JP5218961B2 - 人工オパール膜生成装置 - Google Patents
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Description
1つは原料である単分散微粒子を溶液中に分散させたサスペンションに基材を漬し、図1に示すよう移流集積現象(非特許文献1)によって基材上に堆積させるコーティング技術である。サスペンション(6)に垂直に配置された基材(1)表面は表面張力により液面から上方に分散媒(4)が濡れ拡がる。一般に分散媒として微粒子(3)を良好に分散できる純水、エタノールなどが利用されている。分散媒(4)は蒸発するため微粒子(3)が堆積し人工オパール(2)を形成する。この分散媒の蒸発を駆動力としてキャピラリー(5)において基材上方に向かう分散媒(4)の移動が生じる。この分散媒(4)の流れに微粒子(3)が運ばれて基材上の人工オパールの形成部に移動する。この移流集積の条件を最適化することで微粒子(3)が規則配列した人工オパール(2)を基材上にコーティングすることができる。
この技術には2種類の技法が報告されている。1つは一定速度で引き上げるディッピング法(図2、非特許文献2)の概念を示す。ビーカー(7)の中にサスペンション(6)を注入し、その中に基材(1)を浸す。基材(1)をサスペンション(6)から一定速度で引き上げる。この基材の引き上げには振動を抑えた特殊な引き上げ装置が使用されている。一方、もう1つは基材をサスペンションに漬けその状態で溶媒を蒸発させる垂直堆積法(図3、非特許文献3)である。図2と同様に基材(1)をサスペンション(6)に浸した後、温度を制御した恒温槽において分散媒を蒸発させる(8)。この方法では基材の引き上げのための引き上げ装置なども必要としない。いずれも図1に示す移流集積現象によって人工オパール薄膜を形成する。これらの技法は比較的、単純で簡便であるもののストライプ状の微粒子堆積パターンの発生や人工オパール薄膜の膜厚が不均一になるなど、自己組織化や散逸構造に起因する様々な現象の併発により、均質・均一な人工オパール薄膜を大面積するのには多くの課題を有している。
このオイル被覆法はバッチ式で被覆オイル層を透過してサスペンション(6)中の水分が蒸発することで基材上に人工オパール薄膜(2)が形成される。オイル被覆法では図4に示す過程で人工オパール薄膜(2)が形成されると報告されている(非特許文献6)。図4は断面図で基材(1)上にサスペンション(6)から人工オパール(2)が形成されている様子を示している。サスペンション(6)は微粒子(3)が不規則な状態(3a)である未結晶化領域(6a)、サスペンション中で微粒子が規則配列した状態(3b)である半結晶化領域(6b)、そして、微粒子(3)が規則配列して近接した状態(3c)である結晶化領域(2)にそれぞれ対応している。この結晶化現象は被覆オイル(9)の中で進行する。サスペンション(6)の分散媒は被覆しているオイル(9)の層を通って蒸発するため、分散媒の蒸発は半結晶化領域(6b)より未結晶化領域(6a)で生じる。移流集積による微粒子(3)の堆積は抑制される。逆に人工オパール(2)の形成は蒸発に起因するサスペンション中の微粒子密度の上昇とエントロピー効果による系全体のギブス自由エネルギーの低下(アルダー相転移)によるサスペンション(6)中のブラウン運動している微粒子(3)の規則配列化によるコロイド結晶を形成、さらなる微粒子密度上昇による最密充填化の2段階の過程を経ている。これは図1に説明した移流集積現象とは異なる現象である。
非特許文献6ではバッチ式の方法で図5に示すようにシリコンウェファー基材上に形成した研究報告がなされており、基材全体が同じ構造色であることがわかる。このように移流集積法と異なるオイル被覆製膜法により高品質な人工オパール薄膜が形成できる。人工オパールの品質の一つとして構造色の均質性が知られている。この均質性は反射分光スペクトルのブラッグ回折波長を解析することで評価できる。図5は回折波長が場所によって変化しない均一波長であった。しかし、バッチ式のオイル被覆法の問題点として膜厚が場所によってムラが生じる。図6に図5の人工オパールの膜厚の断面プロファイルを示す。グラフから明白のように基材端に局所的な膜厚の盛り上がっている部分が存在し、均一膜厚の製膜ができない。これはバッチ式のオイル被覆による製膜法では基材上に堆積する粒子量が場所によって変化するためである。人工オパール薄膜を工業的に量産するためにはこの課題を解決する必要があった。
特に発明2により、環境条件に左右される結晶化速度に対応して、サスペンション膜の結晶化域への供給がなされることとなり、環境条件に左右されずに大面積でありながら所望の均一厚さの人工オパール膜を生成することができた。
この両速度が、V1=V2である場合は、図示するように、未結晶化領域(F1)、半結晶化領域(F2)、結晶化領域(F3)のそれぞれの境界である、結晶化界面(F1−2)及び固相化界面(F23)が、前記スクレーパ(20a)からの距離が所定の長さになって現れることとなる。つまり、この原理によれば、前記V1=V2を維持すれば、未結晶化領域(F1)のサスペンション(S2)が連続して半結晶化領域(F2)を生成することが出来、さらにこの半結晶化域は均一膜厚の人工オパール薄膜(2)を形成する結晶化領域(F3)へと変化する。
なお、レール(14)(14)の上面を水平面として以下説明する。
安定した接地部に載置される基盤(15)の上面には、レール(14)(14)とステップモータ(16)及び門型フレーム(18)固定してある。
(10)はステージであって、底面が水平なオイル槽(11)を上部に有し、その下面に固定した脚(12)(12)が、前記レール(14)(14)の上面にて摺動自在にして支えられている。
このステージ(10)の下面には、水平な軸心を有し、前記ステップモータ(16)にて回転駆動されるネジ軸(17)に螺合する貫通雌ネジ部(13)を固定してある。
このようにして、前記ステップモータ(16)の回転により、前記ステージ(10)を水平に前後移動するようにしてある。
前記アリ溝嵌合構造(23)にはこれを構成する両部材に一方に保持され、他方にその下端が押しつけられている調整ネジ(24)の設けられていて、この調整ネジの上下移動に伴い、スクレーパフレーム(22)を基盤(15)に対して上下移動させ、前記スクレーパ(20)の上下位置を設定できるようにしてある。
前記スクレーパ(20)は、その両端が軸受け(22a)を介してスクレーパフレーム(22)の下端に水平に保持されていている、その軸心は、前記ネジ軸(17)の軸心に対して直角となるようにしてある。
このカバー(32)により、前記スクレーパ(20)を通過するまでは、サスペンション(S2)の分散媒の蒸発が抑制され未結晶化状態が維持される。
(31)は、前記基材(S1)をオイル槽(11)に設置する際にその水平を維持するためのスペーサ基台である。
図13を参照して、前記ステージ(10)の自動制御システムを説明する。
この制御原理は、図7の微粒子が結晶化することで入射した光の特定波長がブラッグ回折によって選択的に反射されることを利用している。この特定波長の光強度をモニタリングすることで結晶化状態を測定する。ファイバー式分光スペクトル装置(124)でモニタリングしその強度が設定値を超過するとその設定値を下回るまでステージ(10)を移動することで実現される。このオイル被覆フィードバック制御により人工オパール薄膜の連続製膜が可能となる。
前記プローブ(21)には、発光源(122)からの白色光を下方に照射し、その反射光を受けるセンサーが設けたあり、その反射光を分光スペクトル装置(124)にて分析して、反射光の周波数解析データを制御プログラムに送り込むようにしてある。
このようにして、前記プローブ(21)の下方にあるサスペンション(S2)が未結晶状態から半結晶状態に変化したときに生じる反射光の波長変化を制御プログラムに認識させるようにしてある。制御プログラムにて結晶化状態であることを認識すると、前記ステップモータ(16)の制御器に所定の速度で移動する制御データを送り、ステップモータ(16)を回転させて、半結晶状態のサスペンション(S2)が前記プローブ(21)の下方に至るまで駆動する。
前記プローブ(21)の下方に半結晶状態のサスペンション(S2)が至るとこれを感知して、前記制御データとして、モータ(16)の停止を指示する信号をモータの制御器に送るようにしてある。
なお、このようにして得られた駆動・停止情報及びそれらの時間情報に基づきステージの平均移動速度を求めることができる。
この平均移動速度は、その系のオパール化速度とみなすことができる。
手動による場合は、顕微鏡観察のもとで固相化界面(F2−3)の位置変化を観察して、結晶成長速度(V1)を計測する。
その後、シリコンオイル(S3)を取り除いた後、結晶化したPS粒子を基材に固定するために粒子間にポリジメチルシリコーン(PDMS)エラストマーを注入した。PDMSにはダウコーニング社のSylgarad 184を使用した。その結果、PS粒子が規則配列した隙間にPDMSエラストマーが充填されたコンポジット材料薄膜が形成された。
フイルム状の長尺基材(S1F)である基材ロール(R1)から、その基材表面にオパール被膜が形成されたものを巻き取った完成ロール(R2)に至る間は、案内ロール(r10)から(r17)により案内されて一定の経路を(R1)からR2に向かって移動するようにしてある。
前記案内ロールの内(r12)と(r17)は、互いに同じ周速度になるように速度制御され、基材(S1F)の送り速度を、この両ロールの回転速度で制御するようにしてある。
また、その他の案内ロール(r10)(r11)(r13)から(r16)は、一定の張力が基材(S1F)に維持されるように作用するテンションロールとしてある。
このように構成した基材走行系の途中に以下のような装置を設置して構成してある。
前記案内ロール(r10)(r11)間には、紫外線照射装置(F10)が設置されていて、前記長尺基材(S1F)の表面を親水処理するようにしてある。
また、この区間は、サスペンションの分散媒の蒸発を抑制する必要があるので、密封性を高めるようにしてある。
このようにして、基材の表面にサスペンションを塗布し、その厚さを前記スクレーパ(F22)にて調整するようにしてある。
当該スクレーパ(F22)の高さ調整は図示しないが、従来周知の駆動手段によりチャンバー外から設定可能にしてある。
この加熱装置(F30)の終端には、オイルを当該系から除去するためのドレン(F27)が設けられている。
このドレン(F27)により基材周辺からオイルを除去すると共に、除去したオイルはタンク(F25)に一旦貯められ、ポンプ(F26)により、再度前記オイル槽(F24)に送り込まれるようにしてある。
そして、前記ポンプ(F26)の吐出量調整により、前記オイル槽(F24)内のオイル液面を一定に保つようにしてある。
このようにして基材表面に人工オパール膜を形成した完成品は、R2に巻き取られることになる。
前記図18に示す装置において、糸状基材(S1f)の周囲全体に渡ってサスペンションを塗布するために、支えロール(F23)に変わり、図19にしめす円形溝ロール(F23a)(F23b)を用いることした。
この溝ロール(F23a)(F23b)は糸状基材(S1f)を上下から円形の空間を持って挟み込む半円溝が外周に形成されたもので、回転軸周りに自由に回転するように設置されている。
このようにすることで、ノズル(F21)から供給されたサスペンション(D2f)は、移動に連れ、基材の全周に回り込ませられる。
また、前記スクレーパ(F22)に代えて、図20に示すダイス型スクレーパ(F22D)を使用した。
このようにして、サスペンション(D2f)が全周に渡ってほぼ均等な厚さとなるようにしてある。
その他は前記図18に示す構造と同様だが、各案内ロールは、基材との接触性を考慮して、図19のような溝ロールとするのが好ましい。
弾性変形用のラバーシートとしてフッ素ゴムシート(タイガースポリマー株式会社製,FTB8010, 膜厚0.5 mm)を基材(S1)として使用した。なお、フルオロシリコンゴムシート、ウレタンゴムシートにも適用できる。
図20に作製プロセスを示す。まず、ゴムシート(S1)の表面を洗浄し、オイル等の付着物を除去する。その後、プラズマ処理あるいは紫外線照射処理などで親水性の官能基を形成させ、表面の親水化を行う。ゴムシート(S1)を実施例1に示す製膜装置の所定の位置に設置し、ゴムシート上面に必要なサスペンション(S2)を滴下しシート全面を濡らす。本実施例ではポリサイエンス社製ポリスチレン単分散粒子(粒子径202nm、CV値<8%)を使用した。ポリスチレン単分散粒子は水中に分散し乳白色のサスペンション状態にある。
この状態でオイル被覆定速制御によるコロイド結晶化を行った。スクレーパ(20)でコロイド結晶を形成した後、シリコンオイルを取り除いた。さらにコロイド結晶を固定するために粒子間にポリジメチルシリコーン(PDMS)オリゴマーを注入した。PDMSとしてダウコーニング社のSylgard 184を使用した。その結果、架橋されたシリコンオリゴマーはPS粒子が規則配列し、その隙間をPDMSエラストマーで充填されたコンポジット材料、すなわちソフトオパール膜(2b)を形成した。さらに、ソフトオパールを膨潤とPDMSエラストマーの固定を繰り返すことで粒子間の間隔を拡大する操作を繰り返した。このようにして、ゴムシート本体(S1)上に発色層(2c)を有するフォトニックラバーシートを形成することが出来た。
図22は80mm×35mmの領域に赤色の発色層を有するフォトニックラバーシートを示す。右上をピンセットで引き上げることで湾曲部は緑色の構造色が観察されている。このシートをダンベル状金型(JISK6251用7号)で打抜き引っ張り変形の試験片を作製した。図23は試験片を引き延ばすことで構造色が可逆的に変化することを確認した。右上の初期状態では試験片は全体が赤色で600nm付近にブラッグ回折ピークが存在した。これをマイクロステージで20%引き延ばした。フォトニックラバーシートの引き延ばされた領域では構造色が赤色から緑色へと変色した。分光スペクトルの回折ピークも550nm以下まで低波長側へシフトしておりその反射強度も低下してブロードなピークとなった。引っ張り応力を取り除いてフォトニックラバーシートを元の状態に戻すと構造色も初期の赤色に回復した。このように本実施例では弾性変形によって構造色が繰り返し変色するフォトニックラバーシートを作製出来ることを示した。
(10) ステージ
(11)(F24) オイル槽
(12) 脚
(122) 発光源
(124) 分光スペクトル装置
(13) 貫通雌ネジ部
(14) レール
(15) 基盤
(16) ステップモータ
(17) ネジ軸
(18) 門型フレーム
(2) 人工オパール薄膜・結晶領域
(20)(20a)(F22) スクレーパ
(21) プローブ
(22) スクレーパフレーム
(22a) 軸受け
(23) アリ溝嵌合構造
(24) 調整ネジ
(2b) ソフトオパール膜
(2c) 発色層
(3) 微粒子
(31) スペーサ基台
(32) カバー
(32) 蒸発抑制カバー
(3a) 不規則な状態
(3b) 規則配列した状態
(3c) 規則配列して近接した状態
(6)(S2)(D2f) サスペンション
(6a) 未結晶領域
(6b) 半結晶領域
(6b) 半結晶領域
(9)(S3) 被覆オイル
(F1−2) 結晶化界面
(F1) 未結晶領域
(F2−3) 固相化界面
(F2) 半結晶化領域
(F20) オイル被覆装置
(F21) サスペンション供給ノズル
(F22D) ダイス型スクレーパ
(F23) 支えロール
(F23a)(F23b) 円形溝ロール
(F25) タンク
(F26) ポンプ
(F27) ドレン
(F3) 結晶化領域
(F30) 分散媒蒸発用の加熱装置
(F40) 粒子固定化装置
(F41) バインダー樹脂供給ノズル
(F50) 第二加熱装置
(R1) 基材ロール
(R2) 完成ロール
(S1F) 長尺基材
(S1f) 糸状基材
(T) 膜厚
(V1) 結晶成長速度
(V2) 基材移動速度
(r10)〜(r17) 案内ロール
Claims (3)
- ステージ中に、微粒子が分散されたサスペンション膜が塗布された基材を配置し、前記サスペンションの分散媒の蒸発にて前記微粒子を結晶化することにより人工オパール膜を生成する装置であって、
前記サスペンション膜の膜厚調整用スクレーパと、
これに対して一定の水平方向に移動可能なステージと、
前記スクレーパによる膜厚調整後のサスペンション膜の結晶の状態を検出する検出手段と、
前記ステージの水平移動を制御する制御手段と
を備え、
前記ステージの水平移動により、そのステージに取り付けた基材と、この基材上に塗布された未結晶化状態のサスペンション膜の膜厚を前記スクレーパにより規制するようにして配置するとともに、前記スクレーパを通過した後に前記サスペンションの分散媒の蒸発による結晶化が開始されるようにしてあり、
前記検出手段は、前記スクレーパ側に設けられており、
前記制御手段は、前記検出手段が半結晶化状態のサスペンション膜を検出すると、前記ステージの水平移動を開始し、前記検出手段が未結晶状態のサスペンション膜を検出すると、前記ステージの水平移動を停止するよう、前記ステージの水平移動を制御することを特徴とする、人工オパール膜生成装置。 - 連続した長尺基材を順次ステージ中に供給する供給手段と、前記長尺基材にサスペンションを供給してサスペンション膜を形成する手段と、人工オパール膜が生成された基材を前記ステージから順次取り出す取出手段とを有することを特徴とする、請求項1に記載の人工オパール膜生成装置。
- 請求項1または2のいずれかに記載の人工オパール膜生成装置を用いた人工オパール膜生成方法であって、前記基材をラバー材とし、前記サスペンションに含有される微粒子を、フォトニック結晶を構成する微粒子(フォトニック粒子)として、当該フォトニック粒子による人工オパール膜をラバー材の表面に形成することを特徴とする、人工オパール膜生成方法。
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