JP5218000B2 - Substrate storage and supply system - Google Patents
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Description
本発明は、多数のガラス基板等の基板を一時的に保管すると共に、基板をプロセス処理装置等の基板処理装置へ供給する基板保管供給システムに関する。 The present invention relates to a substrate storage and supply system for temporarily storing a large number of substrates such as glass substrates and supplying the substrates to a substrate processing apparatus such as a process processing apparatus.
クリーン搬送の分野において、多数の基板を一時的に保管したり、基板を基板処理装置へ供給したりする場合に、一般に、基板を保管可能な複数段の保管部を有した基板カセットが用いられている。また、特許文献1に示す基板保管供給システムのように、基板処理装置の運転中断時間の短縮化を踏まえて、基板処理装置のX軸方向の片側のステーションに基板カセットを支持する複数のカセット支持機構をY軸方向に沿って配設すること、換言すれば、複数の基板カセットを平面的にストックすることもよく行われている。
ところで、前述のように、基板処理装置のX軸方向の片側のステーションに複数の基板カセットを平面的にストックすると、基板保管供給システムの設置面積が増大して、工場内のスペースの有効利用を図ることが困難になるという問題がある。 By the way, as described above, when a plurality of substrate cassettes are stocked in a plane at one station in the X-axis direction of the substrate processing apparatus, the installation area of the substrate storage and supply system increases, and the space in the factory is effectively used. There is a problem that it is difficult to plan.
そこで、本発明は、前述の問題を解決することができる、新規な構成の基板保管供給システムを提供することを目的とする。 Therefore, an object of the present invention is to provide a substrate storage and supply system having a novel configuration that can solve the above-described problems.
本発明の特徴は、基板を保管可能な複数段の保管部を有した基板カセットを用いて、多数の基板を一時的に保管すると共に、基板を基板処理装置へ供給する基板保管供給システムにおいて、前記基板処理装置に対してX軸方向に離隔した離隔ステーションに配設され、前記基板カセットを昇降可能に間接的又は直接的に支持するカセット昇降支持機構と、前記カセット昇降支持機構側から前記基板カセットをX軸方向の一方側へ移動させるカセットX軸移動機構と、前記基板処理装置と前記離隔ステーションの間の中間ステーションに配設した支持フレームに昇降可能に設けられ、前記カセットX軸移動機構によって移動された前記基板カセットを受け取る第1カセットレシーバと、前記支持フレームに昇降可能に設けられ、前記基板カセットにおける複数段の前記保管部を下段側から所定の送出高さ位置に順次位置決めできるように構成され、前記第1カセットレシーバの相対的な下降により前記第1カセットレシーバ側から前記基板カセットを受け取る第2カセットレシーバと、前記所定の送出高さ位置に順次位置決めされた前記基板カセットの前記保管部に保管した基板をX軸方向の一方側へ送り出す基板送出機構と、前記第2カセットレシーバ側から空の前記基板カセットをX軸方向の他方側へ移動させる空カセットX軸移動機構と、前記離隔ステーションに配設され、前記空カセットX軸移動機構によって移動された空の前記基板カセットを支持する空カセット支持機構と、を具備したことを要旨とする。 A feature of the present invention is a substrate storage and supply system that temporarily stores a large number of substrates using a substrate cassette having a plurality of storage units capable of storing substrates, and supplies the substrates to a substrate processing apparatus. A cassette lifting / lowering support mechanism which is disposed at a separation station spaced apart in the X-axis direction with respect to the substrate processing apparatus and indirectly or directly supports the substrate cassette so as to be movable up and down; and the substrate from the cassette lifting / lowering support mechanism side. A cassette X-axis moving mechanism for moving the cassette to one side in the X-axis direction; and a cassette X-axis moving mechanism provided on a support frame disposed at an intermediate station between the substrate processing apparatus and the separation station. A first cassette receiver configured to receive the substrate cassette moved by the first and second cassette cassettes, and to be movable up and down on the support frame. The plurality of storage sections of the first cassette receiver can be sequentially positioned at a predetermined delivery height position from the lower stage side, and the substrate cassette is received from the first cassette receiver side by the relative lowering of the first cassette receiver. 2 cassette receivers, a substrate delivery mechanism for delivering substrates stored in the storage unit of the substrate cassette sequentially positioned at the predetermined delivery height position to one side in the X-axis direction, and an empty space from the second cassette receiver side. An empty cassette X-axis moving mechanism that moves the substrate cassette to the other side in the X-axis direction, and an empty cassette that is disposed in the separation station and supports the empty substrate cassette moved by the empty cassette X-axis moving mechanism. And a cassette support mechanism.
なお、本願の特許請求の範囲及び明細書において、「設けられ」とは、直接的に設けられたことの他に、ブラケット等の介在部材を介して間接的に設けられたことを含む意であって、同様に、「配設され」とは、直接的に配設されたことの他に、ブラケット等の介在部材を介して間接的に配設されたことを含む意である。また、基板処理装置とは、基板に対してプロセス処理(エッチング処理、CVD処理、PVD処理等を含む)、搬送処理等の基板処理を行う装置のことをいう。 In the claims and specification of the present application, “provided” means not only directly provided but also indirectly provided via an interposed member such as a bracket. Similarly, “arranged” means not only directly disposed but also indirectly disposed via an interposed member such as a bracket. The substrate processing apparatus refers to an apparatus that performs substrate processing such as process processing (including etching processing, CVD processing, PVD processing, and the like), transport processing, and the like on a substrate.
本発明の特徴によると、前記第2カセットレシーバによって前記基板カセットを受け取りかつ前記カセット昇降支持機構によって他の前記基板カセットを間接的又は直接的に支持した状態の下で、前記第2カセットレシーバを下降させて、前記基板カセットにおける複数段の前記保管部を下段側から所定の送出高さ位置に順次位置決めする。また、前記所定の送出高さ位置に順次位置決めされた前記基板カセットの前記保管部に保管した基板を前記基板送出機構によってX軸方向の一方側へ送り出す。これにより、前記第2カセットレシーバ上の前記基板カセット(前記第2カセットレシーバによって受け取った前記基板カセット)における複数段の前記保管部に保管した基板(前記第2カセットレシーバ上の前記基板カセットに保管した全ての基板)を前記基板処理装置へ供給することができる。 According to a feature of the present invention, the second cassette receiver is mounted under a state in which the substrate cassette is received by the second cassette receiver and another substrate cassette is indirectly or directly supported by the cassette lifting / lowering support mechanism. The plurality of storage units in the substrate cassette are sequentially positioned at a predetermined delivery height position from the lower stage side. Further, the substrate stored in the storage section of the substrate cassette sequentially positioned at the predetermined delivery height position is sent out to one side in the X-axis direction by the substrate delivery mechanism. Thereby, the substrate (stored in the substrate cassette on the second cassette receiver) stored in a plurality of storage units in the substrate cassette (the substrate cassette received by the second cassette receiver) on the second cassette receiver. All the substrates) can be supplied to the substrate processing apparatus.
基板を前記基板処理装置へ供給している間又は供給する前に、前記カセット昇降支持機構によって他の前記基板カセットを上昇させて、前記カセットX軸移動機構によって他の前記基板カセットをX軸方向の一方側へ移動させる。そして、前記第1カセットレシーバによって他の前記基板カセットを受け取る。 During or before supplying the substrate to the substrate processing apparatus, the other substrate cassette is raised by the cassette lifting / lowering support mechanism, and the other substrate cassette is moved in the X-axis direction by the cassette X-axis moving mechanism. Move to one side of Then, the other substrate cassette is received by the first cassette receiver.
前記基板カセットに保管した全ての基板を前記基板処理装置へ供給した後に、前記空カセットX軸移動機構によって前記第2カセットレシーバ側から空の前記基板カセットをX軸方向の他方側へ移動させて、前記空カセット支持機構に支持させる。そして、前記第1カセットレシーバを前記第2カセットレシーバに対して相対的に下降させて、前記第2カセットレシーバによって前記第1カセットレシーバ側から他の前記基板カセットを受け取る。なお、空の前記基板カセットは、前記空カセット支持機構から適宜に排出される。 After all the substrates stored in the substrate cassette are supplied to the substrate processing apparatus, the empty cassette cassette is moved from the second cassette receiver side to the other side in the X-axis direction by the empty cassette X-axis moving mechanism. The empty cassette support mechanism supports the empty cassette. Then, the first cassette receiver is lowered relative to the second cassette receiver, and another substrate cassette is received from the first cassette receiver side by the second cassette receiver. The empty substrate cassette is appropriately discharged from the empty cassette support mechanism.
前述の一連の動作を繰り返すことにより、前記基板処理装置の運転状況に応じて、多数の基板を前記基板処理装置へ供給することができる。 By repeating the series of operations described above, a large number of substrates can be supplied to the substrate processing apparatus in accordance with the operation status of the substrate processing apparatus.
要するに、多数の基板を前記基板処理装置へ供給する過程において、前記カセット昇降支持機構、前記第1カセットレシーバ、前記第2カセットレシーバ、及び前記空カセット支持機構を経由させつつ、仮想の垂直面に沿って複数の前記基板カセットを移動させることができる。これにより、前記基板処理装置の運転中断時間の短縮化を踏まえて、前記離隔ステーション及び前記中間ステーションにおいて複数の前記基板カセットを立体的にストックすることができる。 In short, in the process of supplying a large number of substrates to the substrate processing apparatus, a virtual vertical surface is formed through the cassette lifting / lowering support mechanism, the first cassette receiver, the second cassette receiver, and the empty cassette support mechanism. A plurality of the substrate cassettes can be moved along. Thereby, in consideration of shortening of the operation interruption time of the substrate processing apparatus, a plurality of the substrate cassettes can be three-dimensionally stocked at the separation station and the intermediate station.
本発明によれば、前記基板処理装置の運転中断時間の短縮化を踏まえて、前記離隔ステーション及び前記中間ステーションにおいて複数の前記基板カセットを立体的にストックすることができるため、前記基板保管供給システムの設置面積を削減して、工場内のスペースの有効利用を容易に図ることができる。 According to the present invention, in consideration of shortening the operation interruption time of the substrate processing apparatus, a plurality of the substrate cassettes can be stocked three-dimensionally at the separation station and the intermediate station. It is possible to easily reduce the installation area of the factory and effectively use the space in the factory.
本発明の実施形態について図1から図8を参照して説明する。 An embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS.
ここで、図1は、本発明の実施形態に係る基板保管供給システムの側面図、図2は、図1におけるII-II線に沿った図、図3は、図1におけるIII-III線に沿った図、図4は、図3における矢視部IVの拡大図、図5から図7は、本発明の実施形態に係る基板保管供給システムの動作説明図、図8は、本発明の実施形態に係る基板カセットの正面図である。 Here, FIG. 1 is a side view of the substrate storage and supply system according to the embodiment of the present invention, FIG. 2 is a view taken along line II-II in FIG. 1, and FIG. 3 is taken along line III-III in FIG. FIG. 4 is an enlarged view of the arrow IV in FIG. 3, FIGS. 5 to 7 are operation explanatory views of the substrate storage and supply system according to the embodiment of the present invention, and FIG. 8 is an implementation of the present invention. It is a front view of the substrate cassette which concerns on a form.
図1に示すように、本発明の実施形態に係る基板保管供給システムは、基板Wを保管可能な複数段の保管部(保管棚)3sを有した基板カセット3を用いて、多数の基板Wを一時的に保管すると共に、基板Wをプロセス処理装置5(基板処理装置の一例9へ供給するシステムである。そして、基板保管供給システム1の具体的な構成について説明する前に、まず、基板カセット3の具体的な構成について説明する。
As shown in FIG. 1, the substrate storage and supply system according to the embodiment of the present invention uses a
図8に示すように、本発明の実施形態に係る基板カセット3は、特開2002−167038号公報に記載された公知の構成の箱型のカセット本体7を備えており、このカセット本体7の下側(底側)は、部分的又は全体的に開放されている。また、カセット本体7の各内側面には、基板Wの端部を支持する複数の支持ピン9が長さ方向(基板カセット3の長さ方向)及び上下方向に沿って間隔を置いて設けられており、複数の支持ピン9によって前述の複数段の保管部3sが形成されるようになっている。更に、カセット本体7の各外側面には、長さ方向へ延びたフランジ11が設けられており、カセット本体7の各外側面と対応するフランジ11の間には、複数のフリーローラ13が長さ方向に間隔を置いて設けられてあって、各フリーローラ13は、幅方向(基板カセット3の幅方向)に平行な軸心周りに回転自在である。なお、カセット本体7の各内側面に複数の支持ピン9が設けられる代わりに、カセット本体7の一対の内側面の間に基板Wの支持する複数の支持ワイヤが長さ方向及び上下方向に間隔を置いて架設されるようにしても構わない。
As shown in FIG. 8, a
続いて、基板保管供給システム1の具体的な構成について説明する。
Next, a specific configuration of the substrate storage /
図1から図4に示すように、プロセス処理装置5に対してX軸方向(換言すれば、左右方向)に離隔した離隔ステーションESには、基板カセット3を昇降可能に間接的に支持するカセット昇降支持機構15がY軸方向(換言すれば、前後方向)へ移動可能に設けられている。具体的には、離隔ステーションESには、台車17が一対のレール19を介してY軸方向へ移動可能に設けられており、この台車17の適宜位置には、台車17をY軸方向へ移動させる台車用Y軸移動モータ等の台車用Y軸移動アクチュエータ(図示省略)が設けられている。また、台車17には、基板カセット3を間接的に支持する昇降テーブル21がリンク機構23を介して昇降可能に設けられており、リンク機構23の適宜位置には、昇降テーブル21を昇降させるテーブル用昇降シリンダ等のテーブル用昇降アクチュエータ(図示省略)が設けられている。
As shown in FIG. 1 to FIG. 4, a cassette that indirectly supports the
昇降テーブル21には、基板カセット3を昇降テーブル21側からX軸方向の一方側(換言すれば、プロセス処理装置5側又は右方向)へ移動させるカセットX軸移動機構25が設けられている。具体的には、昇降テーブル21には、下部スライダ27がX軸方向へ移動可能に設けられており、下部スライダ27には、基板カセット3のカセット本体7を直接的に支持する上部スライダ29がX軸方向へ移動可能に設けられている。また、昇降テーブル21の適宜位置には、下部スライダ27及び上部スライダ29をX軸方向へ移動させるスライダ用X軸移動モータ等のスライダ用X軸移動アクチュエータ(図示省略)が設けられている。
The lifting table 21 is provided with a cassette
なお、カセット昇降支持機構15及びカセットX軸移動機構25は基板保管供給システム1以外のシステムの一部を構成するように台車17によってY軸方向へ移動可能になっているが、カセット昇降支持機構15はY軸方向へ移動不能であっても構わない。また、昇降テーブル21によって基板カセット3を上部スライダ29を介して間接的に支持する代わりに、昇降テーブル21によって基板カセット3を直接的に支持するようにしても構わない。
The cassette lifting /
プロセス処理装置5と離隔ステーションESの間の中間ステーションMSには、上下方向へ延びた一対の支持フレーム31が配設されており、一対の支持フレームは、Y軸方向に離隔しかつ対向してある。
A pair of support frames 31 extending in the vertical direction are disposed in the intermediate station MS between the
各支持フレーム31の対向面(対向側)には、X軸方向へ延びた第1カセットレシーバ33が昇降可能に設けられており、一対の第1カセットレシーバ33は、カセットX軸移動機構25によって移動された基板カセット3を受け取るものであって、Y軸方向に離隔しかつ対向してある。また、各第1カセットレシーバ33は、基板カセット3のフランジ11を下側から支持する一対の支持爪35を有しており、各第1カセットレシーバの各支持爪35は、爪用支持位置(図3及び図4において実線で示す位置)と爪用回避位置(図4において仮想線で示す位置)との間で僅かに移動可能に構成されている。ここで、爪用支持位置とは、第1カセットレシーバ33の対向面33fに対して突出しかつ基板カセット3のフランジ11を支持可能な通常の位置のことであって、爪用回避位置とは、第1カセットレシーバ33の対向面33fに対して没入しかつ基板カセット3のフランジ11との干渉を回避可能な位置のことである。そして、各第1カセットレシーバ33の適宜位置には、各支持爪35を僅かに移動させる爪用ミニシリンダ等の爪用アクチュエータ(図示省略)が設けられている。なお、爪用回避位置は、基板カセット3のフランジ11との干渉を回避可能な位置であれば、第1カセットレシーバ33の対向面33fに対して没入しなくても構わない。
A
各支持フレーム31の上部には、第1カセットレシーバ33を昇降させる第1レシーバ用昇降モータ37(第1レシーバ用昇降アクチュエータの一例)が設けられている。また、各支持フレーム31の内部には、第1レシーバ用昇降モータ37の出力軸に連動連結しかつ上下方向へ延びた第1ボールねじ39が回転可能に設けられており、各第1カセットレシーバ33には、第1ボールねじ39に螺合したナット部材41が設けられている。
A first receiver lift motor 37 (an example of a first receiver lift actuator) that lifts and lowers the
各支持フレーム31の対向面には、第2カセットレシーバ43が昇降可能かつ第1カセットレシーバ33とすれ違い可能に設けられており、一対の第2カセットレシーバ43は、一対の第1カセットレシーバ33の相対的な下降により基板カセット3を第1カセットレシーバ33側から受け取るものである。また、各第2カセットレシーバ43は、対応する第1カセットレシーバ33とすれ違うように、上から見みると対応する第1カセットレシーバ33を囲むようになってあって、自身の下降(第2カセットレシーバ43の下降)により基板カセット3における複数段の保管部3sを下段側から所定の送出高さ位置(図5参照)に順次位置決めできるように構成されている。
A
各支持フレーム31の上部には、第2カセットレシーバ43を昇降させる一対の第2レシーバ用昇降モータ45(第2レシーバ用昇降アクチュエータの一例)が設けられている。また、各支持フレーム31の内部には、対応する第2レシーバ用昇降モータ45の出力軸に連動連結しかつ上下方向へ延びた一対の第2ボールねじ47が回転可能に設けられており、各第2カセットレシーバ43には、対応する第2ボールねじ47に螺合した一対(1つのみ図示)のナット部材49が設けられている。
A pair of second receiver lift motors 45 (an example of a second receiver lift actuator) that lifts and lowers the
中間ステーションMSには、所定の送出高さ位置に順次位置決めされた基板カセット3の保管部3sに保管した基板WをX軸方向の一方側へ送り出す基板送出機構51が配設されており、この基板送出機構51は、特開2002−167038号公報に記載された公知の構成からなる。具体的には、中間ステーションMSには、送出フレーム53が配設されており、この送出フレーム53は、複数の送出ローラ55がX軸方向及びY軸方向に沿って間隔を置いて設けられてあって、各送出ローラ55は、Y軸方向に平行な軸心周りに回転可能である。また、複数の送出ローラ55は、第2カセットレシーバ43上の基板カセット3(第2カセットレシーバ43によって受け取った基板カセット3)の下側から基板Wの裏面に接触するようになっている。そして、送出フレーム53の適宜位置には、複数の送出ローラ55を回転させるローラ用回転モータ等のローラ用回転アクチュエータ(図示省略)が設けられている。
The intermediate station MS is provided with a
なお、複数の送出ローラ55及びローラ用回転アクチュエータを備えた基板送出機構51の代わりに、基板Wの端部を把持しかつX軸方向へ移動可能なクランパを備えた基板送出機構等を用いても構わない。
Instead of the
送出フレーム53には、第2カセットレシーバ43側から空の基板カセット3をX軸方向の他方側(換言すれば、プロセス処理装置5側の反対側又は左方向)へ移動させる空カセットX軸移動機構57が設けられている。具体的には、送出フレーム53の上部には、一対のロッドレスシリンダ59が設けられており、各ロッドレスシリンダ59は、X軸方向へ延びてあって、X軸方向へ移動可能なX軸可動子61を有している。また、各ロッドレスシリンダ59のX軸可動子61には、空の基板カセット3のカセット本体7をX軸方向の他方側へ押し出し可能な空カセット押出部材63が設けられている。
In the
なお、ロッドレスシリンダ59及び空カセット押出部材63を備えた空カセットX軸移動機構57の代わりに、各第2カセットレシーバ43に空の基板カセット3をX軸方向の他方側へ搬送可能な複数の搬送ローラを備えた空カセットX軸移動機構等を用いても構わない。
In addition, instead of the empty cassette X-axis moving
離隔ステーションESには、空カセットX軸移動機構57によって移動された空の基板カセット3を支持する空カセット支持機構65が配設されている。具体的には、離隔ステーションESには、固定フレーム67(一部のみ図示)が配設されており、この固定フレーム67は、垂下した一対の取付部67aを有してあって、一対の取付部67aは、Y軸方向に離隔してある。また、固定フレーム67の各取付部67aには、空の基板カセット3を支持する空カセット支持アーム(空カセット支持部材)69が設けられており、各空カセット支持アーム69は、Y軸方向へ延びている。更に、一対の空カセット支持アーム69は、カセット昇降支持機構15及びカセットX軸移動機構25との干渉を回避できるように互いに接近・離反するY軸方向へ移動可能に構成されてあって、昇降テーブル21の相対的な上昇により空の基板カセット3を昇降テーブル21側に受け渡しできるように構成されている。そして、固定フレーム67の各取付部67aには、対応する空カセット支持アーム69をY軸方向へ移動させるアーム用Y軸移動シリンダ71(アーム用Y軸移動アクチュエータの一例)が設けられており、各アーム用Y軸移動シリンダ71の可動ロッド73の先端部は、対応する空カセット支持アーム69の適宜位置に連結されている。
In the separation station ES, an empty
続いて、本発明の実施形態の作用及び効果について説明する。 Then, the effect | action and effect of embodiment of this invention are demonstrated.
一対の第2カセットレシーバ43によって基板カセット3を受け取りかつ昇降テーブル21によって基板カセット3を間接的に支持した状態の下で、図5に示すように、複数の第2レシーバ用昇降モータ45の駆動により一対の第2カセットレシーバ43を下降させて、基板カセット3における複数段の保管部3sを下段側から所定の送出高さ位置に順次位置決めする。また、ローラ用回転アクチュエータの駆動により複数の送出ローラ55を回転させて、所定の送出高さ位置に順次位置決めされた基板カセット3の保管部3sに保管した基板WをX軸方向の一方側へ送り出す。これにより、一対の第2カセットレシーバ43上の基板カセット3(一対の第2カセットレシーバ43によって受け取った基板カセット3)における複数段の保管部3sに保管した基板W(一対の第2カセットレシーバ43上の基板カセット3に保管した全ての基板W)をプロセス処理装置5へ供給することができる。
Under the state where the
基板Wをプロセス処理装置5へ供給している間又は供給する前に、一対のアーム用Y軸移動シリンダ71の駆動により一対の空カセット支持アーム69を互いに離反するY軸方向へ移動させる。次に、図5に示すように、テーブル用昇降アクチュエータの駆動により昇降テーブル21を上昇させて、スライダ用X軸移動アクチュエータの駆動により下部スライダ27及び上部スライダ29をX軸方向の一方側へ移動させることにより、他の基板カセット3を一対の第1カセットレシーバ33の上側に位置させる。そして、テーブル用昇降アクチュエータの駆動により昇降テーブル21を僅かに下降させることにより、上部スライダ29の支持面(上面)を第1カセットレシーバ33における支持爪35の支持面(上面)よりも低い高さ位置に位置させて、一対の第1カセットレシーバ33によって他の基板カセット3を受け取る。更に、テーブル用昇降アクチュエータ、スライダ用X軸移動アクチュエータ、及び一対のアーム用Y軸移動シリンダ71の駆動により昇降テーブル21、下部スライダ27、上部スライダ29、及び一対の空カセット支持アーム69を元の状態(通常の状態)に復帰させておく。なお、昇降テーブル21等を元の状態に復帰させた後に、台車用Y軸アクチュエータの駆動により台車17をY軸方向へ移動させて、カセット昇降支持機構15及びカセットX軸移動機構25を基板保管供給システム1以外のシステムに運転に使用しても構わない。
During or before supplying the substrate W to the
一対の第2カセットレシーバ43上の基板カセット3に保管した全ての基板Wをプロセス処理装置5へ供給した後に、図6に示すように、一対のロッドレスシリンダ59の駆動により一対のX軸可動子61をX軸方向の他方側へ移動させて、一対の空カセット押出部材63によって空の基板カセット3をX軸方向の他方側へ押し出す(移動させる)ことにより、一対の第2カセットレシーバ43側から空の基板カセット3を一対の空カセット支持アーム69に支持させる。そして、一対のロッドレスシリンダ59の駆動により一対のX軸可動子61等を元の状態に復帰させる。
After supplying all the substrates W stored in the
他の空の基板カセット3を一対の空カセット支持アーム69に支持させた後に、複数の第1レシーバ用昇降モータ37の駆動により一対の第1カセットレシーバ33を下降させて、一対の第2カセットレシーバ43とすれ違わせることにより、一対の第2カセットレシーバ43によって一対の第1カセットレシーバ33側から他の基板カセット3を受け取る。そして、各爪用アクチュエータの駆動により各支持爪35を爪用支持位置から爪用回避位置まで僅かに移動させて、複数の第1レシーバ用昇降モータ37の駆動により一対の第1カセットレシーバ33を上昇させて、元の状態に復帰させる。更に、各爪用アクチュエータの駆動により各支持爪35を爪用回避位置から爪用支持位置に僅かに移動させて、元の状態に復帰させる。
After the other
他の空の基板カセット3を一対の空カセット支持アーム69に支持させた後に、テーブル用昇降アクチュエータの駆動により昇降テーブル21を上昇させることにより、一対の空カセット支持アーム69によって空の基板カセット3を昇降テーブル21側に受け渡す。次に、一対のアーム用Y軸移動シリンダ71の駆動により一対の空カセット支持アーム69を互いに離反するY軸方向へ移動させて、テーブル用昇降アクチュエータの駆動により昇降テーブル21を下降させることにより、空の基板カセット3を一対の空カセット支持アーム69の下側に位置させる。そして、台車用Y軸アクチュエータの駆動により台車17を所定のカセット交換位置までY軸方向へ移動させて、昇降テーブル21側に対して空の基板カセット3と複数の基板Wを保管した基板カセット3との交換を行う。更に、台車用Y軸アクチュエータの駆動により台車17を元の状態に復帰させる。
After the other
前述の一連の動作を繰り返すことにより、プロセス処理装置5の運転状況に応じて、多数の基板Wをプロセス処理装置5へ供給することができる。
By repeating the series of operations described above, a large number of substrates W can be supplied to the
要するに、多数の基板Wをプロセス処理装置5へ供給する過程において、カセット昇降支持機構15、一対の第1カセットレシーバ33、一対の第2カセットレシーバ43、及び空カセット支持機構65を経由させつつ、仮想の垂直面に沿って複数の基板カセット3を循環移動させることができる。これにより、プロセス処理装置5の運転中断時間の短縮化を踏まえて離隔ステーションES及び中間ステーションMSにおいて複数の基板カセット3を立体的にストックすることができる。
In short, in the process of supplying a large number of substrates W to the
従って、本発明の実施形態によれば、基板保管供給システム1の設置面積を削減して、工場内のスペースの有効利用を容易に図ることができる。
Therefore, according to the embodiment of the present invention, it is possible to easily reduce the installation area of the substrate storage and
なお、本発明は、前述の実施形態の説明に限られるものではなく、その他、種々の態様で実施可能である。また、本発明に包含される権利範囲は、これらの実施形態に限定されないものである。 In addition, this invention is not restricted to description of the above-mentioned embodiment, In addition, it can implement in a various aspect. Further, the scope of rights encompassed by the present invention is not limited to these embodiments.
ES 離隔ステーション
MS 中間ステーション
W 基板
1 基板保管供給システム
3 基板カセット
3s 保管部
5 プロセス処理装置
15 カセット昇降支持機構
17 台車
21 昇降テーブル
23 リンク機構
25 カセットX軸移動機構
27 下部スライダ
29 上部スライダ
31 支持フレーム
33 第1カセットレシーバ
35 支持爪
37 第1レシーバ用昇降モータ
43 第2カセットレシーバ
45 第2レシーバ用昇降モータ
51 基板送出機構
53 送出フレーム
55 送出ローラ
57 空カセットX軸移動機構
59 ロッドレスシリンダ
63 空カセット押出部材
65 空カセット支持機構
67 固定フレーム
69 空カセット支持アーム
71 アーム用Y軸移動シリンダ
ES separation station MS intermediate
Claims (6)
前記基板処理装置に対してX軸方向に離隔した離隔ステーションに配設され、前記基板カセットを昇降可能に間接的又は直接的に支持するカセット昇降支持機構と、
前記カセット昇降支持機構側から前記基板カセットをX軸方向の一方側へ移動させるカセットX軸移動機構と、
前記基板処理装置と前記離隔ステーションの間の中間ステーションに配設した支持フレームに昇降可能に設けられ、前記カセットX軸移動機構によって移動された前記基板カセットを受け取る第1カセットレシーバと、
前記支持フレームに昇降可能に設けられ、前記基板カセットにおける複数段の前記保管部を下段側から所定の送出高さ位置に順次位置決めできるように構成され、前記第1カセットレシーバの相対的な下降により前記第1カセットレシーバ側から前記基板カセットを受け取る第2カセットレシーバと、
前記所定の送出高さ位置に順次位置決めされた前記基板カセットの前記保管部に保管した基板をX軸方向の一方側へ送り出す基板送出機構と、
前記第2カセットレシーバ側から空の前記基板カセットをX軸方向の他方側へ移動させる空カセットX軸移動機構と、
前記離隔ステーションに配設され、前記空カセットX軸移動機構によって移動された空の前記基板カセットを支持する空カセット支持機構と、を具備したことを特徴とする基板保管供給システム。 In a substrate storage and supply system for temporarily storing a large number of substrates using a substrate cassette having a plurality of storage units capable of storing substrates, and supplying substrates to a substrate processing apparatus,
A cassette lifting / lowering support mechanism which is disposed at a separation station spaced apart in the X-axis direction with respect to the substrate processing apparatus, and supports the substrate cassette indirectly or directly so as to be movable up and down
A cassette X axis moving mechanism for moving the substrate cassette from the cassette lifting support mechanism side to one side in the X axis direction;
A first cassette receiver provided in a support frame disposed at an intermediate station between the substrate processing apparatus and the separation station so as to be movable up and down, and receiving the substrate cassette moved by the cassette X-axis moving mechanism;
The support frame is configured to be movable up and down, and is configured to be capable of sequentially positioning the plurality of storage portions of the substrate cassette from a lower stage side to a predetermined delivery height position, and by the relative lowering of the first cassette receiver A second cassette receiver for receiving the substrate cassette from the first cassette receiver side;
A substrate delivery mechanism for delivering a substrate stored in the storage unit of the substrate cassette sequentially positioned at the predetermined delivery height position to one side in the X-axis direction;
An empty cassette X-axis moving mechanism for moving the empty substrate cassette from the second cassette receiver side to the other side in the X-axis direction;
A substrate storage and supply system comprising: an empty cassette support mechanism that is disposed in the separation station and supports the empty substrate cassette moved by the empty cassette X-axis moving mechanism.
前記離隔ステーションに配設された固定フレームと、
前記固定フレームにY軸方向に離隔して設けられ、X軸方向へ延びてあって、前記カセット昇降支持機構との干渉を回避できるように互いに接近・離反するY軸方向へ移動可能に構成され、空の前記基板カセットの端部を支持する一対の空カセット支持アームと、を備えたことを特徴とする請求項1又は請求項2に記載の基板保管供給システム。 The empty cassette support mechanism is
A fixed frame disposed in the separation station;
The fixed frame is spaced apart in the Y-axis direction, extends in the X-axis direction, and is configured to be movable in the Y-axis direction approaching and separating from each other so as to avoid interference with the cassette lifting / lowering support mechanism. 3. A substrate storage and supply system according to claim 1, further comprising a pair of empty cassette support arms for supporting an end of the empty substrate cassette.
前記基板送出機構は、
前記中間ステーションに配設された送出フレームと、
前記送出フレームにX軸方向に沿って間隔を置いて設けられ、Y軸方向に平行な軸心周りに回転可能であって、前記基板カセットの下側から基板の裏面に接触するようになっている複数の送出ローラと、を備えたことを特徴とする請求項1から請求項3のうちのいずれかの請求項に記載の基板保管供給システム。 The lower side of the substrate cassette is partially or fully open,
The substrate delivery mechanism is
A delivery frame disposed in the intermediate station;
The delivery frame is provided at intervals along the X-axis direction, is rotatable about an axis parallel to the Y-axis direction, and comes into contact with the back surface of the substrate from the lower side of the substrate cassette. The substrate storage and supply system according to any one of claims 1 to 3, further comprising a plurality of delivery rollers.
前記離隔ステーションにY軸方向へ移動可能に設けられた台車と、
前記台車にリンク機構を介して昇降可能に設けられ、前記基板カセットを間接的又は直接的に支持する昇降テーブルと、を備えたことを特徴とする請求項1から請求項4のうちのいずれかの請求項に記載の基板保管供給システム。 The cassette lifting support mechanism is
A carriage provided in the separation station so as to be movable in the Y-axis direction;
5. The lift table provided on the carriage so as to be able to be lifted and lowered via a link mechanism and supporting the substrate cassette indirectly or directly. 5. The board | substrate storage supply system of Claim.
前記昇降テーブルにX軸方向へ移動可能に設けられ下部スライダと、
前記下部スライダにX軸方向へ移動可能に設けられ、前記基板カセットを直接的に支持する上部スライダと、を備えたことを特徴とする請求項5に記載の基板保管供給システム。 The cassette X-axis moving mechanism is
A lower slider provided on the lifting table so as to be movable in the X-axis direction;
6. The substrate storage and supply system according to claim 5, further comprising: an upper slider provided on the lower slider so as to be movable in the X-axis direction and directly supporting the substrate cassette .
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