JP5201194B2 - 粒子状物質検出装置及び粒子状物質検出素子の製造方法 - Google Patents
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Description
再生時期は、一般的には、PM捕集量の増加により前後差圧が増大することを利用しており、このため、DPFの上流及び下流の圧力差を検出する差圧センサが設置される。
再生処理は、ヒータ加熱あるいはポスト噴射等により高温の燃焼排気をDPF内に導入し、PMを燃焼除去する。
あるいはDPFの上流に設置して、DPFに流入するPM量を測定し、差圧センサに代わる再生時期の判断に利用することも検討されている。
このような粒子状物質検出装置では、一定以上の量の粒子状物質が検出電極間に堆積すると、それ以上、検出抵抗が変化せず、被測定ガス中の粒子状物質の量を検出できなくなる。
そこで、通電により発熱する発熱体を設けて、ヒータ加熱により直接的に検出部を加熱したり、ポスト噴射等により被測定ガスである燃焼排気を高温にして検出部を加熱したりして、検出電極間に堆積した粒子状物質を燃焼除去して検出能力を回復させている。
このため、検出抵抗の値からは、検出電極間に粒子状物質が堆積していない状態であるのか、検出素子と検出回路部とを接続する信号線の電線等の断線異常であるのかを区別することが困難となる虞がある。
さらに、長期の使用によって、不可避的に検出電極を構成する金属が導電層に拡散し、導電層の抵抗値が変化するため、出力が不安定となる虞もある。
上記粒子状物質検出素子が上記検出抵抗に対して並列に配設した静電容量成分を具備し、上記検出回路部が上記粒子状物質検出素子に直流電流を供給する直流電源と、所定の周波数と振幅を持った交流電流を供給する交流電源と、粒子状物質出検出素子に流れる直流電流を検出する直流検出部と、交流電流を検出する交流検出部とを具備し、
上記静電容量成分は、所定の膜厚と所定の比誘電率とを有する絶縁性セラミックスからなる誘電層と、該誘電層を挟んで対向せしめた所定の面積を有する一対の平行平板導体とによって形成したことを特徴とする(請求項1)。
上記検出電極間に粒子状物質が堆積しておらず、上記直流電源によって印加される直流電流が上記粒子状物質検出素子を流れず、上記直流検出部の出力が検出できない状態でも、上記交流検出部によって、上記静電容量成分を介して伝達される交流電流を検出することができる。
このため、上記信号線を介して接続された上記検出回路部と上記粒子状物質検出素子との間に断線異常が生じた場合には、上記交流検出部で検出される交流電流が変化し、速やかに断線異常を検出できる。
また、上記直流検出部によって上記粒子状物質検出素子に流れる直流電流を検出することによって、上記検出電極間に堆積した粒子状物質によって形成された検出抵抗を精度良く測定することができる。
このとき、上記静電容量成分が、誘電層として絶縁性セラミックスを用いることによって、上記平行平板導体間の直流抵抗を大きくし、絶縁性を確保することができるので、上記静電容量成分に直流電流が流れることがなく、上記直流検出部で検出される検出抵抗の出力に影響を与えず、上記検出部に堆積する粒子状物質の量を安定して検出することができる。
また、上記平行平板導体の面積と誘電層の厚さを600℃における直流抵抗が1MΩ以上となるように設定することにより、上記容量成分の絶縁性が確保され、上記直流電源から上記容量成分に直流電流が流れず、上記直流電流検出部における直流電流検出精度が向上する。
しかし、第4の発明によれば、上記静電容量成分が500℃以上の高温に晒される虞がなく、上記誘電層を構成する絶縁性セラミックスの絶縁抵抗が周囲温度からの受熱によって1MΩ以下に低下することがないので、上記静電容量成分に直流電流が流れる虞がない。
したがって、交流電流の検出により上記信号線を介して接続した上記粒子状物質検出素子と上記検出回路部との間に発生した断線異常を速やかに検出すると共に、安定した粒子状物質の検出を可能とする信頼性の高い粒子状物質検出装置が実現できる。
上記検出抵抗に対して並列となるように静電容量成分を形成する静電容量成分形成工程を具備し、該静電容量成分形成工程は、所定の比誘電率と所定の体積抵抗率を有する絶縁性セラミックス粉末と、所定の分散媒と、所定の結合材と、所定の可塑剤とを混合、分散せしめて、スラリー状、又は、ペースト状となし、さらに得られたセラミックスラリー、又は、セラミックペーストを用いて、上記検出電極を設けた上記絶縁性の基体に積層して、塗工、又は、印刷によって上記誘電層を形成する誘電層形成工程と、該誘電層形成工程で得られた誘電層を挟んで一対の平行平板導体を形成すべく、第1の平板導体を形成する第1の平板導体形成工程と、第2の平板導体を形成する第2の平板導体形成工程とを具備する(請求項5)。
また、使用する上記絶縁性セラミックスの比誘電率、形成する誘電層の膜厚、上記平行平板導体の面積を任意に設定することができるので、上記粒子状物質検出素子の交流インピーダンスを容易に所望の値に制御できる。
一方、本発明によらず、一定の静電容量を有する静電容量素子を検出抵抗に対して並列となるように実装した場合には、一旦、粒子状物質検出素子を形成した後、静電容量素子を実装するため、製造工数が増え、製造コストの増加を招く虞がある。
粒子状物質検出装置1は、少なくとも、絶縁性基体100の表面に所定の間隙を設けて対向する一対の検出電極110、120を設けて検出部11とした粒子状物質検出素子10と、粒子状物質検出素子10と一対の信号線116、126を介して接続され、検出部11に堆積する粒子状物質PMによって形成される電気抵抗を検出抵抗RSENとして検出する検出回路部20とを具備して、被測定ガス中に含まれる粒子状物質PMの量を検出する粒子状物質検出装置1において、粒子状物質検出素子10が検出抵抗RSENに対して並列に配設した静電容量成分13を具備し、検出回路部20が粒子状物質検出素子10に直流電流IDCを供給する直流電源21と、所定の周波数fと振幅を持った交流電流IACを供給する交流電源22と、粒子状物質出検出素子10に流れる直流電流IDCを検出する直流検出部23と、交流電流IACを検出する交流検出部24とを具備し、静電容量成分13は、誘電層150として、所定の膜厚dと所定の比誘電率εrとを有する絶縁性セラミックスを挟んで対向せしめた所定の面積Sを有する一対の平行平板導体130、140によって形成したことを特徴とする。
また、静電容量成分13は、検出電極110、120間に粒子状物質が堆積していない状態において、検出電極110、120間を直列に接続している。
粒子状物質検出素子10は、絶縁性基体100と、その表面に形成された一対の検出電極110、120と、検出電極110、120に接続して形成された一対の検出リード部111、121と、検出リード部111、121に接続して形成された検出端子部112、122とによって構成された検出部11を有している。
絶縁性基体100は、アルミナ等の絶縁性耐熱材料を用いて、ドクターブレード法等の公知の方法により略平板状に形成されている。
検出電極110、121、検出リード部111、121、検出端子部112、122は、白金等の導電性材料を用いて、厚膜印刷等の公知の方法により形成されている。
静電容量成分13は、アルミナ等の所定の比誘電率εrを有する絶縁性セラミックスを用いて、所定の膜厚dを有して略平板状に形成された誘電層150と、誘電層150を挟み込むように、その両面に形成され、所定の面積Sを有して対向する一対の平板導体130、140と、平板導体130、140のそれぞれに接続して形成された導体リード部131、141と、導体リード部131、141に接続して、誘電層150及び絶縁性基体100を貫通するスルーホール電極132、142、143が形成され、検出部リード部111、121に接続され、検出抵抗RSENに対して並列となっている。
平板導体130、140は、厚さdの誘電層150を介して対向する平行平板導体を構成し、静電容量成分13を形成している。
静電容量成分13の静電容量C13は、比誘電率εr、真空の誘電率ε0、平板導体130、140の面積S、誘電層150の厚さdとしたとき、C13=εrε0S/dとなる。
また、静電容量成分13の交流インピーダンスZは、Z=1/jωC13(jは虚数単位。)で表され、交流インピーダンスZの絶対値|Z|は、1/ωC13=1/2/π/f/C13(fは、印加する交流電流の周波数)で表される。
本実施形態において、平板導体130、140の面積S、誘電層150の膜厚dは、交流インピーダンスZの絶対値が200kΩ以下となるように形成されている。
即ち、平板導体130、140の面積Sを10(mm2)とし、誘電層150を構成するアルミナの比誘電率εrを11.2とし、後述する交流電源22から印加される交流電流の周波数fを20kHzとした場合、C13が、1000/8/π=39.8pF以上となるように、即ち、膜厚dは、11.2×8.854×10/39.8=24.9μm以下に形成されている。
また、本実施形態では、誘電層150は、600℃において1.4×1011(Ωm)以上の体積抵抗率ρを有する絶縁性セラミックスを用いて、誘電層150の直流抵抗R150が、1MΩ以上となる膜厚dに形成されている。
即ち、本実施形態においては、d≧7(μm)の関係が成り立つ。
誘電層150は、所定の比誘電率εrと所定の体積抵抗率ρを有する絶縁性セラミックス粉末と、所定の分散媒と、所定の結合材と、所定の可塑剤とを混合、分散せしめて、スラリー状、又は、ペースト状となす絶縁性セラミックス混合・分散工程と、絶縁性セラミックス混合・分散工程において得られたセラミックスラリー、又は、セラミックペーストを用いて、絶縁性基体100に積層して、塗工、又は、印刷によって誘電層150を形成する誘電層形成工程を経て形成される。
本実施形態においては、絶縁性セラミックスを所定の分散剤等に分散せしめたスラリーを用いてドクターブレード法によって所定の膜厚dを有する略平板状の誘電層150を形成する。
第1の平板導体形成工程では、略平板状に形成された誘電層150の一方の面に、Pt等の金属ペーストを用いて所定の面積Sを有する第1の平板導体130と第1の平板導体リード部131とを印刷形成し、さらに、第2の平板導体形成工程では、誘電層150の他方の面に、Pt等の金属ペーストを用いて所定の面積Sを有する第2の平板導体140と第2の平板導体リード部141とを印刷形成する。
さらに、第1の平板導体リード部131と検出リード部111とを接続すべく、絶縁性基体100の裏面側と表面側とを貫通するように設けたスルーホール内にPt等の電極ペーストを充填してスルーホール電極132を形成する。
さらに、第2の平板導体リード部141と検出リード部121と接続すべくと、絶縁性基体100の裏面側と表面側とを貫通するように設けたスルーホール内に電極ペーストを充填してスルーホール電極143を形成すると共に、誘電層150も裏面側と表面側とを貫通するように設けたスルーホール内にPt等の電極ペーストを充填して、スルーホール電極142を形成する。
これらを一体的に積層することで、誘電層150を挟んで平板導体130と平板導体140とが対向し、一対の平行平板導体が形成され、それぞれが、リード部111、121と接続状態となり、検出抵抗RSENに対して、静電容量成分13が並列に接続された状態となる。
なお、第2の平板導体140とヒータリード部161a、161bとの絶縁性を確保するために、絶縁性基体101と同様の略平板状に形成した絶縁性基体によって発熱体160とヒータリード部161a、161bとを覆っても良い。
保護層160は、検出リード部111、121を保護すると共に、検出部11以外への粒子状物質PMの堆積による誤作動を防止している。
上述の如くの製造工程を経て得られた積層構造の成形体を焼成することにより一体の粒子状物質検出素子10が完成する。
粒子状物質検出センサ1は、粒子状物質検出素子10を内側に挿入保持する略筒状のインシュレータ185と、被測定ガスの流れる流路壁50に固定され、インシュレータ185を保持すると共に、粒子状物質検出素子10の検出部11を被測定流路500内の所定の位置に保持するハウジング17と、ハウジング17の先端側に設けられ、粒子状物質検出素子10の検出部11を保護するカバー体190と、ハウジング17の基端側に設けられ、接続金具113、114、123、124を介して粒子状物質検出素子10の端子部112、122に接続され、検出部11に捕集・堆積されたPM量に応じて変化する検出電極110、120間の検出電気抵抗RSENを外部の検出回路部20に伝達する一対の信号線115、125と、粒子状物質検出素子10に内蔵されたヒータ160とヒータ端子部163a、163b、接続金具164a、164b、165a、165bを介して接続される一対の導通線166a、166bとを、封止部材182を介して基端側で固定する略筒状のケーシング18とによって構成されている。
カバー体190には、PMを含む被測定ガスを検出部11に導入するための被測定ガス入出孔192、193が適宜穿設され、基端側に設けたフランジ部191がハウジング17の先端側に設けた加締め部174によって加締め固定されている。
本実施形態において、静電容量成分13は、粒子状物質検出10に内蔵され、インシュレータ185内で500℃以下の安定した温度となる位置に配置してある。
粒子状物質PMを含む被測定ガスが、被測定ガス流路500内を流れ、カバー体190に設けられた被測定ガス入出孔192から導入され、被測定ガス中に検出部11を晒している粒子状物質検出素子10の検出部11の表面に接触し、検出電極110、120の間にPMが堆積するようになっている。
粒子状物質検出素子10の検出部11を構成する検出電極110、120間に堆積した粒子状物質によって形成される電気抵抗を検出抵抗RSENとして、静電容量成分13が検出抵抗RSENに対して並列に接続された状態となっている。
検出回路部20には、粒子状物質検出素子10に直流電流IDCを印加する直流電源21と、交流電流IACを印加する交流電源22と、検出抵抗RSENを流れる直流電流IDCを検出する直流検出部23と、静電容量成分13を介して流れる交流電流IACを検出する交流電流検出部24とが設けられている。
検出電極110、120間に粒子状物質PMが堆積し、検出抵抗RSENが形成されると、直流電流電源21印加された直流電圧VDCに対して、検出抵抗RSENに応じた直流電流IDCが流れ、直流検出部23によって、直流電流IDCが検出され、直流電流IDCの変化によって検出部11に堆積した粒子状物質PMの量を算出することができる。
さらに、交流電源22から印加された交流電圧VACに対して、静電容量成分13を介して交流電流IACが流れ、交流検出部24によって、交流電流IACを検出することによって、検出リード部111、121、検出端子部112、122、接続金具113、114、123、124、信号線115、125を介して接続された粒子状物質検出素子10と検出回路部20との間に発生する断線異常を検出することができる。
なお、発熱体160の一端は、通電用リード部161aから通電線166aを介して駆動電源31に接続され、他端は、通電用リード部161b、通電線166bを介して発熱体制御装置30に設けられた駆動部32によって開閉制御される開閉素子320、及び発熱体160に流れる電流を検出する電流検出手段330を介して接地され、電流検出手段330によって検出されたヒータ抵抗を基に温度検出部33によって発熱体160の温度が検出され、発熱体160の温度制御に用いられている。
開閉素子320には、MOSFET等の半導体が用いられ、駆動部32から発振される駆動信号にしたがって開閉され、発熱体40にパルス電流を供給し、通電パルスのデューティ比を制御することで発熱量を調整することができる。
本図(a)に示すように、本発明の粒子状物質検出素子10を備えた粒子状物質検出センサ1と検出回路部20とを接続する信号線116、126の間に、断線を模した開閉スイッチSWを設け、スイッチを開閉したときに検出される直流電流IDC及び交流電流IACの変化を調査した。
本図(b)に示すように、正常な状態においては、粒子状物質検出素子10の検出部11に堆積するPMの量、及び、粒子状物質検出素子10の温度の変化によって、検出抵抗RSEN及び静電容量成分13の静電容量C13との合成インピーダンスが変化し、交流検出部24によって検出される出力電圧VACが1.4V〜5V程度まで変化し、断線時には、0.8V〜1.0V程度の出力となる。
そこで、発熱体160に通電をし、検出部11にPMが堆積していない状態とし、断線を模した開閉スイッチを閉じた状態から開いた状態に変化させたところ、本図(c)に示すように、交流検出部24の出力は、スイッチを閉じて正常時を模した状態では1.55Vを示し、スイッチを開いて断線時を模した状態では0.9Vに変化し、正常時と断線時とが明確に区別され、本図(d)に示すように、直流検出部23の出力は、検出電極110、120間の導通がないのでスイッチの開閉に拘わらず、検出されなかった。
このように、本発明の粒子状物質検出素子10を用いれば、検出部11にPMが堆積していない状態で、交流電流IACを検出することによって明確に信号線116、126に発生する断線異常を検出できることが確認された。
図5(a)は、誘電層150をアルミナによって形成した場合の予備試験として、比誘電率εr=11.2、厚さd=0.5mmのアルミナ基板の両面に、面積S=1.1cm2の平板導体を形成して、10kHzと20kHzの交流電流を掃引して、測定温度を常温から700℃まで変化させたときの交流インピーダンス|Z|の変化をインピーダンスアナライザを用いて調査した結果であり、 図5(b)は、誘電層150をジルコニアによって形成した場合の予備試験として、比誘電率εr=12.5、厚さd=0.5mmのジルコニア基板の両面に、面積S=1.1cm2の平板導体を形成して、10kHzと20kHzの交流電流を掃引、測定温度を変化させたときの交流インピーダンス|Z|の変化を調査した結果である。
本図に示すように、いずれの場合も、温度上昇にともない、交流インピーダンスの低下が観察された。
また、実際の粒子状検出素子10に用いた場合、交流検出部24によって検出可能な交流インピーダンスとしては、200kΩ以下であることが望ましく、アルミナを用いる場合には、誘電層150の厚さdを0.5mmとしたのでは、交流インピーダンスが高過ぎて検出が困難であると推察される。
一方、ジルコニアを用いた場合は、掃引する交流電流が20kHzの場合には、d=0.5mmであっても、全ての温度領域で、交流インピーダンスが200kΩ以下であるが、粒子状物質検出素子10が使用される300℃以上の温度になると、周波数に拘わらず、交流インピーダンスが低すぎて検出できなくなる虞がある。
本図(a)に示すように、厚さdを25μmに設定し、掃引する周波数を20kHzにすれば、常温から700℃の温度領域において、交流インピーダンスが200kΩ以下となり、容易に検出可能となると期待できる。
また、本図(b)に示すように、厚さを12.5μmに設定すれば、掃引する周波数によらず、常温から700℃の温度領域において、交流インピーダンスが200kΩ以下となり、容易に検出可能となると期待できる。
図8(a)は、代表的なアルミナの堆積抵抗率の温度特性を示す特性図であり、本図(b)は、誘電層150の厚さdを変化させたときの第1の平板導体130と第2の平板導体140との間の直流抵抗RALの変化を示す特性図である。
本図(a)に示すように、600℃におけるアルミナの堆積抵抗率ρは、アルミナの含有率によって、4×1010Ωm〜1.4×1011Ωm程度の差がある。
また、本図(b)に示すように、例えば、96%のアルミナを用いた場合、誘電層150の厚さdを7μm以上とすれば、600℃においても1MΩ以上の直流抵抗RALが確保されることが分かる。
したがって、例えば、96%のアルミナを用いた場合、誘電層150を、7μm以上、25μm以下に設定すれば、交流インピーダンスは200kΩ以下となり、600℃における直流抵抗は1MΩ以上が確保できるので、PM検出に影響を与えることなく、かつ、断線検出が容易にできると期待できる。
本図(a)に示すように、静電容量成分13(A)、13(z)を構成する誘電層150(A)、150(Z)として、それぞれアルミナとジルコニアを用いた粒子状物質検出素子10(A)、10(Z)を作成し、さらに検出リード部111、121を切断して意図的に素子内の断線を模したサンプルを作成し、測定温度TEXを常温から素子が通常使用される400℃まで加熱したときの交流検出部20で検出される出力の変化を調査しその結果を本図(b)に示す。
本図(b)に150(A)として示すように、アルミナを用いた場合には、測定温度が400℃に上昇しても交流電流は全く検出されず、断線状態であることを検出できた。
一方、本図(b)に150(Z)として示すように、ジルコニアを用いた場合には、測定温度の上昇と共に、平板導体130、140間の直流抵抗R(Z)が徐々に低下し、測定開始後500秒経過した頃から出力電圧が徐々に上昇している。
これは、ジルコニアの半導体的性質により、温度上昇に伴い導電性を生じるためと推察される。
したがって、使用環境である400℃前後の温度において、交流インピーダンスが低く、検出が困難である上に、十分な絶縁性を確保できないジルコニアは本発明の粒子状物質検出素子10の誘電層150として用いるのは不適当であることが判明した。
一方、アルミナは、誘電層150の厚さdを7μm以上、25μm以下で形成すれば、充分な絶縁性と検出容易な交流インピーダンスを実現できるので、本発明の粒子状物質検出素子10の誘電層150として有効であることが判明した。
また、誘電層150の材料としてアルミナ以外の絶縁性セラミック材料としては、アルミナ、ベリリア、カルシア、マグネシア、トリア、スピネルから選択されるいずれかの材料又はこれらの複合セラミックスを好適に用いることができると期待される。
本発明の粒子状物質検出素子10の誘電層150の材料として用いるためには、以下の条件に適応することが望ましい。
即ち、600℃における誘電層150の直流抵抗が1MΩ以上となる所定の体積抵抗率を有するものであり、誘電層150の交流インピーダンスが200kΩ以下となり、誘電層150の600℃における直流抵抗が1MΩ以上となるように、平行平板導体130、140の面積Sと誘電層150の厚さdとを設定する。
誘電層150を構成する絶縁性セラミックス材料の比誘電率εr、真空の誘電率ε0、誘電層150の厚さd、平板導体130、140の面積S、と静電容量成分13の静電容量C13との間には、
C13=ε0・εr・S/dの関係が成り立ち、交流インピーダンスZと静電容量C13と掃引周波数fとの間には、
Z=1/(j・ω・C13)=1/(j・2π・f・C13)(jは虚数単位)、よって、|Z|=1/(2π・f・C13)の関係が成り立つ。
また、600℃における絶縁性セラミックス材料の堆積抵抗率ρ(Ωm)と、誘電層150の厚さd(μm)とから、静電容量成分13の直流抵抗R13が算出され、これが1MΩ以上であることが望ましい。
即ち、ρ・d≧1(MΩ)となるように、堆積抵抗率ρ又は誘電層150の厚さdを設定する。
上記実施形態においては、誘電層150をドクターブレード法などによって、略平板状に形成し、検出部11を構成する絶縁性基体101の裏面側に積層した例を示したが、本実施形態に示すように、絶縁性基体101の検出電極110、120を設けた表面に第1の平板導体130aと第1の平板導体リード部121aとを形成し、絶縁性セラミックスを用いた印刷ペーストを作成し、第1の平板導体130aを覆うように、誘電層150aを印刷形成し、さらに誘電層150aに積層して、第2の平板導体140a、第2の平板導体リード部141aを形成しても良い。
このような構成とすることにより、スルーホール電極132、142、143を介することなく直接的に、第1の平板導体リード部131aと検出リード部111とを接続させ、第2の平板導体リード部141aと検出リード部121とを接続させることができるので、さらに本発明の粒子状物質検出素子10aの製造が容易となる。
厚膜印刷によって形成できる誘電層150aの厚さdは数μm〜20μm程度であるので、静電容量成分13aが、所望の交流インピーダンスZ13及び、直流抵抗R13を有するように、印圧や、印刷回数を調整することによって容易に適切な膜厚dに形成することができる。
上記実施形態においては、検出部11を複数の検出電極110、120が櫛歯状に並んで対向したものについて説明したが、本実施形態に示すように、対向電極として、直線状に伸びる検出電極110b、120bを対向せしめ、検出部11bが露出するように、開口部161bを設けた絶縁保護層160bで覆ったものでも良い。
本実施形態においても、静電容量成分13bは、検出電極110b、120b間に粒子状物質が体積している状態においては、検出抵抗RSENに対して並列に接続された状態となり、検出電極110b、120b間に堆積していない状態において、検出電極110、120間を直列に接続している。
図12(a)に示すように、本発明の第3の実施形態においても粒子状物質検出素子10bの内部に意図的な断線を形成して試験を行った所、上記実施形態と同様、図12(b)に150b(A)として示すように、容量成分13b(A)を構成する誘電層150b(A)としてアルミナを用いた場合には、検出部11b内部の断線を確実に検出することができ、図12(b)に150b(Z)として示すように容量成分13b(Z)を構成する誘電層150b(Z)としてジルコニアを用いた場合には、温度TEXの上昇に伴い誘電層150b(Z)の絶縁抵抗RZが低下して断線を検出することができなくなる。
したがって、本実施形態の粒子状物質検出素子10bにおいても、600℃における誘電層150b(A)の直流抵抗が1MΩ以上となる所定の体積抵抗率を有するアルミナ等を用いて、誘電層150b(A)の交流インピーダンスが200kΩ以下となり、誘電層150b(A)の600℃における直流抵抗が1MΩ以上となるように、平行平板導体130、140の面積Sと誘電層150の厚さdとを設定することによって確実に断線異常を検出できることが確認された。
1 粒子状物質検出センサ
10 粒子状物質検出素子
11 検出部
101、102 絶縁性基体
110、120 検出電極
111、121 検出リード部
112、122 信号線
13 静電容量成分
130、140 平行平板導体
131、141 平行平板導体リード部
132、142、143 スルーホール電極
150 誘電層
20 検出回路部
21 直流電源
22 交流電源
23 直流検出部
24 交流検出部
Claims (5)
- 少なくとも、絶縁性基体の表面に所定の間隙を設けて対向する一対の検出電極を設けて検出部とした粒子状物質検出素子と、該粒子状物質検出素子と一対の信号線を介して接続され、上記検出部に堆積する粒子状物質によって形成される電気抵抗を検出抵抗として検出する検出回路部とを具備して被測定ガス中に含まれる粒子状物質の量を検出する粒子状物質検出装置において、
上記粒子状物質検出素子が上記検出抵抗に対して並列に配設した静電容量成分を具備し、
上記検出回路部が上記粒子状物質検出素子に直流電流を供給する直流電源と、所定の周波数と振幅を持った交流電流を供給する交流電源と、粒子状物質出検出素子に流れる直流電流を検出する直流検出部と、交流電流を検出する交流検出部とを具備し、
上記静電容量成分は、所定の膜厚と所定の比誘電率とを有する絶縁性セラミックスからなる誘電層と、該誘電層を挟んで対向せしめた所定の面積を有する一対の平行平板導体とによって形成したことを特徴とする粒子状物質検出装置。 - 上記検出電極間に粒子状物質が堆積していない状態において、上記静電容量成分が一対の上記検出電極間を直列に接続する請求項1に記載の粒子状物質検出装置。
- 上記誘電層の交流インピーダンスが200kΩ以下となり、上記誘電層の600℃における直流抵抗が1MΩ以上となるように、上記平行平板導体の面積と上記誘電層の厚さとを設定した請求項1又は2に記載の粒子状物質検出装置。
- 上記静電容量成分を、上記粒子状物質検出素子において温度が500℃以下となる位置に配設せしめた請求項1ないし3のいずれかに記載の粒子状物質検出装置。
- 絶縁性の基体上に所定の間隙を隔てて対向する一対の検出電極を設けて、該検出電極間に堆積する粒子状物質の量によって変化する電気抵抗を検出抵抗として検出する粒子状物質検出素子の製造方法であって、
上記検出抵抗に対して並列となるように静電容量成分を形成する静電容量成分形成工程を具備し、
該静電容量成分形成工程は、
所定の比誘電率と所定の体積抵抗率を有する絶縁性セラミックス粉末と、所定の分散媒と、所定の結合材と、所定の可塑剤とを混合、分散せしめて、スラリー状、又は、ペースト状となし、さらに得られたセラミックスラリー、又は、セラミックペーストを用いて、上記検出電極を設けた絶縁性の基体に積層して、塗工、又は、印刷によって誘電層を形成する誘電層形成工程と、
該誘電層形成工程で得られた誘電層を挟んで一対の平行平板導体を形成すべく、第1の平板導体を形成する第1の平板導体形成工程と、第2の平板導体を形成する第2の平板導体形成工程とを具備することを特徴とする粒子状物質検出素子の製造方法。
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