KR101463938B1 - 광결정 구조의 제조방법 및 제조장치 - Google Patents
광결정 구조의 제조방법 및 제조장치 Download PDFInfo
- Publication number
- KR101463938B1 KR101463938B1 KR1020130011328A KR20130011328A KR101463938B1 KR 101463938 B1 KR101463938 B1 KR 101463938B1 KR 1020130011328 A KR1020130011328 A KR 1020130011328A KR 20130011328 A KR20130011328 A KR 20130011328A KR 101463938 B1 KR101463938 B1 KR 101463938B1
- Authority
- KR
- South Korea
- Prior art keywords
- photoreactive
- particles
- fine particles
- photonic crystal
- channel
- Prior art date
Links
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 34
- 239000013078 crystal Substances 0.000 title claims description 17
- 239000004038 photonic crystal Substances 0.000 claims abstract description 91
- 239000000084 colloidal system Substances 0.000 claims abstract description 62
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims abstract description 54
- 239000010419 fine particle Substances 0.000 claims abstract description 47
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 33
- 239000002245 particle Substances 0.000 claims description 30
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 claims description 24
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 20
- 239000011859 microparticle Substances 0.000 claims description 15
- 230000002209 hydrophobic effect Effects 0.000 claims description 12
- 239000012528 membrane Substances 0.000 claims description 12
- 125000006850 spacer group Chemical group 0.000 claims description 11
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 claims description 8
- 239000004793 Polystyrene Substances 0.000 claims description 3
- 238000001035 drying Methods 0.000 claims description 3
- 229920003229 poly(methyl methacrylate) Polymers 0.000 claims description 3
- 239000004926 polymethyl methacrylate Substances 0.000 claims description 3
- 238000007789 sealing Methods 0.000 claims description 3
- 230000003111 delayed effect Effects 0.000 claims 2
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 16
- 230000001699 photocatalysis Effects 0.000 description 14
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 13
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 8
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 description 8
- 238000013461 design Methods 0.000 description 7
- 239000010432 diamond Substances 0.000 description 7
- 229910003460 diamond Inorganic materials 0.000 description 7
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000000463 material Substances 0.000 description 6
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 6
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 6
- 239000011022 opal Substances 0.000 description 5
- 230000008569 process Effects 0.000 description 5
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 5
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 5
- 238000002425 crystallisation Methods 0.000 description 4
- 230000008025 crystallization Effects 0.000 description 4
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 3
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 3
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 3
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N Zinc monoxide Chemical compound [Zn]=O XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 description 2
- 239000003086 colorant Substances 0.000 description 2
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 2
- 238000002474 experimental method Methods 0.000 description 2
- 239000011941 photocatalyst Substances 0.000 description 2
- 239000011148 porous material Substances 0.000 description 2
- 238000004062 sedimentation Methods 0.000 description 2
- JBRZTFJDHDCESZ-UHFFFAOYSA-N AsGa Chemical compound [As]#[Ga] JBRZTFJDHDCESZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000005653 Brownian motion process Effects 0.000 description 1
- 229910002601 GaN Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910001218 Gallium arsenide Inorganic materials 0.000 description 1
- JMASRVWKEDWRBT-UHFFFAOYSA-N Gallium nitride Chemical compound [Ga]#N JMASRVWKEDWRBT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000001015 X-ray lithography Methods 0.000 description 1
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 238000005537 brownian motion Methods 0.000 description 1
- 230000008859 change Effects 0.000 description 1
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 1
- 239000012141 concentrate Substances 0.000 description 1
- 230000008878 coupling Effects 0.000 description 1
- 238000010168 coupling process Methods 0.000 description 1
- 238000005859 coupling reaction Methods 0.000 description 1
- 239000008367 deionised water Substances 0.000 description 1
- 229910021641 deionized water Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 239000012530 fluid Substances 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- 238000003475 lamination Methods 0.000 description 1
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 230000000737 periodic effect Effects 0.000 description 1
- 229920002120 photoresistant polymer Polymers 0.000 description 1
- 238000011160 research Methods 0.000 description 1
- 239000010980 sapphire Substances 0.000 description 1
- 229910052594 sapphire Inorganic materials 0.000 description 1
- HBMJWWWQQXIZIP-UHFFFAOYSA-N silicon carbide Chemical compound [Si+]#[C-] HBMJWWWQQXIZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910010271 silicon carbide Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000012239 silicon dioxide Nutrition 0.000 description 1
- 238000001228 spectrum Methods 0.000 description 1
- 230000000007 visual effect Effects 0.000 description 1
- 239000002699 waste material Substances 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Chemical compound O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011787 zinc oxide Substances 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/02—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
- H01L21/027—Making masks on semiconductor bodies for further photolithographic processing not provided for in group H01L21/18 or H01L21/34
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
- B01J13/00—Colloid chemistry, e.g. the production of colloidal materials or their solutions, not otherwise provided for; Making microcapsules or microballoons
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
- B01J19/00—Chemical, physical or physico-chemical processes in general; Their relevant apparatus
- B01J19/18—Stationary reactors having moving elements inside
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B1/00—Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements
- G02B1/02—Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements made of crystals, e.g. rock-salt, semi-conductors
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Computer Hardware Design (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
- Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Dispersion Chemistry (AREA)
- Optical Integrated Circuits (AREA)
Abstract
Description
도 2는 본 발명에 따른 광결정 구조의 제조장치로서, 대상체를 설명하기 위한 도면이다.
도 3은 본 발명에 따른 광결정 구조의 제조방법을 설명하기 위한 도면이다.
도 4 및 도 5는 본 발명의 다른 실시예에 따른 광결정 구조의 제조장치 및 제조방법을 설명하기 위한 도면이다.
도 6 내지 도 9는 본 발명에 따른 광결정 구조의 제조방법에 의해 제조된 광결정 구조의 특성을 설명하기 위한 도면이다.
도 10은 본 발명의 또 다른 실시예에 따른 광결정 구조의 제조장치 및 제조방법을 설명하기 위한 도면이다.
도 11은 도 10의 광결정 구조의 제조장치 및 제조방법에 의해 제조된 광결정 구조의 특성을 설명하기 위한 도면이다.
111 : 채널 120 : 하부 기판
130 : 스페이서 200 : 회전기구
300 : 콜로이드 공급부 400 : 소수성 멤브레인
Claims (21)
- 광결정 구조를 제조하는 방법에 있어서,
상부 기판, 상기 상부 기판에 이격되게 적층되며 상기 상부 기판과 함께 적어도 일측에 개구부를 갖는 채널을 형성하는 하부 기판, 상기 상부 기판과 상기 하부 기판 사이의 측면을 밀봉하며 미세패턴이 형성된 스페이서, 및 상기 개구부를 덮도록 제공되는 소수성 멤브레인(hydrophobic membrane)을 포함하는 대상체를 제공하고, 상기 대상체 상에 200~300nm의 크기를 갖는 광반응 미립자를 포함하는 콜로이드 용액을 제공하는 단계;
상기 광반응 미립자를 결정 구조화하는 단계; 및
상기 광반응 미립자를 결정 구조화하는 동안 상기 대상체를 회전시키는 단계;를 포함하고,
상기 채널에 충진되는 상기 콜로이드 용액이 상기 개구부를 통해 대기에 노출됨에 따라 건조되면서 상기 광반응 미립자가 자기 조립(self assembly)되어 결정 구조화되되, 상기 광반응 미립자는 상기 대상체가 회전하는 동안 상기 광반응 미립자에 작용하는 원심력에 의해 상기 개구부 측으로 이동 가능하며,
상기 소수성 멤브레인에 의해 상기 콜로이드 용액의 건조가 지연 가능하고, 상기 콜로이드 용액은 상기 미세패턴을 통해 대기에 노출되며 건조 가능한 것을 특징으로 하는 광결정 구조의 제조방법. - 삭제
- 삭제
- 삭제
- 제1항에 있어서,
상기 미세패턴은 상기 광반응 미립자의 직경보다 작은 크기를 갖도록 제공되는 것을 특징으로 하는 광결정 구조의 제조방법. - 삭제
- 제1항에 있어서,
상기 광반응 미립자가 자기 조립되는 동안 상기 채널에 상기 콜로이드 용액을 추가로 공급하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 광결정 구조의 제조방법. - 제1항에 있어서,
상기 광반응 미립자를 결정 구조화하는 동안 상기 대상체의 회전 속도는 일정하게 유지되거나 선택적으로 가변되는 것을 특징으로 하는 광결정 구조의 제조방법. - 제1항에 있어서,
상기 대상체의 회전속도는 200~400RPM인 것을 특징으로 하는 광결정 구조의 제조방법. - 제1항에 있어서,
상기 광반응 미립자는 폴리스티렌(PS), 폴리메틸메타크릴레이트 및 실리카 미립자 중 적어도 어느 하나를 포함하는 것을 특징으로 하는 광결정 구조의 제조방법. - 삭제
- 제1항에 있어서,
상기 콜로이드 용액의 상기 광반응 미립자의 농도는 10~55 중량%인 것을 특징으로 하는 광결정 구조의 제조방법. - 광결정 구조를 제조하는 장치에 있어서,
상부 기판, 상기 상부 기판에 이격되게 적층되며 상기 상부 기판과 함께 적어도 일측에 개구부를 갖는 채널을 형성하는 하부 기판, 상기 상부 기판과 상기 하부 기판 사이의 측면을 밀봉하며 미세패턴이 형성된 스페이서, 및 상기 개구부를 덮도록 제공되는 소수성 멤브레인(hydrophobic membrane)을 포함하며, 200~300nm의 크기를 갖는 광반응 미립자를 포함하는 콜로이드 용액이 수용되는 대상체; 및
상기 대상체에서 상기 광반응 미립자가 결정 구조화되는 동안 상기 대상체를 회전시키는 회전기구;를 포함하고,
상기 채널에 충진되는 상기 콜로이드 용액이 상기 개구부를 통해 대기에 노출됨에 따라 건조되면서 상기 광반응 미립자가 자기 조립(self assembly)되어 결정 구조화되되, 상기 광반응 미립자는 상기 대상체가 회전하는 동안 상기 광반응 미립자에 작용하는 원심력에 의해 상기 개구부 측으로 이동 가능하며,
상기 소수성 멤브레인에 의해 상기 콜로이드 용액의 건조가 지연 가능하고, 상기 콜로이드 용액은 상기 미세패턴을 통해 대기에 노출되며 건조 가능한 것을 특징으로 하는 광결정 구조의 제조장치. - 삭제
- 삭제
- 삭제
- 제13항에 있어서,
상기 미세패턴은 상기 광반응 미립자의 직경보다 작은 크기를 갖도록 제공되는 것을 특징으로 하는 광결정 구조의 제조장치. - 제13항에 있어서,
상기 광반응 미립자가 자기 조립되는 동안 상기 채널에 상기 콜로이드 용액을 추가로 공급하는 콜로이드 공급부를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 광결정 구조의 제조장치. - 제18항에 있어서,
상기 콜로이드 공급부는 상기 회전기구가 회전함에 따른 원심력에 의해 상기 채널로 상기 콜로이드 용액을 공급하는 것을 특징으로 하는 광결정 구조의 제조장치. - 삭제
- 제13항에 있어서,
상기 회전기구의 회전 속도를 조절하는 속도조절부를 포함하고,
상기 광반응 미립자를 결정 구조화하는 동안 상기 대상체의 회전 속도는 상기 속도조절부에 의해 일정하게 유지되거나 선택적으로 가변되는 것을 특징으로 하는 광결정 구조의 제조장치.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1020130011328A KR101463938B1 (ko) | 2013-01-31 | 2013-01-31 | 광결정 구조의 제조방법 및 제조장치 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1020130011328A KR101463938B1 (ko) | 2013-01-31 | 2013-01-31 | 광결정 구조의 제조방법 및 제조장치 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
KR20140098538A KR20140098538A (ko) | 2014-08-08 |
KR101463938B1 true KR101463938B1 (ko) | 2014-11-26 |
Family
ID=51745311
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR1020130011328A KR101463938B1 (ko) | 2013-01-31 | 2013-01-31 | 광결정 구조의 제조방법 및 제조장치 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
KR (1) | KR101463938B1 (ko) |
Families Citing this family (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR101585645B1 (ko) * | 2014-10-06 | 2016-01-15 | 서강대학교산학협력단 | 대면적 광결정 구조의 제조방법 및 제조장치 |
KR101582318B1 (ko) * | 2014-10-10 | 2016-01-06 | 서강대학교산학협력단 | 광결정 구조의 제조방법 |
KR101791745B1 (ko) * | 2015-10-15 | 2017-11-20 | 서강대학교산학협력단 | 광결정체의 제조방법 및 이에 사용되는 장치 |
Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR20070003941A (ko) * | 2004-03-16 | 2007-01-05 | 쓰리엠 이노베이티브 프로퍼티즈 컴파니 | 자기 조립 3차원 광결정체 |
-
2013
- 2013-01-31 KR KR1020130011328A patent/KR101463938B1/ko active IP Right Grant
Patent Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR20070003941A (ko) * | 2004-03-16 | 2007-01-05 | 쓰리엠 이노베이티브 프로퍼티즈 컴파니 | 자기 조립 3차원 광결정체 |
Non-Patent Citations (2)
Title |
---|
Lab Chip, 2006, 6, 1171-1177 * |
Lab Chip, 2006, 6, 1171-1177* |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
KR20140098538A (ko) | 2014-08-08 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
Xia et al. | Nanostructures and functional materials fabricated by interferometric lithography | |
Yin et al. | Template-directed growth of (100)-oriented colloidal crystals | |
von Freymann et al. | Bottom-up assembly of photonic crystals | |
Wang et al. | Template-directed colloidal self-assembly–the route to ‘top-down’nanochemical engineering | |
Xia et al. | Photonic crystals | |
JP5380803B2 (ja) | 非平面上単粒子膜の製造方法、該単粒子膜エッチングマスクを用いた微細構造体の製造方法および該製造方法で得られた微細構造体。 | |
EP1682928B1 (en) | Large-scale colloidal crystals and macroporous polymers and method for producing | |
JP6553735B2 (ja) | ナノ構造材料の方法及び素子 | |
KR101463938B1 (ko) | 광결정 구조의 제조방법 및 제조장치 | |
US7153360B2 (en) | Template and methods for forming photonic crystals | |
JP2005234585A (ja) | コロイド自己組立光結晶のパターニング方法及びこれを利用した逆転されたオパール構造の3次元光結晶光導波路の製作方法 | |
Yadav et al. | Fabrication of 3D polymeric photonic arrays and related applications | |
Cui et al. | Low-temperature fabrication of single-crystal ZnO nanopillar photonic bandgapstructures | |
Li et al. | Heterogeneous self-assembly of a single type of nanoparticle modulated by skin formation | |
Ruda et al. | Nano-engineered tunable photonic crystals | |
KR101585645B1 (ko) | 대면적 광결정 구조의 제조방법 및 제조장치 | |
KR101582787B1 (ko) | 광결정 구조 및 그 제조방법 | |
Welling et al. | Highly Reflective and Transparent Shell-Index-Matched Colloidal Crystals of Core–Shell Particles for Stacked RGB Films | |
KR101582318B1 (ko) | 광결정 구조의 제조방법 | |
JP2003098367A (ja) | 周期的構造体及びその製造方法 | |
Lai et al. | Fabrication of two-and three-dimensional photonic crystals and photonic quasi-crystals by interference technique | |
JP2007033593A (ja) | 周期性構造物とその作製方法、および該周期性構造物を用いた光学素子 | |
KR20130135502A (ko) | 광결정 구조의 제조방법 | |
JP2007044598A (ja) | コロイド結晶、膜状微粒子構造体、膜状周期構造体、およびそれらの製造方法 | |
Meseguer et al. | Processing photonic colloidal crystals for technological applications |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A201 | Request for examination | ||
PA0109 | Patent application |
Patent event code: PA01091R01D Comment text: Patent Application Patent event date: 20130131 |
|
PA0201 | Request for examination | ||
E902 | Notification of reason for refusal | ||
PE0902 | Notice of grounds for rejection |
Comment text: Notification of reason for refusal Patent event date: 20140207 Patent event code: PE09021S01D |
|
PG1501 | Laying open of application | ||
E902 | Notification of reason for refusal | ||
PE0902 | Notice of grounds for rejection |
Comment text: Notification of reason for refusal Patent event date: 20141024 Patent event code: PE09021S01D |
|
E701 | Decision to grant or registration of patent right | ||
PE0701 | Decision of registration |
Patent event code: PE07011S01D Comment text: Decision to Grant Registration Patent event date: 20141113 |
|
PR0701 | Registration of establishment |
Comment text: Registration of Establishment Patent event date: 20141114 Patent event code: PR07011E01D |
|
PR1002 | Payment of registration fee |
Payment date: 20141117 End annual number: 3 Start annual number: 1 |
|
PG1601 | Publication of registration | ||
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20171023 Year of fee payment: 4 |
|
PR1001 | Payment of annual fee |
Payment date: 20171023 Start annual number: 4 End annual number: 4 |
|
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20181004 Year of fee payment: 5 |
|
PR1001 | Payment of annual fee |
Payment date: 20181004 Start annual number: 5 End annual number: 5 |
|
PC1903 | Unpaid annual fee |