JP5198966B2 - マスク用基板検査装置 - Google Patents
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- 238000007689 inspection Methods 0.000 title claims description 128
- 239000000758 substrate Substances 0.000 title claims description 124
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 claims description 78
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 claims description 29
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 11
- 238000003825 pressing Methods 0.000 claims description 7
- 230000007547 defect Effects 0.000 claims description 3
- 230000008878 coupling Effects 0.000 description 11
- 238000010168 coupling process Methods 0.000 description 11
- 238000005859 coupling reaction Methods 0.000 description 11
- 230000005484 gravity Effects 0.000 description 7
- 238000001514 detection method Methods 0.000 description 4
- 230000010365 information processing Effects 0.000 description 4
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 4
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 4
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 3
- NJPPVKZQTLUDBO-UHFFFAOYSA-N novaluron Chemical compound C1=C(Cl)C(OC(F)(F)C(OC(F)(F)F)F)=CC=C1NC(=O)NC(=O)C1=C(F)C=CC=C1F NJPPVKZQTLUDBO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000011109 contamination Methods 0.000 description 2
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- 239000000428 dust Substances 0.000 description 2
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 description 2
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 2
- 238000001459 lithography Methods 0.000 description 2
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 2
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 1
- 238000001444 catalytic combustion detection Methods 0.000 description 1
- 238000006073 displacement reaction Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 1
- 229920002120 photoresistant polymer Polymers 0.000 description 1
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 1
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 1
Landscapes
- Investigating Materials By The Use Of Optical Means Adapted For Particular Applications (AREA)
- Preparing Plates And Mask In Photomechanical Process (AREA)
Description
101・・・検査光学系機構
102・・・基板支承系機構
W・・・レチクル
L・・・検査光
1・・・光源
2・・・光センサ
3・・・ステージ
4・・・支持基体
5・・・基板保持体
51・・・保持本体
54・・・突出体
55・・・挟圧体
6・・・姿勢調整機構
7・・・回転軸
8・・・平行調整機構
9・・・検査角度位置保持機構
91・・・当たり面
92・・・被当たり面
93・・・回転駆動源(電動モータ)
93a・・・出力軸
94・・・カップリング
10・・・出力軸角度検出手段
P・・・表面検査角度位置
Q・・・裏面検査角度位置
C・・・回転軸線
Claims (5)
- 露光工程で用いられるマスク用基板に検査光を照射し、その反射光又は透過光に基づいて、当該マスク用基板上に存在する異物又は欠陥を検査するものであって、
前記検査光を射出する光源及び前記反射光又は透過光を受光する光センサからなる検査光学系機構と、
支持基体と、
前記支持基体の検査光学系機構に対する姿勢を調整するための姿勢調整機構と、
前記マスク用基板を保持するとともに前記支持基体に回転可能に接続された基板保持体と、
前記基板保持体の回転角度位置を、表面に検査光が照射される表面検査角度位置、及び該表面検査角度位置から反転して裏面に前記検査光が照射される裏面検査角度位置に保持する検査角度位置保持機構と、
前記基板保持体に保持されたマスク用基板の表裏面が、基板保持体の回転軸線と平行になるように当該基板保持体の支持基体に対する姿勢を調整可能な平行調整機構とを具備していることを特徴とするマスク用基板検査装置。 - 前記基板保持体が、回転軸に取り付けられた保持本体と、該保持本体から突出する複数の突出体と、前記突出体に対向する位置にそれぞれ設けられた挟圧体とを具備し、前記挟圧体を突出体に向かって移動させることで該突出体との間でマスク用基板を厚み方向から挟み込んで保持するものである請求項1記載のマスク用基板検査装置。
- 前記平行調整機構が、前記突出体の保持本体からの突出寸法を調整することによって該保持本体に対するマスク用基板の姿勢を変化させ、該マスク用基板の表裏面が前記回転機構の回転軸線と平行になるように調整するものである請求項2記載のマスク用基板検査装置。
- 前記平行調整機構が、前記保持本体と突出体との間に設けたねじ送り機構によって突出体の保持本体からの突出寸法を調整するものである請求項2記載のマスク用基板検査装置。
- 検査光を走査して前記マスク用基板の表裏面をエリア検査する請求項1乃至4記載のマスク用基板検査装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2008194213A JP5198966B2 (ja) | 2008-07-28 | 2008-07-28 | マスク用基板検査装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2008194213A JP5198966B2 (ja) | 2008-07-28 | 2008-07-28 | マスク用基板検査装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2010032337A JP2010032337A (ja) | 2010-02-12 |
JP5198966B2 true JP5198966B2 (ja) | 2013-05-15 |
Family
ID=41736990
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2008194213A Active JP5198966B2 (ja) | 2008-07-28 | 2008-07-28 | マスク用基板検査装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5198966B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN111426655B (zh) * | 2020-03-09 | 2023-10-20 | 有研国晶辉新材料有限公司 | 测量辅助平台以及透过率测试方法 |
Family Cites Families (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH05215689A (ja) * | 1992-02-05 | 1993-08-24 | Seiko Epson Corp | 異物検査装置及び異物検査方法 |
JP2991697B1 (ja) * | 1998-07-10 | 1999-12-20 | 株式会社ニデック | ウェーハ検査装置 |
JP2003255206A (ja) * | 2002-02-28 | 2003-09-10 | Ando Electric Co Ltd | 平面回折格子の調整機構及びその製造方法 |
JP2007084333A (ja) * | 2005-09-26 | 2007-04-05 | Horiba Ltd | 板材の自立補助機構及び欠陥検査装置 |
-
2008
- 2008-07-28 JP JP2008194213A patent/JP5198966B2/ja active Active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2010032337A (ja) | 2010-02-12 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20110610 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20120815 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
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TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
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FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
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R250 | Receipt of annual fees |
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