JP5215272B2 - リソグラフィ装置及びデバイス製造方法 - Google Patents
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Description
となる。
となる。
に等しく、ここで、Cは、容量で、Vは、コンデンサ両端に印加される電圧である。配列中にすべてのコンデンサは、更新周期ごとにそれの次の電圧セット・ポイントまで充電される必要がある。
に等しく、ここでΔVは、2つの引き続く電圧間の差である。伝統的なDACデザインとの簡単な比較のために、転送される電荷に電位差を乗じたもので電力消費を表す。電荷転送は、同じであるが、伝統的な増幅器の電位差は、典型的には、より大きく、電源電圧にまで上昇し、約30Vにもなる。図9の回路に関しては、電位差は、ステップ・サイズに等しいとみなすことができる。
(数7)
1−e(−t/τ)
であり、
である。
3 ビット基準電圧入力
4 リセット入力
5 電荷増幅器
6 ANDゲート
10 電圧入力
11 アナログ・スイッチ
12 ダウン・カウンタ
13 クロック入力
14 アドレス入力
15 デジタル信号入力
16 ライン
20 アナログ・スイッチ
21 DC電源
22 ライン
23 パルス幅変調器
24 クロック入力
25 アドレス入力
26 デジタル信号入力
30 セル
31 ローカル制御回路(DAC)
32 アナログ入力
33 アドレス入力
34 デジタル制御入力
40 デジタル・アナログ変換器(DAC)
41,42 伝送ライン
43 デジタル入力ライン
44,45,46,47 スイッチ
48,49 抵抗
Claims (11)
- リソグラフィ装置であって、
ビームをパターニングする個別的に制御可能なミラーの配列を含む制御可能なパターニング装置と、
電圧信号を出力し、パターニング装置を制御する制御システムと、
パターニングされたビームを基板の標的部分に投影する投影システムと、
制御システムとパターニング装置との間に接続された供給チャネルと、
を含み、
パターニング装置は、マトリックス状に配置された複数のセルを含み、各セルは、個別的に制御可能なミラーのうち対応する1つと、対応する制御可能なミラーの状態を決定する対応する制御電圧を発生するように制御可能な対応するローカル制御回路とを含み、
供給チャネルは、各セルに電圧信号を供給し、
制御システムは、セルの列番号に対応する第1のデジタル・アドレス信号とセルの行番号に対応する第2のデジタル・アドレス信号とを含む制御信号を複数のローカル制御回路に供給して列ごとに各セルを個別的にアドレス指定し、
各ローカル制御回路は、その回路を供給チャネルに接続する第1の対応する制御可能なスイッチング・デバイスと、複数の対応する別の電子部品とを含み、
各ローカル制御回路は、制御信号に応答して電圧信号から対応する制御電圧を発生し、
電圧信号は、制御電圧を表すデジタル信号中の各ビット位置に対応する電圧レベルを順番にとる電圧信号であり、
制御電圧は、その制御電圧を表すデジタル信号では、高レベルにあるビット位置によって表され、
制御信号は、電圧信号が各ビット位置に対応する電圧レベルをとるとき、セルに対して要求される制御電圧を表すデジタル信号中でそのビット位置が高レベルにある全てのセルをアドレス指定するように構成され、
ローカル制御回路の各々は、制御電圧を表すデジタル信号中の各ビット位置に対応する電圧レベルからアドレス指定によって選ばれた電圧を全て積分することによって対応するセルに対して要求される制御電圧を発生する積分回路と、
制御電圧をサンプリングして保持するサンプル・アンド・ホールド回路と、を含む、前記リソグラフィ装置。 - 請求項1に記載のリソグラフィ装置であって、
パターニング装置は、セルの複数のグループに分割され、
複数の供給チャネルがあって、複数の供給チャネルの各供給チャネルは、対応するセルのグループの各セルに対して電圧信号を供給するように配置され、
供給チャネルとセルのグループとが1対1で対応する、前記リソグラフィ装置。 - 請求項1または2に記載のリソグラフィ装置であって、対応する制御電圧の各々は、アナログ電圧値を含む前記リソグラフィ装置。
- 請求項1から3のいずれかに記載のリソグラフィ装置であって、ローカル制御回路の各々の付加的な電子部品は、
第1および第2の端子を有する第1のコンデンサと、
第1および第2の入力と、出力とを有し、第2の入力がアースに接続されている演算増幅器と、
演算増幅器の第1の入力と出力との間に接続された第2のコンデンサと、
第1のコンデンサの第2の端子がアースに接続される選択位置と、第1のコンデンサの第2の端子が演算増幅器の第1の入力に接続される非選択位置とを有する第2の制御可能なスイッチング・デバイスと、
第1のコンデンサの第1の端子が電圧信号に接続される選択位置と、第1のコンデンサの第1の端子がアースに接続される非選択位置とを有する第1の制御可能なスイッチング・デバイスと、を含み、
各ローカル制御回路は、第1および第2の制御可能なスイッチング・デバイスの動作がデジタル・アドレス入力によって制御されるように構成され、
デジタル・アドレス入力が高レベルのときは、制御可能なスイッチング・デバイスが選択位置にあって、第1のコンデンサが電圧信号の電圧に充電され、
デジタル・アドレス入力が低レベルのときは、制御可能なスイッチング・デバイスが非選択位置にあって、第1のコンデンサに蓄積された電荷が第2のコンデンサに転送され、
制御電圧を表すデジタル信号中の各ビット位置に対応する電圧レベルの各々のあとで、電荷増幅器の出力の電圧が、対応する制御可能なミラーに対する制御電圧を含んでいる、
前記リソグラフィ装置。 - 請求項4に記載のリソグラフィ装置であって、ローカル制御回路の各々が更に、
第2のコンデンサと電気的に並列に配置され、リセット信号によって制御される第3の制御可能なスイッチング・デバイスであって、第1および第2の制御可能なスイッチング・デバイスが非選択位置にあるときに、第3の制御可能なスイッチング・デバイスを閉じることによって、コンデンサに蓄積されたすべての電荷が本質的に零に減少し、制御電圧も本質的に零ボルトに低下する前記第3の制御可能なスイッチング・デバイス、
を含む前記リソグラフィ装置。 - 請求項4に記載のリソグラフィ装置であって、各ローカル制御回路に含まれるサンプル・アンド・ホールド回路は、
アースに接続された第2の端子と第1の端子とを有する第3のコンデンサと、
演算増幅器の出力と第3のコンデンサの第1の端子との間に接続された第4の制御可能なスイッチング・デバイスと、
を含み、
第4の制御可能なスイッチング・デバイスは、選択的に閉じることによって第3のコンデンサを演算増幅器の出力電圧に充電させることができ、第3のコンデンサ両端の電圧は、そのセルについての対応する制御可能なミラーのための制御電圧を含む、
前記リソグラフィ装置。 - 請求項6に記載のリソグラフィ装置であって、第3のコンデンサは、対応する制御可能なミラーの入力容量を含む前記リソグラフィ装置。
- 請求項1から7のいずれかに記載のリソグラフィ装置であって、前記パターニング装置は約50kHzの更新速度を有する、前記リソグラフィ装置。
- デバイス製造方法であって、
マトリックス状に配置された複数のセルを使用し、複数のセルの各セルが個別的に制御可能なミラーの対応する1つと対応するローカル制御回路とを含む複数の個別的に制御可能なミラーを有するパターニング装置を提供する工程と、
第1の対応する制御可能なスイッチング・デバイスと、複数の対応する別の電子部品とを備える各ローカル制御回路を提供する工程と、
ローカル制御回路の各々によって対応する制御電圧を発生する工程と、
対応する制御可能なミラーの状態を決定するために対応する制御電圧を使用する工程と、
電圧信号をセルの各々に供給する工程と、
セルの列番号に対応する第1のデジタル・アドレス信号とセルの行番号に対応する第2のデジタル・アドレス信号とを含む制御信号を複数のローカル制御回路に供給して列ごとに各セルを個別的にアドレス指定する工程と、
ローカル制御回路の各々が制御信号に応答して電圧信号から対応する制御電圧を発生する工程と、
制御可能なパターニング装置を使用して放射のビームをパターニングする工程と、
パターニングされた放射のビームを基板の標的部分に投影する工程と、を含み、
電圧信号は、制御電圧を表すデジタル信号中の各ビット位置に対応する電圧レベルを順番にとる電圧信号であり、
制御電圧は、その制御電圧を表すデジタル信号では、高レベルにあるビット位置によって表され、
制御信号は、電圧信号が各ビット位置に対応する電圧レベルをとるとき、セルに対して要求される制御電圧を表すデジタル信号中でそのビット位置が高レベルにある全てのセルをアドレス指定するように構成され、
ローカル制御回路の各々は、制御電圧を表すデジタル信号中の各ビット位置に対応する電圧レベルからアドレス指定によって選ばれた電圧を全て積分することによって対応するセルに対して要求される制御電圧を発生する積分回路と、
制御電圧をサンプリングして保持するサンプル・アンド・ホールド回路と、を含む、前記方法。 - 請求項9に記載の方法であって、
ローカル制御回路の各々は、更に、対応する集積回路から形成される、
前記方法。 - 請求項9または10に記載の方法であって、
前記パターニング装置は約50kHzの更新速度を有する、
前記方法。
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