JP5228142B1

JP5228142B1 - 生体用高濃度水素ガス供給装置

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Publication number: JP5228142B1
Application number: JP2013012881A
Authority: JP
Inventors: 文武佐藤; 亮介黒川; 文平佐藤; 知樹瀬尾
Original assignee: Miz Co Ltd
Current assignee: Miz Co Ltd
Priority date: 2012-11-26
Filing date: 2013-01-28
Publication date: 2013-07-03
Anticipated expiration: 2033-01-28
Also published as: JP2014122148A; HK1207622A1; CN104755416A; US20150258298A1; WO2014081026A1; EP2924001A1

Abstract

【課題】健康上有益な水素ガスを医療の現場や家庭で安全に使用することができる生体用水素ガス供給装置を提供する。
【解決手段】水素発生剤１、該水素発生剤を有する水素ガス発生器３、該水素発生剤と反応用水２の反応により発生する水素ガスを希釈するための希釈用ガス供給器７または真空ポンプ８のうち少なくともいずれか一方を備え、前記水素ガス発生器は、その気相部４の一部あるいは全部が水素ガス透過膜５で覆われている特徴を備え、前記希釈用ガス供給器または真空ポンプから供給される希釈用ガスが水素ガスと混合されることにより、１ｍＬ／分以上の通気量で、水素ガス濃度が０．１vol％以上１８．３vol％未満の混合ガスを生体に供給し、前記希釈用ガスの供給が停止した場合であっても、水素発生時の前記水素発生剤又は反応用水水面から７ｃｍ離れた位置の水素ガス濃度を１８．３vol％未満に維持する。
【選択図】図１

Description

本発明は、生体用高濃度水素ガス供給装置に関するものである。

生体用水素ガス供給装置として、水素ガス発生装置から鼻腔カニューラへの導管の一部に空気混合器を取り付けることにより、供給する水素ガスの濃度を任意に設定することができる生体用水素ガス供給装置が知られている（特許文献１）。

特開２００９−５８８１号公報

しかしながら、上記従来の生体用水素ガス供給装置では、仮に空気混合器が故障し、水素ガスを希釈することができなくなった場合、装置内の水素ガス濃度が高まり続けるという無視できない危険性があった。とくに、水素発生源として、水素発生剤を使用する場合は、一度開始した水素発生反応を中断することは困難であるため、いっそうの注意が必要であった。

本発明が解決しようとする課題は、健康上有益な水素ガスを医療の現場や家庭で安全に使用することができる生体用高濃度水素ガス供給装置を提供することである。

本発明は、水素発生剤と反応用水を反応させることで水素ガスを発生させるとともに、水素ガス発生器の気相部の水素ガスを、部分的に水素ガス発生器の気相部外へ放出することを通じて、水素ガス発生器の気相部の水素ガス濃度を１８．３vol％未満に維持することにより、水素ガス発生の時点から生体に送り届けられるまでの過程すべてで、水素ガスを爆轟下限未満の濃度である１８．３vol％未満に維持することができる生体用高濃度水素ガス供給装置を提供することで、課題を解決する。

本発明によれば、健康上有益な水素ガスを、医療の現場や家庭で安全に使用することができる。

本発明の一実施の形態に係る生体用水素ガス供給装置を示す図である。

本発明の一実施の形態に係る生体用高濃度水素ガス供給装置１０は、図１に示すように、水素発生剤１と、該水素発生剤１を収容し、反応用水２と反応させることで水素ガスを発生させる水素ガス発生器３を含む生体用高濃度水素ガス供給装置１０において、水素ガス発生器３の気相部４の一部あるいは全部が水素ガス透過膜５で覆われているため、水素ガス発生器３の気相部４の水素ガスが、該水素ガス透過膜５を介して、部分的に水素ガス発生器３の外へ放出されることを通じて、水素ガス発生器３の気相部４の水素ガス濃度を１８．３vol％未満に維持し、かつ、該水素ガス透過膜５の上空近傍の水素ガス濃度を１５.０vol％未満に維持することができる生体用高濃度水素ガス供給装置１０として実施される。

あるいは、こうした生体用高濃度水素ガス供給装置１０が、さらに、水素ガス発生器３の気相部４に発生した水素ガスを希釈するとともに適宜風量で生体に送達させるための、希釈用ガス供給器７または真空ポンプ８のうち少なくともいずれか一方と、を備え、前記希釈用ガス供給器７から供給される希釈用ガス、または前記真空ポンプ８により前記水素ガス透過膜５を介して水素ガス発生器３の気相部４の外から導入された希釈用ガスが、水素ガスと混合されることを通じて、１５.０vol％未満の、該水素ガスと該希釈用ガスを含む混合ガスを生体に供給することができる生体用高濃度水素ガス供給装置１０として実施される。

ここで、生体用高濃度水素ガス供給装置１０とは、主として、生体（細胞や臓器を含む）の健康維持や機能維持、疾病改善や機能改善、健康診断や機能測定を目的に、生体に水素ガスを供給することである。その供給手段としては、これに限るものではないが、鼻腔や口腔からの吸入による供給、細胞や皮膚や臓器への曝露や吹込みによる供給、または液状薬剤や臓器保存液など生体に適用されることを前提とした生体適用液への曝露や吹込みによる供給、生体を有する容器や回路の外側からの拡散による供給などを含む。

ここで水素発生剤１とは、水素を発生させる物質である。水素よりイオン化傾向の高い金属や、金属の水素化物あるいは水素化ホウ素化合物など半金属の水素化物を含む水素化化合物など、水と接触することで水素を発生させる物質は水素発生剤に含まれる。反応生成物の安全性や反応熱の温度などを考慮し、マグネシウム、アルミニウム、水素化マグネシウム、水素化ホウ素ナトリウムは好適に用いられる。なかでも、水素よりイオン化傾向の高い金属であるアルミニウムや金属の水素化物である水素化マグネシウムや水素化ホウ素化合物である水素化ホウ素ナトリウムは、美観、水素発生の安定性の観点からも好適に用いられる。

こうした水素発生剤１は、必要に応じて酸やアルカリなどのｐＨ調整剤とともに用いられてもよく、また、それらとともに、あるいは単独で、不織布など多孔性の隔離体で覆われていてもよい。こうした酸としてはたとえばリン酸塩が、こうしたアルカリとしてはたとえば重炭酸塩が含まれるが、それに限るものではない。
また反応用水２とは、水素発生剤１と接触することを通じて水素ガス発生器３内に水素ガスを発生させる物質である。こうした反応用水２には、水道水、浄水、イオン交換水、精製水、純水、ＲＯ水などが含まれるが、これに限るものではない。含有成分、硬度、液性の如何にかかわらず、水を含んでいる物質であれば本発明の反応用水の概念に含まれる。

水素発生剤１と反応用水２の反応によって水素ガス発生器３に発生した水素ガスは、水素ガス発生器３内の気相部４に移行する。このとき、水素ガス発生器３が蓋などで閉鎖され、水素ガスの大気への拡散が妨げられているのであれば、時間とともに気相部４の水素濃度は高まり水素ガスの爆轟下限である１８．３vol％を超える。

他方、水素ガス発生器３が外部に向かって完全に開放され、水素ガスが発生したそばから大気へ拡散してしまうのであれば、生体に送達する充分な水素ガスを供給することができない。

したがって、本発明の水素ガス発生器３は、水素ガス発生器３の気相部４の一部あるいは全部が水素ガス透過膜５で覆われていることを特徴とする。こうした構成によれば、水素ガス発生器３の気相部４の水素ガスの一部だけを水素ガス発生器３の外へ放出することで、水素ガス発生器３の気相部４の水素ガス濃度を常に安全圏内に維持することができる。こうした水素ガス透過膜５としては、水難透過性または非透過性であって水素ガス透過性であるガス膜であることが望ましいがこれに限るものではない。

とくに、水素発生剤を水素の供給源とする場合、一旦開始した化学反応（水素発生反応）を中断することは難しいため、仮に希釈用ガスの供給が停止してしまった場合、従来技術によっては、水素濃度が危険域にまで自動的に高まっていく危険性があった。水素ガス発生器が完全な閉鎖系ではなく、半分開放されているような状態であっても、水素ガス発生器、あるいは水素発生剤が収容されている区画に充分な広さがない場合は、発生した水素ガスが充分に換気されず、水素発生反応中の、水素発生剤へと接近する近傍のいずれかの地点においては、たとえ局所的であるとしても、水素濃度が危険域にまで高まる恐れがあった。

しかし、本発明のような構成をとることにより、仮に水素ガス発生器への希釈用ガスの供給が停止してしまった場合であっても、発生した水素ガスが一ヶ所にこもることなく、水素発生反応が終了するまで、装置を安全に放置することができるようになった。

そして、安全性をさらに高めるためには、水素発生剤の使用量を、後述のように、（通気量（Ｌ／分）×０．１８３×連続使用想定時間（分））÷（水素発生剤と水との化学反応式において、該水素発生剤１ｍｏｌから発生する水素分子の物質量（ｍｏｌ）×２２.４）モル未満に抑えることが望ましい。

同様に、水素ガス発生器の体積は、使用される水素発生剤体積の２倍以上、好ましくは３倍以上、より好ましくは５倍以上であることが望ましい。なおここで、水素ガス発生器が完全に閉鎖されておらず、部分的に開放されているため、水素ガス発生器の輪郭を明確には描きがたい構成をとる装置においては、該装置の図面などから、とりあえず、水素発生剤が収容されている空間として前後から区画できる部分の体積を、「水素ガス発生器の体積」と見做せばよい。

通常、水素が大気中の酸素と反応し爆鳴気となるのは、水素濃度が４.７vol％を超えてからであるとされている。しかしながら、このような爆鳴気が現実的な発火（爆燃）につながるのは、多くの場合、水素の爆発限界とされる４.７vol％よりもはるかに高い濃度においてである。出願人の実験では、爆鳴がある程度耳障りになり小さな爆燃を生じるのは、せいぜい水素濃度が１０〜１５vol％を超えてからである。

他方、いかに高濃度の水素を得るためとはいえ、水素と酸素の反応が、爆轟として周囲に衝撃波を走らせる濃度である１８．３％（爆轟下限）を超えた濃度の水素ガスを求めることはできない。

すなわち、本発明において、水素ガス発生器３の気相部４の水素ガス濃度は１８．３vol％未満に維持されているのが好ましく、より好ましくは１５．０vol％未満、さらに好ましくは４.７vol％未満に維持されていることである。

また、水素ガス発生器３の水素ガス透過膜５の近傍の水素ガス濃度は１５.０vol％未満に維持されているのが好ましく、より好ましくは１０．０vol％未満、さらに好ましくは３.０vol％未満に維持されていることである。

また、本発明の生体用高濃度水素ガス供給装置１０は、さらに、希釈用ガス供給器７または真空ポンプ８のうち少なくともいずれか一方を備えていることは望ましい。水素ガス発生器３の気相部４の水素ガスは、生体に送り届けられるまでの経路のいずれかの地点に設けられた希釈用ガス供給器７や真空ポンプ８を介して供給される希釈用ガスと混合されることを通じて、水素をより効率的に運搬する風量を確保することができるとともに、より好ましい１５.０vol％未満の濃度で、あるいはさらに好ましい１０．０vol％未満の濃度で、あるいはよりさらに好ましい４．７vol％未満の濃度で、水素ガスと希釈用ガスを含む混合ガスを生体に供給することができる。

希釈用ガスの供給は、水素発生剤１に反応用水２を接触させた後できるだけ早いうちに、あるいは反応用水２を接触させるに先立って作動させておくこと望ましい。

なお、本発明の希釈用ガスは、通常大気や人口空気を含む概念であり、酸素濃度を調整された医療用ガスや、その他麻酔用、医療用成分を含んだ医療用ガスも含まれる。こうした希釈用ガスを供給する希釈用ガス供給器７には、エアポンプなど希釈用ガスを送風できる装置が含まれる。

なお、上述の水素ガス発生器３の水素ガス透過膜５の近傍とは、水素ガス透過膜５から７センチメートル、好ましくは３センチメートル、最も好ましくは水素ガス透過膜５の上空に接する位置を含む概念である。また原則的に、水素ガス透過膜５に近づけば近づくほど、水素ガス濃度は高まるとみなすことができるため、もし水素ガス透過膜５から７センチメートル離れた位置での水素ガス濃度が１８．３vol％未満であるならば、７センチメートルより近距離における水素ガス濃度も１８．３vol％未満であるとみなすことができる。したがって、生体用高濃度水素ガス供給装置１０のサイズの都合などで上記位置での測定が困難な場合は、上記位置より近距離、しかし、できるだけそれに近い位置で測定すればよい。

なお本発明では、水素ガス発生器３の水素ガス透過膜５の近傍の水素ガス濃度を、水素発生から１０分間は１分間隔で、その後は１０分間隔で、計１２０分間（それ以前に反応が終了する場合にはその時点まで）測定し、その最も高い値が１８．３vol％未満である場合を、「水素ガス発生器の水素ガス透過膜近傍の水素ガス濃度が１８．３vol％未満に維持された」と見做す。

また本発明では、水素ガス発生器３の気相部４の水素ガス濃度を、水素発生から１０分間は１分間隔で、その後は１０分間隔で、計１２０分間（それ以前に反応が終了する場合にはその時点まで）測定し、その最も高い値が１８．３vol％未満である場合を、「水素ガス発生器の気相部の水素ガス濃度が１８．３vol％未満に維持された」と見做す。

一方、本発明は、あくまで生体用高濃度水素ガス供給装置１０にかかわる発明であるため、水素ガス濃度を１８．３vol％未満に維持するとはいえ必要以上の希釈を求めるものではない。したがって、他の産業における水素ガスの取り扱いとは異なり、発生した水素ガスを安全に系外へ廃棄すべく、水素ガス濃度を限りなくゼロに近づけることを目指せば良いというものではなく、水素発生の条件管理や通気量の管理を行うことが望ましい。

たとえば、希釈用ガス供給器７や真空ポンプ８を介して、５Ｌ／分の通気量で希釈用ガスが供給されるとき、水素ガスは、０．９１５Ｌ/分（５Ｌの１８．３％）未満の発生量に維持されることが望まれる。したがって１２０分間の連続使用を想定する場合、水素の合計発生量は１０９．８Ｌとなる（０．９１５Ｌ×１２０分間）。またここで、水素発生剤として水素化ホウ素ナトリウムを使用すると仮定すれば、水素化ホウ素ナトリウムと水との反応式は；
NaBH₄ ＋ 2H₂O → 4H₂ ＋ NaBO₂
であり、水素化ホウ素ナトリウム１ｍｏｌからは４ｍｏｌ（８９.６Ｌ）の水素ガスが発生するから、使用する水素化ホウ素ナトリウムは１．２２５ｍｏｌ（１０９．８Ｌ÷８９．６Ｌ）または４６．３ｇ（３７．８３ｇ／ｍｏｌ×１．２２５ｍｏｌ）未満であることが望まれる。

同様に、水素化ホウ素ナトリウムの代わりに、金属マグネシウムを使用する場合は、金属マグネシウムと水との反応式が；
Mg + 2H₂O → Mg(OH)₂ + H₂
であり、金属マグネシウム１ｍｏｌからは１ｍｏｌ（２２．４.Ｌ）の水素ガスが発生するから、使用する金属マグネシウムは４．９ｍｏｌ（１０９．８Ｌ÷２２．４Ｌ）または１１７．６ｇ（２４ｍｏｌ／ｇ×４．９ｍｏｌ）未満であることが望まれる。

これを一般化して表すと、本発明における水素発生剤の使用量は、（通気量（Ｌ／分）×０．１８３×連続使用想定時間（分））÷（水素発生剤と水との化学反応式において、該水素発生剤１ｍｏｌから発生する水素分子の物質量（ｍｏｌ）×２２.４）モル未満であることが望まれ、安全性の観点から、好ましくは、上記式において０．１８３の代わりに、０．１５０（１５％）、より好ましくは０．０４７（４．７％）が用いられることが望ましい。なお、水素発生剤がｐＨ調整剤とともに用いられる場合は、上記水素発生剤と水との化学反応式に当該ｐＨ調整剤が登場してもよい。

また、効果の観点から、本発明において、水素ガスと希釈用ガスを含む混合ガスにおける水素ガス濃度は０．０１vol％以上、好ましくは０．１vol％以上、より好ましくは１.０vol％以上であることが望ましい。

したがって、本発明における水素発生剤の使用量は、（通気量（Ｌ／分）×０．０００１×連続使用想定時間（分））÷（水素発生剤と水との化学反応式において、該水素発生剤１ｍｏｌから発生する水素分子の物質量（ｍｏｌ）×２２.４）モル以上であることが望まれ、好ましくは、上記式において０．０００１の代わりに、０．００１（０．１％）、より好ましくは０．０１（１％）が用いられることが望ましい。

また、通気量は、人間や動物が１分間に吸入する空気または高濃度酸素ガス量を目安に、例えば、希釈用ガス供給装置や真空ポンプを介して、１ｍＬ／分以上、好ましくは１Ｌ／分以上、より好ましくは２Ｌ／分以上、さらに好ましくは４Ｌ／分以上、とくに好ましくは６Ｌ／分以上の通気量で希釈用ガスが、水素ガス発生器内に通気されることが望ましい。

なお、水素ガスと希釈用ガスの混合ガスを生体に供給する形態としては、たとえば、水素ガス発生器３の水素ガス透過膜５に直接顔を近づけ混合ガスを吸入する形態のほか、水素ガス発生器３に設けられた混合ガス導出口９より混合ガスを吸入する形態が含まれる。

また、鼻腔カニューラなどアタッチメントを真空ポンプ８や混合ガス導出口９に適宜接続することで、吸入時の利便性や混合ガス供給の安定性を高めることができる。

以下、本発明の実施例を説明する。なお、本願において特に断りがない場合は、各種物性値を計測するのに用いた各種計器類は、水素ガス濃度計が「ＸＰ―３１４０（新コスモス電機社製）」である。

［実施例１］
蓋部の天面を水素ガス透過膜（旭・デュポンフラッシュスパンプロダクツ（株）タイベック1073B、以下同じ。）で覆われた、容量３５００ｍＬのプラスチック容器である水素ガス発生器に、水素発生剤として水素化ホウ素ナトリウム（テトラヒドロほう酸ナトリウム，粉末和光純薬工業、以下同じ。）２７ｇ、リン酸第二水素ナトリウム（リン酸二水素カルシウム和光純薬工業、以下同じ。）１．５ｇ、炭酸水素ナトリウム（重炭酸ナトリウム東ソー、以下同じ。）１９．５ｇを設置するとともに、藤沢市水道水５００ｃｃを反応用水として反応させることで水素ガスを発生させた。蓋部を閉めるとともに、水素ガス発生器の気相部の水素ガス濃度を、水素発生から１０分間は１分間隔で、その後は１０分間隔で、計１２０分間測定し、その最も高い水素ガス濃度を記録した。その結果を表１に示す。

［実施例２］
蓋部の天面を水素ガス透過膜で覆われた、容量３５００ｍＬのプラスチック容器である水素ガス発生器に、水素発生剤として水素化ホウ素ナトリウム２７ｇ、リン酸第二水素ナトリウム１．５ｇ、炭酸水素ナトリウム１９．５ｇを設置するとともに、藤沢市水道水５００ｃｃを反応用水として反応させることで水素ガスを発生させた後、蓋部を閉めた。水素ガス発生器より導出するチューブに、希釈用ガス供給器としてエアポンプ（Ｓｉｌｅｎｔβ１２０（マルカン社製））を設け、５Ｌ／分の通気量で通常大気を送風し水素ガスを希釈した。水素ガス発生器の気相部の水素ガス濃度を、水素発生から１０分間は１分間隔で、その後は１０分間隔で、計１２０分間測定し、その最も高い水素ガス濃度を記録した。その結果を表１に示す。

［実施例３］
蓋部の天面を水素ガス透過膜で覆われた、容量３５００ｍＬのプラスチック容器である水素ガス発生器に、水素発生剤として水素化ホウ素ナトリウム２７ｇ、リン酸第二水素ナトリウム１．５ｇ、炭酸水素ナトリウム１９．５ｇを設置するとともに、藤沢市水道水５００ｃｃを反応用水として反応させることで水素ガスを発生させた。蓋部を閉めるとともに、真空ポンプ（真空ポンプアルバック機工（株） DAP-6D）を作動させ、水素ガス発生器外より通常大気を７Ｌ／分で導入し、水素ガス発生器内に送風した。水素ガス発生器の気相部の水素ガス濃度を、水素発生から１０分間は１分間隔で、その後は１０分間隔で、計１２０分間測定し、その最も高い水素ガス濃度を記録した。その結果を表１に示す。

［実施例４］
蓋部の天面を水素ガス透過膜で覆われた、容量３５００ｍＬのプラスチック容器である水素ガス発生器に、水素発生剤として水素化ホウ素ナトリウム２７ｇ、リン酸第二水素ナトリウム１．５ｇ、炭酸水素ナトリウム１９．５ｇを設置するとともに、藤沢市水道水５００ｃｃを反応用水として反応させることで水素ガスを発生させた。蓋部を閉めるとともに、希釈用ガス供給器としてエアポンプ（Ｓｉｌｅｎｔβ１２０（マルカン社製））より５Ｌ／分で通常大気を水素ガス発生器に送風した。水素ガス発生器の気相部の水素ガス濃度を、水素発生から１０分間は１分間隔で、その後は１０分間隔で、計６０分間測定した。６０分経過後、エアポンプを停止し、引き続き、水素ガス発生器の気相部の水素ガス濃度を、エアポンプ停止から１０分間は１分間隔で、その後は１０分間隔で、計６０分間測定した。
エアポンプ停止前と後のそれぞれ６０分間で、最も高い水素ガス濃度を記録した。その結果を表１に示す。

［比較例１］
実施例１において、蓋部の天面を水素ガス透過膜で覆わない、普通の蓋部に変更した場合の結果を表１に示す（ただし２分経過後の測定で、爆轟濃度を超える２４.０vol％を記録したため、安全性の観点からその後の実験を停止した）。

［比較例２］
実施例１において、水素化ホウ素ナトリウム４７ｇ、リン酸第二水素ナトリウム１０ｇ、（炭酸水素ナトリウムはなし）に変更した場合の結果を表１に示す（ただし４分経過後の測定で、爆轟濃度を超える１９.０vol％を記録したため、安全性の観点からその後の実験を停止した）。

１…水素発生剤
２…反応用水
３…水素ガス発生器
４…水素ガス発生器の気相部
５…水素ガス透過膜
７…希釈用ガス供給器
８…真空ポンプ
９…混合ガス導出口
１０…生体用水素ガス供給装置

Claims

水素発生剤、該水素発生剤を有する水素ガス発生器、および該水素発生剤と反応用水の反応により発生する水素ガスを希釈するための希釈用ガス供給器または真空ポンプのうち少なくともいずれか一方を備え、
前記水素ガス発生器は、その気相部の一部あるいは全部が水素ガス透過膜で覆われている特徴を備え、
前記希釈用ガス供給器または真空ポンプを用いて供給される希釈用ガスが水素ガスと混合されることにより、１ｍＬ／分以上の通気量で、水素ガス濃度が０．１vol％以上１８．３vol％未満の混合ガスを、生体に供給することができる生体用水素ガス供給装置であって、
前記希釈用ガスの供給が停止した場合であっても、水素発生時の前記水素発生剤又は反応用水水面から７ｃｍ離れた位置の水素ガス濃度を１８．３vol％未満に維持することを特徴とする生体用水素ガス供給装置。
前記水素発生剤が、水素よりイオン化傾向の高い金属、金属の水素化物、または半金属の水素化物のうち少なくともいずれか一つを含む請求項１に記載の生体用水素ガス供給装置。
前記水素発生剤が、水素化ホウ素化合物である請求項１または２に記載の生体用水素ガス供給装置。
前記水素発生剤が、水素化マグネシウムである請求項１または２に記載の生体用水素ガス供給装置。
前記水素発生剤が、金属アルミニウムである請求項１または２に記載の生体用水素ガス供給装置。
前記水素発生剤の使用量が、（通気量（Ｌ／分）×０．１８３×連続使用想定時間（分））÷（水素発生剤と水との化学反応式において、該水素発生剤１ｍｏｌから発生する水素分子の物質量（ｍｏｌ）×２２.４）モル未満である請求項１から５のいずれか一項に記載の生体用水素ガス供給装置。
前記水素発生剤が、不織布に包まれている請求項１から６のいずれか一項に記載の生体用水素ガス供給装置。
前記水素ガス発生器の体積が、前記水素発生剤体積の２倍以上である請求項１から７のいずれか一項に記載の生体用水素ガス供給装置。
前記混合ガスにおける水素ガス濃度が、０．１vol％以上１５vol％未満である請求項１から８のいずれか一項に記載の生体用水素ガス供給装置。
前記希釈用ガスが、通常大気である請求項１から９のいずれか一項に記載の生体用水素ガス供給装置。