JP2007033593A - 周期性構造物とその作製方法、および該周期性構造物を用いた光学素子 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】 ほぼ同一形状物質の周期構造の反転構造によりフォトニックバンドギャップを形成する箇所を持つフォトニック結晶は、基板4上に、反転構造領域をもつ箇所(空隙2)と反転構造内の空隙を埋めるように他の物質(充填物3)が存在する箇所の両方を備え、ほぼ同一形状物質の周期構造の反転構造によりフォトニックバンドギャップを形成する箇所を持つ領域(空隙2)を形成する工程(a)と、該工程(a)における周期構造の周期間隔よりも大きさの小さい微粒子を含むコロイド溶液を、滴下量を制御して特定の箇所に滴下し、前記コロイド溶液の溶媒を蒸発させることにより前記空隙内に微粒子の集合体(充填物3)を形成する工程(b)を有する。1は充填材料である。
【選択図】 図1
Description
請求項1に係る本発明の目的は、特定箇所にて光学特性が異なる周期性構造物の作製方法を提供することである。
請求項2に係る本発明の目的は、特定箇所にて光学特性が異なる周期性構造物の作製方法を提供することである。
請求項3に係る本発明の目的は、特定箇所にて光学特性が異なる周期性構造物の作製方法を提供することである。
請求項4に係る本発明の目的は、特定箇所にて光学特性が異り、信頼性の高い周期性構造物の作製方法を提供することである。
請求項5に係る本発明の目的は、特定箇所にて光学特性が異なる周期性構造物の簡易な作製方法を提供することである。
請求項6に係る本発明の目的は、特定箇所にて光学特性が異なる信頼性の高い周期性構造物の簡易な作製方法を提供することである。
請求項7に係る本発明の目的は、特定箇所にて光学特性が異なり、周期の精度の良い周期性構造物の作製方法を提供することである。
請求項8に係る本発明の目的は、特定箇所にて光学特性が異なる周期性構造物を提供することである。
請求項9に係る本発明の目的は、特定箇所にて光学特性が異なる光学素子を提供することである。
請求項1における周期性構造物の作製方法では、ほぼ同一形状物質からなる周期構造体の反転構造の特定箇所に、周期間隔よりも大きさの小さい微粒子を含むコロイド溶液を、滴下量を制御して滴下し、溶媒を蒸発させて空隙内に微粒子の集合体を形成する工程(b)を含む。そのため、特定箇所にて光学特性が異なる周期性構造物を精度良く作製できるという効果を奏する。
請求項2における周期性構造物の作製方法では、ほぼ同一形状物質周期構造体の反転構造の特定箇所に、周期間隔よりも大きさの小さい微粒子を含む液状樹脂を、滴下量を制御して滴下し、溶媒を蒸発させて空隙内に微粒子の集合体を形成する工程(b)を含む。そのため、特定箇所にて光学特性が異なる周期性構造物を精度良く作製できるという効果を奏する。
請求項3における周期性構造物の作製方法では、ほぼ同一形状物質周期構造体の反転構造の特定箇所に、反転構造を形成する材料とは材質が異なる液状樹脂を、滴下量を制御して滴下し、固化させ、周期性構造物内に空隙充填箇所を形成する工程(b)を含む。そのため、特定箇所にて光学特性が異なる周期性構造物を精度良く作製できるという効果を奏する。
請求項4における周期性構造物の作製方法では、請求項1および請求項2におけるフォトニック結晶による周期性構造物の作製方法において、工程(b)における反転構造内の空隙を埋める微粒子は、金属もしくは半導体を用いたこと特徴とする。そのため、特異な性質をもつフォトニック結晶を簡易に形成することができるという効果を奏する。
請求項5における周期性構造物の作製方法では、請求項1〜4に記載の周期性構造物の作製方法において、前記フォトニック結晶の反転構造形成箇所として樹脂を用いることを特徴とする。そのため、簡易に反転構造を作製できるという効果を奏する。
請求項6における周期性構造物の作製方法では、請求項1〜4に記載の周期性構造物の作製方法において、前記フォトニック結晶の反転構造形成箇所として半導体もしくは金属を用いることを特徴とする。そのため、信頼性の高い反転構造を作製できるという効果を奏する。
請求項7における周期性構造物の作製方法では、請求項1〜6に記載の周期性構造物の作製方法において、ほぼ同一形状物質の周期構造を作製する際に、シリカ、ポリスチレン、ポリメタクリル酸メチル、硫化亜鉛のいずれかの微粒子を用いたことを特徴とするため、精度の良い周期性構造物を作製できるという効果を奏する。
請求項8における周期性構造物では、請求項1〜7に記載の作製方法により作製された周期性構造物であるため、特定箇所にて光学特性が異なる周期性構造物を提供できるという効果を奏する。
請求項9における周期性構造物では、請求項8に記載の周期性構造物を用いた光学素子であるため、特定箇所にて光学特性が異なる性質をもつ新規な光学素子を提供できるという効果を奏する。
本実施例は、請求項1、4、5、7〜9に係る本発明を実施した例である。本実施例で作製した周期性構造物の模式図を図1に示す。
まず、直径400nm、粒度分布の標準偏差が3%以内のシリカ微粒子分散水溶液(0.5wt%、100ml)を用意した。石英基板7を、図2に示すように、石英基板7の面と水面がほぼ垂直になるように溶液に浸し、石英基板7の上部を固定した。数日程度そのまま放置し、溶液内の溶媒を乾燥させた。
本実施例は、請求項2、4、5、7〜9に係る本発明を実施した例である。本実施例で作製した周期性構造物の模式図を図1に示す。
まず、直径400nm、粒度分布の標準偏差が3%以内のシリカ微粒子分散水溶液(0.5wt%、100ml)を用意した。石英基板7を、図2に示すように、石英基板7の面と水面がほぼ垂直になるように溶液に浸し、石英基板7の上部を固定した。数日程度そのまま放置し、溶液内の溶媒を乾燥させた。
請求項3、4、5、7〜9に係る本発明を実施し、作製した周期性構造物の模式図を図3に示す。
まず、直径400nm、粒度分布の標準偏差が3%以内のシリカ微粒子分散水溶液(0.5wt%、100ml)を用意した。
請求項1、4、6〜9に係る本発明を実施し、作製した周期性構造物の模式図を図1に示す。図1では、空隙周期構造の周期間隔や層数、基板に加工された箇所の形状や大きさなどは実際に作製した構造物とは異なるが、簡単に模式的に示している。実際の層数は約10層である。
まず、シリコン基板4上に大きさ約500nmの周期をもつ球形空隙からなるシリコンの規則構造体を作製した。
2:直径約400nm(実施例1,2,3)もしくは500nm(実施例4)の空隙
3:空隙内の充填物
4:基板
5:コロイド液
6:微粒子からなる周期性構造物
7:石英基板
8:高粘度樹脂
Claims (9)
- ほぼ同一形状物質の周期構造の反転構造によりフォトニックバンドギャップを形成する箇所を持つフォトニック結晶による周期性構造物の作製方法において、
前記フォトニック結晶は反転構造領域をもつ箇所と反転構造内の空隙を埋めるように他の物質が存在する箇所の両方を備え、ほぼ同一形状物質の周期構造の反転構造によりフォトニックバンドギャップを形成する箇所を持つ領域を形成する工程(a)と、該工程(a)における周期構造の周期間隔よりも大きさの小さい微粒子を含むコロイド溶液を、滴下量を制御して特定の箇所に滴下し、前記コロイド溶液の溶媒を蒸発させることにより前記空隙内に微粒子の集合体を形成する工程(b)を有することを特徴とするフォトニック結晶による周期性構造物の作製方法。 - ほぼ同一形状物質の周期構造の反転構造によりフォトニックバンドギャップを形成する箇所を持つフォトニック結晶による周期性構造物の作製方法において、
前記フォトニック結晶は反転構造領域をもつ箇所と反転構造内の空隙を埋めるように他の物質が存在する箇所の両方を備え、ほぼ同一形状物質の周期構造の反転構造によりフォトニックバンドギャップを形成する箇所を持つ領域を形成する工程(a)と、該工程(a)における周期構造の周期間隔よりも大きさの小さい微粒子を含む液状樹脂を、滴下量を制御して特定の箇所に滴下し、前記液状樹脂を固化させることにより前記空隙内に微粒子の集合体を形成する工程(b)を有することを特徴とするフォトニック結晶による周期性構造物の作製方法。 - ほぼ同一形状物質の周期構造の反転構造によりフォトニックバンドギャップを形成する箇所を持つフォトニック結晶による周期性構造物の作製方法において、
前記フォトニック結晶は反転構造領域をもつ箇所と反転構造内の空隙を埋めるように他の物質が存在する箇所の両方を備え、ほぼ同一形状物質の周期構造の反転構造によりフォトニックバンドギャップを形成する箇所を持つ領域を形成する工程(a)と、該工程(a)における反転構造を形成する材料とは材質が異なる液状樹脂を、滴下量を制御して特定の箇所に滴下し、該液状樹脂を固化させることにより周期性構造物内に空隙充填箇所を形成する工程(b)を有することを特徴とするフォトニック結晶による周期性構造物の作製方法。 - 請求項1または請求項2に記載のフォトニック結晶による周期性構造物の作製方法において、
前記工程(b)における反転構造内の空隙を埋める微粒子は、金属もしくは半導体を用いたこと特徴とするフォトニック結晶による周期性構造物の作製方法。 - 請求項1〜4のいずれかに記載のフォトニック結晶による周期性構造物の作製方法において、
前記フォトニック結晶の反転構造形成箇所として樹脂を用いることを特徴とする周期性構造物の作製方法。 - 請求項1〜4のいずれか1項に記載のフォトニック結晶による周期性構造物の作製方法において、
前記フォトニック結晶の反転構造形成箇所として半導体もしくは金属を用いることを特徴とする周期性構造物の作製方法。 - 請求項1〜6のいずれか1項に記載のフォトニック結晶による周期性構造物の作製方法において、
ほぼ同一形状物質の周期構造を作製する際に、シリカ、ポリスチレン、ポリメタクリル酸メチル、硫化亜鉛のいずれかの微粒子を用いたことを特徴とする周期性構造物の作製方法。 - 請求項1〜7のいずれか1項に記載のフォトニック結晶による周期性構造物の作製方法により作製されたことを特徴とする周期性構造物。
- 請求項8に記載の周期性構造物を用いたことを特徴とする光学素子。
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