JP5170362B2 - 粒子回収方法及び粒子回収装置 - Google Patents
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Description
2 容器回転手段
3 磁力発生手段
4 スラリー投入手段
5 溶媒受け手段
6 制御手段
Claims (7)
- 軸の周りに回転可能に設けられた容器を用意し、
前記容器がスラリー投入位置にあるとき、磁性材料からなる粒子を溶媒に分散させたスラリーを前記容器に入れるスラリー投入工程と、
磁力発生手段から磁力を及ぼすことで、前記粒子を前記容器の内面に吸着させる粒子吸着工程と、
前記容器を、前記スラリー投入位置から、前記スラリー投入位置よりも容器を傾けた溶媒排出位置まで回転させることで、前記容器の内面に前記粒子を吸着させたまま前記容器から前記溶媒を流し出す溶媒排出工程とを含むサイクルを繰り返し、
その後、前記容器に残った前記粒子を回収する、
粒子回収方法であって、
前記磁力発生手段は、
前記容器の底部に向かい合う側に凹面を有し、前記凹面は前記容器の底部の回転軌跡と対応する円弧状となっており、
前記容器の回転位置が、前記スラリー投入位置と前記溶媒排出位置との間にあるとき、前記底部に磁力を印加し続け、
前記容器は、前記凹面に沿って回転する、
粒子回収方法。 - 軸の周りに回転可能に設けられた容器を用意し、
前記容器がスラリー投入位置にあるとき、磁性材料からなる粒子を溶媒に分散させたスラリーを前記容器に入れるスラリー投入工程と、
磁力発生手段から磁力を及ぼすことで、前記粒子を前記容器の内面に吸着させる粒子吸着工程と、
前記容器を、前記スラリー投入位置から、前記スラリー投入位置よりも容器を傾けた溶媒排出位置まで回転させることで、前記容器の内面に前記粒子を吸着させたまま前記容器から前記溶媒を流し出す溶媒排出工程とを含むサイクルを繰り返し、
その後、前記容器に残った前記粒子を回収する、
粒子回収方法であって、
前記磁力発生手段は、
前記容器とは別体として設けられ、
前記容器の底部に向かい合う側に凹面を有し、前記凹面は前記容器の底部の回転軌跡と対応する円弧状となっており、
前記容器の回転位置が、前記スラリー投入位置と前記溶媒排出位置との間にあるとき、前記底部に磁力を印加し続け、
前記サイクルを繰り返した後、前記粒子を回収する前に、前記磁力発生手段と前記容器との間の距離を相対的に離すことで、前記粒子に及ぼされる前記磁力を低下させる、
粒子回収方法。 - 請求項1または2に記載された粒子回収方法であって、
前記磁力発生手段は、永久磁石からなる、
粒子回収方法。 - 請求項1乃至3の何れかに記載された粒子回収方法であって、
前記容器に残った前記粒子にガス噴流を当てることで、前記粒子を回収する、
粒子回収方法。 - 請求項4に記載された粒子回収方法であって、さらに前記容器には、ガス噴射装置が設けられており、
前記ガス噴射装置は、前記容器の底部内面を経由して開口部へと抜ける前記ガス噴流を発生させる、
粒子回収方法。 - 容器と、
前記容器を軸の周りに回転させる容器回転手段と、
磁性材料からなる粒子を溶媒に分散させたスラリーを前記容器に入れるスラリー投入手段と、
前記容器の内面に磁力を印加する磁力発生手段と、
前記容器がスラリー投入位置にあるとき、前記スラリーを前記容器に入れるべく前記スラリー投入手段を制御するスラリー投入制御、及び、前記スラリー投入制御の後、前記容器を、前記スラリー投入位置から、前記スラリー投入位置よりも容器を傾けた溶媒排出位置まで回転させるべく前記容器回転手段を制御する溶媒排出制御を繰り返す制御部を備える、
粒子回収装置であって、
前記磁力発生手段は、
前記容器の底部に向かい合う側に凹面を有し、前記凹面は前記容器の底部の回転軌跡と対応する円弧状となっており、
前記容器の回転位置が、前記スラリー投入位置と前記溶媒排出位置との間にあるとき、前記底部に磁力を印加し、
前記容器は、前記凹面に沿って回転する、
粒子回収装置。 - 請求項6に記載された粒子回収装置であって、さらにガス噴射装置を含み、
前記ガス噴射装置は、前記容器に設けられ、前記容器の底部内面を経由して開口部へと抜けるガス噴流を発生させる、
粒子回収装置。
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JP2006345696A JP5170362B2 (ja) | 2006-12-22 | 2006-12-22 | 粒子回収方法及び粒子回収装置 |
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JP2006345696A JP5170362B2 (ja) | 2006-12-22 | 2006-12-22 | 粒子回収方法及び粒子回収装置 |
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