JP5210199B2 - 画像記録方法 - Google Patents
画像記録方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP5210199B2 JP5210199B2 JP2009038805A JP2009038805A JP5210199B2 JP 5210199 B2 JP5210199 B2 JP 5210199B2 JP 2009038805 A JP2009038805 A JP 2009038805A JP 2009038805 A JP2009038805 A JP 2009038805A JP 5210199 B2 JP5210199 B2 JP 5210199B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- recording
- head
- camera
- image
- calibration pattern
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K3/00—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
- H05K3/0008—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits for aligning or positioning of tools relative to the circuit board
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70483—Information management; Active and passive control; Testing; Wafer monitoring, e.g. pattern monitoring
- G03F7/70491—Information management, e.g. software; Active and passive control, e.g. details of controlling exposure processes or exposure tool monitoring processes
- G03F7/70516—Calibration of components of the microlithographic apparatus, e.g. light sources, addressable masks or detectors
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F9/00—Registration or positioning of originals, masks, frames, photographic sheets or textured or patterned surfaces, e.g. automatically
- G03F9/70—Registration or positioning of originals, masks, frames, photographic sheets or textured or patterned surfaces, e.g. automatically for microlithography
- G03F9/7003—Alignment type or strategy, e.g. leveling, global alignment
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F9/00—Registration or positioning of originals, masks, frames, photographic sheets or textured or patterned surfaces, e.g. automatically
- G03F9/70—Registration or positioning of originals, masks, frames, photographic sheets or textured or patterned surfaces, e.g. automatically for microlithography
- G03F9/7088—Alignment mark detection, e.g. TTR, TTL, off-axis detection, array detector, video detection
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K3/00—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
- H05K3/10—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits in which conductive material is applied to the insulating support in such a manner as to form the desired conductive pattern
- H05K3/12—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits in which conductive material is applied to the insulating support in such a manner as to form the desired conductive pattern using thick film techniques, e.g. printing techniques to apply the conductive material or similar techniques for applying conductive paste or ink patterns
- H05K3/1275—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits in which conductive material is applied to the insulating support in such a manner as to form the desired conductive pattern using thick film techniques, e.g. printing techniques to apply the conductive material or similar techniques for applying conductive paste or ink patterns by other printing techniques, e.g. letterpress printing, intaglio printing, lithographic printing, offset printing
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Multimedia (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Ink Jet (AREA)
Description
記録材料1を巻き出す巻き出しローラ11と第1ダンサーローラ機構12とを備えた供給部2と、記録材料1の両面にアライメントマークを形成するアライメントマーク形成機構3と、画像記録部4と、第2ダンサーローラ機構13と記録材料1を巻き取る巻き取りローラ14とを備えた回収部5とを備える。
2 供給部
3 アライメントマーク形成機構
4 画像記録部
5 回収部
11 巻き出しローラ
12 第1ダンサーローラ機構
13 第2ダンサーローラ機構
14 巻き取りローラ
31 吸着テーブル
32 剥離ローラ
33 CCDカメラ
34 記録ヘッド
35 ニップローラ
36 Z軸テーブル
37 回転テーブル
38 可動子
39 固定子
40 リニアモータ
41 支持台
51 アライメントマーク形成部
52 露光部
53 露光部
61 光源
64 光量調整フィルター
66 照明系レンズ
69 DMD
70 投影レンズ
72 投影レンズ
73 第1ヘッドキャリブレーションパターン
74 第2ヘッドキャリブレーションパターン
76 位置補正メモリ
77 基準スケール
81 カメラキャリブレーションパターン
82 標線
M アライメントマーク
Claims (4)
- 一条で長尺の記録材料をY方向に往復移動させるとともに、複数の記録ヘッドを一体的に前記Y方向と直行するX方向に間欠的に移動させることにより、記録材料の全面を複数のストライプ状領域に分割して画像を記録するとともに、記録材料に形成された複数のアライメントマークを複数のカメラにより撮影して前記複数の記録ヘッドによる画像の記録位置を補正する画像記録装置を使用して画像を記録する画像記録方法において、
前記複数の記録ヘッドを最初のストライプ状領域を記録する位置に移動させた後、その記録ヘッドにより、記録材料に対して記録ヘッドの位置をキャリブレーションするための第1ヘッドキャリブレーションパターンを形成する第1ヘッドキャリブレーションパターン形成工程と、
前記複数の記録ヘッドを最後のストライプ状領域を記録する位置に移動させた後、その記録ヘッドにより、記録材料に対して記録ヘッドの位置をキャリブレーションするための第2ヘッドキャリブレーションパターンを形成する第2ヘッドキャリブレーションパターン形成工程と、
前記第1ヘッドキャリブレーションパターンと前記第2ヘッドキャリブレーションパターンとのうち、互いに隣接するものをカメラにより撮像することにより、それらのずれ量を測定し、そのずれ量から各ヘッドの位置誤差を測定するヘッド位置誤差測定工程と、
を備えたヘッドキャリブレーション工程と、
前記複数の記録ヘッドのうちの一つを前記記録材料における各アライメントマークの形成領域に移動させた後、その記録ヘッドにより、記録材料に対してカメラの位置をキャリブレーションするためのカメラキャリブレーションパターンを複数個形成するカメラキャリブレーションパターン形成工程と、
前記各カメラキャリブレーションパターンを各カメラにより撮像することにより、カメラキャリブレーションパターンとカメラの視野とのずれ量を測定し、そのずれ量からカメラの位置誤差を測定するカメラ位置誤差測定工程と、
を備えたカメラキャリブレーション工程と、
の両方を実行した後、
前記ヘッドキャリブレーション工程で得たヘッドの位置誤差と、前記カメラキャリブレーション工程で得たカメラの位置誤差とを利用して、記録材料に形成された複数のアライメントマークを複数のカメラにより撮影して決定した前記複数の記録ヘッドによる画像の記録位置を補正することを特徴とする画像記録方法。 - 請求項1に記載の画像記録方法において、
各ヘッドが前記各ストライプ状領域を記録する位置に移動したときの、各ヘッドに定性的に生ずる定性位置誤差を予め測定しておき、この定性位置誤差を利用して、前記記録ヘッドによる画像の記録位置を補正する画像記録方法。 - 一条で長尺の記録材料をY方向に往復移動させるとともに、複数の記録ヘッドを一体的に前記Y方向と直行するX方向に間欠的に移動させることにより、記録材料の全面を複数のストライプ状領域に分割して画像を記録するとともに、記録材料に形成された複数のアライメントマークを複数のカメラにより撮影して前記複数の記録ヘッドによる画像の記録位置を補正する画像記録装置を使用して画像を記録する画像記録方法において、
各ヘッドが前記各ストライプ状領域を記録する位置に移動したときの、各ヘッドに定性的に生ずる定性位置誤差を測定するヘッド定性誤差測定工程と、
前記複数の記録ヘッドを最初のストライプ状領域を記録する位置に移動させた後、その記録ヘッドにより、記録材料に対して記録ヘッドの位置をキャリブレーションするための第1ヘッドキャリブレーションパターンを形成する第1ヘッドキャリブレーションパターン形成工程と、
前記複数の記録ヘッドを最後のストライプ状領域を記録する位置に移動させた後、その記録ヘッドにより、記録材料に対して記録ヘッドの位置をキャリブレーションするための第2ヘッドキャリブレーションパターンを形成する第2ヘッドキャリブレーションパターン形成工程と、
前記複数の記録ヘッドのうちの一つを前記記録材料における各アライメントマークの形成領域に移動させた後、その記録ヘッドにより、記録材料に対してカメラの位置をキャリブレーションするためのカメラキャリブレーションパターンを複数個形成するカメラキャリブレーションパターン形成工程と、
前記第1ヘッドキャリブレーションパターンと前記第2ヘッドキャリブレーションパターンとのうち、互いに隣接するものをカメラにより撮像することにより、それらのずれ量を測定し、そのずれ量から各ヘッドの位置誤差を測定するヘッド位置誤差測定工程と、
前記各カメラキャリブレーションパターンを各カメラにより撮像することにより、カメラキャリブレーションパターンとカメラの視野とのずれ量を測定し、そのずれ量からカメラの位置誤差を測定するカメラ位置誤差測定工程と、を備え、
前記ヘッド定性誤差測定工程で得た各ヘッドの定性位置誤差と、前記ヘッド位置誤差測定工程で得た各ヘッドの位置誤差と、前記カメラ位置誤差測定工程で得たカメラの位置誤差とを利用して、記録材料に形成された複数のアライメントマークを複数のカメラにより撮影して決定した前記複数の記録ヘッドによる画像の記録位置を補正することを特徴とする画像記録方法。 - 一条で長尺の記録材料をY方向に往復移動させるとともに、複数の記録ヘッドを一体的に前記Y方向と直行するX方向に間欠的に移動させることにより画像を記録するとともに、記録材料に形成された複数のアライメントマークを複数のカメラにより撮影して前記複数の記録ヘッドによる画像の記録位置を補正する画像記録装置を使用して画像を記録する画像記録方法において、
前記複数の記録ヘッドにより、記録材料に対して、記録ヘッドの位置をキャリブレーションするためのヘッドキャリブレーションパターンと、カメラの位置をキャリブレーションするためのカメラキャリブレーションパターンとを形成するキャリブレーションパターン形成工程と、
前記ヘッドキャリブレーションパターンと前記カメラキャリブレーションパターンとをカメラで撮像することにより、前記各ヘッドの位置誤差および前記カメラの位置誤差を測定する測定工程と、を備え、
前記測定工程で得た位置誤差を利用して、記録材料に形成された複数のアライメントマークを複数のカメラにより撮影して決定した前記複数の記録ヘッドによる画像の記録位置を補正することを特徴とする画像記録方法。
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2009038805A JP5210199B2 (ja) | 2009-02-23 | 2009-02-23 | 画像記録方法 |
KR1020100015090A KR101109332B1 (ko) | 2009-02-23 | 2010-02-19 | 화상기록방법 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2009038805A JP5210199B2 (ja) | 2009-02-23 | 2009-02-23 | 画像記録方法 |
Publications (3)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2010197426A JP2010197426A (ja) | 2010-09-09 |
JP2010197426A5 JP2010197426A5 (ja) | 2011-07-21 |
JP5210199B2 true JP5210199B2 (ja) | 2013-06-12 |
Family
ID=42822239
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2009038805A Expired - Fee Related JP5210199B2 (ja) | 2009-02-23 | 2009-02-23 | 画像記録方法 |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5210199B2 (ja) |
KR (1) | KR101109332B1 (ja) |
Families Citing this family (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP6413784B2 (ja) * | 2015-01-19 | 2018-10-31 | 株式会社ニコン | 基板処理装置及びデバイス製造方法 |
JP6554330B2 (ja) * | 2015-06-01 | 2019-07-31 | 株式会社オーク製作所 | マスクレス露光装置および露光方法 |
JP6999873B2 (ja) * | 2017-05-10 | 2022-01-19 | セイコーエプソン株式会社 | 印刷装置、及び、制御方法 |
JP7089920B2 (ja) * | 2018-03-29 | 2022-06-23 | 株式会社オーク製作所 | 露光装置 |
Family Cites Families (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP4359475B2 (ja) * | 2003-10-06 | 2009-11-04 | 富士フイルム株式会社 | 画像記録装置 |
JP2006098726A (ja) * | 2004-09-29 | 2006-04-13 | Fuji Photo Film Co Ltd | アライメント部の校正方法と、アライメント校正可能な描画装置と、搬送装置 |
JP4491311B2 (ja) * | 2004-09-30 | 2010-06-30 | 富士フイルム株式会社 | 画像記録装置及び画像記録方法 |
JP2006259153A (ja) * | 2005-03-16 | 2006-09-28 | Fuji Photo Film Co Ltd | アラインメント精度評価方法及び装置 |
JP2006301301A (ja) * | 2005-04-20 | 2006-11-02 | Fuji Photo Film Co Ltd | 搬送誤差計測方法、校正方法、描画方法、露光描画方法、描画装置及び露光描画装置 |
JP2008065034A (ja) * | 2006-09-07 | 2008-03-21 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | 描画装置およびアライメント方法 |
-
2009
- 2009-02-23 JP JP2009038805A patent/JP5210199B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
2010
- 2010-02-19 KR KR1020100015090A patent/KR101109332B1/ko not_active IP Right Cessation
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
KR20100096013A (ko) | 2010-09-01 |
KR101109332B1 (ko) | 2012-01-31 |
JP2010197426A (ja) | 2010-09-09 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
TWI480219B (zh) | 用於加工連續長度可撓性薄層的裝置 | |
TWI271602B (en) | A correcting method and an exposure method of exposure device, and an exposure device | |
JP5362259B2 (ja) | 画像記録装置 | |
KR101136444B1 (ko) | 노광 방법 및 노광 장치 | |
JP4201178B2 (ja) | 画像記録装置 | |
KR101485437B1 (ko) | 기준 위치 측정 장치 및 방법, 및 패턴 형성 장치 | |
US9235135B2 (en) | Exposure apparatus | |
KR20070098990A (ko) | 화상 기록 장치 및 화상 기록 방법 | |
JP5210199B2 (ja) | 画像記録方法 | |
CN101027612A (zh) | 图像记录装置和图像记录方法 | |
TWI573000B (zh) | 曝光微影裝置以及曝光微影方法 | |
TWI581070B (zh) | 曝光微影裝置、記錄程式的記錄媒體以及曝光微影方法 | |
TW201035696A (en) | Alignment method, exposure method, electronic device fabrication method, alignment device, and exposure device | |
JP5032821B2 (ja) | 基板移動装置 | |
JP6723831B2 (ja) | 露光装置 | |
JP2010045099A (ja) | アライメントマーク画像の表示方法およびアライメント装置 | |
TW201411295A (zh) | 光罩單元以及曝光裝置 | |
JP2010067705A (ja) | アライメント方法およびアライメント装置 | |
JP2008251797A (ja) | 基準位置計測装置及び方法、並びに描画装置 | |
JP2006259153A (ja) | アラインメント精度評価方法及び装置 | |
JP2008233638A (ja) | 描画装置および描画方法 | |
JP2012073209A (ja) | シートに形成されたパターンの位置および形状測定装置 | |
JP2008065034A (ja) | 描画装置およびアライメント方法 | |
US9041907B2 (en) | Drawing device and drawing method | |
WO2006090823A1 (ja) | 位置合わせ機能の校正方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20110603 |
|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20111219 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20130129 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20130205 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20130222 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20160301 Year of fee payment: 3 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 5210199 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
S533 | Written request for registration of change of name |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313533 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |