JP5166212B2 - Manufacturing method of multilayer capacitor - Google Patents

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Description

本発明は積層コンデンサの製造方法に関する。更に詳しくは、複数のセラミック誘電体層と複数の内部電極層とが交互に積層された構造を有する積層コンデンサの製造方法に関する。   The present invention relates to a method for manufacturing a multilayer capacitor. More specifically, the present invention relates to a method of manufacturing a multilayer capacitor having a structure in which a plurality of ceramic dielectric layers and a plurality of internal electrode layers are alternately stacked.

従来、複数のセラミック層と複数の内部電極層とが交互に積層された構造を有する積層コンデンサが知られている。この積層コンデンサの各内部電極層同士は、積層方向に貫通されたビア導体と電気的に接続されると共に、積層コンデンサの外表面に配設された外部電極へと導出されている(特許文献1及び2参照)。そして、この積層コンデンサは外部電極を介して、外部部品(半導体素子など)と電気的に接続されて使用されることとなる。このため、積層コンデンサの各部には、外部部品素子の能力をより効果的に引き出すために高い接続信頼性が求められる。
下記特許文献1には、外部部品との接続信頼性を向上させる目的で、積層コンデンサの外部電極を多段形状とすることが開示されている。一方、下記特許文献2には、積層コンデンサの積層体内におけるビア導体周辺のクラックを防止する目的で、特定量の共素地セラミック粉末を含有することが開示されている。
Conventionally, a multilayer capacitor having a structure in which a plurality of ceramic layers and a plurality of internal electrode layers are alternately stacked is known. The internal electrode layers of the multilayer capacitor are electrically connected to via conductors penetrating in the stacking direction and led to external electrodes disposed on the outer surface of the multilayer capacitor (Patent Document 1). And 2). The multilayer capacitor is used by being electrically connected to an external component (such as a semiconductor element) via an external electrode. For this reason, high connection reliability is required for each part of the multilayer capacitor in order to extract the capability of the external component element more effectively.
Patent Document 1 below discloses that the external electrodes of a multilayer capacitor have a multistage shape for the purpose of improving the connection reliability with external components. On the other hand, Patent Document 2 below discloses that a specific amount of the common ceramic powder is contained for the purpose of preventing cracks around the via conductor in the multilayer body of the multilayer capacitor.

特開2005−347648号公報JP 2005-347648 A 特開2007−081351号公報JP 2007-081351 A

上記特許文献1及び2においては、各々の部分における接続信頼性の向上に寄与するものの、近年、積層コンデンサには、益々高い接続信頼性が要求され、更なる接続信頼性の向上が求められている。
本発明は上記実情に鑑みてなされたものであり、積層コンデンサの外部電極とセラミック誘電体層との接続信頼性を従来に比べて更に向上させることができる積層コンデンサの製造方法を提供することを目的とする。
In the above Patent Documents 1 and 2, although contributing to the improvement of connection reliability in each part, in recent years, higher and higher connection reliability is required for multilayer capacitors, and further improvement of connection reliability is required. Yes.
The present invention has been made in view of the above circumstances, and provides a method of manufacturing a multilayer capacitor that can further improve the connection reliability between the external electrode of the multilayer capacitor and the ceramic dielectric layer as compared with the conventional one. Objective.

即ち、本発明は以下に示す通りである。
(1)一面及び対面を有し、該一面と該対面との間で交互に積層された複数のセラミック誘電体層及び複数の内部電極層と、上記複数の内部電極層同士を電気的に接続したビア導体と、上記一面及び/又は上記対面に配設されると共に上記ビア導体と電気的に接続された外部電極と、を備えた積層コンデンサの製造方法であって、
上記セラミック誘電体層となる未焼成セラミック誘電体層と、内部電極用ペーストを印刷して形成した上記内部電極層となる未焼成内部電極層と、が交互に積層された構造を有する未焼成積層体を形成する工程(以下「未焼成積層体形成工程」という)と、
上記未焼成積層体の上記一面側の表面と上記対面側の表面とを貫通する貫通孔を形成する工程(以下「貫通孔形成工程」という)と、
上記貫通孔内に上記ビア導体となるビア導体用ペーストを充填して未焼成ビア導体を形成する工程(以下「未焼成ビア導体形成工程」という)と、
上記未焼成積層体の上記一面側の表面及び上記対面側の表面のうちの少なくとも一方の表面に、上記未焼成ビア導体と接続された上記外部電極となる外部電極用ペーストを印刷して未焼成外部電極を形成する工程(以下「未焼成外部電極形成工程」という)と、をこの順に備え、
上記内部電極層用ペースト、上記ビア導体用ペースト及び上記外部電極用ペーストは、各々導電性粒子を含有し、
上記ビア導体用ペースト中の導電性粒子の平均粒径をRとし、上記外部電極用ペースト中の導電性粒子の平均粒径をRとした場合に、R≧Rであり、且つ、
上記外部電極用ペーストの剪断速度1s−1における粘度をVO(1)とし、剪断速度100s−1における粘度をVO(100)とした場合に、1≦O(1)/VO(100) ≦5であることを特徴とする積層コンデンサの製造方法。
(2)上記内部電極層用ペースト中の導電性粒子の平均粒径をRとした場合に、R>Rである上記(1)に記載の積層コンデンサの製造方法。
(3)上記ビア導体用ペースト中の導電性粒子の平均粒径Rは、2.0μm≦R≦10.0μmである上記(1)又は(2)に記載の積層コンデンサの製造方法。
(4)外部電極用ペースト中の導電性粒子の平均粒径Rは、1.0μm≦R≦5.0μmである上記(1)乃至(3)のうちのいずれかに記載の積層コンデンサの製造方法。
(5)上記内部電極層用ペースト中の導電性粒子の平均粒径をRとした場合に、該Rは、0.05μm≦R<1.0μmである上記(1)乃至(4)のうちのいずれかに記載の積層コンデンサの製造方法。
(6)剪断速度5s−1における上記内部電極層用ペーストの粘度をVI(5)とし、剪断速度5s−1における上記ビア導体用ペーストの粘度をVV(5)とし、剪断速度5s−1における上記外部電極用ペーストの粘度をVO(5)とした場合に、VI(5)≦VO(5)<VV(5)である上記(1)乃至(5)のうちのいずれかに記載の積層コンデンサの製造方法。
(7)1つの上記未焼成ビア導体の上記未焼成外部電極との接続面積をSとし、1つの該未焼成外部電極の平面面積をSとした場合に、S/S≧1.5である上記(1)乃至(6)のうちのいずれかに記載の積層コンデンサの製造方法。
That is, the present invention is as follows.
(1) A plurality of ceramic dielectric layers and a plurality of internal electrode layers that have one surface and a facing surface and are alternately laminated between the one surface and the facing surface, and electrically connect the plurality of internal electrode layers to each other A multilayer capacitor comprising: the via conductor, and an external electrode disposed on the one surface and / or the opposite surface and electrically connected to the via conductor,
An unfired laminate having a structure in which the unfired ceramic dielectric layer to be the ceramic dielectric layer and the unfired internal electrode layer to be the internal electrode layer formed by printing an internal electrode paste are alternately laminated Forming the body (hereinafter referred to as “unfired laminate forming step”);
A step of forming a through-hole penetrating the surface on the one surface side and the surface on the opposite side of the unfired laminate (hereinafter referred to as a “through-hole forming step”);
Filling the via conductor paste into the through-hole into the via conductor paste to form an unfired via conductor (hereinafter referred to as “unfired via conductor forming step”);
On the at least one of the one-side surface and the opposite-side surface of the unfired laminate, an external electrode paste to be the external electrode connected to the unfired via conductor is printed and unfired A step of forming external electrodes (hereinafter referred to as “unfired external electrode forming step”) in this order,
The internal electrode layer paste, the via conductor paste and the external electrode paste each contain conductive particles,
When the average particle diameter of the conductive particles in the via conductor paste is R V and the average particle diameter of the conductive particles in the external electrode paste is R O , R V ≧ R O and ,
When the viscosity at the shear rate of 1 s −1 of the external electrode paste is V O (1) and the viscosity at the shear rate of 100 s −1 is V O (100) , 1 ≦ V O (1) / V O ( 100) ≦ 5 , A method for producing a multilayer capacitor, wherein
(2) an average particle diameter of the conductive particles in the paste for the internal electrode layer in case of the R I, a manufacturing method of the multilayer capacitor according to the above (1) is R O> R I.
(3) The manufacturing method of the multilayer capacitor according to (1) or (2), wherein an average particle diameter R V of the conductive particles in the via conductor paste is 2.0 μm ≦ R V ≦ 10.0 μm.
(4) The multilayer capacitor according to any one of the above (1) to (3), wherein the average particle diameter R O of the conductive particles in the external electrode paste is 1.0 μm ≦ R O ≦ 5.0 μm. Manufacturing method.
(5) When the average particle diameter of the conductive particles in the internal electrode layer paste is R I , the R I is 0.05 μm ≦ R I <1.0 μm (1) to (4) ). The manufacturing method of the multilayer capacitor in any one of.
(6) the viscosity of the internal electrode layer paste at a shear rate of 5s -1 and V I (5), the viscosity of the via conductor paste at a shear rate of 5s -1 and V V (5), the shear rate 5s - Of the above (1) to (5) where V I (5) ≦ V O (5) <V V (5) where the viscosity of the external electrode paste in 1 is V O (5) The manufacturing method of the multilayer capacitor in any one.
(7) one connection area between the unfired external electrode of the unfired via conductors and S V, the planar area of the one yet-fired external electrode when the S O, S O / S V ≧ 1 The method for manufacturing a multilayer capacitor as described in any one of (1) to (6) above.

本発明の積層コンデンサの製造方法によれば、外部電極とセラミック誘電体層との接続信頼性を従来に比べて更に向上させることができる。特に内部電極層の積層数が少ない部位と内部電極層の積層数が多い部位とを有することにより、積層コンデンサ表面に凹凸を生じている場合にも、セラミック誘電体層表面と外部電極との高い密着性を得ることができる。
外部電極用ペースト中の導電性粒子の平均粒径Rに対して、内部電極層用ペースト中の導電性粒子の平均粒径Rが、R>Rである場合は、各ペーストを各対応部位に印刷性よく印刷できると共に、セラミック誘電体層表面と外部電極との間の特に高い密着性を得ることができる。
ビア導体用ペースト中の導電性粒子の平均粒径Rが、2.0μm≦R≦10.0μmである場合は、未焼成ビア導体を印刷により確実に充填できると共に、ビア導体とその周辺との間で特に優れた密着性を得ることができる。
外部電極用ペースト中の導電性粒子の平均粒径Rが、1.0μm≦R≦5.0μmである場合は、未焼成セラミック誘電体層と未焼成外部電極との間に間隙が形成されることを防止しつつ未焼成外部電極を印刷により確実に形成できると共に、焼成後におけるセラミック誘電体層と外部電極との間で特に優れた密着性を得ることができる。
内部電極層用ペースト中の導電性粒子の平均粒径Rが、0.05μm≦R<1.0μmである場合は、未焼成セラミック誘電体層の表面に未焼成内部電極層を印刷性よく形成できると共に、焼成後におけるセラミック誘電体層と内部電極層との間で特に優れた密着性を得ることができる。
剪断速度5s−1における内部電極層用ペーストの粘度VI(5)、剪断速度5s−1におけるビア導体用ペーストの粘度VV(5)、剪断速度5s−1における外部電極用ペーストの粘度VO(5)、がVI(5)≦VO(5)<VV(5)である場合は、各々の導体における各部の密着性をとりわけ高度に得ることができ、積層コンデンサ全体として優れた接続信頼性が得られる。
1つの未焼成ビア導体の未焼成外部電極との接続面積をSとし、1つの未焼成外部電極の平面面積をSとした場合にS/S≧1.5である場合は、
内部電極層の積層数が少ない部位と内部電極層の積層数が多い部位とが混在することで積層コンデンサ表面に凹凸が形成されていたとしても、この凹凸による印刷不具合を防止して、各導体における優れた接続信頼性を得ることができる。
According to the multilayer capacitor manufacturing method of the present invention, the connection reliability between the external electrode and the ceramic dielectric layer can be further improved as compared with the conventional case. In particular, even when unevenness is generated on the surface of the multilayer capacitor by having a portion where the number of laminated internal electrode layers is small and a portion where the number of laminated internal electrode layers is large, the surface of the ceramic dielectric layer and the external electrode are high. Adhesion can be obtained.
With respect to the average particle diameter R O of the conductive particles in the external electrode paste, the average particle diameter R I of the conductive particles in the paste for internal electrode layers, if a R O> R I, each paste In addition to being able to print on each corresponding part with good printability, particularly high adhesion between the surface of the ceramic dielectric layer and the external electrode can be obtained.
When the average particle size R V of the conductive particles in the via conductor paste is 2.0 μm ≦ R V ≦ 10.0 μm, the unfired via conductor can be reliably filled by printing, and the via conductor and its surroundings Particularly excellent adhesion can be obtained.
When the average particle size R O of the conductive particles in the external electrode paste is 1.0 μm ≦ R O ≦ 5.0 μm, a gap is formed between the green ceramic dielectric layer and the green external electrode. While being prevented, the non-fired external electrode can be reliably formed by printing, and particularly excellent adhesion can be obtained between the ceramic dielectric layer and the external electrode after firing.
When the average particle size R I of the conductive particles in the internal electrode layer paste is 0.05 μm ≦ R I <1.0 μm, the green internal electrode layer is printed on the surface of the green ceramic dielectric layer. While being able to form well, the especially outstanding adhesiveness can be acquired between the ceramic dielectric material layer and internal electrode layer after baking.
The viscosity of the paste for internal electrode layers at a shear rate of 5s -1 V I (5), the viscosity V V (5) of the paste for via conductors at a shear rate of 5s -1, the viscosity of the external electrode paste at a shear rate of 5s -1 V When O (5) is V I (5) ≦ V O (5) <V V (5) , the adhesion of each part of each conductor can be obtained to a particularly high degree, and the entire multilayer capacitor is excellent. Connection reliability can be obtained.
The connection area between the unfired external electrodes of one unfired via conductors and S V, if the planar area of the one unfired external electrodes is S O / S V ≧ 1.5 when the S O is
Even if irregularities are formed on the surface of the multilayer capacitor due to a mixture of parts where the number of laminated internal electrode layers is small and parts where the number of laminated internal electrode layers is large, each conductor can be prevented Excellent connection reliability can be obtained.

[1]積層コンデンサ
以下、本発明において製造する積層コンデンサを図1〜12を参照して説明する。尚、便宜上、各部の符号として焼成前後で同じ符号を用いる。
本発明の製造方法は、一面100a及び対面100bを有し、該一面100aと該対面100bとの間で交互に積層された複数のセラミック誘電体層110及び複数の内部電極層120と、上記複数の内部電極層120同士を電気的に接続したビア導体140と、上記一面100a及び/又は上記対面100bに配設されると共に上記ビア導体140と電気的に接続された外部電極150と、を備えた積層コンデンサ100にかかる。
[1] Multilayer Capacitor Hereinafter, the multilayer capacitor manufactured in the present invention will be described with reference to FIGS. For convenience, the same reference numerals are used before and after firing as the reference numerals of the respective parts.
The manufacturing method of the present invention includes a plurality of ceramic dielectric layers 110 and a plurality of internal electrode layers 120 that have one surface 100a and a facing surface 100b, and are alternately stacked between the one surface 100a and the facing surface 100b. Via conductors 140 electrically connected to each other, and external electrodes 150 disposed on the one surface 100a and / or the opposite surface 100b and electrically connected to the via conductors 140. Applied to the multilayer capacitor 100.

上記「積層コンデンサ(100)」(図1参照)は、一面101及び対面100bを有し、該一面100aと該対面100bとの間で交互に積層された複数のセラミック誘電体層110及び複数の内部電極層120と、上記複数の内部電極層120同士を電気的に接続したビア導体140と、上記一面100a及び/又は上記対面100bに配設されると共に上記ビア導体140と電気的に接続された外部電極150と、を備える。   The “multilayer capacitor (100)” (see FIG. 1) has one surface 101 and a facing surface 100b, and a plurality of ceramic dielectric layers 110 and a plurality of layers alternately stacked between the one surface 100a and the facing surface 100b. The internal electrode layer 120, the via conductor 140 electrically connected to the plurality of internal electrode layers 120, and disposed on the one surface 100 a and / or the facing surface 100 b and electrically connected to the via conductor 140. An external electrode 150.

この積層コンデンサ100の概形は特に限定されないが、通常、直方体形状であり、特に板状が好ましい。また、積層コンデンサ100の対面100bは、積層コンデンサ100の一面100aに対向した面であり、これらの面は搭載時(実装時)にいずれの面が上方、下方、又は側方に配置されてもよい。更に、積層コンデンサ100を構成するセラミック誘電体層110、内部電極層120、ビア導体140及び外部電極150は、一体的に同時に焼成して得られる。このうちセラミック誘電体層110と内部電極層120とは各々複数層を備えて交互に積層された構造を含む積層体130(積層コンデンサ100のうちのセラミック誘電体層110と内部電極層120とのみからなる部位)を構成する。更に、ビア導体140は、通常、1つの積層コンデンサ100内に複数備えられ、更には、これらはアレイ状に配置して備えることができる。即ち、ビアアレイ型積層コンデンサとすることができる。   The general shape of the multilayer capacitor 100 is not particularly limited, but is usually a rectangular parallelepiped shape, and a plate shape is particularly preferable. Further, the facing surface 100b of the multilayer capacitor 100 is a surface facing the one surface 100a of the multilayer capacitor 100, and these surfaces may be arranged on the upper side, the lower side, or the side when mounted (during mounting). Good. Furthermore, the ceramic dielectric layer 110, the internal electrode layer 120, the via conductor 140 and the external electrode 150 constituting the multilayer capacitor 100 are obtained by integrally firing simultaneously. Among these, the ceramic dielectric layer 110 and the internal electrode layer 120 are each a multilayer body 130 including a plurality of layers and laminated alternately (only the ceramic dielectric layer 110 and the internal electrode layer 120 of the multilayer capacitor 100). The site | part which consists of. Further, a plurality of via conductors 140 are usually provided in one multilayer capacitor 100, and furthermore, these can be provided in an array. That is, a via array type multilayer capacitor can be obtained.

上記「セラミック誘電体層(110)」は、内部電極層120の層間に配置されたセラミックスからなる誘電体層である。このセラミック誘電体層110は、図1に例示するように、通常、焼成により他のセラミック誘電体層同士と一体化されたセラミック誘電体層部となっている。また、このセラミック誘電体層110を構成する誘電体材料はセラミックスであること以外特に限定されないが、通常、チタン酸塩が用いられる。このチタン酸塩としては、チタン酸バリウム(BaTiO)、チタン酸鉛(PbTiO)、及びチタン酸ストロンチウム(SrTiO)などが挙げられる。これらは1種のみを用いてもよく、2種以上を用いてもよい。
また、セラミック誘電体層110の厚さは特に限定されないが、1〜10μmが好ましく、1〜5μmがより好ましい。このセラミック誘電体層110の総数(積層数)は特に限定されないが、例えば、50〜150層とすることができる。
The “ceramic dielectric layer (110)” is a dielectric layer made of ceramics disposed between the internal electrode layers 120. As illustrated in FIG. 1, the ceramic dielectric layer 110 is usually a ceramic dielectric layer portion integrated with other ceramic dielectric layers by firing. The dielectric material constituting the ceramic dielectric layer 110 is not particularly limited except that it is ceramics, but titanate is usually used. Examples of the titanate include barium titanate (BaTiO 3 ), lead titanate (PbTiO 3 ), and strontium titanate (SrTiO 3 ). These may use only 1 type and may use 2 or more types.
The thickness of the ceramic dielectric layer 110 is not particularly limited, but is preferably 1 to 10 μm, and more preferably 1 to 5 μm. The total number (the number of stacked layers) of the ceramic dielectric layers 110 is not particularly limited, but may be 50 to 150 layers, for example.

上記「内部電極層(120)」は、セラミック誘電体層110を介して対向配置される導体層である。この内部電極層120を構成する導電性材料は特に限定されないが、ニッケル、銅、タングステン、金、白金、パラジウム及び銀等が挙げられる。これらは1種のみを用いてもよく、2種以上を用いてもよい。これらのなかでは、ニッケルが好ましい。ニッケルは、チタン酸塩等のセラミック誘電材料との同時焼成に適しているからである。尚、内部電極層を構成する導電性材料は、後述する外部電極及びビア導体を構成する導電性材料と、同じであってもよく異なっていてもよいが、各導体同士の密着性及び接合強度の観点から同じであることが好ましい。
また、内部電極層120は、上記導電性材料以外に他の成分を含有できる。他の成分としては、セラミック誘電体層110を構成するセラミックスが挙げられる。即ち、共素地材料である。この共素地材料が含有されることで、内部電極層120とセラミック誘電体層110との焼成後の密着性及び接合強度をより向上させることができる。
The “internal electrode layer (120)” is a conductor layer disposed opposite to the ceramic dielectric layer 110. The conductive material constituting the internal electrode layer 120 is not particularly limited, and examples thereof include nickel, copper, tungsten, gold, platinum, palladium, and silver. These may use only 1 type and may use 2 or more types. Of these, nickel is preferred. This is because nickel is suitable for simultaneous firing with a ceramic dielectric material such as titanate. The conductive material constituting the internal electrode layer may be the same as or different from the conductive material constituting the external electrode and via conductor described later, but the adhesion and bonding strength between the conductors. It is preferable that it is the same from a viewpoint of.
The internal electrode layer 120 can contain other components in addition to the conductive material. Examples of other components include ceramics constituting the ceramic dielectric layer 110. That is, it is a common material. By containing this common substrate material, the adhesion and bonding strength of the internal electrode layer 120 and the ceramic dielectric layer 110 after firing can be further improved.

また、内部電極層120の形状等は特に限定されないが、その厚さはセラミック誘電体層110よりも薄いことが好ましく、より具体的には、0.5〜5μmが好ましく、0.5〜2μmがより好ましい。この内部電極層120の総数(積層数)は特に限定されないが、例えば、セラミック誘電体層110と同様に50〜150層とすることができる。   Further, the shape or the like of the internal electrode layer 120 is not particularly limited, but the thickness is preferably thinner than the ceramic dielectric layer 110, more specifically 0.5 to 5 μm is preferable, and 0.5 to 2 μm is preferable. Is more preferable. The total number (the number of stacked layers) of the internal electrode layers 120 is not particularly limited. For example, the internal electrode layers 120 may be 50 to 150 layers like the ceramic dielectric layer 110.

上記「ビア導体(140)」は、複数の内部電極層120同士を電気的に接続した導体である。通常、複数のセラミック誘電体層110と複数の内部電極層120とを積層方向に貫通して配置される。また、ビア導体140の端面は外部電極150と接続される。更に、ビア導体140は、その側面において一部の内部電極層120と電気的に接続されている。このビア導体140を構成する導電性材料は特に限定されないが、前記内部電極層120を構成する導電性材料をそのまま適用できる。
また、ビア導体140は、上記内部電極層120と同様に導電性材料以外に他の成分として共素地材料を含有できる。共素地材料が含有されることで、ビア導体140とセラミック誘電体層110との焼成後の密着性及び接合強度をより向上させることができる。
The “via conductor (140)” is a conductor in which a plurality of internal electrode layers 120 are electrically connected. Usually, a plurality of ceramic dielectric layers 110 and a plurality of internal electrode layers 120 are arranged to penetrate in the stacking direction. The end face of the via conductor 140 is connected to the external electrode 150. Furthermore, the via conductor 140 is electrically connected to a part of the internal electrode layer 120 on its side surface. The conductive material constituting the via conductor 140 is not particularly limited, but the conductive material constituting the internal electrode layer 120 can be applied as it is.
In addition, the via conductor 140 can contain a common material as another component in addition to the conductive material, like the internal electrode layer 120. By including the common base material, it is possible to further improve the adhesion and bonding strength of the via conductor 140 and the ceramic dielectric layer 110 after firing.

更に、ビア導体140の各部の大きさは特に限定されないが、その直径は50〜150μmが好ましく、60〜120μmがより好ましく、70〜110μmが更に好ましい。また、ビア導体の総数は特に限定されないが、50本/cm以上とすることができる。更に、複数のビア導体140を備える場合、ビア導体140のピッチ(隣接するビア導体140同士の中心間距離)は200〜1000μmであることが好ましく、300〜600μmであることがより好ましい。 Further, the size of each part of the via conductor 140 is not particularly limited, but the diameter is preferably 50 to 150 μm, more preferably 60 to 120 μm, and still more preferably 70 to 110 μm. The total number of via conductors is not particularly limited, but can be 50 / cm 2 or more. Furthermore, in the case where a plurality of via conductors 140 are provided, the pitch of the via conductors 140 (the distance between the centers of adjacent via conductors 140) is preferably 200 to 1000 μm, and more preferably 300 to 600 μm.

上記「外部電極150」は、積層コンデンサ100の外表面のうちの一面100a及び/又は対面100bに配設されると共にビア導体140と電気的に接続された導体である。この外部電極150は、積層体130の一面100a側及び対面100b側の両方に形成されていてもよく、一面100a側又は対面100b側のいずれか一方にのみ形成されていてもよい。外部電極150は、積層コンデンサ100に対しては外部からの電源供給用端子としてや、グランド接続用端子等として機能させることができる。   The “external electrode 150” is a conductor that is disposed on one surface 100 a and / or the opposite surface 100 b of the outer surface of the multilayer capacitor 100 and is electrically connected to the via conductor 140. The external electrode 150 may be formed on both the one surface 100a side and the facing surface 100b side of the laminate 130, or may be formed only on either the one surface 100a side or the facing surface 100b side. The external electrode 150 can function as an external power supply terminal or a ground connection terminal for the multilayer capacitor 100.

この外部電極150の形態は特に限定されず、(1)ビア導体140の数に対応して個別に形成された電極であってもよく(図3参照)、(2)複数のビア導体140に共用された電極であってもよい(図4参照)。上記(1)の形態における各外部電極の平面形状は特に限定されないが、例えば、円形状、楕円形状、四角形状、5角以上の多角形状、及び十字形状等とすることができる。これらの形状は1つの積層コンデンサ内において単用してもよく併用してもよい。更に、上記(2)の形態における外部電極の平面形状も特に限定されないが、例えば、内部電極と同様な他群のビア導体との接続を避けるためのクリアランスホール153を備えたひと続きの形状の電極とすることができる。   The form of the external electrode 150 is not particularly limited, and may be (1) an electrode formed individually corresponding to the number of via conductors 140 (see FIG. 3), and (2) a plurality of via conductors 140. It may be a shared electrode (see FIG. 4). The planar shape of each external electrode in the form (1) is not particularly limited, and may be, for example, a circular shape, an elliptical shape, a quadrangular shape, a polygonal shape having five or more corners, and a cross shape. These shapes may be used alone or in combination in one multilayer capacitor. Further, the planar shape of the external electrode in the form (2) is not particularly limited. For example, a continuous shape having a clearance hole 153 for avoiding connection with another group of via conductors similar to the internal electrode is used. It can be an electrode.

また、外部電極150を構成する導電性材料は特に限定されず、前記内部電極層120を構成する導電性材料をそのまま適用できる。更に、外部電極150は、上記内部電極層120と同様に導電性材料以外に他の成分として共素地材料を含有できる。共素地材料が含有されることで、外部電極150とセラミック誘電体層110との焼成後の密着性及び接合強度をより向上させることができる。   The conductive material constituting the external electrode 150 is not particularly limited, and the conductive material constituting the internal electrode layer 120 can be applied as it is. Furthermore, the external electrode 150 can contain a common material as another component in addition to the conductive material, like the internal electrode layer 120. By including the common base material, it is possible to further improve the adhesion and bonding strength of the external electrode 150 and the ceramic dielectric layer 110 after firing.

更に、外部電極150の外表面(セラミック誘電体層110及びビア導体140と接しない表面)にはめっき層160(図5参照)を備えることができる。このめっき層160は1層のみを備えてもよく2層以上を備えてもよい。めっき層160を備えることで、外部電極150の酸化を防止することができ、はんだに対する濡れ性を向上させることができ、更には、外部電極150表面の低抵抗化を図ることができ、結果的に外部電極150と接続される他の導体との接合性(密着性及び接合強度など)を向上させることができる。   Furthermore, a plating layer 160 (see FIG. 5) can be provided on the outer surface of the external electrode 150 (the surface not in contact with the ceramic dielectric layer 110 and the via conductor 140). This plating layer 160 may include only one layer or two or more layers. By providing the plating layer 160, the oxidation of the external electrode 150 can be prevented, the wettability with respect to the solder can be improved, and furthermore, the resistance of the surface of the external electrode 150 can be reduced, and as a result In addition, it is possible to improve the bondability (such as adhesion and bonding strength) with other conductors connected to the external electrode 150.

めっき層160(外表面めっき層161)を備える場合、このめっき層160は、導電性材料のみからなることが好ましい。即ち、前記内部電極層120、ビア導体140及び外部電極150等に含むことができる共素地材料が含有されないことが好ましい。このめっき層160(外表面めっき層161)を構成する導電性材料としては、金及び銅が挙げられる。これらは1種のみを用いてもよく2種以上を併用してもよい。   When the plating layer 160 (outer surface plating layer 161) is provided, the plating layer 160 is preferably made of only a conductive material. That is, it is preferable that a common material that can be included in the internal electrode layer 120, the via conductor 140, the external electrode 150, and the like is not contained. Gold and copper are mentioned as a conductive material which comprises this plating layer 160 (outer surface plating layer 161). These may use only 1 type and may use 2 or more types together.

更に、2層以上のめっき層(外表面めっき層161及び層間めっき層162)を備える場合(図5参照)、層間めっき層162を構成する導電性材料は、外部電極150を構成する導電性材料と同じであることが好ましい。即ち、例えば、外部電極150の導電性材料としてニッケルが用いられている場合には、層間めっき層162はニッケルめっき層であることが好ましい。特に、外部電極150に共素地材料を含有する場合には、層間めっき層162を備えることが好ましい。層間めっき層162を備えることで外部電極150と外表面めっき層161との密着性を向上させることができ、結果的に、外部電極150と接続される他の導体との接合性(密着性)をより向上させることができる。   Further, when two or more plating layers (outer surface plating layer 161 and interlayer plating layer 162) are provided (see FIG. 5), the conductive material constituting the interlayer plating layer 162 is a conductive material constituting the external electrode 150. Is preferably the same. That is, for example, when nickel is used as the conductive material of the external electrode 150, the interlayer plating layer 162 is preferably a nickel plating layer. In particular, when the external electrode 150 contains a common material, it is preferable to include an interlayer plating layer 162. By providing the interlayer plating layer 162, the adhesion between the external electrode 150 and the outer surface plating layer 161 can be improved, and as a result, the bondability (adhesion) with other conductors connected to the external electrode 150. Can be further improved.

そして、積層コンデンサ100を構成する導体である、各内部電極層120、ビア導体140及び外部電極150は、通常、各々互いに電気的に独立した少なくとも2つ以上の群からなる。即ち、例えば、内部電極層120は、第1群の内部電極層121と、第1群の内部電極層121とは絶縁された第2群の内部電極層122と、を有する。同様に、ビア導体140は、第1群のビア導体141と、第1群のビア導体141とは絶縁された第2群のビア導体142と、を有する。更に、外部電極150は、第1群の外部電極151と、第1群の外部電極151とは絶縁された第2群の内部電極層122と、を有する。この電気的に独立した各群は、上記のように2群を備えてもよく、3群以上を備えてもよい。   Each of the internal electrode layers 120, the via conductors 140, and the external electrodes 150, which are conductors constituting the multilayer capacitor 100, is usually composed of at least two or more groups that are electrically independent from each other. That is, for example, the internal electrode layer 120 includes a first group of internal electrode layers 121 and a second group of internal electrode layers 122 that are insulated from the first group of internal electrode layers 121. Similarly, the via conductor 140 includes a first group of via conductors 141 and a second group of via conductors 142 that are insulated from the first group of via conductors 141. Further, the external electrode 150 includes a first group of external electrodes 151 and a second group of internal electrode layers 122 that are insulated from the first group of external electrodes 151. Each electrically independent group may include two groups as described above, or three or more groups.

上記2群よりなる場合について更に具体的に説明すれば、図1〜5等に例示されるように、第1群の内部電極層121、第1群のビア導体141、及び第1群の外部電極151は、互いに電気的に接続されている。また、第2群の内部電極層122、第2群のビア導体142、及び第2群の外部電極152は、互いに電気的に接続されている。そして、第1群の内部電極層121、第1群のビア導体141、及び第1群の外部電極151は、第2群の内部電極層122、第2群のビア導体142、及び第2群の外部電極152と絶縁されている。このうち、第1群の内部電極層121と第2群の内部電極層122とは、互いにセラミック誘電体層110を介して対向配置されることで絶縁されこれによりキャパシタとして機能される。   More specifically, the case of the two groups will be described. As illustrated in FIGS. 1 to 5, etc., the first group of internal electrode layers 121, the first group of via conductors 141, and the first group of outsides. The electrodes 151 are electrically connected to each other. The second group of internal electrode layers 122, the second group of via conductors 142, and the second group of external electrodes 152 are electrically connected to each other. The first group of internal electrode layers 121, the first group of via conductors 141, and the first group of external electrodes 151 include the second group of internal electrode layers 122, the second group of via conductors 142, and the second group. The external electrode 152 is insulated. Among them, the first group of internal electrode layers 121 and the second group of internal electrode layers 122 are insulated by being disposed to face each other via the ceramic dielectric layer 110, thereby functioning as a capacitor.

上記第1群と第2群との絶縁は、例えば、図1〜2に例示される内部電極層においては、第1群のビア導体141と第1群の内部電極層121とは電気的に接続される一方、第1群のビア導体141と第2群の内部電極層122とはクリアランスホール123を介して絶縁することができる。同様に、第2群の内部電極層122と第2群のビア導体142とは電気的に接続される一方、第2群のビア導体142と十分に第1群の内部電極層121とはクリアランスホール123を介して絶縁することができる。   For example, in the internal electrode layer illustrated in FIGS. 1 and 2, the first group via conductor 141 and the first group internal electrode layer 121 are electrically insulated from each other. While being connected, the first group of via conductors 141 and the second group of internal electrode layers 122 can be insulated via the clearance holes 123. Similarly, the second group of internal electrode layers 122 and the second group of via conductors 142 are electrically connected, while the second group of via conductors 142 and the first group of internal electrode layers 121 have sufficient clearance. It can be insulated through the hole 123.

[2]積層コンデンサの製造方法
以下、本発明の積層コンデンサの製造方法について図6〜10を用いて説明する。尚、便宜上、各部の符号として焼成前後で同じ符号を用いる。
本発明の製造方法は、前述のように、未焼成積層体形成工程(P1)と、貫通孔形成工程(P2)と、未焼成ビア導体形成工程(P3)と、未焼成外部電極形成工程(P4)と、をこの順に備える(図6参照)。
尚、以下では、未焼成積層体形成工程(P1)で形成された未焼成積層体を「未焼成第1積層体(131)」、貫通孔形成工程(P2)で未焼成第1積層体に貫通孔が形成されたものを「未焼成第2積層体(132)」、未焼成ビア導体形成工程(P3)で未焼成第2積層体に未焼成ビア導体が形成されたものを「未焼成第3積層体(133)」、未焼成外部電極形成工程(P4)で未焼成第3積層体に未焼成外部電極が形成されたものを「未焼成第4積層体(134)」、各々いうものとする。
[2] Manufacturing Method of Multilayer Capacitor Hereinafter, the manufacturing method of the multilayer capacitor of the present invention will be described with reference to FIGS. For convenience, the same reference numerals are used before and after firing as the reference numerals of the respective parts.
As described above, the manufacturing method of the present invention includes the unfired laminate forming step (P1), the through-hole forming step (P2), the unfired via conductor forming step (P3), and the unfired external electrode forming step ( P4) are provided in this order (see FIG. 6).
In the following description, the unfired laminate formed in the unfired laminate forming step (P1) is referred to as “unfired first laminate (131)”, and the unfired first laminate is formed in the through-hole forming step (P2). “Unfired second laminate (132)” in which the through holes are formed, and “Unfired” in which the unfired via conductor is formed in the unfired second laminate in the unfired via conductor formation step (P3). The “third laminated body (133)”, and the unfired external electrode formed on the unfired third laminated body in the unfired external electrode forming step (P4) are referred to as “unfired fourth laminated body (134)”. Shall.

上記「未焼成積層体形成工程(P1)」は、セラミック誘電体層110となる未焼成セラミック誘電体層110と、内部電極用ペーストを印刷して形成した内部電極層120となる未焼成内部電極層120と、が交互に積層された構造を有する未焼成積層体130(未焼成第1積層体131)を形成する工程である。 The “unfired laminate forming step (P1)” includes an unfired ceramic dielectric layer 110 to be the ceramic dielectric layer 110 and an unfired internal electrode to be the internal electrode layer 120 formed by printing the internal electrode paste. This is a step of forming an unfired stacked body 130 (unfired first stacked body 131) having a structure in which the layers 120 are alternately stacked.

上記「未焼成セラミック誘電体層(110)」は、焼成後にセラミック誘電体層110となる層であり、前記セラミック誘電体層110を構成するセラミック誘電体材料(通常、セラミック粉末として含有される)を含み、形態は、通常、グリーンシートである。この未焼成セラミック誘電体層110の構成は特に限定されないが、通常、前記セラミック誘電体材料と、ビヒクル成分と、を含有する。   The “unfired ceramic dielectric layer (110)” is a layer that becomes the ceramic dielectric layer 110 after firing, and is a ceramic dielectric material constituting the ceramic dielectric layer 110 (usually contained as a ceramic powder). The form is usually a green sheet. The structure of the unfired ceramic dielectric layer 110 is not particularly limited, but usually contains the ceramic dielectric material and a vehicle component.

このグリーンシートに含まれるセラミック粉末の平均粒径は、0.1μm以上且つ1.0μm以下であることが好ましく、0.3μm以上且つ0.7μm以下であることがより好ましい。この範囲では、後述する各種未焼成導電材(未焼成内部電極層、未焼成ビア導体、及び未焼成外部電極)との相関において、未焼成積層体の形成時の印刷性、焼成時の収縮挙動、及び得られる積層コンデンサの各導体の密着性に特に優れる。   The average particle size of the ceramic powder contained in the green sheet is preferably 0.1 μm or more and 1.0 μm or less, and more preferably 0.3 μm or more and 0.7 μm or less. Within this range, in relation to various unfired conductive materials (unfired internal electrode layers, unfired via conductors, and unfired external electrodes) described later, printability during formation of unfired laminates, shrinkage behavior during firing And the adhesion of each conductor of the obtained multilayer capacitor is particularly excellent.

上記「未焼成内部電極層(120)」は、内部電極用ペーストを印刷して形成された層であり、焼成後に内部電極層120となる。また、通常、未焼成内部電極層120は、内部電極用ペーストを未焼成セラミック誘電体層110の表面に印刷して形成される。また、未焼成内部電極層120は、前記内部電極層120において説明したように、一部のビア導体140との絶縁を図るために、クリアランスホール123が形成されるように印刷される。このクリアランスホール123の形状及び大きさは特に限定されないが、キャパシタ性能の観点から十分な絶縁を図れる範囲で可能な限り小さいことが好ましい。特に上記クリアランスホール123の口径H1と、後述するビア導体用の貫通孔の口径H2と、の比(H1/H2)は2以上であることが好ましい。   The “unfired internal electrode layer (120)” is a layer formed by printing an internal electrode paste, and becomes the internal electrode layer 120 after firing. Also, the unfired internal electrode layer 120 is usually formed by printing an internal electrode paste on the surface of the unfired ceramic dielectric layer 110. Further, as described in the internal electrode layer 120, the unfired internal electrode layer 120 is printed so that a clearance hole 123 is formed in order to insulate it from a part of the via conductors 140. The shape and size of the clearance hole 123 are not particularly limited, but it is preferable that the clearance hole 123 be as small as possible within a range where sufficient insulation can be achieved from the viewpoint of capacitor performance. In particular, the ratio (H1 / H2) between the diameter H1 of the clearance hole 123 and the diameter H2 of a through hole for a via conductor described later is preferably 2 or more.

上記「内部電極用ペースト」は、印刷することで未焼成内部電極層120を形成するペーストである。この内部電極用ペーストは、焼成後に内部電極層120を構成することとなる導電性材料を導電性粒子として含有する。その他、通常、セラミック誘電体層との焼成後の密着性及び接合強度を向上させるための共素地材料(セラミック誘電体層を構成するセラミックスであり、通常、セラミック粉末である)、及び、内部電極用ペーストの性状等の調整のためのビヒクル成分を含有する。   The “internal electrode paste” is a paste for forming the unfired internal electrode layer 120 by printing. This internal electrode paste contains, as conductive particles, a conductive material that will form the internal electrode layer 120 after firing. Other common materials for improving adhesion and bonding strength after firing with the ceramic dielectric layer (ceramics constituting the ceramic dielectric layer, usually ceramic powder), and internal electrodes Contains vehicle components for adjusting the properties of the paste for use.

上記導電性粒子(導電性粉末)としては、前記導電性材料として列挙した各種金属を適宜用いることができる。即ち、導電性粒子を構成する金属成分としては、ニッケル、銅、タングステン、金、白金、パラジウム及び銀等が挙げられる。これらは1種のみを用いてもよく、2種以上を用いてもよい。これらのなかでは、ニッケルが好ましい。ニッケルは、チタン酸塩等のセラミック誘電材料との同時焼成に適しているからである。
更に、上記共素地材料としては、前記セラミック誘電体層を構成するセラミックスを用いることができ、なかでもチタン酸バリウムが好ましい。
As the conductive particles (conductive powder), various metals listed as the conductive material can be appropriately used. That is, examples of the metal component constituting the conductive particles include nickel, copper, tungsten, gold, platinum, palladium, and silver. These may use only 1 type and may use 2 or more types. Of these, nickel is preferred. This is because nickel is suitable for simultaneous firing with a ceramic dielectric material such as titanate.
Furthermore, as the common material, ceramics constituting the ceramic dielectric layer can be used, and among these, barium titanate is preferable.

内部電極層用ペーストに含まれる導電性粒子の平均粒径Rは、0.05μm≦R<1.0μmであることが好ましく、0.1μm≦R≦0.6μmであることがより好ましく、0.2μm≦R≦0.4μmであることが更に好ましい。この範囲では、ビア導体用ペースト及び外部電極用ペーストとの相関において、未焼成積層体の形成時の印刷性、焼成時の収縮挙動、及び得られる積層コンデンサの各導体の密着性に特に優れる。
また、内部電極層用ペーストに含まれる共素地材料(セラミック粉末)の平均粒径は、0.05μm以上且つ0.7μm以下であることが好ましく、0.1μm以上且つ0.3μm以下であることがより好ましい。この範囲では、ビア導体用ペースト及び外部電極用ペーストとの相関において、未焼成積層体の形成時の印刷性、焼成時の収縮挙動、及び得られる積層コンデンサの各導体の密着性に特に優れる。
The average particle diameter R I of the conductive particles contained in the internal electrode layer paste is preferably 0.05 μm ≦ R I <1.0 μm, and more preferably 0.1 μm ≦ R I ≦ 0.6 μm. Preferably, 0.2 μm ≦ R I ≦ 0.4 μm is more preferable. In this range, the correlation between the via conductor paste and the external electrode paste is particularly excellent in printability when forming the unfired multilayer body, shrinkage behavior during firing, and adhesion of each conductor of the resulting multilayer capacitor.
The average particle size of the common material (ceramic powder) contained in the internal electrode layer paste is preferably 0.05 μm or more and 0.7 μm or less, and is 0.1 μm or more and 0.3 μm or less. Is more preferable. In this range, the correlation between the via conductor paste and the external electrode paste is particularly excellent in printability when forming the unfired multilayer body, shrinkage behavior during firing, and adhesion of each conductor of the resulting multilayer capacitor.

また、上記有機バインダとしては、アクリル系樹脂、アルキルセルロース(エチルセルロース、メチルセルロース)及びニトロセルロース等のセルロース類、ポリメチルメタクリレート等のアクリルエステル系樹脂、ポリビニルブチラール等のブチラール系樹脂、フェノール系樹脂、及びポリエステル系樹脂(アルキド樹脂等)などが挙げられる。これらは1種のみを用いてもよく、2種以上を併用してもよい。上記可塑剤は、有機バインダの種類に応じて適宜選択することが好ましい。
更に、溶剤としては、ケトン系溶剤(アセトン及びメチルエチルケトン等)、炭化水素系溶剤(シクロヘキサン及びトルエン等)、1価アルコール(ターピネオール及びブチルカルビトール等)、並びに多価アルコール(エチレングリコール及びジエチレングリコール等)などが挙げられる。これらの溶剤は1種のみを用いてもよく、2種以上を併用してもよい。
Examples of the organic binder include acrylic resins, alkyl celluloses (ethyl cellulose, methyl cellulose) and celluloses such as nitrocellulose, acrylic ester resins such as polymethyl methacrylate, butyral resins such as polyvinyl butyral, phenolic resins, and Polyester resin (alkyd resin etc.) etc. are mentioned. These may use only 1 type and may use 2 or more types together. The plasticizer is preferably selected as appropriate according to the type of organic binder.
Furthermore, as solvents, ketone solvents (acetone, methyl ethyl ketone, etc.), hydrocarbon solvents (cyclohexane, toluene, etc.), monohydric alcohols (terpineol, butyl carbitol, etc.), and polyhydric alcohols (ethylene glycol, diethylene glycol, etc.) Etc. These solvents may be used alone or in combination of two or more.

内部電極層用ペーストを構成する各成分の含有量は特に限定されないが、例えば、無機成分(導電性粒子及び共素地材料)とビヒクル成分(有機バインダ、可塑剤及び溶剤)が含有される場合、これらのペースト全体を100体積%とした場合に、通常、無機成分は5〜20体積%(好ましくは7.5〜18体積%)の範囲で含有され、更に、導電性粒子は4〜17体積%(好ましくは6〜16体積%)であり、共素地材料は0.8〜3.5体積%(好ましくは1〜3体積%)であることが好ましい。一方、ビヒクル成分は80〜95体積%(好ましくは82〜92.5体積%)の範囲で含有され、更に、このうち有機バインダは1.5〜10体積%が好ましい。これらの範囲ではビア導体用ペースト及び外部電極用ペーストとの相関において、未焼成積層体の形成時の印刷性、焼成時の収縮挙動、及び得られる積層コンデンサの各導体の密着性に特に優れる。
尚、この内部電極用ペーストの粘度等については、他のペーストと共に後述する。
The content of each component constituting the internal electrode layer paste is not particularly limited. For example, when an inorganic component (conductive particles and a common base material) and a vehicle component (organic binder, plasticizer, and solvent) are contained, When the total amount of these pastes is 100% by volume, usually, the inorganic component is contained in the range of 5 to 20% by volume (preferably 7.5 to 18% by volume), and the conductive particles are 4 to 17% by volume. % (Preferably 6 to 16% by volume), and the common base material is preferably 0.8 to 3.5% by volume (preferably 1 to 3% by volume). On the other hand, the vehicle component is contained in the range of 80 to 95% by volume (preferably 82 to 92.5% by volume), and among these, the organic binder is preferably 1.5 to 10% by volume. Within these ranges, the correlation between the via conductor paste and the external electrode paste is particularly excellent in the printability at the time of forming the unfired multilayer body, the shrinkage behavior at the time of firing, and the adhesion of each conductor of the obtained multilayer capacitor.
The viscosity and the like of the internal electrode paste will be described later together with other pastes.

上記「未焼成積層体(130)」は、前述の未焼成第1積層体131である。この未焼成第1積層体131は、前記未焼成セラミック誘電体層110と、前記未焼成内部電極層120と、が交互に積層された構造を有する。そして、この未焼成第1積層体131は、その後、未焼成第2積層体132、未焼成第3積層体133及び未焼成第4積層体134を経た後、更に、焼成されて積層コンデンサ100となる。   The “unfired laminate (130)” is the aforementioned unfired first laminate 131. The unfired first laminated body 131 has a structure in which the unfired ceramic dielectric layers 110 and the unfired internal electrode layers 120 are alternately laminated. Then, after the unfired first laminated body 131 passes through the unfired second laminated body 132, the unfired third laminated body 133, and the unfired fourth laminated body 134, the unfired first laminated body 131 is further fired to form the multilayer capacitor 100. Become.

未焼成第1積層体131の形成方法は特に限定されず種々の方法で行うことができる。即ち、例えば、図7に例示されるように、(1)複数の未焼成セラミック誘電体層110の各々の表面に未焼成内部電極層120を印刷形成した後、この未焼成内部電極層120が設けられた各未焼成セラミック誘電体層110を一括積層して未焼成第1積層体131を形成することができる。
また、図8に例示されるように、(2)1つの未焼成セラミック誘電体層110の一面に未焼成内部電極層120を印刷形成した後、形成した未焼成内部電極層120を覆うように、他の未焼成セラミック誘電体層110を積層し、次いで、他の未焼成セラミック誘電体層110の表面に更に未焼成内部電極層120を印刷形成するという工程を繰り返して未焼成第1積層体131を形成することができる。
これらの方法はいずれか一方のみを用いてもよく、2つの方法を併用してもよい。
The formation method of the unbaked 1st laminated body 131 is not specifically limited, It can carry out by various methods. That is, for example, as illustrated in FIG. 7, (1) after the green internal electrode layer 120 is printed on the surface of each of the multiple green ceramic dielectric layers 110, the green internal electrode layer 120 is formed. Each of the provided unfired ceramic dielectric layers 110 can be laminated together to form the unfired first laminated body 131.
Further, as illustrated in FIG. 8, (2) after the green internal electrode layer 120 is printed on one surface of one green ceramic dielectric layer 110, the green internal electrode layer 120 thus formed is covered. The unfired first laminated body is formed by repeating the steps of laminating another unfired ceramic dielectric layer 110 and then printing and forming the unfired internal electrode layer 120 on the surface of the other unfired ceramic dielectric layer 110. 131 can be formed.
Only one of these methods may be used, or two methods may be used in combination.

上記「貫通孔形成工程(P2)」は、未焼成第1積層体132の一面132a及び対面132bの間を貫通する貫通孔132cを形成する工程である。この貫通孔形成工程により未焼成第2積層体132(未焼成ビア導体140が充填されていない貫通孔132cを有する未焼成積層体)が得られる。貫通孔132cの形成方法は特に限定されず、パンチングによる穿孔であってもよく、レーザーによる穿孔であってもよく、これらの併用であってもよい。更に、その他の方法を用いることもできる。
また、形成する貫通孔132cの口径は特に限定されるものではないが、通常、50μm以上であり、特に貫通孔132cの口径(即ち、未焼成ビア導体の外径)が70〜140μmである場合には、本発明の製造方法を用いることによる密着性向上効果をより顕著に得ることができる。この口径は85〜130μmであることがより好ましい。
The “through-hole forming step (P2)” is a step of forming the through-hole 132c penetrating between the one surface 132a and the facing surface 132b of the unfired first laminated body 132. By this through hole forming step, an unfired second laminate 132 (an unfired laminate having a through hole 132c not filled with the unfired via conductor 140) is obtained. The method of forming the through hole 132c is not particularly limited, and may be punching by punching, laser drilling, or a combination thereof. Furthermore, other methods can be used.
The diameter of the through hole 132c to be formed is not particularly limited, but is usually 50 μm or more, and particularly when the diameter of the through hole 132c (that is, the outer diameter of the unfired via conductor) is 70 to 140 μm. Therefore, the effect of improving the adhesion by using the production method of the present invention can be obtained more remarkably. The aperture is more preferably 85 to 130 μm.

上記「未焼成ビア導体形成工程(P3)」は、貫通孔132c内にビア導体140となるビア導体用ペーストを充填して未焼成ビア導体140を形成する工程である。この未焼成ビア導体形成工程により未焼成第3積層体133(未焼成ビア導体140を有し且つ外部電極150を有さない未焼成積層体)が得られる。
上記ビア導体用ペーストを貫通孔132cへ充填する方法は特に限定されず、印刷(スクリーン印刷等)により充填してもよく、ディスペンサーにより充填してもよく、これらの方法を併用してもよい。更に、その他の方法を用いることもできる。
The “unfired via conductor forming step (P3)” is a step of forming the unfired via conductor 140 by filling the through-hole 132c with a via conductor paste to be the via conductor 140. By this unfired via conductor formation step, an unfired third laminated body 133 (an unfired laminated body having the unfired via conductor 140 and not having the external electrode 150) is obtained.
The method for filling the via conductor paste into the through hole 132c is not particularly limited, and it may be filled by printing (screen printing or the like), may be filled by a dispenser, or these methods may be used in combination. Furthermore, other methods can be used.

上記「ビア導体用ペースト」は、貫通孔132cに充填することで未焼成ビア導体140を形成するペーストである。このビア導体用ペーストは、焼成後にビア導体140を構成することとなる導電性材料を導電性粒子として含有する。その他、セラミック誘電体層との焼成後の密着性及び接合強度を向上させるための共素地材料(セラミック誘電体層を構成するセラミックスであり、通常、セラミック粉末である)、及び、ビア導体用ペーストの性状等の調整のためのビヒクル成分を含有する。   The “via conductor paste” is a paste that forms the unfired via conductor 140 by filling the through hole 132c. This via conductor paste contains, as conductive particles, a conductive material that will form the via conductor 140 after firing. Other common substrate materials for improving adhesion and bonding strength after firing with the ceramic dielectric layer (ceramics constituting the ceramic dielectric layer, usually ceramic powder), and via conductor paste Contains vehicle components for adjusting the properties and the like.

上記導電性粒子(導電性粉末)としては、前記内部電極層用ペーストにおける導電性材粒子をそのまま適用できる。
このビア導体用ペーストに含まれる導電性粒子の平均粒径Rは、2.0μm≦R≦10.0μmであることが好ましく、2.0μm≦R≦7.5μmであることがより好ましく、2.0μm≦R≦5.0μmであることが更に好ましい。この範囲では、内部電極層用ペースト及び外部電極用ペーストとの相関において、未焼成積層体の形成時の充填性、印刷性、焼成時の収縮挙動、及び得られる積層コンデンサの各導体の密着性に特に優れる。
また、ビア導体用ペーストに含まれる共素地材料(セラミック粉末)の平均粒径は、0.1μm以上且つ1.0μm以下であることが好ましく、0.3μm以上且つ0.7μm以下であることがより好ましい。この範囲では、内部電極層用ペースト及び外部電極用ペーストとの相関において、未焼成積層体の形成時の充填性、印刷性、焼成時の収縮挙動、及び得られる積層コンデンサの各導体の密着性に特に優れる。
As the conductive particles (conductive powder), the conductive material particles in the internal electrode layer paste can be applied as they are.
The average particle size R V of the conductive particles contained in the via conductor paste is preferably 2.0 μm ≦ R V ≦ 10.0 μm, and more preferably 2.0 μm ≦ R V ≦ 7.5 μm. Preferably, 2.0 μm ≦ R V ≦ 5.0 μm is more preferable. In this range, in the correlation between the internal electrode layer paste and the external electrode paste, the filling property during printing of the green laminate, the printability, the shrinkage behavior during firing, and the adhesion of each conductor of the resulting multilayer capacitor Especially excellent.
The average particle size of the common material (ceramic powder) contained in the via conductor paste is preferably 0.1 μm or more and 1.0 μm or less, and preferably 0.3 μm or more and 0.7 μm or less. More preferred. In this range, in the correlation between the internal electrode layer paste and the external electrode paste, the filling property during printing of the green laminate, the printability, the shrinkage behavior during firing, and the adhesion of each conductor of the resulting multilayer capacitor Especially excellent.

ビア導体用ペーストを構成する各成分の含有量は特に限定されないが、例えば、無機成分(導電性粒子及び共素地材料)とビヒクル成分(有機バインダ、可塑剤及び溶剤)が含有される場合、これらのペースト全体を100体積%とした場合に、通常、無機成分は30〜70体積%(好ましくは40〜60体積%)の範囲で含有され、更に、導電性粒子は20〜50体積%(好ましくは25〜45体積%)であり、共素地材料は8〜25体積%(好ましくは10〜20体積%)であることが好ましい。一方、ビヒクル成分は30〜70体積%(好ましくは40〜60体積%)の範囲で含有され、更に、このうち有機バインダは3.5〜15体積%が好ましい。
尚、このビア導体用ペーストの粘度等については、他のペーストと共に後述する。
The content of each component constituting the via conductor paste is not particularly limited. For example, when an inorganic component (conductive particles and a common base material) and a vehicle component (organic binder, plasticizer and solvent) are contained, In general, the inorganic component is contained in the range of 30 to 70% by volume (preferably 40 to 60% by volume), and the conductive particles are 20 to 50% by volume (preferably). Is 25 to 45% by volume), and the common base material is preferably 8 to 25% by volume (preferably 10 to 20% by volume). On the other hand, the vehicle component is contained in the range of 30 to 70% by volume (preferably 40 to 60% by volume), and among these, the organic binder is preferably 3.5 to 15% by volume.
The viscosity of the via conductor paste will be described later together with other pastes.

上記「未焼成外部電極形成工程(P4)」は、一面及び対面のうちの少なくとも一方の面に、外部電極用ペーストを印刷して未焼成ビア導体と接続された外部電極となる未焼成外部電極を形成する工程である。この未焼成外部電極形成工程により未焼成第4積層体134(未焼成ビア導体140及びこれに接続された未焼成外部電極150を有する未焼成積層体)が得られる。
この工程で形成する未焼成外部電極の形態は特に限定されず、前記積層コンデンサ100における外部電極の形状として説明した各種形態及び形状をそのまま適用できる。
In the “unfired external electrode forming step (P4)”, an unfired external electrode that is an external electrode that is connected to the unfired via conductor by printing an external electrode paste on at least one of one surface and the opposite surface Is a step of forming. By this unfired external electrode formation step, unfired fourth laminate 134 (unfired laminate having unfired via conductor 140 and unfired external electrode 150 connected thereto) is obtained.
The form of the unfired external electrode formed in this step is not particularly limited, and various forms and shapes described as the shape of the external electrode in the multilayer capacitor 100 can be applied as they are.

上記「未焼成外部電極(150)」は、外部電極用ペーストを印刷して形成された層であり、焼成後に外部電極層150となる。また、通常、未焼成内部電極層120は、内部電極用ペーストを未焼成セラミック誘電体層110の表面に印刷して形成される。   The “unfired external electrode (150)” is a layer formed by printing an external electrode paste, and becomes the external electrode layer 150 after firing. Also, the unfired internal electrode layer 120 is usually formed by printing an internal electrode paste on the surface of the unfired ceramic dielectric layer 110.

上記「外部電極用ペースト」は、印刷することで未焼成外部電極150を形成するペーストである。この外部電極用ペーストは、焼成後に外部電極層150を構成することとなる導電性材料を導電性粒子として含有する。その他、セラミック誘電体層との焼成後の密着性及び接合強度を向上させるための共素地材料(セラミック誘電体層を構成するセラミックスであり、通常、セラミック粉末である)、及び、外部電極用ペーストの性状等の調整のためのビヒクル成分を含有する。   The “external electrode paste” is a paste for forming the unfired external electrode 150 by printing. This external electrode paste contains, as conductive particles, a conductive material that will form the external electrode layer 150 after firing. In addition, a common material for improving adhesion and bonding strength after firing with the ceramic dielectric layer (ceramic constituting the ceramic dielectric layer, usually ceramic powder), and paste for external electrodes Contains vehicle components for adjusting the properties and the like.

上記導電性粒子(導電性粉末)としては、前記内部電極層用ペーストにおける導電性材粒子をそのまま適用できる。
この外部電極用ペーストに含まれる導電性粒子の平均粒径Rは、1.0μm≦R≦5.0μmであることが好ましく、1.3μm≦R≦4.0μmであることがより好ましく、1.5μm≦R≦3.0μmであることが更に好ましい。この好ましい範囲では、内部電極層用ペースト及びビア導体用ペーストとの相関において、未焼成積層体の形成時の印刷性、焼成時の収縮挙動、及び得られる積層コンデンサの各導体の密着性に特に優れる。
特に外部電極用ペースト中の導電性粒子は、平均粒径が異なる2種以上(2種がより好ましい)の導電性粒子を用いることができる。この場合、平均粒径RO1が2.0≦RO1≦3.0μmである大径の導電性粒子と、平均粒径RO2が1.0≦RO1≦1.5μmである小径の導電性粒子と、を混合し、全体としての平均粒径を上記範囲におさめて用いることがとりわけ好ましい。この好ましい範囲では、未焼成外部電極内に占める無機成分量を十分に維持しつつも優れた印刷性を確保できるために、焼成収縮を抑制できクラックの発生を防止できる。
As the conductive particles (conductive powder), the conductive material particles in the internal electrode layer paste can be applied as they are.
The average particle size R O of the conductive particles contained in the external electrode paste is preferably 1.0 μm ≦ R O ≦ 5.0 μm, and more preferably 1.3 μm ≦ R O ≦ 4.0 μm. Preferably, 1.5 μm ≦ R O ≦ 3.0 μm is more preferable. In this preferable range, in the correlation with the internal electrode layer paste and the via conductor paste, the printability at the time of forming the unfired laminate, the shrinkage behavior at the time of firing, and the adhesion of each conductor of the obtained multilayer capacitor are particularly Excellent.
In particular, as the conductive particles in the external electrode paste, two or more (two are more preferable) conductive particles having different average particle diameters can be used. In this case, large-diameter conductive particles having an average particle diameter R O1 of 2.0 ≦ R O1 ≦ 3.0 μm and small-diameter conductive particles having an average particle diameter R O2 of 1.0 ≦ R O1 ≦ 1.5 μm. It is particularly preferable to mix the active particles with the average particle diameter as a whole within the above range. In this preferable range, excellent printability can be ensured while sufficiently maintaining the amount of the inorganic component in the unfired external electrode, so that firing shrinkage can be suppressed and occurrence of cracks can be prevented.

また、外部電極用ペーストに含まれる共素地材料(セラミック粉末)の平均粒径は、0.05μm以上且つ0.7μm以下であることが好ましく、0.1μm以上且つ0.3μm以下であることがより好ましい。この範囲では、内部電極層用ペースト及びビア導体用ペーストとの相関において、未焼成積層体の形成時の印刷性、焼成時の収縮挙動、及び得られる積層コンデンサの各導体の密着性に特に優れる。   The average particle size of the common material (ceramic powder) contained in the external electrode paste is preferably 0.05 μm or more and 0.7 μm or less, and preferably 0.1 μm or more and 0.3 μm or less. More preferred. In this range, in the correlation with the internal electrode layer paste and the via conductor paste, the printability at the time of forming the unfired multilayer body, the shrinkage behavior at the time of firing, and the adhesion of each conductor of the obtained multilayer capacitor are particularly excellent. .

外部電極用ペーストを構成する各成分の含有量は特に限定されないが、例えば、無機成分(導電性粒子及び共素地材料)とビヒクル成分(有機バインダ、可塑剤及び溶剤)が含有される場合、これらのペースト全体を100体積%とした場合に、通常、無機成分は15〜30体積%(より好ましくは18〜25体積%)の範囲で含有さ
れ、更に、導電性粒子は10〜25体積%(より好ましくは12〜18体積%)であり、共素地材料は4〜12体積%(より好ましくは4〜10体積%)であることが好ましい。一方、ビヒクル成分は70〜85体積%(より好ましくは72.5〜82.5体積%)の範囲で含有され、更に、このうち有機バインダは7〜18体積%が好ましい。
尚、この外部電極用ペーストの粘度等については、他のペーストと共に後述する。
The content of each component constituting the external electrode paste is not particularly limited. For example, when an inorganic component (conductive particles and a common base material) and a vehicle component (organic binder, plasticizer and solvent) are contained, these components In general, the inorganic component is contained in the range of 15 to 30% by volume (more preferably 18 to 25% by volume), and the conductive particles are 10 to 25% by volume (100% by volume). More preferably, it is 12-18 volume%), and it is preferable that a co-substrate material is 4-12 volume% (more preferably 4-10 volume%). On the other hand, the vehicle component is contained in the range of 70 to 85% by volume (more preferably 72.5 to 82.5% by volume), and among these, the organic binder is preferably 7 to 18% by volume.
The viscosity and the like of this external electrode paste will be described later together with other pastes.

この未焼成外部電極形成工程(P4)において形成する未焼成外部電極の大きさ及び形状等は前記外部電極とすることができればよく、特に限定はされないものの、1つの未焼成ビア導体の未焼成外部電極との接続面積をSとし、1つの未焼成外部電極の平面面積をSとした場合に、S/S≧1.5となる大きさで形成することが好ましい(図10参照)。
即ち、通常、未焼成外部電極150は、未焼成ビア導体140との接触面積を最大限得るために、未焼成ビア導体140の端面の全面と接触されるため、面積Sは未焼成ビア導体140の端面面積に等しい。また、面積Sは、未焼成外部電極150が追従している未焼成積層体表面の凹凸形態に関係なく、積層方向から未焼成外部電極150を平面視した場合の面積である。
The size and shape of the unfired external electrode formed in the unfired external electrode formation step (P4) are not particularly limited as long as the size and shape of the unfired external electrode can be the external electrode. the connection area between the electrode and S V, the planar area of the one unfired external electrodes when the S O, is preferably formed in a size to be S O / S V ≧ 1.5 (see FIG. 10 ).
That is, normally, the unfired external electrode 150 is brought into contact with the entire end face of the unfired via conductor 140 in order to obtain the maximum contact area with the unfired via conductor 140, so that the area SV is equal to the unfired via conductor. Equal to 140 end face area. The area S O is an area when the non-fired external electrode 150 is viewed in plan from the stacking direction, regardless of the uneven form on the surface of the non-fired laminated body followed by the non-fired external electrode 150.

特に図3に例示されるように、1つのビア導体に対応した1つの外部電極を有する形態を有する場合には、このS/Sは、1.5≦S/S≦30がより好ましく、2.0≦S/S≦25が更に好ましい。上記範囲内では、外部電極がビアを確実に覆うことができ、セラミック誘電体層との密着性に特に優れた外部電極を得ることができる。
より具体的には、Sは、0.003mm≦S≦0.53mmであることが好ましく、0.003mm≦S≦0.48mmであることがより好ましく、0.004mm≦S≦0.44mmであることが更に好ましい。一方、Sは、0.0020mm≦S≦0.018mmであることが好ましく、0.0024mm≦S≦0.014mmであることがより好ましく、0.0028mm≦S≦0.011mmであることが更に好ましい。
In particular, as illustrated in FIG. 3, in the case of having a configuration having one external electrode corresponding to one via conductor, this S O / S V satisfies 1.5 ≦ S O / S V ≦ 30. More preferably, 2.0 ≦ S O / S V ≦ 25 is even more preferable. Within the above range, the external electrode can reliably cover the via, and an external electrode particularly excellent in adhesion to the ceramic dielectric layer can be obtained.
More specifically, S O is preferably 0.003mm 2 ≦ S O ≦ 0.53mm 2 , more preferably 0.003mm 2 ≦ S O ≦ 0.48mm 2 , 0.004mm More preferably, 2 ≦ S O ≦ 0.44 mm 2 . On the other hand, S V is preferably 0.0020mm 2 ≦ S V ≦ 0.018mm 2 , more preferably 0.0024mm 2 ≦ S V ≦ 0.014mm 2 , 0.0028mm 2 ≦ S V More preferably, ≦ 0.011 mm 2 .

前述のように、従来の製造方法では、図12に示すように、間隙20を生じてしまう場合があり、より高い接続信頼性が求められている。この間隙20を生じる原因は、前述の凹凸、即ち、図6(図6においては分かり易さのために凹凸の大きさを誇張して示している。図5、9及び12においても同様。)に示されるように、未焼成第1積層体131の積層方向に生じる厚みの差に起因するものと考えられる。未焼成第1積層体131には、積層方向により密に未焼成内部電極層120が積層された領域Xと、この部分に比べてより粗に未焼成内部電極層120が積層された領域Xと、を有する。このため、未焼成第1積層体131の外表面のうちより密に未焼成内部電極層120が積層された領域Xは凸形状となり、より粗に未焼成内部電極層120が積層された領域Xは凹形状となり、凹凸が形成されることとなる(図7及び図8においても図示されないが、上記凹凸が形成される)。 As described above, in the conventional manufacturing method, as shown in FIG. 12, the gap 20 may be generated, and higher connection reliability is required. The cause of the gap 20 is the above-described unevenness, that is, FIG. 6 (in FIG. 6, the size of the unevenness is exaggerated for the sake of clarity. The same applies to FIGS. 5, 9 and 12). As shown in FIG. 4, it is considered that this is caused by a difference in thickness generated in the stacking direction of the unfired first stacked body 131. Unfired the first laminate 131, a region X 1 densely green internal electrode layer 120 are laminated by stacking direction, region X green internal electrode layer 120 more coarse than this portion is laminated 2 and. Therefore, the region X 1 densely green internal electrode layer 120 from among the outer surface of which is laminated unfired first laminate 131 becomes convex region green internal electrode layer 120 to a more rough are stacked X 2 becomes a concave shape, so that the irregularities are formed (not shown also in FIGS. 7 and 8, the unevenness is formed).

上記凹凸の大きさは特に限定されないが、例えば、この凹凸の最大高低差(図5における符号T)が3〜25μmである場合には本発明の方法を用いることによる効果がより得られ易く、ビア導体140及びセラミック誘電体層110と外部電極150との間の密着性を顕著に向上させ易い。
即ち、本方法のように、ビア導体用ペースト中の導電性粒子の平均粒径Rと、外部電極用ペースト中の導電性粒子の平均粒径Rとを、R≧Rとし、且つ、外部電極用ペーストの剪断速度1s−1における粘度VO(1)と、剪断速度100s−1における粘度VO(100)とを、1≦O(1)/VO(100) ≦5とすることにより、上記間隙20の形成を防止できる。
The size of the unevenness is not particularly limited. For example, when the maximum height difference of the unevenness (reference symbol T in FIG. 5) is 3 to 25 μm, the effect of using the method of the present invention is more easily obtained. It is easy to remarkably improve the adhesion between the via conductor 140 and the ceramic dielectric layer 110 and the external electrode 150.
That is, as in this method, the average particle size R V of the conductive particles in the via conductor paste and the average particle size R O of the conductive particles in the external electrode paste are set as R V ≧ R O. and a viscosity at a shear rate 1s -1 of the external electrode paste V O (1), and a viscosity V O (100) at a shear rate 100s -1, 1 ≦ V O ( 1) / V O (100) ≦ By setting the number to 5 , the formation of the gap 20 can be prevented.

即ち、上記相関を有する各導電性ペーストを利用することで、内部電極層用ペースト、外部電極層ペースト及びビア導体用ペーストとの相関において、未焼成積層体の形成時の印刷性(レベリング性等を含む)、焼成時の収縮挙動、及び得られる積層コンデンサの各導体の密着性の各特性を向上させることができる。
特に、外部電極用ペーストの前記凹凸に対する追従性は、平均粒径がより小さい導電性粒子を利用することで対応できる場合がある。しかし、この小径化に伴う外部電極用ペーストの粘度増加を抑えるために添加する溶剤が増加し、印刷面となる未焼成セラミック誘電体層に対する影響が大きくなるという問題がある。これに対して、外部電極用ペーストに含まれる導電性粒子の平均粒径を上記の比較的大きな範囲で使用した場合には、未焼成セラミック誘電体層に対する問題も生じることなく、印刷性及び焼成収縮挙動を好適な範囲に制御することができる。更に、未焼成外部電極と未焼成ビア導体との間の密着性も十分に得られると共に、得られる積層コンデンサ表面(表面近傍)に外部電極の適度な焼成収縮により生じる残留圧縮応力を生じさせることができ、積層コンデンサ全体の機械的強度を向上させることができる。
That is, by using each of the conductive pastes having the above correlation, the printability (leveling property, etc.) at the time of forming the unfired laminate in the correlation with the internal electrode layer paste, the external electrode layer paste, and the via conductor paste. Each of the shrinkage behavior during firing and the adhesion of each conductor of the obtained multilayer capacitor can be improved.
In particular, the followability of the external electrode paste with respect to the unevenness may be dealt with by using conductive particles having a smaller average particle size. However, there is a problem that the solvent added to suppress the increase in the viscosity of the external electrode paste accompanying the reduction in diameter increases, and the influence on the unfired ceramic dielectric layer that becomes the printing surface increases. On the other hand, when the average particle size of the conductive particles contained in the external electrode paste is used in the above-described relatively large range, there is no problem with the unfired ceramic dielectric layer, printability and firing. The shrinkage behavior can be controlled within a suitable range. In addition, sufficient adhesion between the unfired external electrode and the unfired via conductor is obtained, and residual compressive stress generated by appropriate firing shrinkage of the external electrode is generated on the surface of the obtained multilayer capacitor (near the surface). And the mechanical strength of the entire multilayer capacitor can be improved.

加えて、形成する未焼成外部電極150の大きさが大きいほど、ビア導体140及びセラミック誘電体層110と外部電極150との間の密着性を顕著に向上させ易い。即ち、図3に示すような各個別のビア導体140に対応した外部電極150の形成に用いるよりも、図4に示すような複数のビア導体140に対応して共用される外部電極150の形成に用いる方が、ビア導体140及びセラミック誘電体層110と外部電極150との間の密着性を顕著に向上させ易い。
より具体的には、1つの未焼成ビア導体140の未焼成外部電極150との接続面積をSとし、1つの未焼成外部電極150の平面面積をSとした場合に、S/S≧1.5である未焼成外部電極を形成する場合に、本発明の製造方法を用いることによる効果をより顕著に得易い。このS/Sは、1.5≦S/S≦30がより好ましく、1.7≦S/S≦27が更に好ましく、2.0≦S/S≦25が特に好ましい。
In addition, the larger the size of the unfired external electrode 150 to be formed, the easier it is to significantly improve the adhesion between the via conductor 140 and the ceramic dielectric layer 110 and the external electrode 150. That is, rather than using the external electrodes 150 corresponding to the individual via conductors 140 as shown in FIG. 3, the external electrodes 150 shared corresponding to the plurality of via conductors 140 as shown in FIG. 4 are formed. It is easier to remarkably improve the adhesion between the via conductor 140 and the ceramic dielectric layer 110 and the external electrode 150.
More specifically, the connection area between the unfired external electrodes 150 of one unfired via conductors 140 and S V, the planar area of the one unfired external electrode 150 when the S O, S O / S When forming an unfired external electrode satisfying V ≧ 1.5, the effect of using the manufacturing method of the present invention is more easily obtained. The S O / S V is more preferably 1.5 ≦ S O / S V ≦ 30, more preferably 1.7 ≦ S O / S V ≦ 27, and 2.0 ≦ S O / S V ≦ 25. Particularly preferred.

更に、ビア導体用ペースト中の導電性粒子の平均粒径Rと、外部電極用ペースト中の導電性粒子の平均粒径Rとは、R≧Rの関係を満たせばよいが、更に、1.0≦R/R≦10であることが好ましく、1.0≦R/R≦5であることがより好ましく、特に1.1≦R/R≦3であることが好ましい。好ましい範囲では、各導体(内部電極層、ビア導体及び外部電極)同士の焼成収縮マッチングを取ることができ、クラックや剥離等の問題発生をより確実に抑制できる。 Furthermore, the average particle diameter R V of the conductive particles in the via conductor paste and the average particle diameter R O of the conductive particles in the external electrode paste may satisfy the relationship of R V ≧ R O. Further, 1.0 ≦ R V / R O ≦ 10 is preferable, 1.0 ≦ R V / R O ≦ 5 is more preferable, and 1.1 ≦ R V / R O ≦ 3 is particularly satisfied. Preferably there is. In a preferable range, firing contraction matching between the respective conductors (internal electrode layer, via conductor and external electrode) can be taken, and problems such as cracks and peeling can be more reliably suppressed.

また、外部電極用ペーストの剪断速度1s−1における粘度VO(1)と、剪断速度100s−1における粘度VO(100)とは、VO(1)/VO(100)≦100を満たせばよいが、0.1≦VO(1)/VO(100)≦50であることが好ましく、0.25≦VO(1)/VO(100)≦45であることがより好ましく、0.5≦VO(1)/VO(100)≦40であることが特に好ましい。好ましい範囲では、未焼成積層体の表面の凹凸への追従性により優れた外部電極用ペーストを得ることができる。なかでも、VO(1)/VO(100)がより小さい範囲では、1≦VO(1)/VO(100)≦18であることが更に好ましく、1≦VO(1)/VO(100)≦5であることが特に好ましい。一方、VO(1)/VO(100)がより大きい範囲では、20≦VO(1)/VO(100)≦40であることが更に好ましく、20≦VO(1)/VO(100)≦30であることが特に好ましい。これらのうちでは、VO(1)/VO(100)がより小さい上記範囲がとりわけ好ましい。本発明では、1≦V O(1) /V O(100) ≦5である。
尚、本明細書における各種粘度はいずれも温度25℃における粘度であり、回転型粘度計の測定方法に従うものとする。
Also, the viscosity at a shear rate 1s -1 of the external electrode paste V O (1), and the viscosity V O (100) at a shear rate 100s -1, the V O (1) / V O (100) ≦ 100 However, it is preferable that 0.1 ≦ V O (1) / V O (100) ≦ 50, and more preferably 0.25 ≦ V O (1) / V O (100) ≦ 45. Preferably, 0.5 ≦ V 2 O (1) / V 2 O (100) ≦ 40 is particularly preferable. In a preferred range, an external electrode paste that is more excellent in conformity to unevenness on the surface of the unfired laminate can be obtained. Especially, in the range where V O (1) / V O (100) is smaller, it is more preferable that 1 ≦ V O (1) / V O (100) ≦ 18, and 1 ≦ V O (1) / It is particularly preferable that V 2 O (100) ≦ 5. On the other hand, in the range where V O (1) / V O (100) is larger, it is more preferable that 20 ≦ V O (1) / V O (100) ≦ 40, and 20 ≦ V O (1) / V. It is particularly preferable that O (100) ≦ 30. Of these, the above range in which V O (1) / V O (100) is smaller is particularly preferable. In the present invention, 1 ≦ V O (1) / V O (100) ≦ 5.
In addition, all the various viscosities in this specification are viscosities at a temperature of 25 ° C., and shall follow the measuring method of the rotary viscometer.

より具体的には、VO(1)は、100Pa・s≦VO(1)≦1000Pa・sであることが好ましく、100Pa・s≦VO(1)≦400Pa・sであることがより好ましく、150Pa・s≦VO(1)≦300Pa・sであることが更に好ましい。一方、VO(100)は、10Pa・s≦VO(100)≦500Pa・sであることが好ましく、30Pa・s≦VO(100)≦200Pa・sであることがより好ましく、40Pa・s≦VO(100)≦100Pa・sであることが更に好ましい。 More specifically, V O (1) is preferably 100Pa · s ≦ V O (1 ) ≦ 1000Pa · s, more to be 100Pa · s ≦ V O (1 ) ≦ 400Pa · s Preferably, 150 Pa · s ≦ V 2 O (1) ≦ 300 Pa · s is more preferable. On the other hand, V O (100) is preferably 10 Pa · s ≦ V O (100) ≦ 500 Pa · s, more preferably 30 Pa · s ≦ V 2 O (100) ≦ 200 Pa · s, and 40 Pa · s. More preferably, s ≦ V O (100) ≦ 100 Pa · s.

更に、外部電極用ペースト中の導電性粒子の平均粒径Rと、内部電極層用ペースト中の導電性粒子の平均粒径Rとは、R>Rとすることが好ましく、1.1≦R/R≦100がより好ましく、1.5≦R/R≦50が更に好ましく、3≦R/R≦30が特に好ましい。好ましい範囲では、各導体(内部電極層、ビア導体及び外部電極)同士の焼成収縮マッチングを取ることができ、クラックや剥離等の問題発生をより確実に抑制できる。 Furthermore, the average particle diameter R O of the conductive particles in the external electrode paste and the average particle diameter R I of the conductive particles in the internal electrode layer paste are preferably R O > R I. 0.1 ≦ R O / R I ≦ 100 is more preferable, 1.5 ≦ R O / R I ≦ 50 is further preferable, and 3 ≦ R O / R I ≦ 30 is particularly preferable. In a preferable range, firing contraction matching between the respective conductors (internal electrode layer, via conductor and external electrode) can be taken, and problems such as cracks and peeling can be more reliably suppressed.

更に、剪断速度5s−1における内部電極層用ペーストの粘度VI(5)と、剪断速度5s−1におけるビア導体用ペーストの粘度VV(5)と、剪断速度5s−1における外部電極用ペーストの粘度VO(5)とは、VI(5)≦VO(5)<VV(5)であることが好ましい。好ましい範囲では、より信頼性の高いコンデンサを作製できる。
より具体的には、VI(5)は、5Pa・s≦VI(5)≦30Pa・sが好ましく、6Pa・s≦VI(5)≦23Pa・sがより好ましく、7Pa・s≦VI(5)≦15Pa・sが更に好ましい。また、VO(5)は、100Pa・s≦VO(5)≦300Pa・sが好ましく、120Pa・s≦VO(5)≦270Pa・sがより好ましく、150Pa・s≦VO(5)≦250Pa・sが更に好ましい。更に、VV(5)は、500Pa・s≦VV(5)≦10,000Pa・sが好ましく、800Pa・s≦VV(5)≦7,000Pa・sがより好ましく、1,000Pa・s≦VV(5)≦5,000Pa・sが更に好ましい。
Furthermore, the viscosity of the paste for the internal electrode layers at a shear rate of 5s -1 V I (5), and the viscosity of the paste for via conductor at a shear rate of 5s -1 V V (5), the external electrodes at a shear rate of 5s -1 The viscosity V O (5) of the paste is preferably V I (5) ≦ V O (5) <V V (5) . In a preferable range, a more reliable capacitor can be manufactured.
More specifically, V I (5) is preferably from 5Pa · s ≦ V I (5 ) ≦ 30Pa · s, more preferably 6Pa · s ≦ V I (5 ) ≦ 23Pa · s, 7Pa · s ≦ V I (5) ≦ 15 Pa · s is more preferable. Also, V O (5) is preferably from 100Pa · s ≦ V O (5 ) ≦ 300Pa · s, and more preferably 120Pa · s ≦ V O (5 ) ≦ 270Pa · s, 150Pa · s ≦ V O (5 ) ≦ 250 Pa · s is more preferable. Further, V V (5) is preferably 500 Pa · s ≦ V V (5) ≦ 10,000 Pa · s, more preferably 800 Pa · s ≦ V V (5) ≦ 7,000 Pa · s, and 1,000 Pa · s. More preferably, s ≦ V V (5) ≦ 5,000 Pa · s.

更に、内部電極層用ペースト、外部電極用ペースト及びビア導体用ペーストの各々に、前記共素地材料が含有される場合、内部電極層用ペーストに占める共素地材料の体積割合をC(体積%)とし、外部電極用ペーストに占める共素地材料の体積割合をC(体積%)とし、ビア導体用ペーストに占める共素地材料の体積割合をC(体積%)とした場合に、C<C≦Cvであり且つ0.2≦C/C≦1.0であることが好ましい。 Further, when the common electrode material is contained in each of the internal electrode layer paste, the external electrode paste, and the via conductor paste, the volume ratio of the common material in the internal electrode layer paste is expressed by C I (volume% ) and, when the volume ratio of the co-matrix material occupying the external electrode paste to the C O (vol%), the volume ratio of the co-matrix material occupying the paste for via conductor was C V (vol%), C I It is preferable that <C O ≦ Cv and 0.2 ≦ C O / C V ≦ 1.0.

未焼成積層体内における各部1つ1つの積層方向の厚みは、通常、未焼成内部電極層<未焼成外部電極<未焼成ビア導体の順に大きく、積層方向の焼成収縮もこの順に大きくなる。このため未焼成外部電極及び未焼成ビア導体内の共素地材料の含有量を、未焼成内部電極層内の共素地材料の含有量より多くすることで、未焼成セラミック誘電体層との焼成収縮挙動をより巧く合わせ込むことができ、焼成後のクラックや剥がれ等をより効果的に抑制できる。
より具体的には、Cは、0.8体積%≦C≦3.5体積%が好ましく、1.0体積%≦C≦3.0体積%がより好ましい。Cは、4.0体積%≦C≦12.0体積%が好ましく、4.0体積%≦C≦10.0体積%がより好ましい。Cは、8.0体積%≦C≦25.0体積%が好ましく、10.0体積%≦C≦20.0体積%がより好ましい。
The thickness in the stacking direction of each part in the unfired stacked body is usually larger in the order of unfired internal electrode layer <unfired external electrode <unfired via conductor, and the firing shrinkage in the stacking direction also increases in this order. For this reason, firing shrinkage with the unfired ceramic dielectric layer can be achieved by making the content of the common substrate material in the unfired external electrode and unfired via conductor larger than the content of the common substrate material in the unfired internal electrode layer. The behavior can be adjusted more skillfully, and cracks and peeling after firing can be more effectively suppressed.
More specifically, C I is preferably 0.8% by volume ≦ C I ≦ 3.5% by volume, and more preferably 1.0% by volume ≦ C I ≦ 3.0% by volume. The C 2 O is preferably 4.0% by volume ≦ C 2 O ≦ 12.0% by volume, more preferably 4.0% by volume ≦ C 2 O ≦ 10.0% by volume. CV is preferably 8.0% by volume ≦ C V ≦ 25.0% by volume, and more preferably 10.0% by volume ≦ C V ≦ 20.0% by volume.

[3]キャパシタ内蔵配線基板用の積層コンデンサ
本発明の方法により得られる積層コンデンサは、そのまま1つの部品として用いてもよいが、キャパシタ内蔵配線基板用の積層コンデンサ(基板内蔵用積層コンデンサ)としてとりわけ好適である。
キャパシタ内蔵配線基板10は、通常、基板コア部20と、基板コア部20内に収容されたキャパシタ部21(前記積層コンデンサ100が内蔵されてなる)と、半導体素子90を搭載可能であり且つ少なくともキャパシタ部21上に積層されたビルドアップ部30と、を備える。
[3] Multilayer Capacitor for Capacitor-Incorporated Wiring Substrate The multilayer capacitor obtained by the method of the present invention may be used as it is as one component, but particularly as a multilayer capacitor for a capacitor-embedded wiring substrate (a multilayer capacitor for substrate embedding). Is preferred.
The capacitor-embedded wiring substrate 10 is generally capable of mounting a substrate core portion 20, a capacitor portion 21 (including the multilayer capacitor 100) housed in the substrate core portion 20, and a semiconductor element 90. And a build-up unit 30 stacked on the capacitor unit 21.

上記「基板コア部(20)」は、キャパシタ部21を収容し、配線基板10全体を支持するコアとなる部位である。基板コア20は、単なる板状体であってもよいが、通常、キャパシタ部21を収容する収容部201を有する。収容部201は、基板コア部20に設けられた貫通孔及び/又は有底穴を利用できる。基板コア20を構成する材料は特に限定されないが、エポキシ樹脂、ポリイミド樹脂、ビスマレイミド・トリアジン樹脂、ポリフェニレンエーテル樹脂等の耐熱性を有する高分子材料を用いることが好ましい。更に、より優れた強度及びより優れた熱特性を得るためのガラス繊維、ガラス繊維織布、ガラス繊維不織布、ポリアミド繊維、ポリアミド繊維不織布、ポリアミド繊維織布等を芯材として有していてもよい。
基板コア20には、図11に例示するように、その上面側20aと下面側20bとを導通するスルーホール導体202を設けることができる。スルーホール内はスルーホール導体以外の部分は導体により充填してもよいが、絶縁性硬化体203で閉塞できる。
The “substrate core part (20)” is a part that accommodates the capacitor part 21 and serves as a core that supports the entire wiring substrate 10. The substrate core 20 may be a simple plate-like body, but usually has a housing portion 201 that houses the capacitor portion 21. The accommodating portion 201 can use a through hole and / or a bottomed hole provided in the substrate core portion 20. The material constituting the substrate core 20 is not particularly limited, but it is preferable to use a heat-resistant polymer material such as an epoxy resin, a polyimide resin, a bismaleimide / triazine resin, a polyphenylene ether resin, or the like. Furthermore, it may have glass fibers, glass fiber woven fabrics, glass fiber nonwoven fabrics, polyamide fibers, polyamide fiber nonwoven fabrics, polyamide fiber woven fabrics, etc. as core materials for obtaining better strength and better thermal properties. .
As illustrated in FIG. 11, the substrate core 20 can be provided with a through-hole conductor 202 that conducts between the upper surface side 20 a and the lower surface side 20 b. The inside of the through hole may be filled with a conductor other than the through hole conductor, but can be closed with the insulating hardened body 203.

上記「キャパシタ部21」は、基板コア部20内に本発明の方法により得られた積層コンデンサ100が収容されてなるキャパシタである。このキャパシタ部21は、通常、基板コア20内に収容された状態で、エポキシ樹脂等の樹脂材料などの充填剤204によって収容部201内に固定される(図11参照)。   The “capacitor portion 21” is a capacitor in which the multilayer capacitor 100 obtained by the method of the present invention is accommodated in the substrate core portion 20. The capacitor unit 21 is normally fixed in the storage unit 201 with a filler 204 such as a resin material such as an epoxy resin while being stored in the substrate core 20 (see FIG. 11).

上記「ビルドアップ部30」は、基板コア20上及び基板コア20に収容されたキャパシタ部21上に積層された部位であって、導体層(31a及び31b)と層間絶縁層(32a及び32b)とを交互に積層して形成されると共に、最外層には、通常、レジスト層(321a及び321b)を備える部位である。
このビルドアップ部30(30a及び30b)は、配線基板10の一面側にのみ備えてもよいが、通常、両面側に備え、更には、対象形状に備えることが好ましい。一般に、キャパシタ内蔵配線基板10の半導体素子90側の接続端子311aの端子間ピッチと、キャパシタ内蔵配線基板10のマザーボード側の接続端子311bの端子間ピッチとには大きな差がある。このため、ビルドアップ部30(30a及び30b)を設けることで、ビルドアップ部30(30a及び30b)内でピッチを自在に調整して配線基板10の上面側(半導体素子搭載側)から下面側(マザーボード搭載側)へ異なる端子間ピッチの出力を行うことができる(図11参照)。
The “build-up portion 30” is a portion laminated on the substrate core 20 and the capacitor portion 21 accommodated in the substrate core 20, and includes a conductor layer (31a and 31b) and an interlayer insulating layer (32a and 32b). Are alternately laminated, and the outermost layer is usually a portion provided with resist layers (321a and 321b).
The build-up unit 30 (30a and 30b) may be provided only on one surface side of the wiring board 10, but is usually provided on both surface sides, and further preferably provided in a target shape. In general, there is a large difference between the terminal pitch of the connection terminals 311a on the semiconductor element 90 side of the capacitor built-in wiring board 10 and the terminal pitch of the connection terminals 311b on the motherboard side of the capacitor built-in wiring board 10. For this reason, by providing the build-up portion 30 (30a and 30b), the pitch can be freely adjusted in the build-up portion 30 (30a and 30b), and the lower surface side from the upper surface side (semiconductor element mounting side) of the wiring board 10 It is possible to output different pitches between terminals to the motherboard mounting side (see FIG. 11).

また、ビルドアップ部30(30a及び30b)の層間絶縁層32(32a及び32b)を構成する材料は特に限定されないが、エポキシ樹脂、ポリイミド樹脂、ビスマレイミド・トリアジン樹脂、ポリフェニレンエーテル樹脂等の耐熱性を有する高分子材料を用いることが好ましい。
更に、ビルドアップ部30(30a及び30b)を構成する導体層31(31a及び31b)は、必要に応じて他層の導体層とビア等を通じて導通をとることができる。ビアを用いる場合には、各ビアの直上を避けて接続する非スタックドビア方式(各ビアはフィルドビアであってもよく、コンフォーマルビアであってもよい)で積層してもよく、各ビアの直上にビアを形成するスタックドビア方式(各ビアは、通常、フィルドビアである)で積層してもよい。また、この各ビアの形式は上面側ビルドアップ部30aと下面側ビルドアップ部30bとで同じものとしてもよく、異なるものとしてもよい。
Moreover, the material which comprises the interlayer insulation layer 32 (32a and 32b) of the buildup part 30 (30a and 30b) is not specifically limited, However, Heat resistance, such as an epoxy resin, a polyimide resin, a bismaleimide triazine resin, a polyphenylene ether resin, etc. It is preferable to use a polymer material having
Furthermore, the conductor layers 31 (31a and 31b) constituting the buildup section 30 (30a and 30b) can be electrically connected to other conductor layers through vias or the like as necessary. If vias are used, they may be stacked using a non-stacked via method (connecting vias may be filled vias or conformal vias) to avoid connection directly above each via. The vias may be stacked in a stacked via system (each via is usually a filled via). The form of each via may be the same or different between the upper surface side buildup portion 30a and the lower surface side buildup portion 30b.

以下、本発明を実施例によりより詳細に説明する。
[1]積層コンデンサの製造
(1)未焼成セラミック誘電体層となるグリーンシートの調製
チタン酸バリウム粉末(平均粒径0.5μm)、有機バインダ及び可塑剤を、エタノール及びトルエンの混合溶媒中で湿式混合した。その後、バインダを添加して更に混合し、得られたスラリーをドクターブレード法により厚さ7μmのシート状に成形して未焼成セラミック誘電体層となるグリーンシートを製造した。
Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to examples.
[1] Manufacture of multilayer capacitor (1) Preparation of green sheet to be unfired ceramic dielectric layer Barium titanate powder (average particle size 0.5 μm), organic binder and plasticizer in a mixed solvent of ethanol and toluene Wet mixed. Thereafter, a binder was added and further mixed, and the resulting slurry was formed into a sheet having a thickness of 7 μm by a doctor blade method to produce a green sheet serving as an unfired ceramic dielectric layer.

(2)外部電極用ペーストの調製
〈2−1〉実施例1の外部電極用ペースト
外部電極用ペーストの導電性粒子として、平均粒径RO1が2.5μmである第1ニッケル粉末と、平均粒径RO2が1.0μmである第2ニッケル粉末とを体積割合75%:25%で混合して、平均粒径R(粒度分布におけるD50)が約2.0μmである混合ニッケル粉末を得た。得られた混合ニッケル粉末と、共素地粉末(チタン酸バリウム粉末、平均粒径0.1μm)と、ビヒクル成分と、を体積割合16%:8%:76%で、湿式混合して、粘度比VO(1)/VO(100)≦100(VO(1)/VO(100)=5、VO(1)=350Pa・s、VO(100)=70Pa・s、VO(5)=200Pa・s)である外部電極用ペースト(実施例1)を得た。
(2) Preparation of External Electrode Paste <2-1> External Electrode Paste of Example 1 As the conductive particles of the external electrode paste, the first nickel powder having an average particle diameter R O1 of 2.5 μm and the average A second nickel powder having a particle size R O2 of 1.0 μm is mixed at a volume ratio of 75%: 25% to obtain a mixed nickel powder having an average particle size R O (D50 in the particle size distribution) of about 2.0 μm. Obtained. Viscosity ratio obtained by wet-mixing the obtained mixed nickel powder, common powder (barium titanate powder, average particle size 0.1 μm), and vehicle component at a volume ratio of 16%: 8%: 76%. V O (1) / V O (100) ≦ 100 (V O (1) / V O (100) = 5, V O (1) = 350 Pa · s, V O (100) = 70 Pa · s, V O (5) = 200 Pa · s) External electrode paste (Example 1) was obtained.

〈2−2〉比較例1の外部電極用ペースト
外部電極用ペーストの導電性粒子として、平均粒径RO1が0.4μmである第1ニッケル粉末と、平均粒径RO2が1.0μmである第2ニッケル粉末とを体積割合50%:50%で混合して、平均粒径R(粒度分布におけるD50)が約0.8μmである混合ニッケル粉末を得た。得られた混合ニッケル粉末と、共素地粉末(チタン酸バリウム粉末、平均粒径0.1μm)と、ビヒクル成分と、を体積割合30%:10%:60%で、混合溶媒中で湿式混合して、粘度比VO(1)/VO(100)>100(VO(1)/VO(100)=125、VO(1)=500Pa・s、VO(100)=4Pa・s、VO(5)=150Pa・s)である外部電極用ペースト(比較例1)を得た。
<2-2> External Electrode Paste of Comparative Example 1 As the conductive particles of the external electrode paste, the first nickel powder having an average particle diameter R O1 of 0.4 μm and the average particle diameter R O2 of 1.0 μm A second nickel powder was mixed at a volume ratio of 50%: 50% to obtain a mixed nickel powder having an average particle size R O (D50 in the particle size distribution) of about 0.8 μm. The obtained mixed nickel powder, common powder (barium titanate powder, average particle size 0.1 μm), and vehicle component were wet-mixed in a mixed solvent at a volume ratio of 30%: 10%: 60%. Viscosity ratio V O (1) / V O (100) > 100 (V O (1) / V O (100) = 125, V O (1) = 500 Pa · s, V O (100) = 4 Pa · s, V 2 O (5) = 150 Pa · s), an external electrode paste (Comparative Example 1) was obtained.

(3)内部電極用ペーストの調製
内部電極用ペーストの導電性粒子{平均粒径Rが0.2μmであるニッケル粉末}と、共素地粉末(チタン酸バリウム粉末、平均粒径0.1μm)と、ビヒクル成分と、を体積割合12%:3%:85%で、湿式混合して内部電極用ペースト(VI(5)=11Pa・s)を得た。
(3) and conductive particles prepared internal electrode paste of the internal electrode paste {nickel powder having an average particle diameter R I is 0.2 [mu] m}, co material powder (barium titanate powder, the average particle diameter of 0.1 [mu] m) The vehicle component was wet-mixed at a volume ratio of 12%: 3%: 85% to obtain an internal electrode paste (V I (5) = 11 Pa · s).

(4)ビア導体用ペーストの調製
ビア導体用ペーストの導電性粒子{平均粒径Rが2.5μmであるニッケル粉末}と、共素地粉末(チタン酸バリウム粉末、平均粒径0.5μm)と、ビヒクル成分と、を体積割合40%:16%:44%で、湿式混合してビア導体用ペースト(VV(5)=2500Pa・s)を得た。
(4) and the conductive particles prepared via conductor paste for via conductor paste {nickel powder having an average particle diameter R V is 2.5 [mu] m}, co material powder (barium titanate powder, the average particle diameter of 0.5 [mu] m) And the vehicle component was wet-mixed at a volume ratio of 40%: 16%: 44% to obtain a via conductor paste (V V (5) = 2500 Pa · s).

尚、本明細書における各ペーストの粘度は、以下の測定及び換算によるものである。即ち、内部電極用ペーストの粘度{VI(5)}は、共軸二重円筒型粘度計(HAAKE社製)を用いて温度25℃において剪断速度5〜500s−1の範囲で測定して得られた剪断速度5s−1における粘度値である。また、外部電極用ペーストの粘度{VO(1)、VO(5)、VO(100)}は、前記共軸二重円筒型粘度計を用いて温度25℃において剪断速度1〜100s−1の範囲で測定した時に得られた各剪断速度における粘度値である。更に、ビア電極用ペーストの粘度{VV(5)}は、B型粘度計にTバー型スピンドルを用いて、1s−1以下の低剪断速度領域において測定した粘度値をプロットした近似曲線上の剪断速度5s−1における粘度値である。 In addition, the viscosity of each paste in this specification is based on the following measurement and conversion. That is, the viscosity {V I (5) } of the internal electrode paste was measured at a temperature of 25 ° C. and a shear rate of 5 to 500 s −1 using a coaxial double cylindrical viscometer (manufactured by HAAKE). It is the viscosity value at the shear rate of 5 s −1 obtained. Further, the viscosity {V 2 O (1) , V 2 O (5) , V 2 O (100) } of the paste for the external electrode is determined by using the coaxial double cylindrical viscometer at a temperature of 25 ° C. and a shear rate of 1 to 100 s. It is a viscosity value at each shear rate obtained when measured in the range of -1 . Furthermore, the viscosity {V V (5) } of the paste for via electrodes is an approximate curve obtained by plotting viscosity values measured in a low shear rate region of 1 s −1 or less using a T-bar type spindle for a B-type viscometer. The viscosity value at a shear rate of 5 s- 1 .

(5)未焼成積層体形成工程(P1)
上記(1)で得られたグリーンシート(未焼成セラミック誘電体層)の表面に、上記(3)で得られた内部電極用ペーストをスクリーン印刷により図2(a)及び図2(b)に対応した形状となるように各グリーンシートに印刷した。この際には、未焼成内部電極層120のクリアランスホール123の口径は約400μmとした。
その後、未焼成内部電極層が形成された各未焼成セラミック誘電体層100〜150枚を圧着(60〜80℃、約300kgf/cm)積層して、未焼成第1積層体131を得た(図8参照)。
得られた未焼成第1積層体131は厚さが約1200μmであり、未焼成第1積層体131に生じた前記凹凸(未焼成状態における図5の「T」に相当する)は10〜20μm(無作為に選択した10個の凹部について表面粗さ計により測定した平均値)であった。
(5) Unbaked laminate forming step (P1)
The internal electrode paste obtained in (3) above is applied to the surface of the green sheet (unfired ceramic dielectric layer) obtained in (1) above by screen printing in FIGS. 2 (a) and 2 (b). Each green sheet was printed so as to have a corresponding shape. At this time, the diameter of the clearance hole 123 of the unfired internal electrode layer 120 was about 400 μm.
Thereafter, 100 to 150 unfired ceramic dielectric layers each having an unfired internal electrode layer were pressure-bonded (60 to 80 ° C., about 300 kgf / cm 2 ) to obtain an unfired first laminate 131. (See FIG. 8).
The obtained unfired first laminated body 131 has a thickness of about 1200 μm, and the unevenness (corresponding to “T” in FIG. 5 in the unfired state) generated in the unfired first laminated body 131 is 10 to 20 μm. (Average value measured with a surface roughness meter for 10 randomly selected recesses).

(6)貫通孔形成工程(P2)
上記(5)で得られた未焼成第1積層体131に、レーザー成形機を用いて、口径約120μmのビアホール132cを450〜700μmピッチで穿孔して、未焼成第2積層体132を得た。
(6) Through-hole forming step (P2)
Using the laser molding machine, via holes 132c having a diameter of about 120 μm were drilled at 450 to 700 μm pitch in the unfired first laminate 131 obtained in the above (5) to obtain an unfired second laminate 132. .

(7)未焼成ビア導体形成工程(P3)
上記(6)までに得られた未焼成第2積層体132のビアホール132c内に、上記(3)で得られたビア導体用ペーストをスクリーン印刷により充填して、未焼成ビア導体140が形成された未焼成第3積層体133を得た。
(7) Unfired via conductor formation process (P3)
The via-conductor paste obtained in (3) above is filled into the via hole 132c of the unfired second laminated body 132 obtained up to (6) above by screen printing, and the unfired via conductor 140 is formed. An unfired third laminate 133 was obtained.

(8)未焼成外部電極形成工程(P4)
上記(7)までに得られた未焼成第3積層体133の表面に、上記(2)で得られた実施例1の外部電極用ペーストと、比較例1の外部電極用ペーストと、を各々スクリーン印刷して、図3に示す形状となる未焼成外部電極150が形成された未焼成第4積層体134を各々得た。得られた未焼成外部電極150の未焼成ビア導体140と未焼成外部電極150との接続面積Sは0.00785mmであり、未焼成外部電極の平面面積Sは0.1256mmであった。即ち、S/S=16であり、S/S≧1.5を満たした。上記面積S及び上記面積Sは、各々光学測定装置により測定した直径から求めた面積の平均値である。
その後、この未焼成第4積層体134に形成された未焼成外部電極150について、下記[2]に示す評価方法により、未焼成外部電極150がその直下の未焼成セラミック誘電体層110から剥離している部位が有るか無いかを観察した。
(8) Unfired external electrode forming step (P4)
The external electrode paste of Example 1 and the external electrode paste of Comparative Example 1 obtained in (2) above were respectively applied to the surface of the unfired third laminate 133 obtained up to (7) above. Screen printing was performed to obtain each unfired fourth laminate 134 in which the unfired external electrode 150 having the shape shown in FIG. 3 was formed. Connection area S V the unfired via conductors 140 of the resulting unfired external electrode 150 and the non-fired external electrode 150 is 0.00785mm 2, planar area S O of green outer electrode 0.1256Mm 2 met It was. That is, S O / S V = 16 and S O / S V ≧ 1.5 was satisfied. The area SV and the area SO are average values of areas obtained from the diameters measured by the optical measuring device.
Thereafter, the unfired external electrode 150 formed on the unfired fourth laminate 134 is peeled off from the unfired ceramic dielectric layer 110 immediately below the unfired external electrode 150 by the evaluation method shown in [2] below. It was observed whether or not there was a site.

(9)焼成工程
上記(8)までに得られた実施例1及び比較例1の各未焼成第4積層体134を(パネル状のまま)、大気中250〜300℃で10〜20時間脱脂した後、還元雰囲気下1200〜1300℃で焼成し、実施例1の外部電極用ペーストを用いて得られた積層コンデンサ(実施例1)と、比較例の外部電極用ペーストを用いて得られた積層コンデンサ(比較例1)と、を各々50個づつ得た。
(9) Firing step Each unfired fourth laminated body 134 of Example 1 and Comparative Example 1 obtained up to (8) above (as in a panel shape) is degreased at 250 to 300 ° C. in the atmosphere for 10 to 20 hours. Then, firing was performed at 1200 to 1300 ° C. in a reducing atmosphere, and the multilayer capacitor obtained by using the external electrode paste of Example 1 (Example 1) and the external electrode paste of the comparative example were obtained. 50 multilayer capacitors (Comparative Example 1) were obtained.

[2]評価
(1)未焼成外部電極の剥がれ評価
上記[1](8)で得られた実施例1の未焼成第4積層体(5個)と、比較例1の未焼成第4積層体(5個)と、の表面の未焼成外部電極150を光学顕微鏡により100倍に拡大して撮影して得られたデジタル画像を用い、未焼成外部電極150と未焼成セラミック誘電体層110との界面での剥離の兆候であるクラック(ヒビ割れ)の各不具合の有無を各未焼成第4積層体の全数について確認した。そして、これらの不具合を生じている個体(1つでも生じた固体は加算)の個数を換算した。その結果、未焼成第4積層体5個に対して、上記不具合を生じている個体の個数が0個である場合は「○」と評価し、その個数が1個以上である場合は「×」と評価し、表1に記載した。
その結果、実施例1の未焼成第4積層体は「○」である一方、比較例1の未焼成第4積層体は「×」であった。
[2] Evaluation (1) Evaluation of peeling of unfired external electrode Unfired fourth laminate (5 pieces) of Example 1 obtained in [1] and (8) above and Unfired fourth laminate of Comparative Example 1 And the unfired external electrode 150 and the unfired ceramic dielectric layer 110 using a digital image obtained by photographing the unfired external electrode 150 on the surface of the body with an optical microscope at 100 times magnification. The presence or absence of each defect of cracks (crack cracks), which are signs of peeling at the interface, was confirmed for the total number of each unfired fourth laminate. Then, the number of individuals having these defects (addition of any solids generated) was converted. As a result, with respect to 5 unfired fourth laminated bodies, when the number of individuals having the above-mentioned defects is 0, it is evaluated as “◯”, and when the number is 1 or more, “×” Was evaluated and listed in Table 1.
As a result, the unfired fourth laminate of Example 1 was “◯”, while the unfired fourth laminate of Comparative Example 1 was “x”.

(2)外部電極の密着性の評価
上記[1](9)で得られた実施例1の積層コンデンサ(20個)と、比較例1の積層コンデンサ(20個)と、を超音波探傷により外部電極150とセラミック誘電体層110との界面での密着不足による隙間等の不良の有無を評価し、不良有りと判断された箇所については断面研磨し、その断面を観察した。そして、これらの不具合を生じている個体(1つでも生じた固体は加算)の個数を換算した。その結果、積層コンデンサ20個に対して、上記不具合を生じている個体の個数が0個である場合は「○」と評価し、その個数が1個以上である場合は「×」と評価し、表1に記載した。
その結果、実施例1の積層コンデンサは「○」である一方、比較例1の積層コンデンサは「×」であった。
(2) Evaluation of Adhesiveness of External Electrode The multilayer capacitor of Example 1 (20 pieces) obtained in [1] and (9) above and the multilayer capacitor of Comparative Example 1 (20 pieces) were subjected to ultrasonic flaw detection. The presence or absence of a defect such as a gap due to insufficient adhesion at the interface between the external electrode 150 and the ceramic dielectric layer 110 was evaluated, and the section judged to be defective was subjected to cross section polishing and the cross section was observed. Then, the number of individuals having these defects (addition of any solids generated) was converted. As a result, with respect to 20 multilayer capacitors, when the number of individuals having the above problems is 0, it is evaluated as “◯”, and when the number is 1 or more, it is evaluated as “×”. The results are shown in Table 1.
As a result, the multilayer capacitor of Example 1 was “◯”, while the multilayer capacitor of Comparative Example 1 was “x”.

Figure 0005166212
Figure 0005166212

尚、本発明においては、上記の具体的実施例に示すものに限られず、目的、用途に応じて本発明の範囲内で種々変更した実施例とすることができる。   In addition, in this invention, it can restrict to what is shown to said specific Example, It can be set as the Example variously changed within the range of this invention according to the objective and the use.

積層コンデンサの概略断面図である。It is a schematic sectional drawing of a multilayer capacitor. 積層コンデンサの内部電極層の一例を説明する概略平面図であり、(a)は第1群の内部電極層を表し、(b)は第2群の内部電極層を表す。It is a schematic plan view explaining an example of the internal electrode layer of a multilayer capacitor, (a) represents the 1st group internal electrode layer, (b) represents the 2nd group internal electrode layer. 外部電極の一例の平面形状を説明する概略平面図である。It is a schematic plan view explaining the planar shape of an example of an external electrode. 外部電極の他例の平面形状を説明する概略平面図である。It is a schematic plan view illustrating a planar shape of another example of the external electrode. 外部電極の一例の断面形状を説明する概略拡大断面図である。It is a general | schematic expanded sectional view explaining the cross-sectional shape of an example of an external electrode. 本発明の製造方法における各工程を説明する説明図である。It is explanatory drawing explaining each process in the manufacturing method of this invention. 未焼成積層体形成工程の一例の工程を説明する説明図である。It is explanatory drawing explaining the process of an example of an unbaking laminated body formation process. 未焼成積層体形成工程の他例の工程を説明する説明図である。It is explanatory drawing explaining the process of the other example of an unbaking laminated body formation process. 片面にのみ貫通したビア導体を備える積層コンデンサの製造方法を説明する説明図である。It is explanatory drawing explaining the manufacturing method of a multilayer capacitor provided with the via conductor penetrated only to one side. 未焼成ビア導体と未焼成外部電極との接続面積Sと、未焼成外部電極の平面面積Sとを説明する説明図である。A connection area S V the unfired via conductor and unfired external electrodes is an explanatory diagram for explaining a planar area S O unfired external electrodes. 積層コンデンサを内蔵したキャパシタ内蔵配線基板の一例を示す概略断面図である。It is a schematic sectional drawing which shows an example of the wiring board with a built-in capacitor incorporating the multilayer capacitor. 従来における未焼成外部電極近傍における問題を説明する概略拡大断面図である。It is a general | schematic expanded sectional view explaining the problem in the vicinity of the unfired external electrode in the past.

符号の説明Explanation of symbols

100;積層コンデンサ(未焼成積層コンデンサ)、101;一面、102;対面、110;セラミック誘電体層(未焼成積層セラミック誘電体層)、120;内部電極層(未焼成積層内電極層)、121;第1群の内部電極層、122;第2群の内部電極層、130;積層体(未焼成積層体)、140;ビア導体(未焼成ビア導体)、150;外部電極(未焼成外部電極)、めっき層;160、外表面めっき層161、層間めっき層162、10;キャパシタ内蔵配線基板、20;基板コア、201;収容部、204;充填剤、202;スルーホール導体、203;硬化体、21;キャパシタ部(積層コンデンサ100)、30;ビルドアップ部、30a;上面側ビルドアップ部、30b;下面側ビルドアップ部、31a及び31b;導体層、311a及び311b;接続端子(キャパシタ内蔵配線基板表面の接続端子)、32a及び32b;層間絶縁層、321a及び321b;ソルダーレジスト層、40;接続端子群、90;半導体素子。   100; multilayer capacitor (unfired multilayer capacitor), 101; one side, 102; facing, 110; ceramic dielectric layer (unfired multilayer ceramic dielectric layer), 120; internal electrode layer (unfired multilayer internal electrode layer), 121 ; First group internal electrode layer, 122; second group internal electrode layer, 130; laminate (unfired laminate), 140; via conductor (unfired via conductor), 150; external electrode (unfired external electrode); ), Plating layer; 160, outer surface plating layer 161, interlayer plating layer 162, 10; wiring board with built-in capacitor, 20; substrate core, 201; accommodating portion, 204; filler, 202; through-hole conductor, 203; , 21; capacitor portion (multilayer capacitor 100), 30; build-up portion, 30a; upper surface side build-up portion, 30b; lower surface side build-up portion, 31a and 31b; conductor , 311a and 311b; connection terminals (connection terminals of the capacitor built-in wiring board surface), 32a and 32 b; interlayer insulating layer, 321a and 321b; solder resist layer, 40; connection terminal group 90; semiconductor device.

Claims (7)

一面及び対面を有し、該一面と該対面との間で複数のセラミック誘電体層を介して交互に積層された複数の内部電極層と、上記複数の内部電極層同士を電気的に接続したビア導体と、上記一面及び/又は上記対面に配設されると共に上記ビア導体と電気的に接続された外部電極と、を備えた積層コンデンサの製造方法であって、
上記セラミック誘電体層となる未焼成セラミック誘電体層と、内部電極用ペーストを印刷して形成した上記内部電極層となる未焼成内部電極層と、が交互に積層された構造を有する未焼成積層体を形成する工程と、
上記未焼成積層体の上記一面側の表面と上記対面側の表面とを貫通する貫通孔を形成する工程と、
上記貫通孔内に上記ビア導体となるビア導体用ペーストを充填して未焼成ビア導体を形成する工程と、
上記未焼成積層体の上記一面側の表面及び上記対面側の表面のうちの少なくとも一方の表面に、上記未焼成ビア導体と接続された上記外部電極となる外部電極用ペーストを印刷して未焼成外部電極を形成する工程と、をこの順に備え、
上記内部電極層用ペースト、上記ビア導体用ペースト及び上記外部電極用ペーストは、各々導電性粒子を含有し、
上記ビア導体用ペースト中の導電性粒子の平均粒径をRとし、上記外部電極用ペースト中の導電性粒子の平均粒径をRとした場合に、R≧Rであり、且つ、
上記外部電極用ペーストの剪断速度1s−1における粘度をVO(1)とし、剪断速度100s−1における粘度をVO(100)とした場合に、1≦O(1)/VO(100) ≦5であることを特徴とする積層コンデンサの製造方法。
A plurality of internal electrode layers that have one surface and a facing surface, and are alternately stacked via a plurality of ceramic dielectric layers between the one surface and the facing surface, and the plurality of internal electrode layers are electrically connected to each other A method of manufacturing a multilayer capacitor comprising a via conductor and an external electrode disposed on the one surface and / or the opposite surface and electrically connected to the via conductor,
An unfired laminate having a structure in which the unfired ceramic dielectric layer to be the ceramic dielectric layer and the unfired internal electrode layer to be the internal electrode layer formed by printing an internal electrode paste are alternately laminated Forming a body;
Forming a through hole that penetrates the surface on the one surface side and the surface on the opposite side of the unfired laminate,
Filling the via conductor paste into the through-hole into the via conductor and forming an unfired via conductor;
On the at least one of the one-side surface and the opposite-side surface of the unfired laminate, an external electrode paste to be the external electrode connected to the unfired via conductor is printed and unfired A step of forming external electrodes in this order,
The internal electrode layer paste, the via conductor paste and the external electrode paste each contain conductive particles,
When the average particle diameter of the conductive particles in the via conductor paste is R V and the average particle diameter of the conductive particles in the external electrode paste is R O , R V ≧ R O and ,
When the viscosity at the shear rate of 1 s −1 of the external electrode paste is V O (1) and the viscosity at the shear rate of 100 s −1 is V O (100) , 1 ≦ V O (1) / V O ( 100) ≦ 5 , A method for producing a multilayer capacitor, wherein
上記内部電極層用ペースト中の導電性粒子の平均粒径をRとした場合に、R>Rである請求項1に記載の積層コンデンサの製造方法。 2. The method of manufacturing a multilayer capacitor according to claim 1, wherein R O > R I when R I is an average particle diameter of the conductive particles in the internal electrode layer paste. 上記ビア導体用ペースト中の導電性粒子の平均粒径Rは、2.0μm≦R≦10.0μmである請求項1又は2に記載の積層コンデンサの製造方法。 3. The method of manufacturing a multilayer capacitor according to claim 1, wherein an average particle size R V of the conductive particles in the via conductor paste is 2.0 μm ≦ R V ≦ 10.0 μm. 外部電極用ペースト中の導電性粒子の平均粒径Rは、1.0μm≦R≦5.0μmである請求項1乃至3のうちのいずれかに記載の積層コンデンサの製造方法。 4. The method for producing a multilayer capacitor according to claim 1, wherein an average particle diameter R O of the conductive particles in the external electrode paste is 1.0 μm ≦ R O ≦ 5.0 μm. 上記内部電極層用ペースト中の導電性粒子の平均粒径をRとした場合に、該Rは、0.05μm≦R<1.0μmである請求項1乃至4のうちのいずれかに記載の積層コンデンサの製造方法。 The average particle diameter of the conductive particles in the paste for the internal electrode layer in case of the R I, wherein R I is one of claims 1 to 4 is 0.05 .mu.m ≦ R I <1.0 .mu.m A method for producing the multilayer capacitor as described in 1. above. 剪断速度5s−1における上記内部電極層用ペーストの粘度をVI(5)とし、剪断速度5s−1における上記ビア導体用ペーストの粘度をVV(5)とし、剪断速度5s−1における上記外部電極用ペーストの粘度をVO(5)とした場合に、VI(5)≦VO(5)<VV(5)である請求項1乃至5のうちのいずれかに記載の積層コンデンサの製造方法。 The viscosity of the internal electrode layer paste at a shear rate of 5s -1 and V I (5), the viscosity of the via conductor paste at a shear rate of 5s -1 and V V (5), said at a shear rate of 5s -1 The laminate according to any one of claims 1 to 5 , wherein V I (5) ≤ V O (5) <V V (5) when the viscosity of the external electrode paste is V O (5). Capacitor manufacturing method. 1つの上記未焼成ビア導体の上記未焼成外部電極との接続面積をSとし、1つの該未焼成外部電極の平面面積をSとした場合に、S/S≧1.5である請求項1乃至6のうちのいずれかに記載の積層コンデンサの製造方法。 The connection area between the unfired external electrode of one of the unfired via conductors and S V, the planar area of the one yet-fired external electrode when the S O, at S O / S V ≧ 1.5 The method for manufacturing a multilayer capacitor according to claim 1.
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