JP5194026B2 - プラズマ処理装置 - Google Patents
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- B01D53/32—Separation of gases or vapours; Recovering vapours of volatile solvents from gases; Chemical or biological purification of waste gases, e.g. engine exhaust gases, smoke, fumes, flue gases, aerosols by electrical effects other than those provided for in group B01D61/00
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- H05H1/00—Generating plasma; Handling plasma
- H05H1/24—Generating plasma
- H05H1/48—Generating plasma using an arc
Description
また、分解処理時の消費電力を低減する必要もあった。
1b ブロック
2 貫通孔
3 パイプ
4 反応管路
5、6 放電電極
7 被処理ガス供給口
8 被処理ガス供給管
9 給水管
10 冷却水通路
11 電解液供給部
11a ノズル
12 マッチング回路
13 電源
14 制御部
15 隘路部
16 拡張部
17 流水層
18 水溜
19 Oリング
20 水槽
G 被処理ガス
W 水
ブロック1bには、その中心軸に沿って、ハウジング1aの内部空間と本体外部とを連通する貫通孔2が形成される。そして、この貫通孔2には、パイプ3が嵌め込み固定され、ブロック1bから上方に向かってハウジング1aの内部空間にのびている。そして、パイプ3によって反応管路4が構成される。また、ブロック1bの下端部には、貫通孔12から半径方向にブロック1b内部にのび外部に開口する冷却水通路10が設けられる。
また、隘路部15および拡張部16は、反応管路4の壁と一体に形成される。
高圧電極6は、ハウジング1aの上壁の中央に取り付けられ、該上壁から下向きに反応管路4の中心軸に沿ってハウジング1aの内部空間にのび、先端が反応管路4の上端開口に対向するように配置される。この場合、高圧電極6の配置はこれに限定されず、高圧電極6の先端が反応管路4の上端開口の近傍において反応管路4内に向けられるような任意の配置をとることができ、例えば、高圧電極6の先端が反応管路4内に挿入されるような配置でもよい。
制御部14からの制御信号により、電解液が電解液供給部11からノズル11aに供給され、ノズル11aから電解液が吐出される。ノズル21から吐出された電解液は、反応管路4内に直接に、または高圧電極6をつたって反応管路4内に供給され、反応管路4の内壁面に沿って流れて接地電極5を通過する。
被処理ガスGは、被処理ガス供給管8から被処理ガス供給口7を経て、ハウジング1a内に供給される。ハウジング1a内に供給された被処理ガスGは、反応管路4内に流入し、反応管路4内を通過するときにプラズマと接触して高温に加熱され、各ガス構成成分に分解される。
こうして、本発明によれば、隘路部15およびその下側に続く拡張部16を設けたことによって、被処理ガスG中の有害物質の分解処理効率が高められ、さらには、処理時の消費電力が低減される。そして、化学的に安定なCF4を含むPFCなどのフッ素化合物であっても、効果的に分解することができる。また、処理対象が固体や液体であっても、それらを媒体となる適当なガス中に混合し、被処理ガス供給口7からハウジング1a内に供給して反応管路4内に流入させることによって、分解処理することができる。
図3を参照して、この実施例では、隘路部15”および拡張部16”が、反応管路4における処理ガスGの流入部(反応管路4の上端開口)から下方に、反応管路4の全長の1/4〜1/3の長さ離れた位置に設けられる。この実施例では、隘路部15”は、反応管路4との接続位置から下側に向かって一定の割合で内径が小さくなる第1の部分と、第1の部分の下側に接続する内径が一定の第2の部分とから形成され、拡張部16”は、隘路部15”との接続位置から下方に向かって一定の割合で内径が大きくなるように形成される。この構成によれば、生成されるプラズマの温度が最も高温になる位置において、プラズマと流水層17とが近接するので、被処理ガスの分解がより促進されると同時に、流水層17からの蒸発もより促進され、それによって、被処理ガスの分解処理がより効率的になされ、処理時の消費電力もより低減される。
図4を参照して、この実施例では、反応管路4が、ブロック1bの貫通孔2を通ってブロック1bからさらに下方にのび、反応管路4の下端部が、水槽20内に貯えられた水の中に導入される。そして、放電電極の接地電極5’が水槽20の水中であって、反応管路4の下端開口の近傍に配置される。接地電極5’は、平板状に形成され、一方の面が反応管路4の下端開口に対向している。
この構成によれば、被処理ガスGは、反応管路4の下端開口から水中に排出されるので、水中を気泡となって放出される。この場合、プラズマを形成する放電電流は水槽20の水中の接地電極5’まで流れる。このような電極の配置においても、反応管路4に隘路部15および拡張部16を設けたことによって、被処理ガスの分解処理の効率を上げ、処理時の消費電力を低減させることができることは上記実施例の場合と同様である。
図5を参照して、この実施例では、放電電極の接地電極5”が細長い棒状に形成され、反応管路4の下端開口側から反応管路4の中心軸に沿って挿入され、適当な支持手段を用いて、所定位置に固定されている。このような放電電極の配置においても、反応管路4に隘路部15および拡張部16を設けたことによって、上記実施例の場合と同様に、被処理ガスの分解処理の効率を上げ、処理時の消費電力の低減を図ることができる。
このプラズマ処理装置を作動させることにより、CF4の分解を効率的に行うことができた。
Claims (5)
- 上端開口が閉じられた円筒状のハウジングと、前記ハウジングの下端開口にOリングを介してシールされた状態で嵌め込み固定された円柱状のブロックとからなる本体を備え、前記ブロックには中心軸に沿って貫通孔が形成されており、さらに、
前記貫通孔に嵌め込み固定され、前記ブロックから上方に向かって前記ハウジングの内部空間にのび、内部に反応管路が形成されたパイプを備え、前記反応管路の上端開口から下方に前記反応管路の全長の1/4〜1/3の長さ離れた位置に隘路部およびその下側に続く拡張部が設けられており、さらに、
前記ハウジングの上壁の中央に取り付けられて、前記上壁から下向きに前記反応管路の中心軸に沿ってのび、尖った先端が前記反応管路の上端開口に対向する棒状の高圧電極と、
前記高圧電極から前記反応管路の軸方向に間隔をあけて、かつ前記反応管路の内部空間が介在するように配置された接地電極と、
前記高圧電極および前記接地電極間に電圧を印加する電源と、
前記ハウジングの周壁における前記パイプの上端よりも低い位置にシールされた状態で接合された給水管と、を備え、前記給水管からの給水により、前記パイプおよび前記ハウジング間に水溜が形成されるとともに、前記反応管路の上端開口をオーバーフローした水が前記反応管路の内壁面に沿って流れるようになっており、さらに、
前記ハウジングの周壁における前記パイプの上端よりも高い位置にシールされた状態で接合された被処理ガス供給管と、
前記ハウジングの上壁にシールされた状態で取り付けられた電解液を供給するノズルと、を備え、前記ノズルは、前記ハウジングの上壁から前記ハウジング内にのび、先端が上側の前記放電電極の先端、並びに前記反応管路の上端開口に向けられていることにより、前記ノズルによる電解液の供給および停止によって前記反応管路内にプラズマが発生せしめられ、前記反応管路内を流れる被処理ガスが前記プラズマによって分解され、流水中に溶解されるものであることを特徴とするプラズマ処理装置。 - 前記反応管路における前記隘路部および前記拡張部が、前記反応管路の壁と一体に形成されていることを特徴とする請求項1に記載のプラズマ処理装置。
- 前記反応管路における前記隘路部および前記拡張部が、前記反応管路の壁とは別個の部材として形成され、前記反応管路に取り付けられていることを特徴とする請求項1に記載のプラズマ処理装置。
- 前記接地電極は、前記反応管路の内壁面における前記拡張部の下方に取り付けられ、湾曲した板状に形成されて、前記反応管路の内壁面に沿って配置されていることを特徴とする請求項1〜請求項3のいずれかに記載のプラズマ処理装置。
- 前記接地電極は、前記反応管路の下方に配置され、平板状に形成されて、その一方の面が前記反応管路の下端開口に近接しかつ対向するように配置されていることを特徴とする請求項1〜請求項3のいずれかに記載のプラズマ処理装置。
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
PCT/JP2007/072664 WO2009066395A1 (ja) | 2007-11-22 | 2007-11-22 | プラズマ処理装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPWO2009066395A1 JPWO2009066395A1 (ja) | 2011-03-31 |
JP5194026B2 true JP5194026B2 (ja) | 2013-05-08 |
Family
ID=40667232
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2009542451A Expired - Fee Related JP5194026B2 (ja) | 2007-11-22 | 2007-11-22 | プラズマ処理装置 |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5194026B2 (ja) |
WO (1) | WO2009066395A1 (ja) |
Families Citing this family (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP5701525B2 (ja) * | 2010-07-09 | 2015-04-15 | エドワーズ株式会社 | 除害装置及び除害システム |
GB2493750A (en) * | 2011-08-17 | 2013-02-20 | Edwards Ltd | Apparatus for treating a gas stream |
JP5844124B2 (ja) * | 2011-11-22 | 2016-01-13 | クリーン・テクノロジー株式会社 | 排ガス処理装置の起動方法 |
KR102362761B1 (ko) * | 2017-11-22 | 2022-02-15 | 씨에스케이(주) | 가스 처리 장치 |
Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP3069700B1 (ja) * | 1999-07-22 | 2000-07-24 | 静岡大学長 | 放電容器及びその放電容器を備えたプラズマラジカル生成装置 |
WO2001091896A1 (fr) * | 2000-05-29 | 2001-12-06 | Three Tec Co., Ltd. | Appareil de traitement d'objets et dispositif a plasma dote de cet appareil |
JP2004209373A (ja) * | 2002-12-27 | 2004-07-29 | Youth Engineering Co Ltd | 放電の始動方法、この始動方法を利用した被処理物の処理方法、及びこの始動方法を利用した被処理物の処理装置 |
Family Cites Families (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2000346565A (ja) * | 1999-06-10 | 2000-12-15 | Yoshikazu Kumihigashi | 急速冷却塔 |
-
2007
- 2007-11-22 WO PCT/JP2007/072664 patent/WO2009066395A1/ja active Application Filing
- 2007-11-22 JP JP2009542451A patent/JP5194026B2/ja not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP3069700B1 (ja) * | 1999-07-22 | 2000-07-24 | 静岡大学長 | 放電容器及びその放電容器を備えたプラズマラジカル生成装置 |
WO2001091896A1 (fr) * | 2000-05-29 | 2001-12-06 | Three Tec Co., Ltd. | Appareil de traitement d'objets et dispositif a plasma dote de cet appareil |
JP2004209373A (ja) * | 2002-12-27 | 2004-07-29 | Youth Engineering Co Ltd | 放電の始動方法、この始動方法を利用した被処理物の処理方法、及びこの始動方法を利用した被処理物の処理装置 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPWO2009066395A1 (ja) | 2011-03-31 |
WO2009066395A1 (ja) | 2009-05-28 |
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