JP5158925B2 - Manufacturing method of printing substrate - Google Patents

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Description

本発明は電子部材又は光学部材の製造等で用いられる印刷基材の製造方法に関する。更に詳しくは電子部材形成用の電子材料又は光学部材形成用の光学材料を被印刷基材上に塗布するために使用される印刷基材の製造方法、それによって得られる印刷基材、該印刷基材を用いた電子部材又は光学部材の製造方法、該印刷基材の再生方法に関する。   The present invention relates to a method for producing a printing substrate used for producing an electronic member or an optical member. More specifically, a method for producing a printing substrate used for applying an electronic material for forming an electronic member or an optical material for forming an optical member on a substrate to be printed, a printing substrate obtained thereby, and the printing substrate The present invention relates to a method for producing an electronic member or an optical member using a material, and a method for regenerating the printing substrate.

半導体素子の絶縁膜や液晶表示パネルなどで、パターンを高精度に形成する技術としてはスピンコート法による材料の塗布とフォトリソグラフィーを組み合わせる方法が一般的であるが、パターン形成を大面積で行おうとすると、フォトリソグラフィーでは製造コストが高くなるという大きな問題がある。一方、パターン形成技術としてスクリーン印刷法、オフセット印刷法、フレキソ印刷法、グラビア印刷法などの印刷技術を転用してパターンを高精度に大面積で形成する方法が考えられている。これらの印刷法は多数のパターンを基板上に形成するのに適し、材料の使用量削減やコスト的にもフォトリソグラフィーより有利である。   As a technique for forming a pattern with high accuracy in an insulating film of a semiconductor element, a liquid crystal display panel, etc., a method of combining material application by spin coating and photolithography is generally used, but pattern formation is to be performed in a large area. Then, there is a big problem that the manufacturing cost becomes high in photolithography. On the other hand, as a pattern forming technique, a method of forming a pattern in a large area with high accuracy by using printing techniques such as a screen printing method, an offset printing method, a flexographic printing method, and a gravure printing method is considered. These printing methods are suitable for forming a large number of patterns on a substrate, and are more advantageous than photolithography in terms of reduction in the amount of materials used and cost.

また、近年、インクジェット印刷法が、この分野へ適用され開発が進んできている。しかしながら、現状の課題として、インクジェットノズルの目詰まり、微細パターン化、印刷スピードなどを挙げることができる。
印刷スピードの観点から、フレキソ印刷法、オフセット印刷法、グラビア印刷法、スクリーン印刷法等の印刷方法が適用され、検討されている。その中でも、特にフレキソ印刷は、樹脂凸版を用いる方法であり、インキは凸部表面に転写され、被印刷体表面には凸部が接触するため、被印刷部位には汚れが発生しないという大きな特長を有する方法である。
In recent years, the inkjet printing method has been applied to this field and has been developed. However, current problems include clogging of inkjet nozzles, fine patterning, printing speed, and the like.
From the viewpoint of printing speed, printing methods such as a flexographic printing method, an offset printing method, a gravure printing method, and a screen printing method have been applied and studied. Among them, flexographic printing is a method that uses a resin relief plate, and the ink is transferred to the surface of the convex part, and the convex part comes into contact with the surface of the printing material, so that the printing part is not stained. It is the method which has.

フレキソ印刷法は段ボール、紙器、紙袋、軟包装用フィルムなどの包装材、壁紙、化粧板などの建装材、ラベル印刷などに用いられている。フレキソ印刷で使用される印刷版の作製には,通常、感光性樹脂が用いられることが多く、液状の樹脂、又はシート状に成形された固体樹脂版を用い、ネガフィルムを感光性樹脂上に置き、ネガフィルムを通して光を照射し架橋反応を起こさせた後、非架橋部分を現像液で洗い落とすというフォトリソグラフィーを用いる方法が用いられてきた。フォトリソグラフィーを用いてパターンを形成する感光性樹脂版では、露光工程での硬化収縮や現像工程での未硬化成分の現像液中への抽出により、光硬化したパターンの中央部の厚さが薄くなるカッピングによる版の厚みむらが発生することや、版外周部が反る版反りの問題があった。厚み精度の低い印刷版を用いた場合には、印刷で得られるパターンの膜厚が不均一になり、得られる電子部品又は光学部材の性能においても不均一となってしまう。したがって、感光性樹脂版を用いる系では、得られる印刷版の厚み精度を確保することが大きな課題であった。   The flexographic printing method is used for packaging materials such as cardboard, paper containers, paper bags, and flexible packaging films, wallpaper materials, building materials such as decorative boards, and label printing. Photosensitive resins are usually used for the production of printing plates used in flexographic printing, and a negative film is placed on the photosensitive resin using a liquid resin or a solid resin plate formed into a sheet. A method using photolithography in which light is irradiated through a negative film to cause a crosslinking reaction and then a non-crosslinked portion is washed away with a developer has been used. In the photosensitive resin plate that forms a pattern using photolithography, the thickness of the central portion of the photocured pattern is reduced due to curing shrinkage in the exposure process and extraction of uncured components into the developer in the development process. There are problems of unevenness in the thickness of the plate due to the cupping and warping of the plate where the outer periphery of the plate is warped. When a printing plate with low thickness accuracy is used, the film thickness of the pattern obtained by printing becomes non-uniform, and the performance of the obtained electronic component or optical member also becomes non-uniform. Therefore, in the system using the photosensitive resin plate, it has been a big problem to ensure the thickness accuracy of the obtained printing plate.

電子部材又は光学部材の製造において、印刷法が適用されている具体的な例として、感光性樹脂凸版を使用して、ガラス基板の表面にポリイミド樹脂よりなる配向膜を印刷する方法を挙げることができる。感光性樹脂凸版は、2枚のガラス板の間にネガフィルム、カバーフフィルム、液状感光性樹脂、ベースフィルムを挟み、ネガフィルムを通して光を照射し、架橋反応を起こさせた後、非架橋部分を現像液で洗い落とすという方法が用いられてきた。このような方法で作製された感光性樹脂凸版は、凸部の厚み均一さが充分ではなく、凸部の周辺部の厚みが中央部よりも厚い、フォトリソグラフィー(写真製版技術)での光硬化収縮によるカッピング現象を有している。また、ガラス上に液状感光性樹脂を塗布し、光硬化させる方法では、ガラスのたわみや熱膨張等により大きな寸法の感光性樹脂凸版を形成することが難しかった。   As a specific example in which a printing method is applied in the production of an electronic member or an optical member, there is a method of printing an alignment film made of a polyimide resin on the surface of a glass substrate using a photosensitive resin relief plate. it can. The photosensitive resin relief plate has a negative film, a cover film, a liquid photosensitive resin, and a base film sandwiched between two glass plates. After irradiating light through the negative film to cause a crosslinking reaction, the uncrosslinked portion is developed. The method of washing off with liquid has been used. The photosensitive resin relief printing plate produced by such a method is not sufficiently uniform in the thickness of the convex portion, and the thickness of the peripheral portion of the convex portion is thicker than that of the central portion. Photocuring by photolithography (photoengraving technology) It has a cupping phenomenon due to shrinkage. Further, in the method of applying a liquid photosensitive resin on glass and photocuring it, it is difficult to form a photosensitive resin relief plate having a large size due to the deflection or thermal expansion of the glass.

例えば、特許文献1には、感光性樹脂凸版本体とベースフィルム層よりなる積層物の裏面(ベースフィルム層の裏面)に、全体に亙ってほぼ均一な厚みを有する感圧型接着剤層によって、表面が平坦な金属板又は合成樹脂板を、接着積層し貼合することにより、感光性樹脂凸版本体のカッピング現象を低減させる方法が記載されているが、プロセスが複雑であり、貼り合わせ時に気泡を巻き込み印刷版の厚み精度が低下する課題がある。また、特許文献2、特許文献3では、フォトリソグラフィーを用いて形成される感光性樹脂凸版の表面に微小なパターンを作製し、液晶配向膜の塗布に使用している。表面に形成される微小なパターンの作製工程では、露光マスク上に極めて小さなゴミや異物が存在していても、欠陥となって現れるため、非常に高いクリーンな環境での露光が必須であり、その環境維持に必要な設備も大掛かりなものであり、しかも極めて高価である。ゴミや異物によって形成される欠陥は、その後の印刷工程において、印刷不良として再現される大きな問題であった。また、製造される感光性樹脂凸版の製造収率も決して高いものではなかった。したがって、このような微細なパターンを表面に有する感光性樹脂凸版を形成することは大掛かりな高価な装置の設備投資が必須であり、不良品として廃棄される感光性樹脂凸版の量も多大なものであった。また、一度、印刷で使用され、表面のパターンが磨り減ったり欠損したりした感光性樹脂凸版を再度利用することは不可能であり、廃棄物として処理される他なかった。   For example, in Patent Document 1, a pressure-sensitive adhesive layer having a substantially uniform thickness on the entire back surface (back surface of a base film layer) of a laminate composed of a photosensitive resin relief plate body and a base film layer, A method of reducing the cupping phenomenon of the photosensitive resin relief plate body by bonding and laminating and laminating a metal plate or synthetic resin plate with a flat surface is described, but the process is complicated and air bubbles are stuck at the time of bonding. There is a problem that the thickness accuracy of the printing plate is reduced. Moreover, in patent document 2 and patent document 3, a micro pattern is produced on the surface of the photosensitive resin relief plate formed using photolithography, and it is used for application | coating of a liquid crystal aligning film. In the manufacturing process of the minute pattern formed on the surface, even if extremely small dust or foreign matter exists on the exposure mask, it appears as a defect, so exposure in a very high clean environment is essential, The equipment required to maintain the environment is also large and extremely expensive. Defects formed by dust and foreign matter have been a major problem that is reproduced as defective printing in the subsequent printing process. Further, the production yield of the photosensitive resin relief printing plate produced was never high. Therefore, forming a photosensitive resin relief plate having such a fine pattern on the surface requires a large and expensive equipment investment for the apparatus, and the amount of photosensitive resin relief plate discarded as a defective product is also large. Met. In addition, it is impossible to reuse the photosensitive resin relief printing plate once used in printing and having the surface pattern worn down or missing, and it must be treated as waste.

また、電子部材や光学部材の導体、半導体、絶縁体を形成するために用いられる電子材料又は光学材料中の溶剤成分は、印刷基材を膨潤させたり、印刷基材中の構成成分が抽出され物性が大きく変化するなどの問題があり、耐溶剤性の確保は大きな課題であった。フォトリソグラフィーを用いた感光性樹脂版では、微細パターンの形成機能が特に重要である。そのため、現像工程において用いる現像液への未硬化樹脂の溶解又は分散特性が良好であることが重要な要件あり、感光性樹脂組成物の設計において選択できる材料にも制限があった。そのため、電子材料又は光学材料中の多種多様な溶剤成分に対する耐溶剤特性に関しては決して充分であるとは言えない状況である。   In addition, solvent components in electronic materials or optical materials used to form conductors, semiconductors, and insulators of electronic and optical members can swell the printing substrate or extract constituent components in the printing substrate. There have been problems such as significant changes in physical properties, and ensuring solvent resistance has been a major issue. In the photosensitive resin plate using photolithography, the function of forming a fine pattern is particularly important. Therefore, it is important to have good dissolution or dispersion characteristics of the uncured resin in the developer used in the development step, and there are limitations on materials that can be selected in the design of the photosensitive resin composition. Therefore, it cannot be said that the solvent resistance characteristics with respect to a wide variety of solvent components in electronic materials or optical materials are sufficient.

また、近年ではレーザー彫刻法により樹脂表面に凹パターンを形成する方法が進歩しているが、凹パターンの深さが深い程、加工に多大な時間を要することが課題となっている。また、樹脂をレーザー光で溶融除去又は分解除去して凹パターンを形成する際に、粘着性の高い液状カスが多量に発生し、発生した液状カスの付着により印刷基材表面が汚染されたり表面の性状が変化したりする問題もあった。
いずれの従来技術においても、電子材料又は光学材料を塗布して電子部材又は光学部材を製造するための、耐溶剤性が高く、版厚精度の高い印刷基材を、短時間に、しかも簡便に形成できる方法は知られていなかった。
日本国特許3496086号公報 日本国特許3315063号公報 日本国特許3376908号公報
In recent years, a method of forming a concave pattern on a resin surface by a laser engraving method has progressed. However, the deeper the concave pattern is, the longer it takes to process. Also, when the resin is melted or removed with a laser beam to form a concave pattern, a large amount of highly sticky liquid residue is generated, and the surface of the printing substrate is contaminated or adhered due to the adhesion of the generated liquid residue. There was also a problem that the property of changed.
In any of the conventional techniques, a printing substrate having high solvent resistance and high plate thickness accuracy for applying an electronic material or an optical material to produce an electronic member or an optical member can be easily obtained in a short time. There was no known method that could be formed.
Japanese Patent No. 3496086 Japanese Patent No. 3315063 Japanese Patent No. 3376908

本発明は、電子材料又は光学材料の印刷に好適に用いられる版厚精度が高い印刷基材の製造方法を提供することを目的とする。更に、本発明は、電子材料又は光学材料の印刷に好適に用いられる版厚精度が高く、耐溶剤性の高い印刷基材を簡便に製造する方法を提供することを目的とする。また、本発明は、電子材料又は光学材料層が均一に設けられた電子材料部材又は光学材料部材の製造方法を提供すること、使用された印刷基材を簡便に再生する方法を提供することを別の目的とする。   An object of this invention is to provide the manufacturing method of the printing base material with high plate | board thickness precision used suitably for printing of an electronic material or an optical material. Furthermore, an object of the present invention is to provide a method for easily producing a printing substrate having high plate thickness accuracy and high solvent resistance, which is suitably used for printing electronic materials or optical materials. Moreover, this invention provides the manufacturing method of the electronic material member or optical material member in which the electronic material or the optical material layer was provided uniformly, and the method of reproducing | regenerating the used printing base material simply. Another purpose.

本発明者らは、円筒状に形成した樹脂硬化物に凹パターンを形成することが版厚精度の
高い印刷基材を得るために有効であることに着目して検討を進めた結果、凹パターン形成
に先立ち、樹脂硬化物層の表面に、切削、研削、研磨から選択される少なくとも1種類の方法を使用して、前記樹脂硬化物層の厚み、粗度を調整すること、形成された樹脂硬化物層表面に形成される凹パターンであって、円筒状支持体の長軸方向及び円周方向に配列する印刷パターンである凸部のパターン間に存在する、溝状の凹パターン形成を切削、研削等により行うこと、更には、感光性樹脂組成物を円筒状に塗布することにより、版厚精度の高い印刷基材が得られることを見出した。
As a result of studying the inventors, paying attention to the fact that forming a concave pattern on a cured resin formed into a cylindrical shape is effective for obtaining a printing substrate with high plate thickness accuracy, the concave pattern Prior to formation, the thickness and roughness of the cured resin layer are adjusted on the surface of the cured resin layer using at least one method selected from cutting, grinding, and polishing , and the formed resin Cutting a groove-shaped concave pattern formed on the surface of the cured product layer, which exists between the convex patterns that are printed patterns arranged in the major axis direction and the circumferential direction of the cylindrical support. , be carried out by grinding like, further, by applying a photosensitive resin composition into a cylindrical shape, it found that high printing substrate of the plate thickness accuracy can be obtained.

すなわち、 本発明は下記の通りである。
1.(a)円筒状支持体表面に樹脂硬化物層を形成する工程、(b)得られた樹脂硬化物
層の表面に、切削、研削、研磨から選択される少なくとも1種類の方法を使用して、前記樹脂硬化物層の厚み、粗度を調整する工程、(c)形成された樹脂硬化物層表面に形成される凹パターンであって、円筒状支持体の長軸方向及び円周方向に配列する印刷パターンである凸部のパターン間に存在する、溝状の凹パターンを形成する凹パターン形成工程を含み、前記工程(c)の凹パターンを形成する方法が、切削、研削から選択される少なくとも1種類の方法であり、前記円筒状支持体を円周方向へ回転させながら溝状の凹パターンを形成する工程および前記円筒状支持体を固定して該円筒状支持体の長軸方向へ溝状の凹パターンを形成する工程を含み、更に前記溝状の凹パターンが、幅0.05mm以上50mm以下、深さ0.05mm以上20mm以下の直線状のパターンであることを特徴とする印刷基材の製造方法。
2.前記工程(b)により、樹脂硬化物層の厚み精度を30μm以下とする、上記1.に記載の印刷基材の製造方法。
3.前記工程(a)が(d)シート状支持体を円筒状支持体表面に巻きつける工程、(e)円筒状支持体表面に巻きつけられたシート状支持体上に樹脂組成物を塗布し樹脂組成物層を形成する工程、(f)形成された樹脂組成物層を硬化させ樹脂硬化物層を形成する工程を含むこと、かつ前記工程(c)の後に、(g)樹脂硬化物層を前記円筒状支持体の長軸方向に切断することによりシート状に加工する工程を含む、上記1.又は2に記載の印刷基材の製造方法。
4.前記工程(e)の樹脂組成物が感光性樹脂組成物であること、前記工程(f)の硬化が該感光性樹脂組成物に高エネルギー線を照射することによる硬化である上記3.に記載の印刷基材の製造方法。
5.前記感光性樹脂組成物が20℃において液状であって、ポリカーボネート骨格、ポリエステル骨格、脂肪族炭化水素骨格から選択される少なくとも1種類の分子骨格を有し、かつウレタン結合、アミド結合、イミド結合から選択される少なくとも1種類の結合を有する化合物を含有することを特徴とする上記4.に記載の印刷基材の製造方法。
6.前記シート状支持体上に樹脂組成物を塗布する方法が、ドクターブレード塗布法、ダイ押し出し法、スプレー塗布法、グラビアコート法、ロールコート法から選択される少なくとも1種類の方法であることを特徴とする上記3.〜5.のいずれかに記載の印刷基材の製造方法。
7.前記(b)の工程における、前記樹脂硬化物層の表面に、切削、研削、研磨から選択される少なくとも1種類の方法を使用して、前記樹脂硬化物層の厚み、粗度を調整する工程が、円筒状支持体を円周方向に回転させながら行われることを特徴とする上記1.〜6.いずれかに記載の印刷基材の製造方法。
8.上記1.〜7.のいずれかに記載の方法を用いて作製された印刷基材。
9.液状の電子材料又は光学材料を塗布するために使用されることを特徴とする上記8.に記載の印刷基材。
10.上記8.に記載の印刷基材を、印刷機の円筒状印刷胴に取りつける工程、液状の電子材料又は光学材料を該印刷基材表面に付着させ、被印刷基材上に転写させる工程、前記電子材料又は光学材料を前記被印刷基材上に固定化する工程を含むことを特徴とする電子部材又は光学部材を製造する方法。
11.前記電子材料又は光学材料が、芳香族炭化水素化合物、含窒素炭化水素化合物、エステル化合物、アミド化合物、グリコールモノエーテル化合物、含ハロゲン炭化水素化合物から選択される少なくとも1種類の化合物を溶剤成分全重量の20wt%以上含有することを特徴とする上記10.に記載の電子部材又は光学部材を製造する方法。
12.前記被印刷基材が、ガラス板、セラミックス板、フィルム、金属板、紙から選択される少なくとも1種類の基材であることを特徴とする上記10.又は11.に記載の電子部材又は光学部材を製造する方法。
13.印刷工程において使用された上記8.に記載の印刷基材を円筒状支持体上に装着した後、該円筒状支持体を円周方向に回転させながら、該印刷基材の表面を再度調整することを特徴とする印刷基材の再生方法。
That is, the present invention is as follows.
1. (A) a step of forming a cured resin layer on the surface of the cylindrical support, (b) at least one method selected from cutting, grinding, and polishing on the surface of the obtained cured resin layer. , the step of adjusting the thickness of the cured resin layer, the roughness, (c) a concave pattern formed on the formed cured resin layer table surface, the major axis direction and the circumferential direction of the cylindrical support present between the pattern of the convex portion is a print pattern sequence comprises a concave pattern forming step of forming a groove-like concave pattern, a method of forming a concave pattern of the step (c), cutting, Ken or cutting Ri least one method der are al selected, the cylindrical support body of the step and the cylindrical support to form a groove-shaped concave patterns while rotating in the circumferential direction to secure the cylindrical support Forming a groove-like concave pattern in the major axis direction of It said groove-like concave pattern, width 0.05mm or less than 50mm, a method of manufacturing a printed substrate, characterized in 20mm following linear pattern der Rukoto more depth 0.05mm to.
2. The more step (b), the thickness accuracy of the resin cured product layer and 30μm or less, the 1. Method of manufacturing a printed substrate according to.
3. The step (a) includes (d) a step of winding the sheet-like support around the surface of the cylindrical support, and (e) applying a resin composition onto the sheet-like support wound around the surface of the cylindrical support and applying a resin. forming a composition layer, after (f) curing the resin composition layer formed may include a step of forming a cured resin layer, and wherein step (c), (g) of the cured resin layer Including the step of processing into a sheet by cutting in the longitudinal direction of the cylindrical support. Or the manufacturing method of the printing base material of 2 .
4). 2. The resin composition in the step (e) is a photosensitive resin composition, and the curing in the step (f) is curing by irradiating the photosensitive resin composition with high energy rays . The manufacturing method of the printing base material as described in 2.
5. The photosensitive resin composition is liquid at 20 ° C., has at least one molecular skeleton selected from a polycarbonate skeleton, a polyester skeleton, and an aliphatic hydrocarbon skeleton, and includes a urethane bond, an amide bond, and an imide bond. 3. A compound having at least one type of bond selected . The manufacturing method of the printing base material as described in 2.
6). The method of coating the resin composition on the sheet-like support is at least one method selected from a doctor blade coating method, a die extrusion method, a spray coating method, a gravure coating method, and a roll coating method. The above 3. ~ 5. The manufacturing method of the printing base material in any one of.
7). In step (b), the surface of the cured resin layer, cutting, grinding, using at least one method selected from grinding, the thickness of the cured resin layer, the step of adjusting the roughness Is performed while rotating the cylindrical support in the circumferential direction. ~ 6. The manufacturing method of the printing base material in any one.
8). Above 1. ~ 7. The printing base material produced using the method in any one of.
9. 7. The above-mentioned 8, which is used for applying a liquid electronic material or optical material . The printing base material as described in.
10. Above 8. A step of attaching the printing base material described in the above to a cylindrical printing cylinder of a printing machine, a step of attaching a liquid electronic material or optical material to the surface of the printing base material, and transferring it onto the printing base material, the electronic material or A method for producing an electronic member or an optical member, comprising a step of immobilizing an optical material on the substrate to be printed.
11. The electronic material or the optical material contains at least one compound selected from an aromatic hydrocarbon compound, a nitrogen-containing hydrocarbon compound, an ester compound, an amide compound, a glycol monoether compound, and a halogen-containing hydrocarbon compound as a total solvent component The above-mentioned 10. characterized by containing 20 wt% or more . A method for producing the electronic member or the optical member according to the above.
12 10. The above-mentioned 10. The substrate to be printed is at least one kind of substrate selected from a glass plate, a ceramic plate, a film, a metal plate, and paper . Or 11. A method for producing the electronic member or the optical member according to the above.
13. The above-mentioned 8. used in the printing process . After the printing substrate according to the above is mounted on a cylindrical support, the surface of the printing substrate is adjusted again while rotating the cylindrical support in the circumferential direction. Playback method.

本発明によれば、版厚精度が高く、耐溶剤性の高い印刷基材を短時間に製造できる。更に、本発明によれば、使用済みの印刷基材を再生しながら印刷基材を製造することも可能である。   According to the present invention, a printing substrate having high plate thickness accuracy and high solvent resistance can be produced in a short time. Furthermore, according to this invention, it is also possible to manufacture a printing base material, reproducing | regenerating a used printing base material.

以下、さらに詳細に本発明の好ましい実施態様を説明する。
[印刷基材の製造方法]
本発明の印刷基材は、(a)円筒状支持体表面に樹脂硬化物層を形成する工程、(b)得られた樹脂硬化物層の表面を調整する工程、(c)調整された樹脂硬化物層表面に凹パターンを形成する工程を経て製造される。
円筒状支持体上に樹脂硬化物層を形成する工程(a)では、円筒状支持体上に未硬化状態の樹脂組成物を塗布し、その後、硬化させる方法、又は別途形成されたシート状樹脂硬化物層を円筒状支持体上に巻きつける方法などを採用することができる。用いられる円筒状支持体としては、金属製シリンダー、ゴム製ロール、繊維強化プラスチック製スリーブなどを挙げることができる。
Hereinafter, preferred embodiments of the present invention will be described in more detail.
[Manufacturing method of printing substrate]
The printing substrate of the present invention includes (a) a step of forming a cured resin layer on the surface of a cylindrical support, (b) a step of adjusting the surface of the obtained cured resin layer, and (c) an adjusted resin. It is manufactured through a step of forming a concave pattern on the surface of the cured product layer.
In the step (a) of forming the cured resin layer on the cylindrical support, a method of applying an uncured resin composition on the cylindrical support and then curing, or a separately formed sheet-shaped resin For example, a method of winding the cured product layer on a cylindrical support can be employed. Examples of the cylindrical support used include a metal cylinder, a rubber roll, and a fiber reinforced plastic sleeve.

版厚精度を一層向上する点からは、工程(a)において、樹脂組成物を円筒状に塗布した後、硬化することが好ましい。例えば、シート状支持体を用いる場合には、上記(a)工程が、(d)シート状支持体を円筒状支持体表面に巻きつける工程、(e)円筒状支持体表面に巻きつけられたシート状支持体上に樹脂組成物を塗布し樹脂組成物層を形成する工程、(f)形成された樹脂組成物層を硬化させ樹脂硬化物層を形成する工程を含むことが好ましい。円筒状の樹脂硬化物層を形成する工程を経て、その後シート状の樹脂硬化物層に加工することにより、厚み精度が極めて高く、更に、均一な表面粗さを有する印刷基材を得ることが可能となる。   From the viewpoint of further improving the plate thickness accuracy, it is preferable to harden after applying the resin composition in a cylindrical shape in the step (a). For example, in the case of using a sheet-like support, the step (a) includes the step (d) the step of winding the sheet-like support around the surface of the cylindrical support, and the step (e) wound around the surface of the cylindrical support. It is preferable to include a step of applying a resin composition on a sheet-like support to form a resin composition layer, and (f) a step of curing the formed resin composition layer to form a cured resin layer. Through a process of forming a cylindrical resin cured product layer and then processing into a sheet-shaped resin cured product layer, it is possible to obtain a printing substrate having extremely high thickness accuracy and a uniform surface roughness. It becomes possible.

樹脂組成物を塗布する方法は、ドクターブレード塗布法、ダイ押し出し法、スプレー塗布法、グラビアコート法、ロールコート法から選択される少なくとも1種類の方法であることが好ましい。
シート状支持体を用いる場合、円筒状支持体は、シート状支持体の少なくとも1方の端部を保持する機構を有するか、円筒状支持体表面の少なくとも一部分にシート状支持体を固定するための接着剤層が形成されていることが好ましい。シート状支持体の少なくとも1方の端部を保持するための機構として、オフセット印刷機においてシート状ブランケットをブランケット胴にクランプするクランプ機構、シート状印刷版を版胴にクランプするクランプ機構を具体的な例として挙げることができる。これらのクランプ機構については、印刷学会出版部発行の「新・印刷機械入門」(2001年10月31日発行、69ページから72ページ)に詳細の記載がある。また、シート状支持体を固定するための接着剤層は、円筒状支持体表面全面に形成されていても構わないが、シート状支持体を貼り付ける場合に空気を巻き込んだりする可能性があるので、円筒状支持体の長軸方向へ帯状に接着剤層が形成されていることがより好ましい。接着剤層表面の粘着性は、特に限定しないが、少なくとも円筒状支持体を円周方向に回転させた場合に、シート状支持体が剥がれ落ちない程度の粘着性は必要である。
The method of applying the resin composition is preferably at least one method selected from a doctor blade coating method, a die extrusion method, a spray coating method, a gravure coating method, and a roll coating method.
When using a sheet-like support, the cylindrical support has a mechanism for holding at least one end of the sheet-like support, or for fixing the sheet-like support to at least a part of the surface of the cylindrical support. It is preferable that an adhesive layer is formed. As a mechanism for holding at least one end of the sheet-like support, a clamp mechanism for clamping the sheet-like blanket to the blanket cylinder in an offset printing machine, and a clamp mechanism for clamping the sheet-like printing plate to the plate cylinder are concrete. An example is given. Details of these clamping mechanisms are described in “Introduction to New Printing Machinery” (published October 31, 2001, pages 69 to 72) published by the Japan Printing Society Press. In addition, the adhesive layer for fixing the sheet-like support may be formed on the entire surface of the cylindrical support, but there is a possibility that air may be involved when the sheet-like support is attached. Therefore, it is more preferable that the adhesive layer is formed in a band shape in the major axis direction of the cylindrical support. The tackiness of the surface of the adhesive layer is not particularly limited, but it is necessary that the tackiness is such that the sheet-like support does not peel off at least when the cylindrical support is rotated in the circumferential direction.

シート状支持体を用いる場合、本発明の製造方法は、g)樹脂硬化物層を前記円筒状支持体の長軸方向に切断することによりシート状に加工する工程を含むことが好ましい。工程(g)において樹脂硬化物層を切断する方法としては、刃物の刃を円筒状支持体の長軸方向に移動させて切断する方法、赤外線レーザー等のレーザー光を円筒状支持体の長軸方向に移動させて切断する方法等を挙げることができる。
樹脂硬化物層の表面を調整する工程(b)として、樹脂硬化物層の厚みを均一にする工程、樹脂硬化物層の表面の粗度を均一にする工程を挙げることができる。樹脂硬化物層の表面を調整する方法として、切削、研削、研磨方法を挙げることができる。これらの方法は、組み合わせて使用することができる。表面を調整する工程では、円筒状支持体を円周方向へ回転させながら切削、研削、研磨することが好ましい。これらの方法では、通常使用されるバイト、フライス刃、セラミックス製のグラインディングホイールやグラインディングロール、サンドペーパー等の研磨布や研磨紙を冶具として使用することが好ましい。
In the case of using a sheet-like support, the production method of the present invention preferably includes a step of g) processing the cured resin layer into a sheet by cutting it in the long axis direction of the cylindrical support. As a method of cutting the resin cured product layer in the step (g), a method of cutting by moving the blade of the blade in the long axis direction of the cylindrical support, a long axis of the cylindrical support using laser light such as an infrared laser, etc. Examples of the method include cutting by moving in the direction.
Examples of the step (b) of adjusting the surface of the cured resin layer include a step of making the thickness of the cured resin layer uniform and a step of making the surface roughness of the cured resin layer uniform. Examples of methods for adjusting the surface of the cured resin layer include cutting, grinding, and polishing methods. These methods can be used in combination. In the step of adjusting the surface, it is preferable to perform cutting, grinding, and polishing while rotating the cylindrical support in the circumferential direction. In these methods, it is preferable to use an abrasive cloth or abrasive paper such as a commonly used tool, a milling blade, a ceramic grinding wheel, a grinding roll, or sandpaper as a jig.

切削、研削、研磨する際に使用する冶具の材質は、加工する樹脂硬化物の種類や表面の仕上げ粗さにより変えることができる。また、切削、研削、研磨等の加工を、乾式で行うことは可能であるが、仕上がり状態や加工速度の観点から湿式で行うことが好ましい。湿式で行う場合、処理液の取り扱い性や後処理の容易性等を考慮すると水系の処理液を使用することがより好ましい。研削、研磨工程で使用されるグラインディングホイールやグラインディングロール、サンドペーパー等の研磨布や研磨紙の目の粗さは各種のものが入手することが可能である。セラミックスやダイヤモンド粒子を表面に付着させたものでは、粒子径により表面の仕上がり粗さをコントロールすることができる。特に研磨工程では、円筒状支持体を円周方向に回転させながら研磨紙を表面に接触させ円周方向に研磨すると同時に、研磨紙が左右に振動する機構を併用することにより円筒状支持体の長軸方向への研磨も行うことができる装置を入手することもできる。また、研磨紙をロールツーロール方式で徐々に送りながら研磨される表面と、新しい研磨紙が接触するようにすることもできる。研磨方法として、ブラスト加工を用いても構わない。ブラスト加工では、セラミックス、金属等の微粒子を被処理表面に高速で吹き付ける方法を挙げることができる。更に、微粒子を含んだ液状処理液を吹き付けるウエットブラス法を用いても構わない。また、切削方法では、高圧水をビーム状にして被処理表面に吹き付ける方法等を実施することもできる。   The material of the jig used for cutting, grinding, and polishing can be changed depending on the type of the cured resin to be processed and the finish roughness of the surface. Further, it is possible to perform processing such as cutting, grinding, and polishing by a dry method, but it is preferable to perform it by a wet method from the viewpoint of the finished state and the processing speed. In the case of wet processing, it is more preferable to use an aqueous processing solution in consideration of the handling property of the processing solution and the ease of post-processing. Various types of roughness can be obtained for grinding cloths and grinding papers such as grinding wheels, grinding rolls, and sand papers used in the grinding and polishing processes. When ceramics or diamond particles are attached to the surface, the finished roughness of the surface can be controlled by the particle diameter. In particular, in the polishing process, the cylindrical support is rotated by contacting the surface with the surface while rotating the cylindrical support in the circumferential direction and simultaneously polishing in the circumferential direction. An apparatus capable of performing polishing in the long axis direction can also be obtained. Further, the surface to be polished can be brought into contact with the new polishing paper while gradually feeding the polishing paper in a roll-to-roll manner. Blasting may be used as a polishing method. In the blast processing, a method of spraying fine particles such as ceramics and metal on the surface to be processed at high speed can be mentioned. Further, a wet brass method in which a liquid processing liquid containing fine particles is sprayed may be used. Moreover, in the cutting method, the method etc. which spray high pressure water on a to-be-processed surface in the shape of a beam can also be implemented.

切削、研削、研磨工程では、カスが発生するのでこれを除去することが好ましい。湿式法で実施した場合には、カスの除去は比較的容易である。また、表面に残存する粘着性のカスについては、使用する樹脂組成を分散又は溶解し易い洗浄液を用いることもできる。洗浄液としては、水系の界面活性剤を含む処理液が好ましい。好ましい界面活性剤としては、ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム、ポリオキシエチレンノニルオクチルフェニルエーテル、ポリオキシエチレンノニルフェニルエーテルスルホン酸ナトリウム、ラウリルエーテルスルホン酸ナトリウム等を挙げることができる。
上記工程(b)の表面調整後の樹脂硬化物層の厚み精度は、30μm以下であることが好ましい。より好ましくは20μm以下、更に好ましくは10μm以下である。30μm以下である場合にはより高精度の印刷が可能となり、更に低印圧での印圧も可能となるため好ましい。本発明の厚み精度において、厚み精度が30μmとは、厚み測定の平均値に対し±15μmということである。硬度の低い樹脂硬化物層の表面を調整する際には、樹脂硬化物層表面を冷却するか、円筒状支持体を冷却することが好ましい。硬度の低い樹脂硬化物の目安として、ショアA硬度で、10度以上50度以下の範囲を挙げることができる。
In the cutting, grinding, and polishing steps, waste is generated and is preferably removed. When carried out by a wet method, the removal of waste is relatively easy. For the adhesive residue remaining on the surface, a cleaning solution that easily disperses or dissolves the resin composition to be used can be used. As the cleaning liquid, a treatment liquid containing an aqueous surfactant is preferable. Preferred surfactants include sodium dodecylbenzene sulfonate, polyoxyethylene nonyl octyl phenyl ether, sodium polyoxyethylene nonyl phenyl ether sulfonate, sodium lauryl ether sulfonate, and the like.
The thickness accuracy of the cured resin layer after the surface adjustment in the step (b) is preferably 30 μm or less. More preferably, it is 20 micrometers or less, More preferably, it is 10 micrometers or less. A thickness of 30 μm or less is preferable because printing with higher accuracy is possible and printing pressure at a lower printing pressure is also possible. In the thickness accuracy of the present invention, the thickness accuracy of 30 μm means ± 15 μm with respect to the average value of thickness measurement. When adjusting the surface of the cured resin layer having low hardness, it is preferable to cool the surface of the cured resin layer or cool the cylindrical support. As an indication of a cured resin having a low hardness, a range of 10 degrees to 50 degrees in Shore A hardness can be given.

本発明の製造方法では、上記工程(b)の後、形成された樹脂硬化物層表面の少なくとも1箇所に凹パターンを形成する工程(c)を含む。ここで、表面に形成される凹パターンとは、配列するパターン間に存在する溝状のパターンであり、図2に示すように印刷基材の縁部に存在する厚みの薄い部分は含まないこととする。凹パターンの幅は、極めて短時間に凹パターンを形成することが可能となる点から、印刷基材表面において、0.05mm以上50mm以下であることが好ましい。より好ましい範囲は、0.1mm以上20mm以下、更に好ましくは0.2mm以上10mm以下である。凹パターンの断面形状は、逆三角形、逆台形、四角形、多角形、半円形、半楕円形のいずれであっても構わない。パターンの深さは特に制限はないが、電子材料又は光学材料を塗布する際に、印刷基材の凸となっているパターン表面のみが被印刷基材に接触する点から、0.05mm以上20mm以下であることが好ましく、より好ましくは0.1mm以上10mm以下、更に好ましくは0.2mm以上5mm以下である。凹パターンの深さは、印刷基材の場所によって異なっていても構わない。印刷基材表面の凸部のパターンとしては、規則的に配列したパターンであることが好ましい。形成される凹パターンは、直線状のパターンであることが好ましい。形成された凹パターンは、複数本が交差していても構わない。   In the manufacturing method of this invention, the process (c) which forms a concave pattern in the at least 1 location of the formed resin cured material layer surface after the said process (b) is included. Here, the concave pattern formed on the surface is a groove-like pattern that exists between the arranged patterns, and does not include a thin portion that exists at the edge of the printing substrate as shown in FIG. And The width of the concave pattern is preferably 0.05 mm or more and 50 mm or less on the surface of the printing substrate from the point that the concave pattern can be formed in an extremely short time. A more preferable range is 0.1 mm or more and 20 mm or less, and further preferably 0.2 mm or more and 10 mm or less. The cross-sectional shape of the concave pattern may be any of an inverted triangle, an inverted trapezoid, a quadrangle, a polygon, a semicircular, and a semielliptical. Although there is no restriction | limiting in particular in the depth of a pattern, when applying an electronic material or an optical material, 0.05 mm or more and 20 mm from the point which only the pattern surface which is the convex of a printing base material contacts a to-be-printed base material. Or less, more preferably from 0.1 mm to 10 mm, and even more preferably from 0.2 mm to 5 mm. The depth of the concave pattern may vary depending on the location of the printing substrate. The pattern of convex portions on the surface of the printing substrate is preferably a regularly arranged pattern. The formed concave pattern is preferably a linear pattern. A plurality of the recessed patterns formed may intersect.

本発明では、工程(c)の凹パターン形成は、切削、研削、研磨から選択される少なくとも1種類の方法による。これらの方法によることで、レーザー彫刻等に比べて加工速度が格段に向上する。上記方法の中でも、特に、バイト、フライス刃等を用いた切削方法、円筒状のグラインディングホイールを用いた研削方法が、加工速度の観点から好ましい。更に、これらの加工は、コンピュータにより位置制御されて実施されることが好ましい。凹パターンの形成は、一度の切削、研削、研磨操作で作製しても、複数回に分けて少しずつ深さを増して形成しても構わない。
本発明の製造方法では、平板に凹パターンを形成する方法に比較して、形成される凹パターンの深さ精度を確保できる観点から、工程(c)において、円筒状支持体を円周方向へ回転させながら凹パターンを形成する工程および/または円筒状支持体を固定して該円筒状支持体の長軸方向へ凹パターンを形成する工程を更に含むことが好ましい。
In the present invention, the formation of the concave pattern in the step (c) is performed by at least one method selected from cutting, grinding, and polishing. By using these methods, the processing speed is remarkably improved as compared with laser engraving or the like. Among the above methods, a cutting method using a cutting tool, a milling blade and the like, and a grinding method using a cylindrical grinding wheel are particularly preferable from the viewpoint of processing speed. Furthermore, it is preferable that these processes are performed with the position controlled by a computer. The concave pattern may be formed by a single cutting, grinding, and polishing operation, or may be formed by increasing the depth little by little in a plurality of times.
In the manufacturing method of the present invention, compared to the method of forming a concave pattern on a flat plate, from the viewpoint of ensuring the depth accuracy of the concave pattern to be formed, in step (c), the cylindrical support body is circumferentially arranged It is preferable to further include a step of forming a concave pattern while rotating and / or a step of fixing the cylindrical support and forming a concave pattern in the longitudinal direction of the cylindrical support.

本発明で用いる樹脂硬化物としては、感光性樹脂組成物に高エネルギー線を照射して硬化させて得られる感光性樹脂硬化物、熱硬化性樹脂を熱硬化させて得られる樹脂硬化物、ゴム系材料を加硫して得られる硬化ゴム材料等を挙げることができる。硬化速度の観点から、感光性樹脂組成物が特に好ましい。感光性樹脂組成物を硬化させるのに用いる高エネルギー線として、紫外線領域や可視光線領域に発光波長を有する光、電子線、X線、分子線等を挙げることができる。
本発明で用いる樹脂組成物として特に好ましい感光性樹脂組成物について以下に記載する。
本発明で用いる感光性樹脂組成物は、数平均分子量が1000以上50万以下の樹脂(α)、数平均分子量1000未満の重合性反応基を有する有機化合物(β)を含むことが好ましい。
感光性樹脂組成物は20℃において液状であっても固体状であっても構わないが、成形性の容易さから20℃において液状であることが特に好ましい。
Examples of the cured resin used in the present invention include a cured photosensitive resin obtained by irradiating and curing a photosensitive resin composition with high energy rays, a cured resin obtained by thermally curing a thermosetting resin, and rubber. Examples thereof include a cured rubber material obtained by vulcanizing a system material. From the viewpoint of curing speed, a photosensitive resin composition is particularly preferable. Examples of the high energy rays used for curing the photosensitive resin composition include light having an emission wavelength in the ultraviolet region and visible light region, an electron beam, X-rays, and a molecular beam.
The photosensitive resin composition particularly preferred as the resin composition used in the present invention is described below.
The photosensitive resin composition used in the present invention preferably contains a resin (α) having a number average molecular weight of 1,000 to 500,000 and an organic compound (β) having a polymerizable reactive group having a number average molecular weight of less than 1,000.
The photosensitive resin composition may be liquid or solid at 20 ° C., but is preferably liquid at 20 ° C. for ease of moldability.

樹脂(α)は、20℃において液状であっても固体状であっても構わないが、成型加工性の観点から20℃で液状樹脂であることが好ましい。ここで言う液状樹脂とは、容易に流動変形し、かつ冷却により変形された形状に固化できるという性質を有する高分子体を意味し、外力を加えたときに、その外力に応じて瞬時に変形し、かつ外力を除いたときには、短時間に元の形状を回復する性質を有するエラストマーに対応する言葉である。樹脂(α)が20℃において液状樹脂である場合には、感光性樹脂組成物も20℃において液状となり、シート状、もしくは円筒状に成形する際に、良好な厚み精度や寸法精度を得ることができる。液状感光性樹脂を用いる場合、感光性樹脂組成物の粘度は、好ましくは、20℃において10Pa・s以上10kPa・s以下である。さらに好ましくは、50Pa・s以上5kPa・s以下である。粘度が10Pa・s以上であれば、作製される印刷基材の機械的強度が十分であり、円筒状に成形する際であっても形状を保持し易く、加工し易い。粘度が10kPa・s以下であれば、高温にしなくとも変形し易く、加工が容易である。シート状又は円筒状の印刷基材に成形し易く、プロセスも簡便である。特に厚み精度の高い印刷基材を得るためには、該感光性樹脂組成物が重力により液ダレ等の現象を起こさないように粘度を100Pa・s以上、より好ましくは200Pa・s以上、更に好ましくは500Pa・s以上の比較的粘度の高い感光性樹脂組成物であることが望ましい。   The resin (α) may be liquid or solid at 20 ° C., but is preferably a liquid resin at 20 ° C. from the viewpoint of moldability. The liquid resin here means a polymer that has the property of being easily deformed by flow and solidified into a deformed shape by cooling. When an external force is applied, the liquid resin is instantly deformed according to the external force. When the external force is removed, the term corresponds to an elastomer having a property of restoring the original shape in a short time. When the resin (α) is a liquid resin at 20 ° C., the photosensitive resin composition also becomes a liquid at 20 ° C., and obtains good thickness accuracy and dimensional accuracy when molded into a sheet or cylinder. Can do. When the liquid photosensitive resin is used, the viscosity of the photosensitive resin composition is preferably 10 Pa · s or more and 10 kPa · s or less at 20 ° C. More preferably, it is 50 Pa · s or more and 5 kPa · s or less. If the viscosity is 10 Pa · s or more, the mechanical strength of the produced printing substrate is sufficient, and the shape can be easily maintained and processed even when it is formed into a cylindrical shape. If the viscosity is 10 kPa · s or less, it is easy to be deformed and processed easily without increasing the temperature. It is easy to form into a sheet-like or cylindrical printing substrate, and the process is simple. In particular, in order to obtain a printing substrate with high thickness accuracy, the viscosity of the photosensitive resin composition is 100 Pa · s or more, more preferably 200 Pa · s or more, and even more preferably so that the phenomenon does not cause dripping due to gravity. Is desirably a photosensitive resin composition having a relatively high viscosity of 500 Pa · s or more.

樹脂(α)の数平均分子量は、1000以上50万以下、より好ましくは5000以20万以下、更に好ましくは1万以上10万以下である。樹脂(α)の数平均分子量は1000以上であれば、後に架橋して作製する原版が強度を保ち、印刷基材として用いる場合、繰り返しの使用にも耐えられる。また、樹脂(α)の数平均分子量の上限は、50万以下が好ましい。50万以下であれば、感光性樹脂組成物の粘度が過度に上昇することもなく、シート状、又は円筒状に成形する際に加熱押し出し等の複雑な加工方法は必要ない。ここで言う数平均分子量とは、ゲル浸透クロマトグラフィーを用いて測定し、分子量既知のポリスチレンで検量し換算した値である。   The number average molecular weight of the resin (α) is from 1,000 to 500,000, more preferably from 5,000 to 200,000, and even more preferably from 10,000 to 100,000. If the number average molecular weight of the resin (α) is 1000 or more, an original plate produced by crosslinking later maintains strength, and can be used repeatedly when used as a printing substrate. The upper limit of the number average molecular weight of the resin (α) is preferably 500,000 or less. If it is 500,000 or less, the viscosity of the photosensitive resin composition will not increase excessively, and a complicated processing method such as heat extrusion is not necessary when forming into a sheet or cylinder. The number average molecular weight referred to here is a value measured by gel permeation chromatography, calibrated with polystyrene having a known molecular weight, and converted.

樹脂(α)は、分子内に重合性不飽和基を有していても構わない。特に好ましいものとして1分子あたり平均で0.7以上の重合性不飽和基を有するポリマーを挙げることができる。1分子あたり平均で0.7以上であれば、感光性樹脂組成物より得られる印刷原版の機械強度に優れ、レーザー彫刻時にレリーフ形状が崩れ難くなる。さらにその耐久性も良好で、繰り返しの使用にも耐えられるのものとなり好ましい。印刷原版の機械強度を考慮すると、樹脂(α)の重合性不飽和基は1分子あたり0.7以上が好ましく、1を越える量が更に好ましい。樹脂(A)の重合性不飽和基の存在比率については、高分解能核磁気共鳴スペクトル法(NMR法)を用いて定量化することができる。ここで言う分子内とは高分子主鎖の末端、高分子側鎖の末端や高分子主鎖中や側鎖中に直接、重合性不飽和基が付いている場合なども含まれる。本発明の重合性不飽和基とは、ラジカルまたは付加重合反応に関与する重合性不飽和基と定義する。ラジカル重合反応に関与する重合性不飽和基の好ましい例としては、ビニル基、アセチレン基、アクリル基、メタクリル基などが挙げられる。付加重合反応に関与する重合性不飽和基の好ましい例としては、シンナモイル基、チオール基、アジド基、開環付加反応するエポキシ基、オキセタン基、環状エステル基、ジオキシラン基、スピロオルトカーボネート基、スピロオルトエステル基、ビシクロオルトエステル基、環状イミノエーテル基等が挙げられる。   The resin (α) may have a polymerizable unsaturated group in the molecule. Particularly preferred are polymers having an average of 0.7 or more polymerizable unsaturated groups per molecule. When the average is 0.7 or more per molecule, the printing original plate obtained from the photosensitive resin composition is excellent in mechanical strength, and the relief shape is difficult to collapse during laser engraving. Furthermore, its durability is good, and it can withstand repeated use, which is preferable. Considering the mechanical strength of the printing original plate, the polymerizable unsaturated group of the resin (α) is preferably 0.7 or more per molecule, and more preferably more than 1. The abundance ratio of the polymerizable unsaturated group in the resin (A) can be quantified using a high resolution nuclear magnetic resonance spectrum method (NMR method). The term “intramolecular” as used herein includes the case where a polymerizable unsaturated group is directly attached to the terminal of the polymer main chain, the terminal of the polymer side chain, the polymer main chain, or the side chain. The polymerizable unsaturated group of the present invention is defined as a polymerizable unsaturated group involved in a radical or addition polymerization reaction. Preferable examples of the polymerizable unsaturated group involved in the radical polymerization reaction include a vinyl group, an acetylene group, an acrylic group, and a methacryl group. Preferred examples of the polymerizable unsaturated group involved in the addition polymerization reaction include cinnamoyl group, thiol group, azide group, epoxy group that undergoes ring-opening addition reaction, oxetane group, cyclic ester group, dioxirane group, spiroorthocarbonate group, spiro An ortho ester group, a bicyclo ortho ester group, a cyclic imino ether group and the like can be mentioned.

樹脂(α)分子内に重合性不飽和基を導入する方法としては、例えば直接、重合性の不飽和基をその分子末端に導入したものを用いても良いが、別法として、水酸基、アミノ基、エポキシ基、カルボキシル基、酸無水物基、ケトン基、ヒドラジン残基、イソシアネート基、イソチオシアネート基、環状カーボネート基、エステル基などの反応性基を複数有する数千程度の分子量の上記成分の反応性基と結合しうる基を複数有する結合剤(例えば水酸基やアミノ基の場合のポリイソシアネートなど)を反応させ、分子量の調節、及び末端の結合性基への変換を行った後、この末端結合性基と反応する基と重合性不飽和基を有する有機化合物と反応させて末端に重合性不飽和基を導入する方法などの方法が好適にあげられる。   As a method for introducing a polymerizable unsaturated group into the resin (α) molecule, for example, a method in which a polymerizable unsaturated group is directly introduced at the molecular end may be used. Of the above components having a molecular weight of about several thousand having a plurality of reactive groups such as groups, epoxy groups, carboxyl groups, acid anhydride groups, ketone groups, hydrazine residues, isocyanate groups, isothiocyanate groups, cyclic carbonate groups, and ester groups. After reacting with a binder having a plurality of groups capable of binding to the reactive group (for example, polyisocyanate in the case of a hydroxyl group or an amino group), the molecular weight is adjusted and converted to a terminal binding group. A method such as a method of introducing a polymerizable unsaturated group at a terminal by reacting with an organic compound having a polymerizable unsaturated group and a group that reacts with a bonding group is preferred.

特にガラス、セラミックス等の硬い被印刷基材上に材料を塗布する場合には、樹脂(α)として、一部、ガラス転移温度が20℃以下の液状樹脂、さらに好ましくはガラス転移温度0℃以下の液状樹脂を用いることが好ましい。このような液状樹脂として、例えばポリエチレン、ポリブタジエン、水添ポリブタジエン、ポリイソプレン、水添ポイソプレン等の炭化水素類、アジペート、ポリカプロラクトン等のポリエステル類、ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール、ポリテトラメチレングリコール等のポリエーテル類、脂肪族ポリカーボネート、ポリジメチルシロキサン等のシリコーン類、(メタ)アクリル酸及び/またはその誘導体の重合体及びこれらの混合物やコポリマー類があげられる。その含有量は、樹脂(α)全体に対して30wt%以上含有することが好ましい。特に電子材料又は光学材料に含有される溶剤に対する耐性の観点から、ポリカーボネート骨格、ポリエステル骨格、脂肪族炭化水素骨格から選択される少なくとも1種類の分子骨格を有し、かつウレタン結合、アミド結合、イミド結合から選択される少なくとも1種類の結合を有する化合物を含有することが好ましい。   In particular, when a material is applied onto a hard substrate to be printed such as glass or ceramics, the resin (α) is partially a liquid resin having a glass transition temperature of 20 ° C. or lower, more preferably a glass transition temperature of 0 ° C. or lower. It is preferable to use a liquid resin. Examples of such liquid resins include hydrocarbons such as polyethylene, polybutadiene, hydrogenated polybutadiene, polyisoprene, and hydrogenated poisoprene, polyesters such as adipate and polycaprolactone, and polymers such as polyethylene glycol, polypropylene glycol, and polytetramethylene glycol. Examples include ethers, aliphatic polycarbonates, silicones such as polydimethylsiloxane, polymers of (meth) acrylic acid and / or derivatives thereof, and mixtures and copolymers thereof. The content is preferably 30 wt% or more based on the entire resin (α). In particular, from the viewpoint of resistance to a solvent contained in an electronic material or an optical material, it has at least one molecular skeleton selected from a polycarbonate skeleton, a polyester skeleton, and an aliphatic hydrocarbon skeleton, and has a urethane bond, an amide bond, and an imide. It is preferable to contain a compound having at least one type of bond selected from bonds.

有機化合物(β)は、数平均分子量が1000未満、分子内に重合性反応基を有する化合物であることが好ましい。重合性反応基は、ラジカル重合反応、付加重合反応、開環付加重合反応に寄与する官能基である。ラジカル重合反応に関与する重合性反応基の好ましい例としては、ビニル基、アセチレン基、アクリル基、メタクリル基などが挙げられる。付加重合反応に関与する重合性反応基の好ましい例としては、シンナモイル基、チオール基、アジド基、開環付加反応するエポキシ基、オキセタン基、環状エステル基、ジオキシラン基、スピロオルトカーボネート基、スピロオルトエステル基、ビシクロオルトエステル基、環状イミノエーテル基等が挙げられる。樹脂(α)との希釈のし易さを考慮すると数平均分子量は1000以下が好ましい。有機化合物(β)は例えば、エチレン、プロピレン、スチレン、ジビニルベンゼン等のオレフィン類、アセチレン類、(メタ)アクリル酸及びその誘導体、ハロオレフィン類、アクリロニトリル等の不飽和ニトリル類、(メタ)アクリルアミド及びその誘導体、アリルアルコール、アリルイソシアネート等のアリル化合物、無水マレイン酸、マレイン酸、フマル酸等の不飽和ジカルボン酸及びその誘導体、酢酸ビニル類、N−ビニルピロリドン、N−ビニルカルバゾール、シアネートエステル類等があげられるが、その種類の豊富さ、価格等の観点から(メタ)アクリル酸及びその誘導体が好ましい例である。   The organic compound (β) is preferably a compound having a number average molecular weight of less than 1000 and having a polymerizable reactive group in the molecule. The polymerizable reactive group is a functional group that contributes to radical polymerization reaction, addition polymerization reaction, and ring-opening addition polymerization reaction. Preferable examples of the polymerizable reactive group involved in the radical polymerization reaction include a vinyl group, an acetylene group, an acrylic group, and a methacryl group. Preferred examples of the polymerizable reactive group involved in the addition polymerization reaction include a cinnamoyl group, a thiol group, an azide group, an epoxy group that undergoes a ring-opening addition reaction, an oxetane group, a cyclic ester group, a dioxirane group, a spiro ortho carbonate group, and a spiro ortho group. Examples include an ester group, a bicycloorthoester group, and a cyclic imino ether group. Considering the ease of dilution with the resin (α), the number average molecular weight is preferably 1000 or less. Examples of the organic compound (β) include olefins such as ethylene, propylene, styrene and divinylbenzene, acetylenes, (meth) acrylic acid and derivatives thereof, haloolefins, unsaturated nitriles such as acrylonitrile, (meth) acrylamide and Derivatives thereof, allyl compounds such as allyl alcohol and allyl isocyanate, unsaturated dicarboxylic acids such as maleic anhydride, maleic acid and fumaric acid and derivatives thereof, vinyl acetates, N-vinylpyrrolidone, N-vinylcarbazole, cyanate esters, etc. However, (meth) acrylic acid and its derivatives are preferred examples from the viewpoints of the abundance of their types and price.

有機化合物(β)の分子構造として、シクロアルキル骨格、ビシクロアルキル骨格、シクロアルケン骨格、ビシクロアルケン骨格などの脂環族炭化水素骨格、ベンジル基、フェニル基、フェノキシ基、ナフチル基、ピレニル基等を有する芳香族炭化水素骨格、アルキル基、ハロゲン化アルキル基、アルコキシアルキル基、ヒドロキシアルキル基、アミノアルキル基、テトラヒドロフルフリル基、グリシジル基等を有する分子構造、アルキレングリコール、ポリオキシアルキレングリコール、ポリアルキレングリコールやトリメチロールプロパン等の多価アルコールのエステル化合物などがあげられる。
本発明において、これら重合性反応基を有する有機化合物(β)は、その目的に応じて1種若しくは2種以上のものを選択できる。印刷基材として電子材料又は光学材料を塗布する場合、該電子材料又は光学材料に含まれる溶剤に対する膨潤を押さえるために用いる有機化合物として長鎖脂肪族、脂環族または芳香族の誘導体を少なくとも1種類以上有することが好ましい。
The molecular structure of the organic compound (β) includes an alicyclic hydrocarbon skeleton such as a cycloalkyl skeleton, a bicycloalkyl skeleton, a cycloalkene skeleton, and a bicycloalkene skeleton, a benzyl group, a phenyl group, a phenoxy group, a naphthyl group, and a pyrenyl group. Aromatic hydrocarbon skeleton, alkyl group, halogenated alkyl group, alkoxyalkyl group, hydroxyalkyl group, aminoalkyl group, tetrahydrofurfuryl group, molecular structure having glycidyl group, alkylene glycol, polyoxyalkylene glycol, polyalkylene Examples thereof include ester compounds of polyhydric alcohols such as glycol and trimethylolpropane.
In the present invention, the organic compound (β) having a polymerizable reactive group can be selected from one or more types according to the purpose. When an electronic material or an optical material is applied as a printing substrate, at least one long-chain aliphatic, alicyclic or aromatic derivative is used as an organic compound used to suppress swelling with respect to a solvent contained in the electronic material or optical material. It is preferable to have more than one type.

本発明の有機化合物(β)の数平均分子量(Mn)の測定方法について説明する。有機化合物(β)が溶解する溶剤に溶かし、ゲル浸透クロマトグラフィー(GPC法)で分析し、分子量既知の標準ポリスチレンに対して換算して数平均分子量(Mn)を算出する。分子量分布の広い化合物については、この方法で求める。分子量分布に関する尺度として、数平均分子量(Mn)と、Mnと同時に算出される重量平均分子量(Mw)の比、すなわち多分散度(Mw/Mn)を用いる。多分散度が1.1以上である場合、分子量分布が広いとして、GPC法で求められる数平均分子量を採用する。また、多分散度が1.1未満のものは分子量分布が極めて狭いため、分子構造解析が可能であり、核磁気共鳴スペクトル法(NMR法)又は質量分析法を用いて算出した分子量を数平均分子量とする。   A method for measuring the number average molecular weight (Mn) of the organic compound (β) of the present invention will be described. It is dissolved in a solvent in which the organic compound (β) is dissolved, analyzed by gel permeation chromatography (GPC method), and converted to standard polystyrene with a known molecular weight to calculate the number average molecular weight (Mn). This method is used for compounds having a wide molecular weight distribution. As a measure for the molecular weight distribution, the ratio of the number average molecular weight (Mn) and the weight average molecular weight (Mw) calculated simultaneously with Mn, that is, the polydispersity (Mw / Mn) is used. When the polydispersity is 1.1 or more, the number average molecular weight determined by the GPC method is adopted on the assumption that the molecular weight distribution is wide. In addition, those having a polydispersity of less than 1.1 have a very narrow molecular weight distribution, so that molecular structure analysis is possible, and the number average molecular weight calculated using nuclear magnetic resonance spectroscopy (NMR method) or mass spectrometry is used. The molecular weight.

本発明の樹脂組成物より得られる印刷基材の機械強度を高めるためには、有機化合物(β)としては脂環族炭化水素骨格または芳香族炭化水素骨格を有する化合物を少なくとも1種類以上有することが好ましく、この場合、有機化合物(β)の全体量の20wt%以上であることが好ましく、更に好ましくは50wt%以上である。
本発明の樹脂組成物として熱硬化性樹脂組成物、加硫ゴム系材料を用いる場合には、熱を用いて樹脂硬化物を得る。高温の反応槽内に設置する方法、赤外線ランプ等を用いて直接加熱する方法等を挙げることができる。
本発明の樹脂組成物として感光性樹脂組成物を用いる場合、該感光性樹脂組成物を光、すなわち紫外線又は可視光線、もしくは電子線の照射により硬化させる方法が好ましい。紫外線又は可視光線を用いて光硬化させる場合には、光重合開始剤を添加する事が出来る。光重合開始剤は一般に使用されているものから選択でき、例えば高分子学会編「高分子データ・ハンドブックー基礎編」1986年培風館発行、に例示されているラジカル重合、カチオン重合、アニオン重合の光重合開始剤などが使用できる。ラジカル重合反応を誘起させる光重合開始剤としては、水素引き抜き型光重合開始剤と崩壊形光重合開始剤が、特に効果的な光重合開始剤として用いられる。
In order to increase the mechanical strength of the printing substrate obtained from the resin composition of the present invention, the organic compound (β) has at least one compound having an alicyclic hydrocarbon skeleton or an aromatic hydrocarbon skeleton. In this case, it is preferably 20 wt% or more of the total amount of the organic compound (β), more preferably 50 wt% or more.
When a thermosetting resin composition or a vulcanized rubber material is used as the resin composition of the present invention, a cured resin product is obtained using heat. The method of installing in a high temperature reaction tank, the method of heating directly using an infrared lamp etc. can be mentioned.
When a photosensitive resin composition is used as the resin composition of the present invention, a method of curing the photosensitive resin composition by irradiation with light, that is, ultraviolet rays, visible rays, or electron beams is preferable. When photocuring using ultraviolet rays or visible light, a photopolymerization initiator can be added. The photopolymerization initiator can be selected from those commonly used. For example, photopolymerization of radical polymerization, cationic polymerization, and anionic polymerization exemplified in “Polymer Data Handbook-Basic Edition” edited by the Society of Polymer Science, published in 1986 by Fufukan. A polymerization initiator can be used. As a photopolymerization initiator for inducing a radical polymerization reaction, a hydrogen abstraction type photopolymerization initiator and a decay type photopolymerization initiator are used as particularly effective photopolymerization initiators.

水素引き抜き型光重合開始剤として、特に限定するものではないが、芳香族ケトンを用いることが好ましい。芳香族ケトンは光励起により効率よく励起三重項状態になり、この励起三重項状態は周囲の媒体から水素を引き抜いてラジカルを生成する化学反応気候が提案されている。生成したラジカルが光架橋反応に関与するものと考えられる。本発明で用いる水素引き抜き型光重合開始剤として励起三重項状態を経て周囲の媒体から水素を引き抜いてラジカルを生成する化合物であればなんでも構わない。芳香族ケトンとして、ベンゾフェノン類、ミヘラーケトン類、キサンテン類、チオキサントン類、アントラキノン類を挙げることが出来、これらの群から選ばれる少なくとも1種類の化合物を用いることが好ましい。   Although it does not specifically limit as a hydrogen abstraction type photoinitiator, It is preferable to use an aromatic ketone. Aromatic ketone is efficiently converted into an excited triplet state by photoexcitation, and a chemical reaction climate is proposed in which this excited triplet state extracts radicals from surrounding media to generate radicals. The generated radical is considered to be involved in the photocrosslinking reaction. Any compound can be used as the hydrogen abstraction type photopolymerization initiator used in the present invention as long as it is a compound capable of generating hydrogen by extracting hydrogen from the surrounding medium through an excited triplet state. Examples of aromatic ketones include benzophenones, miherer ketones, xanthenes, thioxanthones, and anthraquinones, and it is preferable to use at least one compound selected from these groups.

ベンゾフェノン類とは、ベンゾフェノン或いはその誘導体を指し、具体的には3,3’,4,4’−ベンゾフェノンテトラカルボン酸無水物、3,3’,4,4’−テトラメトキシベンゾフェノン等である。ミヘラーケトン類とは、ミヘラーケトンおよびその誘導体をいう。キサンテン類とは,キサンテンおよびアルキル基、フェニル基、ハロゲン基で置換された誘導体をいう。チオキサントン類とは、チオキサントンおよびアルキル基、フェニル基、ハロゲン基で置換された誘導体をさし、エチルチオキサントン、メチルチオキサントン、クロロチオキサントン等を挙げることが出来る。アントラキノン類とは、アントラキノンおよびアルキル基、フェニル基、ハロゲン基等で置換された誘導体をいう。水素引き抜き型光重合開始剤の添加量は、感光性樹脂組成物全体量の0.1wt%以上10wt%以下が好ましく、より好ましくは0.5wt%以上5wt%以下である。添加量がこの範囲であれば、液状感光性樹脂組成物を大気中で硬化させた場合にも、硬化物表面の硬化性は十分確保でき、また、耐光性を確保することが出来るので好ましい。   Benzophenones refer to benzophenone or derivatives thereof, specifically 3,3 ', 4,4'-benzophenone tetracarboxylic anhydride, 3,3', 4,4'-tetramethoxybenzophenone, and the like. Miherer ketones refer to miherer ketone and its derivatives. Xanthenes refer to derivatives substituted with xanthene and an alkyl group, phenyl group, or halogen group. Thioxanthones refer to thioxanthone and derivatives substituted with an alkyl group, a phenyl group, and a halogen group, and examples thereof include ethylthioxanthone, methylthioxanthone, and chlorothioxanthone. Anthraquinones are anthraquinone and derivatives substituted with an alkyl group, a phenyl group, a halogen group, or the like. The addition amount of the hydrogen abstraction type photopolymerization initiator is preferably 0.1 wt% or more and 10 wt% or less, more preferably 0.5 wt% or more and 5 wt% or less of the total amount of the photosensitive resin composition. When the addition amount is within this range, even when the liquid photosensitive resin composition is cured in the air, the curability of the cured product surface can be sufficiently secured, and light resistance can be secured, which is preferable.

崩壊型光重合開始剤とは、光吸収後に分子内で開裂反応が発生し活性なラジカルが生成する化合物を指し、特に限定するものではない。具体的には、ベンゾインアルキルエーテル類、2,2−ジアルコキシー2−フェニルアセトフェノン類、アセトフェノン類、アシルオキシムエステル類、アゾ化合物類、有機イソウ化合物類、ジケトン類等を挙げることが出来、これらの群から選ばれる少なくとも1種類の化合物を用いることが好ましい。ベンゾインアルキルエーテル類としては、ベンゾインイソプロピルエーテル、べンゾインイソブチルエーテル、「感光性高分子」(講談社、1977年出版、頁228)に記載の化合物を挙げることが出来る。2,2−ジアルコキシ−2−フェニルアセトフェノン類としては、2,2−ジメトキシ−2−フェニルアセトフェノン、2,2−ジエトキシ−2−フェニルアセトフェノン等を挙げることが出来る。   The decay type photopolymerization initiator refers to a compound in which an active radical is generated by generating a cleavage reaction in the molecule after light absorption, and is not particularly limited. Specific examples include benzoin alkyl ethers, 2,2-dialkoxy-2-phenylacetophenones, acetophenones, acyloxime esters, azo compounds, organic isotope compounds, diketones, and the like. It is preferable to use at least one compound selected from the group consisting of: Examples of benzoin alkyl ethers include benzoin isopropyl ether, benzoin isobutyl ether, and compounds described in “Photosensitive polymer” (Kodansha, 1977, page 228). Examples of 2,2-dialkoxy-2-phenylacetophenones include 2,2-dimethoxy-2-phenylacetophenone and 2,2-diethoxy-2-phenylacetophenone.

アセトフェノン類としては、アセトフェノン、トリクロロアセトフェノン、1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルアセトフェノン、2,2−ジエトキシアセトフェノン等を挙げることが出来る。アシルオキシムエステル類としては、1−フェニルー1,2−プロパンジオン−2−(o−ベンゾイル)オキシム等を挙げることが出来る。アゾ化合物としては、アゾビスイソブチロニトリル、ジアゾニウム化合物、テトラゼン化合物等を挙げることが出来る。有機イオウ化合物としては、芳香族チオール、モノおよびジスルフィド、チウラムスルフィド、ジチオカルバメート、S−アシルジチオカルバメート、チオスルホネート、スルホキシド、スルフェネート、ジチオカルボネート等を挙げることが出来る。ジケトン類としては、ベンジル、メチルベンゾイルホルメート等を挙げることが出来る。崩壊型光重合開始剤の添加量は、感光性樹脂組成物全体量の0.1wt%以上10wt%以下が好ましく、より好ましくは0.3wt%以上3wt%以下である。添加量がこの範囲であれば、感光性樹脂組成物を大気中で光硬化させた場合にも、硬化物内部の硬化性は十分に確保出来るので好ましい。   Examples of acetophenones include acetophenone, trichloroacetophenone, 1-hydroxycyclohexylphenylacetophenone, 2,2-diethoxyacetophenone, and the like. Examples of acyl oxime esters include 1-phenyl-1,2-propanedione-2- (o-benzoyl) oxime. Examples of the azo compound include azobisisobutyronitrile, diazonium compound, and tetrazene compound. Examples of organic sulfur compounds include aromatic thiols, mono- and disulfides, thiuram sulfides, dithiocarbamates, S-acyl dithiocarbamates, thiosulfonates, sulfoxides, sulfinates, dithiocarbonates, and the like. Examples of diketones include benzyl and methylbenzoyl formate. The addition amount of the collapsible photopolymerization initiator is preferably 0.1 wt% or more and 10 wt% or less, more preferably 0.3 wt% or more and 3 wt% or less of the total amount of the photosensitive resin composition. If the addition amount is within this range, it is preferable because the curability inside the cured product can be sufficiently secured even when the photosensitive resin composition is photocured in the air.

特に酸素濃度が5vol%以上である雰囲気において光硬化させたいラジカル重合系の感光性樹脂組成物の場合、光重合開始剤として、水素引き抜き型光重合開始剤と崩壊型光重合開始剤との組み合わせ、又は同一分子内に水素引き抜き型光重合開始剤として機能する部位と崩壊型光重合開始剤として機能する部位を両方有する光重合開始剤を使用することが好ましい。酸素を5vol%以上含有する雰囲気においては、酸素による硬化阻害のため特に表面近傍の硬化が不十分となる問題があった。そのため、硬化阻害を防止するために、不活性ガス雰囲気、水中の雰囲気、又は感光性樹脂組成物の表面を光透過性フィルムで被覆し、酸素を遮断するなどの特別な工夫が必要であり、露光するための装置においても特別な機構を取り付ける必要があった。特に円筒状の感光性樹脂硬化物層を形成する際には、極めて複雑な機構が必要となる。   In particular, in the case of a radical polymerization type photosensitive resin composition to be photocured in an atmosphere having an oxygen concentration of 5 vol% or more, a combination of a hydrogen abstraction type photopolymerization initiator and a decay type photopolymerization initiator as a photopolymerization initiator. Alternatively, it is preferable to use a photopolymerization initiator having both a site functioning as a hydrogen abstraction type photopolymerization initiator and a site functioning as a decay type photopolymerization initiator in the same molecule. In an atmosphere containing 5 vol% or more of oxygen, there is a problem that the curing in the vicinity of the surface is insufficient due to the inhibition of curing by oxygen. Therefore, in order to prevent curing inhibition, special measures such as inert gas atmosphere, underwater atmosphere, or covering the surface of the photosensitive resin composition with a light transmissive film and blocking oxygen are necessary, It is necessary to attach a special mechanism to the exposure apparatus. In particular, when forming a cylindrical photosensitive resin cured product layer, an extremely complicated mechanism is required.

樹脂(α)又は有機化合物(β)が、分子鎖中に存在する酸素原子又は窒素原子に対しα位に存在する水素原子を有する化合物、チオールのような硫黄原子に直接結合している水素原子を有する化合物を、感光性樹脂組成物全体量の少なくとも20wt%以上含有することが好ましい。より好ましくは40wt%以上である。前記酸素原子の由来原子団としては、アルコール、エーテル、エステル、カーボネート等を挙げることができ、また前記窒素原子の由来原子団としてはウレタン、ウレア、アミド等を挙げることができる。詳しい反応メカニズムは明確ではないが、樹脂(α)又は有機化合物(β)の分子中に存在する前記α位水素や硫黄原子に直接結合している水素を、水素引き抜き型光重合開始剤の励起三重項状態が効率良く引き抜く反応によりラジカル種が発生し、生成したラジカル種が架橋反応に寄与するためと考えられる。水素引き抜き型光重合開始剤は200nm〜300nmの波長領域に強い光吸収を示す化合物が多く、これらの光は感光性樹脂組成物層内部で急速に減衰するため、特に表面での効率が高いものと推定される。
その他、本発明の樹脂組成物には用途や目的に応じて重合禁止剤、紫外線吸収剤、染料、顔料、滑剤、界面活性剤、可塑剤、香料などを添加することができる。
Hydrogen atom in which resin (α) or organic compound (β) is directly bonded to a sulfur atom such as thiol, a compound having a hydrogen atom that is in the α position with respect to an oxygen atom or nitrogen atom present in the molecular chain It is preferable to contain at least 20 wt% or more of the compound having a weight of the total amount of the photosensitive resin composition. More preferably, it is 40 wt% or more. Examples of the atomic group derived from the oxygen atom include alcohols, ethers, esters, and carbonates, and examples of the atomic group derived from the nitrogen atom include urethane, urea, and amide. Although the detailed reaction mechanism is not clear, excitation of the hydrogen abstraction-type photopolymerization initiator is performed by using the hydrogen directly bonded to the α-position hydrogen or sulfur atom existing in the resin (α) or organic compound (β) molecule. This is probably because radical species are generated by the reaction in which the triplet state is efficiently extracted, and the generated radical species contribute to the crosslinking reaction. Many hydrogen abstraction type photopolymerization initiators exhibit strong light absorption in the wavelength range of 200 nm to 300 nm, and these lights are attenuated rapidly inside the photosensitive resin composition layer. It is estimated to be.
In addition, a polymerization inhibitor, an ultraviolet absorber, a dye, a pigment, a lubricant, a surfactant, a plasticizer, a fragrance, and the like can be added to the resin composition of the present invention according to the purpose and purpose.

本発明の樹脂組成物には、無機微粒子或いは無機有機複合微粒子を添加することができる。特にこれらの粒子は多孔質体であることが好ましい。多孔質体とは、粒子中に微小細孔を有する、又は微小な空隙を有する微粒子であり、表面の調整工程において樹脂硬化物層表面には熱がかかるため、切削、研削、研磨工程において発生する粘稠性の液状カスを吸収除去することに効果があり、表面のタック防止効果も有する。
本発明の樹脂組成物をシート状、もしくは円筒状に成形する方法は、既存の樹脂の成形方法を用いることができる。例えば、ドクターブレードと塗布法、ダイ押し出し法、スプレー塗布法、グラビアコート法、ロールコート法等を挙げることができる。また、塗布した樹脂組成物層をロールによりカレンダー加工して厚みを合わせる方法等を採ることができる。その際、樹脂組成物の性能を落とさない範囲で加熱しながら成形を行なうことも可能である。PETやニッケルなどの素材からなるシート状支持体の上に成形される場合が多いが、直接印刷機のシリンダー等の円筒状支持体上に成形する場合、エアーシリンダー上に装着されたスリーブ等の中空円筒状支持体上に成形される場合もある。シート状支持体、円筒状支持体又は中空円筒状支持体の役割は、印刷基材の寸法安定性を確保することである。したがって、寸法安定性の高いものを選択する必要がある。
Inorganic fine particles or inorganic organic composite fine particles can be added to the resin composition of the present invention. In particular, these particles are preferably porous. A porous material is a fine particle with fine pores or fine voids in the particle, and heat is applied to the surface of the cured resin layer in the surface adjustment process, so it occurs in the cutting, grinding, and polishing processes. This is effective in absorbing and removing viscous liquid residue, and also has an anti-tacking effect on the surface.
As a method of molding the resin composition of the present invention into a sheet or cylinder, an existing resin molding method can be used. For example, a doctor blade and a coating method, a die extrusion method, a spray coating method, a gravure coating method, a roll coating method and the like can be exemplified. Moreover, the method etc. which carry out the calendar process of the apply | coated resin composition layer with a roll, and match | combine thickness can be taken. In that case, it is also possible to perform the molding while heating the resin composition within a range that does not deteriorate the performance. In many cases, it is formed on a sheet-like support made of a material such as PET or nickel, but when directly forming on a cylindrical support such as a cylinder of a printing press, a sleeve mounted on an air cylinder, etc. It may be molded on a hollow cylindrical support. The role of the sheet-like support, cylindrical support or hollow cylindrical support is to ensure the dimensional stability of the printing substrate. Therefore, it is necessary to select one having high dimensional stability.

線熱膨張係数を用いて評価すると、好ましい材料の上限値は100ppm/℃以下、更に好ましくは70ppm/℃以下である。材料の具体例としては、ポリエステル樹脂、ポリイミド樹脂、ポリアミド樹脂、ポリアミドイミド樹脂、ポリエーテルイミド樹脂、ポリビスマレイミド樹脂、ポリスルホン樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリフェニレンエーテル樹脂、ポリフェニレンチオエーテル樹脂、ポリエーテルスルホン樹脂、全芳香族ポリエステル樹脂からなる液晶樹脂、全芳香族ポリアミド樹脂、エポキシ樹脂などを挙げることができる。また、これらの樹脂を積層して用いることもできる。   When evaluated using the linear thermal expansion coefficient, the upper limit value of a preferable material is 100 ppm / ° C. or less, more preferably 70 ppm / ° C. or less. Specific examples of materials include polyester resin, polyimide resin, polyamide resin, polyamideimide resin, polyetherimide resin, polybismaleimide resin, polysulfone resin, polycarbonate resin, polyphenylene ether resin, polyphenylene thioether resin, polyethersulfone resin, all Examples thereof include liquid crystal resins composed of aromatic polyester resins, wholly aromatic polyamide resins, and epoxy resins. Further, these resins can be laminated and used.

例えば、厚み4.5μmの全芳香族ポリアミドフィルムの両面に厚み50μmのポリエチレンテレフタレートの層を積層したシート等でもよい。また、多孔質性のシート、例えば繊維を編んで形成したクロスや、不織布、フィルムに細孔を形成したもの等をバックフィルムとして用いることができる。バックフィルムとして多孔質性シートを用いる場合、感光性樹脂組成物を孔に含浸させた後に光硬化させることで、感光性樹脂硬化物層とバックフィルムとが一体化するために高い接着性を得ることができる。クロス又は不織布を形成する繊維としては、ガラス繊維、アルミナ繊維、炭素繊維、アルミナ・シリカ繊維、ホウ素繊維、高珪素繊維、チタン酸カリウム繊維、サファイア繊維などの無機系繊維、木綿、麻などの天然繊維、レーヨン、アセテート等の半合成繊維、ナイロン、ポリエステル、アクリル、ビニロン、ポリ塩化ビニル、ポリオレフィン、ポリウレタン、ポリイミド、アラミド等の合成繊維を挙げることができる。また、バクテリアの生成するセルロースは、高結晶性ナノファイバーであり、薄くて寸法安定性の高い不織布を作製することのできる材料である。   For example, a sheet or the like in which layers of polyethylene terephthalate having a thickness of 50 μm are laminated on both surfaces of a 4.5 μm thick wholly aromatic polyamide film may be used. In addition, a porous sheet, for example, a cloth formed by knitting fibers, a nonwoven fabric, a film in which pores are formed, or the like can be used as a back film. When a porous sheet is used as the back film, the photosensitive resin cured product layer is integrated with the back film by photocuring after impregnating the photosensitive resin composition into the pores, so that high adhesion is obtained. be able to. The fibers forming the cloth or nonwoven fabric include glass fibers, alumina fibers, carbon fibers, alumina / silica fibers, boron fibers, high silicon fibers, potassium titanate fibers, sapphire fibers, and other natural fibers, such as cotton and linen. Examples thereof include semi-synthetic fibers such as fibers, rayon and acetate, and synthetic fibers such as nylon, polyester, acrylic, vinylon, polyvinyl chloride, polyolefin, polyurethane, polyimide, and aramid. Further, cellulose produced by bacteria is a highly crystalline nanofiber, and is a material capable of producing a thin nonwoven fabric with high dimensional stability.

また、支持体の線熱膨張係数を小さくする方法として、充填剤を添加する方法、全芳香族ポリアミド等のメッシュ状クロス、ガラスクロスなどに樹脂を含浸又は被覆する方法などを挙げることができる。充填剤としては、通常用いられる有機系微粒子、金属酸化物又は金属等の無機系微粒子、有機・無機複合微粒子など用いることができる。また、多孔質微粒子、内部に空洞を有する微粒子、マイクロカプセル粒子、低分子化合物が内部にインターカレーションする層状化合物粒子を用いることもできる。特に、アルミナ、シリカ、酸化チタン、ゼオライト等の金属酸化物微粒子、ポリスチレン・ポリブタジエン共重合体からなるラテックス微粒子、高結晶性セルロース等の天然物系の有機系微粒子等が有用である。   Examples of a method for reducing the linear thermal expansion coefficient of the support include a method of adding a filler, a method of impregnating or coating a resin on a mesh cloth such as wholly aromatic polyamide, a glass cloth, or the like. As the filler, generally used organic fine particles, inorganic fine particles such as metal oxide or metal, organic / inorganic composite fine particles, and the like can be used. In addition, porous fine particles, fine particles having cavities inside, microcapsule particles, and layered compound particles in which a low molecular compound intercalates can be used. In particular, metal oxide fine particles such as alumina, silica, titanium oxide, and zeolite, latex fine particles made of polystyrene / polybutadiene copolymer, natural product-based organic fine particles such as highly crystalline cellulose, and the like are useful.

本発明で用いるシート状支持体、円筒状支持体、又は中空円筒状支持体の表面に物理的、化学的処理を行うことにより、感光性樹脂組成物層又は接着剤層との接着性を向上させることができる。物理的処理方法としては、サンドブラスト法、微粒子を含有した液体を噴射するウエットブラスト法、コロナ放電処理法、プラズマ処理法、紫外線又は真空紫外線照射法などを挙げることができる。また、化学的処理方法としては、強酸・強アルカリ処理法、酸化剤処理法、カップリング剤処理法などである。
成形された感光性樹脂組成物層は、光照射により硬化させ、感光性樹脂硬化物層を形成する。また、成型しながら光照射により硬化させることもできる。硬化に用いられる光源としては高圧水銀灯、超高圧水銀灯、紫外線蛍光灯、殺菌灯、カーボンアーク灯、キセノンランプ、メタルハライドランプ等が挙げることができる。感光性樹脂組成物層に照射される光は、200nmから300nmの波長の光を有することが好ましい。特に水素引き抜き型光重合開始剤は、この波長領域に強い光吸収を有するものが多いため、200nmから300nmの波長の光を有する場合、感光性樹脂硬化物層表面の硬化性を充分に確保することができる。硬化に用いる光源は、1種類でも構わないが、波長の異なる2種類以上の光源を用いて硬化させることにより、樹脂の硬化性が向上することがあるので、2種類以上の光源を用いることも差し支えない。
By performing physical and chemical treatment on the surface of the sheet-like support, cylindrical support, or hollow cylindrical support used in the present invention, the adhesion with the photosensitive resin composition layer or the adhesive layer is improved. Can be made. Examples of the physical treatment method include a sand blast method, a wet blast method for injecting a liquid containing fine particles, a corona discharge treatment method, a plasma treatment method, an ultraviolet ray or vacuum ultraviolet ray irradiation method, and the like. The chemical treatment method includes a strong acid / strong alkali treatment method, an oxidant treatment method, a coupling agent treatment method, and the like.
The molded photosensitive resin composition layer is cured by light irradiation to form a cured photosensitive resin layer. It can also be cured by light irradiation while molding. Examples of the light source used for curing include a high pressure mercury lamp, an ultrahigh pressure mercury lamp, an ultraviolet fluorescent lamp, a germicidal lamp, a carbon arc lamp, a xenon lamp, and a metal halide lamp. The light applied to the photosensitive resin composition layer preferably has a wavelength of 200 nm to 300 nm. In particular, since many hydrogen abstraction type photopolymerization initiators have strong light absorption in this wavelength region, when having light with a wavelength of 200 nm to 300 nm, sufficient curability of the surface of the cured photosensitive resin layer is ensured. be able to. Although the light source used for curing may be one type, the curability of the resin may be improved by curing using two or more types of light sources having different wavelengths, so two or more types of light sources may be used. There is no problem.

本発明では、凹パターンを形成される樹脂硬化物層の下部にエラストマーからなるクッション層を形成することもできる。一般的にレーザー彫刻される層の厚さは、0.1〜数mmであるため、それ以外の下部層は組成の異なる材料であっても構わない。クッション層としては、ショアA硬度が10から70度のエラストマー層であることが好ましい。ショアA硬度が10度以上である場合、適度に変形するため、印刷品質を確保することができる。また、70度以下であれば、クッション層としての役割を果たすことができる。
前記クッション層は、特に限定せず、熱可塑性エラストマー、光硬化型エラストマー、熱硬化型エラストマー等ゴム弾性を有するものであれば何でも構わない。微細孔を有する多孔質エラストマー層であってもよい。特にシート状又は円筒状印刷版への加工性の観点から、光で硬化する液状感光性樹脂組成物を用い、硬化後にエラストマー化する材料を用いることが簡便であり好ましい。
In this invention, the cushion layer which consists of elastomers can also be formed in the lower part of the resin cured material layer in which a concave pattern is formed. In general, since the thickness of the layer to be laser engraved is 0.1 to several mm, the other lower layers may be made of materials having different compositions. The cushion layer is preferably an elastomer layer having a Shore A hardness of 10 to 70 degrees. When the Shore A hardness is 10 degrees or more, the print quality can be ensured because the film is appropriately deformed. Moreover, if it is 70 degrees or less, it can play the role as a cushion layer.
The cushion layer is not particularly limited, and any cushion layer may be used as long as it has rubber elasticity, such as a thermoplastic elastomer, a photocurable elastomer, and a thermosetting elastomer. It may be a porous elastomer layer having fine pores. In particular, from the viewpoint of processability to a sheet-like or cylindrical printing plate, it is simple and preferable to use a liquid photosensitive resin composition that is cured by light and to use a material that becomes an elastomer after curing.

クッション層に用いる熱可塑性エラストマーの具体例としては、スチレン系熱可塑性エラストマーであるSBS(ポリスチレン−ポリブタジエン−ポリスチレン)、SIS(ポリスチレン−ポリイソプレン−ポリスチレン)、SEBS(ポリスチレン−ポリエチレン/ポリブチレン−ポリスチレン)等、オレフィン系熱可塑性エラストマー、ウレタン系熱可塑性エラストマー、エステル系熱可塑性エラストマー、アミド系熱可塑性エラストマー、シリコン系熱可塑性エラストマー、フッ素系熱可塑性エラストマー等を挙げることができる。
光硬化型エラストマーとしては、前記熱可塑性エラストマーに光重合性モノマー、可塑剤および光重合開始剤等を混合したもの、プラストマー樹脂に光重合性モノマー、光重合開始剤等を混合した液状組成物などを挙げることができる。本発明では、微細パターンの形成機能が重要な要素である感光性樹脂組成物の設計思想とは異なり、光を用いて微細なパターンの形成を行う必要がなく、全面露光により硬化させることにより、ある程度の機械的強度を確保できれば良いため、材料の選定において自由度が極めて高い。
また、硫黄架橋型ゴム、有機過酸化物、フェノール樹脂初期縮合物、キノンジオキシム、金属酸化物、チオ尿素等の非硫黄架橋型ゴムを用いることもできる。
更に、テレケリック液状ゴムを反応する硬化剤を用いて3次元架橋させてエラストマー化したものを使用することもできる。
Specific examples of the thermoplastic elastomer used for the cushion layer include SBS (polystyrene-polybutadiene-polystyrene), SIS (polystyrene-polyisoprene-polystyrene), SEBS (polystyrene-polyethylene / polybutylene-polystyrene), which are styrenic thermoplastic elastomers, and the like. Olefin-based thermoplastic elastomer, urethane-based thermoplastic elastomer, ester-based thermoplastic elastomer, amide-based thermoplastic elastomer, silicon-based thermoplastic elastomer, fluorine-based thermoplastic elastomer, and the like.
Examples of the photocurable elastomer include those obtained by mixing a photopolymerizable monomer, a plasticizer, a photopolymerization initiator, and the like with the thermoplastic elastomer, and a liquid composition obtained by mixing a photopolymerizable monomer, a photopolymerization initiator, etc. with a plastomer resin. Can be mentioned. In the present invention, unlike the design concept of the photosensitive resin composition, in which the function of forming a fine pattern is an important element, it is not necessary to form a fine pattern using light, and by curing by overall exposure, Since it is sufficient to ensure a certain level of mechanical strength, the degree of freedom in selecting a material is extremely high.
Moreover, non-sulfur cross-linked rubbers such as sulfur cross-linked rubber, organic peroxide, phenol resin initial condensate, quinone dioxime, metal oxide, and thiourea can also be used.
Furthermore, it is also possible to use a three-dimensionally crosslinked elastomer obtained by using a curing agent that reacts with a telechelic liquid rubber.

[印刷基材]
上記の製造方法により得られた印刷基材は版厚精度が高く、好適には液状の電子材料又は光学材料を塗布するために使用される。
本発明の製造方法を用いて製造される印刷基材としては、シリンダー等の円筒状支持体やスリーブ等の中空円筒状支持体上に形成された円筒状印刷基材や、シート状支持体上に形成されたシート状印刷基材を挙げることができる。中空円筒状印刷基材を製造するためには、円筒状支持体としてエアーシリンダーを用いて、該円筒状支持体上に中空円筒状支持体である金属製又は繊維強化プラスチック製スリーブを装着することが好ましい。
[Printing substrate]
The printing substrate obtained by the above production method has high plate thickness accuracy, and is preferably used for applying a liquid electronic material or optical material.
As a printing substrate manufactured using the manufacturing method of the present invention, a cylindrical printing substrate formed on a cylindrical support such as a cylinder or a hollow cylindrical support such as a sleeve, or a sheet-like support The sheet-like printing base material formed in this can be mentioned. In order to manufacture a hollow cylindrical printing substrate, an air cylinder is used as a cylindrical support, and a metal or fiber reinforced plastic sleeve as a hollow cylindrical support is mounted on the cylindrical support. Is preferred.

本発明の印刷基材の表面に改質層を形成させることにより、印刷版表面のタックの低減、電子材料又は光学材料への濡れ性の向上を行うこともできる。改質層としては、シランカップリング剤又はチタンカップリング剤等の表面水酸基と反応する化合物で処理した被膜等を挙げることができる。
広く用いられているシランカップリング剤は、基材の表面水酸基との反応性の高い官能基を分子内に有する化合物であり、そのような官能基とは、例えばトリメトキシシリル基、トリエトキシシリル基、トリクロロシリル基、ジエトキシシリル基、ジメトキシシリル基、ジモノクロロシリル基、モノエトキシシリル基、モノメトキシシリル基、モノクロロシリル基を挙げることができる。また、これらの官能基は分子内に少なくとも1つ以上存在し、基材の表面水酸基と反応することにより基材表面に固定化される。更に本発明のシランカップリング剤を構成する化合物は、分子内に反応性官能基としてアクリロイル基、メタクリロイル基、活性水素含有アミノ基、エポキシ基、ビニル基、パーフルオロアルキル基、及びメルカプト基から選ばれた少なくとも1個の官能基を有するもの、又は長鎖アルキル基を有するものを用いることができる。
By forming the modified layer on the surface of the printing substrate of the present invention, it is possible to reduce the tack of the printing plate surface and improve the wettability to the electronic material or optical material. Examples of the modified layer include a film treated with a compound that reacts with a surface hydroxyl group such as a silane coupling agent or a titanium coupling agent.
A widely used silane coupling agent is a compound having in its molecule a functional group highly reactive with the surface hydroxyl group of the substrate. Examples of such a functional group include a trimethoxysilyl group and a triethoxysilyl group. Group, trichlorosilyl group, diethoxysilyl group, dimethoxysilyl group, dimonochlorosilyl group, monoethoxysilyl group, monomethoxysilyl group, monochlorosilyl group. Further, at least one of these functional groups exists in the molecule, and is immobilized on the surface of the base material by reacting with the surface hydroxyl group of the base material. Further, the compound constituting the silane coupling agent of the present invention is selected from acryloyl group, methacryloyl group, active hydrogen-containing amino group, epoxy group, vinyl group, perfluoroalkyl group, and mercapto group as reactive functional groups in the molecule. Those having at least one functional group or those having a long-chain alkyl group can be used.

また、チタンカップリング剤としては、イソプロピルトリイソステアロイルチタネート、イソプロピルトリス(ジオクチルパイロホスフェート)チタネート、イソプロピルトリ(N−アミノエチル−アミノエチル)チタネート、テトラオクチルビス(ジ−トリデシルホスファイト)チタネート、テトラ(2,2−ジアリルオキシメチル−1−ブチル)ビス(ジ−トリデシル)ホスファイトチタネート、ビス(オクチルパイロホスフェート)オキシアセテートチタネート、ビス(ジオクチルパイロホスフェート)エチレンチタネート、イソプロピルトリオクタノイルチタネート、イソプロピルジメタクリルイソステアロイルチタネート、イソプロピルトリドデシルベンゼンスルホニルチタネート、イソプロピルイソステアロイルジアクリルチタネート、イソプロピルトリ(ジオクチルスルフェート)チタネート、イソプロピルトリクミルフェニルチタネート、テトライソプロピルビス(ジオクチルホスファイト)チタネート等の化合物を挙げることができる。   Examples of titanium coupling agents include isopropyl triisostearoyl titanate, isopropyl tris (dioctyl pyrophosphate) titanate, isopropyl tri (N-aminoethyl-aminoethyl) titanate, tetraoctyl bis (di-tridecyl phosphite) titanate, Tetra (2,2-diallyloxymethyl-1-butyl) bis (di-tridecyl) phosphite titanate, bis (octylpyrophosphate) oxyacetate titanate, bis (dioctylpyrophosphate) ethylene titanate, isopropyltrioctanoyl titanate, isopropyl Dimethacrylisostearoyl titanate, isopropyltridodecylbenzenesulfonyl titanate, isopropylisostearoyl diacryl titanate Over DOO, isopropyl tri (dioctyl sulfate) titanate, isopropyl tricumylphenyl titanate, tetraisopropyl bis (dioctyl phosphite) may include compounds such as titanates.

表面に固定化したカップリング剤分子が特に重合性反応基を有する場合、表面への固定化後、光、熱、又は電子線を照射し架橋させることにより、より強固な被膜とすることもできる。
本発明では、上記のカップリング剤に、必要に応じ、水−アルコール、或いは酢酸水−アルコール混合液で希釈して、調整する。処理液中のカップリング剤の濃度は、0.05〜10.0重量%が好ましい。
本発明におけるカップリング剤処理法について説明する。前記のカップリング剤を含む処理液を、作製された印刷基材表面に塗布して用いられる。カップリング剤処理液を塗布する方法に特に限定はなく、例えば浸漬法、スプレー法、ロールコート法、或いは刷毛塗り法等を適応することが出来る。また、被覆処理温度、被覆処理時間についても特に限定はないが、5〜60℃であることが好ましく、処理時間は0.1〜60秒であることが好ましい。更に樹脂版表面上の処理液層の乾燥を加熱下に行うことが好ましく、加熱温度としては50〜150℃が好ましい。
When the coupling agent molecule immobilized on the surface has a polymerizable reactive group in particular, it can be formed into a stronger film by irradiating with light, heat, or electron beam and crosslinking after immobilization on the surface. .
In the present invention, the above-described coupling agent is diluted with water-alcohol or acetic acid water-alcohol mixed solution as necessary. The concentration of the coupling agent in the treatment liquid is preferably 0.05 to 10.0% by weight.
The coupling agent treatment method in the present invention will be described. The treatment liquid containing the coupling agent is applied to the surface of the produced printing substrate. The method for applying the coupling agent treatment liquid is not particularly limited, and for example, an immersion method, a spray method, a roll coating method, or a brush coating method can be applied. Further, the coating treatment temperature and the coating treatment time are not particularly limited, but are preferably 5 to 60 ° C., and the treatment time is preferably 0.1 to 60 seconds. Furthermore, it is preferable to dry the treatment liquid layer on the surface of the resin plate under heating, and the heating temperature is preferably 50 to 150 ° C.

カップリング剤で印刷版表面を処理する前に、キセノンエキシマランプ等の波長が200nm以下の真空紫外線領域の光を照射する方法、又はプラズマ等の高エネルギー雰囲気に曝すことにより、印刷版表面に水酸基を発生させ高密度にカップリング剤を固定化することもできる。
また、無機多孔質体粒子又は有機無機複合多孔質体微粒子を含有する層が印刷版表面に露出している場合、プラズマ等の高エネルギー雰囲気下で処理し、表面の有機物層を若干エッチング除去することにより印刷版表面に微小な凹凸を形成させることができる。この処理により印刷版表面のタックを低減させること、および表面に露出した無機多孔質体粒子がインクを吸収しやすくすることによりインク濡れ性が向上する効果も期待できる。
本発明の印刷基材において、凹パターンを形成した後、得られた印刷基材の表面に紫外線を照射して、表面のべたつきを除去する工程を経ても構わない。紫外線を照射する雰囲気は、大気中、不活性ガス雰囲気下、水中などを挙げることができる。また、紫外線照射の前に、光重合開始剤を含有する処理液で印刷基材表面を処理することも好ましい方法である。
Before treating the printing plate surface with a coupling agent, a method of irradiating light in a vacuum ultraviolet region having a wavelength of 200 nm or less such as a xenon excimer lamp, or exposure to a high energy atmosphere such as plasma, a hydroxyl group on the printing plate surface. And the coupling agent can be immobilized at a high density.
Also, when the layer containing inorganic porous particles or organic / inorganic composite porous particles is exposed on the printing plate surface, it is treated in a high energy atmosphere such as plasma, and the organic layer on the surface is slightly etched away. As a result, minute irregularities can be formed on the surface of the printing plate. By this treatment, the effect of improving the ink wettability can be expected by reducing the tack of the printing plate surface and making the inorganic porous particles exposed on the surface easy to absorb the ink.
In the printing base material of this invention, after forming a concave pattern, you may pass through the process of irradiating the surface of the obtained printing base material with an ultraviolet-ray, and removing the stickiness of the surface. Examples of the atmosphere for irradiating with ultraviolet rays include air, an inert gas atmosphere, and water. It is also a preferable method to treat the surface of the printing substrate with a treatment liquid containing a photopolymerization initiator before the ultraviolet irradiation.

[印刷基材の再生方法]
印刷基材は、印刷工程において長期間に渡り使用され使用頻度が極めて高い場合などに、表面が若干磨耗し、表面の粗度が初期と変化する場合がある。その場合でも、印刷基材を再度、円筒状支持体上に固定し、表面を切削、研削、研磨等の手法を用いて調整することにより、印刷基材を再生することが可能である。このような方法の好適な例としては、例えば、印刷工程において使用された印刷基材を円筒状支持体上に装着した後、該円筒状支持体を円周方向に回転させながら、該印刷基材の表面を再度調整することを特徴とする印刷基材の再生方法がある。
[Reproduction method of printing substrate]
When the printing substrate is used for a long period of time in the printing process and used very frequently, the surface may be slightly worn, and the surface roughness may change from the initial level. Even in such a case, it is possible to regenerate the printing substrate by fixing the printing substrate on the cylindrical support again and adjusting the surface using a technique such as cutting, grinding, or polishing. As a suitable example of such a method, for example, after mounting the printing substrate used in the printing process on a cylindrical support, the printing support is rotated while rotating the cylindrical support in the circumferential direction. There is a method for regenerating a printing substrate characterized by adjusting the surface of the material again.

[電子材料又は光学材料の製造方法]
本発明の製造方法によって得られる印刷基材は、特に液状の電子材料又は光学材料を塗布するための印刷基材に適している。
次に、電子部材又は光学部材の製造方法について詳述する。
電子部材又は光学部材の製造方法は、上記方法により得られた印刷基材を、印刷機の円筒状印刷胴に取りつける工程、液状の電子材料又は光学材料を該印刷基材表面に付着させ、被印刷基材上に転写させる工程、前記電子材料又は光学材料を前記被印刷基材上に固定化する工程を含むことが好ましい。
電子材料又は光学材料を印刷法により被印刷基材上に塗布する方法において、電子材料又は光学材料を被印刷基材上に形成する方法として、特に被印刷基材への印圧が低いこと、被印刷基材表面に電子材料又は光学材料が表面に付着した凸部のみが被印刷基材と接触するという特長から、フレキソ印刷法が特に好ましい。
[Method of manufacturing electronic material or optical material]
The printing substrate obtained by the production method of the present invention is particularly suitable as a printing substrate for applying a liquid electronic material or optical material.
Next, the manufacturing method of an electronic member or an optical member is explained in full detail.
The manufacturing method of an electronic member or an optical member includes a step of attaching the printing substrate obtained by the above method to a cylindrical printing cylinder of a printing machine, a liquid electronic material or an optical material attached to the surface of the printing substrate, It is preferable to include a step of transferring onto the printing substrate and a step of fixing the electronic material or optical material onto the substrate to be printed.
In a method of applying an electronic material or an optical material on a substrate to be printed by a printing method, as a method of forming the electronic material or the optical material on the substrate to be printed, in particular, the printing pressure on the substrate to be printed is low, The flexographic printing method is particularly preferable because only the convex portion where the electronic material or the optical material adheres to the surface of the substrate to be printed comes into contact with the substrate to be printed.

フレキソ印刷法で用いる樹脂凸版において、最表面の寸法が200μm角であって高さ500μmの凸パターンを形成した場合に、該凸パターンの中央部とエッジ部における高低差が30μm以下であることが好ましい。該凸パターンの中央部とエッジ部における高低差が30μm以下であれば、印刷を行った際、低い印圧で印刷することができ、印刷膜厚が均一となる。従来の写真製版技術を用いて形成される感光性樹脂版で課題であったカッピング現象、すなわち光硬化収縮によりパターンの中央部の膜厚が薄くなる現象を、本発明では容易に解決できる。本発明では、一度全面的に硬化させた樹脂硬化物層表面を切削、研削、研磨等の手法を用いて調整し、その後、調整された表面に凹パターンを形成する方法を採るためである。   In the resin relief printing plate used in the flexographic printing method, when a convex pattern having an outermost surface dimension of 200 μm square and a height of 500 μm is formed, the height difference between the central portion and the edge portion of the convex pattern may be 30 μm or less. preferable. If the height difference between the central portion and the edge portion of the convex pattern is 30 μm or less, printing can be performed with a low printing pressure, and the printed film thickness becomes uniform. The present invention can easily solve the cupping phenomenon, that is, the phenomenon in which the film thickness at the central portion of the pattern becomes thin due to photocuring shrinkage, which has been a problem in the photosensitive resin plate formed using the conventional photoengraving technology. The purpose of the present invention is to adjust the surface of the cured resin layer once cured over the entire surface using a technique such as cutting, grinding, polishing, etc., and then form a concave pattern on the adjusted surface.

本発明の電子材料を塗布して形成される電子材料とは、絶縁体、半導体、導体から選ばれる少なくとも1種類をパターン化して形成されたものを指す。特に限定するものではないが、具体的にはコイル、アンテナ、電極、配線等を形成する導体パターン、コンデンサ等の誘電体、層間絶縁膜、液晶ディスプレイ用の配向膜等形成するための絶縁体パターン、トランジスタ、ダイオード、有機エレクトロルミネッセンス素子の発光層、電荷移動層、電荷注入層等を形成するための有機半導体パターンなどをあげることができる。前記絶縁体には、プロセスレジスト、永久レジスト等のレジスト材料も含まれる。また、光学材料を塗布して形成される光学部材とは、反射防止膜、フィルター膜、偏光膜、導光板等の薄膜光学部品を挙げることができる。フィルター膜には、フラットパネルディスプレイ等で使用されるカラーフィルター、ブラックマトリックスも含まれる。
電子材料又は光学材料中に含まれる溶剤は、これらの材料中の不揮発成分の溶解性や印刷工程中での乾燥性などにより決定されるが、芳香族炭化水素化合物、含窒素炭化水素化合物、エステル化合物、アミド化合物、グリコールモノエーテル化合物、含ハロゲン炭化水素化合物から選ばれる少なくとも1種類の化合物を、溶剤全体量の20wt%以上含有していることが好ましい。
The electronic material formed by applying the electronic material of the present invention refers to an electronic material formed by patterning at least one selected from an insulator, a semiconductor, and a conductor. Although not particularly limited, specifically, a conductor pattern for forming a coil, antenna, electrode, wiring, etc., a dielectric such as a capacitor, an interlayer insulating film, an insulating pattern for forming an alignment film for a liquid crystal display, etc. And organic semiconductor patterns for forming a light emitting layer, a charge transfer layer, a charge injection layer, and the like of a transistor, a diode, and an organic electroluminescence element. The insulator includes a resist material such as a process resist and a permanent resist. Examples of the optical member formed by applying an optical material include thin film optical components such as an antireflection film, a filter film, a polarizing film, and a light guide plate. The filter film includes a color filter and a black matrix used in a flat panel display or the like.
The solvent contained in the electronic material or optical material is determined by the solubility of the non-volatile components in these materials and the drying property in the printing process, but it is an aromatic hydrocarbon compound, nitrogen-containing hydrocarbon compound, ester. It is preferable that at least one compound selected from a compound, an amide compound, a glycol monoether compound, and a halogen-containing hydrocarbon compound is contained in an amount of 20 wt% or more of the total amount of the solvent.

本発明の印刷基材において、使用する電子材料又は光学材料に含有される溶剤に耐性を有する感光性樹脂硬化物を設計することができる。本発明の電子部材又は光学部材を形成するための電子材料又は光学材料において、機能性化合物を溶解又は分散させる溶剤として、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ブチル、安息香酸メチル、安息香酸エチル、γ−ブチルラクトン等のエステル化合物、γ−ブチルラクタム等のアミド化合物、テトラヒドロフラン、オキシラン、ジブチルエーテル等のエーテル化合物、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、プロピルセロソルブ、ブチルセロソルブ等のグリコールモノエーテル化合物、ヘキサン、ヘプタン、オクタン、トルエン、キシレン等の炭化水素化合物、クロロホルム、ジクロロエタン、テトラクロロエチレン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン等の含ハロゲン炭化水素化合物、メチルピロリドン、ピリジン等の含窒素炭化水素化合物等を挙げることができる。本発明の印刷基材の電子材料又は光学材料に含有される溶剤に対する耐溶剤性は、溶剤浸漬膨潤テストにて評価し、前記溶剤への浸漬前後の重量変化率が10wt%以下であることが好ましい。より好ましくは5wt%以下である。本発明における溶剤浸漬膨潤テストは、テストサンプルを室温において24時間、溶剤に浸漬して実施される。重量変化率が10wt%以下であれば、印刷基材の寸法変化が小さく、微細なパターンの印刷が可能であり、薄膜の均一塗布も可能となる。   In the printing substrate of the present invention, a cured photosensitive resin having resistance to a solvent contained in the electronic material or optical material to be used can be designed. In the electronic material or optical material for forming the electronic member or optical member of the present invention, as a solvent for dissolving or dispersing the functional compound, ethyl acetate, propyl acetate, butyl acetate, methyl benzoate, ethyl benzoate, γ- Ester compounds such as butyl lactone, amide compounds such as γ-butyl lactam, ether compounds such as tetrahydrofuran, oxirane, dibutyl ether, glycol monoether compounds such as methyl cellosolve, ethyl cellosolve, propyl cellosolve, butyl cellosolve, hexane, heptane, octane, Hydrocarbon compounds such as toluene and xylene, halogen-containing hydrocarbon compounds such as chloroform, dichloroethane, tetrachloroethylene, chlorobenzene and dichlorobenzene, nitrogen-containing hydrocarbon compounds such as methylpyrrolidone and pyridine Etc. The solvent resistance to the solvent contained in the electronic material or optical material of the printing substrate of the present invention is evaluated by a solvent immersion swelling test, and the weight change rate before and after immersion in the solvent is 10 wt% or less. preferable. More preferably, it is 5 wt% or less. The solvent immersion swelling test in the present invention is performed by immersing a test sample in a solvent at room temperature for 24 hours. When the weight change rate is 10 wt% or less, the dimensional change of the printing substrate is small, a fine pattern can be printed, and a thin film can be uniformly applied.

耐溶剤性の高い印刷基材用の材料を設計する指針として、用いる樹脂(α)を構成する主要部位と溶剤との溶解度パラメータの差が大きいものを選択することが好ましい。溶解度パラメータ(Solubility Parameter、以下SPと略す)とは、溶解度因子ともよばれ、物質の極性を示す指標であり、親和性の指標となる。溶解度パラメータについては、化学大辞典(東京化学同人社、1989年発行)にも記載がある。一般的に両者のSP値が近いほど互いに溶け合いやすく、また、一方が固体の時には濡れやすく、接着剤や溶剤の選択の一つの目安として使用されている。本発明においては、使用する電子材料又は光学材料に含有される溶剤に耐性を有していることが必要であるので、用いる樹脂(α)を構成する主要部位と溶剤との溶解度パラメータの差が大きいものを選択することが好ましい。   As a guideline for designing a material for a printing substrate having high solvent resistance, it is preferable to select a material having a large difference in solubility parameter between the main portion constituting the resin (α) to be used and the solvent. The solubility parameter (hereinafter, abbreviated as SP) is also called a solubility factor, and is an index indicating the polarity of a substance and is an index of affinity. The solubility parameter is also described in the Dictionary of Chemistry (Tokyo Chemical Dojinsha, published in 1989). In general, the closer the SP values of the two, the easier it is to melt together, and when one is solid, it is easy to get wet, and it is used as one standard for selecting an adhesive or a solvent. In the present invention, since it is necessary to have resistance to the solvent contained in the electronic material or optical material to be used, there is a difference in solubility parameter between the main part constituting the resin (α) to be used and the solvent. It is preferable to select a larger one.

例えば、ヘキサン、ヘプタン、オクタン、シクロヘキサン、ケロシン、アマニ油、大豆油、トルエン、キシレンなどの炭化水素化合物に対しては、炭化水素系のポリブタジエン骨格、ポリイソプレン骨格を有するプレポリマーを選択するよりも、不飽和ポリエステルやポリエステルポリオール、ポリカーボネートジオールを用いた不飽和ポリウレタンなどが好ましい。また、メチルピロリドン、ピリジン、アセトニトリル、ジメチルホルムアミドなどの含窒素炭化水素化合物、アセトン、メチルエチルケトン等のケトン類、γ−ブチロラクトンに対しては、ポリエステル、ポリウレタンを選択するよりも、ポリブタジエン等のポリアルキレン骨格を有するプレポリマーが好ましい。ブトキシエタノール、エトキシエタノールに対しては、不飽和ポリウレタン、ポリアルキレン骨格を有するポリマーが好ましい。クロルベンゼン、ジクロロベンゼン等のハロゲン系芳香族炭化水素化合物に対しては、不飽和ポリエステルが好ましい。安息香酸エステル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ブチル等のエステル化合物に対しては、不飽和ポリエステル、ポリカーボネートジオールを骨格に持つ不飽和ポリウレタンが好ましい。   For example, for hydrocarbon compounds such as hexane, heptane, octane, cyclohexane, kerosene, linseed oil, soybean oil, toluene, xylene, etc., rather than selecting a prepolymer having a hydrocarbon-based polybutadiene skeleton or polyisoprene skeleton. Unsaturated polyester, polyester polyol, unsaturated polyurethane using polycarbonate diol, and the like are preferable. In addition, for nitrogen-containing hydrocarbon compounds such as methylpyrrolidone, pyridine, acetonitrile, dimethylformamide, ketones such as acetone and methyl ethyl ketone, and polyalkylene skeletons such as polybutadiene rather than selecting polyester and polyurethane. Prepolymers having are preferred. For butoxyethanol and ethoxyethanol, unsaturated polyurethane and polymers having a polyalkylene skeleton are preferred. Unsaturated polyesters are preferred for halogenated aromatic hydrocarbon compounds such as chlorobenzene and dichlorobenzene. For ester compounds such as benzoic acid esters, ethyl acetate, propyl acetate, and butyl acetate, unsaturated polyesters and unsaturated polyurethanes having a polycarbonate diol as a skeleton are preferable.

本発明で用いる電子材料又は光学材料を印刷するための被印刷基材は、ガラス板、セラミックス板、フィルム、金属板、金属シート、紙から選択される少なくとも1種類の基材であることが好ましい。フィルムとしては、プラスチック製フィルムや金属製フィルム、表面にセラミックスや金属薄膜が形成されたプラスチック製フィルムなどの異種材料を積層したプラスチック製フィルムや金属製フィルムも含まれ、また、紙としては、繊維状物から形成されているものであれば何でも構わない。織布であっても不織布であっても構わない。繊維状物の材料として、天然繊維、合成繊維、ガラス繊維、セラミック繊維、金属繊維等を挙げることができる。また、ガラス板として、表面にITO、酸化亜鉛等の電極材料の薄膜が被覆されているものであっても構わない。
本発明の印刷法において被印刷基材上に印刷できる印刷パターンの厚さは、電子材料又は光学材料中の溶剤成分を乾燥除去した後に、1nm以上10μm以下が好ましい。より好ましくは5nm以上5μm以下、更に好ましくは10nm以上1μm以下である。膜厚が1nm以上であれば、絶縁体、半導体、導体の機能を発現させることができ、また、10μm以下であれば電子材料又は光学材料中の溶剤成分の除去が容易に行うことができる。
The substrate to be printed for printing the electronic material or the optical material used in the present invention is preferably at least one substrate selected from a glass plate, a ceramic plate, a film, a metal plate, a metal sheet, and paper. . Examples of films include plastic films and metal films, plastic films and metal films laminated with different materials such as plastic films with ceramics and metal thin films formed on the surface, and paper includes fibers Anything may be used as long as it is formed from a shape. It may be a woven fabric or a non-woven fabric. Examples of the fibrous material include natural fibers, synthetic fibers, glass fibers, ceramic fibers, and metal fibers. Further, the glass plate may have a surface coated with a thin film of an electrode material such as ITO or zinc oxide.
The thickness of the print pattern that can be printed on the substrate to be printed in the printing method of the present invention is preferably 1 nm or more and 10 μm or less after the solvent component in the electronic material or the optical material is removed by drying. More preferably, they are 5 nm or more and 5 micrometers or less, More preferably, they are 10 nm or more and 1 micrometers or less. When the film thickness is 1 nm or more, the functions of an insulator, a semiconductor, and a conductor can be expressed. When the film thickness is 10 μm or less, the solvent component in the electronic material or the optical material can be easily removed.

本発明の印刷基材を用いて、被印刷基材上に電子材料又は光学材料を塗布し、電子部材又は光学部材を製造する際に使用する印刷機は、樹脂凸版を用いて印刷できるタイプの印刷機であれば特に限定するものでなく、市販のフレキソ印刷機、ドライオフセット印刷機、液晶配向膜印刷機等を挙げることができる。ロールからロールへの形態で印刷を行うフィルム、紙等への印刷を行う印刷機、枚様の被印刷基材に印刷する印刷機が市販されている。また、シート状印刷基材を版胴に巻きつけて使用する印刷機、中空円筒状印刷基材をエアーシリンダーに装着して使用するスリーブ対応印刷機であっても構わない。被印刷基材上に形成される電子材料又は光学材料の膜厚は、印刷基材の表面の粗度、電子材料又は光学材料の粘度および非揮発成分の濃度、印刷機のアニロックスロール表面のセル密度およびセル容量などの要因で決まる。これらの要因を組み合わせることにより、膜厚制御の自由度は高い。膜厚として10nm程度の超薄膜から10μm程度の薄膜まで、成形することが可能である。   The printing machine used when applying the electronic material or optical material on the substrate to be printed using the printing substrate of the present invention to produce the electronic member or optical member is of a type that can be printed using a resin relief plate. If it is a printing machine, it will not specifically limit, A commercially available flexographic printing machine, a dry offset printing machine, a liquid crystal aligning film printing machine etc. can be mentioned. A film for printing in a roll-to-roll form, a printing machine for printing on paper, etc., and a printing machine for printing on a sheet-like substrate to be printed are commercially available. Further, it may be a printing machine that uses a sheet-like printing substrate wound around a plate cylinder, or a sleeve-compatible printing machine that uses a hollow cylindrical printing substrate mounted on an air cylinder. The film thickness of the electronic material or optical material formed on the substrate to be printed includes the roughness of the surface of the printing substrate, the viscosity of the electronic material or optical material and the concentration of non-volatile components, the cell on the anilox roll surface of the printing press. It depends on factors such as density and cell capacity. By combining these factors, the degree of freedom in controlling the film thickness is high. It is possible to mold from an ultra-thin film of about 10 nm to a thin film of about 10 μm.

以下、本発明を実施例に基づいて説明するが、本発明はこれらによって制限されるものではない。
(1)数平均分子量の測定
樹脂(α)の数平均分子量は、ゲル浸透クロマトグラフ法(GPC法)を用いて、分子量既知のポリスチレンで換算して求めた。高速GPC装置「HLC−8020」(商標、日本国、東ソー社製)とポリスチレン充填カラム「TSKgel GMHXL」(商標、日本国、東ソー社製)を用い,テトラヒドロフラン(THF)で展開して測定した。カラムの温度は40℃に設定した。GPC装置に注入する試料としては、樹脂濃度が1wt%のTHF溶液を調整し、注入量10μlとした。また、検出器としては、紫外吸収検出器を使用した。本発明の実施例或いは比較例で用いる樹脂(α)は、GPC法で求めた多分散度(Mw/Mn)が1.1より大きいものであったため、GPC法で求めた数平均分子量Mnを採用した。
EXAMPLES Hereinafter, although this invention is demonstrated based on an Example, this invention is not restrict | limited by these.
(1) Measurement of number average molecular weight The number average molecular weight of resin ((alpha)) was calculated | required by converting into polystyrene with known molecular weight using the gel permeation chromatograph method (GPC method). Using a high-speed GPC device “HLC-8020” (trademark, manufactured by Tosoh Corporation, Japan) and a polystyrene packed column “TSKgel GMHXL” (trademark, manufactured by Tosoh Corporation, Japan), the measurement was performed with tetrahydrofuran (THF). The column temperature was set to 40 ° C. As a sample to be injected into the GPC apparatus, a THF solution having a resin concentration of 1 wt% was prepared to have an injection amount of 10 μl. As a detector, an ultraviolet absorption detector was used. The resin (α) used in the examples or comparative examples of the present invention had a polydispersity (Mw / Mn) determined by the GPC method greater than 1.1. Therefore, the number average molecular weight Mn determined by the GPC method was Adopted.

[実施例1]
(樹脂(α)の製造)
温度計、攪拌機を備えた1Lのセパラブルフラスコに、数平均分子量2500のポリオキシエチレン(EO)−ポリオキシプロピレン(PO)ブロック共重合体ジオール(EO/POモル比1/4)51重量部、数平均分子量3000のポリ(3−メチルー1,5−ペンタンジオールアジペート)33.9重量部、触媒としてジブチルチンスズジラウレート0.003重量部、2、6−ジーtert−ブチル−4−メチルフェノール0.1重量部を入れ、攪拌混合した。系内の水分量を400ppmに調整した。次に、トリレンジイソシアネート6重量部を外温40℃で攪拌しながら滴下添加し、その後徐々に外音を上昇させ80℃において5時間反応させた。さらに、2−ヒドロキシプロピルメタクリレート4重量部を添加し、2時間反応させることによって不飽和ポリウレタンを得た。このもののGPCによるポリスチレン換算数平均分子量は22500であった。
[Example 1]
(Manufacture of resin (α))
In a 1 L separable flask equipped with a thermometer and a stirrer, 51 parts by weight of polyoxyethylene (EO) -polyoxypropylene (PO) block copolymer diol having a number average molecular weight of 2500 (EO / PO molar ratio 1/4) , 33.9 parts by weight of poly (3-methyl-1,5-pentanediol adipate) having a number average molecular weight of 3000, 0.003 parts by weight of dibutyltin tin dilaurate as a catalyst, and 2,6-di-tert-butyl-4-methylphenol 0.1 part by weight was added and stirred and mixed. The water content in the system was adjusted to 400 ppm. Next, 6 parts by weight of tolylene diisocyanate was added dropwise with stirring at an external temperature of 40 ° C., and then the external sound was gradually raised and reacted at 80 ° C. for 5 hours. Furthermore, 4 parts by weight of 2-hydroxypropyl methacrylate was added and reacted for 2 hours to obtain an unsaturated polyurethane. The number average molecular weight in terms of polystyrene by GPC was 22500.

(感光性樹脂組成物の調整)
上記のように製造した不飽和ポリウレタン65重量部に対し、有機化合物(β)としてジエチレングリコールー2−エチルヘキシルエーテルアクリレート13重量部、ジエチレングリコールモノブチルエーテルモノメタクリレート20重量部、トリメチロールプロパントリメタクリレート2重量部、光重合開始剤として2,2−ジメトキシー2−フェニルアセトフェノン0.6重量部、ベンゾフェノン1重量部、添加剤として無機多孔質体「サイロスフェアーC−1504」(商標、富士シシリア化学株式会社製、多孔質性微粉末シリカ、数平均粒子径4.5μm、比表面積520m/g、平均細孔径12nm、細孔容積1.5ml/g、灼熱減量2.5wt%、吸油量290ml/100g)、重合禁止剤として2,6−ジーt−ブチルー4−メチルフェノール0.05重量部を混合し、感光性樹脂組成物アを得た。
(Adjustment of photosensitive resin composition)
For 65 parts by weight of the unsaturated polyurethane produced as described above, 13 parts by weight of diethylene glycol-2-ethylhexyl ether acrylate, 20 parts by weight of diethylene glycol monobutyl ether monomethacrylate, 2 parts by weight of trimethylolpropane trimethacrylate as the organic compound (β), As photopolymerization initiator, 2,2-dimethoxy-2-phenylacetophenone 0.6 parts by weight, benzophenone 1 part by weight, and as an additive, an inorganic porous material “Pyrospher C-1504” (trademark, manufactured by Fuji Sicilian Chemical Co., Ltd., Porous fine powder silica, number average particle diameter 4.5 μm, specific surface area 520 m 2 / g, average pore diameter 12 nm, pore volume 1.5 ml / g, ignition loss 2.5 wt%, oil absorption 290 ml / 100 g), 2,6-di-tert-butyl as a polymerization inhibitor 4-methylphenol 0.05 parts by weight were mixed to give a photosensitive resin composition A.

(シート状感光性樹脂硬化物の作製)
幅1m、直径318.47mmのシリンダーの長軸方向に幅10mm、厚さ50μmの両面接着テープを貼り付けた。厚さ180μmのPETフィルムを円筒状支持体であるシリンダー表面に巻きつけ、前記両面接着テープの部分にPETフィルムの両端部が来るように位置を合わせ、固定した。
調整した感光性樹脂組成物アをPETフィルム上に厚さ2.8mmのシート状に成形し、シリンダーを回転させながら、メタルハライドタンプ「M056−L21」(アイ・グラフィックス社製、商標)から出てくる光を,大気中で感光性樹脂層が露出している面から照射し、光硬化物を得た。照射したエネルギー量は、4000mJ/cm(UV−35−APRフィルターで測定した照度を時間積分した値)であった。照射面でのランプ照度は、UVメーター「UV−M02」(オーク製作所社製、商標)を用いて測定した。UV−35−APRフィルターを使用して測定したランプ照度は、100mW/cm、UV−25−フィルターを使用して測定したランプ照度は、14mW/cmであった。
シリンダーを回転させながら、得られた光硬化物の表面をバイトで切削し、その後、シリンダーおよびカーボランダム製グラインディングホイールを回転させながら研削し、1000番のサンドペーパーを用いて表面を研磨した。
PETフィルムを円筒状支持体表面に巻きつける工程から、研磨工程までに要した時間は、約20分であった。
得られた光硬化物の厚みは均一であり、PETフィルムを含めた厚さ精度は2.8mm±10μmであった。尚、厚さ測定は、1μmまで測定可能な装置「デジマチックインジケーター ID−C112」(商品名、ミツトヨ社製)を用いて3cm間隔で測定を行った。
(Preparation of sheet-shaped photosensitive resin cured product)
A double-sided adhesive tape having a width of 10 mm and a thickness of 50 μm was attached in the major axis direction of a cylinder having a width of 1 m and a diameter of 318.47 mm. A PET film having a thickness of 180 μm was wound around the surface of a cylinder, which is a cylindrical support, and the positions were aligned and fixed so that both ends of the PET film came to the double-sided adhesive tape.
The adjusted photosensitive resin composition is formed on a PET film into a sheet having a thickness of 2.8 mm, and the metal halide stamp “M056-L21” (trade name, manufactured by Eye Graphics Co., Ltd.) is removed while rotating the cylinder. The incoming light was irradiated from the surface where the photosensitive resin layer was exposed in the atmosphere to obtain a photocured product. The amount of energy irradiated was 4000 mJ / cm 2 (a value obtained by integrating the illuminance measured with the UV-35-APR filter over time). The lamp illuminance on the irradiated surface was measured using a UV meter “UV-M02” (trade name, manufactured by Oak Manufacturing Co., Ltd.). The lamp illuminance measured using the UV-35-APR filter was 100 mW / cm 2 , and the lamp illuminance measured using the UV-25-filter was 14 mW / cm 2 .
The surface of the obtained photocured product was cut with a cutting tool while rotating the cylinder, and then ground while rotating the cylinder and a carborundum grinding wheel, and the surface was polished using a 1000th sandpaper.
The time required from the step of winding the PET film around the surface of the cylindrical support to the polishing step was about 20 minutes.
The thickness of the obtained photocured product was uniform, and the thickness accuracy including the PET film was 2.8 mm ± 10 μm. The thickness was measured at intervals of 3 cm using an apparatus “Digimatic Indicator ID-C112” (trade name, manufactured by Mitutoyo Corporation) capable of measuring up to 1 μm.

(シート状印刷基材の作製)
上記のようにして得られた光硬化物の表面に、30cm間隔でバイトを用いて幅20mm、深さ1mmの帯状凹パターンを、シリンダーを回転させながら切削方法により形成した。更に、シリンダーを固定し、幅20mmのグラインディングホイールを回転させながら、シリンダーの長軸方向へ移動させながら深さ1mmの凹パターンを20cm間隔で形成した。形成したパターンをシート状印刷基材の上部から見た図を図2(A)に示した。
更に、シート状支持体として用いたPETフィルムの両端部の継ぎ目部でカッターを用いて光硬化物層を切断し、シート状印刷基材1をシリンダーから剥がし取った。
光硬化物の表面に凹パターンを形成するのに必要な時間は、約10分であった。
(Preparation of sheet-like printing substrate)
A band-shaped concave pattern having a width of 20 mm and a depth of 1 mm was formed on the surface of the photocured product obtained as described above using a cutting tool at intervals of 30 cm by a cutting method while rotating the cylinder. Furthermore, while fixing the cylinder and rotating a grinding wheel having a width of 20 mm, a concave pattern having a depth of 1 mm was formed at intervals of 20 cm while moving in the longitudinal direction of the cylinder. The figure which looked at the formed pattern from the upper part of the sheet-like printing base material was shown to FIG. 2 (A).
Furthermore, the photocured material layer was cut using a cutter at the joints at both ends of the PET film used as the sheet-like support, and the sheet-like printing substrate 1 was peeled off from the cylinder.
The time required to form the concave pattern on the surface of the photocured product was about 10 minutes.

(印刷評価)
上記のようにして得られたシート状印刷基材1と液晶配向膜印刷機を用いて、印刷評価を実施した。ガラス基板の洗浄処理面に、銀の超微粒子(平均粒子径7nm)を分散させた導電性インキ「銀ナノペースト」(商品名、ハリマ化成社製、溶剤 テトラデカン、溶剤含有率30wt%)の粘度を溶剤成分で調整して使用し、焼成後のインキの膜厚が1μmとなるように印刷、乾燥、焼成(温度150℃)を行った。シート状印刷基材には18cm×28cmの凸状パターンが形成されており、その寸法のべたパターンが、ガラス表面に均一に形成された。焼成後の膜厚は1μmで均一であった。
(Print evaluation)
Printing evaluation was carried out using the sheet-like printing substrate 1 obtained as described above and a liquid crystal alignment film printer. Viscosity of conductive ink “silver nanopaste” (trade name, manufactured by Harima Kasei Co., Ltd., solvent tetradecane, solvent content 30 wt%) in which ultrafine particles of silver (average particle diameter 7 nm) are dispersed on the surface of the glass substrate to be cleaned Were used by adjusting with solvent components, and printing, drying, and firing (temperature 150 ° C.) were performed so that the film thickness of the ink after firing was 1 μm. A convex pattern of 18 cm × 28 cm was formed on the sheet-like printing substrate, and a solid pattern of that dimension was uniformly formed on the glass surface. The film thickness after firing was 1 μm and uniform.

(膨潤率の測定)
試験サンプルは、前記感光性樹脂組成物アを10mm×50mm、厚さ1mmに塗布し、フレキソ製販機「ALF製版機」(商標、旭化成ケミカルズ社製)を用いて1800mJ/cmのエネルギーを照射することにより硬化させ調整した。
作製した試験サンプルを、上記「銀ナノペースト」(商品名)の希釈溶剤であるテトラデカン中に、20℃、24時間浸漬後、表面に付着した液滴を拭き取り、重量増加量を測定することにより膨潤率を求めた。その結果、膨潤率は3.0%であった。
(Measurement of swelling rate)
The test sample was applied to the photosensitive resin composition 10 mm × 50 mm in a thickness of 1 mm, and irradiated with energy of 1800 mJ / cm 2 using a flexo sales machine “ALF plate making machine” (trademark, manufactured by Asahi Kasei Chemicals). To cure and adjust.
By immersing the prepared test sample in tetradecane, which is a dilution solvent of the above “silver nanopaste” (trade name), at 20 ° C. for 24 hours, wiping off droplets adhering to the surface, and measuring the amount of weight increase The swelling rate was determined. As a result, the swelling rate was 3.0%.

[実施例2]
(樹脂(α)の製造)
温度計、攪拌機を備えた2Lのセパラブルフラスコにジエチレングリコール212重量部、プロピレングリコール152重量部、1,4―ブタンジオール90重量部及びアジピン酸511重量部、フマル酸87重量部、テトラヒドロ無水フタル酸127重量部、p−メトキシフェノール1.2重量部を窒素雰囲気中で常圧、230℃で4時間反応させ、次いで100mmHg減圧下でさらに4時間反応させ、酸価23の不飽和ポリエステルを得た。
この不飽和ポリエステル560重量部、ヘキサメチレンジイソシアネート33.6重量部及び2、6−ジーtert−ブチル−4−メチルフェノール0.6重量部を80℃で4時間混合・反応させ、次いでこの反応物にヒドロキシプロピルメタクリレート43.2重量部及びジブチルチンスズジラウレート0.2重量部を添加し、さらに80℃で2時間反応させることによって不飽和ポリエステルウレタンを得た。このもののGPCによるポリスチレン換算数平均分子量は7000であった。
[Example 2]
(Manufacture of resin (α))
In a 2 L separable flask equipped with a thermometer and a stirrer, 212 parts by weight of diethylene glycol, 152 parts by weight of propylene glycol, 90 parts by weight of 1,4-butanediol, 511 parts by weight of adipic acid, 87 parts by weight of fumaric acid, tetrahydrophthalic anhydride 127 parts by weight and 1.2 parts by weight of p-methoxyphenol were reacted in a nitrogen atmosphere at normal pressure and 230 ° C. for 4 hours, and then further reacted under reduced pressure of 100 mmHg for 4 hours to obtain an unsaturated polyester having an acid value of 23. .
560 parts by weight of this unsaturated polyester, 33.6 parts by weight of hexamethylene diisocyanate and 0.6 part by weight of 2,6-di-tert-butyl-4-methylphenol were mixed and reacted at 80 ° C. for 4 hours. Then, 43.2 parts by weight of hydroxypropyl methacrylate and 0.2 parts by weight of dibutyltin tin dilaurate were added, and the mixture was further reacted at 80 ° C. for 2 hours to obtain unsaturated polyester urethane. The polystyrene equivalent number average molecular weight of this product by GPC was 7000.

(感光性樹脂組成物の調整)
上記のように製造した不飽和ポリエステルウレタン66.8重量部に対し、有機化合物(β)としてジエチレングリコールジメタクリレート16.63重量部、ジアセトンアクリルアミド8.28重量部、ジエチレングリコールジメタクリレート8.28重量部、光重合開始剤として2,2−ジメトキシー2−フェニルアセトフェノン0.6重量部、ベンゾフェノン1重量部、添加剤として無機多孔質体「サイロスフェアーC−1504」(富士シシリア化学株式会社製、多孔質性微粉末シリカ、商標、数平均粒子径4.5μm、比表面積520m/g、平均細孔径12nm、細孔容積1.5ml/g、灼熱減量2.5wt%、吸油量290ml/100g)5重量部、重合禁止剤として2,6−ジーt−ブチルー4−メチルフェノール0.05重量部を混合し、感光性樹脂組成物イを得た。
(Adjustment of photosensitive resin composition)
With respect to 66.8 parts by weight of the unsaturated polyester urethane produced as described above, 16.63 parts by weight of diethylene glycol dimethacrylate, 8.28 parts by weight of diacetone acrylamide, and 8.28 parts by weight of diethylene glycol dimethacrylate as the organic compound (β). In addition, 0.6 part by weight of 2,2-dimethoxy-2-phenylacetophenone as a photopolymerization initiator and 1 part by weight of benzophenone as an additive, an inorganic porous material “Pyrospher C-1504” (manufactured by Fuji Sicilian Chemical Co., Ltd., porous Fine powder silica, trademark, number average particle diameter 4.5 μm, specific surface area 520 m 2 / g, average pore diameter 12 nm, pore volume 1.5 ml / g, loss on ignition 2.5 wt%, oil absorption 290 ml / 100 g) 5 parts by weight, 2,6-di-tert-butyl-4-methylphenol as a polymerization inhibitor 0 05 parts by weight were mixed to obtain a photosensitive resin composition b.

(シート状感光性樹脂硬化物の形成)
感光性樹脂組成物イを用いる以外は、実施例1と同様にしてシート状印刷基材を作製した。
得られたシート状印刷基材の厚みは均一であり、その精度は2.8mm±10μmであった。尚、測定は実施例1に記載の方法で行った。
(Formation of sheet-shaped photosensitive resin cured product)
A sheet-like printing substrate was prepared in the same manner as in Example 1 except that the photosensitive resin composition i was used.
The thickness of the obtained sheet-like printing substrate was uniform, and the accuracy was 2.8 mm ± 10 μm. The measurement was performed by the method described in Example 1.

(シート状印刷基材の作製)
得られたシート状感光性樹脂硬化物に、実施例1と同様にして凹パターンを形成し、シリンダーから剥がすことによりシート状印刷基材2を得た。
(Preparation of sheet-like printing substrate)
A concave pattern was formed in the obtained sheet-shaped photosensitive resin cured product in the same manner as in Example 1, and the sheet-shaped printing substrate 2 was obtained by peeling off from the cylinder.

(印刷評価)
上記のようにして得られたシート状印刷基材2を用いて、実施例1と同じ印刷機を用いて、有機高EL発光層の印刷評価を実施した。被印刷基材としては、厚さ0.7mmのガラス基板(ソーダライムガラス)の表面に、真空蒸着法によって厚さ0.1μmのITO膜(陽極)を形成後、UV−オゾン洗浄を施し、有機物等の付着物を除去した後、当該機材のITO膜側の表面にスピンコート法により正孔輸送材料として、ポリエチレンジオキシチオフェンを含有するコーティング液「Baytron P」(商標、ポリエチレンジオキシチオフェンーポリスチレンスルフォネート(PEDT/PSS)、バイエル社製)を塗布し、70〜80℃で乾燥させることにより正孔輸送層を作製した。有機高分子発光体にはポリ(9,9−ジアルキルフルオレン(PDAF))を用い、固形分濃度が2wt%となるように溶剤(キシレン)で中に溶解させて、発光層形成用のインキとして使用し、印刷を行った。その結果、上記正孔輸送層上に印刷されたインキの厚み(乾燥前)は6μmであり、80℃で30分乾燥後の発光層の厚みは0.12μmで均一であった。
(Print evaluation)
Using the sheet-like printing substrate 2 obtained as described above, the printing evaluation of the organic high EL light emitting layer was performed using the same printing machine as in Example 1. As a substrate to be printed, an ITO film (anode) having a thickness of 0.1 μm is formed on the surface of a 0.7 mm thick glass substrate (soda lime glass) by a vacuum deposition method, and then UV-ozone cleaning is performed. After removing the deposits such as organic matter, the coating liquid “Baytron P” (trademark, polyethylene dioxythiophene) containing polyethylene dioxythiophene as a hole transport material by spin coating on the surface of the ITO film side of the equipment. Polystyrene sulfonate (PEDT / PSS, manufactured by Bayer) was applied and dried at 70 to 80 ° C. to prepare a hole transport layer. Poly (9,9-dialkylfluorene (PDAF)) is used as the organic polymer light-emitting body, and it is dissolved in a solvent (xylene) so that the solid content concentration is 2 wt%. Used and printed. As a result, the thickness of the ink printed on the hole transport layer (before drying) was 6 μm, and the thickness of the light emitting layer after drying at 80 ° C. for 30 minutes was 0.12 μm and uniform.

(膨潤率の測定)
試験サンプルは、前記感光性樹脂組成物イを10mm×50mm、厚さ1mmに塗布し、フレキソ製販機「ALF製版機」(商標、旭化成ケミカルズ社製)を用いて1800mJ/cmのエネルギーを照射することにより硬化させ調整した。
作製した試験サンプルを、上記発光層形成用のインキの溶剤であるキシレン中に、20℃、24時間浸漬後、表面に付着した液滴を拭き取り、重量増加量を測定することにより膨潤率を求めた。その結果、膨潤率は1.1%であった。
(Measurement of swelling rate)
The test sample was coated with the photosensitive resin composition A 10 mm × 50 mm in a thickness of 1 mm, and irradiated with energy of 1800 mJ / cm 2 using a flexo sales machine “ALF plate making machine” (trademark, manufactured by Asahi Kasei Chemicals). To cure and adjust.
The prepared test sample is immersed in xylene, which is the solvent of the ink for forming the light emitting layer, at 20 ° C. for 24 hours, and then the droplet adhering to the surface is wiped off, and the weight increase is measured to determine the swelling rate. It was. As a result, the swelling rate was 1.1%.

[実施例3]
(樹脂(α)の製造)
温度計、攪拌機を備えた1Lのセパラブルフラスコに、ポリカーボネートジオール「PCDL L4672」(商標、旭化成ケミカルズ株式会社製、数平均分子量1990、OH価56.4)100重量部とトリレンジイソシアネート6.9重量部を加え80℃に加温下3時間反応させたのち、2―メタクリロイルオキシイソシアネート3.3重量部を添加し、更に3時間反応させて不飽和ポリウレタンを得た。このもののGPCによるポリスチレン換算数平均分子量は約10000であった。
[Example 3]
(Manufacture of resin (α))
In a 1 L separable flask equipped with a thermometer and a stirrer, 100 parts by weight of polycarbonate diol “PCDL L4672” (trademark, manufactured by Asahi Kasei Chemicals Corporation, number average molecular weight 1990, OH value 56.4) and tolylene diisocyanate 6.9 After adding parts by weight, the mixture was allowed to react at 80 ° C. for 3 hours, and then 3.3 parts by weight of 2-methacryloyloxyisocyanate was added, followed by further reaction for 3 hours to obtain an unsaturated polyurethane. The polystyrene-reduced number average molecular weight of this product by GPC was about 10,000.

(感光性樹脂組成物の調整)
上記のように製造した不飽和ポリウレタン100重量部に対し、有機化合物(β)としてベンジルメタクリレート25重量部、シクロメタクリレート19重量部、ブトキシジエチレングリコールメタクリレート6重量部、光重合開始剤として2,2−ジメトキシー2−フェニルアセトフェノン0.6重量部、ベンゾフェノン1重量部、添加剤として無機多孔質体「サイロスフェアーC−1504」(富士シシリア化学株式会社製、多孔質性微粉末シリカ、商標、数平均粒子径4.5μm、比表面積520m/g、平均細孔径12nm、細孔容積1.5ml/g、灼熱減量2.5wt%、吸油量290ml/100g)5重量部、重合禁止剤として2,6−ジーt−ブチルー4−メチルフェノール0.05重量部を混合し、感光性樹脂組成物ウを得た。
(Adjustment of photosensitive resin composition)
With respect to 100 parts by weight of the unsaturated polyurethane produced as described above, 25 parts by weight of benzyl methacrylate, 19 parts by weight of cyclomethacrylate, 6 parts by weight of butoxydiethylene glycol methacrylate as an organic compound (β), and 2,2-dimethoxy as a photopolymerization initiator 0.6 parts by weight of 2-phenylacetophenone, 1 part by weight of benzophenone, and inorganic porous material “Phosphorus C-1504” (manufactured by Fuji Sicilian Chemical Co., Ltd., porous fine powder silica, trademark, number average particle) 4.5 μm diameter, specific surface area 520 m 2 / g, average pore diameter 12 nm, pore volume 1.5 ml / g, ignition loss 2.5 wt%, oil absorption 290 ml / 100 g) 5 parts by weight, 2,6 as a polymerization inhibitor -Mixing 0.05 parts by weight of di-t-butyl-4-methylphenol, photosensitive resin composition It was obtained.

(シート状印刷基材の作製)
感光性樹脂組成物ウを用いる以外は、実施例1と同様にしてシート状印刷基材3を作製した。得られたシート状印刷基材の厚みは均一であり、その精度は2.8mm±10μmであった。尚、測定は実施例1に記載の方法で行った。
(Preparation of sheet-like printing substrate)
A sheet-like printing substrate 3 was produced in the same manner as in Example 1 except that the photosensitive resin composition was used. The thickness of the obtained sheet-like printing substrate was uniform, and the accuracy was 2.8 mm ± 10 μm. The measurement was performed by the method described in Example 1.

(印刷評価)
シート状印刷基材3を用いる以外は、実施例1と同様にして印刷評価を行った。その結果、焼成後の膜厚は1μmで均一であった。
(Print evaluation)
Printing evaluation was performed in the same manner as in Example 1 except that the sheet-like printing substrate 3 was used. As a result, the film thickness after firing was 1 μm and uniform.

(膨潤率の測定)
試験サンプルは、前記感光性樹脂組成物ウを10mm×50mm、厚さ1mmに塗布し、フレキソ製販機「ALF製版機」(商標、旭化成ケミカルズ社製)を用いて1800mJ/cmのエネルギーを照射することにより硬化させ調整した。
作製した試験サンプルを、上記「銀ナノペースト」(商品名)の希釈溶剤であるテトラデカン中に、20℃、24時間浸漬後、表面に付着した液滴を拭き取り、重量増加量を測定することにより膨潤率を求めた。その結果、膨潤率は0.9%であった。
(Measurement of swelling rate)
The test sample was coated with the photosensitive resin composition 10 mm × 50 mm in a thickness of 1 mm, and irradiated with 1800 mJ / cm 2 of energy using a flexo sales machine “ALF plate making machine” (trademark, manufactured by Asahi Kasei Chemicals). To cure and adjust.
By immersing the prepared test sample in tetradecane, which is a dilution solvent of the above “silver nanopaste” (trade name), at 20 ° C. for 24 hours, wiping off droplets adhering to the surface, and measuring the amount of weight increase The swelling rate was determined. As a result, the swelling rate was 0.9%.

[比較例1]
(感光性樹脂版の作製)
実施例1と同じ感光性樹脂組成物アを用い、フレキソ版用製版機のガラス面に、寸法が1100mm×1000mm、厚さ180μmのPETフィルムの片面に厚さ数μmの接着剤が塗布されている感光性樹脂版用ベースフィルムを接着剤層の塗布されている面が上になるように置き、真空密着させた。このベースフィルム上に、前記感光性樹脂組成物アを、寸法1000mm×900mmの領域に厚みを2.62mmに設定して、キャリッジを用い、かつ厚さ100μmの透明カバーフィルムを用いて成形展着した。前記キャリッジとは、ラミネートローラー、バケット(樹脂溜め)、フィルムおよびガイド等の付いた走行式の成形展着装置であり、ガラス面に沿ったスペーサー(版の厚みを規制するため上下動するレール)上を走りながら感光性樹脂組成物を流延し、フィルムを送り込みながら所定の厚さに感光性樹脂組成物層を展着(コート)する装置である。
次に、得られた積層体の上部から前記製版機に備え付けられた露光装置により紫外線を照射し、感光性樹脂組成物アを硬化させた。露光終了後、カバーフィルムを剥離し、感光性樹脂硬化物を得た。PETベースフィルムおよび感光性樹脂硬化物の厚みを測定したところ、その精度は2.8mm±50μmで、実施例1に比較して不均一であった。尚、測定は実施例1に記載の方法で行った。
[Comparative Example 1]
(Preparation of photosensitive resin plate)
Using the same photosensitive resin composition as in Example 1, an adhesive having a thickness of several micrometers is applied to one side of a PET film having dimensions of 1100 mm × 1000 mm and a thickness of 180 μm on the glass surface of a plate making machine for flexographic plates. The photosensitive resin plate base film was placed so that the surface on which the adhesive layer was applied faced up, and was brought into vacuum contact. On the base film, the photosensitive resin composition is molded and spread using a carriage and a transparent cover film having a thickness of 100 μm with a thickness set to 2.62 mm in an area of 1000 mm × 900 mm. did. The carriage is a traveling molding and spreading device having a laminate roller, a bucket (resin reservoir), a film, a guide, and the like, and a spacer along the glass surface (a rail that moves up and down to regulate the thickness of the plate). This is an apparatus for casting (coating) the photosensitive resin composition layer to a predetermined thickness while casting the photosensitive resin composition while running on top and feeding the film.
Next, the photosensitive resin composition was cured by irradiating ultraviolet rays from the upper part of the obtained laminate with an exposure device provided in the plate making machine. After completion of exposure, the cover film was peeled off to obtain a cured photosensitive resin. When the thicknesses of the PET base film and the cured photosensitive resin were measured, the accuracy was 2.8 mm ± 50 μm, which was not uniform as compared with Example 1. The measurement was performed by the method described in Example 1.

(レーザー彫刻)
得られた感光性樹脂硬化物表面を、炭酸ガスレーザー彫刻機「ZED−mini−1000」(ZED社製、商標)を用いて、実施例1と同様の凹パターンを彫刻した。レーザー彫刻に用いたレーザー彫刻機の1本のレーザービームは、約25μmの径に集光され、レーザーの平均出力は250Wであった。レーザー彫刻を完了させるのに要した時間は、3時間であった。
(Laser engraving)
A concave pattern similar to that of Example 1 was engraved on the surface of the obtained cured cured photosensitive resin using a carbon dioxide laser engraving machine “ZED-mini-1000” (trademark, manufactured by ZED). One laser beam of the laser engraving machine used for laser engraving was condensed to a diameter of about 25 μm, and the average output of the laser was 250 W. The time required to complete the laser engraving was 3 hours.

(印刷評価)
実施例1と同様にして印刷評価を行った。その結果、ガラス表面に形成された280mm×180mmのべたパターンにおいて、実施例1に比較して不均一が劣っており、干渉縞が見られ、ムラも目立った。
(Print evaluation)
Printing evaluation was performed in the same manner as in Example 1. As a result, in the solid pattern of 280 mm × 180 mm formed on the glass surface, the non-uniformity was inferior to that of Example 1, interference fringes were observed, and unevenness was conspicuous.

[比較例2]
(感光性樹脂版の作製)
実施例1と同じ感光性樹脂組成物アを用い、フレキソ版用製版機のガラス面に、厚さ180μmのPETフィルムの片面に厚さ数μmの接着剤が塗布されている感光性樹脂版用ベースフィルムを接着剤層の塗布されている面が上になるように置き、真空密着させた。このベースフィルム上に、前記感光性樹脂組成物Aを厚み2.62mmにキャリッジを用い、かつ凸パターン形成用のネガフィルムを用いて成形展着した。前記キャリッジとは、ラミネートローラー、バケット(樹脂溜め)、ネガフィルムおよびガイド等の付いた走行式の成形展着装置であり、ガラス面に沿ったスペーサー(版の厚みを規制するため上下動するレール)上を走りながら感光性樹脂組成物を流延し、ネガフィルムを送り込みながら所定の厚さに感光性樹脂組成物層を展着(コート)する装置である。前記ネガフィルムには、実施例1と同様に280mm×180mmの開口パターンが規則的に配列したパターンが形成されていた。
[Comparative Example 2]
(Preparation of photosensitive resin plate)
For the photosensitive resin plate, the same photosensitive resin composition as in Example 1 is used, and an adhesive having a thickness of several μm is applied to one side of a 180 μm thick PET film on the glass surface of a flexographic plate making machine. The base film was placed so that the surface on which the adhesive layer was applied was facing up, and was brought into vacuum contact. On the base film, the photosensitive resin composition A was molded and spread using a carriage having a thickness of 2.62 mm and a negative film for forming a convex pattern. The carriage is a traveling molding and spreading device having a laminate roller, a bucket (resin reservoir), a negative film, a guide, and the like. A spacer along the glass surface (a rail that moves up and down to regulate the thickness of the plate) ) A device that casts the photosensitive resin composition to a predetermined thickness while casting the photosensitive resin composition while running on top and feeding a negative film. On the negative film, a pattern in which opening patterns of 280 mm × 180 mm were regularly arranged was formed as in Example 1.

次に、得られた積層体の上部から前記製版機の下部に備え付けられた露光装置により先ず紫外線を照射し、ベースとなる部分を全面露光し、更に上部に備え付けられた光源から前記ネガフィルムを通して露光することにより、感光性樹脂組成物アを硬化させた。露光終了後、ネガフィルムを剥離し、紫外線の照射されていない未硬化部分をへらで掻き落とし回収し、次いで弱アルカリ洗浄剤で該未硬化部を完全に除去した。更に、水中において紫外線を照射し、樹脂版を完全に硬化させ、その後、熱風式乾燥機を用いて水分を除去することにより、シート状印刷基材を得た。すなわち、版厚2.8mm、凹パターンの深さ1mmを有するシート状印刷基材を得た。このシート状印刷基材の280mm×180mmのべたパターンの中央部は、周辺部に比較して低く、高低差は約50μmであった。尚、測定は商品名「システム電動生物顕微鏡 BX−61」(オリンパス光学工業社製)で行った。   Next, an ultraviolet ray is first irradiated from the upper part of the obtained laminate by an exposure device provided at the lower part of the plate making machine, the entire part is exposed to the base, and the light source provided at the upper part is passed through the negative film. The photosensitive resin composition a was hardened by exposing. After the exposure was completed, the negative film was peeled off, and the uncured portion that was not irradiated with ultraviolet rays was scraped off and collected, and then the uncured portion was completely removed with a weak alkaline detergent. Furthermore, ultraviolet rays were irradiated in water to completely cure the resin plate, and then water was removed using a hot air dryer to obtain a sheet-like printing substrate. That is, a sheet-like printing substrate having a plate thickness of 2.8 mm and a concave pattern depth of 1 mm was obtained. The central portion of the solid pattern of 280 mm × 180 mm of this sheet-like printing substrate was lower than the peripheral portion, and the height difference was about 50 μm. The measurement was performed with a trade name “System Electric Biological Microscope BX-61” (manufactured by Olympus Optical Co., Ltd.).

(印刷評価)
上記のようにして得られたシート状印刷基材を用いる以外は、実施例1と同様にして印刷評価を行った。その結果、280mm×180mmのべたパターンは、印圧の低い条件では、べたパターンの外周部のみが印刷され、中央部では印刷されていない状態であった。また、印圧を高く設定した条件での印刷においても、べたパターンの端部が厚く、中央部が薄いものであった。
(Print evaluation)
Printing evaluation was performed in the same manner as in Example 1 except that the sheet-like printing substrate obtained as described above was used. As a result, the solid pattern of 280 mm × 180 mm was in a state where only the outer peripheral portion of the solid pattern was printed and the central portion was not printed under a low printing pressure condition. Even in printing under conditions where the printing pressure was set high, the end of the solid pattern was thick and the center was thin.

本発明は電子部材又は光学部材等の製造で用いられる印刷基材の製造方法に関するものであり、更に詳しくは電子部材形成用の電子材料又は光学部材形成用の光学材料を被印刷基材上に塗布するための印刷基材の製造方法、電子部品又は光学部材の製造方法、印刷基材の再生方法として好適である。本発明により得られる刷基材は、導体、半導体、絶縁体パターン形成、レジスト材料パターン形成、光学部品の反射防止膜、カラーフィルター、(近)赤外線カットフィルター等の機能性材料のパターン形成、更には液晶ディスプレイ又は有機エレクトロルミネッセンスディスプレイ等の表示素子の製造における配向膜、下地層、発光層、電子輸送層、封止材層の塗膜・パターン形成に適したものである。   The present invention relates to a method for producing a printing substrate used in the production of an electronic member or an optical member, and more specifically, an electronic material for forming an electronic member or an optical material for forming an optical member on a substrate to be printed. It is suitable as a method for producing a printing substrate for application, a method for producing an electronic component or an optical member, and a method for regenerating a printing substrate. The printing substrate obtained by the present invention is a conductor, semiconductor, insulator pattern formation, resist material pattern formation, antireflection film for optical components, color filter, pattern formation of functional materials such as (near) infrared cut filter, Is suitable for forming a coating film / pattern of an alignment film, a base layer, a light emitting layer, an electron transport layer, and a sealing material layer in the production of a display element such as a liquid crystal display or an organic electroluminescence display.

本発明で使用する円筒状支持体の一例を示す概略図である。It is the schematic which shows an example of the cylindrical support body used by this invention. (A)は本発明でシート状印刷基材のパターンを上から見た概略図である。(B)は本発明のシート状印刷基材を線Cで切断した場合の断面図である。(A) is the schematic which looked at the pattern of the sheet-like printing base material from the top by this invention. (B) is sectional drawing at the time of cut | disconnecting the sheet-like printing base material of this invention by the line C. FIG.

符号の説明Explanation of symbols

1 円筒状支持体表面
2 円筒状支持体の長軸
3 凹パターンの間隔
4 凹パターンの幅
5 凹パターンの深さ
6 シート状印刷基材の厚さ
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Cylindrical support body surface 2 Long axis of cylindrical support body 3 Space | gap of concave pattern 4 Width of concave pattern 5 Depth of concave pattern 6 Thickness of sheet-like printing substrate

Claims (13)

(a)円筒状支持体表面に樹脂硬化物層を形成する工程、(b)得られた樹脂硬化物層の表面に、切削、研削、研磨から選択される少なくとも1種類の方法を使用して、前記樹脂硬化物層の厚み、粗度を調整する工程、(c)形成された樹脂硬化物層表面に形成される凹パターンであって、円筒状支持体の長軸方向及び円周方向に配列する印刷パターンである凸部のパターン間に存在する、溝状の凹パターンを形成する凹パターン形成工程
を含み、
前記工程(c)の凹パターンを形成する方法が、切削、研削から選択される少なくとも1種類の方法であり、前記円筒状支持体を円周方向へ回転させながら溝状の凹パターンを形成する工程および前記円筒状支持体を固定して該円筒状支持体の長軸方向へ溝状の凹パターンを形成する工程を含み、更に前記溝状の凹パターンが、幅0.05mm以上50mm以下、深さ0.05mm以上20mm以下の直線状パターンであることを特徴とする印刷基材の製造方法。
(A) a step of forming a cured resin layer on the surface of the cylindrical support, (b) at least one method selected from cutting, grinding, and polishing on the surface of the obtained cured resin layer. A step of adjusting the thickness and roughness of the cured resin layer , and (c) a concave pattern formed on the surface of the formed cured resin layer , in the major axis direction and the circumferential direction of the cylindrical support. A concave pattern forming step for forming a groove-shaped concave pattern , which exists between the patterns of convex portions which are print patterns to be arranged ;
Including
A method of forming a concave pattern of the step (c), the cutting, at least one method selected Grinding or al, the groove-shaped concave patterns while rotating the cylindrical support in the circumferential direction And a step of fixing the cylindrical support and forming a groove-shaped concave pattern in the longitudinal direction of the cylindrical support, and the groove-shaped concave pattern has a width of 0.05 mm or more and 50 mm. hereinafter, a method of manufacturing a printed substrate, which is a less straight linear pattern 20mm or more depth 0.05 mm.
前記工程(b)により、樹脂硬化物層の厚み精度を30μm以下とする、請求項1に記載の印刷基材の製造方法。 The manufacturing method of the printing base material of Claim 1 which sets the thickness precision of a resin cured material layer to 30 micrometers or less by the said process (b). 前記工程(a)が(d)シート状支持体を円筒状支持体表面に巻きつける工程、(e)円筒状支持体表面に巻きつけられたシート状支持体上に樹脂組成物を塗布し樹脂組成物層を形成する工程、(f)形成された樹脂組成物層を硬化させ樹脂硬化物層を形成する工程を含むこと、かつ前記工程(c)の後に、(g)樹脂硬化物層を前記円筒状支持体の長軸方向に切断することによりシート状に加工する工程を含む、請求項1又は2に記載の印刷基材の製造方法。 The step (a) includes (d) a step of winding the sheet-like support around the surface of the cylindrical support, and (e) applying a resin composition onto the sheet-like support wound around the surface of the cylindrical support and applying a resin. forming a composition layer, after (f) curing the resin composition layer formed may include a step of forming a cured resin layer, and wherein step (c), (g) of the cured resin layer The manufacturing method of the printing base material of Claim 1 or 2 including the process processed into a sheet form by cut | disconnecting in the major axis direction of the said cylindrical support body. 前記工程(e)の樹脂組成物が感光性樹脂組成物であること、前記工程(f)の硬化が該感光性樹脂組成物に高エネルギー線を照射することによる硬化である請求項3に記載の印刷基材の製造方法。 It resin composition of the step (e) is a photosensitive resin composition, according to claim 3 cured is cured by irradiation with high-energy radiation to the photosensitive resin composition of the step (f) Manufacturing method of printing substrate. 前記感光性樹脂組成物が20℃において液状であって、ポリカーボネート骨格、ポリエステル骨格、脂肪族炭化水素骨格から選択される少なくとも1種類の分子骨格を有し、かつウレタン結合、アミド結合、イミド結合から選択される少なくとも1種類の結合を有する化合物を含有することを特徴とする請求項4に記載の印刷基材の製造方法。 The photosensitive resin composition is liquid at 20 ° C., has at least one molecular skeleton selected from a polycarbonate skeleton, a polyester skeleton, and an aliphatic hydrocarbon skeleton, and includes a urethane bond, an amide bond, and an imide bond. The method for producing a printing substrate according to claim 4, comprising a compound having at least one selected bond. 前記シート状支持体上に樹脂組成物を塗布する方法が、ドクターブレード塗布法、ダイ押し出し法、スプレー塗布法、グラビアコート法、ロールコート法から選択される少なくとも1種類の方法であることを特徴とする請求項3〜のいずれかに記載の印刷基材の製造方法。 The method of coating the resin composition on the sheet-like support is at least one method selected from a doctor blade coating method, a die extrusion method, a spray coating method, a gravure coating method, and a roll coating method. The manufacturing method of the printing base material in any one of Claims 3-5 . 前記(b)の工程における、前記樹脂硬化物層の表面に、切削、研削、研磨から選択される少なくとも1種類の方法を使用して、前記樹脂硬化物層の厚み、粗度を調整する工程が、円筒状支持体を円周方向に回転させながら行われることを特徴とする請求項1〜のいずれかに記載の印刷基材の製造方法。 In step (b), the surface of the cured resin layer, cutting, grinding, using at least one method selected from grinding, the thickness of the cured resin layer, the step of adjusting the roughness Is carried out while rotating the cylindrical support in the circumferential direction. The method for producing a printing substrate according to any one of claims 1 to 6 . 請求項1〜7のいずれかに記載の方法を用いて作製された印刷基材。 The printing base material produced using the method in any one of Claims 1-7. 液状の電子材料又は光学材料を塗布するために使用されることを特徴とする請求項8に記載の印刷基材。 The printing substrate according to claim 8, which is used for applying a liquid electronic material or an optical material. 請求項8に記載の印刷基材を、印刷機の円筒状印刷胴に取りつける工程、液状の電子材料又は光学材料を該印刷基材表面に付着させ、被印刷基材上に転写させる工程、前記電子材料又は光学材料を前記被印刷基材上に固定化する工程を含むことを特徴とする電子部材又は光学部材を製造する方法。 A step of attaching the printing substrate according to claim 8 to a cylindrical printing cylinder of a printing machine, a step of attaching a liquid electronic material or optical material to the surface of the printing substrate, and transferring the material onto the substrate to be printed, A method for producing an electronic member or an optical member, comprising a step of immobilizing an electronic material or an optical material on the substrate to be printed. 前記電子材料又は光学材料が、芳香族炭化水素化合物、含窒素炭化水素化合物、エステル化合物、アミド化合物、グリコールモノエーテル化合物、含ハロゲン炭化水素化合物から選択される少なくとも1種類の化合物を溶剤成分全重量の20wt%以上含有することを特徴とする請求項10に記載の電子部材又は光学部材を製造する方法。 The electronic material or the optical material contains at least one compound selected from an aromatic hydrocarbon compound, a nitrogen-containing hydrocarbon compound, an ester compound, an amide compound, a glycol monoether compound, and a halogen-containing hydrocarbon compound as a total solvent component The method for producing an electronic member or an optical member according to claim 10, wherein the content is 20 wt% or more. 前記被印刷基材が、ガラス板、セラミックス板、フィルム、金属板、紙から選択される少なくとも1種類の基材であることを特徴とする請求項10又は11に記載の電子部材又は光学部材を製造する方法。 The electronic member or optical member according to claim 10 or 11, wherein the substrate to be printed is at least one kind of substrate selected from a glass plate, a ceramic plate, a film, a metal plate, and paper. How to manufacture. 印刷工程において使用された請求項8に記載の印刷基材を円筒状支持体上に装着した後、該円筒状支持体を円周方向に回転させながら、該印刷基材の表面を再度調整することを特徴とする印刷基材の再生方法。 The surface of the printing substrate is adjusted again while rotating the cylindrical support in the circumferential direction after mounting the printing substrate according to claim 8 used in the printing process on the cylindrical support. A method for regenerating a printing substrate,
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