JP5180914B2 - Semiconductor laser module and Raman amplifier having the same - Google Patents

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Description

この発明は,半導体レーザモジュール,および半導体レーザモジュールを備えたラマン増幅器に関する。   The present invention relates to a semiconductor laser module and a Raman amplifier including the semiconductor laser module.

半導体レーザまたは半導体ゲインチップ(以下,LDと呼ぶ)は活性層を含み,活性層に電流を供給することによってレーザ光(光)を発生する。活性層に電流を供給すると活性層の温度が上昇する。活性層の温度変動はLDから出射されるレーザ光(光)の波長に影響を及ぼすので,LDが格納されるモジュール内部には一般にLDを冷却するための熱電クーラ(ThermoElectric Cooler :TEC)が設けられ,このTEC上にLDが搭載される。TEC上には温度を測定するためのサーミスタも搭載される。サーミスタによって測定される温度が所定温度(たとえば,25℃)となるようにTECは制御される。   A semiconductor laser or a semiconductor gain chip (hereinafter referred to as LD) includes an active layer, and generates laser light (light) by supplying current to the active layer. When current is supplied to the active layer, the temperature of the active layer rises. Since the temperature variation of the active layer affects the wavelength of the laser beam (light) emitted from the LD, a thermoelectric cooler (TEC) for cooling the LD is generally provided inside the module in which the LD is stored. LD is mounted on the TEC. A thermistor for measuring temperature is also mounted on the TEC. The TEC is controlled so that the temperature measured by the thermistor becomes a predetermined temperature (for example, 25 ° C.).

TECはLDの活性層温度を所定温度に維持することを目的としてモジュール内部に設けられるものであるが,上述のように,TECは,活性層温度ではなくサーミスタ温度を所定温度に維持するように動作する。すなわち,TECによる温度制御(冷却)によってサーミスタ温度を所定温度に維持することはできるが,それがLDの活性層温度を一定にすることには必ずしもつながらない。   The TEC is provided in the module for the purpose of maintaining the active layer temperature of the LD at a predetermined temperature. As described above, the TEC maintains the thermistor temperature, not the active layer temperature, at a predetermined temperature. Operate. That is, the thermistor temperature can be maintained at a predetermined temperature by temperature control (cooling) by TEC, but this does not necessarily lead to the constant active layer temperature of the LD.

図7(A),(B)は,LDに供給する駆動電流を変化させたときの,活性層およびサーミスタの温度変化(実線が活性層温度,破線がサーミスタ温度)を示している。図7(A)はTECによる温度制御を行っていないとき(TEC制御無し)のグラフであり,図7(B)はTECを用いた温度制御を行ったとき(TEC制御時)のグラフである。図7(C)は,TECを用いた温度制御を行っている状態において,比較的小さい駆動電流をLDに供給したとき(実線)および比較的大きい駆動電流をLDに供給したとき(一点鎖線)の,LDから出射されるレーザ光(光)の波長と出力(パワー)との関係を示すグラフである。   7A and 7B show temperature changes of the active layer and the thermistor (the solid line is the active layer temperature and the broken line is the thermistor temperature) when the drive current supplied to the LD is changed. FIG. 7A is a graph when temperature control by TEC is not performed (without TEC control), and FIG. 7B is a graph when temperature control using TEC is performed (during TEC control). . FIG. 7C shows a state where a relatively small drive current is supplied to the LD (solid line) and a relatively large drive current is supplied to the LD (one-dot chain line) in a state where temperature control using TEC is performed. It is a graph which shows the relationship between the wavelength of the laser beam (light) radiate | emitted from LD, and output (power).

図7(A)に示すように,TECによる温度制御を行っていない場合,活性層温度およびサーミスタ温度は,いずれも駆動電流を大きくするにしたがって上昇する。特に,活性層温度は急激に上昇する。駆動電流を大きくするにしたがって活性層温度とサーミスタ温度の乖離が大きくなる。   As shown in FIG. 7A, when temperature control by TEC is not performed, the active layer temperature and the thermistor temperature both increase as the drive current increases. In particular, the active layer temperature rises rapidly. As the drive current increases, the difference between the active layer temperature and the thermistor temperature increases.

図7(B)を参照して,TECを用いた温度制御を行うと,上述したように,サーミスタ温度が所定温度に保たれる。しかしながら,駆動電流を大きくするにしたがって活性層温度は上昇し,サーミスタ温度との乖離は大きくなる。駆動電流を大きくすると活性層温度が上昇するので,出射されるレーザ光(光)の波長は長波長側にずれてしまう(図7(C))。光ファイバ中に形成された回折格子(FBG:Fiber Bragg Grating )を外部反射器とする外部共振器型半導体レーザモジュールでは,特に,FBGが持つ反射波長と半導体ゲインチップの持つ光学利得波長とが大きくずれてしまうと,引込み範囲から外れ,FBGによる発振が得られなくなる。   Referring to FIG. 7B, when temperature control using TEC is performed, as described above, the thermistor temperature is maintained at a predetermined temperature. However, as the drive current increases, the active layer temperature rises and the deviation from the thermistor temperature increases. When the drive current is increased, the temperature of the active layer increases, so that the wavelength of the emitted laser light (light) is shifted to the long wavelength side (FIG. 7C). In an external cavity semiconductor laser module that uses a diffraction grating (FBG) formed in an optical fiber as an external reflector, the reflection wavelength of the FBG and the optical gain wavelength of the semiconductor gain chip are particularly large. If it deviates, it will be out of the pull-in range and oscillation by FBG cannot be obtained.

サーミスタを極力LDに近づけて配置することによってサーミスタ温度と活性層温度の乖離はある程度は改善され,レーザ光の波長ずれはある程度改善する(たとえば,特許文献1)。しかしながら,根本的な改善をもたらすものではない。   By disposing the thermistor as close to the LD as possible, the difference between the thermistor temperature and the active layer temperature is improved to some extent, and the wavelength shift of the laser beam is improved to some extent (for example, Patent Document 1). However, it does not bring about fundamental improvement.

特開2002−141599号公報JP 2002-141599 A

この発明は,活性層温度をほぼ一定に保つことができるようにすることを目的とする。   An object of the present invention is to enable the active layer temperature to be kept substantially constant.

この発明による半導体レーザモジュールは,半導体基板上に活性層を有する光導波路が形成され,前記活性層に電流が注入されることで発生した光が前記光導波路を導波され,該光導波路の一方の端に形成された前方端面より前記光が出射される半導体ゲインチップと,前記前方端面と光学的に結合し,内部に所定波長の光を反射する回折格子を有する光ファイバとを有し,前記光導波路の他方の端に形成された後方端面と前記回折格子とを前記光が往復することで共振器が構成される外部共振器型半導体レーザと,温度変化を抵抗値の変化として出力する温度検出素子と,前記温度検出素子が出力する抵抗値が所定値になるように制御される熱電クーラとを含む半導体レーザモジュールであって,前記半導体ゲインチップと前記温度検出素子は,前記熱電クーラ上に搭載された保持台上に配置され,前記温度検出素子の前記保持台と接している面を除く面に,通電によって発熱する発熱体が設けられており,前記半導体ゲインチップに供給される駆動電流が前記発熱体にも供給されることを特徴とする。熱電クーラは,半導体レーザモジュールの外部に設けられる制御回路(クーラ制御回路)によって制御される。温度検出素子からの測定温度を表わすデータ(抵抗値)に基づいて,クーラ制御回路は,温度検出素子が所定温度を維持するように,熱電クーラを制御する。   In the semiconductor laser module according to the present invention, an optical waveguide having an active layer is formed on a semiconductor substrate, and light generated by injecting a current into the active layer is guided through the optical waveguide. A semiconductor gain chip that emits the light from a front end surface formed at the end of the optical fiber, and an optical fiber that is optically coupled to the front end surface and has a diffraction grating that reflects light of a predetermined wavelength inside, An external resonator type semiconductor laser in which a resonator is configured by reciprocating the light between a rear end face formed at the other end of the optical waveguide and the diffraction grating, and a temperature change is output as a change in resistance value. A semiconductor laser module including a temperature detection element and a thermoelectric cooler controlled so that a resistance value output from the temperature detection element becomes a predetermined value, the semiconductor gain chip and the temperature detection element Is disposed on a holding base mounted on the thermoelectric cooler, and a heating element that generates heat by energization is provided on a surface of the temperature detection element other than the surface in contact with the holding base, and the semiconductor gain The driving current supplied to the chip is also supplied to the heating element. The thermoelectric cooler is controlled by a control circuit (cooler control circuit) provided outside the semiconductor laser module. Based on data (resistance value) representing the measured temperature from the temperature detection element, the cooler control circuit controls the thermoelectric cooler so that the temperature detection element maintains a predetermined temperature.

半導体ゲインチップに含まれる活性層に駆動電流を供給すると,活性層において光が発生する。半導体ゲインチップの前方端面から出射された光は,レンズを介して回折格子(FBG)が一部に形成されている光ファイバに入射する。半導体ゲインチップの後方端面と回折格子との間で光反射が繰返されることによってレーザ発振が生じる。得られたレーザ光が光ファイバ中を導波する。   When a drive current is supplied to the active layer included in the semiconductor gain chip, light is generated in the active layer. Light emitted from the front end face of the semiconductor gain chip is incident on an optical fiber having a diffraction grating (FBG) partially formed through a lens. Laser oscillation is caused by repeated light reflection between the rear end face of the semiconductor gain chip and the diffraction grating. The obtained laser light is guided through the optical fiber.

半導体ゲインチップの後方端面は光反射器として機能するので,高い反射率で光を反射する必要がある。また,FBGによる外部共振モードをより安定に得るために,半導体ゲインチップの前方端面は反射率を低くする必要がある。一実施態様では,前記半導体ゲインチップの前方端面に反射防止膜が,後方端面に反射膜がそれぞれ設けられる。たとえば,前記後方端面に設けられる反射膜には,光反射率が90%以上のものが用いられる。   Since the rear end face of the semiconductor gain chip functions as a light reflector, it is necessary to reflect light with high reflectivity. Further, in order to obtain the external resonance mode by FBG more stably, the front end face of the semiconductor gain chip needs to have a low reflectance. In one embodiment, an antireflection film is provided on the front end surface of the semiconductor gain chip, and a reflection film is provided on the rear end surface. For example, as the reflective film provided on the rear end face, a film having a light reflectance of 90% or more is used.

光を出射させるために半導体ゲインチップに駆動電流を供給すると,駆動電流(またはその一部)が発熱体にも供給される。発熱体の発熱によってサーミスタが加熱される(温められる)。   When a drive current is supplied to the semiconductor gain chip to emit light, the drive current (or part thereof) is also supplied to the heating element. The thermistor is heated (heated) by the heat generated by the heating element.

半導体ゲインチップに駆動電流が供給されると,半導体ゲインチップの活性層の熱が保持台を経由して温度検出素子に伝わるのに加えて,温度検出素子に接して設けられている発熱体が駆動電流によって発熱して温度検出素子を加熱するので,半導体ゲインチップと温度検出素子との間の温度の乖離を小さくすることができる。温度検出素子による測定温度が所定温度になるように熱電クーラを制御すると,活性層もほぼ所定温度に維持される。発振波長の安定化が図られる。   When a drive current is supplied to the semiconductor gain chip, the heat of the active layer of the semiconductor gain chip is transferred to the temperature detection element via the holding base, and the heating element provided in contact with the temperature detection element Since the temperature detection element is heated by generating heat by the drive current, the temperature divergence between the semiconductor gain chip and the temperature detection element can be reduced. When the thermoelectric cooler is controlled so that the temperature measured by the temperature detecting element becomes a predetermined temperature, the active layer is also maintained at a substantially predetermined temperature. The oscillation wavelength can be stabilized.

前記駆動電流は,前記発熱体を直列に経由して前記半導体ゲインチップに供給してもよいし,前記駆動電流を分岐させて一方を前記半導体ゲインチップに供給し,他方を前記発熱体に供給してもよい。いずれにしても,半導体ゲインチップに駆動電流が供給されると,それに伴って発熱体が発熱して温度検出素子が加熱されるので,半導体ゲインチップ(活性層)とサーミスタとの間の温度の乖離は小さくなる。   The driving current may be supplied to the semiconductor gain chip via the heating element in series, or the driving current may be branched to supply one to the semiconductor gain chip and the other to the heating element. May be. In any case, when a driving current is supplied to the semiconductor gain chip, the heating element generates heat and the temperature detecting element is heated, so that the temperature between the semiconductor gain chip (active layer) and the thermistor is increased. The divergence becomes smaller.

温度検出素子に設けられる発熱体として,一実施態様では前記温度検出素子と絶縁された状態で設けられた薄膜抵抗が用いられる。薄膜抵抗に駆動電流が供給されることによって薄膜抵抗が加熱され,これが温度検出素子に伝わる。   As a heating element provided in the temperature detection element, in one embodiment, a thin film resistor provided in a state insulated from the temperature detection element is used. When the driving current is supplied to the thin film resistor, the thin film resistor is heated and transmitted to the temperature detecting element.

この発明による半導体レーザモジュールは,広い電流範囲にわたって安定してFBG発振したレーザ光を出射することができるので,ラマン増幅器における励起光源として用いるのに適している。この発明は,上述した半導体レーザモジュール,および前記半導体レーザモジュールからのレーザ光が励起光として入射し,誘導ラマン増幅を生じさせる光ファイバを備えたラマン増幅器も提供する。   Since the semiconductor laser module according to the present invention can emit laser light that has been stably FBG oscillated over a wide current range, it is suitable for use as an excitation light source in a Raman amplifier. The present invention also provides the above-described semiconductor laser module, and a Raman amplifier including an optical fiber that causes the laser light from the semiconductor laser module to be incident as excitation light and cause stimulated Raman amplification.

(A)は半導体レーザモジュールの内部構造を示す平面図を,(B)は半導体レーザモジュールの内部構造を示す側断面図を,それぞれ示す。(A) is a plan view showing the internal structure of the semiconductor laser module, and (B) is a side sectional view showing the internal structure of the semiconductor laser module. 半導体ゲインチップおよびサーミスタの配線を示す一部拡大斜視図である。It is a partially expanded perspective view which shows the wiring of a semiconductor gain chip and a thermistor. 半導体ゲインチップおよびサーミスタの配線の他の例を示す一部拡大斜視図である。It is a partially expanded perspective view which shows the other example of the wiring of a semiconductor gain chip and a thermistor. 半導体レーザモジュールを含むレーザユニットの電気的構成を示すブロック図である。It is a block diagram which shows the electric constitution of the laser unit containing a semiconductor laser module. (A)はTECによる温度制御を行わないときの駆動電流と活性層およびサーミスタの温度変化の関係を示すグラフを,(B)はTECによる温度制御を行っているときの駆動電流と活性層およびサーミスタの温度変化の関係を示すグラフを,(C)はTECによる温度制御を行っているときの,レーザ光の波長および出力の関係を示すグラフを,それぞれ示す。(A) is a graph showing the relationship between the drive current when the temperature control by TEC is not performed and the temperature change of the active layer and the thermistor, and (B) is the drive current when the temperature control by TEC is performed and the active layer and The graph which shows the relationship of the temperature change of a thermistor, (C) respectively shows the graph which shows the relationship between the wavelength of a laser beam, and an output when performing temperature control by TEC. ラマン増幅器のブロック図を示す。1 shows a block diagram of a Raman amplifier. 従来技術を示すものであり,(A)はTECによる温度制御を行わないときの駆動電流と活性層およびサーミスタの温度変化の関係を示すグラフを,(B)はTECによる温度制御を行っているときの駆動電流と活性層およびサーミスタの温度変化の関係を示すグラフを,(C)はTECによる温度制御を行っているときの,レーザ光の波長および出力の関係を示すグラフを,それぞれ示す。The prior art is shown. (A) is a graph showing the relationship between the drive current and the temperature change of the active layer and the thermistor when temperature control by TEC is not performed, and (B) is temperature control by TEC. (C) shows a graph showing the relationship between the wavelength of the laser beam and the output when temperature control is performed by TEC.

図1(A)は半導体レーザモジュールの内部構造を平面図によって,図1(B)は半導体レーザモジュールの内部構造を側断面図によって,それぞれ示している。図1(A),(B)において,ワイヤ(導線)の図示は省略されている。   FIG. 1A shows the internal structure of the semiconductor laser module by a plan view, and FIG. 1B shows the internal structure of the semiconductor laser module by a side sectional view. In FIGS. 1A and 1B, illustration of wires (conductive wires) is omitted.

図1(A),(B)を参照して,半導体レーザモジュール1は,内部が中空の直方体状のパッケージ(筐体)2を備え,パッケージ2の内部に,光を出射する半導体ゲインチップ11,半導体ゲインチップ11から出射される光を集光するレンズ12,温度を測定する(温度変化を抵抗値の変化として出力する)サーミスタ13,および半導体ゲインチップ11の後方端面から出射する光を受光して半導体ゲインチップ11の出力をモニタするためのフォトダイオード14が格納されている。半導体ゲインチップ11およびサーミスタ13はサブマウント(保持台)21上に載置され,レンズ12はレンズホルダ22に保持され,フォトダイオード14はPDサブマウント23の壁面に固定されている。サブマウント21,レンズホルダ22およびPDサブマウント23は,いずれも基板24上に固定されている。   Referring to FIGS. 1A and 1B, a semiconductor laser module 1 includes a rectangular parallelepiped package (housing) 2 having a hollow inside, and a semiconductor gain chip 11 that emits light inside the package 2. , A lens 12 that collects light emitted from the semiconductor gain chip 11, a thermistor 13 that measures temperature (outputs a temperature change as a change in resistance value), and receives light emitted from the rear end face of the semiconductor gain chip 11. A photodiode 14 for monitoring the output of the semiconductor gain chip 11 is stored. The semiconductor gain chip 11 and the thermistor 13 are placed on a submount (holding base) 21, the lens 12 is held by a lens holder 22, and the photodiode 14 is fixed to the wall surface of the PD submount 23. The submount 21, the lens holder 22, and the PD submount 23 are all fixed on the substrate 24.

詳細な図示は省略するが,半導体ゲインチップ11は,半導体基板上に,活性層を含む組成,不純物の種類と量等の異なる複数の半導体層が積層されて構成されている。活性層は光の導波方向にストライプ状に形成されている。そして,活性層において生じる光が活性層の上下に形成された複数の半導体層に閉込められ,活性層を含む複数層で光導波路が構成される。   Although not shown in detail, the semiconductor gain chip 11 is configured by laminating a plurality of semiconductor layers having different compositions including active layers and types and amounts of impurities on a semiconductor substrate. The active layer is formed in a stripe shape in the light guiding direction. Then, light generated in the active layer is confined in a plurality of semiconductor layers formed above and below the active layer, and an optical waveguide is constituted by a plurality of layers including the active layer.

パッケージ内部の底面に熱電クーラ(ThermoElectric Cooler )(たとえば,ペルチェ素子)(以下,TECと呼ぶ)15が固定されている。TEC15上に,上述した半導体ゲインチップ11,レンズ12,サーミスタ13およびフォトダイオード14が搭載された基板24が固定されている。   A thermoelectric cooler (for example, Peltier element) (hereinafter referred to as TEC) 15 is fixed to the bottom surface inside the package. A substrate 24 on which the semiconductor gain chip 11, the lens 12, the thermistor 13, and the photodiode 14 are mounted is fixed on the TEC 15.

パッケージ2の左右壁面のそれぞれから,複数のリード端子26が外方に突き出している。パッケージ2の内部において,リード端子26の端部と上述した半導体ゲインチップ11,サーミスタ13,フォトダイオード14およびTEC15が,ワイヤによって電気的に接続されている。   A plurality of lead terminals 26 protrude outward from the left and right wall surfaces of the package 2. Inside the package 2, the end of the lead terminal 26 and the semiconductor gain chip 11, the thermistor 13, the photodiode 14 and the TEC 15 are electrically connected by wires.

パッケージ2の前壁面に,光ファイバ4が中心に配置された円筒状のフェルール3が固定されている。   A cylindrical ferrule 3 having an optical fiber 4 disposed at the center is fixed to the front wall surface of the package 2.

半導体ゲインチップ11に駆動電流を順方向に供給すると,活性層において光が発生する。活性層において発生した光は半導体ゲインチップ11の前方端面(出射端面)から出射してレンズ12に入射する。レンズ12において集光された光が光ファイバ4に入射する。   When a driving current is supplied to the semiconductor gain chip 11 in the forward direction, light is generated in the active layer. The light generated in the active layer is emitted from the front end face (exit end face) of the semiconductor gain chip 11 and enters the lens 12. The light collected by the lens 12 enters the optical fiber 4.

光ファイバ4中に,回折格子(FBG)4a(以下,FBG4aと言う)が形成されている。半導体ゲインチップ11の前方端面から出射した光のうち,FBG4aのブラッグ波長およびその近傍の波長を持つ光がFBG4aにおいて反射される。FBG4aにおいて反射された光は,光ファイバ4,レンズ12を介して再び半導体ゲインチップ11に戻り,活性層で光学利得を受けて増幅され,半導体ゲインチップ11の後方端面において反射される。半導体ゲインチップ11の後方端面とFBG4aとの間で光反射が繰返されることによってレーザ発振が生じ,レーザ光が光ファイバ4に入射する。このように,光を発生し,かつ後方端面において光を反射する半導体ゲインチップ11と,外部反射器として機能するFBG4aとによって,外部共振器型半導体レーザが構成されている。なお,FBG4aにおいて反射された光を半導体ゲインチップ11に戻す必要があるので,パッケージ2中にアイソレータは設けられていない。半導体ゲインチップ11の前方端面には反射防止膜を,後方端面には反射膜を,それぞれ設けてもよい。後方端面に設けられる反射膜には,たとえば,光反射率を90%とするものが用いられる。   In the optical fiber 4, a diffraction grating (FBG) 4a (hereinafter referred to as FBG 4a) is formed. Of the light emitted from the front end face of the semiconductor gain chip 11, light having the Bragg wavelength of the FBG 4a and a wavelength in the vicinity thereof is reflected by the FBG 4a. The light reflected by the FBG 4a returns to the semiconductor gain chip 11 again through the optical fiber 4 and the lens 12, is amplified by receiving the optical gain in the active layer, and is reflected on the rear end face of the semiconductor gain chip 11. Laser reflection is caused by repeated light reflection between the rear end face of the semiconductor gain chip 11 and the FBG 4 a, and the laser light enters the optical fiber 4. Thus, the external resonator type semiconductor laser is composed of the semiconductor gain chip 11 that generates light and reflects the light at the rear end face, and the FBG 4a that functions as an external reflector. Incidentally, since it is necessary to return the light reflected by the FBG 4 a to the semiconductor gain chip 11, no isolator is provided in the package 2. The semiconductor gain chip 11 may be provided with an antireflection film on the front end surface and a reflection film on the rear end surface. As the reflective film provided on the rear end face, for example, a film having a light reflectance of 90% is used.

図2は,サブマウント21上に載置されている半導体ゲインチップ11およびサーミスタ13の拡大斜視図を示している。   FIG. 2 shows an enlarged perspective view of the semiconductor gain chip 11 and the thermistor 13 mounted on the submount 21.

半導体ゲインチップ11の上面および下面に,それぞれ上面電極31,下面電極32が設けられている。上面電極31と下面電極32との間に順方向の駆動電流を通電することによって,上述したように,半導体ゲインチップ11の前方端面および後方端面から光が出射する。   An upper surface electrode 31 and a lower surface electrode 32 are provided on the upper surface and the lower surface of the semiconductor gain chip 11, respectively. By applying a forward drive current between the upper surface electrode 31 and the lower surface electrode 32, light is emitted from the front end surface and the rear end surface of the semiconductor gain chip 11 as described above.

サーミスタ13にも,その上面の半分の範囲に上面電極36が,下面全体に下面電極37が,それぞれ設けられている。サーミスタ13は金属酸化物(マンガン,コバルト,ニッケルなど),半導体(シリコン)などの電気抵抗が温度に応じて変化することを利用して温度を測定する。サーミスタ13の電気抵抗変化を計測するために,サーミスタ13にも上面電極36および下面電極37を介して電流が通電される。   The thermistor 13 is also provided with an upper surface electrode 36 in the range of half of its upper surface and a lower surface electrode 37 on the entire lower surface. The thermistor 13 measures the temperature using the fact that the electrical resistance of a metal oxide (manganese, cobalt, nickel, etc.), semiconductor (silicon), etc. changes according to the temperature. In order to measure a change in electrical resistance of the thermistor 13, a current is also passed through the thermistor 13 via the upper surface electrode 36 and the lower surface electrode 37.

サーミスタ13の上面の残り半分の範囲(上面電極36が形成されていない範囲)に絶縁膜(たとえば,SiO2膜)38が設けられ,この絶縁膜38上に薄膜抵抗(たとえば,Au(金))39が設けられている。 An insulating film (for example, SiO 2 film) 38 is provided in the remaining half of the upper surface of the thermistor 13 (the area where the upper surface electrode 36 is not formed), and a thin film resistor (for example, Au (gold)) is provided on the insulating film 38. 39) is provided.

薄膜抵抗39は絶縁膜38の上面において枠状に形成されており,その両端には2つのワイヤボンディングパッドが互いに離間して形成されている。薄膜抵抗39の2つのワイヤボンディングパッドのそれぞれに,2本のワイヤ42,43がそれぞれボンディングされている。一方のワイヤ42は,サブマウント21上に設けられた電極パッド33,電極パッド33にボンディングされたワイヤ41を介して,リード端子26の一つ(アノード電極端子)と接続されている。他方のワイヤ43は半導体ゲインチップ11の上面電極31と接続されている。このように,ワイヤ41,電極パッド33,ワイヤ42,薄膜抵抗39およびワイヤ43を通じて,リード端子(アノード電極端子)26と半導体ゲインチップ11の上面電極31が電気的に接続されている。   The thin film resistor 39 is formed in a frame shape on the upper surface of the insulating film 38, and two wire bonding pads are formed on both ends thereof so as to be separated from each other. Two wires 42 and 43 are bonded to the two wire bonding pads of the thin film resistor 39, respectively. One wire 42 is connected to one of the lead terminals 26 (anode electrode terminal) via an electrode pad 33 provided on the submount 21 and a wire 41 bonded to the electrode pad 33. The other wire 43 is connected to the upper surface electrode 31 of the semiconductor gain chip 11. Thus, the lead terminal (anode electrode terminal) 26 and the upper surface electrode 31 of the semiconductor gain chip 11 are electrically connected through the wire 41, the electrode pad 33, the wire 42, the thin film resistor 39, and the wire 43.

半導体ゲインチップ11の下面電極32は,サブマウント21上に設けられた電極パッド34に電気的に接触している。電極パッド34は半導体ゲインチップ11の載置範囲をはみ出す大きさを持ち,このはみ出している箇所に,他端がリード端子26の一つ(カソード電極端子)と接続されているワイヤ44の一端が,ボンディングされている。リード端子(カソード電極端子)26と半導体ゲインチップ11の下面電極32が,ワイヤ44および電極パッド34を介して電気的に接続されている。   The lower surface electrode 32 of the semiconductor gain chip 11 is in electrical contact with an electrode pad 34 provided on the submount 21. The electrode pad 34 has a size that protrudes from the mounting range of the semiconductor gain chip 11, and one end of a wire 44 whose other end is connected to one of the lead terminals 26 (cathode electrode terminal) at the protruding portion. , Bonded. The lead terminal (cathode electrode terminal) 26 and the lower surface electrode 32 of the semiconductor gain chip 11 are electrically connected via the wire 44 and the electrode pad 34.

サーミスタ13については,ワイヤ45によって上面電極36とリード端子26の一つが接続され,ワイヤ46によって下面電極37に接触しているサブマウント21上の電極パッド35とリード端子26の一つとが接続されている。ワイヤ45,46を通じてサーミスタ13に電流が通電される。   For the thermistor 13, one of the upper electrode 36 and the lead terminal 26 is connected by a wire 45, and the electrode pad 35 on the submount 21 in contact with the lower electrode 37 and one of the lead terminals 26 is connected by a wire 46. ing. A current is passed through the thermistor 13 through the wires 45 and 46.

サーミスタ13の上面に設けられている薄膜抵抗39は,半導体ゲインチップ11の上面電極31に電流を供給する経路上に存在し,前記半導体ゲインチップ11と直列に接続されている。したがって,半導体ゲインチップ11から光を出射させる(レーザ光を得る)ために半導体ゲインチップ11の上面電極31および下面電極32との間に電流を通電すると,その電流はサーミスタ13の上面の薄膜抵抗39にも通電される。電流が通電されることによって薄膜抵抗39は発熱する。薄膜抵抗39を用いることによる作用,効果の詳細は後述する。   The thin film resistor 39 provided on the upper surface of the thermistor 13 exists on a path for supplying current to the upper surface electrode 31 of the semiconductor gain chip 11 and is connected in series with the semiconductor gain chip 11. Therefore, when a current is passed between the upper surface electrode 31 and the lower surface electrode 32 of the semiconductor gain chip 11 in order to emit light from the semiconductor gain chip 11 (to obtain a laser beam), the current is a thin film resistor on the upper surface of the thermistor 13. 39 is also energized. When the current is applied, the thin film resistor 39 generates heat. Details of the operation and effect of using the thin film resistor 39 will be described later.

図3はサブマウント21上に載置されている半導体ゲインチップ11およびサーミスタ13を示すもので,図2に示すものとは,薄膜抵抗39と半導体ゲインチップ11とが並列に接続されている点が異なる。   FIG. 3 shows the semiconductor gain chip 11 and the thermistor 13 mounted on the submount 21, which is different from that shown in FIG. 2 in that the thin film resistor 39 and the semiconductor gain chip 11 are connected in parallel. Is different.

ワイヤ41とワイヤ44との間に電流が流される(電圧が印加される)と,電極パッド33,ワイヤ47,半導体ゲインチップ11の上面電極31,半導体ゲインチップ11の半導体層,半導体ゲインチップ11の下面電極32,電極パッド34からなるループと,電極パッド33,ワイヤ42,薄膜抵抗39,ワイヤ43,電極パッド34(半導体ゲインチップ11の下面電極32)からなるループとに分岐し,半導体ゲインチップ11と薄膜抵抗39とに同じ電圧が印加される。この場合にも,薄膜抵抗39は発熱する。   When a current flows between the wire 41 and the wire 44 (voltage is applied), the electrode pad 33, the wire 47, the upper surface electrode 31 of the semiconductor gain chip 11, the semiconductor layer of the semiconductor gain chip 11, and the semiconductor gain chip 11 Branching into a loop consisting of the lower electrode 32 and electrode pad 34, and a loop consisting of the electrode pad 33, wire 42, thin film resistor 39, wire 43 and electrode pad 34 (lower electrode 32 of the semiconductor gain chip 11). The same voltage is applied to the chip 11 and the thin film resistor 39. Also in this case, the thin film resistor 39 generates heat.

なお,半導体ゲインチップ11と薄膜抵抗39への電流の分岐比を変更するには,所望の分岐比となるように,電極パッド33の形状を変更したり,ワイヤ42,47を変更したりすればよい。   In order to change the branching ratio of the current to the semiconductor gain chip 11 and the thin film resistor 39, the shape of the electrode pad 33 or the wires 42 and 47 are changed so as to obtain a desired branching ratio. That's fine.

図4は,上述した半導体レーザモジュール1を含むレーザユニットの電気的構成を示すブロック図である。半導体レーザモジュール1と,半導体レーザモジュール1の外部に設けられる駆動電源51,自動出力制御回路(APC:Auto Power Control回路)52,およびTECコントローラ53とによって,レーザユニットは構成される。   FIG. 4 is a block diagram showing an electrical configuration of a laser unit including the semiconductor laser module 1 described above. The laser unit is constituted by the semiconductor laser module 1, the drive power supply 51 provided outside the semiconductor laser module 1, an automatic output control circuit (APC: Auto Power Control circuit) 52, and the TEC controller 53.

駆動電源51から半導体ゲインチップ11に駆動電流が供給される。駆動電源51からの駆動電流は,APC回路52から与えられる制御信号に基づいて制御される。   A drive current is supplied from the drive power supply 51 to the semiconductor gain chip 11. A drive current from the drive power supply 51 is controlled based on a control signal supplied from the APC circuit 52.

APC回路52は,フォトダイオード14からの出力電流が所定値になるように駆動電源51を制御する。フォトダイオード14は半導体ゲインチップ11の後方に配置されており,後方端面から出射される光を受光して,これに応じた電流を出力する。半導体ゲインチップ11の後方端面から出射される光の出力は前方端面から出射される光の出力と比例するので,フォトダイオード14からの出力電流が所定値となるように駆動電源51を制御することによって,半導体ゲインチップ11の前方端面から出射される光出力(パワー)が所定値に維持される。   The APC circuit 52 controls the drive power supply 51 so that the output current from the photodiode 14 becomes a predetermined value. The photodiode 14 is disposed behind the semiconductor gain chip 11, receives light emitted from the rear end face, and outputs a current corresponding thereto. Since the output of light emitted from the rear end face of the semiconductor gain chip 11 is proportional to the output of light emitted from the front end face, the drive power supply 51 is controlled so that the output current from the photodiode 14 becomes a predetermined value. Thus, the light output (power) emitted from the front end face of the semiconductor gain chip 11 is maintained at a predetermined value.

APC回路52の設定に基づいて半導体ゲインチップ11に供給される駆動電流が決定され,かつ半導体ゲインチップ11から出射される光のパワー(レーザ発振後のレーザ光のパワー)が決定される。求められる出力特性に応じて,様々なパワーの光を半導体レーザモジュール1から出射させることができる。   Based on the setting of the APC circuit 52, the drive current supplied to the semiconductor gain chip 11 is determined, and the power of light emitted from the semiconductor gain chip 11 (power of laser light after laser oscillation) is determined. Depending on the required output characteristics, light of various powers can be emitted from the semiconductor laser module 1.

駆動電源51からの駆動電流が半導体ゲインチップ11に供給されると,半導体ゲインチップ11の活性層が発熱する。半導体ゲインチップ11は,TECコントローラ53から与えられる制御信号にしたがって動作するTEC15によって冷却される。   When the drive current from the drive power supply 51 is supplied to the semiconductor gain chip 11, the active layer of the semiconductor gain chip 11 generates heat. The semiconductor gain chip 11 is cooled by a TEC 15 that operates according to a control signal supplied from the TEC controller 53.

TECコントローラ53は,サーミスタ13による測定温度が所定温度(たとえば,25℃)になるように,TEC15を制御する。すなわち,サーミスタ13には駆動電源51から電流が供給され,温度変化に伴って変化する抵抗値が,サーミスタ13に接続されたTECコントローラ53によって検知される。TECコントローラ53はサーミスタ13の抵抗値に基づいて,この抵抗値が所定値に維持されるようにTEC15を制御する。これによりサーミスタ13の測定温度が所定温度(たとえば,25℃)に維持される。   The TEC controller 53 controls the TEC 15 so that the temperature measured by the thermistor 13 becomes a predetermined temperature (for example, 25 ° C.). That is, a current is supplied to the thermistor 13 from the drive power supply 51, and a resistance value that changes with a temperature change is detected by the TEC controller 53 connected to the thermistor 13. Based on the resistance value of the thermistor 13, the TEC controller 53 controls the TEC 15 so that the resistance value is maintained at a predetermined value. Thereby, the measurement temperature of the thermistor 13 is maintained at a predetermined temperature (for example, 25 ° C.).

上述したように,駆動電流が供給されると半導体ゲインチップ11の活性層が発熱する。半導体ゲインチップ11およびサーミスタ13は,窒化アルミニウム,銅タングステン等の熱伝導性を持つ材質で作られたサブマウント21上に配置され熱的接続状態を有しているので,半導体ゲインチップ11の活性層の発熱はサブマウント21を経由してサーミスタ13に伝わり,サーミスタ13の温度も上昇する。この場合,TECコントローラ53は上昇したサーミスタ13の温度を下げるようにTEC15を制御する。   As described above, when the drive current is supplied, the active layer of the semiconductor gain chip 11 generates heat. The semiconductor gain chip 11 and the thermistor 13 are disposed on a submount 21 made of a material having thermal conductivity such as aluminum nitride and copper tungsten and have a thermal connection state. The heat generated in the layer is transmitted to the thermistor 13 via the submount 21, and the temperature of the thermistor 13 also rises. In this case, the TEC controller 53 controls the TEC 15 so as to lower the temperature of the raised thermistor 13.

ここで,上述したように,半導体ゲインチップ11に駆動電流(駆動電圧)が供給されると,駆動電流がサーミスタ13上に設けられている薄膜抵抗39にも供給され,薄膜抵抗39が発熱する。サーミスタ13は,半導体ゲインチップ11からのサブマウント21を経由した熱伝導によって加熱されるとともに,薄膜抵抗39の発熱によっても加熱される。   Here, as described above, when the drive current (drive voltage) is supplied to the semiconductor gain chip 11, the drive current is also supplied to the thin film resistor 39 provided on the thermistor 13, and the thin film resistor 39 generates heat. . The thermistor 13 is heated by heat conduction from the semiconductor gain chip 11 via the submount 21 and also heated by heat generated by the thin film resistor 39.

半導体ゲインチップ11における発熱をサブマウント21を経由した熱伝導のみでサーミスタ13に伝達させるとすると,サーミスタ13の温度は半導体ゲインチップ11の活性層の温度と一致しなくなる。特に半導体ゲインチップ11に供給される駆動電流が大きい場合,サーミスタ13の温度と半導体ゲインチップ11の活性層の温度との間には大きな乖離が生じる。その結果,サーミスタ13は所定温度に維持されるが,活性層は所定温度に維持されずに上昇する。レーザ光の発振波長が長波長側に変動してしまう(図7(A)〜(C)参照)。   If the heat generated in the semiconductor gain chip 11 is transmitted to the thermistor 13 only by heat conduction through the submount 21, the temperature of the thermistor 13 does not match the temperature of the active layer of the semiconductor gain chip 11. In particular, when the drive current supplied to the semiconductor gain chip 11 is large, a large divergence occurs between the temperature of the thermistor 13 and the temperature of the active layer of the semiconductor gain chip 11. As a result, the thermistor 13 is maintained at a predetermined temperature, but the active layer rises without being maintained at the predetermined temperature. The oscillation wavelength of the laser light changes to the long wavelength side (see FIGS. 7A to 7C).

しかしながら,サーミスタ13は,上述したように,サブマウント21を経由した熱伝導のみならず,サーミスタ13の上面に設けられた薄膜抵抗39からの熱によっても加熱される。半導体ゲインチップ11に供給される電流(電圧)が大きくされると,活性層の発熱量が大きくなるとともに,薄膜抵抗39の加熱量も大きくなる。これによって,サーミスタ内部の温度勾配が緩和され,より活性層温度に近い温度が検出されるようになる。   However, as described above, the thermistor 13 is heated not only by heat conduction via the submount 21, but also by heat from the thin film resistor 39 provided on the upper surface of the thermistor 13. When the current (voltage) supplied to the semiconductor gain chip 11 is increased, the heat generation amount of the active layer is increased and the heating amount of the thin film resistor 39 is also increased. As a result, the temperature gradient inside the thermistor is relaxed, and a temperature closer to the active layer temperature is detected.

図5(A)〜(C)は,図7(A)〜(C)に対応するもので,サーミスタ13の上面に薄膜抵抗39を設けた場合のグラフを示している。   FIGS. 5A to 5C correspond to FIGS. 7A to 7C and show graphs in the case where a thin film resistor 39 is provided on the upper surface of the thermistor 13.

図5(A)を参照して,薄膜抵抗39を半導体ゲインチップ11と直列に(図2)または並列に(図3)を接続することによって,活性層温度とサーミスタ温度の乖離幅を小さくすることができる。図5(B)を参照して,活性層温度とサーミスタ温度の乖離幅が小さくされた結果,TECコントローラ53およびTEC15によってサーミスタ13が所定温度に維持されると,活性層温度もほぼ所定温度に近い温度に維持される。駆動電流を大きくしても,出射光の波長のずれはほとんど生じない(図5(C))。半導体レーザモジュール1を,様々なパワーを持つレーザ光を得るための光源として用いても(駆動電流を変動させても),安定した波長のレーザ光を得ることができる。   Referring to FIG. 5A, by connecting thin film resistor 39 in series with semiconductor gain chip 11 (FIG. 2) or in parallel (FIG. 3), the difference between the active layer temperature and the thermistor temperature is reduced. be able to. Referring to FIG. 5B, as a result of the difference between the active layer temperature and the thermistor temperature being reduced, if the thermistor 13 is maintained at a predetermined temperature by the TEC controller 53 and TEC15, the active layer temperature is also brought to a predetermined temperature. Maintained at close temperature. Even if the drive current is increased, the wavelength of the emitted light hardly shifts (FIG. 5C). Even if the semiconductor laser module 1 is used as a light source for obtaining laser light having various powers (even if the drive current is varied), laser light having a stable wavelength can be obtained.

図6は,上述した半導体レーザモジュール1(レーザユニット)を励起光用光源として用いたラマン増幅器のブロック図を示している。   FIG. 6 shows a block diagram of a Raman amplifier using the above-described semiconductor laser module 1 (laser unit) as a pumping light source.

ラマン増幅器60では,半導体レーザモジュール1から出射されたレーザ光が励起光としてカプラ61を通じて増幅用光ファイバ62に入力する。増幅用光ファイバ62において誘導ラマン散乱が生じ,レーザ光の波長(励起光波長)から約100nm程度長波長側に利得が生じる。増幅用光ファイバ62に信号光が入射すると,増幅用光ファイバ62中に生じた利得によって信号光が増幅される(ラマン増幅)。半導体レーザモジュール1は,比較的パワーの大きいレーザ光を出射することができるので,信号光を長距離にわたって伝送することができる。また,半導体レーザモジュール1は駆動電流を大きくしても波長ずれを生じることなく安定してレーザ発振するので,ラマン利得を安定して得ることができる。   In the Raman amplifier 60, the laser light emitted from the semiconductor laser module 1 is input to the amplification optical fiber 62 through the coupler 61 as excitation light. Stimulated Raman scattering occurs in the amplification optical fiber 62, and a gain is generated on the longer wavelength side by about 100 nm from the wavelength of the laser light (excitation light wavelength). When the signal light enters the amplification optical fiber 62, the signal light is amplified by the gain generated in the amplification optical fiber 62 (Raman amplification). Since the semiconductor laser module 1 can emit laser light with relatively high power, it can transmit signal light over a long distance. Further, since the semiconductor laser module 1 stably oscillates without causing a wavelength shift even when the driving current is increased, the Raman gain can be stably obtained.

1 半導体レーザモジュール
4 光ファイバ
4a 回折格子(FBG)
11 半導体ゲインチップ
13 サーミスタ
15 熱電クーラ(TEC)
21 サブマウント
38 絶縁膜
39 薄膜抵抗
60 ラマン増幅器
62 増幅用光ファイバ
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Semiconductor laser module 4 Optical fiber 4a Diffraction grating (FBG)
11 Semiconductor gain chip
13 Thermistor
15 Thermoelectric cooler (TEC)
21 Submount
38 Insulating film
39 Thin film resistors
60 Raman amplifier
62 Optical fiber for amplification

Claims (5)

半導体基板上に活性層を有する光導波路が形成され,前記活性層に電流が注入されることで発生した光が前記光導波路を導波され,該光導波路の一方の端に形成された前方端面より前記光が出射される半導体ゲインチップと,前記前方端面と光学的に結合し,内部に所定波長の光を反射する回折格子を有する光ファイバとを有し,前記光導波路の他方の端に形成された後方端面と前記回折格子とを前記光が往復することで共振器が構成される外部共振器型半導体レーザと,
温度変化を抵抗値の変化として出力する温度検出素子と,
前記温度検出素子が出力する抵抗値が所定値になるように制御される熱電クーラとを含む半導体レーザモジュールであって,
前記半導体ゲインチップと前記温度検出素子は,前記熱電クーラ上に搭載された保持台上に配置され,
前記温度検出素子の前記保持台と接している面を除く面に,通電によって発熱する発熱体が設けられており,
前記半導体ゲインチップに供給される駆動電流が前記発熱体にも供給されることを特徴とする,
半導体レーザモジュール。
An optical waveguide having an active layer is formed on a semiconductor substrate, and light generated by injecting a current into the active layer is guided through the optical waveguide and is formed at one end of the optical waveguide. A semiconductor gain chip from which the light is emitted, and an optical fiber that is optically coupled to the front end face and has a diffraction grating that reflects light of a predetermined wavelength inside, at the other end of the optical waveguide An external resonator type semiconductor laser in which a resonator is formed by reciprocating the light between the formed rear end face and the diffraction grating;
A temperature detection element that outputs a temperature change as a change in resistance value;
A semiconductor laser module including a thermoelectric cooler controlled so that a resistance value output from the temperature detection element becomes a predetermined value;
The semiconductor gain chip and the temperature detection element are disposed on a holding base mounted on the thermoelectric cooler,
A heating element that generates heat when energized is provided on the surface of the temperature detection element other than the surface in contact with the holding table,
The drive current supplied to the semiconductor gain chip is also supplied to the heating element,
Semiconductor laser module.
前記駆動電流が,前記発熱体を直列に経由して前記半導体ゲインチップに供給される,
請求項1に記載の半導体レーザモジュール。
The drive current is supplied to the semiconductor gain chip via the heating element in series.
The semiconductor laser module according to claim 1.
前記駆動電流が分岐され,一方が前記半導体ゲインチップに供給され,他方が前記発熱体に供給される,
請求項1に記載の半導体レーザモジュール。
The drive current is branched, one is supplied to the semiconductor gain chip, and the other is supplied to the heating element.
The semiconductor laser module according to claim 1.
前記発熱体は,前記温度検出素子と絶縁された状態で設けられた薄膜抵抗である,
請求項1から3のいずれか一項に記載の半導体レーザモジュール。
The heating element is a thin film resistor provided in a state insulated from the temperature detection element.
The semiconductor laser module according to any one of claims 1 to 3.
請求項1から4のいずれか一項に記載の半導体レーザモジュール,および
前記半導体レーザモジュールからのレーザ光が励起光として入射し,誘導ラマン増幅を生じさせる光ファイバ,
を備えたラマン増幅器。
A semiconductor laser module according to any one of claims 1 to 4, and an optical fiber in which laser light from the semiconductor laser module is incident as excitation light and causes stimulated Raman amplification,
Raman amplifier equipped with.
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