JP5201895B2 - 磁気検出素子およびその製造方法 - Google Patents
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これらに対して、バイアスコイル(ピックアップコイル)を薄膜プロセスにて形成する検討がなされており、特許文献5および非特許文献1では、薄膜プロセスを用いて磁気インピーダンス効果素子およびソレノイド型のバイアスコイル、負帰還コイルを集積したセンサが提案されている。また、特許文献6,7には、平面スパイラルコイルにてバイアスコイル(ピックアップコイル)を形成している。
前記通電部と前記集磁部との間のギャップの大きさは、5〜50μmであることが好ましい。
前記集磁部は、その前記通電部側の端部が、前記渦巻状のコイルの中心部の中に位置していることが好ましい。
前記集磁部は、その前記通電部側の端部が、前記渦巻状のコイルの中心部の中に位置していることが好ましい。
なお、本発明においては、通電部11と集磁部12との間がギャップ14により電気的に絶縁されているのであれば、通電部11の端部が、渦巻状のコイル15a,15bの中心部16a,16bの中に位置していてもよく、あるいは、集磁部12の通電部11側の端部が、渦巻状のコイル15a,15bの中心部16a,16bの中に位置していてもよい。
通電部21,31,41と集磁部22,32,42との間のギャップ24,34,44の大きさは、例えば5〜50μmとすることができる。
まず、シリコンやガラスなどからなる非磁性基板(図2では符号10a)の上に、一個または複数個の長方形状の軟磁性体膜からなる通電部11,21,31,41および前記通電部11,21,31,41の長手方向において前記通電部の各端部よりも外側に位置する軟磁性体膜からなる集磁部12,22,32,42を、通電部と集磁部との間が電気的に絶縁されたギャップ14,24,34,44を介して形成する。軟磁性体膜を形成する方法としては、例えばフォトリソグラフィーによりレジストパターンを非磁性基板上に形成し、軟磁性金属のスパッタリング等によって軟磁性体膜を成膜したのち、レジストを除去してリフトオフによりパターニングする方法が挙げられる。あるいは、軟磁性体膜をスパッタリングにより成膜した上に、フォトレジストにより、所望の形状のレジストパターンを形成したのち、ウエットエッチングまたはドライエッチングにより軟磁性体膜をエッチングして所望の形状の軟磁性体膜を形成するようにしても良い。軟磁性体膜の厚さは、例えば1〜5μmとすることができる。本発明においては、通電部11,21,31,41を構成する軟磁性体膜と、集磁部12,22,32,42を構成する軟磁性体膜とを別々の工程で形成することもできるが、一括して形成することが好ましい。
なお、通電部が1個の軟磁性体膜からなる場合には、複数の軟磁性体膜の間を導通して直列接続するための接続用パッドを省略できる。
Claims (2)
- 非磁性基板上に、一個または複数個の長方形状の軟磁性体膜からなる通電部および前記通電部の長手方向において前記通電部の各端部よりも外側に位置する軟磁性体膜からなる集磁部を、通電部と集磁部との間が電気的に絶縁されたギャップを介して形成する工程と、
前記通電部に、回転磁場中の熱処理とそれに引き続く静磁場中の熱処理とを行って、前記通電部の幅方向に一軸異方性を付与する工程と、
前記通電部の端部に、前記通電部への通電を行うための電極を形成する工程と、
前記通電部および集磁部を覆うように絶縁層を前記非磁性基板上に形成する工程と、
前記絶縁層上に、巻き方向が逆向きで直列に接続された2つの渦巻状のコイルを形成する工程とを有する磁気検出素子の製造方法であって、
前記2つの渦巻状のコイルは、前記通電部が、前記2つの渦巻状のコイルのうちの一方のコイルの中心部と他方のコイルの中心部との間の領域において、前記通電部の一端が前記一方のコイルの中心部に近接するとともに前記通電部の他端が前記他方のコイルの中心部に近接して位置し、前記集磁部が、前記渦巻状のコイルの中心部よりも外側の領域において、前記渦巻状のコイルと重なるように位置しているものとし、
前記通電部を構成する軟磁性体膜と前記集磁部を構成する軟磁性体膜とを、同じ軟磁性体から一括して形成することを特徴とする磁気検出素子の製造方法。 - 前記集磁部は、その前記通電部側の端部が、前記渦巻状のコイルの中心部の中に位置していることを特徴とする請求項1に記載の磁気検出素子の製造方法。
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