JP5162330B2 - 単結晶の製造装置及び製造方法 - Google Patents
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Description
以下、本発明の第1の実施の形態となる炭化珪素単結晶の製造装置及びその製造方法について説明する。
図5は、第2の実施の形態に係る製造装置1を示す。以下、第2の実施の形態に係る製造装置1が第1の実施の形態に係る製造装置1と異なる部分を説明する。
図6は、第3の実施の形態に係る製造装置1を示す。以下、第3の実施の形態に係る製造装置1が第1の実施の形態に係る製造装置1と異なる部分を説明する。
図9は、第4の実施の形態に係る製造装置1を示す。以下、第4の実施の形態に係る製造装置1が第3の実施の形態に係る製造装置1と異なる部分を説明する。
図10は、第5の実施の形態に係る製造装置1を示す。以下、第5の実施の形態に係る製造装置1が第4の実施の形態に係る製造装置1と異なる部分を説明する。
第6の実施の形態は、上述した各実施の形態において、炭化珪素原料4を、GaNまたはAlNの粉末に変更し、炭化珪素単結晶6をGaNまたはAlNの単結晶に変更したものである。第6の実施の形態によれば、上述した各実施の形態の効果を得るとともに、GaNまたはAlNの単結晶を成長させることができる。
2:坩堝
3:坩堝本体
4:炭化珪素原料
5:蓋体
6:炭化珪素単結晶
7:断熱材
8:シールド部材
9:11
10:支持棒
11:石英管
12:加熱コイル
Claims (6)
- 開口部を有し、前記開口部を介して内部に炭化珪素原料を収納する坩堝本体と、
前記炭化珪素原料と対向する位置に炭化珪素単結晶が取り付けられている蓋体と、
前記坩堝本体の側方に所定の空間を隔てて設けられ、前記坩堝本体全体を加熱する加熱手段と、
前記所定の空間に設けられ、単結晶の成長中に、前記炭化珪素原料のうち、前記炭化珪素単結晶に対向する面から所定の距離以上離れた後方部分を覆い、前記加熱手段による加熱により発熱するシールド部材とを備え、
前記炭化珪素原料を昇華させて、前記炭化珪素単結晶の表面上に前記単結晶を成長させることを特徴とする単結晶の製造装置。 - 前記シールド部材は、単結晶の成長中に、前記炭化珪素単結晶のうち、前記炭化珪素原料に対向する面から所定の距離以上離れた後方部分を覆うことを特徴とする請求項1記載の単結晶の製造装置。
- 前記シールド部材は、単結晶の成長中に、前記炭化珪素原料の後方部分を覆う第1小シールド部材と、単結晶の成長中に、前記炭化珪素単結晶の後方部分を覆う第2小シールド部材とを備えることを特徴とする請求項2記載の単結晶の製造装置。
- 開口部を介して、坩堝本体内部に炭化珪素原料を収納する第1工程と、
前記炭化珪素原料と対向する位置にある蓋体に炭化珪素単結晶を取り付ける第2工程と、
前記坩堝本体の側方に所定の空間を隔てて設けられた加熱手段により、前記坩堝本体全体を加熱することで、単結晶を成長させる第3工程と、
前記単結晶の成長中に、前記所定の空間に設けられたシールド部材により、前記炭化珪素原料のうち、前記炭化珪素単結晶に対向する面から所定の距離以上離れた後方部分を覆う第4工程とを含み、
前記炭化珪素原料を昇華させて、前記炭化珪素単結晶の表面上に前記単結晶を成長させることを特徴とする単結晶の製造方法。 - 前記第4工程は、単結晶の成長中に、前記シールド部材により、前記炭化珪素単結晶のうち、前記炭化珪素原料に対向する面から所定の距離以上離れた後方部分を覆う工程を含むことを特徴とする請求項4記載の単結晶の製造方法。
- 前記シールド部材は、第1小シールド部材と、第2小シールド部材とを備え、
前記第4工程は、単結晶の成長中に、前記第1小シールド部材により、前記炭化珪素原料の後方部分を覆い、前記第2小シールド部材により、前記炭化珪素単結晶の後方部分を覆う工程を含むことを特徴とする請求項5記載の単結晶の製造方法。
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