness of the surface-modified film formed of such a compound is not particularly limited, either. 1 nm to 100 n
m, more preferably 10 nm or less, specifically 0.5
It is desirable that the thickness is about 5 nm to 5 nm.

【0035】またその塗布方法としては、通常のコーテ
ィング作業で用いられる各種の方法が適用可能である
が、反射防止効果の均一性、更には反射干渉色のコント
ロールという観点からスピン塗布、ディッピング塗布、
カーテンフロー塗布などが好ましく用いられる。また作
業性の点から紙、布などの材料に液を含浸させて塗布流
延させる方法も好ましく使用される。
As the coating method, various methods used in a normal coating operation can be applied. From the viewpoint of uniformity of the antireflection effect and control of the reflection interference color, spin coating, dipping coating,
Curtain flow coating and the like are preferably used. Further, from the viewpoint of workability, a method of impregnating a material such as paper or cloth with a liquid and performing coating and casting is also preferably used.

【0036】このような塗布作業において、前記一般式
(1)で表される化合物は、通常揮発性溶媒に希釈さ
れ、コーティング組成物として使用される。溶媒として
用いられるものは、特に限定されないが、使用にあたっ
ては組成物の安定性、被塗布面である反射防止膜の最表
面層、代表的には二酸化珪素膜に対する濡れ性、揮発性
などを考慮して決められるべきである。本発明において
は、特にメタノール、エタノール、イソプロパノール、
n−ブチルアルコール、i−ブチルアルコール、sec
−ブチルアルコール、sec−アミルアルコール等のア
ルコール系溶剤が好ましく、これらの1種を単独で又は
2種以上を混合して用いることができる。また、アルコ
ール系溶剤に炭化水素系溶剤を混合して混合溶剤とする
ことも可能である。このような炭化水素系溶剤として
は、例えばn−ヘキサン、n−ヘプタン等のパラフィン
類、ベンゼン、トルエン等の芳香族炭化水素、シクロヘ
キサン等のシクロパラフィン等の沸点が50〜120℃
の範囲の1種を単独で又は2種以上を混合して用いるこ
とができる。その他、フッ化炭化水素系溶媒を用いるこ
とも可能であり、例えばパーフルオロヘプタン、パーフ
ルオロオクタン、アウトジモント社製の商品名SV−1
10,SV−135等のパーフルオロポリエーテル、住
友3M社製のFCシリーズ等のパーフルオロアルカン等
を例示することができる。これらのフッ化炭化水素系溶
媒の中でも、沸点が70〜240℃の範囲のものを選択
し、これらの1種を単独で又は2種以上を混合して用い
ることができる。
In such a coating operation, the compound represented by the general formula (1) is usually diluted in a volatile solvent and used as a coating composition. The solvent used is not particularly limited, but in consideration of the stability of the composition, the wettability of the outermost surface layer of the antireflection film to be coated, typically the silicon dioxide film, volatility, etc. Should be determined. In the present invention, particularly methanol, ethanol, isopropanol,
n-butyl alcohol, i-butyl alcohol, sec
Alcohol-based solvents such as -butyl alcohol and sec-amyl alcohol are preferred, and one of these can be used alone or as a mixture of two or more. It is also possible to mix a hydrocarbon solvent with an alcohol solvent to obtain a mixed solvent. Examples of such hydrocarbon solvents include paraffins such as n-hexane and n-heptane, aromatic hydrocarbons such as benzene and toluene, and cycloparaffins such as cyclohexane having a boiling point of 50 to 120 ° C.
Can be used alone or in combination of two or more. In addition, it is also possible to use a fluorinated hydrocarbon solvent, for example, perfluoroheptane, perfluorooctane, and trade name SV-1 manufactured by Autodimont.
10, perfluoropolyethers such as SV-135 and perfluoroalkanes such as FC series manufactured by Sumitomo 3M can be exemplified. Among these fluorinated hydrocarbon solvents, those having a boiling point in the range of 70 to 240 [deg.] C. are selected, and one of these can be used alone or in combination of two or more.

【0037】一般式(1)で表される化合物のコーティ
ング組成物を調製するに際しての希釈溶剤による希釈度
合としては特に限定されるものではないが、例えば、
0.1〜5.0重量%濃度程度に調製することが適当で
ある。また、本発明においては、このコーティング溶液
中に、必要に応じて反応触媒としての酸あるいは塩基を
添加することが好ましい。酸触媒としては例えば,硫
酸、塩酸、硝酸、燐酸、酸性白土、酸化鉄、硼酸、トリ
フルオロ酢酸などを用いることができ、また塩基触媒と
しては水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化リチ
ウム等のアルカリ金属水酸化物などを用いることができ
る。これらの触媒の添加量は、0.001〜1mmol
/L程度が好ましい。これらの酸、塩基に加えてリン酸
ジラウリルエステル、リン酸のパーフルオロポリエーテ
ルエステルなどの燐酸エステル系の触媒、あるいはアセ
チルアセトンのようなβ−ジケトンを添加してその触媒
効果を高めることが可能である。このように触媒が添加
されることによって一般式(1)で表される化合物のシ
ラノ基と、反射防止膜表面のSiO2 との結合反応を伴
う相互作用が、低温であるいは加熱を行なわずとも良好
に進行する。このため、成膜した表面改質膜に変形など
の悪影響を及ぼさずに反応させることができ、SiO2
上の薄膜材料においては、その膜厚から耐久性への要求
が厳しいものであるにもかかわらず、良好な耐久性の向
上が望めるものとなる。このようなリン酸エステルやカ
ルボニル化合物の添加量は、0.1〜100mmol/
L程度とすることができる。このような触媒を添加した
コーティング組成物の乾燥温度は、20〜170℃程度
とすることが好ましい。
The degree of dilution with the diluting solvent in preparing the coating composition of the compound represented by the general formula (1) is not particularly limited.
It is appropriate to adjust the concentration to about 0.1 to 5.0% by weight. In the present invention, it is preferable to add an acid or a base as a reaction catalyst, if necessary, to the coating solution. As the acid catalyst, for example, sulfuric acid, hydrochloric acid, nitric acid, phosphoric acid, acid clay, iron oxide, boric acid, trifluoroacetic acid and the like can be used. As the base catalyst, sodium hydroxide, potassium hydroxide, lithium hydroxide and the like can be used. An alkali metal hydroxide or the like can be used. The addition amount of these catalysts is 0.001-1 mmol
/ L is preferred. In addition to these acids and bases, phosphate-based catalysts such as dilauryl phosphate, perfluoropolyether ester of phosphoric acid, and β-diketones such as acetylacetone can be added to enhance the catalytic effect. It is. By the addition of the catalyst as described above, the interaction involving the bonding reaction between the silano group of the compound represented by the general formula (1) and SiO 2 on the surface of the antireflection film can be performed at a low temperature or without heating. Proceeds well. For this reason, it is possible to cause the formed surface modified film to react without giving an adverse effect such as deformation to SiO 2.
In the above-mentioned thin film material, excellent improvement in durability can be expected despite the strict requirements for durability due to its film thickness. The addition amount of such a phosphate ester or carbonyl compound is 0.1 to 100 mmol /
It can be about L. The drying temperature of the coating composition to which such a catalyst is added is preferably about 20 to 170 ° C.

【0038】本発明に係る一般式(1)で表される化合
物を含有するコーティング組成物の塗布にあたっては、
塗布されるべき反射防止膜の表面は清浄化されているこ
とが好ましく、清浄化に際しては、界面活性剤による汚
れ除去、さらには有機溶剤による脱脂、フッ素系ガスに
よる蒸気洗浄などが適用される。また密着性、耐久性の
向上を目的として各種の前処理を施すことも有効な手段
であり、特に好ましく用いられる方法としては活性化ガ
ス処理、酸、アルカリなどによる薬品処理などが挙げら
れる。
In applying the coating composition containing the compound represented by the general formula (1) according to the present invention,
It is preferable that the surface of the antireflection film to be applied is cleaned, and at the time of cleaning, dirt removal with a surfactant, degreasing with an organic solvent, steam cleaning with a fluorine-based gas, or the like is applied. It is also an effective means to perform various pretreatments for the purpose of improving adhesion and durability, and particularly preferably used methods include activating gas treatment, chemical treatment with an acid, alkali, or the like.

【0039】本発明の表面改質膜は、特に酸化シリコン
表面に対して耐汚染性、耐擦傷性、耐加工性に加えて耐
磨耗性等を付与できる。そのため、本発明の表面改質膜
が成膜された表示装置用フィルターは、通常の反射防止
膜よりも汚れにくく、かつ汚れが目立たない。さらには
汚れが容易に除去できる、あるいは表面の滑りが良好な
ため傷がつきにくいなどの長所を有し、かつこれらの性
能に加えて磨耗に関しても耐久性がある。
The surface-modified film of the present invention can impart abrasion resistance to the surface of silicon oxide, in addition to stain resistance, scratch resistance, and processing resistance. Therefore, the filter for a display device on which the surface modified film of the present invention has been formed is less likely to be stained than a normal antireflection film, and the stain is less noticeable. Furthermore, it has the advantage that dirt can be easily removed, or the surface slides well, so that it is not easily scratched. In addition to these properties, it has durability with respect to abrasion.

【0040】なお、本発明は、上述した実施形態に限定
されるものではなく、本発明の範囲内で種々に改変する
ことができる。
The present invention is not limited to the above-described embodiment, but can be variously modified within the scope of the present invention.

【0041】[0041]

【実施例】以下、本発明を実施例によりさらに具体的に
説明するが、本発明はこれらの実施例に何ら限定される
ものではない。なお実施例中において「部」は重量部を
表すものである。
EXAMPLES Hereinafter, the present invention will be described more specifically with reference to examples, but the present invention is not limited to these examples. In the examples, "parts" indicates parts by weight.

【0042】実施例1 (1)反射防止膜の作製 陰極線管表面にスパッタリングによって厚さ130nm
のITO(酸化錫ドープ酸化インジウム、Indiumu Tin
Oxide)を形成し、その上にSiO2 を80nm厚に蒸
着して2層からなる反射防止膜を形成した。 (2)パーフルオロポリエーテル基を持つアルコキシシ
ラン化合物含有コーティング組成物の調製 パーフルオロポリエーテル基を持つアルコキシシラン化
合物(1)(分子量約850、表1中の化合物1)4部
に、メチルアルコール200部を添加混合し、さらに触
媒としてアセチルアセトンを1ccと濃塩酸を0.01
cc加え均一な溶液としたのち、さらにメンブランフィ
ルターで瀘過を行ない、コーティング組成物を得た。 (3)塗布および乾燥 前記(1)で得た反射防止膜の表面に前記(2)で調製
したコーティング組成物を5cm/minの引き上げ速
度でディップコーティングした。塗布後、温度70℃で
1時間乾燥させた。 (4)性能評価 得られた表面改質膜の性能は下記の方法に従い試験を行
なうことにより評価した。下記(a)から(e)までの
評価項目の試験結果を表2に示す。また耐溶剤性を見る
ため、エタノール洗浄を行なった後に再度同様の試験を
行なった。得られた結果を同様に表2に示す。
Example 1 (1) Preparation of antireflection film A cathode ray tube surface was sputtered to a thickness of 130 nm.
Of ITO (tin oxide doped indium oxide, Indiumu Tin
Oxide), and SiO 2 was deposited thereon to a thickness of 80 nm to form an antireflection film having two layers. (2) Preparation of a coating composition containing an alkoxysilane compound having a perfluoropolyether group: 4 parts of an alkoxysilane compound having a perfluoropolyether group (1) (molecular weight: about 850, compound 1 in Table 1) were added with methyl alcohol 200 parts were added and mixed, and 1 cc of acetylacetone and 0.01 ml of concentrated hydrochloric acid were further used as a catalyst.
After adding cc to make a uniform solution, the solution was further filtered with a membrane filter to obtain a coating composition. (3) Coating and drying The coating composition prepared in (2) was dip-coated on the surface of the antireflection film obtained in (1) at a pulling rate of 5 cm / min. After the application, it was dried at a temperature of 70 ° C. for 1 hour. (4) Performance Evaluation The performance of the obtained surface-modified film was evaluated by conducting a test according to the following method. Table 2 shows test results of the following evaluation items (a) to (e). In order to check the solvent resistance, the same test was performed again after washing with ethanol. Table 2 shows the obtained results.

【0043】(a)耐汚染性試験 水道水5mlをフィルター面にしたたらせ、室温雰囲気
(25℃±2℃)下で48時間放置後、布で拭いた後の
水垢の残存状態を目視にて観察した。水垢が除去できた
時を良好とし、除去できなかった場合を不良とした。
(A) Stain resistance test 5 ml of tap water was dripped on the filter surface, left for 48 hours in an atmosphere of room temperature (25 ° C. ± 2 ° C.), and the remaining state of the scale after wiping with a cloth was visually observed. And observed. The case where scale was successfully removed was defined as good, and the case where scale was not removed was defined as poor.

【0044】(b)表面滑り性 シャープペンシル先に300gの荷重下で表面を引っ掻
いた時の引っかかり具合を評価した。判定基準は以下の
通りである。 ○:まったく引っかからない。
(B) Surface Slipperiness The degree of hooking when the surface was scratched under a load of 300 g on the tip of a mechanical pencil was evaluated. The criteria are as follows. :: Not caught at all.

【0045】 △:強くすると引っかかる。 ×:弱くしても引っかかる。 (c)耐磨耗性試験 表面をスチールウール#0000、200g荷重下で3
0回擦った後傷が付いたかどうかで評価した。判定基準
は以下の通りである。
Δ: If it is strengthened, it will be caught. X: Even if weakened, it is caught. (C) Abrasion resistance test The surface was made of steel wool # 0000 under a load of 200 g.
After rubbing 0 times, it was evaluated whether or not scratches were formed. The criteria are as follows.

【0046】 ○:全く付かない。 △:細かい傷が付く。 ×:傷が著しい。 (d)手垢の付きにくさ 手垢の付きにくさについて、目視にて評価した。判定基
準は以下の通りである。
:: Not attached at all. Δ: Fine scratches are formed. X: The scratch is remarkable. (D) Difficulty of attaching dirt The difficulty of attaching dirt was visually evaluated. The criteria are as follows.

【0047】 ○:付いても目立たない。 △:付くが簡単に除去できる。 ×:付いた後が目立つ。 (e)接触角 水およびヨウ化メチレンの接触角を測定した。測定は、
協和界面化学社製CA−Aを用いて行なった。なお測定
された接触角の値は、表面改質膜の残存率ないし水ある
いは油に対する汚染性に関しての目安となるものであ
る。実施例2 実施例1のパーフルオロポリエーテル基を持つアルコキ
シシラン化合物含有コーティング組成物の調製におい
て、触媒としてアセチルアセトンを使用せずに塩酸のみ
を使用した以外はすべて同様に行った。結果を表2に示
す。実施例3 実施例1のパーフルオロポリエーテル基を持つアルコキ
シシラン化合物含有コーティング組成物の調製におい
て、触媒として、塩酸の代わりにアンモニア水を用い、
アセチルアセトンとアンモニアを併用した以外はすべて
同様に行った。結果を表2に示す。実施例4 実施例1のパーフルオロポリエーテル基を持つアルコキ
シシラン化合物含有コーティング組成物の調製におい
て、触媒として、リン酸ジラウリルエステルを使用した
以外はすべて同様に行った。結果を表2に示す。実施例5 実施例1のパーフルオロポリエーテル基を持つアルコキ
シシラン化合物含有コーティング組成物の調製におい
て、パーフルオロポリエーテル基を持つアルコキシシラ
ン化合物1の代わりに化合物2(分子量約1000、両
末端にアルコキシシラノ基を持つパーフルオロポリエー
テル)を用い、触媒としてリン酸のパーフルオロポリエ
ーテルエステルを使用した以外はすべて同様に行った。
結果を表2に示す。比較例1 実施例1のパーフルオロポリエーテル基を持つアルコキ
シシラン化合物含有コーティング組成物の調製におい
て、触媒を用いずにコーティング組成物の調製を行った
以外はすべて同様に行った。結果を表2に示す。比較例2 実施例1のパーフルオロポリエーテル基を持つアルコキ
シシラン化合物含有コーティング組成物の調製におい
て、パーフルオロポリエーテル基を持つアルコキシシラ
ン化合物1の代わりに化合物2(分子量約1000、両
末端にアルコキシシラノ基を持つパーフルオロポリエー
テル)を用いると共に、触媒を用いずにコーティング組
成物の調製を行った以外はすべて同様に行った。結果を
表2に示す。比較例3 コーティング組成物を塗布しない以外はすべて同様に行
った。結果を表2に示す。
A: Inconspicuous even if attached. Δ: attached, but easily removable. X: The appearance after attachment is conspicuous. (E) Contact angle The contact angle between water and methylene iodide was measured. The measurement is
This was performed using CA-A manufactured by Kyowa Interface Chemical Co., Ltd. The measured value of the contact angle is a measure of the residual ratio of the surface-modified film or the contamination with water or oil. Example 2 In the preparation of the coating composition containing an alkoxysilane compound having a perfluoropolyether group in Example 1, the same procedure was performed except that only hydrochloric acid was used without using acetylacetone as a catalyst. Table 2 shows the results. Example 3 In the preparation of the coating composition containing an alkoxysilane compound having a perfluoropolyether group in Example 1, ammonia water was used instead of hydrochloric acid as a catalyst.
The same procedure was performed except that acetylacetone and ammonia were used in combination. Table 2 shows the results. Example 4 In the preparation of the coating composition containing an alkoxysilane compound having a perfluoropolyether group in Example 1, the same procedure was performed except that dilauryl phosphate was used as a catalyst. Table 2 shows the results. Example 5 In the preparation of the coating composition containing an alkoxysilane compound having a perfluoropolyether group in Example 1, compound 2 (molecular weight: about 1000, alkoxy (Perfluoropolyether having a silano group) and the catalyst was a perfluoropolyether ester of phosphoric acid.
Table 2 shows the results. Comparative Example 1 In the preparation of the coating composition containing an alkoxysilane compound having a perfluoropolyether group in Example 1, the same procedure was carried out except that the coating composition was prepared without using a catalyst. Table 2 shows the results. Comparative Example 2 In the preparation of the coating composition containing an alkoxysilane compound having a perfluoropolyether group in Example 1, compound 2 (molecular weight: about 1,000, alkoxy (Perfluoropolyether having a silano group) and the preparation of the coating composition was carried out without using a catalyst. Table 2 shows the results. Comparative Example 3 The same procedure was performed except that the coating composition was not applied. Table 2 shows the results.

【0048】[0048]

【表1】 [Table 1]

【0049】[0049]

【表2】 [Table 2]

【0050】表2の結果より、コーティング組成物に触
媒を添加しない場合(比較例1、比較例2)、表面改質
膜の特性、特に手垢の付きにくさに劣り、表面改質膜を
成膜しない場合(比較例3)、明らかに耐磨耗性や表面
滑り性などの特性に劣る。実施例6〜10 実施例1において、コーティング組成物を塗布後の乾燥
温度を表3に示す温度で行った以外はすべて同様に行っ
た。結果を表3に併記する。このときの耐汚染性、表面
すべり性、耐磨耗性試験、手垢の付きにくさについては
同様の結果であったので記載は省略する。
From the results shown in Table 2, when no catalyst was added to the coating composition (Comparative Examples 1 and 2), the characteristics of the surface-modified film, particularly, the difficulty of attaching the stain, were poor, and the surface-modified film was formed. When no film is formed (Comparative Example 3), properties such as abrasion resistance and surface slippage are clearly inferior. Examples 6 to 10 All of the procedures were performed in the same manner as in Example 1 except that the drying temperature after application of the coating composition was as shown in Table 3. The results are also shown in Table 3. At this time, the stain resistance, surface slippage, abrasion resistance test, and difficulty in attaching dirt were the same, and therefore, the description is omitted.

【0051】[0051]

【表3】 [Table 3]

【0052】室温に近い温度でも特性の良好な表面改質
膜が得られることが認められる。加熱温度が100℃を
超えると特性的には満足するが、パネルガラスの熱容量
が大きいために温度が高くなるほど加熱が大変になる上
に、反射防止膜に熱ストレスを加えることになり、膜ク
ラック発生の原因となるので好ましくない。比較例4〜8 実施例1において、触媒を用いずにコーティング組成物
を調製し、コーティング組成物を塗布後の乾燥温度を表
4に示す温度で行った以外はすべて同様に行った。結果
を表4に併記する。
It is recognized that a surface modified film having good characteristics can be obtained even at a temperature close to room temperature. If the heating temperature exceeds 100 ° C., the properties are satisfactory. However, the heat capacity of the panel glass is large, so that the higher the temperature, the more difficult the heating becomes. In addition, thermal stress is applied to the antireflection film, and the film cracks. It is not preferable because it causes generation. Comparative Examples 4 to 8 All of the procedures were performed in the same manner as in Example 1 except that the coating composition was prepared without using the catalyst, and the drying temperature after application of the coating composition was set to the temperature shown in Table 4. The results are also shown in Table 4.

【0053】[0053]

【表4】 [Table 4]

【0054】触媒を添加していないと、150℃におい
ても特性の良好な皮膜が得られず、加熱温度が低いほど
触媒効果が顕著に現れることが認められる。
If no catalyst was added, a film having good characteristics could not be obtained even at 150 ° C., and it was recognized that the lower the heating temperature, the more pronounced the catalytic effect was.

【0055】[0055]

【発明の効果】以上述べたように、本発明に係るフィル
ターは、ガラス基材上に設けられた単層または多層の反
射防止膜の表面が、一般式(1)で示されるパーフルオ
ロポリエーテル基を有するアルコキシシラン化合物から
成る表面改質膜で被覆してある表示装置用フィルターで
ある。このため、本発明に係るフィルターおよびそれを
有する表示装置は、次の効果を有する。 (1)指紋、手垢などによる汚れが付きにくく、また目
立ちにくい。これらの効果が永続的に保持される。 (2)水垢などが付着し、乾燥されても容易に除去する
ことが可能である。 (3)表面滑り性が良好である。 (4)ほこりなどの汚れが付きにくく、使用性が良い。 (5)磨耗に対する耐久性がある。 (6)塗布後の乾燥温度を50℃以下の低温にすること
も可能である。
As described above, in the filter according to the present invention, the surface of the single-layer or multi-layer antireflection film provided on the glass substrate has a perfluoropolyether represented by the general formula (1). This is a display device filter coated with a surface-modified film made of an alkoxysilane compound having a group. Therefore, the filter according to the present invention and the display device having the same have the following effects. (1) It is hard to be stained by fingerprints, hand marks, and the like, and hardly noticeable. These effects are permanently maintained. (2) It can be easily removed even if it is dried due to adhesion of scale and the like. (3) Good surface slipperiness. (4) Dirt such as dust hardly adheres, and the usability is good. (5) There is durability against abrasion. (6) The drying temperature after application can be reduced to a low temperature of 50 ° C. or less.

【0056】従って、パーフロオロポリエーテル基を持
つアルコキシシラン化合物を反射防止フィルターの表面
に被覆させた後、加熱乾燥させることにより、手垢、水
垢等の汚染防止効果があり、かつ上記潤滑剤の効果によ
り、滑り性、耐磨耗性に優れた反射防止フィルターを提
供することが可能となった。
Accordingly, the surface of the antireflection filter is coated with an alkoxysilane compound having a perfluoropolyether group, and then heated and dried, thereby having an effect of preventing contamination such as hand scales and scales, and an effect of the lubricant. As a result, it has become possible to provide an antireflection filter having excellent slipperiness and abrasion resistance.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明にかかる表示装置用反射防止フィルター
の一形態を示す断面図である。
FIG. 1 is a cross-sectional view illustrating one embodiment of an antireflection filter for a display device according to the present invention.

【図2】陰極線管の斜視図である。FIG. 2 is a perspective view of a cathode ray tube.

【図3】本発明にかかる表示装置のフィルター部分の一
形態を示す断面図である。
FIG. 3 is a cross-sectional view illustrating one embodiment of a filter portion of the display device according to the present invention.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1…ガラス基材、2…反射防止膜、3…表面改質膜、1
0…フィルター、100…陰極線管、101…パネル
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Glass base material, 2 ... Antireflection film, 3 ... Surface modification film, 1
0: filter, 100: cathode ray tube, 101: panel

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 FI H01J 29/88 G02B 1/10 A ──────────────────────────────────────────────────の Continued on the front page (51) Int.Cl. 6 Identification code FI H01J 29/88 G02B 1/10 A

Claims (7)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】ガラス基材上に設けられた単層又は多層の
反射防止膜の表面が、下記一般式(1)で示されるパー
フルオロポリエーテル基を有するアルコキシシラン化合
物を含有するコーティング組成物を用いた表面改質膜で
被覆されていることを特徴とする表示装置用フィルタ
ー。 Rf {COR1 −R2 −Si(OR3 3 j …(1) (但し、式中Rfはパーフロオロポリエーテル基、R1
二価の原子又は原子団、R2は非置換又は置換の二価炭
化水素基、R3は非置換又は置換の一価炭化水素基を示
し、jは1又は2である。)
A coating composition wherein the surface of a single-layer or multilayer antireflection film provided on a glass substrate contains an alkoxysilane compound having a perfluoropolyether group represented by the following general formula (1): A filter for a display device, wherein the filter is coated with a surface-modified film using a polymer. R f {COR 1 —R 2 —Si (OR 3 ) 3j (1) (where R f is a perfluoropolyether group, R 1 is a divalent atom or atomic group, and R 2 is A substituted or substituted divalent hydrocarbon group, R 3 represents an unsubstituted or substituted monovalent hydrocarbon group, and j is 1 or 2.)
【請求項2】上記コーティング組成物が、酸又は塩基、
リン酸エステル、及びβ−ジケトンから選ばれる1種又
は2種以上の触媒を含有する請求項1記載の表示装置用
フィルター。
2. The method according to claim 1, wherein the coating composition comprises an acid or a base,
The display device filter according to claim 1, further comprising one or more catalysts selected from a phosphate ester and a β-diketone.
【請求項3】反射防止膜の最表面が主として酸化珪素か
らなり、その表面に表面改質膜が形成されている請求項
1記載の表示装置用フィルター。
3. The display device filter according to claim 1, wherein the outermost surface of the antireflection film is mainly made of silicon oxide, and a surface modification film is formed on the surface.
【請求項4】ガラス基材と、 該ガラス基材上に設けられた単層又は多層の反射防止膜
と、 該反射防止膜上に、下記一般式(1)で示されるパーフ
ルオロポリエーテル基を有するアルコキシシラン化合物
を含有するコーティング組成物を用いた表面改質膜とを
有することを特徴とする表示装置。 Rf {COR1 −R2 −Si(OR3 3 j …(1) (但し、式中Rfはパーフロオロポリエーテル基、R1
二価の原子又は原子団、R2は非置換又は置換の二価炭
化水素基、R3は非置換又は置換の一価炭化水素基を示
し、jは1又は2である。)
4. A glass substrate, a single-layer or multilayer anti-reflection film provided on the glass substrate, and a perfluoropolyether group represented by the following general formula (1) on the anti-reflection film. And a surface modified film using a coating composition containing an alkoxysilane compound having the following formula: R f {COR 1 —R 2 —Si (OR 3 ) 3j (1) (where R f is a perfluoropolyether group, R 1 is a divalent atom or atomic group, and R 2 is A substituted or substituted divalent hydrocarbon group, R 3 represents an unsubstituted or substituted monovalent hydrocarbon group, and j is 1 or 2.)
【請求項5】上記コーティング組成物が、酸又は塩基、
リン酸エステル、及びβ−ジケトンから選ばれる1種又
は2種以上の触媒を含有する請求項4記載の表示装置。
5. The method according to claim 1, wherein the coating composition comprises an acid or a base,
The display device according to claim 4, further comprising one or more catalysts selected from a phosphate ester and a β-diketone.
【請求項6】反射防止膜の最表面が主として酸化珪素か
らなる請求項4記載の表示装置。
6. The display device according to claim 4, wherein the outermost surface of the antireflection film is mainly made of silicon oxide.
【請求項7】上記ガラス基材が陰極線管のガラスパネル
であり、表示装置が陰極線管である請求項4記載の表示
装置。
7. The display device according to claim 4, wherein the glass substrate is a glass panel of a cathode ray tube, and the display device is a cathode ray tube.
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