JP5196301B2 - Tribochemical reaction promoting surface structure - Google Patents

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Description

本発明は、トライボケミカル反応促進面構造に関するものである。   The present invention relates to a tribochemical reaction promoting surface structure.

自動車のエンジン等の摺動部材には、通常の潤滑油に加えて摩擦調整剤(添加剤)が含有されている。この摩擦調整剤は、摺動部材を摩擦させることにより、例えば二硫化モリブデン等の摩擦抵抗の極めて小さい反応生成物である固体潤滑膜を表面に生成する機能を有する。   Sliding members such as automobile engines contain friction modifiers (additives) in addition to ordinary lubricating oil. This friction modifier has a function of generating a solid lubricating film on the surface, which is a reaction product having a very small frictional resistance, such as molybdenum disulfide, by rubbing the sliding member.

ところで、摺動面の表面状態によって反応生成物の生成に影響を与えることが従来の研究で判明している(非特許文献1)。すなわち、酸化物等にて被覆された平滑な面同士を摺動させる場合、表面は安定な状態であるため化学反応は起こりにくい。一方、表面粗さを有する凹凸面では、応力集中により新生面が形成されやすくなる。原子間の結合が切られた新生面表面は活性な状態となる。この場合、摺動による摩擦にて発生する熱及びせん断力等の影響で摩擦調整剤自体も活性化され、金属面との反応が促進されて反応生成物が表面に形成される。   By the way, it has been found in the conventional research that the generation of the reaction product is influenced by the surface state of the sliding surface (Non-Patent Document 1). That is, when sliding smooth surfaces covered with an oxide or the like, the chemical reaction hardly occurs because the surfaces are in a stable state. On the other hand, on the concavo-convex surface having the surface roughness, a new surface is likely to be formed due to stress concentration. The surface of the new surface where the bonds between atoms are broken is in an active state. In this case, the friction modifier itself is activated under the influence of heat and shearing force generated by friction caused by sliding, and the reaction with the metal surface is promoted to form a reaction product on the surface.

このように、平滑な鏡面より表面粗さを与えた面の方が化学反応が起こり易く、反応生成物が生成され易い。そこで、従来では摺動面に表面粗さを付与するために、エメリー紙や機械加工等にて意図的に凹凸を形成していた。
松舘心 久保朋生 七尾英孝 南一郎 森誠之 表面形状によるトライボケミカル反応と摩擦特性の制御 トライボロジー会議予稿集 佐賀 2007−9,(2007)5
As described above, a chemical reaction is more likely to occur on the surface having a surface roughness than a smooth mirror surface, and a reaction product is likely to be generated. Therefore, conventionally, in order to impart surface roughness to the sliding surface, irregularities are intentionally formed by emery paper or machining.
Shingo Matsubo, Hideo Kubo, Hidetaka Nanao, Ichiro Minami, Masayuki Mori Controlling Tribochemical Reaction and Friction Properties by Surface Shape Tribology Conference Proceedings Saga 2007-9, (2007) 5

前記のように、エメリー紙や機械加工等で表面粗さを付与すると、図21に示すように、摺動面101には複数の凸部102と凹部103とからなる加工面が形成される。この凹凸は、幅(凸部102の頂点104から、隣接する凸部102の頂点104までの寸法)がaとなり、凹凸高さ(凸部102の頂点104から凹部103の谷底105までの寸法)がbとなる。この場合、幅aは数十μm〜数百μmとなるとともに、凹凸高さbは数μmとなる。すなわち、幅aと凹凸高さbとのアスペクト比が極めて小さく、摺動面101はゆるやかなカーブとなっていた。   As described above, when surface roughness is imparted by emery paper, machining, or the like, a processed surface composed of a plurality of convex portions 102 and concave portions 103 is formed on the sliding surface 101 as shown in FIG. The unevenness has a width (a dimension from the vertex 104 of the convex part 102 to the vertex 104 of the adjacent convex part 102), and an irregularity height (a dimension from the vertex 104 of the convex part 102 to the valley bottom 105 of the concave part 103). Becomes b. In this case, the width a is several tens μm to several hundreds μm, and the uneven height b is several μm. That is, the aspect ratio between the width a and the uneven height b was extremely small, and the sliding surface 101 was a gentle curve.

摺動部材の摺動により、摺動面101は図21の矢印に示す方向、すなわち凸部102の頂点104から奥側に向かって削られて新生面が生成される。この場合、幅aと高さ寸法bとのアスペクト比が極めて小さいため、他方の摺動面(図示省略)との接触点の曲率半径が大きい。このため、応力集中が生じにくく、新生面が効率的に生成されない。また、曲率半径が大きいと、他方の摺動面も凸部102の形状に沿って弾性変形を行い易くなり、摺動面101が他方の摺動面と当接する範囲が大きくなって、単位面積当たりの力が小さくなる。これらの理由から、新生面を生成するためには大きな粗さを付与する必要があった。大きな粗さを付与した場合、新生面の面積比が所定の値に達するまでには大きな摩耗量が必要となり、なじみ過程の長期化や摺動面の寸法変化という問題があった。 By sliding of the sliding member, the sliding surface 101 is shaved from the direction shown by the arrow in FIG. In this case, since the aspect ratio between the width a and the height dimension b is extremely small, the radius of curvature of the contact point with the other sliding surface (not shown) is large. For this reason, stress concentration is unlikely to occur, and a new surface is not efficiently generated. In addition, when the radius of curvature is large, the other sliding surface is also easily elastically deformed along the shape of the convex portion 102, and the range in which the sliding surface 101 abuts on the other sliding surface increases, resulting in a unit area. The hit force is reduced. For these reasons, it was necessary to give a large roughness to generate a new surface. When a large roughness is imparted, a large amount of wear is required until the area ratio of the new surface reaches a predetermined value, which causes problems such as a prolonged conforming process and a change in the dimensions of the sliding surface.

さらには、幅aが大きいため、1つの凸部102の幅寸法も大きい。このため、1つの凸部102にて形成される新生面の面積が広くなる。これにより、新生面の中央部分(凸部102の頂点104の近傍)から凹部103までの寸法が長くなって、新生面の中央部分には摩擦調整剤が供給されにくく、新生面を生成しても摩擦調整剤が供給されずに化学反応が起こりにくいという問題があった。   Furthermore, since the width a is large, the width dimension of one convex part 102 is also large. For this reason, the area of the new surface formed by one convex part 102 becomes wide. As a result, the dimension from the central portion of the new surface (near the apex 104 of the convex portion 102) to the concave portion 103 becomes longer, and it is difficult for the friction modifier to be supplied to the central portion of the new surface. There was a problem that a chemical reaction hardly occurred without supplying the agent.

本発明は、上記課題に鑑みて、小さな粗さを付与することにより容易に摩耗して新生面を生成でき、かつ新生面にきめ細かく摩擦調整剤が供給されるトライボケミカル反応促進構造を提供する。   In view of the above-described problems, the present invention provides a tribochemical reaction promoting structure that can be easily worn by providing a small roughness to generate a new surface, and that a friction modifier is finely supplied to the new surface.

本発明のトライボケミカル反応促進面構造は、第1部材の摺動面と第2部材の摺動面とが、摩擦調整材を含有する添加油潤滑下で相対的に摺動することにより新生面を生成するトライボケミカル反応促進面構造であって、少なくとも一方の摺動面にサブミクロンオーダーの凹凸高さを間隔を有するグレーティング状の周期構造を形成したものである。 In the tribochemical reaction promoting surface structure of the present invention, the sliding surface of the first member and the sliding surface of the second member slide relative to each other under lubricated additive oil containing a friction modifier. a tribochemical reaction promoting surface structure produced is obtained by forming a grating-like periodic structure having a spacing irregularities height of submicron order on at least one sliding surface.

本発明では、摺動面の表面粗さに着眼するのではなく、接触点の曲率半径に着眼する。本発明のトライボケミカル反応促進面構造によれば、第1部材の摺動面と第2部材の摺動面のうち少なくとも一方の摺動面にサブミクロンオーダーの凹凸高さと間隔を有するグレーティング構造を形成しているので、従来の表面粗さ付与面と比較して凹凸の高さと間隔とのアスペクト比が大きくなる。これにより、表面粗さは小さいものの凸部の先端部の曲率半径が小さく(鋭く)なり、凸部の単位面積当たりにかかる力が大となる。また、凸部の先端部から、隣接する凸部の先端部までの間隔が小さいので、1つの凸部にて生成される新生面の面積が狭くなって、新生面全体に十分な量の摩擦調整剤がきめ細かく効率的に供給される。さらに、サブミクロンの摩耗量で十分な新生面の面積が確保される。ここで第1部材や第2部材としては、湿式クラッチ、エンジンのピストン、ギヤ、スプライン、すべり軸受、動弁系部品等の摺動部分を有する機械部品である。 In the present invention, the focus is not on the surface roughness of the sliding surface but on the radius of curvature of the contact point. According to the tribochemical reaction promoting surface structure of the present invention, a grating structure having a concavo-convex height and spacing of submicron order on at least one of the sliding surface of the first member and the sliding surface of the second member. Since it is formed, the aspect ratio between the height of the unevenness and the interval is larger than that of the conventional surface roughness imparting surface. Thereby, although the surface roughness is small, the radius of curvature of the tip of the convex portion becomes small (sharp), and the force applied per unit area of the convex portion becomes large. Moreover, since the space | interval from the front-end | tip part of a convex part to the front-end | tip part of an adjacent convex part is small, the area of the new surface produced | generated by one convex part becomes narrow, and the friction modifier of sufficient quantity for the whole new surface Finely and efficiently supplied. Furthermore, a sufficient area of the new surface is secured with a submicron wear amount. Here, the first member and the second member are mechanical parts having sliding portions such as a wet clutch, an engine piston, a gear, a spline, a plain bearing, and a valve train system part.

前記グレーティング状の周期構造の方向を摺動方向と直交させることができる。すなわち、他の摺動面が凸部に当接した後、凹部を通過して隣の凸部に当接する。このように、他の摺動面は1間隔毎に新生面の生成と摩擦調整剤の供給とが繰り返されることになる。   The direction of the grating-like periodic structure can be orthogonal to the sliding direction. That is, after the other sliding surface comes into contact with the convex portion, it passes through the concave portion and comes into contact with the adjacent convex portion. As described above, the generation of the new surface and the supply of the friction modifier are repeated every other interval on the other sliding surfaces.

一方の摺動面硬度を他方の摺動面硬度と相違させることができる。この場合、グレーティング状の周期構造を低硬度側摺動面に形成したり、グレーティング状の周期構造を高硬度側摺動面に形成したりすることができる。   One sliding surface hardness can be made different from the other sliding surface hardness. In this case, the grating-like periodic structure can be formed on the low hardness side sliding surface, or the grating-like periodic structure can be formed on the high hardness side sliding surface.

少なくとも一方の摺動面に前記グレーティング状の周期構造より大きな高さと間隔とを有するうねりを形成し、このうねりに前記グレーティング状の周期構造を形成することができる。摺動面は、凹凸高さ分が削れると平滑な面となり、この場合に本発明の効果の寿命となる。そこで、うねりを形成することによって、摺動面全体に高低差をつけることにより、最も高い位置の凸部の頂点から最も低い位置の凹部の谷底までの寸法を大とすることができる。これにより、摺動面の一部の周期構造が摩滅して平滑化されても、他の低い部分の周期構造にて反応生成物が生成されて摺動面全体にいきわたらせることができ、摺動面全体が平滑化されるまで効果を維持することができる。   Waviness having a height and interval larger than the grating-like periodic structure is formed on at least one sliding surface, and the grating-like periodic structure can be formed on this swell. The sliding surface becomes a smooth surface when the height of the unevenness is removed, and in this case, the life of the effect of the present invention is obtained. Therefore, by forming the undulation, the size from the apex of the convex portion at the highest position to the valley bottom of the concave portion at the lowest position can be increased by providing a difference in height over the entire sliding surface. Thereby, even if the periodic structure of a part of the sliding surface is worn out and smoothed, a reaction product is generated in the periodic structure of the other low part and can be spread over the entire sliding surface, The effect can be maintained until the entire sliding surface is smoothed.

前記グレーティング構造部は、加工閾値近傍の照射強度で直線偏光のフェムト秒レーザを照射し、その照射部分をオーバラップさせながら走査して、自己組織的に形成することができる。この方法を用いると円筒面や複雑な形状にもグレーティング構造部を形成することができる。   The grating structure can be formed in a self-organized manner by irradiating a linearly polarized femtosecond laser with an irradiation intensity in the vicinity of the processing threshold, and scanning while overlapping the irradiated portions. When this method is used, the grating structure can be formed on a cylindrical surface or a complicated shape.

本発明のトライボケミカル反応促進面構造では、凸部の単位面積当たりにかかる力が大となるため、容易に摩耗して新生面が生成され、表面が活性な状態となる。また、新生面に十分な量の摩擦調整剤がきめ細かく効率的に供給されて、トライボケミカル反応が促進され、摩擦抵抗の極めて小さい反応生成物が表面に形成されて低摩擦摺動面を形成することができる。さらに、グレーティング状であるため、柱状構造より摩擦調整剤のリークが少なく、また、間隔が小さいため摩耗量も少ないという利点もある。加えて、なじみ過程において、凹部内に摩耗粉が逃げ込む(入り込む)ため、摩耗粉の噛み込みを防止できて、低摩擦面を安定して確保できる。   In the tribochemical reaction promoting surface structure of the present invention, since the force per unit area of the convex portion is large, it is easily worn out to generate a new surface, and the surface becomes active. In addition, a sufficient amount of friction modifier is finely and efficiently supplied to the new surface, the tribochemical reaction is promoted, and a reaction product with extremely low frictional resistance is formed on the surface to form a low friction sliding surface. Can do. Further, since it is in the form of a grating, there is an advantage that there is less leakage of the friction modifier than the columnar structure and there is also a small amount of wear due to the small interval. In addition, since the wear powder escapes (enters) into the recess during the conforming process, the wear powder can be prevented from being caught and a low friction surface can be secured stably.

前記グレーティング状の周期構造の方向を摺動方向に直交させると、1つの間隔(周期)毎に、新生面の生成と摩擦調整剤の供給が繰り返されることになって、効率的にトライボケミカル反応を促進させることができる。   When the direction of the grating-like periodic structure is orthogonal to the sliding direction, generation of a new surface and supply of a friction modifier are repeated at each interval (period), and thus the tribochemical reaction is efficiently performed. Can be promoted.

一方の摺動面硬度を他方の摺動面硬度と相違させると、低硬度側に生成される新生面が平滑化されることにより、反応生成物が形成された凹凸の少ない均一な摺動面を形成することができて摩擦抵抗を小とすることができる。   When the hardness of one sliding surface is different from the hardness of the other sliding surface, the new surface generated on the low hardness side is smoothed, so that a uniform sliding surface with less unevenness on which the reaction product is formed is formed. It can be formed and the frictional resistance can be reduced.

前記グレーティング状の周期構造より大きな高さと間隔とを有するうねりを形成すると、一部の周期構造が摩滅しても、他の周期構造にて摩擦の低い反応生成物が生成されて摺動面全体にいきわたらせることができ、長寿命化を図ることができる。   When a waviness having a larger height and interval than the grating-like periodic structure is formed, even if some of the periodic structures are worn, reaction products with low friction are generated in other periodic structures, and the entire sliding surface It is possible to extend the service life.

グレーティング構造部は、加工閾値近傍の照射強度で直線偏光のレーザを照射し、その照射部分をオーバラップさせながら走査して、自己組織的に形成したものでは、機械加工では困難なサブミクロンの周期ピッチを持つグレーティング構造部をほとんど加工変質することなく平面、円筒面、その他複雑な曲面上にも形成できる。また、フェムト秒レーザを用いてグレーティング構造部を形成する場合、大気中での加工が可能であり、加工装置の簡略化を図ることができる。これに対して、電子ビーム加工であれば、ワークである被加工物を、例えば真空チャンバーなどに収容して、真空雰囲気下、もしくは所定のガス雰囲気下で加工する必要があり、装置のコスト高および大型化を招くことになる。   The grating structure is irradiated with linearly polarized laser light with an irradiation intensity near the processing threshold, and the irradiated part is scanned while overlapping, and the submicron period, which is difficult to machine by machining, is difficult to machine. A grating structure having a pitch can be formed on a flat surface, a cylindrical surface, or other complicated curved surfaces with almost no processing alteration. Further, when the grating structure is formed using a femtosecond laser, processing in the atmosphere is possible, and the processing apparatus can be simplified. On the other hand, in the case of electron beam machining, it is necessary to accommodate a workpiece, which is a workpiece, in a vacuum chamber or the like and process it in a vacuum atmosphere or a predetermined gas atmosphere, which increases the cost of the apparatus. In addition, this leads to an increase in size.

以下本発明の実施の形態を図1〜図20に基づいて説明する。   Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to FIGS.

本発明のトライボケミカル反応促進面構造は、第1部材1の摺動面10と第2部材3の摺動面4とが相対的に摺動するものである。本実施形態では、図1に示すように、第1部材1を平板体とし、第2部材3を先端が球面のピンとしている。第1部材1と第2部材3とは、潤滑油に摩擦調整剤(添加剤)を含有する添加油潤滑下で摺動する。潤滑油としては、タービンオイル、エンジンオイル、ギヤオイル等種々のものが使用できる。摩擦調整剤としては、高級脂肪酸、高級アルコール、脂肪族アミン、アミド、エステル等の油性向上剤、硫黄、りん、塩素、有機金属等の化合物を含む極圧添加剤、二硫化モリブデン、グラファイト、セラミック粉末(ボロン系を含む)、微細金属粉等の固形材料を含む固体潤滑剤等種々のものが使用できる。   The tribochemical reaction promoting surface structure of the present invention is such that the sliding surface 10 of the first member 1 and the sliding surface 4 of the second member 3 slide relative to each other. In the present embodiment, as shown in FIG. 1, the first member 1 is a flat plate, and the second member 3 is a pin having a spherical tip. The first member 1 and the second member 3 slide under lubrication with additive oil containing a friction modifier (additive) in the lubricant. As the lubricating oil, various oils such as turbine oil, engine oil, and gear oil can be used. Friction modifiers include oily improvers such as higher fatty acids, higher alcohols, aliphatic amines, amides and esters, extreme pressure additives containing compounds such as sulfur, phosphorus, chlorine and organometallics, molybdenum disulfide, graphite, ceramics A variety of solid lubricants including solid materials such as powder (including boron) and fine metal powder can be used.

第1部材1の材質としては、SUJ2(高炭素クロム軸受鋼鋼材JIS G4805)を使用している。また、第2部材3は、超硬合金を使用している。ここで、超硬合金(ちょうこうごうきん、Cemented Carbide)とは、硬質の金属炭化物の粉末を焼結して作られる合金で、単に超硬とも呼ばれる。一般的には炭化タングステン(WC、タングステン・カーバイド)と結合剤(バインダ)であるコバルト(Co)を混合して焼結したものである。また、材料特性を向上させるために炭化チタン(TiC)や炭化タンタル(TaC)などを加えたものであってもよい。これにより、第1部材1の摺動面硬度が、第2部材3の摺動面硬度よりも低くなっている。すなわち、グレーティング構造部2は、低硬度側摺動面に形成している。これにより、低硬度側である第1部材1が摩耗することになる。   As the material of the first member 1, SUJ2 (high carbon chromium bearing steel JIS G4805) is used. The second member 3 uses a cemented carbide. Here, the cemented carbide (Cemented Carbide) is an alloy made by sintering a hard metal carbide powder, and is also simply called cemented carbide. Generally, tungsten carbide (WC, tungsten carbide) and cobalt (Co) as a binder (binder) are mixed and sintered. Further, in order to improve material properties, titanium carbide (TiC), tantalum carbide (TaC), or the like may be added. Thereby, the sliding surface hardness of the first member 1 is lower than the sliding surface hardness of the second member 3. That is, the grating structure 2 is formed on the low hardness side sliding surface. Thereby, the 1st member 1 which is a low hardness side will wear.

第1部材1の摺動面10には、図2や図3に示すようなグレーティング構造部2を設けている。グレーティング構造部2は、微小の凹部(凹条)5と微小の凸部(凸条)6とが交互に所定ピッチでほぼ平行に配設され、正弦曲線に近い断面形状となっている。凹凸は、間隔(凸部6の頂点から、隣接する凸部6の頂点までの寸法)がAであり、凹凸高さ(凸部6の頂点から凹部5の谷底までの寸法)がBである。この場合、間隔Aはサブミクロンオーダーの寸法であり、凹凸高さBもサブミクロンオーダーの寸法としている。本実施形態においては、Aは0.7μmであり、Bは0.2μmであり、間隔Aと凹凸高さBとのアスペクト比B/Aは2/7である。なお、アスペクト比が0.1未満では十分な摩擦調整剤の保持が困難となり、0.5を超えると摩耗量やなじみ過程が増大するため、アスペクト比の最適な範囲としては、0.1〜0.5が好ましい。これにより、従来のグレーティング構造部と本実施形態のグレーティング構造部2とを所定長さ内で比較した場合、従来のグレーティング構造部では凸部の配設ピッチが疎であるのに対し、本実施形態のグレーティング構造部2は凸部6のピッチを密とすることができる。 The sliding surface 10 of the first member 1 is provided with a grating structure 2 as shown in FIGS. The grating structure portion 2 has minute recesses (concave ridges) 5 and minute projections (projection ridges) 6 arranged alternately in parallel at a predetermined pitch, and has a cross-sectional shape close to a sine curve. In the unevenness, the interval (the dimension from the apex of the convex part 6 to the apex of the adjacent convex part 6) is A, and the concave / convex height (the dimension from the apex of the convex part 6 to the valley bottom of the concave part 5) is B. . In this case, the interval A is a dimension in the submicron order, and the uneven height B is also a dimension in the submicron order. In this embodiment, A is 0.7 μm, B is 0.2 μm, and the aspect ratio B / A between the interval A and the unevenness height B is 2/7. When the aspect ratio is less than 0.1, it is difficult to hold a sufficient friction modifier, and when it exceeds 0.5, the amount of wear and the familiar process increase. 0.5 is preferred. As a result, when the conventional grating structure portion and the grating structure portion 2 of the present embodiment are compared within a predetermined length, the arrangement pitch of the convex portions is sparse in the conventional grating structure portion. In the form of the grating structure portion 2, the pitch of the convex portions 6 can be made dense.

これにより、通常の表面粗さより高いアスペクト比となるサブミクロンオーダーの凹凸高さBと間隔Aをもち、方向が制御された微細周期構造を摺動面10に形成することができる。すなわち、凸部6の先端部の曲率半径が小さくなり(鋭くなり)、凸部6の単位面積当たりにかかる力が大となる。また、間隔Aが小さいので、1つの凸部6にて生成される新生面の面積が狭くなって、新生面全体に十分な量の摩擦調整剤が効率的に供給される。これにより、トライボケミカル反応が促進され、摩擦抵抗の極めて小さい反応生成物が表面に形成される。 As a result, a fine periodic structure with a submicron-order concavo-convex height B and an interval A that have an aspect ratio higher than the normal surface roughness and a controlled direction can be formed on the sliding surface 10. That is, the radius of curvature of the tip of the convex portion 6 is reduced (sharpened), and the force applied per unit area of the convex portion 6 is increased. Moreover, since the space | interval A is small, the area of the new surface produced | generated by the one convex part 6 becomes narrow, and sufficient quantity of friction modifiers are efficiently supplied to the whole new surface. Thereby, tribochemical reaction is accelerated | stimulated and the reaction product with very small frictional resistance is formed in the surface.

第1部材1と第2部材3との摺動は、第2部材3を固定して、第1部材1を図1や図3の矢印に示す方向に往復動させている。すなわち、グレーティング構造部2の方向は摺動方向と直交している。これにより、第2部材3の摺動面4が凸部6に当接した後、凹部5を通過して隣の凸部6に当接することになる。このように、第2部材3摺動面4は1間隔毎に新生面の生成と摩擦調整剤の供給とが繰り返されることになる。   In sliding between the first member 1 and the second member 3, the second member 3 is fixed and the first member 1 is reciprocated in the direction indicated by the arrows in FIGS. 1 and 3. That is, the direction of the grating structure portion 2 is orthogonal to the sliding direction. Thereby, after the sliding surface 4 of the second member 3 abuts on the convex portion 6, it passes through the concave portion 5 and abuts on the adjacent convex portion 6. In this manner, the second member 3 sliding surface 4 repeats the generation of a new surface and the supply of the friction modifier at every interval.

グレーティング構造部2は、加工閾値近傍の照射強度で直線偏光のレーザを照射し、その照射部分をオーバラップさせながら走査して、自己組織的に形成している。具体的には、図4に示すフェムト秒レーザ表面加工装置を使用する。レーザ発生器11(チタンサファイアフェムト秒レーザ発生器)で発生したレーザ(例えば、パルス幅:120fs、中心波長800nm、繰り返し周波数:1kHz、パルスエネルギー:0.25〜400μJ/pulse)は、ミラー12により加工材料Wに向けて折り返され、メカニカルシャッタ13に導かれる。レーザ照射時はメカニカルシャッタ13を開放し、レーザ照射強度は1/2波長板14と偏光ビームスプリッタ16によって調整可能とし、1/2波長板15によって偏光方向を調整し、集光レンズ(焦点距離:150mm)17によって、XYθステージ19上の加工材料W表面に集光照射する。   The grating structure portion 2 is formed in a self-organized manner by irradiating a linearly polarized laser beam with an irradiation intensity in the vicinity of the processing threshold and scanning the overlapped portion in an overlapping manner. Specifically, the femtosecond laser surface processing apparatus shown in FIG. 4 is used. A laser (eg, pulse width: 120 fs, center wavelength: 800 nm, repetition frequency: 1 kHz, pulse energy: 0.25 to 400 μJ / pulse) generated by a laser generator 11 (titanium sapphire femtosecond laser generator) is reflected by a mirror 12. It is folded back toward the work material W and guided to the mechanical shutter 13. At the time of laser irradiation, the mechanical shutter 13 is opened, the laser irradiation intensity can be adjusted by the half-wave plate 14 and the polarization beam splitter 16, the polarization direction is adjusted by the half-wave plate 15, and the condenser lens (focal length) : 150 mm) 17, the surface of the work material W on the XYθ stage 19 is condensed and irradiated.

アブレーション閾値近傍のフルエンスで直線偏光のレーザをワークに照射した場合、入射光とワークの表面に沿った散乱光またはプラズマ波の干渉により、波長オーダのピッチと溝深さを持つグレーティング状の周期構造が偏光方向に直交して自己組織的に形成される。このとき、フェムト秒レーザをオーバラップさせながら走査させることで、周期構造を広範囲に拡張することができる。   When a workpiece is irradiated with a linearly polarized laser beam at a fluence near the ablation threshold, a grating-like periodic structure with pitches and groove depths on the order of wavelengths due to interference between incident light and scattered light or plasma waves along the workpiece surface Are formed in a self-organized manner perpendicular to the polarization direction. At this time, the periodic structure can be expanded over a wide range by scanning the femtosecond lasers while overlapping them.

レーザの走査は、レーザを固定して加工材料Wを支持するXYθステージ19を移動させてもよいし、XYθステージ19を固定してレーザを移動させてもよい。あるいは、レーザとXYθステージ19を同時移動させてもよい。   Laser scanning may be performed by moving the XYθ stage 19 that supports the work material W while fixing the laser, or may move the laser while fixing the XYθ stage 19. Alternatively, the laser and the XYθ stage 19 may be moved simultaneously.

このように、本発明のトライボケミカル反応促進面構造は、凸部6の単位面積当たりにかかる力が大となるため、摺動開始直後は容易に摩耗して新生面が生成され、表面が活性な状態となる。また、新生面に十分な量の摩擦調整剤がきめ細かく効率的に供給されて、トライボケミカル反応が促進され、摩擦抵抗の極めて小さい反応生成物が表面に形成されて低摩擦摺動面を形成することができる。低摩擦摺動面が形成されると摩耗速度は大きく低下する。さらに、周期構造がグレーティング状であるため、柱状構造より摩擦調整剤のリークが少なく、また、間隔Aが小さいため摩耗量も少ないという利点もある。加えて、なじみ過程において、凹部5内に摩耗粉が逃げ込む(入り込む)ため、摩耗粉の噛み込みを防止できて、低摩擦面を安定して確保できる。   As described above, the tribochemical reaction promoting surface structure of the present invention has a large force per unit area of the convex portion 6, so that it is easily worn immediately after the start of sliding to generate a new surface, and the surface is active. It becomes a state. In addition, a sufficient amount of friction modifier is finely and efficiently supplied to the new surface, the tribochemical reaction is promoted, and a reaction product with extremely low frictional resistance is formed on the surface to form a low friction sliding surface. Can do. When a low friction sliding surface is formed, the wear rate is greatly reduced. Further, since the periodic structure is a grating shape, there is an advantage that there is less leakage of the friction modifier than the columnar structure, and since the interval A is small, the wear amount is also small. In addition, since the wear powder escapes (enters) into the recess 5 during the conforming process, the wear powder can be prevented from being caught and a low friction surface can be secured stably.

前記グレーティング状の周期構造の方向を摺動方向に直交させると、1間隔(周期)毎に、新生面の生成と摩擦調整剤の供給が繰り返されることになって、効率的にトライボケミカル反応を促進させることができる。   When the direction of the grating-like periodic structure is orthogonal to the sliding direction, generation of a new surface and supply of a friction modifier are repeated every interval (period), thereby efficiently promoting a tribochemical reaction. Can be made.

グレーティング構造部2を、低硬度側摺動面に形成しているため、低硬度側であるグレーティング構造部2の凸部6の頂点が摩耗することになって、プラトー状の均一な摺動面を形成することができて摩擦抵抗を小とすることができる。   Since the grating structure portion 2 is formed on the low hardness side sliding surface, the apex of the convex portion 6 of the grating structure portion 2 on the low hardness side is worn, resulting in a plateau-like uniform sliding surface. The frictional resistance can be reduced.

グレーティング構造部2は、加工閾値近傍の照射強度で直線偏光のレーザを照射し、その照射部分をオーバラップさせながら走査して、自己組織的に形成したものでは、機械加工では困難なサブミクロンの周期ピッチを持つグレーティング構造部をほとんど加工変質することなく平面、円筒面、その他複雑な曲面上にも形成できる。また、フェムト秒レーザを用いてグレーティング構造部を形成する場合、大気中での加工が可能であり、加工装置の簡略化を図ることができる。これに対して、電子ビーム加工であれば、ワークである被加工物を、例えば真空チャンバーなどに収容して、真空雰囲気下、もしくは所定のガス雰囲気下で加工する必要があり、装置のコスト高および大型化を招くことになる。   The grating structure 2 is irradiated with a linearly polarized laser beam with an irradiation intensity in the vicinity of the processing threshold, scanned while overlapping the irradiation portion, and formed by self-organization. A grating structure having a periodic pitch can be formed on a flat surface, a cylindrical surface, or other complicated curved surfaces with almost no processing alteration. Further, when the grating structure is formed using a femtosecond laser, processing in the atmosphere is possible, and the processing apparatus can be simplified. On the other hand, in the case of electron beam machining, it is necessary to accommodate a workpiece, which is a workpiece, in a vacuum chamber or the like and process it in a vacuum atmosphere or a predetermined gas atmosphere, which increases the cost of the apparatus. In addition, this leads to an increase in size.

図5は、本発明の第2実施形態のトライボケミカル反応促進面構造である。この場合、低硬度側の第1部材1の摺動面10に、グレーティング状の周期構造2より大きな間隔Cと高さDとを有するうねりを形成し、このうねりにグレーティング状の周期構造2を形成している。前記第1実施形態においては、凹凸高さ分が削れると摺動面10は平滑な面となって、本発明の効果の寿命となる。そこで、摺動面10にうねりを形成することによって、摺動面全体に高低差をつけることにより、最も高い位置の凸部6の頂点から最も低い位置の凹部5の谷底までの寸法を大とすることができる。これにより、摺動面の一部の周期構造が摩滅して平滑化されても、他の低い部分の周期構造にて反応生成物が生成されて摺動面全体にいきわたらせることができ、摺動面全体が平滑化されるまで効果を維持することができる。   FIG. 5 shows a tribochemical reaction promoting surface structure according to the second embodiment of the present invention. In this case, a swell having a gap C and a height D larger than the grating-like periodic structure 2 is formed on the sliding surface 10 of the first member 1 on the low hardness side, and the grating-like periodic structure 2 is formed on this swell. Forming. In the first embodiment, when the height of the unevenness is cut, the sliding surface 10 becomes a smooth surface, which is the life of the effect of the present invention. Therefore, by forming a undulation in the sliding surface 10, by making a height difference in the entire sliding surface, the dimension from the apex of the convex portion 6 at the highest position to the valley bottom of the concave portion 5 at the lowest position is increased. can do. Thereby, even if the periodic structure of a part of the sliding surface is worn out and smoothed, a reaction product is generated in the periodic structure of the other low part and can be spread over the entire sliding surface, The effect can be maintained until the entire sliding surface is smoothed.

このように、本発明の第2実施形態のトライボケミカル反応促進面構造では、前記グレーティング状の周期構造より大きな間隔Cと高さDとを有するうねりを形成すると、一部の周期構造が摩滅しても、他の周期構造にて摩擦の低い反応生成物が生成されて摺動面全体にいきわたらせることができ、長寿命化を図ることができる。なお、なお、図5に示すトライボケミカル反応促進面構造において、図1と同様の構成については、図1と同一符号を付してその説明を省略する。   As described above, in the tribochemical reaction promoting surface structure according to the second embodiment of the present invention, when a swell having a larger interval C and height D than the grating-like periodic structure is formed, a part of the periodic structure is worn away. However, a reaction product with low friction can be generated in another periodic structure and can be spread over the entire sliding surface, thereby extending the life. In the tribochemical reaction promoting surface structure shown in FIG. 5, the same components as those in FIG. 1 are denoted by the same reference numerals as those in FIG.

前記各実施形態では、第1部材1の摺動面硬度が、第2部材3の摺動面硬度よりも低いものであったが、第1部材1の摺動面硬度が第2部材3の摺動面硬度よりも高いものであってもよい。また、グレーティング構造部2を、高硬度側摺動面に形成してもよい。また、SUJ2や超硬合金の他にも、SUS440C(マルテンサイト系ステンレス)等種々の材質を使用することができる。   In each of the embodiments described above, the sliding surface hardness of the first member 1 is lower than the sliding surface hardness of the second member 3, but the sliding surface hardness of the first member 1 is that of the second member 3. It may be higher than the sliding surface hardness. The grating structure 2 may be formed on the high hardness side sliding surface. In addition to SUJ2 and cemented carbide, various materials such as SUS440C (martensitic stainless steel) can be used.

以上、本発明の実施形態につき説明したが、本発明は前記実施形態に限定されることなく種々の変形が可能であって、例えば、グレーティング構造部2の間隔Aや凹凸高さBとしては、0.7μmや0.2μmでなくてもよく、サブミクロンオーダーであればこれに限られるものではない。グレーティング構造部2を第2部材3の摺動面4に形成してもよい。   As described above, the embodiment of the present invention has been described. However, the present invention is not limited to the above-described embodiment, and various modifications are possible. For example, as the interval A and the uneven height B of the grating structure portion 2, It does not have to be 0.7 μm or 0.2 μm, and is not limited to this as long as it is on a submicron order. The grating structure 2 may be formed on the sliding surface 4 of the second member 3.

第1部材1と第2部材3の摺動としては、第1部材1を固定して、第2部材3を往復動させてもよく、両者を往復動させてもよい。また、摺動時に往復動させることなく、往動又は復動のみにおいて摺動させるようにしてもよい。一方の部材が回転するものであってもよい。第1部材1や第2部材3の形状としては、実施形態のものに限られず、平板同士であっても円板同士であってもよく、筒状体の部材に他方の部材を摺動させるものであってもよい。第1部材1及び第2部材3としては、例えば、湿式クラッチ、エンジンのピストン、ギヤ、スプライン、すべり軸受、動弁系部品等に使用することができる。摺動ストロークや摺動時における押圧荷重等は、グレーティング構造部2の周期ピッチや摺動速度等に応じて任意に設定することができる。   As sliding of the 1st member 1 and the 2nd member 3, the 1st member 1 may be fixed, the 2nd member 3 may be reciprocated, and both may be reciprocated. Further, it may be slid only in forward movement or backward movement without reciprocating during sliding. One member may rotate. The shape of the first member 1 and the second member 3 is not limited to that of the embodiment, and may be flat plates or disks, and the other member is slid on the cylindrical member. It may be a thing. As the 1st member 1 and the 2nd member 3, it can be used for a wet clutch, an engine piston, a gear, a spline, a slide bearing, valve system parts, etc., for example. The sliding stroke, the pressing load during sliding, and the like can be arbitrarily set according to the periodic pitch of the grating structure 2, the sliding speed, and the like.

摺動方向としては、実施形態のように、グレーティング方向と略直交とするのが好ましいが、グレーティング方向と略平行するものであっても、グレーティング方向に対して所定角(例えば45度)に傾斜するものであってもよい。   The sliding direction is preferably substantially perpendicular to the grating direction as in the embodiment, but even if it is substantially parallel to the grating direction, it is inclined at a predetermined angle (for example, 45 degrees) with respect to the grating direction. You may do.

グレーティング構造部2を形成する場合、フェムト秒レーザを使用することなく、電子ビーム加工機等の他の工具を使用してもよい。   When forming the grating structure 2, other tools such as an electron beam processing machine may be used without using a femtosecond laser.

図1に示すように、周期構造(グレーティング構造部2)を形成したプレート1に対し、相手部材であるピン(円柱体)3を押し当て往復摺動させた。プレート1及びピン3の材質は、それぞれ超硬合金、SUJ2、SUS440Cの3種類とした。プレート1はバフ研磨によりRa0.05μm、に仕上げ、グレーティング構造部2はプレート1のみに形成した。周期構造形成後の表面粗さは、Ra0.13μmとなった。グレーティング構造部2の方向は摺動方向に対して直交および平行の2種類とした。ピン3の先端形状は、半径5mmの半球形とした。摺動面にはタービンオイル(VG32)を供給し、添加剤にはジアルキルジチオカルバミン酸モリブデン(Mo-DTC)を使用した。添加剤濃度は950ppmとした。摺動速度10mm/s、摺動ストロークは10mm、垂直荷重は5Nで1000往復させ、その間の摺動抵抗をロードセルによりサンプリング周波数5Hzで測定した。摩擦係数は、ストローク端点を除いた平均測定値から算出した。   As shown in FIG. 1, a pin (cylindrical body) 3 as a mating member was pressed against a plate 1 on which a periodic structure (grating structure portion 2) was formed, and slid back and forth. The plate 1 and the pin 3 were made of three types of materials: cemented carbide, SUJ2 and SUS440C, respectively. The plate 1 was finished to Ra 0.05 μm by buffing, and the grating structure 2 was formed only on the plate 1. The surface roughness after the formation of the periodic structure was Ra 0.13 μm. The direction of the grating structure part 2 was made into two types orthogonal and parallel to the sliding direction. The tip shape of the pin 3 was a hemisphere with a radius of 5 mm. Turbine oil (VG32) was supplied to the sliding surface, and molybdenum dialkyldithiocarbamate (Mo-DTC) was used as an additive. The additive concentration was 950 ppm. The sliding speed was 10 mm / s, the sliding stroke was 10 mm, the vertical load was 1000 reciprocates at 5 N, and the sliding resistance was measured with a load cell at a sampling frequency of 5 Hz. The coefficient of friction was calculated from the average measured value excluding the stroke end point.

鏡面及びグレーティング方向が摺動方向に対して平行(略平行)する周期構造(平行周期構造)を形成した超硬合金プレート上で、SUJ2ピン(SUJ2にて形成された円柱体)を摺動させた際の摩擦係数の変化を図6に示す。図6(a)は、摩擦調整剤を含まない場合を示し、図6(b)は、摩擦調整剤を含む場合を示す。摩擦調整剤を含まないタービンオイル潤滑下では、図6(a)に示すように、周期構造の有無にかかわらず摩擦係数はほぼ一定となった。これに対して、摩擦調整剤を含むタービンオイル潤滑下では、図6(b)に示すように、平行周期構造プレートの摩擦係数は大きく低減されることがわかった。   Slide the SUJ2 pin (cylindrical body formed of SUJ2) on a cemented carbide plate with a periodic structure (parallel periodic structure) in which the mirror surface and the grating direction are parallel (substantially parallel) to the sliding direction. FIG. 6 shows the change of the friction coefficient at the time. FIG. 6A shows a case where the friction modifier is not included, and FIG. 6B shows a case where the friction modifier is included. Under turbine oil lubrication that does not include a friction modifier, the friction coefficient was substantially constant regardless of the presence or absence of the periodic structure, as shown in FIG. On the other hand, it was found that under the turbine oil lubrication containing the friction modifier, the friction coefficient of the parallel periodic structure plate is greatly reduced as shown in FIG.

鏡面および平行周期構造、グレーティング方向が摺動方向に対して直交する直交周期構造を形成した超硬合金プレートに対し、各種ピンを20m摺動させた際の摩擦係数を図7に示す。ハッチングは、鏡面プレートであり、ドットは平行周期構造プレートであり、白色は直交周期構造プレートを示す。SUJ2ピンの摩擦係数は周期構造の方向に依存することなく、平行周期構造プレートおよび直交周期構造プレートに対し、0.07〜0.08となり、鏡面プレートよりも大きく低減された。また、SUS440Cピン(SUS440Cにて形成された円柱体)の摩擦係数は周期構造の方向に強い依存性を示した。平行周期構造プレートでは鏡面プレートより高い摩擦係数を示したのに対し、直交周期構造プレートでは0.08まで摩擦係数が低減された。同一材同士の摺動となる超硬合金ピンの摩擦係数は、周期構造の方向によらず鏡面プレートよりも高い値となった。   FIG. 7 shows the friction coefficient when various pins are slid by 20 m on a cemented carbide plate having a mirror surface, a parallel periodic structure, and an orthogonal periodic structure in which the grating direction is orthogonal to the sliding direction. Hatching is a mirror surface plate, dots are parallel periodic structure plates, and white indicates orthogonal periodic structure plates. The friction coefficient of the SUJ2 pin was 0.07 to 0.08 with respect to the parallel periodic structure plate and the orthogonal periodic structure plate without depending on the direction of the periodic structure, and was greatly reduced as compared with the mirror plate. The friction coefficient of SUS440C pin (cylindrical body formed of SUS440C) showed a strong dependence on the direction of the periodic structure. The parallel periodic structure plate showed a higher friction coefficient than the mirror plate, whereas the orthogonal periodic structure plate reduced the friction coefficient to 0.08. The friction coefficient of the cemented carbide pin that slides between the same materials was higher than that of the mirror plate regardless of the direction of the periodic structure.

また、超硬合金プレートによりピンの平滑化が見られた。20m摺動後のSUJ2ピンの摺動面写真及び断面プロファイル図を図8〜図10に示し、図8(a)は鏡面プレートに対し摺動させたSUJ2ピンの摺動面写真、図8(b)は図8(a)の断面プロファイル図であり、図9(a)は平行周期構造プレートに対し摺動させたSUJ2ピンの摺動面写真、図9(b)は図9(a)の断面プロファイル図であり、図10(a)は直交周期構造プレートに対し摺動させたSUJ2ピンの摺動面写真、図10(b)は図10(a)の断面プロファイル図である。鏡面プレートに摺動させたSUJ2ピンには変色領域が見られるが、目だった摩耗は見られない。一方、周期構造に摺動させたSUJ2ピンの摺動面は平滑化されており、平行周期構造プレート上で摺動させたピンは直交周期構造プレート上で摺動させたピンより広範囲に平滑化された新生面が生成されていることがわかる。平行周期構造プレート及び直交周期構造プレートに対するピンの低摩擦化は、摩擦調整剤とのトライボケミカル反応の促進とピンの平滑化が主要因である。   Further, smoothing of the pins was observed with the cemented carbide plate. FIGS. 8 to 10 show photographs of the sliding surface and cross-sectional profile of the SUJ2 pin after sliding 20 m. FIG. 8A is a photograph of the sliding surface of the SUJ2 pin slid against the mirror plate, FIG. 8B is a cross-sectional profile view of FIG. 8A, FIG. 9A is a photograph of the sliding surface of the SUJ2 pin slid with respect to the parallel periodic structure plate, and FIG. 9B is FIG. 9A. FIG. 10A is a photograph of a sliding surface of the SUJ2 pin slid with respect to the orthogonal periodic structure plate, and FIG. 10B is a sectional profile view of FIG. The SUJ2 pin slid on the mirror plate shows a discolored area, but no noticeable wear. On the other hand, the sliding surface of the SUJ2 pin slid to the periodic structure is smoothed, and the pin slid on the parallel periodic structure plate is smoothed more widely than the pin slid on the orthogonal periodic structure plate It can be seen that the newly formed surface is generated. The main causes of reducing the friction of the pin with respect to the parallel periodic structure plate and the orthogonal periodic structure plate are promotion of tribochemical reaction with the friction modifier and smoothing of the pin.

さらに、超硬合金プレートに対して20m摺動後のSUS440Cピンの摺動面写真及び断面プロファイル図を図11〜図13に示し、図11(a)は鏡面プレートに対し摺動させたSUS440Cピンの摺動面写真、図11(b)は図11(a)の断面プロファイル図であり、図12(a)は平行周期構造プレートに対し摺動させたSUS440Cピンの摺動面写真、図12(b)は図12(a)の断面プロファイル図であり、図13(a)は直交周期構造プレートに対し摺動させたSUS440Cピンの摺動面写真、図13(b)は図13(a)の断面プロファイル図である。鏡面プレートに摺動させたSUS440Cピンでは目立った摩耗は見られないが、周期構造プレートに摺動させたSUS440Cピンの摺動面は平滑化されており、平行周期構造プレート上で摺動させたピンは、直交周期構造プレート上で摺動させたピンより広範囲に平滑化された新生面が生成されている。しかしながら、図7に示すように、平行周期構造プレートでは低摩擦化が起こらず、直交周期構造プレートのみで低摩擦化が生じている。これは、直交周期構造が平行周期構造よりも高いトライボケミカル反応促進機能を有することに起因するためである。すなわち、直交周期構造では、1つの間隔(周期)毎に、新生面の形成と添加剤の供給が繰り返されることになって、効率的にトライボケミカル反応を促進させることができる一方、平行周期構造では、新生面への摩擦調整剤供給の機会が減少するためである。   Further, a sliding surface photograph and a cross-sectional profile view of the SUS440C pin after sliding 20 m with respect to the cemented carbide plate are shown in FIGS. 11 to 13, and FIG. 11A shows the SUS440C pin slid with respect to the mirror plate. 11 (b) is a cross-sectional profile view of FIG. 11 (a), and FIG. 12 (a) is a photograph of the sliding surface of the SUS440C pin slid with respect to the parallel periodic structure plate, FIG. 12B is a cross-sectional profile view of FIG. 12A, FIG. 13A is a photograph of a sliding surface of a SUS440C pin slid with respect to the orthogonal periodic structure plate, and FIG. 13B is a view of FIG. FIG. The SUS440C pin slid on the mirror plate does not show any noticeable wear, but the sliding surface of the SUS440C pin slid on the periodic structure plate is smoothed and slid on the parallel periodic structure plate. The pin has a new surface smoothed more extensively than the pin slid on the orthogonal periodic structure plate. However, as shown in FIG. 7, the friction reduction is not caused in the parallel periodic structure plate, and the friction reduction is caused only in the orthogonal periodic structure plate. This is because the orthogonal periodic structure has a higher tribochemical reaction promoting function than the parallel periodic structure. That is, in the orthogonal periodic structure, the formation of the new surface and the supply of the additive are repeated every one interval (period), so that the tribochemical reaction can be efficiently promoted. This is because the opportunity for supplying the friction modifier to the new surface is reduced.

次に、鏡面および平行周期構造、直交周期構造を形成したSUJ2プレートに対し、各種ピンを20m摺動させた際の摩擦係数を図14に示す。ハッチングは、鏡面プレートであり、ドットは平行周期構造プレートであり、白色は直交周期構造プレートを示す。SUJ2ピン及びSUS440Cピンの摩擦係数はSUJ2プレートに周期構造を形成することにより上昇したのに対し、超硬合金ピンの摩擦係数は大きく低減された。   Next, FIG. 14 shows a friction coefficient when various pins are slid by 20 m with respect to the SUJ2 plate having a mirror surface, a parallel periodic structure, and an orthogonal periodic structure. Hatching is a mirror surface plate, dots are parallel periodic structure plates, and white indicates orthogonal periodic structure plates. The friction coefficient of SUJ2 pin and SUS440C pin increased by forming a periodic structure on SUJ2 plate, whereas the friction coefficient of cemented carbide pin was greatly reduced.

SUJ2プレートに対する超硬合金ピンの摩擦係数の変化を図15に示す。超硬合金ピンの鏡面プレートに対する摩擦係数は、摺動直後に0.1を下回ったが、摺動距離4m以降は0.11程度で安定した。一方、平行周期構造プレート及び直交周期構造プレートでは、摺動距離10m付近まで摩擦係数が低下傾向を示し、その後0.07程度で安定した。   FIG. 15 shows the change in the coefficient of friction of the cemented carbide pin against the SUJ2 plate. The friction coefficient of the cemented carbide pin against the mirror plate was less than 0.1 immediately after sliding, but stabilized at about 0.11 after a sliding distance of 4 m. On the other hand, in the parallel periodic structure plate and the orthogonal periodic structure plate, the friction coefficient showed a tendency to decrease to near the sliding distance of 10 m, and then stabilized at about 0.07.

超硬合金ピンによるSUJ2プレートの摺動面写真及び断面プロファイル図を図16及び図17に示す。図16(a)は鏡面プレートの摺動面写真、図16(b)は断面プロファイル図であり、図17(a)は直交周期構造プレートの摺動面写真、図17(b)は断面プロファイル図である。図16より、鏡面プレートの場合、摺動痕の表面粗さが非摺動部より大きくなっていることがわかる。一方、図17より、直交周期構造プレートの場合、摺動痕の表面粗さは鏡面プレートより小さくなっている。図17(a)のI(高接触面圧部)における周期構造のSEM像を図18(a)に示し、II(低接触面圧部)における周期構造のSEM像を図18(b)に示す。Iでは、周期構造の摩耗が認められるが、なお周期構造の溝は残存している。IIでは、周期構造は凸部先端にわずかな摩耗が認められるが、ほぼ形態を留めている。超硬合金のピンによる摺動実験後の周期構造の断面プロファイルを図19に示す。周期構造の凸部先端が平滑化され、高さの極めて揃ったプラトー状の形態となっている。硬度の高い超硬合金ピンを摺動させると、突出した周期構造の凸部先端は容易に摩耗する。このとき、摩耗粉は溝部に排出されるため、摩耗粉の凝着が抑制される。この結果、全体の高さが極めて揃ったプラトー状の形態になる。この際に生じる新生面に対し、周期構造部からきめ細かく摩擦調整剤が供給されることでトライボケミカル反応が活発に生じる。低摩擦化した超硬合金ピンからは、Mo-DTCのトライボケミカル反応生成物である二硫化モリブデンが検出された。したがって、SUJ2周期構造プレートに対する超硬合金ピンの低摩擦化はトライボケミカル反応の促進とプレートのプラトー化が主要因である。プラトー化が進むと、接触面圧は低下するため摩耗速度が小さくなり、安定した低摩擦摺動面が得られる。SUJ2ピンおよびSUS440Cピンの場合、SUJ2プレートと硬度差が小さく、双方に同程度の摩耗が生じる。したがって、ピンまたはプレートを基準とした平滑面が得られないことから低摩擦化が生じなかった。   A sliding surface photograph and a cross-sectional profile view of the SUJ2 plate with the cemented carbide pin are shown in FIGS. 16A is a sliding surface photograph of the mirror plate, FIG. 16B is a sectional profile view, FIG. 17A is a sliding surface photograph of the orthogonal periodic structure plate, and FIG. 17B is a sectional profile. FIG. FIG. 16 shows that in the case of a mirror plate, the surface roughness of the sliding trace is larger than that of the non-sliding portion. On the other hand, from FIG. 17, in the case of the orthogonal periodic structure plate, the surface roughness of the sliding trace is smaller than that of the mirror plate. FIG. 18A shows an SEM image of the periodic structure at I (high contact surface pressure portion) in FIG. 17A, and FIG. 18B shows an SEM image of the periodic structure at II (low contact surface pressure portion). Show. In I, wear of the periodic structure is observed, but the groove of the periodic structure still remains. In II, the periodic structure has a slight wear at the tip of the convex portion, but is almost in the form. FIG. 19 shows a cross-sectional profile of the periodic structure after a sliding test using a cemented carbide pin. The tip of the convex portion of the periodic structure is smoothed to form a plateau shape with extremely uniform height. When a cemented carbide pin with high hardness is slid, the protruding convex portion tip of the periodic structure is easily worn. At this time, since the wear powder is discharged to the groove portion, adhesion of the wear powder is suppressed. As a result, it becomes a plateau-like form in which the overall height is extremely uniform. A tribochemical reaction is actively generated by finely supplying the friction modifier from the periodic structure portion to the new surface generated at this time. Molybdenum disulfide, a tribochemical reaction product of Mo-DTC, was detected in cemented carbide pins with reduced friction. Therefore, the lowering of friction of cemented carbide pin against SUJ2 periodic structure plate is mainly due to acceleration of tribochemical reaction and plateau of plate. As plateau progresses, the contact surface pressure decreases, so the wear rate decreases and a stable low friction sliding surface is obtained. In the case of the SUJ2 pin and SUS440C pin, the hardness difference is small compared to the SUJ2 plate, and the same degree of wear occurs on both. Therefore, since a smooth surface based on pins or plates cannot be obtained, a reduction in friction did not occur.

次に、鏡面プレート、平行周期プレート、直交周期プレートを形成したSUS440Cプレートに対し、各種ピンを20m摺動させた際の摩擦係数を図20に示す。ハッチングは、鏡面プレートであり、ドットは平行周期構造プレートであり、白色は直交周期構造を示す。SUJ2ピン及びSUS440Cピンの摩擦係数はSUS440Cプレートに周期構造を形成しても、ほとんど変化は見られなかった。超硬合金ピンの摩擦係数は直交周期構造プレートでのみ低減された。摩擦係数の低減傾向は本実施例で用いた3種類のプレートで最も小さくなった。これは、SUS440Cの活性が低く、摩擦調整剤との反応が起こりにくいためである。   Next, FIG. 20 shows a friction coefficient when various pins are slid by 20 m on a SUS440C plate on which a mirror plate, a parallel periodic plate, and an orthogonal periodic plate are formed. Hatching is a mirror surface plate, dots are parallel periodic structure plates, and white indicates an orthogonal periodic structure. The friction coefficient of the SUJ2 pin and SUS440C pin hardly changed even when the periodic structure was formed on the SUS440C plate. The friction coefficient of cemented carbide pin was reduced only with the orthogonal periodic structure plate. The decreasing tendency of the coefficient of friction was the smallest among the three types of plates used in this example. This is because the activity of SUS440C is low and reaction with the friction modifier hardly occurs.

本発明の第1実施形態を示すトライボケミカル反応促進面構造の簡略斜視図である。It is a simple perspective view of the tribochemical reaction promotion surface structure which shows 1st Embodiment of this invention. 本発明の第1実施形態を示すトライボケミカル反応促進面構造の要部拡大簡略断面図である。It is a principal part expansion simplified sectional view of the tribochemical reaction promotion surface structure which shows 1st Embodiment of this invention. 前記図1のトライボケミカル反応促進面構造の拡大斜視図である。FIG. 2 is an enlarged perspective view of the tribochemical reaction promoting surface structure of FIG. 1. グレーティング構造部を形成するためのレーザ表面加工装置の簡略図である。It is a simplified diagram of a laser surface processing apparatus for forming a grating structure. 本発明の第2実施形態を示すトライボケミカル反応促進面構造の要部拡大簡略断面図である。It is a principal part expansion simplified sectional view of the tribochemical reaction promotion surface structure which shows 2nd Embodiment of this invention. 鏡面および平行周期構造を形成した超硬合金プレートにSUJ2ピンを摺動させた際の摩擦係数の変化を示し、(a)は摩擦調整剤を含まない場合のグラフ図であり、(b)は摩擦調整剤を含む場合のグラフ図である。The change of the friction coefficient when the SUJ2 pin is slid on the cemented carbide plate having a mirror surface and a parallel periodic structure is shown, (a) is a graph when no friction modifier is included, (b) It is a graph in the case of containing a friction modifier. 鏡面および平行周期構造、直交周期構造を形成した超硬合金プレートに対し、超硬合金、SUJ2、SUS440Cのピンを20m摺動させた際の摩擦係数を示すグラフ図である。It is a graph which shows the friction coefficient at the time of sliding the pin of cemented carbide, SUJ2, and SUS440C for 20 m with respect to the cemented carbide plate which formed the mirror surface, the parallel periodic structure, and the orthogonal periodic structure. 鏡面の超硬合金プレートに対し20m摺動後のSUJ2ピンを示し、(a)はSUJ2ピンの摺動面写真、(b)はその断面プロファイル図である。The SUJ2 pin after sliding 20 m with respect to the mirror surface cemented carbide plate is shown, (a) is a photograph of the sliding surface of the SUJ2 pin, and (b) is a cross-sectional profile view thereof. 平行周期構造を形成した超硬合金プレートに対し20m摺動後のSUJ2ピンを示し、(a)はSUJ2ピンの摺動面写真、(b)はその断面プロファイル図である。The SUJ2 pin after sliding 20 m with respect to the cemented carbide plate having a parallel periodic structure is shown, (a) is a photograph of the sliding surface of the SUJ2 pin, and (b) is a cross-sectional profile view thereof. 直交周期構造を形成した超硬合金プレートに対し20m摺動後のSUJ2ピンを示し、(a)はSUJ2ピンの摺動面写真、(b)はその断面プロファイル図である。The SUJ2 pin after sliding 20 m with respect to the cemented carbide plate having an orthogonal periodic structure is shown, (a) is a photograph of the sliding surface of the SUJ2 pin, and (b) is a cross-sectional profile view thereof. 鏡面の超硬合金プレートに対し20m摺動後のSUS440Cピンを示し、(a)はSUS440Cピンの摺動面写真、(b)はその断面プロファイル図である。The SUS440C pin after 20-m sliding with respect to the mirror surface cemented carbide plate is shown, (a) is a sliding surface photograph of the SUS440C pin, and (b) is a cross-sectional profile view thereof. 平行周期構造を形成した超硬合金プレートに対し20m摺動後のSUS440Cピンを示し、(a)はSUS440Cピンの摺動面写真、(b)はその断面プロファイル図である。The SUS440C pin after 20-m sliding is shown with respect to the cemented carbide plate which formed the parallel periodic structure, (a) is a sliding surface photograph of the SUS440C pin, (b) is the cross-sectional profile figure. 直交周期構造を形成した超硬合金プレートに対し20m摺動後のSUS440Cピンを示し、(a)はSUS440Cピンの摺動面写真、(b)はその断面プロファイル図である。The SUS440C pin after 20-m sliding is shown with respect to the cemented carbide plate which formed the orthogonal periodic structure, (a) is a sliding surface photograph of the SUS440C pin, (b) is the cross-sectional profile figure. 鏡面および平行周期構造、直交周期構造を形成したSUJ2プレートに対し、超硬合金、SUJ2、SUS440Cのピンを20m摺動させた際の摩擦係数を示すグラフ図である。It is a graph which shows the friction coefficient at the time of sliding the pin of cemented carbide, SUJ2, and SUS440C for 20 m with respect to the SUJ2 plate which formed the mirror surface, the parallel periodic structure, and the orthogonal periodic structure. SUJ2プレートに対する超硬合金ピンの摩擦係数の変化を示すグラフ図である。It is a graph which shows the change of the friction coefficient of the cemented carbide pin with respect to SUJ2 plate. 超硬合金ピンによるSUJ2プレートの摺動面を示し、(a)は鏡面プレートの摺動面写真、(b)はその断面プロファイル図である。The sliding surface of SUJ2 plate by a cemented carbide pin is shown, (a) is a sliding surface photograph of a mirror surface plate, (b) is the cross-sectional profile figure. 超硬合金ピンによるSUJ2プレートの摺動面を示し、(a)は直交周期構造プレートの摺動面、(b)はその断面プロファイル図である。The sliding surface of SUJ2 plate by a cemented carbide pin is shown, (a) is the sliding surface of an orthogonal periodic structure plate, (b) is the cross-sectional profile figure. 前記図17(a)の詳細を示し、(a)は高接触面圧部におけるSEM像、(b)は低接触面圧部におけるSEM像である。The details of FIG. 17A are shown, wherein FIG. 17A is an SEM image at a high contact surface pressure portion, and FIG. 17B is an SEM image at a low contact surface pressure portion. SUJ2プレートに形成された周期構造の超硬合金ピンによる摺動実験後の断面プロファイル図である。FIG. 6 is a cross-sectional profile diagram after a sliding test using a cemented carbide pin having a periodic structure formed on a SUJ2 plate. 鏡面および平行周期構造、直交周期構造を形成したSUS440Cプレートに対し、超硬合金、SUJ2、SUS440Cのピンを20m摺動させた際の摩擦係数を示すグラフ図である。It is a graph which shows a friction coefficient at the time of sliding the pin of cemented carbide, SUJ2, and SUS440C for 20 m with respect to the SUS440C plate which formed the mirror surface, the parallel periodic structure, and the orthogonal periodic structure. 従来のトライボケミカル反応促進面構造の要部拡大簡略断面図である。It is a principal part expansion simplified sectional view of the conventional tribochemical reaction promotion surface structure.

符号の説明Explanation of symbols

1 第1部材
2 周期構造
3 第2部材
4、10 摺動面
5 凹部
6 凸部
A 間隔
B 凹凸高さ
C 間隔
D 高さ
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 1st member 2 Periodic structure 3 2nd member 4, 10 Sliding surface 5 Concave part 6 Convex part A Space | interval B Concave height C Space | interval D Height

Claims (5)

第1部材の摺動面と第2部材の摺動面とが、摩擦調整剤を含有する添加油潤滑下で相対的に摺動することにより新生面を生成するトライボケミカル反応促進面構造であって、
少なくとも一方の摺動面にサブミクロンオーダーの凹凸高さと間隔を有するグレーティング状の周期構造を形成し
前記グレーティング状の周期構造の方向を摺動方向と直交させるとともに、
一方の摺動面硬度を他方の摺動面硬度と相違させたことを特徴とするトライボケミカル反応促進構造。
A tribochemical reaction promoting surface structure in which a sliding surface of the first member and a sliding surface of the second member slide relative to each other under lubrication with an additive oil containing a friction modifier, thereby generating a new surface. ,
Forming a grating-like periodic structure having a concavo-convex height and spacing of the submicron order on at least one sliding surface,
While making the direction of the grating-like periodic structure perpendicular to the sliding direction,
A tribochemical reaction promoting structure characterized in that one sliding surface hardness is different from the other sliding surface hardness .
前記グレーティング状の周期構造を低硬度側摺動面に形成したことを特徴とする請求項のトライボケミカル反応促進面構造。 2. The tribochemical reaction promoting surface structure according to claim 1 , wherein the grating-like periodic structure is formed on a low hardness side sliding surface. 前記グレーティング状の周期構造を高硬度側摺動面に形成したことを特徴とする請求項のトライボケミカル反応促進面構造。 2. The tribochemical reaction promoting surface structure according to claim 1 , wherein the grating-like periodic structure is formed on a high hardness side sliding surface. 少なくとも一方の摺動面に前記グレーティング状の周期構造より大きな高さと間隔とを有するうねりを形成し、このうねりに前記グレーティング状の周期構造を形成したことを特徴とする請求項1〜請求項のいずれか1項のトライボケミカル反応促進面構造。 Forming a waviness having a greater height and spacing from the grating-like periodic structure on at least one sliding surface, according to claim 1 to claim 3, characterized in that the formation of the grating-like periodic structure in this undulation The tribochemical reaction promoting surface structure according to any one of the above. 前記グレーティング構造部は、加工閾値近傍の照射強度で直線偏光のフェムト秒レーザを照射し、その照射部分をオーバラップさせながら走査して、自己組織的に形成することを特徴とする請求項1〜請求項のいずれか1項のトライボケミカル反応促進面構造。 The grating structure part is formed by self-organizing by irradiating linearly polarized femtosecond laser with an irradiation intensity in the vicinity of a processing threshold, and scanning while overlapping the irradiation part. The tribochemical reaction promoting surface structure according to claim 4 .
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