JP5220239B2 - 薄膜シリコン太陽電池の製造方法および製造装置 - Google Patents
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- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims description 53
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 title claims description 53
- 239000010703 silicon Substances 0.000 title claims description 53
- 239000010409 thin film Substances 0.000 title claims description 47
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 42
- 239000010408 film Substances 0.000 claims description 367
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 211
- 229910021424 microcrystalline silicon Inorganic materials 0.000 claims description 206
- 238000002425 crystallisation Methods 0.000 claims description 125
- 230000008025 crystallization Effects 0.000 claims description 125
- 238000012546 transfer Methods 0.000 claims description 82
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 42
- 238000005268 plasma chemical vapour deposition Methods 0.000 claims description 35
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 claims description 31
- 238000005259 measurement Methods 0.000 claims description 27
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims description 26
- 238000001069 Raman spectroscopy Methods 0.000 claims description 9
- 230000000630 rising effect Effects 0.000 claims description 7
- 238000009826 distribution Methods 0.000 claims description 3
- 230000005855 radiation Effects 0.000 claims description 2
- 229910021417 amorphous silicon Inorganic materials 0.000 description 40
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 15
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 15
- 238000005229 chemical vapour deposition Methods 0.000 description 10
- 238000010248 power generation Methods 0.000 description 10
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 9
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 8
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 238000009529 body temperature measurement Methods 0.000 description 6
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 6
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 5
- 239000000470 constituent Substances 0.000 description 4
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 3
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 description 3
- ZOXJGFHDIHLPTG-UHFFFAOYSA-N Boron Chemical compound [B] ZOXJGFHDIHLPTG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N Phosphorus Chemical compound [P] OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052796 boron Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 2
- 229910052698 phosphorus Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011574 phosphorus Substances 0.000 description 2
- 230000003595 spectral effect Effects 0.000 description 2
- 238000010792 warming Methods 0.000 description 2
- 238000005033 Fourier transform infrared spectroscopy Methods 0.000 description 1
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LEVVHYCKPQWKOP-UHFFFAOYSA-N [Si].[Ge] Chemical compound [Si].[Ge] LEVVHYCKPQWKOP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000005856 abnormality Effects 0.000 description 1
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 1
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 1
- 238000012864 cross contamination Methods 0.000 description 1
- 229910021419 crystalline silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 1
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 1
- 239000002803 fossil fuel Substances 0.000 description 1
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 1
- 238000004050 hot filament vapor deposition Methods 0.000 description 1
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 1
- 238000007689 inspection Methods 0.000 description 1
- 239000012528 membrane Substances 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 238000012544 monitoring process Methods 0.000 description 1
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 1
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 1
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 1
- 230000001737 promoting effect Effects 0.000 description 1
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 1
- 238000005096 rolling process Methods 0.000 description 1
- 238000004611 spectroscopical analysis Methods 0.000 description 1
- 238000001228 spectrum Methods 0.000 description 1
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- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L31/00—Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof
- H01L31/04—Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof adapted as photovoltaic [PV] conversion devices
- H01L31/06—Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof adapted as photovoltaic [PV] conversion devices characterised by at least one potential-jump barrier or surface barrier
- H01L31/075—Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof adapted as photovoltaic [PV] conversion devices characterised by at least one potential-jump barrier or surface barrier the potential barriers being only of the PIN type
- H01L31/076—Multiple junction or tandem solar cells
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C16/00—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
- C23C16/22—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the deposition of inorganic material, other than metallic material
- C23C16/24—Deposition of silicon only
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C16/00—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
- C23C16/44—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating
- C23C16/52—Controlling or regulating the coating process
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- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L31/00—Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof
- H01L31/04—Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof adapted as photovoltaic [PV] conversion devices
- H01L31/042—PV modules or arrays of single PV cells
- H01L31/0445—PV modules or arrays of single PV cells including thin film solar cells, e.g. single thin film a-Si, CIS or CdTe solar cells
- H01L31/046—PV modules composed of a plurality of thin film solar cells deposited on the same substrate
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- H—ELECTRICITY
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- H01L31/00—Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof
- H01L31/18—Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment of these devices or of parts thereof
- H01L31/1804—Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment of these devices or of parts thereof comprising only elements of Group IV of the Periodic System
- H01L31/1812—Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment of these devices or of parts thereof comprising only elements of Group IV of the Periodic System including only AIVBIV alloys, e.g. SiGe
- H01L31/1816—Special manufacturing methods for microcrystalline layers, e.g. uc-SiGe, uc-SiC
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- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/02—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
- H01L21/02104—Forming layers
- H01L21/02365—Forming inorganic semiconducting materials on a substrate
- H01L21/02518—Deposited layers
- H01L21/02521—Materials
- H01L21/02524—Group 14 semiconducting materials
- H01L21/02532—Silicon, silicon germanium, germanium
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- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/02—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
- H01L21/02104—Forming layers
- H01L21/02365—Forming inorganic semiconducting materials on a substrate
- H01L21/02518—Deposited layers
- H01L21/02587—Structure
- H01L21/0259—Microstructure
- H01L21/02595—Microstructure polycrystalline
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- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
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- H01L21/02—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
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- Chemical & Material Sciences (AREA)
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Description
本発明は、絶縁性基板上に作製した微結晶シリコン層を含む薄膜シリコン太陽電池の製造方法および製造装置に関する。
太陽光発電は、化石燃料による火力発電の代替エネルギーとして期待されており、太陽光発電システムの生産量は年々増加している。このために、シリコン基板を原材料に用いるバルク型太陽電池ではシリコンウエハが不足するという事態が発生し、シリコン基板の価格高騰により製造コストの増大が懸念されている。このため、シリコン基板の供給量に製造コストが左右されない薄膜シリコン太陽電池が注目されている。
薄膜シリコン太陽電池の一例として、ガラス基板上に複数の発電層を積層したタンデム型薄膜シリコン太陽電池がある。アモルファスシリコンを発電層に用いたセルを光入射側に作製し、この上に、微結晶シリコンを発電層に用いたセルを作製した2層タンデム型薄膜シリコン太陽電池の場合、短波長域に分光感度を有するアモルファスシリコンセルと長波長域に分光感度を有する微結晶シリコンセルを積層することで、幅広い波長域において分光感度を有する高効率な薄膜シリコン太陽電池を実現できる。
また、アモルファスシリコンセルと微結晶シリコンセルとの間に中間層として微結晶シリコン酸化膜を挿入した2層タンデム型薄膜シリコン太陽電池も提唱されている(特許文献1参照)。この構造は、アモルファスシリコンセルで吸収しきれなかった入射光を微結晶シリコン酸化膜により再度アモルファスシリコンセル側に反射させることでアモルファスシリコンセルの高効率化を図ることができる。
通常、アモルファスシリコンセルおよび微結晶シリコンセルは製膜条件が大きく異なるために、それぞれ異なるプラズマCVD(Chemical Vapor Deposition:化学気相成長)装置で形成される。また、アモルファスシリコンセルおよび微結晶シリコンセルのP/I/N型の各層は、クロスコンタミネーションによるセル特性の劣化を抑制するために、プラズマCVD装置の異なる製膜室にて形成される。また、CVD装置の各製膜室間における基板の搬送は、大気暴露によるシリコン表面の酸化を防止するため真空中で行われる。
微結晶シリコンセルでは、発電層となるI型(Intrinsic:真性)微結晶シリコン層の結晶化率(膜の結晶成分とアモルファス成分の比)がセル特性に大きな影響を与えることが知られている。このため、微結晶シリコン層を形成するプラズマCVD装置では、通常のCVD装置で行なわれる膜厚や導電率の管理に加えて結晶化率を管理する必要がある。
従来、微結晶シリコン膜の結晶化率の管理は、ガラス基板上に微結晶シリコン膜を形成したサンプルを作製し、結晶化率評価装置にサンプルを移して結晶化率を測定・管理していた(例えば、特開2004−335824号公報参照)。しかし、上述の方法では、結晶化率評価の際に製品の処理を一時的に停止してサンプルを作製する必要があるため、製造工程のスループット低下が問題となっていた。
また、2層タンデム型薄膜シリコン太陽電池を作成する場合、微結晶シリコンセルのP型微結晶シリコン膜の製膜はアモルファスシリコンセルのN型微結晶シリコン膜上に製膜が行なわれるため、アモルファスシリコンセルのN型微結晶シリコン膜の結晶化率が変動した場合、この上に製膜するP型微結晶シリコン膜の結晶化率が変化するという問題点がある。
例えば、アモルファスシリコンセルのN型微結晶シリコン膜の結晶化率が高くなった場合には、N型微結晶シリコン膜表面に形成された多量の結晶が核となり、この上に製膜するP型微結晶シリコン膜の結晶成長が促進されることでP型微結晶シリコン膜の結晶化率が高くなる。この結果、引き続き製膜される微結晶シリコンセルの発電層であるI型微結晶シリコン層の結晶化率が通常よりも高くなり、最終的に2層タンデム型薄膜シリコン太陽電池のセル特性が劣化し、製品の歩留まりが低下するという問題点があった。
また、特開平4−354326号公報では、ロール・ツー・ロール法で作製される薄膜シリコン太陽電池において、P/I/N層の各製膜室内に赤外線ビームを照射し、フーリエ変換赤外吸収分光法により膜中の結合水素をモニターする方法が開示されている。しかし、この方法では、長尺基板の進行方向の膜特性は連続的に取得できるものの、長尺基板の短辺方向の膜特性を評価できないため、製膜中にプラズマに分布が生じ、短辺方向に膜特性の異常が発生した場合に検知できないという問題がある。
更に、微結晶シリコン膜の結晶化率は、微結晶シリコン製膜時の基板温度によって変化することが知られている。図10は、I型微結晶シリコン層の結晶化率の基板温度依存性を示した図である。図10に示すように、製膜時の基板温度に依存してI型微結晶シリコン層の結晶化率が変化することがわかる。このため、通常は、製膜室内のステージヒータ上にガラス基板を設置し、製膜ガスを導入した状態で基板をステージヒータの温度にまで昇温させ、基板温度が安定した状態で製膜を開始する。これにより、処理毎の基板温度のばらつきを抑制して微結晶シリコン膜の結晶化率の安定化を図っている。この場合、基板昇温前の基板温度にバラつきが生じたとしても基板を所望の温度にまで確実に昇温できるように基板昇温時間を長く設定しており、このことがスループットの低下を引き起こしていた。
本発明は、上記に鑑みてなされたものであって、製造スループット及び歩留まりを向上させた薄膜シリコン太陽電池の製造方法および製造装置を得ることを目的とする。
上述した課題を解決し、目的を達成するために、本発明は、基板の上にCVDによって製膜された下地膜となる微結晶シリコン成分を含む膜の結晶化率を測定する測定工程と、前記下地膜の結晶化率と当該下地膜の上に製膜する条件と当該条件のもと当該下地膜の上にCVDにより製膜された微結晶シリコン成分を含む膜の結晶化率との予め求めておいた関係に基づいて、前記測定工程で測定された結晶化率と前記下地膜の上に製膜する微結晶シリコン成分を含む膜の所望の結晶化率とに基づいて製膜条件を決定する工程と、前記下地膜が製膜された第1の製膜室とは別の製膜室であって、第1の製膜室から前記基板を真空搬送することが可能な第2の製膜室において、決定された前記製膜条件のもと、当該下地膜の上に微結晶シリコン成分を含む膜をCVDにより製膜する工程とを含むことを特徴とする。
また、本発明は、前記製膜する工程の前に、前記下地膜が製膜された前記基板の温度を測定する工程と、測定された前記基板の温度に基づいて、前記製膜する工程の前の前記基板の前記第2の製膜室における昇温時間を決定する工程と、前記製膜する工程の前に、前記第2の製膜室において前記基板を前記昇温時間で昇温する工程とをさらに含むことを特徴とする。
本発明によれば、薄膜シリコン太陽電池製造のスループットを向上させ、かつ歩留まりを向上させるという効果を奏する。
以下に、本発明にかかる薄膜シリコン太陽電池の製造方法および製造装置の実施の形態を図面に基づいて詳細に説明する。なお、この実施の形態によりこの発明が限定されるものではない。
実施の形態1.
図1は、本発明の実施の形態1にかかる薄膜シリコン太陽電池の製造方法および製造装置で製造するアモルファスシリコンと微結晶シリコンを発電層に用いた2層タンデム型薄膜シリコン太陽電池の断面構造を示す。
図1は、本発明の実施の形態1にかかる薄膜シリコン太陽電池の製造方法および製造装置で製造するアモルファスシリコンと微結晶シリコンを発電層に用いた2層タンデム型薄膜シリコン太陽電池の断面構造を示す。
ガラス基板1上には、透明導電膜2が形成され、この透明導電膜2の表面には、入射光を効率的に散乱させるための凹凸形状(図示せず)が形成されている。この上に、P型アモルファスシリコン膜3、I型アモルファスシリコン膜4、N型微結晶シリコン膜5から成るアモルファスシリコンセル6が形成されており、このアモルファスシリコンセル6上に、P型微結晶シリコン膜7、I型微結晶シリコン膜8、N型微結晶シリコン膜9から成る微結晶シリコンセル10が形成されている。微結晶シリコンセル10上には、光閉じ込め層となる第2の透明導電膜11および金属電極膜12が形成されている。
図2は、本発明の実施の形態1に係る薄膜シリコン太陽電池の製造方法により2層タンデム型薄膜シリコン太陽電池を製造する手順を説明するフローチャートである。
ステップS1では、製品基板であるガラス基板1を用意し、ガラス基板1を洗浄する。ステップS2ではガラス基板1に透明導電膜2を製膜する。ここで得られる透明導電膜2は、下部電極層を構成する。ステップS3では、レーザースクライブにより、透明導電膜2をセル状にパターニングする。
ステップS4、S5、S6では、それぞれボロン(B)をドープしたP型アモルファスシリコン膜3、ノンドープのI型アモルファスシリコン膜4、リン(P)をドープしたN型微結晶シリコン膜5を順次製膜し、アモルファスシリコンセル6を形成する。ここで、アモルファスシリコンセル6のN層としてN型微結晶シリコン膜5を製膜するのは、アモルファスシリコンセル6と微結晶シリコンセル10の接合性を高めるためである。
ステップS7、S8、S9では、それぞれリン(P)をドープしたP型微結晶シリコン膜7、ノンドープのI型微結晶シリコン膜8、ボロン(B)をドープしたN型微結晶シリコン膜9を順次製膜し微結晶シリコンセル10を形成する。
ステップS10では、レーザースクライブにより、積層されたアモルファスシリコンセル6および微結晶シリコンセル10をセル状にパターニングする。
ステップS11では、第2の透明導電膜11を製膜する。ここで得られる第2の透明導電膜11は、光閉じ込め層を構成する。ステップS12では、金属電極膜12を製膜する。ここで得られる金属電極膜12は、上部電極層を構成する。
ステップS13では、レーザースクライブにより、積層されたアモルファスシリコンセル6、微結晶シリコンセル10、第2の透明導電膜11および金属電極膜12をセル状にパターニングする。
以上の製造工程によって、隣接するセル間で下部電極層と上部電極層とが直列に接続された構造を形成する。その後、基板洗浄(ステップS14)、太陽電池特性検査(ステップS15)を経て、実装工程へ移行する。
図3は、本実施の形態に係る微結晶シリコンセル製膜用のプラズマCVD装置100の概略構成を示すブロック図である。プラズマCVD装置100において、図2のステップS7、S8、S9が実行される。本実施の形態で使用するプラズマCVD装置100は、マルチチャンバ方式を採用するプラズマCVD装置である。本プラズマCVD装置は、ロードロック室20、搬送室30および三つの製膜室A、B、Cを備える。ロードロック室20および製膜室A、B、Cは、搬送室30の周囲に設けられている。
製膜室Aは、P型微結晶シリコン膜7の製膜のための製膜室である。製膜室Bは、I型微結晶シリコン膜8の製膜のための製膜室である。製膜室Cは、N型微結晶シリコン膜9の製膜のための製膜室である。製膜室A、B、Cは、それぞれゲートバルブを介して搬送室に接続されている。
搬送室30は、ロードロック室20、製膜室A、B、Cの間で基板を搬送するためのスペースである。搬送室30には、真空中で動作可能な搬送ロボット(図示せず)と製品基板上の微結晶シリコン膜の結晶化率を測定するための結晶化率測定手段40が設けられている。
搬送ロボットは、搬送室30とロードロック室20、製膜室A、B、Cとの間で製品基板を搬送する。結晶化率測定手段40は、ラマン分光法を用いた顕微レーザーラマン分光装置を用いることができ、結晶化率測定手段40で測定した結晶化率測定結果は、各製膜室の製膜条件を制御する製膜条件制御手段50に送られる。ロードロック室20は、搬送室30への製品基板の搬入および取り出しのためのスペースである。ロードロック室20は、ゲートバルブ60を介して搬送室30に接続されている。
図4は、本実施の形態に係るプラズマCVD装置100における製品基板の搬送手順を説明するフロー図である。ここでは、図2に示す手順とともに、製品基板の搬送手順を説明する。
透明導電膜2が製膜され(図2、ステップS2)、レーザースクライブ(ステップS3)、アモルファスシリコンセル6の形成工程(ステップS4〜S6)を経た製品基板は、ロードロック室20内に設置される(図4、ステップS21)。ロードロック室20内に製品基板が設置されると、ロードロック室20内を真空排気する。
ロードロック室20を真空排気した後、ロードロック室20と搬送室30間のゲートバルブ60が開かれる。ロードロック室20内の製品基板は、搬送室30内の搬送ロボットのアームに積載され、ロードロック室20から搬送室30を経て、製膜室Aに真空搬送される。この際に、搬送室30に設けられた結晶化率測定手段40により、製品基板の最表面に形成されたアモルファスシリコンセル6のN型微結晶シリコン膜5の結晶化率が測定される(ステップS22)。この結晶化率の測定結果は、製膜条件制御手段50に送られる(ステップS41)。
製膜条件制御手段50は、ステップS42において、製品基板のP型微結晶シリコン膜7の製膜条件を決定し、この製膜条件のもとP型微結晶シリコン膜7の製膜がプラズマCVDにより行なわれる(ステップS23)(図2、ステップS7)。P型微結晶シリコン膜7の製膜条件は、結晶化率測定手段40によるアモルファスシリコンセル6のN型微結晶シリコン膜5の結晶化率測定の結果に応じて制御される。
例えば、アモルファスシリコンセル6のN型微結晶シリコン膜5の結晶化率が通常よりも低いことが検知された場合は、この上に製膜するP型微結晶シリコン膜7の結晶化率が低下することが予想される。この場合、製膜条件制御手段50は、通常よりも結晶化率が高くなる製膜条件を選択することにより、製品基板に製膜されるP型微結晶シリコン膜7の結晶化率をほぼ一定に保つことが可能となる。
アモルファスシリコンセル6のN型微結晶シリコン膜5の結晶化率測定結果を基にして調整されるP型微結晶シリコン膜7の製膜パラメータとして、SiH4流量、H2流量、製膜圧力および基板-電極間距離などがある。
P型微結晶シリコン膜7が形成された製品基板は、搬送室30内の搬送ロボットのアームに積載され、製膜室Aから搬送室30を経て製膜室Bに真空搬送される。この際に、搬送室30に設けられた結晶化率測定手段40により、製品基板の最表面に形成された微結晶シリコンセル10のP型微結晶シリコン膜7の結晶化率が測定される(ステップS24)。この結晶化率の測定結果は、製膜条件制御手段50に送られる(ステップS43)。
製膜条件制御手段50は、ステップS44において、製品基板のI型微結晶シリコン膜8の製膜条件を決定し、この製膜条件のもとI型微結晶シリコン膜8の製膜がプラズマCVDにより行なわれる(ステップS25)(図2、ステップS8)。I型微結晶シリコン膜8の製膜条件は、結晶化率測定手段40による微結晶シリコンセル10のP型微結晶シリコン膜7の結晶化率測定の結果に応じて制御される。
例えば、微結晶シリコンセル10のP型微結晶シリコン膜7の結晶化率が通常より低いことが検知された場合は、この上に製膜するI型微結晶シリコン膜8の結晶化率が低下することが予想される。この場合、製膜条件制御手段50は、通常よりも結晶化率が高くなる製膜条件を選択することにより、製品基板に製膜されるI型微結晶シリコン膜8の結晶化率をほぼ一定に保つことが可能となる。
微結晶シリコンセル10のP型微結晶シリコン膜7の結晶化率測定結果を基にして調整されるI型微結晶シリコン膜8の製膜パラメータとして、SiH4流量、H2流量、製膜圧力および基板-電極間距離などがある。
製膜条件制御手段50により決定された製膜条件によりI型微結晶シリコン膜8が形成された製品基板は、搬送室30内の搬送ロボットのアームに積載され、製膜室Bから搬送室30を経て、製膜室Cに真空搬送される。この際に、搬送室30に設けられた結晶化率測定手段40により、製品基板の最表面に形成された微結晶シリコンセル10のI型微結晶シリコン膜8の結晶化率が測定される(ステップS26)。この結晶化率の測定結果は、製膜条件制御手段50に送られる(ステップS45)。
製膜条件制御手段50は、ステップS46において、製品基板のN型微結晶シリコン膜9の製膜条件を決定し、この製膜条件のもとN型微結晶シリコン膜9の製膜がプラズマCVDにより行なわれる(ステップS27)(図2、ステップS9)。N型微結晶シリコン膜9の製膜条件は、結晶化率測定手段40による微結晶シリコンセル10のI型微結晶シリコン膜8の結晶化率測定の結果に応じて制御される。
例えば、微結晶シリコンセル10のI型微結晶シリコン膜8の結晶化率が通常より低いことが検知された場合は、この上に製膜するN型微結晶シリコン膜9の結晶化率が低下することが予想される。この場合、製膜条件制御手段50は、通常よりも結晶化率が高くなる製膜条件を選択することにより、製品基板に製膜されるN型微結晶シリコン膜9の結晶化率をほぼ一定に保つことが可能となる。
微結晶シリコンセル10のI型微結晶シリコン膜8の結晶化率測定結果を基にして調整されるN型微結晶シリコン膜9の製膜パラメータとして、SiH4流量、H2流量、製膜圧力および基板-電極間距離などがある。
製膜条件制御手段50により決定された製膜条件によりN型微結晶シリコン膜9が形成された製品基板は、搬送室30内の搬送ロボットのアームに積載され、製膜室Cから搬送室30を経て(ステップS28)、ロードロック室20へ真空搬送される(ステップS29)。製品基板がロードロック室20に設置されると、搬送室30との間のゲートバルブ60が閉じ、ロードロック室20内を大気開放する。このようにして微結晶シリコンセル10が形成された製品基板は、ロードロック室20から取り出され、図2のステップS10以降の手順へ移行する。
このように、プラズマCVD装置100内において、新たに微結晶シリコン膜を形成する直前に、その製膜の下地となる微結晶シリコン膜の結晶化率を結晶化率測定手段40が測定する。そして、測定結果である下地膜の結晶化率に応じて、その上に製膜を行なう微結晶シリコン膜の結晶化率が一定となるように製膜条件制御手段50が製膜条件を決定する。これにより、製膜を行なう微結晶シリコン膜の結晶化率を一定に保つことが可能となる。
さらに、上記プラズマCVDの装置構成により、下地膜および製膜後の微結晶シリコン膜の結晶化率を測定する際に、製品基板をCVD装置から取り出す必要が無いため、製造スループットの向上が図れる。
ここで、下地となる微結晶シリコン膜の結晶化率測定結果に応じて、その上に製膜を行なう微結晶シリコン膜の結晶化率が一定となるよう製膜条件を決定する方法の一例について説明する。
図5は、微結晶シリコン製膜時のSiH4流量をパラメータとして、下地の微結晶シリコン層の結晶化率と、この下地膜上にプラズマCVDにより製膜した微結晶シリコン層の結晶化率の関係を模式的に示した図である。結晶化率の測定には顕微ラマン分光測定装置を用い、アモルファスシリコンのラマンシフト・ピークであるIa:480cm-1と結晶シリコンのラマンシフト・ピークであるIc:520cm-1のピーク強度比(Ic/Ia)を結晶化率と定義した。
通常、下地膜の結晶化率はIc/Ia=3程度であり、この上に微結晶シリコン膜を標準条件(SiH4流量:5sccm(Standard Cubic Centimeter per Minute))で製膜した場合の結晶化率はIc/Ia=5程度となる。しかし、下地膜の結晶化率が低い場合、この上に微結晶シリコン膜を標準条件(SiH4流量:5sccm)で製膜すると結晶化率は低下する。このため、下地膜の結晶化率が通常よりも低いIc/Ia=2であった場合、SiH4流量を3sccmに減じた製膜条件を選択して微結晶シリコン膜を形成することで、製膜した微結晶シリコン膜の結晶化率を通常通り(Ic/Ia〜5)に保つことができる。
一方、下地膜の結晶化率が高い場合、この上に微結晶シリコン膜を標準条件(SiH4流量:5sccm)で製膜すると結晶化率は増加する。このため、下地膜の結晶化率が通常よりも高いIc/Ia=4であった場合、SiH4流量を7sccmに増加させた製膜条件を選択して微結晶シリコン膜を形成することで、製膜した微結晶シリコン膜の結晶化率を通常通り(Ic/Ia〜5)に保つことができる。
以上説明したように、図5の関係を予めもとめた上で、製膜の下地となる微結晶シリコン層の結晶化率の測定結果に基づき、その上に製膜する微結晶シリコン膜の製膜条件を決定することで、製膜する微結晶シリコン膜の結晶化率を一定に保つことができる。言い換えると、製膜する微結晶シリコン膜に所望の結晶化率を与えるための製膜条件を決定することができる。これにより、薄膜シリコン太陽電池の製造の歩留まりを向上させることができる。
なお、微結晶シリコン製膜時の結晶化率を制御する製膜パラメータとしてはSiH4流量に限らず、製膜圧力、RF電力、H2流量、基板-電極間距離などがあり、これらの製膜パラメータそれぞれを、またはこれらを複数組み合わせて制御しても構わない。
微結晶シリコン膜の結晶化率測定においては、製品基板が搬送室30の搬送ロボットのアーム上に積載された状態で、搬送ロボットを移動させながら結晶化率の測定を行なうことで、結晶化率の基板面内分布を測定することができる。
上記実施の形態においては、P型、I型、N型微結晶シリコン膜それぞれの製膜前に下地膜の結晶化率を測定する場合について説明したが、必ずしも全ての微結晶シリコン膜の製膜前に結晶化率測定を行なう必要はない。少なくとも、微結晶シリコンセルの特性に大きな影響を及ぼすI型微結晶シリコン膜8の製膜前に行なうことが望ましい。
また上記実施の形態においては、微結晶シリコンセル10の製造方法を例に説明したが、これに限定されるものではない。例えば、微結晶シリコン酸化膜セル、微結晶シリコンカーバイドセル、微結晶シリコンゲルマニュウムセルなど、微結晶シリコン成分を含む膜をプラズマCVD法により形成する場合においても、上記実施の形態と同様な製造方法により同様の効果を得ることができる。
本実施の形態においては、図1に示した薄膜シリコン太陽電池の製造方法を例に説明したが、図6に示したアモルファスシリコンセル上に中間層として微結晶シリコン酸化膜を形成したタンデム型薄膜シリコン太陽電池などのセル構造でも同様の効果を得ることができる。
図6の2層タンデム型薄膜シリコン太陽電池においては、アモルファスシリコンセル6と微結晶シリコンセル10との間に中間層として微結晶シリコン酸化膜13が挿入されている。この構造は、アモルファスシリコンセル6で吸収しきれなかった入射光を微結晶シリコン酸化膜13により再度アモルファスシリコンセル6側に反射させることでアモルファスシリコンセル6の高効率化を図っている。
本実施の形態においては、結晶化率測定手段40を搬送室30に設置した場合について述べたが、ロードロック室20に設置しても良い。この場合、ロードロック室20を真空引きや大気開放する際に、並行して結晶化率を測定することができるため、薄膜シリコン太陽電池の製造スループットを向上させることができる。
実施の形態2.
本発明の実施の形態2にかかる薄膜シリコン太陽電池の製造方法および製造装置で製造するアモルファスシリコンと微結晶シリコンを発電層に用いた2層タンデム型薄膜シリコン太陽電池の断面構造も図1と同様である。また、本実施の形態に係る薄膜シリコン太陽電池の製造方法により2層タンデム型薄膜シリコン太陽電池を製造する手順を説明するフローチャートも図2と同様である。
本発明の実施の形態2にかかる薄膜シリコン太陽電池の製造方法および製造装置で製造するアモルファスシリコンと微結晶シリコンを発電層に用いた2層タンデム型薄膜シリコン太陽電池の断面構造も図1と同様である。また、本実施の形態に係る薄膜シリコン太陽電池の製造方法により2層タンデム型薄膜シリコン太陽電池を製造する手順を説明するフローチャートも図2と同様である。
図7は、本実施の形態に係る微結晶シリコンセル製膜用のプラズマCVD装置200の概略構成を示すブロック図である。プラズマCVD装置200において、図2のステップS7、S8、S9が実行される。本実施の形態で使用するプラズマCVD装置200は、マルチチャンバ方式を採用するプラズマCVD装置である。本プラズマCVD装置は、ロードロック室20、搬送室30および三つの製膜室A、B、Cを備える。ロードロック室20および製膜室A、B、Cは、搬送室30の周囲に設けられている。
製膜室Aは、P型微結晶シリコン膜7の製膜のための製膜室である。製膜室Bは、I型微結晶シリコン膜8の製膜のための製膜室である。製膜室Cは、N型微結晶シリコン膜9の製膜のための製膜室である。製膜室A、B、Cは、それぞれゲートバルブを介して搬送室に接続されている。
搬送室30は、ロードロック室20、製膜室A、B、Cの間で基板を搬送するためのスペースである。搬送室30には、真空中で動作可能な搬送ロボット(図示せず)と製品基板上の微結晶シリコン膜の結晶化率を測定するための結晶化率測定手段40および製品基板の基板温度を測定するための基板温度測定手段41が設けられている。基板温度測定手段41は搬送室30の搬送ロボットに設けられていてもよい。
搬送ロボットは、搬送室30とロードロック室20、製膜室A、B、Cとの間で製品基板を搬送する。結晶化率測定手段40は、ラマン分光法を用いた顕微レーザーラマン分光装置を用いることができ、基板温度測定手段41は、熱電対による温度測定手段を用いることができる。結晶化率測定手段40および基板温度測定手段41で測定した結晶化率測定結果および温度測定結果は、各製膜室の製膜条件および基板昇温時間を制御する製膜条件および基板昇温時間制御手段51に送られる。ロードロック室20は、搬送室30への製品基板の搬入および取り出しのためのスペースである。ロードロック室20は、ゲートバルブ60を介して搬送室30に接続されている。
図8は、本実施の形態に係るプラズマCVD装置200における製品基板の搬送手順を説明するフロー図である。以下、図2に示す手順とともに、製品基板の搬送手順を説明する。
透明導電膜2が製膜され(図2、ステップS2)、レーザースクライブ(ステップS3)、アモルファスシリコンセル6の形成工程(ステップS4〜S6)を経た製品基板は、ロードロック室20内に設置される(図8、ステップS51)。ロードロック室20内に製品基板が設置されると、ロードロック室20内を真空排気する。
ロードロック室20を真空排気した後、ロードロック室20と搬送室30間のゲートバルブ60が開かれる。ロードロック室20内の製品基板は、搬送室30内の搬送ロボットのアームに積載され、ロードロック室20から搬送室30を経て、製膜室Aに真空搬送される。この際に、搬送室30に設けられた結晶化率測定手段40により、製品基板の最表面に形成されたアモルファスシリコンセル6のN型微結晶シリコン膜5の結晶化率が測定され、さらに、搬送室30の搬送ロボットに設けられた基板温度測定手段41により基板温度が測定される(ステップS52)。この結晶化率と基板温度の測定結果は、製膜条件および基板昇温時間制御手段51に送られる(ステップS61)。
製膜条件および基板昇温時間制御手段51は、ステップS62において、P型微結晶シリコン膜7の製膜前に行なわれる基板昇温時間およびP型微結晶シリコン膜7の製膜条件を決定し、この基板昇温時間の間、基板を加熱した後にこの製膜条件のもとP型微結晶シリコン膜7の製膜がプラズマCVDにより行なわれる(ステップS53)(図2、ステップS7)。P型微結晶シリコン膜7の製膜条件は実施の形態1と同様な方法で決定され、P型微結晶シリコン膜7製膜前の基板昇温時間は、基板温度測定手段41による製膜室Aに搬送される直前の基板温度測定の結果に応じて制御される。
例えば、製膜室Aに搬送される直前の基板温度が通常よりも高いことが検知された場合は、P型微結晶シリコン膜7製膜前の基板昇温は、通常の昇温時間よりも短時間で所定の温度に達することが予想される。この場合、製膜条件および基板昇温時間制御手段51は、通常よりも基板昇温時間を短く設定することにより、P型微結晶シリコン膜7製膜前の基板昇温時間を短縮できスループットの向上を図ることが可能となる。
一方、製膜室Aに搬送される直前の基板温度が通常よりも低いことが検知された場合は、P型微結晶シリコン膜7製膜前の基板昇温は、通常の昇温時間では基板が十分に昇温されないことが予想される。この場合、製膜条件および基板昇温時間制御手段51は、通常よりも基板昇温時間を長く設定することにより、P型微結晶シリコン膜7製膜前の基板温度を所望の温度に昇温することができ、P型微結晶シリコン膜7の結晶化率のばらつきを抑制することが可能となる。
P型微結晶シリコン膜7が形成された製品基板は、搬送室30内の搬送ロボットのアームに積載され、製膜室Aから搬送室30を経て製膜室Bに真空搬送される。この際に、搬送室30に設けられた結晶化率測定手段40により、製品基板の最表面に形成された微結晶シリコンセル10のP型微結晶シリコン膜7の結晶化率が測定され、さらに、搬送室30の搬送ロボットに設けられた基板温度測定手段41により基板温度が測定される(ステップS54)。この結晶化率と基板温度の測定結果は、製膜条件および基板昇温時間制御手段51に送られる(ステップS63)。
製膜条件および基板昇温時間制御手段51は、ステップS64において、I型微結晶シリコン膜8の製膜前に行なわれる基板昇温時間およびI型微結晶シリコン膜8の製膜条件を決定する。この基板昇温時間の間、基板は加熱され、その後にこの製膜条件のもとI型微結晶シリコン膜8の製膜がプラズマCVDにより行なわれる(ステップS55)(図2、ステップS8)。I型微結晶シリコン膜8の製膜条件は実施の形態1と同様な方法で決定され、I型微結晶シリコン膜8製膜前の基板昇温時間は、基板温度測定手段41による製膜室Bに搬送される直前の基板温度測定の結果に応じて制御される。
例えば、製膜室Bに搬送される直前の基板温度が通常よりも高いことが検知された場合は、I型微結晶シリコン膜8製膜前の基板昇温は、通常の昇温時間よりも短時間で所定の温度に達することが予想される。この場合、製膜条件および基板昇温時間制御手段51は、通常よりも基板昇温時間を短く設定することにより、I型微結晶シリコン膜8製膜前の基板昇温時間を短縮できスループットの向上を図ることが可能となる。
一方、製膜室Bに搬送される直前の基板温度が通常よりも低いことが検知された場合は、I型微結晶シリコン膜8製膜前の基板昇温は、通常の昇温時間では基板が十分に昇温されないことが予想される。この場合、製膜条件および基板昇温時間制御手段51は、通常よりも基板昇温時間を長く設定することにより、I型微結晶シリコン膜8製膜前の基板温度を所望の温度に昇温することができ、I型微結晶シリコン膜8の結晶化率のばらつきを抑制することが可能となる。
製膜条件および基板昇温時間制御手段51が決定した製膜条件によりI型微結晶シリコン膜8が形成された製品基板は、搬送室30内の搬送ロボットのアームに積載され、製膜室Bから搬送室30を経て製膜室Cに真空搬送される。この際に、搬送室30に設けられた結晶化率測定手段40により、製品基板の最表面に形成された微結晶シリコンセル10のI型微結晶シリコン膜8の結晶化率が測定され、さらに、搬送室30の搬送ロボットに設けられた基板温度測定手段41により、基板温度が測定される(ステップS56)。この結晶化率と基板温度の測定結果は、製膜条件および基板昇温時間制御手段51に送られる(ステップS65)。
製膜条件および基板昇温時間制御手段51は、ステップS66において、N型微結晶シリコン膜9の製膜前に行なわれる基板昇温時間およびN型微結晶シリコン膜9の製膜条件を決定する。この基板昇温時間の間、基板は加熱され、その後にこの製膜条件のもとN型微結晶シリコン膜9の製膜がプラズマCVDにより行なわれる(ステップS57)(図2、ステップS9)。N型微結晶シリコン膜9の製膜条件は実施の形態1と同様な方法で決定され、N型微結晶シリコン膜9製膜前の基板昇温時間は、基板温度測定手段41による製膜室Cに搬送される直前の基板温度測定の結果に応じて制御される。
例えば、製膜室Cに搬送される直前の基板温度が通常よりも高いことが検知された場合は、N型微結晶シリコン膜9製膜前の基板昇温は、通常の昇温時間よりも短時間で所定の温度に達することが予想される。この場合、製膜条件および基板昇温時間制御手段51は、通常よりも基板昇温時間を短く設定することにより、N型微結晶シリコン膜9製膜前の基板昇温時間を短縮できスループットの向上を図ることが可能となる。
一方、製膜室Cに搬送される直前の基板温度が通常よりも低いことが検知された場合は、N型微結晶シリコン膜9製膜前の基板昇温は、通常の昇温時間では基板が十分に昇温されないことが予想される。この場合、製膜条件および基板昇温時間制御手段51は、通常よりも基板昇温時間を長く設定することにより、N型微結晶シリコン膜9製膜前の基板温度を所望の温度に昇温することができ、N型微結晶シリコン膜9の結晶化率のばらつきを抑制することが可能となる。
製膜条件および基板昇温時間制御手段51が決定した製膜条件によりN型微結晶シリコン膜9が形成された製品基板は、搬送室30内の搬送ロボットのアームに積載され、製膜室Cから搬送室30を経て(ステップS58)、ロードロック室20へ真空搬送される(ステップS59)。製品基板がロードロック室20に設置されると、搬送室30との間のゲートバルブ60が閉じ、ロードロック室20内を大気開放する。このようにして微結晶シリコンセル10が形成された製品基板は、ロードロック室20から取り出され、図2のステップS10以降の手順へ移行する。
このように、プラズマCVD装置200内において、新たに微結晶シリコン膜を形成する前に、その製膜の下地となる微結晶シリコン膜の結晶化率を結晶化率測定手段40が測定すると共に、基板の温度を基板温度測定手段41が測定する。また、測定結果である基板温度に応じて、その上に別の微結晶シリコン膜を形成する前に行なう基板昇温ステップにおける基板昇温時間を決定すると共に、測定結果である下地膜の結晶化率に応じて、その上に製膜を行なう別の微結晶シリコン膜の結晶化率が一定となるように製膜条件を決定する。これにより、基板の昇温が必要最低限に抑えられると共に、製膜を行う微結晶シリコン膜の結晶化率を一定に保つことが可能となる。
ここで、製膜前の基板温度測定結果に応じて、その上に微結晶シリコンの製膜を行なう前の基板昇温時間を決定する方法の一例について説明する。
図9は、基板昇温時間とステージヒータ上に積載した基板温度との関係を模式的に示した図である。ステージヒータ上に積載した基板の温度は、時間と共に上昇してステージヒータ温度で飽和する。図9に示されるように、製膜室導入前の基板温度(初期基板温度Ts)がステージヒータ温度より低いほど、基板温度がステージヒータ温度に到達するまでの基板昇温時間Tが長くなることがわかる。通常は、想定される最も低い初期基板温度Ts(例えばTs1)を基に長い基板昇温時間T(ここではT1)を設定していた。
しかし上記実施の形態に示した基板昇温ステップの方法を用いることで、製膜室導入前の初期基板温度Tsを測定して初期基板温度が(Ts1より高い)Ts2であった場合は基板昇温時間をT2へと短縮でき、初期基板温度が(Ts2より高い)Ts3であった場合は基板昇温時間をT3へとさらに短縮することができる。これにより、製膜時の基板温度を一定に保ちつつ基板昇温時間を短縮することができるので、スループットの向上を図ることができる。
なお、製膜前の基板温度測定手段41としては、搬送ロボットに熱電対など接触式の温度計を設置することにより実現可能である。これにより簡便に基板温度を測定することができる。また、この他に、放射型温度計などの非接触式の基板温度測定手段41を用いても良い。この場合、非接触式の温度測定手段を搬送室に固定し、製品基板が搬送室30の搬送ロボットのアーム上に積載された状態で、搬送ロボットを移動させながら基板温度の測定を行なうことで、基板温度の基板面内分布を測定することができる。また、これらの基板温度測定手段41は搬送室30に限ることなく、ロードロック室20に設けることも可能である。
また、上記実施の形態1および2では、微結晶シリコン膜を形成するCVD装置としてはプラズマCVD装置を例に説明したが、CVDの方式としてはこれに限定されず、ホットワイヤーCVD等の他の方式のCVDでも同様の効果を得ることができる。
さらに、本願発明は上記実施の形態に限定されるものではなく、実施段階ではその要旨を逸脱しない範囲で種々に変形することが可能である。また、上記実施の形態には種々の段階の発明が含まれており、開示される複数の構成要件における適宜な組み合わせにより種々の発明が抽出されうる。例えば、実施の形態に示される全構成要件からいくつかの構成要件が削除されても、発明が解決しようとする課題の欄で述べた課題が解決でき、発明の効果の欄で述べられている効果が得られる場合には、この構成要件が削除された構成が発明として抽出されうる。更に、異なる実施の形態にわたる構成要素を適宜組み合わせてもよい。
以上のように、本発明にかかる薄膜シリコン太陽電池の製造方法および製造装置は、微結晶シリコン成分を含む層をプラズマCVD法により形成する場合に有用であり、特に、微結晶シリコン膜の結晶化率の制御による製造スループット及び歩留まりの向上に適している。
1 ガラス基板
2 透明導電膜
3 P型アモルファスシリコン膜
4 I型アモルファスシリコン膜
5 N型微結晶シリコン膜
6 アモルファスシリコンセル
7 P型微結晶シリコン膜
8 I型微結晶シリコン膜
9 N型微結晶シリコン膜
10 微結晶シリコンセル
11 第2の透明導電膜(光閉じ込め層)
12 金属電極膜
13 微結晶シリコン酸化膜(中間層)
20 ロードロック室
30 搬送室
40 結晶化率測定手段
41 基板温度測定手段
50 製膜条件制御手段
51 製膜条件および基板昇温時間制御手段
60 ゲートバルブ
100、200 プラズマCVD装置
S1〜S15、S21〜S29、S41〜S46、S51〜S59、S61〜S66 ステップ
2 透明導電膜
3 P型アモルファスシリコン膜
4 I型アモルファスシリコン膜
5 N型微結晶シリコン膜
6 アモルファスシリコンセル
7 P型微結晶シリコン膜
8 I型微結晶シリコン膜
9 N型微結晶シリコン膜
10 微結晶シリコンセル
11 第2の透明導電膜(光閉じ込め層)
12 金属電極膜
13 微結晶シリコン酸化膜(中間層)
20 ロードロック室
30 搬送室
40 結晶化率測定手段
41 基板温度測定手段
50 製膜条件制御手段
51 製膜条件および基板昇温時間制御手段
60 ゲートバルブ
100、200 プラズマCVD装置
S1〜S15、S21〜S29、S41〜S46、S51〜S59、S61〜S66 ステップ
Claims (14)
- 基板の上にCVDによって製膜された下地膜となる微結晶シリコン成分を含む膜の結晶化率を測定する測定工程と、
前記下地膜の結晶化率と当該下地膜の上に製膜する条件と当該条件のもと当該下地膜の上にCVDにより製膜された微結晶シリコン成分を含む膜の結晶化率との予め求めておいた関係に基づいて、前記測定工程で測定された結晶化率と前記下地膜の上に製膜する微結晶シリコン成分を含む膜の所望の結晶化率とに基づいて製膜条件を決定する工程と、
前記下地膜が製膜された第1の製膜室とは別の製膜室であって、第1の製膜室から前記基板を真空搬送することが可能な第2の製膜室において、決定された前記製膜条件のもと、当該下地膜の上に微結晶シリコン成分を含む膜をCVDにより製膜する工程とを
含むことを特徴とする薄膜シリコン太陽電池の製造方法。 - 前記製膜する工程において製膜する膜は、I型微結晶シリコン膜である
ことを特徴とする請求項1に記載の薄膜シリコン太陽電池の製造方法。 - 前記測定は、顕微ラマン分光測定である
ことを特徴とする請求項1または2に記載の薄膜シリコン太陽電池の製造方法。 - 前記製膜条件は、SiH4流量、製膜圧力、RF電力、H2流量、若しくは基板-電極間距離、またはこれらを複数組み合わせたものである
ことを特徴とする請求項1、2または3に記載の薄膜シリコン太陽電池の製造方法。 - 前記製膜する工程の前に、前記下地膜が製膜された前記基板の温度を測定する工程と、
測定された前記基板の温度に基づいて、前記製膜する工程の前の前記基板の前記第2の製膜室における昇温時間を決定する工程と、
前記製膜する工程の前に、前記第2の製膜室において前記基板を前記昇温時間で昇温する工程と
をさらに含むことを特徴とする請求項1〜4のいずれか1つに記載の薄膜シリコン太陽電池の製造方法。 - 前記CVDはプラズマCVD法である
ことを特徴とする請求項1〜5のいずれか1つに記載の薄膜シリコン太陽電池の製造方法。 - 基板の上にCVDにより微結晶シリコン成分を含む膜を製膜する複数の製膜室と、
複数の前記製膜室の間で前記基板を真空搬送するための搬送室と、
大気圧からの真空排気が可能であり前記基板を外部から搬入及び外部へ搬出するためのロードロック室と、
前記搬送室または前記ロードロック室のいずれかに配置され、前記基板上に形成された微結晶シリコン成分を含む膜の結晶化率を測定する結晶化率測定手段と、
前記結晶化率測定手段によって測定された前記結晶化率に基づいて前記製膜室における製膜条件を制御する製膜条件制御手段と
を備えたことを特徴とする薄膜シリコン太陽電池の製造装置。 - 前記製膜条件制御手段によって製膜条件が制御される前記製膜室において、I型微結晶シリコン膜が製膜される
ことを特徴とする請求項7に記載の薄膜シリコン太陽電池の製造装置。 - 前記結晶化率測定手段は、顕微ラマン分光測定装置である
ことを特徴とする請求項7または8に記載の薄膜シリコン太陽電池の製造装置。 - 前記製膜条件制御手段によって制御される製膜条件は、SiH4流量、製膜圧力、RF電力、H2流量、若しくは基板-電極間距離、またはこれらを複数組み合わせたものである
ことを特徴とする請求項7、8または9に記載の薄膜シリコン太陽電池の製造装置。 - 前記結晶化率測定手段による結晶化率の測定を、前記基板を搬送ロボットによって移動させながら行なうことで前記基板面内の結晶化率の分布を測定する
ことを特徴とする請求項7〜10のいずれか1つに記載の薄膜シリコン太陽電池の製造装置。 - 前記搬送室または前記ロードロック室のいずれかに配置され、前記基板の温度を測定する基板温度測定手段と、
前記基板温度測定手段によって測定された前記基板の温度に基づいて前記製膜室における製膜前の前記基板の昇温時間を制御する基板昇温時間制御手段と
をさらに備えたことを特徴とする請求項7〜11のいずれか1つに記載の薄膜シリコン太陽電池の製造装置。 - 前記基板温度測定手段は、放射温度計、もしくは前記基板を搬送する搬送ロボットに設けられた接触式温度計である
ことを特徴とする請求項7〜12のいずれか1つに記載の薄膜シリコン太陽電池の製造装置。 - 前記製膜室はプラズマCVD装置である
ことを特徴とする請求項7〜13のいずれか1つに記載の薄膜シリコン太陽電池の製造装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2012509273A JP5220239B2 (ja) | 2010-04-09 | 2010-11-02 | 薄膜シリコン太陽電池の製造方法および製造装置 |
Applications Claiming Priority (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2010090730 | 2010-04-09 | ||
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JP2012509273A JP5220239B2 (ja) | 2010-04-09 | 2010-11-02 | 薄膜シリコン太陽電池の製造方法および製造装置 |
PCT/JP2010/069518 WO2011125251A1 (ja) | 2010-04-09 | 2010-11-02 | 薄膜シリコン太陽電池の製造方法および製造装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP5220239B2 true JP5220239B2 (ja) | 2013-06-26 |
JPWO2011125251A1 JPWO2011125251A1 (ja) | 2013-07-08 |
Family
ID=44762226
Family Applications (1)
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---|---|---|---|
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Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5220239B2 (ja) |
WO (1) | WO2011125251A1 (ja) |
Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2003073515A1 (fr) * | 2002-02-28 | 2003-09-04 | National Institute Of Advanced Industrial Science And Technology | Cellule solaire a couche mince et procede permettant de produire cette cellule |
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JP2006032800A (ja) * | 2004-07-20 | 2006-02-02 | Mitsubishi Heavy Ind Ltd | プラズマ処理装置、太陽電池及び太陽電池の製造方法 |
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-
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Patent Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
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JPWO2011125251A1 (ja) | 2013-07-08 |
WO2011125251A1 (ja) | 2011-10-13 |
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