JP4502367B2 - Method for manufacturing cylindrical flexographic printing plate capable of laser engraving - Google Patents

Method for manufacturing cylindrical flexographic printing plate capable of laser engraving Download PDF

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Description

本発明はフレキソ印刷版用レリーフ画像作成、エンボス加工等の表面加工用パターンの形成、タイル等の印刷用レリーフ画像形成、電子部品の導体、半導体、絶縁体、パターン形成、光学部品の反射防止膜、カラーフィルター、(近)赤外線カットフィルター等の機能性材料のパターン形成、更には液晶ディスプレイあるいは有機エレクトロルミネッセンスディスプレイ等の表示素子の製造における配向膜、下地層、発光層、電子輸送層、封止材層の塗膜・パターン形成に適したフレキソ印刷原版用感光性樹脂組成物および円筒状フレキソ印刷原版に関するものである。   The present invention provides relief image creation for flexographic printing plates, formation of patterns for surface processing such as embossing, relief image formation for printing of tiles, etc., conductors for electronic components, semiconductors, insulators, pattern formation, antireflection films for optical components , Pattern formation of functional materials such as color filters, (near) infrared cut filters, and alignment films, underlayers, light emitting layers, electron transport layers, sealing in the manufacture of display elements such as liquid crystal displays or organic electroluminescence displays The present invention relates to a photosensitive resin composition for flexographic printing original plate suitable for forming a coating film / pattern of a material layer and a cylindrical flexographic printing original plate.

段ボール、紙器、紙袋、軟包装用フィルムなどの包装材、壁紙、化粧板などの建装材、ラベル印刷などに用いられるフレキソ印刷は各種の印刷方式の中でその比重を高めている。これに用いる印刷版の製作には、通常、感光性樹脂が用いられることが多く、液状の樹脂、又はシート状に成形された固体樹脂板を用い、フォトマスクを感光性樹脂上に置き、マスクを通して光を照射し架橋反応を起こさせた後、非架橋部分を現像液で洗い落とすという方法が用いられてきた。近年、感光性樹脂表面にブラックレーヤーという薄い光吸収層を設け、これにレーザー光を照射し感光性樹脂板上に直接マスク画像を形成後、そのマスクを通して光を照射し架橋反応を起こさせた後、光の非照射部分の非架橋部分を現像液で洗い落とす、いわゆるフレキソCTP(Computer to Plate)という技術が開発され、印刷版製作の効率改善効果から、採用が進みつつある。しかしながら、この技術も現像工程が残るなど、効率改善効果も限られたものであり、レーザーを使って直接印刷原版上にレリーフ画像を形成し、しかも現像不要である技術の開発が求められている。その方法として直接レーザーで印刷原版を彫刻する方法が挙げられる。この方法で凸版印刷版やスタンプを作成することは既に行なわれており、それに用いられる材料も知られている。   Flexographic printing used for packaging materials such as cardboard, paper containers, paper bags, flexible packaging films, wallpaper materials, decorative materials such as decorative boards, and label printing has increased its specific gravity among various printing methods. For the production of the printing plate used for this, a photosensitive resin is usually used, and a liquid resin or a solid resin plate formed into a sheet shape is used, a photomask is placed on the photosensitive resin, and the mask is used. A method of irradiating light through the substrate to cause a crosslinking reaction and then washing off the non-crosslinked portion with a developer has been used. In recent years, a thin light-absorbing layer called a black layer has been provided on the surface of a photosensitive resin, and this is irradiated with laser light to form a mask image directly on the photosensitive resin plate, and then light is irradiated through the mask to cause a crosslinking reaction. Later, a so-called flexo CTP (Computer to Plate) technology was developed in which the non-crosslinked portion of the light non-irradiated portion was washed away with a developing solution, and its adoption has been promoted due to the effect of improving the efficiency of printing plate production. However, this technique also has a limited efficiency improvement effect such as the development process remaining, and development of a technique that directly forms a relief image on a printing original plate using a laser and does not require development is required. . As the method, a method of engraving a printing original plate directly with a laser can be mentioned. Producing letterpress printing plates and stamps by this method has already been performed, and materials used therefor are also known.

従来、シート状の印刷版を印刷機の版胴に固定し印刷が行われており、印刷版を版胴に固定する際には、印刷版の位置合わせ、印刷版の下にクッションテープを貼り付けるなどの作業が必要であり、これらの作業に多大な時間を要していた。近年、円筒状支持体上に印刷版を形成し、印刷機のエアーシリンダーに装着するのみで印刷することができるシステムも開発されている。
例えば米国特許3549733号ではポリオキシメチレンまたはポリクロラールを用いることが開示されている。また特許文献1(特表平10−512823号公報(ドイツ国特許A19625749号))にはシリコーンポリマーもしくはシリコーンフッ素ポリマーを用いることが記載されており、その実施例ではアモルファスシリカ等の充填剤を配合している。しかし、これらの公報に記載の発明では、感光性樹脂は用いられておらず、また、円筒状の印刷原版に関する記載もない。
Conventionally, printing is performed by fixing a sheet-shaped printing plate to the plate cylinder of a printing press. When fixing the printing plate to the plate cylinder, the printing plate is aligned, and cushion tape is applied under the printing plate. Work such as attaching was necessary, and it took a lot of time for these work. In recent years, a system has been developed that can perform printing only by forming a printing plate on a cylindrical support and mounting it on an air cylinder of a printing press.
For example, US Pat. No. 3,549,733 discloses the use of polyoxymethylene or polychloral. Further, Patent Document 1 (Japanese Patent Publication No. 10-512823 (German Patent A19625749)) describes the use of a silicone polymer or a silicone fluoropolymer. In this example, a filler such as amorphous silica is blended. is doing. However, in the inventions described in these publications, no photosensitive resin is used, and there is no description regarding a cylindrical printing original plate.

他方、特許文献2(日本国特許第2846954号公報(米国特許第5798202号))、特許文献1(日本国特許第2846955号公報(米国特許第5804353号))にはSBS、SIS、SEBS等の熱可塑性エラストマーを機械的、光化学的、熱化学的に強化された材料を用いることが開示されている。しかし、円筒状印刷原版を形成するには、先ずフレキシブル支持体上にレーザー彫刻可能な層を形成したシートを作製し、このシートを円筒状支持体上に巻きつけ固定化、あるいは表面を整形し継ぎ目のない円筒状印刷原版を形成する方法が記載されている。したがって、円筒状支持体上に直接印刷原版を形成するものではない。   On the other hand, Patent Document 2 (Japanese Patent No. 2846954 (US Pat. No. 5,798,202)) and Patent Document 1 (Japanese Patent No. 2846955 (US Pat. No. 5,804,353)) include SBS, SIS, SEBS and the like. It is disclosed to use a material in which a thermoplastic elastomer is mechanically, photochemically or thermochemically reinforced. However, in order to form a cylindrical printing original plate, first, a sheet having a laser engraveable layer formed on a flexible support is prepared, and this sheet is wound on the cylindrical support and fixed, or the surface is shaped. A method of forming a seamless cylindrical printing original is described. Therefore, the printing original plate is not directly formed on the cylindrical support.

特許文献4(特表2003−526697号公報)に、液状感光性樹脂組成物を用いたレーザー彫刻印刷原版に関する記載があり、レーザー彫刻時に多量に発生する液状カスの除去を、無機多孔質体を用して行っている。レーザー彫刻可能な円筒状印刷原版に関する記載もあるが、用いる液状感光性樹脂組成物は溶剤を含まないものであり、感光性樹脂組成物中の高分子化合物は20℃において液状の樹脂である。   Patent Document 4 (Japanese Translation of PCT International Publication No. 2003-526697) describes a laser engraving printing original plate using a liquid photosensitive resin composition, and removes liquid residue generated in a large amount during laser engraving. I am using it. Although there is also a description regarding a laser-engravable cylindrical printing original plate, the liquid photosensitive resin composition to be used does not contain a solvent, and the polymer compound in the photosensitive resin composition is a liquid resin at 20 ° C.

円筒状支持体上に、加熱溶融させた感光性樹脂を、押し出し成形装置を用いて押し出し、その後カレンダー装置により成形する方法が、特許文献5(特開平9−169060号公報)に記載されている。フレキソ印刷分野で用いられている熱可塑性エラストマーからなる感光性樹脂を加熱溶融させるのに、少なくとも温度を100℃以上にする必要があり、押し出し機を装備するなど極めて大掛かりな装置が必要となる。また、押し出し機の先端に装着されているダイスから押し出される溶融樹脂の膜厚を自由にコントロールするのは難しい。
特表平10−512823号公報 日本国特許第2846954号公報 日本国特許第2846955号公報 特表2003−526697号公報 特開平9−169060号公報
Patent Document 5 (Japanese Patent Application Laid-Open No. 9-169060) discloses a method in which a photosensitive resin heated and melted on a cylindrical support is extruded using an extrusion molding apparatus and then molded by a calendar apparatus. . In order to heat and melt a photosensitive resin made of a thermoplastic elastomer used in the flexographic printing field, at least the temperature needs to be 100 ° C. or higher, and an extremely large apparatus such as an extruder is required. Moreover, it is difficult to freely control the film thickness of the molten resin extruded from a die attached to the tip of the extruder.
Japanese National Patent Publication No. 10-512823 Japanese Patent No. 2846954 Japanese Patent No. 2846955 Special table 2003-526697 gazette JP-A-9-169060

円筒状支持体上に、揮発性溶剤を含有する液状感光性樹脂組成物を直接塗布し、揮発性溶剤を乾燥除去することにより、容易に膜厚を調整した円筒状フレキソ印刷原版を形成できる液状感光性樹脂組成物および円筒状フレキソ印刷原版を提供することを目的とする。   A liquid that can easily form a cylindrical flexographic printing plate with an adjusted film thickness by directly applying a liquid photosensitive resin composition containing a volatile solvent on a cylindrical support and drying and removing the volatile solvent. It is an object of the present invention to provide a photosensitive resin composition and a cylindrical flexographic printing original plate.

本発明者らは鋭意検討し、数平均分子量が1000以上30万以下の重合性不飽和基を有する20℃において固体状の樹脂(a)、数平均分子量が1000未満の重合性不飽和基を有する有機化合物(b)、揮発性溶剤、水素引き抜き型光重合開始剤(d)、崩壊型光重合開始剤(e)を含有する液状感光性樹脂組成物であって、該液状感光性樹脂組成物の粘度が20℃において10Pa・s以上50kPa・s以下である感光性樹脂組成物を円筒状支持体上に載せ感光性樹脂層としたのち、円筒状に形成された感光性樹脂層に大気中で光を照射し架橋硬化させ、感光性樹脂硬化物層とするレーザー彫刻可能な円筒状フレキソ印刷原版の製造方法により、上記の課題を解決できることを見出し、本発明を完成するに至った。
The present inventors have intensively studied, a resin (a) having a polymerizable unsaturated group having a number average molecular weight of 1,000 to 300,000 at 20 ° C., and a polymerizable unsaturated group having a number average molecular weight of less than 1,000. organic compound having (b), a volatile solvent, hydrogen abstraction type photopolymerization initiator (d), a liquid photosensitive resin composition containing a disintegrating photopolymerization initiator (e), the liquid photosensitive A photosensitive resin layer having a viscosity of 10 Pa · s or more and 50 kPa · s or less at 20 ° C. is placed on a cylindrical support to form a photosensitive resin layer, and then the photosensitive resin layer formed in a cylindrical shape It was found that the above-mentioned problems can be solved by a method for producing a laser-engravable cylindrical flexographic printing original plate that is irradiated with light in the atmosphere to be crosslinked and cured to form a photosensitive resin cured product layer, and the present invention has been completed. It was.

本発明は下記の通りである。
1. 数平均分子量が1000以上30万以下の重合性不飽和基を有する20℃において固体状の樹脂(a)、数平均分子量が1000未満の重合性不飽和基を有する有機化合物(b)、揮発性溶剤、水素引き抜き型光重合開始剤(d)、崩壊型光重合開始剤(e)を含有する液状感光性樹脂組成物であって、該液状感光性樹脂組成物の粘度が20℃において10Pa・s以上50kPa・s以下である感光性樹脂組成物を円筒状支持体上に載せ感光性樹脂層としたのち、円筒状に形成された感光性樹脂層に大気中で光を照射し架橋硬化させ、感光性樹脂硬化物層とするレーザー彫刻可能な円筒状フレキソ印刷原版の製造方法
2.樹脂(a)の軟化する温度が350℃以下であることを特徴とする1.に記載のレーザー彫刻可能な円筒状フレキソ印刷原版の製造方法
3.樹脂(a)が熱可塑性エラストマーであることを特徴とする1.、2.のいずれかに記載のレーザー彫刻可能な円筒状フレキソ印刷原版の製造方法。
The present invention is as follows.
1. Solid resin (a) at 20 ° C. having a polymerizable unsaturated group having a number average molecular weight of 1000 or more and 300,000 or less, an organic compound (b) having a polymerizable unsaturated group having a number average molecular weight of less than 1000, and volatility solvents, hydrogen abstraction type photopolymerization initiator (d), a liquid photosensitive resin composition containing a disintegrating photopolymerization initiator (e), the viscosity of the liquid photosensitive resin composition is 20 ° C. A photosensitive resin composition of 10 Pa · s or more and 50 kPa · s or less is placed on a cylindrical support to form a photosensitive resin layer, and then the photosensitive resin layer formed in a cylindrical shape is irradiated with light in the air to crosslink. A method for producing a laser-engravable cylindrical flexographic printing plate that is cured to form a cured photosensitive resin layer .
2. 1. The softening temperature of the resin (a) is 350 ° C. or less. A method for producing a cylindrical flexographic printing plate capable of laser engraving as described in 1.
3. 1. The resin (a) is a thermoplastic elastomer. 2. A method for producing a cylindrical flexographic printing original plate capable of laser engraving according to any one of the above .

.水素引き抜き型光重合開始剤(d)が、ベンゾフェノン類、キサンテン類、アントラキノン類から選ばれる少なくとも一種類の化合物からなり、かつ崩壊型光重合開始剤(e)が、ベンゾインアルキルエーテル類、2,2−ジアルコキシ−2−フェニルアセトフェノン類、アシルオキシムエステル類、アゾ化合物類、有機イオウ化合物類、ジケトン類から選ばれる少なくとも1種類の化合物からなることを特徴とする1.〜3のいずれか一項に記載のレーザー彫刻可能な円筒状フレキソ印刷原版の製造方法。
4. The hydrogen abstraction type photopolymerization initiator (d) comprises at least one compound selected from benzophenones, xanthenes and anthraquinones, and the decay type photopolymerization initiator (e) comprises benzoin alkyl ethers, 2, 1. It consists of at least one compound selected from 2-dialkoxy-2-phenylacetophenones, acyloxime esters, azo compounds, organic sulfur compounds, and diketones . ~ 3 . The method for producing a cylindrical flexographic printing original plate capable of laser engraving according to any one of the above .

.感光性樹脂組成物が、さらに無機多孔質体(f)を含有し、該無機多孔質体(f)の比表面積が10m/g以上1500m/g以下、平均細孔径が1nm以上1000nm以下、細孔容積が0.1ml/g以上10ml/g以下、かつ吸油量が10ml/100g以上2000ml/100g以下であることを特徴とする1.から.のいずれかに記載のレーザー彫刻可能な円筒状フレキソ印刷原版の製造方法
.無機多孔質体(f)の数平均粒子径が0.1μm以上100μm以下であって、少なくとも70%の粒子の真球度が0.5〜1の範囲の球状粒子であることを特徴とする.に記載のレーザー彫刻可能な円筒状フレキソ印刷原版の製造方法
.前記感光性樹脂組成物を円筒状支持体上に載せ感光性樹脂層を設ける工程と、円筒状に形成された感光性樹脂組成物に大気中で光を照射し架橋硬化せしめる工程との間に、揮発性溶剤を乾燥除去する工程を有する1.〜6.のいずれかに記載のレーザー彫刻可能な円筒状フレキソ印刷原版の製造方法
5 . The photosensitive resin composition further contains an inorganic porous body (f), the specific surface area of the inorganic porous body (f) is 10 m 2 / g or more and 1500 m 2 / g or less, and the average pore diameter is 1 nm or more and 1000 nm or less. The pore volume is 0.1 ml / g or more and 10 ml / g or less, and the oil absorption is 10 ml / 100 g or more and 2000 ml / 100 g or less. To 4 . A method for producing a cylindrical flexographic printing original plate capable of laser engraving according to any one of the above.
6 . The inorganic porous body (f) has a number average particle size of 0.1 μm or more and 100 μm or less, and at least 70% of the particles are spherical particles having a sphericity of 0.5 to 1. 5 . A method for producing a cylindrical flexographic printing plate capable of laser engraving as described in 1.
7 . Between the step of placing the photosensitive resin composition on a cylindrical support and providing a photosensitive resin layer, and the step of irradiating the photosensitive resin composition formed in a cylindrical shape with light in the air to cure by crosslinking. And 1. a step of drying and removing the volatile solvent . ~ 6. A method for producing a cylindrical flexographic printing original plate capable of laser engraving according to any one of the above .

円筒状に形成された感光性樹脂層に照射される光に波長200nm以上450nm以下の光が含まれ、かつ、感光性樹脂組成物の光架橋硬化に用いる光の版面での照度が、オーク製作所社製のUVメーター「UV−M02」(商標)とUV−35−APRフィルターを用いて測定した場合、20mW/cm以上であること、かつ前記UVメーターとUV−25フィルターを用いて測定した場合、5mW/cm以上であることを特徴とする1.〜7.のいずれか一項に記載のレーザー彫刻可能な円筒状フレキソ印刷原版の製造方法。
8 . It includes 450nm or less light than the wavelength 200nm to light irradiated to the photosensitive resin layer formed into a cylindrical shape, and the illuminance on the plate surface of the light used for photo-crosslinking curing of the photosensitive resin composition, ORC Manufacturing If company made of UV Gauge "UV-M02" and (R) was measured using a UV-35-APR filter, it is 20 mW / cm 2 or more and measured using the UV meter and UV-25 filter In this case, it is 5 mW / cm 2 or more . ~ 7. The method for producing a cylindrical flexographic printing original plate capable of laser engraving according to any one of the above .

1.〜8.のいずれかに記載のレーザー彫刻可能な円筒状フレキソ印刷原版の製造方法で得られた印刷原版にレーザー光を照射し、該レーザー照射部を除去することにより凹パターンを形成する工程を含むことを特徴とするレーザー彫刻し形成された円筒状フレキソ印刷版の製造方法。
10ーザー彫刻可能な円筒状フレキソ印刷版の製造方法において、レーザー光を照射し印刷原版を彫刻して凹パターンを形成する工程の後に、彫刻時に発生するカスを洗浄除去する工程、更にその後、波長200nm以上450nm以下の光を、パターンを形成した印刷版表面に照射する工程を含むことを特徴とする.に記載の円筒状フレキソ印刷版の製造方法。
9 . 1. ~ 8. Including a step of forming a concave pattern by irradiating a laser beam onto a printing original plate obtained by the method for manufacturing a cylindrical flexographic printing original plate capable of laser engraving according to any one of the above, and removing the laser irradiation portion A method for producing a cylindrical flexographic printing plate formed by laser engraving.
10 . The method of manufacturing a record Za engravable cylindrical flexographic printing plate, after the step of forming a concave pattern by engraving the printing plate is irradiated with a laser beam, a step of washing away the debris generated during engraving, Thereafter, wavelength the 450nm light below or 200 nm, characterized in that it comprises a step of irradiating the printing plate surface to form a pattern 9. A method for producing a cylindrical flexographic printing plate according to 1.

本発明により、円筒状支持体上に、揮発性溶剤を含有する液状感光性樹脂組成物を直接塗布し、揮発性溶剤を乾燥除去することにより、容易に円筒状フレキソ印刷原版を形成できる液状感光性樹脂組成物および円筒状フレキソ印刷原版を提供することができる。   According to the present invention, a liquid photosensitive resin composition containing a volatile solvent is directly applied onto a cylindrical support, and the cylindrical flexographic printing plate can be easily formed by drying and removing the volatile solvent. The resin composition and the cylindrical flexographic printing original plate can be provided.

以下、さらに詳細に本発明の好ましい実施態様を説明する。
本発明の円筒状印刷原版は、円筒状支持体あるいは円筒状支持体上に、好ましくはクッション層を形成した積層体上に、感光性樹脂層を積層した構成体からなる。積層された感光性樹脂層を、一般的な写真製版技術を用いて凹凸パターン形成することができ、また、該感光性樹脂層全体を光硬化させた感光性樹脂硬化物層にレーザー光を照射し照射部の樹脂が除去されるレーザー彫刻技術を用いて凹凸パターンを形成することもできる。一般的な写真製版技術とは、露光マスクを通して前記感光性樹脂層に光を照射し光が照射された部分を光硬化させる露光工程、それに続き、未硬化部を除去する現像工程を経て凹凸パターンを形成する技術である。露光工程では、ネガマスクを感光性樹脂層に密着させて光を照射することもでき、また、最近の技術として近赤外線レーザーでアブレーション加工できる黒色層を、該感光性樹脂層上に積層し、レーザー光を照射し照射された部分のみを除去して露光マスクを作製する方法も適用できる。更に紫外線レーザー光を走査することにより照射部を硬化させ露光マスクを使用せずに硬化パターンを形成することもできる。また、現像工程では、未硬化部が溶解あるいは分散する現像液をもちいて、未硬化部を除去する方法、熱により未硬化部を溶融させ不織布で吸収除去する熱現像方法を用いることができる。
Hereinafter, preferred embodiments of the present invention will be described in more detail.
The cylindrical printing original plate of the present invention is composed of a cylindrical support or a structure in which a photosensitive resin layer is laminated on a cylindrical support, preferably a laminate in which a cushion layer is formed. The laminated photosensitive resin layer can be formed into a concavo-convex pattern using a general photoengraving technique, and the photosensitive resin cured product layer obtained by photocuring the entire photosensitive resin layer is irradiated with laser light. Then, the concave / convex pattern can be formed by using a laser engraving technique in which the resin in the irradiated portion is removed. General photoengraving technology means that the photosensitive resin layer is irradiated with light through an exposure mask and light-cured on the exposed portion, followed by a development step that removes the uncured portion, and then a concavo-convex pattern. Is a technology to form In the exposure process, the negative mask can be adhered to the photosensitive resin layer and irradiated with light, and as a recent technology, a black layer that can be ablated with a near infrared laser is laminated on the photosensitive resin layer, A method for producing an exposure mask by irradiating light and removing only the irradiated portion can also be applied. Furthermore, the irradiation part can be cured by scanning with ultraviolet laser light, and a cured pattern can be formed without using an exposure mask. In the development step, a developing solution in which the uncured portion is dissolved or dispersed can be used to remove the uncured portion, or a heat development method in which the uncured portion is melted by heat and absorbed and removed with a nonwoven fabric.

本発明の印刷原版において、感光性樹脂層を光硬化させた感光性樹脂硬化物層を、レーザー光を用いて直接彫刻し、凹凸パターンを形成する場合、レーザー光が照射された部分の樹脂が除去され凹部が形成される。
本発明の樹脂(a)は、数平均分子量が1000以上30万以下の重合性不飽和基を有し、20℃において固体状であることが好ましい。樹脂(a)の数平均分子量のより好ましい範囲は、2000以上20万以下、更に好ましい範囲は5000以上10万以下である。樹脂(a)の数平均分子量は1000以上であれば、後に架橋して作製する印刷原版が強度を保ち、この原版から作製したレリーフ画像は強く、印刷版などとして用いる場合、繰り返しの使用にも耐えられる。また、樹脂(a)の数平均分子量が30万以下であれば、感光性樹脂組成物の成形加工時の粘度が過度に上昇することもなく、シート状、あるいは円筒状のレーザー彫刻印刷原版を作製することができる。ここで言う数平均分子量とは、ゲル浸透クロマトグラフィーを用いて測定し、分子量既知のポリスチレンで検量し換算した値である。
In the printing original plate of the present invention, when the photosensitive resin cured product layer obtained by photocuring the photosensitive resin layer is directly engraved using a laser beam to form a concavo-convex pattern, the portion of the resin irradiated with the laser beam is Removed to form a recess.
The resin (a) of the present invention preferably has a polymerizable unsaturated group having a number average molecular weight of 1,000 to 300,000 and is solid at 20 ° C. A more preferable range of the number average molecular weight of the resin (a) is 2000 or more and 200,000 or less, and a more preferable range is 5000 or more and 100,000 or less. If the number average molecular weight of the resin (a) is 1000 or more, the printing original plate produced by crosslinking later maintains strength, and the relief image produced from this original plate is strong, and when used as a printing plate, it can be used repeatedly. I can bear it. Further, if the number average molecular weight of the resin (a) is 300,000 or less, the viscosity at the time of molding of the photosensitive resin composition does not increase excessively, and a sheet-shaped or cylindrical laser engraving printing original plate is prepared. Can be produced. The number average molecular weight referred to here is a value measured by gel permeation chromatography, calibrated with polystyrene having a known molecular weight, and converted.

本発明の「重合性不飽和基」の定義は、ラジカルまたは付加重合反応に関与する重合性不飽和基である。ラジカル重合反応に関与する重合性不飽和基の好ましい例としては、ビニル基、アセチレン基、アクリル基、メタクリル基などが挙げられる。付加重合反応に関与する重合性不飽和基の好ましい例としては、シンナモイル基、チオール基、アジド基、開環付加反応するエポキシ基、オキセタン基、環状エステル基、ジオキシラン基、スピロオルトカーボネート基、スピロオルトエステル基、ビシクロオルトエステル基、環状イミノエーテル基等が挙げられる。   The definition of “polymerizable unsaturated group” in the present invention is a polymerizable unsaturated group involved in a radical or addition polymerization reaction. Preferable examples of the polymerizable unsaturated group involved in the radical polymerization reaction include a vinyl group, an acetylene group, an acrylic group, and a methacryl group. Preferred examples of the polymerizable unsaturated group involved in the addition polymerization reaction include cinnamoyl group, thiol group, azide group, epoxy group that undergoes ring-opening addition reaction, oxetane group, cyclic ester group, dioxirane group, spiroorthocarbonate group, spiro An ortho ester group, a bicyclo ortho ester group, a cyclic imino ether group and the like can be mentioned.

特に好ましいものとして1分子あたり平均で0.7以上の重合性不飽和基を有するポリマーを挙げることができる。1分子あたり平均で0.7以上であれば、本発明の樹脂組成物より得られる印刷原版の機械強度に優れ、レーザー彫刻時にレリーフ形状が崩れ難くなる。さらにその耐久性も良好で、繰り返しの使用にも耐えらるのものとなり好ましい。印刷原版の機械強度を考慮すると、樹脂(a)の重合性不飽和基は1分子あたり0.7以上が好ましく、1を越える量が更に好ましい。本発明の樹脂(a)において、重合性不飽和基の位置は、高分子主鎖の末端、高分子側鎖の末端や高分子主鎖中や側鎖中に直接結合していることが好ましい。樹脂(a)1分子に含まれる重合性不飽和基の数の平均は、核磁気共鳴スペクトル法(NMR法)による分子構造解析法で求めることができる。   Particularly preferred are polymers having an average of 0.7 or more polymerizable unsaturated groups per molecule. When the average is 0.7 or more per molecule, the printing original plate obtained from the resin composition of the present invention is excellent in mechanical strength, and the relief shape is difficult to collapse during laser engraving. Furthermore, its durability is good, and it can withstand repeated use, which is preferable. Considering the mechanical strength of the printing original plate, the polymerizable unsaturated group of the resin (a) is preferably 0.7 or more per molecule, and more preferably more than 1. In the resin (a) of the present invention, the position of the polymerizable unsaturated group is preferably directly bonded to the end of the polymer main chain, the end of the polymer side chain, the polymer main chain, or the side chain. . The average number of polymerizable unsaturated groups contained in one molecule of the resin (a) can be obtained by a molecular structure analysis method using a nuclear magnetic resonance spectrum method (NMR method).

樹脂(a)を製造する方法としては、例えば直接、重合性の不飽和基をその分子末端に導入したものを用いても良いが、別法として、水酸基、アミノ基、エポキシ基、カルボキシル基、酸無水物基、ケトン基、ヒドラジン残基、イソシアネート基、イソチオシアネート基、環状カーボネート基、アルコキシカルボニル基などの反応性基を複数有する数千程度の分子量の上記成分の反応性基と結合しうる基を複数有する結合剤(例えば水酸基やアミノ基の場合のポリイソシアネートなど)を反応させ、分子量の調節、及び末端の結合性基への変換を行った後、この末端結合性基と反応する基と重合性不飽和基を有する有機化合物と反応させて末端に重合性不飽和基を導入する方法などの方法が好適にあげられる。   As a method for producing the resin (a), for example, a direct introduction of a polymerizable unsaturated group may be used. Alternatively, a hydroxyl group, an amino group, an epoxy group, a carboxyl group, Can bind to the reactive groups of the above components having a molecular weight of about several thousand having a plurality of reactive groups such as acid anhydride groups, ketone groups, hydrazine residues, isocyanate groups, isothiocyanate groups, cyclic carbonate groups, and alkoxycarbonyl groups. A group that reacts with a terminal binding group after reacting with a binder having a plurality of groups (for example, polyisocyanate in the case of a hydroxyl group or an amino group), adjusting the molecular weight and converting to a terminal binding group And a method of introducing a polymerizable unsaturated group at the terminal by reacting with an organic compound having a polymerizable unsaturated group.

特にレーザー彫刻可能な円筒状フレキソ印刷原版を形成する際に用いる樹脂(a)としては、液状化し易い樹脂や分解し易い樹脂が好ましい。分解し易い樹脂としては、分子鎖中に分解し易いモノマー単位としてスチレン、α−メチルスチレン、α−メトキシスチレン、アクリルエステル類、メタクリルエステル類、エステル化合物類、エーテル化合物類、ニトロ化合物類、カーボネート化合物類、カルバモイル化合物類、ヘミアセタールエステル化合物類、オキシエチレン化合物類、脂肪族環状化合物類等が含まれていることが好ましい。特にポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール、ポリテトラエチレングリコール等のポリエーテル類、脂肪族ポリカーボネート類、脂肪族カルバメート類、ポリメタクリル酸メチル、ポリスチレン、ニトロセルロース、ポリオキシエチレン、ポリノルボルネン、ポリシクロヘキサジエン水添物、あるいは分岐構造の多いデンドリマー等の分子構造を有するポリマーは、分解し易いものの代表例である。また、分子鎖中に酸素原子を多数含有するポリマーが分解性の観点から好ましい。これらの中でも、カーボネート基、カルバメート基、メタクリル基をポリマー主鎖中に有する化合物は、熱分解性が高く好ましい。例えば、(ポリ)カーボネートジオールや(ポリ)カーボネートジカルボン酸を原料として合成したポリエステルやポリウレタン、(ポリ)カーボネートジアミンを原料として合成したポリアミドなどを熱分解性の良好なポリマーの例として挙げることができる。これらのポリマー主鎖、側鎖に重合性不飽和基を含有しているものであっても構わない。特に、末端に水酸基、アミノ基、カルボキシル基等の反応性官能基を有する場合には、主鎖末端に重合性不飽和基を導入することも容易である。   In particular, the resin (a) used when forming a cylindrical flexographic printing original plate capable of laser engraving is preferably a resin that is easily liquefied or easily decomposed. Examples of resins that are easily decomposed include styrene, α-methylstyrene, α-methoxystyrene, acrylic esters, methacrylic esters, ester compounds, ether compounds, nitro compounds, carbonates as monomer units that are easily decomposed in the molecular chain. Preferably, compounds, carbamoyl compounds, hemiacetal ester compounds, oxyethylene compounds, aliphatic cyclic compounds, and the like are included. Especially polyethers such as polyethylene glycol, polypropylene glycol, polytetraethylene glycol, aliphatic polycarbonates, aliphatic carbamates, polymethyl methacrylate, polystyrene, nitrocellulose, polyoxyethylene, polynorbornene, polycyclohexadiene hydrogenated product Alternatively, a polymer having a molecular structure such as a dendrimer having many branched structures is a representative example of those that are easily decomposed. A polymer containing a large number of oxygen atoms in the molecular chain is preferred from the viewpoint of degradability. Among these, a compound having a carbonate group, a carbamate group, and a methacryl group in the polymer main chain is preferable because of its high thermal decomposability. For example, polyesters and polyurethanes synthesized from (poly) carbonate diol and (poly) carbonate dicarboxylic acid as raw materials, polyamides synthesized from (poly) carbonate diamine as raw materials, and the like can be cited as examples of polymers having good thermal decomposability. . These polymer main chains and side chains may contain a polymerizable unsaturated group. In particular, when a reactive functional group such as a hydroxyl group, an amino group, or a carboxyl group is present at the terminal, it is easy to introduce a polymerizable unsaturated group at the terminal of the main chain.

本発明で用いる樹脂(a)として、特にゴム弾性が必要な用途に用いる場合、熱可塑性エラストマーを好ましい例として挙げることができる。例えば、ブタジエンとスチレンとの共重合体、イソプレンとスチレンとの共重合体、スチレン−ジエン−スチレントリブロック共重合体などが好ましく、具体的にはポリスチレン−ポリブタジエン−ポリスチレン(SBS)、ポリスチレン−ポリイソプレン−ポリスチレン(SIS)、ポリスチレン−ポリ(エチレンブチレン)−ポリスチレン(SEBS)などを挙げることができる。また、上記の熱可塑性エラストマーのジエン部の一部を水素で置換した水添物を用いることもできる。特に軟化温度が350℃以下が好ましく、より好ましくは250℃以下、更に好ましくは200℃以下である。本発明の軟化温度の測定は、動的粘弾性測定装置を用い、室温から温度を上昇していった場合、粘性率が大きく変化する(粘性率曲線の傾きが変化する)最初の温度で定義する。
その他、ゴム系高分子化合物として、イソプレンゴム、ブタジエンゴム、1,2−ポリブタジエンゴム、スチレン−ブタジエンゴム(SBR)、ニトリルゴム、ブチルゴム、エチレン−プロピレンゴム等を挙げることができる。
As the resin (a) used in the present invention, a thermoplastic elastomer can be mentioned as a preferred example, particularly when used for applications requiring rubber elasticity. For example, a copolymer of butadiene and styrene, a copolymer of isoprene and styrene, a styrene-diene-styrene triblock copolymer, and the like are preferable. Specifically, polystyrene-polybutadiene-polystyrene (SBS), polystyrene-poly Examples include isoprene-polystyrene (SIS) and polystyrene-poly (ethylenebutylene) -polystyrene (SEBS). Also, a hydrogenated product in which a part of the diene portion of the thermoplastic elastomer is replaced with hydrogen can be used. In particular, the softening temperature is preferably 350 ° C. or lower, more preferably 250 ° C. or lower, still more preferably 200 ° C. or lower. The measurement of the softening temperature of the present invention is defined by the first temperature at which the viscosity changes greatly (the slope of the viscosity curve changes) when the temperature is increased from room temperature using a dynamic viscoelasticity measuring device. To do.
In addition, examples of the rubber polymer compound include isoprene rubber, butadiene rubber, 1,2-polybutadiene rubber, styrene-butadiene rubber (SBR), nitrile rubber, butyl rubber, and ethylene-propylene rubber.

また、ポリブタジエン、ポリイソプレンなどのポリジエン類等の分子主鎖あるいは側鎖に重合性不飽和基を有する化合物を挙げることができる。また、重合性不飽和基を有しない高分子化合物を出発原料として、置換反応、脱離反応、縮合反応、付加反応等の化学反応により重合性不飽和基を分子内に導入した高分子化合物を挙げることもできる。重合性不飽和基を有しない高分子化合物の例としてポリエチレン、ポリプロピレンなどのポリオレフィン類、ポリ塩化ビニルポリ塩化ビニリデン等のポリハロオレフィン類、ポリスチレン、ポリアクリロニトリル、ポリビニルアルコール、ポリ酢酸ビニル、ポリビニルアセタール、ポリアクリル酸、ポリ(メタ)アクリル酸エステル類、ポリ(メタ)アクリルアミド、ポリビニルエーテル等のC-C連鎖高分子の他、ポリフェニレンエーテル等のポリエーテル類、ポリフェニレンチオエーテル等のポリチオエーテル類、ポリエチレンテレフタレート等のポリエステル、ポリカーボネート、ポリアセタール、ポリウレタン、ポリアミド、ポリウレア、ポリイミド、ポリジアルキルシロキサン等の高分子化合物、或いはこれらの高分子化合物の主鎖にヘテロ原子を有する高分子化合物、複数種のモノマー成分から合成されたランダム共重合体、ブロック共重合体を挙げることができる。更に、分子内に重合性不飽和基を導入した高分子化合物を複数種混合して用いることもできる。   Moreover, the compound which has a polymerizable unsaturated group in molecular principal chains or side chains, such as polydienes, such as polybutadiene and polyisoprene, can be mentioned. In addition, a polymer compound having a polymerizable unsaturated group introduced into the molecule by a chemical reaction such as a substitution reaction, elimination reaction, condensation reaction, or addition reaction using a polymer compound having no polymerizable unsaturated group as a starting material. It can also be mentioned. Examples of polymer compounds having no polymerizable unsaturated groups include polyolefins such as polyethylene and polypropylene, polyhaloolefins such as polyvinyl chloride and polyvinylidene chloride, polystyrene, polyacrylonitrile, polyvinyl alcohol, polyvinyl acetate, polyvinyl acetal, poly In addition to CC chain polymers such as acrylic acid, poly (meth) acrylic esters, poly (meth) acrylamide, and polyvinyl ether, polyethers such as polyphenylene ether, polythioethers such as polyphenylene thioether, and polyesters such as polyethylene terephthalate , Polycarbonate, polyacetal, polyurethane, polyamide, polyurea, polyimide, polydialkylsiloxane and other polymer compounds, or the main chain of these polymer compounds It may be mentioned a polymer compound having a hetero atom, a random copolymer synthesized from a plurality of types of monomer components, a block copolymer. Furthermore, it is possible to use a mixture of a plurality of polymer compounds having a polymerizable unsaturated group introduced in the molecule.

特にフレキソ印刷版用途のように柔軟なレリーフ画像が必要な場合には、樹脂(a)として、一部、ガラス転移温度が20℃以下の液状樹脂、さらに好ましくはガラス転移温度0℃以下の液状樹脂を用いることが特に好ましい。このような液状樹脂として、例えばポリエチレン、ポリブタジエン、水添ポリブタジエン、ポリイソプレン、水添ポイソプレン等の炭化水素類、アジペート、ポリカプロラクトン等のポリエステル類、ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール、ポリテトラメチレングリコール等のポリエーテル類、脂肪族ポリカーボネート、ポリジメチルシロキサン等のシリコーン類、(メタ)アクリル酸及び/またはその誘導体の重合体及びこれらの混合物やコポリマー類を用いて合成され、分子内に重合性不飽和基を有する化合物を用いることができる。その含有量は、樹脂(a)全体に対して30wt%以上含有することが好ましい。特に耐候性の観点からポリカーボネート構造を有する不飽和ポリウレタン類が好ましい。ここで言う液状樹脂とは、容易に流動変形し、かつ冷却により変形された形状に固化できるという性質を有する高分子体を意味し、外力を加えたときに、その外力に応じて瞬時に変形し、かつ外力を除いたときには、短時間に元の形状を回復する性質を有するエラストマーに対応する言葉である。これから得られるレリーフ画像作成用原版を円筒状に成形する際、良好な厚み精度や寸法精度を得ることができる本発明の感光性樹脂組成物は、好ましくは、20℃における粘度が10Pa・s以上50kPa・s以下である。より好ましくは、50Pa・s以上20kPa・s以下、更に好ましくは100Pa・s以上10kPa・s以下である。粘度が10Pa・s以上であれば、作製される印刷原版の機械的強度が十分であり、円筒状印刷原版に成形する際であっても形状を保持し易く、加工し易い。粘度が50kPa・s以下であれば、常温でも変形し易く、加工が容易であり、円筒状支持体上に液状感光性樹脂層を形成する際に、該感光性樹脂組成物が重力により液ダレ等の現象を起こさないように比較的粘度の高い感光性樹脂組成物であることが望ましい。また、本発明で用いる感光性樹脂組成物は、チキソトロピー性を有することが好ましい。   In particular, when a flexible relief image is required as in flexographic printing plate applications, the resin (a) is partially a liquid resin having a glass transition temperature of 20 ° C. or lower, more preferably a liquid having a glass transition temperature of 0 ° C. or lower. It is particularly preferable to use a resin. Examples of such a liquid resin include hydrocarbons such as polyethylene, polybutadiene, hydrogenated polybutadiene, polyisoprene, and hydrogenated poisoprene, polyesters such as adipate and polycaprolactone, and polymers such as polyethylene glycol, polypropylene glycol, and polytetramethylene glycol. Synthesized by using ethers, aliphatic polycarbonates, silicones such as polydimethylsiloxane, polymers of (meth) acrylic acid and / or derivatives thereof, and mixtures and copolymers thereof. The compound which has can be used. The content is preferably 30 wt% or more based on the entire resin (a). In particular, unsaturated polyurethanes having a polycarbonate structure are preferred from the viewpoint of weather resistance. The liquid resin here means a polymer that has the property of being easily deformed by flow and solidified into a deformed shape by cooling. When an external force is applied, the liquid resin is instantly deformed according to the external force. When the external force is removed, the term corresponds to an elastomer having a property of restoring the original shape in a short time. The photosensitive resin composition of the present invention capable of obtaining good thickness accuracy and dimensional accuracy when the relief image forming original plate obtained from this is formed into a cylindrical shape, preferably has a viscosity at 20 ° C. of 10 Pa · s or more. 50 kPa · s or less. More preferably, it is 50 Pa · s or more and 20 kPa · s or less, and further preferably 100 Pa · s or more and 10 kPa · s or less. If the viscosity is 10 Pa · s or more, the mechanical strength of the produced printing original plate is sufficient, and the shape can be easily maintained and processed even when it is formed into a cylindrical printing original plate. When the viscosity is 50 kPa · s or less, it is easily deformed even at room temperature and is easy to process. When forming a liquid photosensitive resin layer on a cylindrical support, the photosensitive resin composition is dripped by gravity. It is desirable that the photosensitive resin composition has a relatively high viscosity so as not to cause such a phenomenon. Moreover, it is preferable that the photosensitive resin composition used by this invention has thixotropic property.

本発明の有機化合物(b)は、数平均分子量が1000未満の重合性不飽和基を有した化合物である。樹脂(a)との希釈のし易さから数平均分子量は1000以下が好ましい。重合性不飽和基の定義は、樹脂(a)の箇所でも記載したように、ラジカルまたは付加重合反応に関与する重合性不飽和基である。   The organic compound (b) of the present invention is a compound having a polymerizable unsaturated group having a number average molecular weight of less than 1,000. The number average molecular weight is preferably 1000 or less because of easy dilution with the resin (a). The definition of a polymerizable unsaturated group is a polymerizable unsaturated group that participates in a radical or addition polymerization reaction as described in the section of the resin (a).

有機化合物(b)の具体例としては、ラジカル反応性化合物として、エチレン、プロピレン、スチレン、ジビニルベンゼン等のオレフィン類、アセチレン類、(メタ)アクリル酸及びその誘導体、ハロオレフィン類、アクリロニトリル等の不飽和ニトリル類、(メタ)アクリルアミド及びその誘導体、アリールアルコール、アリールイソシアネート等のアリール化合物、無水マレイン酸、マレイン酸、フマル酸等の不飽和ジカルボン酸及びその誘導体、酢酸ビニル類、N−ビニルピロリドン、N−ビニルカルバゾール等があげられるが、その種類の豊富さ、価格、レーザー光照射時の分解性等の観点から(メタ)アクリル酸及びその誘導体が好ましい例である。前記化合物の誘導体の例としては、シクロアルキル−、ビシクロアルキル−、シクロアルケン−、ビシクロアルケン−などの脂環族、ベンジル−、フェニル−、フェノキシ−、フルオレン−などの芳香族、アルキル−、ハロゲン化アルキル−、アルコキシアルキル−、ヒドロキシアルキル−、アミノアルキル−、テトラヒドロフルフリル−、アリル−、グリシジル−、アルキレングリコール−、ポリオキシアルキレングリコール−、(アルキル/アリルオキシ)ポリアルキレングリコール−やトリメチロールプロパン等の多価アルコールのエステル、ポリジメチルシロキサン、ポリジエチルシロキサン等のポリシロキサン構造を有する化合物などがあげられる。また、窒素、硫黄等の元素を含有した複素芳香族化合物であっても構わない。   Specific examples of the organic compound (b) include radical reactive compounds such as olefins such as ethylene, propylene, styrene and divinylbenzene, acetylenes, (meth) acrylic acid and derivatives thereof, haloolefins, acrylonitrile and the like. Saturated nitriles, (meth) acrylamide and derivatives thereof, aryl compounds such as aryl alcohol and aryl isocyanate, unsaturated dicarboxylic acids such as maleic anhydride, maleic acid and fumaric acid and derivatives thereof, vinyl acetates, N-vinylpyrrolidone, N-vinyl carbazole and the like can be mentioned, and (meth) acrylic acid and derivatives thereof are preferable examples from the viewpoints of the abundance of the types, price, decomposability upon laser light irradiation, and the like. Examples of the derivative of the compound include alicyclic such as cycloalkyl-, bicycloalkyl-, cycloalkene-, bicycloalkene-, aromatic such as benzyl-, phenyl-, phenoxy-, fluorene-, alkyl-, halogen Alkyl-, alkoxyalkyl-, hydroxyalkyl-, aminoalkyl-, tetrahydrofurfuryl-, allyl-, glycidyl-, alkylene glycol-, polyoxyalkylene glycol-, (alkyl / allyloxy) polyalkylene glycol- and trimethylolpropane Examples thereof include esters of polyhydric alcohols such as polydimethylsiloxane and compounds having a polysiloxane structure such as polydiethylsiloxane. Moreover, you may be a heteroaromatic compound containing elements, such as nitrogen and sulfur.

また、開環付加反応するエポキシ基を有する化合物としては、種々のジオールやトリオールなどのポリオールにエピクロルヒドリンを反応させて得られる化合物、分子中のエチレン結合に過酸を反応させて得られるエポキシ化合物などを挙げることができる。具体的には、エチレングリコールジグリシジルエーテル、ジエチレングリコールジグリシジルエーテル、トリエチレングリコールジグリシジルエーテル、テトラエチレングリコールジグリシジルエーテル、ポリエチレングリコールジグリシジルエーテル、プロピレングリコールジグリシジルエーテル、トリプロピレングリコールジグリシジルエーテル、ポリプロピレングリコールジグリシジルエーテル、ネオペンチルグリコールジグリシジルエーテル、1,6−ヘキサンジオールジグリシジルエーテル、グリセリンジグリシジルエーテル、グリセリントリグリシジルエーテル、トリメチロールプロパントリグリシジルエーテル、ビスフェノールAジグリシジルエーテル、水添化ビスフェノールAジグリシジルエーテル、ビスフェノールAにエチレンオキサイドまたはプロピレンオキサイドが付加した化合物のジグリシジルエーテル、ポリテトラメチレングリコールジグリシジルエーテル、ポリ(プロピレングリコールアジペート)ジオールジグリシジルエーテル、ポリ(エチレングリコールアジペート)ジオールジグリシジルエーテル、ポリ(カプロラクトン)ジオールジグリシジルエーテル等のエポキシ化合物、エポキシ変性シリコーンオイル(信越化学工業社製、商標名「HF−105」)を挙げることができる。   In addition, as a compound having an epoxy group that undergoes a ring-opening addition reaction, a compound obtained by reacting a polyol such as various diols or triols with epichlorohydrin, an epoxy compound obtained by reacting a peracid with an ethylene bond in the molecule, etc. Can be mentioned. Specifically, ethylene glycol diglycidyl ether, diethylene glycol diglycidyl ether, triethylene glycol diglycidyl ether, tetraethylene glycol diglycidyl ether, polyethylene glycol diglycidyl ether, propylene glycol diglycidyl ether, tripropylene glycol diglycidyl ether, polypropylene Glycol diglycidyl ether, neopentyl glycol diglycidyl ether, 1,6-hexanediol diglycidyl ether, glycerin diglycidyl ether, glycerin triglycidyl ether, trimethylolpropane triglycidyl ether, bisphenol A diglycidyl ether, hydrogenated bisphenol A Diglycidyl ether, bisphenol A Diglycidyl ether, polytetramethylene glycol diglycidyl ether, poly (propylene glycol adipate) diol diglycidyl ether, poly (ethylene glycol adipate) diol diglycidyl ether, poly (caprolactone) diol di of compounds with addition of lenoxide or propylene oxide Examples thereof include epoxy compounds such as glycidyl ether and epoxy-modified silicone oil (trade name “HF-105” manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.).

本発明において、これら重合性不飽和基を有する有機化合物(b)はその目的に応じて1種若しくは2種以上のものを選択できる。例えば印刷版として用いる場合、印刷インキの溶剤であるアルコールやエステル等の有機溶剤に対する膨潤を押さえるために用いる有機化合物として長鎖脂肪族、脂環族または芳香族の誘導体を少なくとも1種類以上有することが好ましい。
本発明の樹脂組成物より得られる印刷原版の機械強度を高めるためには、有機化合物(b)としては脂環族または芳香族の誘導体が少なくとも1種類以上有することが好ましく、この場合、有機化合物(b)の全体量の20wt%以上であることが好ましく、更に好ましくは50wt%以上である。また、前記芳香族の誘導体として、窒素、硫黄等の元素を有する芳香族化合物であっても構わない。
In this invention, the organic compound (b) which has these polymerizable unsaturated groups can select the 1 type (s) or 2 or more types according to the objective. For example, when used as a printing plate, it has at least one long-chain aliphatic, alicyclic or aromatic derivative as an organic compound used to suppress swelling with respect to an organic solvent such as alcohol or ester which is a solvent for printing ink. Is preferred.
In order to increase the mechanical strength of the printing original plate obtained from the resin composition of the present invention, the organic compound (b) preferably has at least one alicyclic or aromatic derivative. In this case, the organic compound It is preferable that it is 20 wt% or more of the whole quantity of (b), More preferably, it is 50 wt% or more. The aromatic derivative may be an aromatic compound having an element such as nitrogen or sulfur.

印刷版の反撥弾性を高めるため例えば特開平7−239548号に記載されているようなメタクリルモノマーを使用するとか、公知の印刷用感光性樹脂の技術知見等を利用して選択することができる。
樹脂(a)あるいは有機化合物(b)が、分子鎖中に存在する酸素原子あるいは窒素原子に対しα位に存在する水素原子を有する化合物、チオールのような硫黄原子に直接結合している水素原子を有する化合物を、感光性樹脂組成物全体量の少なくとも20wt%以上含有することが好ましい。より好ましくは40wt%以上である。前記酸素原子の由来原子団としては、アルコール、エーテル、エステル、カーボネート等を挙げることができ、また前記窒素原子の由来原子団としてはウレタン、ウレア、アミド等を挙げることができる。
In order to increase the rebound resilience of the printing plate, for example, a methacrylic monomer as described in JP-A-7-239548 can be used, or it can be selected using the technical knowledge of known photosensitive resins for printing.
Hydrogen atom in which resin (a) or organic compound (b) is directly bonded to a sulfur atom such as thiol, a compound having a hydrogen atom that is in the α position with respect to an oxygen atom or nitrogen atom present in the molecular chain It is preferable to contain at least 20 wt% or more of the compound having a weight of the total amount of the photosensitive resin composition. More preferably, it is 40 wt% or more. Examples of the atomic group derived from the oxygen atom include alcohols, ethers, esters, and carbonates, and examples of the atomic group derived from the nitrogen atom include urethane, urea, and amide.

本発明で用いる揮発性溶剤は特に限定するものではないが、好ましくは沸点が60℃以上200℃以下、より好ましくは70℃以上150℃以下、更に好ましくは80℃以上130℃以下である。溶剤の沸点が60℃以上200℃以下の範囲であれば、塗布中に揮発性溶剤が揮発し過ぎることなく、円筒状支持体上に感光性樹脂組成物を安定的に塗布でき、また塗布された感光性樹脂組成物層からの溶剤の除去も効率よく行える。また、溶剤の含有率は、好ましくは感光性樹脂組成物全体の5wt%以上60wt%以下、より好ましくは10wt%以上50wt%以下、更に好ましくは10wt%以上40wt%以下である。この範囲であれば、感光性樹脂組成物の粘度を大幅に低下させることなく、比較的厚膜に安定して塗布でき、溶剤が除去される工程での気泡の発生等も抑えられる。また、溶剤は単一である必要はなく、数種類のものを混合して用いることができる。特に限定するものではないが、例えば、キシレン、トルエン等の芳香族炭化水素系溶剤、酢酸エチル、安息香酸エチル等のエステル系溶剤、メチルエチルケトン等のケトン系溶剤、テトラヒドロフラン等のエーテル系溶剤、n−メチルピロリドン、ジメチルホルムアミド等を挙げることができる。   Although the volatile solvent used by this invention is not specifically limited, Preferably a boiling point is 60 to 200 degreeC, More preferably, it is 70 to 150 degreeC, More preferably, it is 80 to 130 degreeC. When the boiling point of the solvent is in the range of 60 ° C. or more and 200 ° C. or less, the photosensitive resin composition can be stably applied to the cylindrical support without being excessively volatilized during the application. The solvent can be efficiently removed from the photosensitive resin composition layer. Moreover, the content rate of a solvent becomes like this. Preferably it is 5 to 60 wt% of the whole photosensitive resin composition, More preferably, it is 10 to 50 wt%, More preferably, it is 10 to 40 wt%. If it is this range, it can apply | coat stably to a comparatively thick film, without significantly reducing the viscosity of the photosensitive resin composition, and the generation | occurrence | production of the bubble in the process of removing a solvent, etc. is suppressed. Moreover, the solvent does not need to be single, and several types can be mixed and used. Although not particularly limited, for example, aromatic hydrocarbon solvents such as xylene and toluene, ester solvents such as ethyl acetate and ethyl benzoate, ketone solvents such as methyl ethyl ketone, ether solvents such as tetrahydrofuran, n- Examples include methylpyrrolidone and dimethylformamide.

本発明の感光性樹脂組成物を光もしくは電子線の照射により架橋して印刷版などとしての物性を発現させるが、その際に光重合開始剤を添加することができる。光重合開始剤は一般に使用されているものから選択でき、例えば高分子学会編「高分子データ・ハンドブック−基礎編」1986年培風館発行、に例示されているラジカル重合、カチオン重合、アニオン重合の開始剤等が使用できる。また、光重合開始剤を用いて光重合により架橋を行なうことは、本発明の樹脂組成物の貯蔵安定性を保ちながら、生産性良く印刷原版を生産出来る方法として有用であり、その際に用いる開始剤も公知のものが使用できる。ラジカル重合反応を誘起させる光重合開始剤としては、水素引き抜き型光重合開始剤(d)と崩壊型光重合開始剤(e)が、特に効果的な光重合開始剤として広く用いられている。   The photosensitive resin composition of the present invention is crosslinked by irradiation with light or an electron beam to develop physical properties as a printing plate, and a photopolymerization initiator can be added at that time. The photopolymerization initiator can be selected from commonly used ones. For example, radical polymerization, cationic polymerization, and anion polymerization illustrated in “Polymer Data Handbook-Fundamentals” edited by the Society of Polymer Sciences, published in 1986 by Fufukan. An agent can be used. In addition, crosslinking by photopolymerization using a photopolymerization initiator is useful as a method for producing a printing original plate with good productivity while maintaining the storage stability of the resin composition of the present invention, and is used in that case. Known initiators can also be used. As photopolymerization initiators that induce radical polymerization reactions, hydrogen abstraction type photopolymerization initiators (d) and decay type photopolymerization initiators (e) are widely used as particularly effective photopolymerization initiators.

水素引き抜き型光重合開始剤(d)として、特に限定するものではないが、芳香族ケトンを用いることが好ましい。芳香族ケトンは光励起により効率良く励起三重項状態になり、この励起三重項状態は周囲の媒体から水素を引き抜いてラジカルを生成する化学反応機構が提案されている。生成したラジカルが光架橋反応に関与するものと考えられる。本発明で用いる水素引き抜き型光重合開始剤(d)として励起三重項状態を経て周囲の媒体から水素を引き抜きてラジカルを生成する化合物であれば何でも構わない。芳香族ケトンとして、ベンゾフェノン類、ミヒラーケトン類、キサンテン類、チオキサントン類、アントラキノン類を挙げることができ、これらの群から選ばれる少なくとも1種類の化合物を用いることが好ましい。ベンゾフェノン類とは、ベンゾフェノンあるいはその誘導体を指し、具体的には3,3’,4,4’−ベンゾフェノンテトラカルボン酸無水物、3,3’,4,4’−テトラメトキシベンゾフェノン等である。ミヒラーケトン類とはミヒラーケトンおよびその誘導体をいう。キサンテン類とはキサンテンおよびアルキル基、フェニル基、ハロゲン基で置換された誘導体をいう。チオキサントン類とは、チオキサントンおよびアルキル基、フェニル基、ハロゲン基で置換された誘導体をさし、エチルチオキサントン、メチルチオキサントン、クロロチオキサントン等を挙げることができる。アントラキノン類とはアントラキノンおよびアルキル基、フェニル基、ハロゲン基等で置換された誘導体をいう。水素引き抜き型光重合開始剤の添加量は、好ましくは感光性樹脂組成物全体量の0.1wt%以上10wt%以下、より好ましくは0.5wt%以上5wt%以下である。添加量がこの範囲であれば、液状感光性樹脂組成物を大気中で光硬化させた場合、硬化物表面の硬化性は充分に確保でき、また、退候性を確保することができる。   Although it does not specifically limit as a hydrogen abstraction type photoinitiator (d), It is preferable to use an aromatic ketone. Aromatic ketone is efficiently converted into an excited triplet state by photoexcitation, and a chemical reaction mechanism has been proposed in which this excited triplet state generates a radical by extracting hydrogen from the surrounding medium. The generated radical is considered to be involved in the photocrosslinking reaction. Any compound can be used as the hydrogen abstraction type photopolymerization initiator (d) used in the present invention as long as it is a compound that generates radicals by extracting hydrogen from the surrounding medium through an excited triplet state. Examples of aromatic ketones include benzophenones, Michler ketones, xanthenes, thioxanthones, and anthraquinones, and it is preferable to use at least one compound selected from these groups. The benzophenones refer to benzophenone or derivatives thereof, specifically 3,3 ', 4,4'-benzophenone tetracarboxylic anhydride, 3,3', 4,4'-tetramethoxybenzophenone, and the like. Michler ketones refer to Michler ketone and its derivatives. Xanthenes refer to derivatives substituted with xanthene and an alkyl group, phenyl group, or halogen group. Thioxanthones refer to thioxanthone and derivatives substituted with an alkyl group, a phenyl group, and a halogen group, and examples thereof include ethylthioxanthone, methylthioxanthone, and chlorothioxanthone. Anthraquinones are anthraquinone and derivatives substituted with alkyl groups, phenyl groups, halogen groups, and the like. The addition amount of the hydrogen abstraction type photopolymerization initiator is preferably 0.1 wt% or more and 10 wt% or less, more preferably 0.5 wt% or more and 5 wt% or less of the total amount of the photosensitive resin composition. If the addition amount is within this range, when the liquid photosensitive resin composition is photocured in the atmosphere, the curability of the cured product surface can be sufficiently secured, and the weather resistance can be secured.

崩壊型光重合開始剤(e)とは、光吸収後に分子内で開裂反応が発生し活性なラジカルが生成する化合物を指し、特に限定するものではない。具体的には、ベンゾインアルキルエーテル類、2,2−ジアルコキシ−2−フェニルアセトフェノン類、アセトフェノン類、アシルオキシムエステル類、アゾ化合物類、有機イオウ化合物類、ジケトン類等を挙げることができ、これらの群から選ばれる少なくとも1種類の化合物を用いることが好ましい。ベンゾインアルキルエーテル類としては、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンゾインイソブチルエーテル、「感光性高分子」(講談社、1977年出版、頁228)に記載の化合物を挙げることができる。2,2−ジアルコキシ−2−フェニルアセトフェノン類としては、2,2−ジメトキシ−2−フェニルアセトフェノン、2,2−ジエトキシ−2−フェニルアセトフェノン等を挙げることができる。アセトフェノン類としては、アセトフェノン、トリクロロアセトフェノン、1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルアセトフェノン、2,2−ジエトキシアセトフェノン等を挙げることができる。アシルオキシムエステル類としては、1−フェニル−1,2−プロパンジオン−2−(o−ベンゾイル)オキシム等を挙げることができる。アゾ化合物としては、アゾビスイソブチロニトリル、ジアゾニウム化合物、テトラゼン化合物等を挙げることができる。有機イオウ化合物としては、芳香族チオール、モノおよびジスルフィド、チウラムスルフィド、ジチオカルバメート、S−アシルジチオカルバメート、チオスルホネート、スルホキシド、スルフェネート、ジチオカルボネート等を挙げることができる。ジケトン類としては、ベンジル、メチルベンゾイルホルメート等を挙げることができる。崩壊型光重合開始剤の添加量は、好ましくは感光性樹脂組成物全体量の0.1wt%以上10wt%以下、より好ましくは0.3wt%以上3wt%以下である。添加量がこの範囲であれば、感光性樹脂組成物を大気中で光硬化させた場合、硬化物内部の硬化性は充分に確保できる。   The decay type photopolymerization initiator (e) refers to a compound that generates an active radical by generating a cleavage reaction in the molecule after light absorption, and is not particularly limited. Specific examples include benzoin alkyl ethers, 2,2-dialkoxy-2-phenylacetophenones, acetophenones, acyloxime esters, azo compounds, organic sulfur compounds, diketones, and the like. It is preferable to use at least one compound selected from the group consisting of: Examples of benzoin alkyl ethers include benzoin isopropyl ether, benzoin isobutyl ether, and compounds described in “Photosensitive polymer” (Kodansha, 1977, page 228). Examples of 2,2-dialkoxy-2-phenylacetophenones include 2,2-dimethoxy-2-phenylacetophenone and 2,2-diethoxy-2-phenylacetophenone. Examples of acetophenones include acetophenone, trichloroacetophenone, 1-hydroxycyclohexylphenylacetophenone, 2,2-diethoxyacetophenone, and the like. Examples of acyl oxime esters include 1-phenyl-1,2-propanedione-2- (o-benzoyl) oxime. Examples of the azo compound include azobisisobutyronitrile, diazonium compound, and tetrazene compound. Examples of the organic sulfur compound include aromatic thiol, mono- and disulfide, thiuram sulfide, dithiocarbamate, S-acyl dithiocarbamate, thiosulfonate, sulfoxide, sulfinate, and dithiocarbonate. Examples of diketones include benzyl and methylbenzoyl formate. The addition amount of the collapsible photopolymerization initiator is preferably 0.1 wt% or more and 10 wt% or less, more preferably 0.3 wt% or more and 3 wt% or less of the total amount of the photosensitive resin composition. If the addition amount is within this range, when the photosensitive resin composition is photocured in the air, the curability inside the cured product can be sufficiently secured.

水素引き抜き型光重合開始剤として機能する部位と崩壊型光重合開始剤として機能する部位を同一分子内に有する化合物を、光重合開始剤として用いることもできる。α−アミノアセトフェノン類を挙げることができる。例えば、2−メチル−1−(4−メチルチオフェニル)−2−モルホリノ−プロパン−1−オン、下記一般式(6)で示される化合物を挙げることができる。   A compound having a site functioning as a hydrogen abstraction type photopolymerization initiator and a site functioning as a decay type photopolymerization initiator in the same molecule can also be used as the photopolymerization initiator. There may be mentioned α-aminoacetophenones. Examples thereof include 2-methyl-1- (4-methylthiophenyl) -2-morpholino-propan-1-one and compounds represented by the following general formula (6).

(式中、Rは各々独立に、水素原子または炭素数1〜10のアルキル基を表す。また、Xは炭素数1〜10のアルキレン基を表す。)
水素引き抜き型光重合開始剤として機能する部位と崩壊型光重合開始剤として機能する部位を同一分子内に有する化合物の添加量としては、好ましくは感光性樹脂組成物全体量の0.1wt%以上10wt%以下、より好ましくは0.3wt%以上3wt%以下である。添加量がこの範囲であれば、感光性樹脂組成物を大気中で光硬化させた場合であっても、硬化物の機械的物性は充分に確保できる。
(In the formula, each R 2 independently represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms. X represents an alkylene group having 1 to 10 carbon atoms.)
The addition amount of the compound having a site functioning as a hydrogen abstraction type photopolymerization initiator and a site functioning as a decay type photopolymerization initiator in the same molecule is preferably 0.1 wt% or more of the total amount of the photosensitive resin composition It is 10 wt% or less, More preferably, it is 0.3 wt% or more and 3 wt% or less. When the addition amount is within this range, the mechanical properties of the cured product can be sufficiently ensured even when the photosensitive resin composition is photocured in the atmosphere.

また、光を吸収して酸を発生することにより、付加重合反応を誘起させる光重合開始剤を用いることもできる。例えば、芳香族ジアゾニウム塩、芳香族ヨードニウム塩、芳香族スルホニウム塩等の光カチオン重合開始剤、あるいは光を吸収して塩基を発生する重合開始剤などが挙げられる。これらの光重合開始剤の添加量は、感光性樹脂組成物全体量の0.1wt%以上10wt%以下の範囲が好ましい。   A photopolymerization initiator that induces an addition polymerization reaction by absorbing light and generating an acid can also be used. For example, photocationic polymerization initiators such as aromatic diazonium salts, aromatic iodonium salts, and aromatic sulfonium salts, or polymerization initiators that absorb light and generate bases. The addition amount of these photopolymerization initiators is preferably in the range of 0.1 wt% to 10 wt% of the total amount of the photosensitive resin composition.

本発明の感光性樹脂組成物には無機多孔質体(f)を添加することが好ましい。無機多孔質体(f)とは、粒子中に微小細孔を有する、あるいは微小な空隙を有する無機粒子であり、レーザー彫刻において多量に発生する粘稠性の液状カスを吸収除去するための添加剤であり、版面のタック防止効果も有する。本発明の無機多孔質体は粘稠な液状カスの除去を最大の目的として添加するものであり、数平均粒子径、比表面積、平均細孔径、細孔容積、灼熱減量がその性能に大きく影響する。   It is preferable to add an inorganic porous material (f) to the photosensitive resin composition of the present invention. The inorganic porous material (f) is an inorganic particle having fine pores or fine voids in the particle, and is added to absorb and remove viscous liquid residue generated in a large amount in laser engraving. It is an agent and has an effect of preventing tackiness of the plate surface. The inorganic porous material of the present invention is added for the purpose of removing viscous liquid waste, and the number average particle size, specific surface area, average pore size, pore volume, and loss on ignition greatly affect its performance. To do.

本発明の無機多孔質体(f)は数平均粒径が0.1〜100μmであることが好ましい。この数平均粒径の範囲より小さいものを用いた場合、本発明の樹脂組成物より得られる原版をレーザーで彫刻する際に粉塵が舞いやすく、彫刻装置を汚染しやすく、樹脂(a)及び有機化合物(b)との混合を行う際に粘度の上昇、気泡の巻き込み、粉塵の発生等が生じやすい。他方、上記数平均粒径の範囲より大きなものを用いた場合、レーザー彫刻した際レリーフ画像に欠損が生じやすく、印刷物の精細さを損ないやすい。より好ましい平均粒子径の範囲は、0.5〜20μmであり、更に好ましい範囲は3〜10μmである。本発明の多孔質無機吸収剤の平均粒子径は、レーザー散乱式粒子径分布測定装置を用いて測定した値である。   The inorganic porous body (f) of the present invention preferably has a number average particle diameter of 0.1 to 100 μm. When a particle having a size smaller than the number average particle diameter is used, dust is likely to fly when engraving the original plate obtained from the resin composition of the present invention with a laser, the engraving apparatus is easily contaminated, and the resin (a) and organic When mixing with the compound (b), an increase in viscosity, entrainment of bubbles, generation of dust and the like are likely to occur. On the other hand, when a particle having a size larger than the above-mentioned number average particle size is used, the relief image is likely to be defective when laser engraving is performed, and the fineness of the printed matter is likely to be impaired. A more preferable range of the average particle diameter is 0.5 to 20 μm, and a further preferable range is 3 to 10 μm. The average particle size of the porous inorganic absorbent of the present invention is a value measured using a laser scattering type particle size distribution measuring device.

本発明の無機多孔質体(f)の比表面積の範囲は、10m/g以上1500m/g以下であることが好ましい。より好ましい範囲は、100m/g以上800m/g以下である。比表面積が10m/g以上である場合、レーザー彫刻時の液状カスの除去が充分となり、また、1500m/g以下であれば、感光性樹脂組成物の粘度上昇を抑え、また、チキソトロピー性を抑えることができる。本発明の比表面積は、−196℃における窒素の吸着等温線からBET式に基づいて求められる。 The range of the specific surface area of the inorganic porous material (f) of the present invention is preferably 10 m 2 / g or more and 1500 m 2 / g or less. A more preferable range is 100 m 2 / g or more and 800 m 2 / g or less. When the specific surface area is 10 m 2 / g or more, removal of the liquid residue during laser engraving is sufficient, and when the specific surface area is 1500 m 2 / g or less, an increase in the viscosity of the photosensitive resin composition is suppressed, and thixotropic properties are obtained. Can be suppressed. The specific surface area of this invention is calculated | required based on a BET type | formula from the adsorption isotherm of nitrogen in -196 degreeC.

本発明の無機多孔質体(f)の平均細孔径は、レーザー彫刻時に発生する液状カスの吸収量に極めて大きく影響を及ぼす。平均細孔径の好ましい範囲は、1nm以上1000nm以下、より好ましくは2nm以上200nm以下、更に好ましくは2nm以上50nm以下である。平均細孔径が1nm以上であれば、レーザー彫刻時に発生する液状カスの吸収性が確保でき、1000nm以下である場合、粒子の比表面積が大きく液状カスの吸収量を十分に確保できる。平均細孔径が1nm未満の場合、液状カスの吸収量が少ない理由については明確になっていないが、液状カスが粘稠性であるため、ミクロ孔に入り難く吸収量が少ないためではないかと推定している。   The average pore diameter of the inorganic porous material (f) of the present invention greatly affects the absorption amount of liquid residue generated during laser engraving. A preferable range of the average pore diameter is 1 nm to 1000 nm, more preferably 2 nm to 200 nm, and still more preferably 2 nm to 50 nm. If the average pore diameter is 1 nm or more, the absorbability of liquid debris generated during laser engraving can be ensured, and if it is 1000 nm or less, the specific surface area of the particles is large and the amount of liquid debris absorbed can be sufficiently ensured. When the average pore diameter is less than 1 nm, the reason why the amount of absorbed liquid debris is small is not clear, but because liquid debris is viscous, it is estimated that it is difficult to enter the micropores and the amount of absorption is small. is doing.

本発明の平均細孔径は、窒素吸着法を用いて測定した値である。平均細孔径が2〜50nmのものは特にメソ孔と呼ばれ、メソ孔を有する多孔質粒子が液状カスを吸収する能力が極めて高い。本発明の細孔径分布は、−196℃における窒素の吸着等温線から求められる。
本発明の無機多孔質体(f)の細孔容積は、好ましくは0.1ml/g以上10ml/g以下、より好ましくは0.2ml/g以上5ml/g以下である。細孔容積が0.1m/g以上の場合、粘稠性液状カスの吸収量は十分であり、また10ml/g以下の場合、粒子の機械的強度を確保することができる。本発明において細孔容積の測定には、窒素吸着法を用いる。本発明の細孔容積は、−196℃における窒素の吸着等温線から求められる。
The average pore diameter of the present invention is a value measured using a nitrogen adsorption method. Those having an average pore diameter of 2 to 50 nm are particularly called mesopores, and the ability of porous particles having mesopores to absorb liquid waste is extremely high. The pore size distribution of the present invention is determined from the nitrogen adsorption isotherm at -196 ° C.
The pore volume of the inorganic porous material (f) of the present invention is preferably from 0.1 ml / g to 10 ml / g, more preferably from 0.2 ml / g to 5 ml / g. When the pore volume is 0.1 m / g or more, the amount of viscous liquid residue absorbed is sufficient, and when it is 10 ml / g or less, the mechanical strength of the particles can be ensured. In the present invention, a nitrogen adsorption method is used to measure the pore volume. The pore volume of the present invention is determined from an adsorption isotherm of nitrogen at −196 ° C.

本発明の液状カス吸着量を評価する指標として、吸油量がある。これは、無機多孔質体100gが吸収する油の量で定義する。本発明で用いる無機多孔質体の吸油量の好ましい範囲は、10ml/100g以上2000ml/100g以下、より好ましくは50ml/100g以上1000ml/100g以下である。吸油量が10ml/100g以上であれば、レーザー彫刻時に発生する液状カスの除去が十分であり、また2000ml/100g以下であれば、無機多孔質体の機械的強度を十分に確保できる。吸油量の測定は、JIS−K5101にて行った。
本発明の無機多孔質体(f)は、特に赤外線波長領域のレーザー光照射により変形あるいは溶融せずに多孔質性を保持することが好ましい。950℃において2時間処理した場合の灼熱減量が、好ましくは15wt%以下、より好ましくは10wt%以下である。
As an index for evaluating the liquid residue adsorption amount of the present invention, there is an oil absorption amount. This is defined by the amount of oil absorbed by 100 g of the inorganic porous body. A preferable range of the oil absorption amount of the inorganic porous material used in the present invention is 10 ml / 100 g or more and 2000 ml / 100 g or less, more preferably 50 ml / 100 g or more and 1000 ml / 100 g or less. If the oil absorption is 10 ml / 100 g or more, the removal of liquid residue generated during laser engraving is sufficient, and if it is 2000 ml / 100 g or less, the mechanical strength of the inorganic porous body can be sufficiently secured. The oil absorption was measured according to JIS-K5101.
The inorganic porous material (f) of the present invention preferably retains its porosity without being deformed or melted by laser light irradiation in the infrared wavelength region. The loss on ignition when treated at 950 ° C. for 2 hours is preferably 15 wt% or less, more preferably 10 wt% or less.

本発明の無機多孔質体の粒子形状は特に限定するものではなく、球状、扁平状、針状、無定形、あるいは表面に突起のある粒子などを使用することができる。特に耐磨耗性の観点からは、球状粒子が好ましい。また、粒子の内部が空洞になっている粒子、シリカスポンジ等の均一な細孔径を有する球状顆粒体など使用することも可能である。特に限定するものではないが、例えば、多孔質シリカ、メソポーラスシリカ、シリカ−ジルコニア多孔質ゲル、ポーラスアルミナ、多孔質ガラス等を挙げることができる。また、層状粘土化合物などのように、層間に数nm〜100nmの空隙が存在するものについては、細孔径を定義できないため、本発明においては層間に存在する空隙の間隔を細孔径と定義する。   The particle shape of the inorganic porous material of the present invention is not particularly limited, and spherical, flat, needle-like, amorphous, or particles having protrusions on the surface can be used. In particular, spherical particles are preferable from the viewpoint of wear resistance. It is also possible to use particles having hollow inside particles, spherical granules having a uniform pore diameter such as silica sponge, and the like. Although not particularly limited, for example, porous silica, mesoporous silica, silica-zirconia porous gel, porous alumina, porous glass and the like can be mentioned. Moreover, since the pore diameter cannot be defined for a layer having a gap of several to 100 nm such as a layered clay compound, in the present invention, the gap between the layers is defined as the pore diameter.

更にこれらの細孔あるいは空隙にレーザー光の波長の光を吸収する顔料、染料等の有機色素を取り込ませることもできる。
球状粒子を規定する指標として、真球度を定義する。本発明で用いる真球度とは、粒子を投影した場合に投影図形内に完全に入る円の最大値Dの、投影図形が完全に入る円の最小値Dの比(D/D)で定義する。真球の場合、真球度は1.0となる。本発明で用いる好ましい球状粒子の真球度は、0.5以上1.0以下、より好ましくは0.7以上1.0以下が望ましい。0.5以上であれば、印刷版としての耐磨耗性が良好である。真球度1.0は、真球度の上限値である。球状粒子として、70%以上、より好ましくは90%以上の粒子が、真球度0.5以上であることが望ましい。真球度を測定する方法としては、走査型電子顕微鏡を用いて撮影した写真を基に測定する方法を用いることができる。その際、少なくとも100個以上の粒子がモニター画面に入る倍率において写真撮影を行うことが好ましい。また、写真を基に前記DおよびDを測定するが、写真をスキャナー等のデジタル化する装置を用いて処理し、その後画像解析ソフトウエアーを用いてデータ処理することが好ましい。
Furthermore, organic pigments such as pigments and dyes that absorb light of the wavelength of the laser beam can be incorporated into these pores or voids.
Sphericality is defined as an index that defines spherical particles. The sphericity used in the present invention is the ratio (D 1 / D) of the maximum value D 1 of the circle that completely enters the projection figure when the particle is projected to the minimum value D 2 of the circle that completely enters the projection figure. 2 ). In the case of a true sphere, the sphericity is 1.0. The sphericity of preferable spherical particles used in the present invention is preferably 0.5 or more and 1.0 or less, more preferably 0.7 or more and 1.0 or less. If it is 0.5 or more, the wear resistance as a printing plate is good. The sphericity of 1.0 is an upper limit value of sphericity. As spherical particles, it is desirable that 70% or more, more preferably 90% or more of the particles have a sphericity of 0.5 or more. As a method of measuring the sphericity, a method of measuring based on a photograph taken using a scanning electron microscope can be used. At that time, it is preferable to take a photograph at a magnification at which at least 100 particles or more enter the monitor screen. The D 1 and D 2 are measured based on a photograph, but it is preferable to process the photograph using a digitizing device such as a scanner and then process the data using image analysis software.

また、無機多孔質体の表面をシランカップリング剤、チタンカップリング剤、その他の有機化合物で被覆し表面改質処理を行い、より親水性化あるいは疎水性化した粒子を用いることもできる。
本発明において、これらの無機多孔質体(f)は1種類もしくは2種類以上のものを選択でき、無機多孔質体(f)を添加することによりレーザー彫刻時の液状カスの発生抑制、及びレリーフ印刷版のタック防止等の改良が有効に行われる。
本発明の感光性樹脂組成物における樹脂(a)、有機化合物(b)、及び無機多孔質体(f)の割合は、樹脂(a)100重量部に対して、有機化合物(b)は5〜200重量部が好ましく、20〜100重量部の範囲がより好ましい。又、無機多孔質体(f)は1〜100重量部が好ましく、2〜50重量部の範囲がより好ましい。更に好ましい範囲は、2〜20重量部である。
Moreover, the surface of the inorganic porous body can be coated with a silane coupling agent, a titanium coupling agent, or other organic compounds, and subjected to a surface modification treatment to make particles more hydrophilic or hydrophobic.
In the present invention, one or two or more of these inorganic porous bodies (f) can be selected, and by adding the inorganic porous body (f), generation of liquid debris during laser engraving and relief Improvements such as tack prevention of the printing plate are effectively performed.
The ratio of the resin (a), the organic compound (b), and the inorganic porous body (f) in the photosensitive resin composition of the present invention is 5 for the organic compound (b) with respect to 100 parts by weight of the resin (a). -200 weight part is preferable and the range of 20-100 weight part is more preferable. The inorganic porous material (f) is preferably 1 to 100 parts by weight, and more preferably 2 to 50 parts by weight. A more preferable range is 2 to 20 parts by weight.

有機化合物(b)の割合が、上記の範囲より小さい場合、得られる印刷版などの硬度と引張強伸度のバランスがとりにくいなどの不都合を生じやすく、上記の範囲より大きい場合には架橋硬化の際の収縮が大きくなり、厚み精度が悪化する傾向がある。
又、無機多孔質体(f)の量が上記の範囲より小さい場合、樹脂(a)及び有機化合物(b)の種類によっては、レーザー彫刻した際に、彫刻液状カスの発生を抑制するなどの効果が十分発揮されない場合があり、上記の範囲より大きい場合には、印刷版が脆くなる。また、透明性が損なわれる場合があり、また、特にフレキソ版として利用する際には、硬度が高くなりすぎてしまう場合がある。光、特に紫外線を用いて感光性樹脂組成物を硬化させレーザー彫刻印刷原版を作製する場合、光線透過性が硬化反応に影響する。したがって、用いる無機多孔質体の屈折率が感光性樹脂組成物の屈折率に近いものを用いることが有効である。
When the ratio of the organic compound (b) is smaller than the above range, it tends to cause inconveniences such as difficulty in balancing the hardness and tensile strength / elongation of the printing plate to be obtained, and when it is larger than the above range, cross-linking curing is performed. There is a tendency for the shrinkage during the process to increase and the thickness accuracy to deteriorate.
When the amount of the inorganic porous material (f) is smaller than the above range, depending on the types of the resin (a) and the organic compound (b), the generation of engraving liquid debris can be suppressed when laser engraving is performed. The effect may not be sufficiently exhibited, and if it is larger than the above range, the printing plate becomes brittle. Further, the transparency may be impaired, and particularly when used as a flexographic plate, the hardness may become too high. When a photosensitive resin composition is cured using light, particularly ultraviolet rays, to prepare a laser engraving printing original plate, light transmittance affects the curing reaction. Therefore, it is effective to use a material having a refractive index close to that of the photosensitive resin composition.

感光性樹脂組成物中に無機多孔質体を混合する方法として、熱可塑性樹脂を加熱して流動化させた状態で直接無機多孔質体(f)を添加する方法、あるいは熱可塑性樹脂と光重合性有機化合物(b)を最初に混錬した中に無機多孔質体(f)を添加する方法のいずれでも構わない。
その他、本発明の樹脂組成物には用途や目的に応じて重合禁止剤、紫外線吸収剤、染料、顔料、滑剤、界面活性剤、可塑剤、香料などを添加することができる。
As a method of mixing the inorganic porous material in the photosensitive resin composition, a method of directly adding the inorganic porous material (f) in a state where the thermoplastic resin is heated and fluidized, or photopolymerization with the thermoplastic resin. Any method may be used in which the inorganic porous material (f) is added to the kneaded organic organic compound (b) first.
In addition, a polymerization inhibitor, an ultraviolet absorber, a dye, a pigment, a lubricant, a surfactant, a plasticizer, a fragrance, and the like can be added to the resin composition of the present invention according to the purpose and purpose.

本発明のレーザー彫刻可能な印刷原版は、有機化合物(b)の重合性不飽和基同士、あるいは樹脂(a)の重合性不飽和基と有機化合物(b)の重合性不飽和基が反応することにより3次元架橋構造が形成され、通常用いるエステル系、ケトン系、芳香族系、エーテル系、アルコール系、ハロゲン系溶剤に不溶化する。この反応は、有機化合物(b)同士、樹脂(a)同士、あるいは樹脂(a)と有機化合物(b)との間で起こり、重合性不飽和基が消費される。また、光重合開始剤を用いて架橋硬化させる場合、光重合開始剤が光により分解されるため、前記架橋硬化物を溶剤で抽出し、GC−MS法(ガスクロマトグラフィーで分離したものを質量分析する方法)、LC−MS法(液体クロマトグラフィーで分離したものを質量分析する方法)、GPC−MS法(ゲル浸透クロマトグラフィーで分離し質量分析する方法)、LC−NMR法(液体クロマトグラフィーで分離したものを核磁気共鳴スペクトルで分析する方法)を用いて解析することにより、未反応の光重合開始剤および分解生成物を同定することができる。更に、GPC−MS法、LC−MS法、GPC−NMR法を用いることにより、溶剤抽出物中の未反応のポリマー、未反応の有機化合物(b)、および重合性不飽和基が反応して得られる比較的低分子量の生成物についても溶剤抽出物の分析から同定することができる。3次元架橋構造を形成した溶剤に不溶の高分子量成分については、熱分解GC−MS法を用いることにより、高分子量体を構成する成分として、重合性不飽和基が反応して生成した部位が存在するかを検証することが可能である。例えば、メタクリレート基、アクリレート基、ビニル基等の重合性不飽和基が反応した部位が存在することを質量分析スペクトルパターンから推定することができる。熱分解GC−MS法とは、試料を加熱分解させ、生成するガス成分をガスクロマトグラフィーで分離した後、質量分析を行なう方法である。架橋硬化物中に、未反応の重合性不飽和基又は重合性不飽和基が反応して得られた部位と共に、光重合開始剤に由来する分解生成物や未反応の光重合開始剤が検出されると、感光性樹脂組成物を光架橋硬化させて得られたものであると結論付けることができる。   In the printing original plate capable of laser engraving of the present invention, the polymerizable unsaturated groups of the organic compound (b) or the polymerizable unsaturated group of the resin (a) reacts with the polymerizable unsaturated group of the organic compound (b). As a result, a three-dimensional cross-linked structure is formed and insolubilized in a commonly used ester, ketone, aromatic, ether, alcohol or halogen solvent. This reaction occurs between the organic compounds (b), between the resins (a), or between the resin (a) and the organic compound (b), and the polymerizable unsaturated group is consumed. In addition, when the photopolymerization initiator is used for crosslinking and curing, the photopolymerization initiator is decomposed by light. Therefore, the cross-linked cured product is extracted with a solvent, and mass-separated by GC-MS (gas chromatography). Analysis method), LC-MS method (method for mass spectrometry of those separated by liquid chromatography), GPC-MS method (method for separation and mass spectrometry by gel permeation chromatography), LC-NMR method (liquid chromatography) By analyzing using the method of analyzing the product separated in (1) by nuclear magnetic resonance spectrum, unreacted photopolymerization initiator and decomposition products can be identified. Furthermore, by using the GPC-MS method, LC-MS method, and GPC-NMR method, the unreacted polymer, the unreacted organic compound (b), and the polymerizable unsaturated group in the solvent extract are reacted. The resulting relatively low molecular weight product can also be identified from analysis of the solvent extract. For the high molecular weight component insoluble in the solvent in which the three-dimensional cross-linked structure is formed, by using the pyrolysis GC-MS method, the site formed by the reaction of the polymerizable unsaturated group is formed as a component constituting the high molecular weight body. It is possible to verify whether it exists. For example, it can be estimated from the mass spectrometry spectrum pattern that there is a site where a polymerizable unsaturated group such as a methacrylate group, an acrylate group, or a vinyl group has reacted. The pyrolysis GC-MS method is a method in which a sample is thermally decomposed and a generated gas component is separated by gas chromatography and then mass spectrometry is performed. The decomposition product derived from the photopolymerization initiator and the unreacted photopolymerization initiator are detected together with the unreacted polymerizable unsaturated group or the site obtained by the reaction of the polymerizable unsaturated group in the crosslinked cured product. Then, it can be concluded that the photosensitive resin composition was obtained by photocrosslinking and curing.

感光性樹脂組成物中あるいは光架橋硬化物中に存在する有機珪素化合物(c)の同定は、上記各種分析方法を駆使することにより可能である。
また、架橋硬化物中に存在する無機多孔質体微粒子の量については、架橋硬化物を空気中で加熱することにより、有機物成分を焼き飛ばし、残渣の重量を測定することにより得ることができる。また、前記残渣中に無機多孔質体微粒子が存在することは、電界放射型高分解能走査型電子顕微鏡での形態観察、レーザー散乱式粒子径分布測定装置での粒子径分布、および窒素吸着法による細孔容積、細孔径分布、比表面積の測定から同定することができる。
Identification of the organosilicon compound (c) present in the photosensitive resin composition or photocured cured product can be made by making full use of the various analytical methods described above.
Further, the amount of the inorganic porous fine particles present in the crosslinked cured product can be obtained by heating the crosslinked cured product in the air to burn off the organic component and measuring the weight of the residue. In addition, the presence of inorganic porous fine particles in the residue is due to morphological observation with a field emission type high resolution scanning electron microscope, particle size distribution with a laser scattering type particle size distribution measuring device, and nitrogen adsorption method. It can be identified from the measurement of pore volume, pore diameter distribution and specific surface area.

また、本発明の場合、感光性樹脂組成物中には揮発性溶剤を含有し、円筒状支持体上に塗布し該溶剤成分を乾燥除去しているが、完全に除去することは難しいようである。したがって、感光性樹脂組成物層あるいは感光性樹脂硬化物層中に残留する揮発性溶剤成分の分析を、熱分解GC/MS法を用いて定量分析することができる。すなわち、熱分解ガス中に含まれる溶剤成分が何かをGCを用いて分離し、質量分析で同定することができるので、同定された溶剤成分について、重量が既知の溶剤成分を同じ方法により分析しピーク強度を比較することにより、感光性樹脂組成物層あるいは感光性樹脂硬化物層中に含まれる在留溶剤の量を知ることができる。感光性樹脂層あるいは感光性樹脂硬化物層の表面よりも内部に残留する溶剤の濃度が高い傾向が見られる。また、残留する溶剤の濃度は、乾燥温度や温風の風量等の乾燥条件、あるいは液状感光性樹脂組成物を円筒状支持体上へ塗布する速度、塗布する方法により大きく異なってくる。   In the case of the present invention, the photosensitive resin composition contains a volatile solvent, which is applied on a cylindrical support and dried to remove the solvent component. However, it seems difficult to completely remove the solvent component. is there. Therefore, the analysis of the volatile solvent component remaining in the photosensitive resin composition layer or the cured photosensitive resin layer can be quantitatively analyzed using the pyrolysis GC / MS method. In other words, since the solvent component contained in the pyrolysis gas can be separated by GC and identified by mass spectrometry, the solvent component having a known weight is analyzed by the same method for the identified solvent component. By comparing the peak intensities, the amount of the residence solvent contained in the photosensitive resin composition layer or the cured photosensitive resin layer can be known. There is a tendency that the concentration of the solvent remaining inside is higher than the surface of the photosensitive resin layer or the cured photosensitive resin layer. The concentration of the remaining solvent varies greatly depending on the drying conditions such as the drying temperature and the amount of warm air, the speed at which the liquid photosensitive resin composition is applied onto the cylindrical support, and the application method.

本発明の感光性樹脂組成物層あるいは感光性樹脂硬化物層中に含まれる溶剤成分は、5ppm以上1000ppm以下であることが好ましい。溶剤の残留が、この範囲であれば、支障なく微細パターンの形成が可能である。本発明の溶剤残留量の定量は、下記の方法で実施する。円筒状支持体上に形成された感光性樹脂層あるいは感光性樹脂硬化物層の断面において円筒状支持体近傍の厚さ0.5mm以内の部分の樹脂を微量採取し、これを分析用サンプルとする。このサンプルを熱分解GC/MS分析装置を用いて分析する。熱分解炉の温度を100℃から200℃に設定し、樹脂中に含まれる溶剤成分を蒸発させる。発生するガスを液体窒素でトラップするクライオフォーカシング法を用いて採取した。採取したガスをGC/MSを用いて分析する。ガスクロマトグラフ法で分離し、質量分析装置を用いて分析するので、たとえ未反応の重合性不飽和基を有する有機化合物がガス成分として発生しても、分離することができ、溶剤成分を同定することができる。更に、溶剤成分が同定できた後、重量が既知の該当する溶剤を同じ方法にて分析し、分析装置の検出部でどの程度の強度で検出できるか確認し、前記樹脂成分の分析結果と比較し、樹脂サンプル中に含まれる溶剤の重量を求める。分析に用いた樹脂サンプルの重量は最初に秤量してあるので、これらの値から、樹脂サンプル中の溶剤含有率を定量化することができる。熱分解炉の温度は、サンプルによって変更することが望ましい。例えば、熱重量分析法で前もって樹脂の分解特性を把握しておくことが望ましい。分解し易い樹脂の場合は、温度を低めに設定することもできる。測定上の妨害となる成分は、熱分解した成分であるが、本分析法は質量分析装置を装備しているので、熱分解温度を変えてこれらの成分の量の変化を観察することにより、熱分解して出てきた成分か、溶剤として存在していた成分かを分離することもできる。   The solvent component contained in the photosensitive resin composition layer or the cured photosensitive resin layer of the present invention is preferably 5 ppm to 1000 ppm. If the residual solvent is within this range, a fine pattern can be formed without any problem. The quantification of the solvent residual amount of the present invention is carried out by the following method. In the cross section of the photosensitive resin layer or the cured photosensitive resin layer formed on the cylindrical support, a small amount of resin in a portion within a thickness of 0.5 mm near the cylindrical support is collected, and this is used as an analysis sample. To do. This sample is analyzed using a pyrolysis GC / MS analyzer. The temperature of the pyrolysis furnace is set to 100 ° C. to 200 ° C., and the solvent component contained in the resin is evaporated. The generated gas was collected using a cryofocusing method in which liquid nitrogen was trapped with liquid nitrogen. The collected gas is analyzed using GC / MS. Since it is separated by gas chromatography and analyzed using a mass spectrometer, even if an organic compound having an unreacted polymerizable unsaturated group is generated as a gas component, it can be separated and the solvent component is identified. be able to. Furthermore, after the solvent component can be identified, the corresponding solvent having a known weight is analyzed by the same method, and it is confirmed how much strength can be detected by the detection unit of the analyzer, and compared with the analysis result of the resin component. Then, the weight of the solvent contained in the resin sample is obtained. Since the weight of the resin sample used for the analysis is initially weighed, the solvent content in the resin sample can be quantified from these values. It is desirable to change the temperature of the pyrolysis furnace depending on the sample. For example, it is desirable to grasp the decomposition characteristics of the resin in advance by thermogravimetric analysis. In the case of a resin that is easily decomposed, the temperature can be set lower. Components that interfere with the measurement are pyrolyzed components, but since this analysis method is equipped with a mass spectrometer, by changing the pyrolysis temperature and observing changes in the amounts of these components, It is also possible to separate a component that has been thermally decomposed or a component that has been present as a solvent.

本発明の樹脂組成物をシート状、もしくは円筒状に成形する方法は、既存の樹脂の成形方法を用いることができる。例えば、注型法、ポンプや押し出し機等の機械で樹脂をノズルやダイスから押し出し、ブレードで厚みを合わせる、ロールによりカレンダー加工して厚みを合わせる方法等が例示できる。その際、樹脂の性能を落とさない範囲で加熱しながら成形を行なうことも可能である。また、必要に応じて圧延処理、研削処理などをほどこしても良い。通常はPETやニッケルなどの素材からなるバックフィルムといわれる下敷きの上に成形される場合が多いが、直接印刷機のシリンダー上に成形する場合などもありうる。また、繊維強化プラスチック(FRP)製、プラスチック製あるいは金属製の円筒状支持体を用いることもできる。円筒状支持体は軽量化のために一定厚みで中空のものを使用することができる。バックフィルムあるいは円筒状支持体の役割は、印刷原版の寸法安定性を確保することである。したがって、寸法安定性の高いものを選択する必要がある。線熱膨張係数を用いて評価すると、好ましい材料の上限値は100ppm/℃以下、更に好ましくは70ppm/℃以下である。材料の具体例としては、ポリエステル樹脂、ポリイミド樹脂、ポリアミド樹脂、ポリアミドイミド樹脂、ポリエーテルイミド樹脂、ポリビスマレイミド樹脂、ポリスルホン樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリフェニレンエーテル樹脂、ポリフェニレンチオエーテル樹脂、ポリエーテルスルホン樹脂、全芳香族ポリエステル樹脂からなる液晶樹脂、全芳香族ポリアミド樹脂、エポキシ樹脂などを挙げることができる。また、これらの樹脂を積層して用いることもできる。例えば、厚み4.5μmの全芳香族ポリアミドフィルムの両面に厚み50μmのポリエチレンテレフタレートの層を積層したシート等でもよい。また、多孔質性のシート、例えば繊維を編んで形成したクロスや、不織布、フィルムに細孔を形成したもの等をバックフィルムとして用いることができる。バックフィルムとして多孔質性シートを用いる場合、感光性樹脂組成物を孔に含浸させた後に光硬化させることで、感光性樹脂硬化物層とバックフィルムとが一体化するために高い接着性を得ることができる。クロスあるいは不織布を形成する繊維としては、ガラス繊維、アルミナ繊維、炭素繊維、アルミナ・シリカ繊維、ホウ素繊維、高珪素繊維、チタン酸カリウム繊維、サファイア繊維などの無機系繊維、木綿、麻などの天然繊維、レーヨン、アセテート等の半合成繊維、ナイロン、ポリエステル、アクリル、ビニロン、ポリ塩化ビニル、ポリオレフィン、ポリウレタン、ポリイミド、アラミド等の合成繊維を挙げることができる。また、バクテリアの生成するセルロースは、高結晶性ナノファイバーであり、薄くて寸法安定性の高い不織布を作製することのできる材料である。   As a method of molding the resin composition of the present invention into a sheet or cylinder, an existing resin molding method can be used. For example, a casting method, a method of extruding a resin from a nozzle or a die with a machine such as a pump or an extruder, adjusting the thickness with a blade, and adjusting the thickness by calendering with a roll can be exemplified. In that case, it is also possible to perform the molding while heating within a range that does not deteriorate the performance of the resin. Moreover, you may perform a rolling process, a grinding process, etc. as needed. Usually, it is often formed on an underlay called a back film made of a material such as PET or nickel, but it may be formed directly on a cylinder of a printing machine. Further, a cylindrical support made of fiber reinforced plastic (FRP), plastic, or metal can also be used. The cylindrical support can be hollow with a constant thickness for weight reduction. The role of the back film or the cylindrical support is to ensure the dimensional stability of the printing original plate. Therefore, it is necessary to select one having high dimensional stability. When evaluated using the linear thermal expansion coefficient, the upper limit value of a preferable material is 100 ppm / ° C. or less, more preferably 70 ppm / ° C. or less. Specific examples of materials include polyester resin, polyimide resin, polyamide resin, polyamideimide resin, polyetherimide resin, polybismaleimide resin, polysulfone resin, polycarbonate resin, polyphenylene ether resin, polyphenylene thioether resin, polyethersulfone resin, all Examples thereof include liquid crystal resins composed of aromatic polyester resins, wholly aromatic polyamide resins, and epoxy resins. Further, these resins can be laminated and used. For example, a sheet or the like in which layers of polyethylene terephthalate having a thickness of 50 μm are laminated on both surfaces of a 4.5 μm thick wholly aromatic polyamide film may be used. In addition, a porous sheet, for example, a cloth formed by knitting fibers, a nonwoven fabric, a film in which pores are formed, or the like can be used as a back film. When a porous sheet is used as the back film, the photosensitive resin cured product layer is integrated with the back film by photocuring after impregnating the photosensitive resin composition into the pores, so that high adhesion is obtained. be able to. The fibers forming the cloth or nonwoven fabric include glass fibers, alumina fibers, carbon fibers, alumina / silica fibers, boron fibers, high silicon fibers, potassium titanate fibers, inorganic fibers such as sapphire fibers, natural materials such as cotton and hemp Examples thereof include semi-synthetic fibers such as fibers, rayon and acetate, and synthetic fibers such as nylon, polyester, acrylic, vinylon, polyvinyl chloride, polyolefin, polyurethane, polyimide, and aramid. Further, cellulose produced by bacteria is a highly crystalline nanofiber, and is a material capable of producing a thin nonwoven fabric with high dimensional stability.

また、バックフィルムの線熱膨張係数を小さくする方法として、充填剤を添加する方法、全芳香族ポリアミド等のメッシュ状クロス、ガラスクロスなどに樹脂を含浸あるいは被覆する方法などを挙げることができる。充填剤としては、通常用いられる有機系微粒子、金属酸化物あるいは金属等の無機系微粒子、有機・無機複合微粒子など用いることができる。また、多孔質微粒子、内部に空洞を有する微粒子、マイクロカプセル粒子、低分子化合物が内部にインターカレーションする層状化合物粒子を用いることもできる。特に、アルミナ、シリカ、酸化チタン、ゼオライト等の金属酸化物微粒子、ポリスチレン・ポリブタジエン共重合体からなるラテックス微粒子、高結晶性セルロース等の天然物系の有機系微粒子等が有用である。   Examples of a method for reducing the linear thermal expansion coefficient of the back film include a method of adding a filler, a method of impregnating or coating a resin on a mesh cloth such as wholly aromatic polyamide, or a glass cloth. As the filler, generally used organic fine particles, inorganic fine particles such as metal oxide or metal, organic / inorganic composite fine particles, and the like can be used. In addition, porous fine particles, fine particles having cavities inside, microcapsule particles, and layered compound particles in which a low molecular compound intercalates can be used. In particular, metal oxide fine particles such as alumina, silica, titanium oxide, and zeolite, latex fine particles made of polystyrene / polybutadiene copolymer, natural product-based organic fine particles such as highly crystalline cellulose, and the like are useful.

本発明で用いるバックフィルムあるいは円筒状支持体の表面に物理的、化学的処理を行うことにより、感光性樹脂組成物層あるいは接着剤層との接着性を向上させることができる。物理的処理方法としては、サンドブラスト法、微粒子を含有した液体を噴射するウエットブラスト法、コロナ放電処理法、プラズマ処理法、紫外線あるいは真空紫外線照射法などを挙げることができる。また、化学的処理方法としては、強酸・強アルカリ処理法、酸化剤処理法、カップリング剤処理法などである。   By performing physical and chemical treatments on the surface of the back film or cylindrical support used in the present invention, the adhesion with the photosensitive resin composition layer or the adhesive layer can be improved. Examples of the physical treatment method include a sand blast method, a wet blast method for injecting a liquid containing fine particles, a corona discharge treatment method, a plasma treatment method, an ultraviolet ray or vacuum ultraviolet ray irradiation method, and the like. The chemical treatment method includes a strong acid / strong alkali treatment method, an oxidant treatment method, a coupling agent treatment method, and the like.

成形された感光性樹脂組成物層は光照射により架橋せしめ、印刷原版を形成する。また、成型しながら光照射により架橋させることもできる。硬化に用いられる光源としては高圧水銀灯、超高圧水銀灯、紫外線蛍光灯、殺菌灯、カーボンアーク灯、キセノンランプ、メタルハライドランプ等が挙げることができる。感光性樹脂組成物層に照射される光は、200nmから300nmの波長の光を有することが好ましい。特に水素引き抜き型光重合開始剤は、この波長領域に強い光吸収を有するものが多いため、200nmから300nmの波長の光を有する場合、感光性樹脂硬化物層表面の硬化性を充分に確保することができる。硬化に用いる光源は、1種類でも構わないが、波長の異なる2種類以上の光源を用いて硬化させることにより、樹脂の硬化性が向上することがあるので、2種類以上の光源を用いることも差し支えない。   The molded photosensitive resin composition layer is crosslinked by light irradiation to form a printing original plate. Further, it can be crosslinked by light irradiation while molding. Examples of the light source used for curing include a high pressure mercury lamp, an ultrahigh pressure mercury lamp, an ultraviolet fluorescent lamp, a germicidal lamp, a carbon arc lamp, a xenon lamp, and a metal halide lamp. The light applied to the photosensitive resin composition layer preferably has a wavelength of 200 nm to 300 nm. In particular, since many hydrogen abstraction type photopolymerization initiators have strong light absorption in this wavelength region, when having light with a wavelength of 200 nm to 300 nm, sufficient curability of the surface of the cured photosensitive resin layer is ensured. be able to. Although the light source used for curing may be one type, the curability of the resin may be improved by curing using two or more types of light sources having different wavelengths, so two or more types of light sources may be used. There is no problem.

レーザー彫刻に用いる原版の厚みは、その使用目的に応じて任意に設定して構わないが、印刷版として用いる場合には、好ましくは0.1〜7mmの範囲である。場合によっては、組成の異なる材料を複数積層していても構わない。例えば、最表面にYAGレーザー、ファイバーレーザーあるいは半導体レーザー等の近赤外線領域に発振波長を有するレーザーを用いて彫刻することができる層を形成し、その層の下に炭酸ガスレーザー等の赤外線レーザーあるいは可視・紫外線レーザーを用いてレーザー彫刻できる層を形成することも可能である。このような積層構造を形成することにより、極めて出力の高い炭酸ガスレーザーを用いて比較的粗いパターンを深く彫刻し、表面近傍の極めて精細なパターンをYAGレーザー、ファイバーレーザー等の近赤外線レーザーを用いて彫刻することが可能となる。極めて精細なパターンは比較的浅く彫刻できれば良いので、該近赤外線レーザーに感度のある層の厚さは、0.01mm以上0.5mm以下の範囲が好ましい。このように近赤外線レーザーに感度のある層と赤外線レーザーに感度のある層を積層することにより、近赤外線レーザーを用いて彫刻されたパターンの深さを正確に制御できる。これは、赤外線レーザーに感度のある層を、近赤外線レーザーでは彫刻することが困難である現象を利用しているからである。彫刻可能なパターンの精細さの違いは、レーザー装置固有の発振波長の違い、すなわち絞れるレーザービーム径の違いに起因する。このような方法でレーザー彫刻する場合、赤外線レーザーと近赤外線レーザーを搭載した別々のレーザー彫刻装置を用いて彫刻することもでき、また、赤外線レーザーと近赤外線レーザーの両方を搭載したレーザー彫刻装置を用いて行うことも可能である。   The thickness of the original plate used for laser engraving may be arbitrarily set according to the purpose of use, but when used as a printing plate, it is preferably in the range of 0.1 to 7 mm. In some cases, a plurality of materials having different compositions may be stacked. For example, a layer that can be engraved using a laser having an oscillation wavelength in the near infrared region such as a YAG laser, a fiber laser, or a semiconductor laser is formed on the outermost surface, and an infrared laser such as a carbon dioxide laser or the like is formed under the layer. It is also possible to form a layer capable of laser engraving using a visible / ultraviolet laser. By forming such a laminated structure, a relatively high-power carbon dioxide laser is used to deeply engrave a relatively rough pattern, and a very fine pattern near the surface is used using a near-infrared laser such as a YAG laser or fiber laser. Can be engraved. Since an extremely fine pattern may be engraved relatively shallowly, the thickness of the layer sensitive to the near infrared laser is preferably in the range of 0.01 mm to 0.5 mm. Thus, by laminating a layer sensitive to the near infrared laser and a layer sensitive to the infrared laser, the depth of the pattern engraved using the near infrared laser can be accurately controlled. This is because a layer that is sensitive to an infrared laser utilizes a phenomenon that is difficult to engrave with a near infrared laser. The difference in the fineness of the engraving pattern is caused by the difference in oscillation wavelength inherent in the laser apparatus, that is, the difference in the diameter of the laser beam that can be narrowed. When laser engraving is performed in this way, engraving can be performed using separate laser engraving equipment equipped with infrared laser and near infrared laser, and laser engraving equipment equipped with both infrared laser and near infrared laser can be used. It is also possible to use.

本発明のレーザー彫刻印刷原版表面の濡れ性は、インキの受理、転移において極めて重要な要素となる。25℃の温度条件で実施する表面濡れ性評価において、表面エネルギー30mN/mの指示液を20μリットル、1滴を該レーザー彫刻印刷原版表面に滴下し、30秒後に前記液滴が広がった部分の最大径を測定した場合において、該液滴の径が4mm以上20mm以下であることが好ましい。より好ましい範囲は5mm以上15mm以下である。指示液の広がり方は、同心円状になる場合が多いが、原版表面の状態によっては必ずしも同心円状の広がり方をしない場合もある。その場合には、広がった部分が完全に入る円の直径の最小値を指示液滴の広がった部分の最大径と定義する。液滴が広った部分の最大径が4mm以上20mm以下の範囲であれば、インキをはじいて印刷物が不均一になることなく、また版面へのインキ残りに抑制効果が見られる。   The wettability of the surface of the laser engraving printing original plate of the present invention is an extremely important factor in ink acceptance and transfer. In the surface wettability evaluation carried out at a temperature of 25 ° C., 20 μl of an indicator liquid having a surface energy of 30 mN / m was dropped on the surface of the laser engraving printing original plate, and after 30 seconds, the droplet spread. When the maximum diameter is measured, the diameter of the droplet is preferably 4 mm or more and 20 mm or less. A more preferable range is 5 mm or more and 15 mm or less. In many cases, the indicator liquid spreads concentrically, but depending on the state of the original surface, the concentric circle may not necessarily spread. In that case, the minimum value of the diameter of the circle in which the expanded portion completely enters is defined as the maximum diameter of the expanded portion of the indicator droplet. If the maximum diameter of the portion where the droplets are wide is in the range of 4 mm or more and 20 mm or less, the printed matter does not become non-uniform by repelling the ink, and the ink remaining on the plate surface is suppressed.

本発明では、レーザー彫刻される層の下部にエラストマーからなるクッション層を形成することもできる。一般的にレーザー彫刻される層の厚さは、0.1〜数mmであるため、それ以外の下部層は組成の異なる材料であっても構わない。クッション層としては、ショアA硬度が20から70度のエラストマー層であることが好ましい。ショアA硬度が20度以上である場合、適度に変形するため、印刷品質を確保することができる。また、70度以下であれば、クッション層としての役割を果たすことができる。より好ましいショアA硬度の範囲は、30〜60度である。   In the present invention, a cushion layer made of an elastomer can be formed below the layer to be laser engraved. In general, since the thickness of the layer to be laser engraved is 0.1 to several mm, the other lower layers may be made of materials having different compositions. The cushion layer is preferably an elastomer layer having a Shore A hardness of 20 to 70 degrees. When the Shore A hardness is 20 degrees or more, the printing quality can be ensured because the film is appropriately deformed. Moreover, if it is 70 degrees or less, it can play the role as a cushion layer. A more preferable range of Shore A hardness is 30 to 60 degrees.

前記クッション層は、特に限定せず、熱可塑性エラストマー、光硬化型エラストマー、熱硬化型エラストマー等ゴム弾性を有するものであれば何でも構わない。ナノメーターレベルの微細孔を有する多孔質エラストマー層であってもよい。特にシート状あるいは円筒状印刷版への加工性の観点から、光で硬化する液状感光性樹脂組成物を用い、硬化後にエラストマー化する材料を用いることが簡便であり好ましい。   The cushion layer is not particularly limited, and any cushion layer may be used as long as it has rubber elasticity, such as a thermoplastic elastomer, a photocurable elastomer, and a thermosetting elastomer. It may be a porous elastomer layer having nanometer-level micropores. In particular, from the viewpoint of processability to a sheet-like or cylindrical printing plate, it is convenient and preferable to use a liquid photosensitive resin composition that is cured by light and to use a material that becomes elastomer after curing.

クッション層に用いる熱可塑性エラストマーの具体例としては、スチレン系熱可塑性エラストマーであるSBS(ポリスチレン−ポリブタジエン−ポリスチレン)、SIS(ポリスチレン−ポリイソプレン−ポリスチレン)、SEBS(ポリスチレン−ポリエチレン/ポリブチレン−ポリスチレン)等、オレフィン系熱可塑性エラストマー、ウレタン系熱可塑性エラストマー、エステル系熱可塑性エラストマー、アミド系熱可塑性エラストマー、シリコン系熱可塑性エラストマー、フッ素系熱可塑性エラストマー等を挙げることができる。   Specific examples of the thermoplastic elastomer used for the cushion layer include SBS (polystyrene-polybutadiene-polystyrene), SIS (polystyrene-polyisoprene-polystyrene), SEBS (polystyrene-polyethylene / polybutylene-polystyrene), which are styrenic thermoplastic elastomers, and the like. Olefin-based thermoplastic elastomer, urethane-based thermoplastic elastomer, ester-based thermoplastic elastomer, amide-based thermoplastic elastomer, silicon-based thermoplastic elastomer, fluorine-based thermoplastic elastomer, and the like.

光硬化型エラストマーとしては、前記熱可塑性エラストマーに光重合性モノマー、可塑剤および光重合開始剤等を混合したもの、プラストマー樹脂に光重合性モノマー、光重合開始剤等を混合した液状組成物などを挙げることができる。本発明では、微細パターンの形成機能が重要な要素である感光性樹脂組成物の設計思想とは異なり、光を用いて微細なパターンの形成を行う必要がなく、全面露光により硬化させることにより、ある程度の機械的強度を確保できれば良いため、材料の選定において自由度が極めて高い。
また、硫黄架橋型ゴム、有機過酸化物、フェノール樹脂初期縮合物、キノンジオキシム、金属酸化物、チオ尿素等の非硫黄架橋型ゴムを用いることもできる。
更に、テレケリック液状ゴムを反応する硬化剤を用いて3次元架橋させてエラストマー化したものを使用することもできる。
Examples of the photocurable elastomer include those obtained by mixing a photopolymerizable monomer, a plasticizer, a photopolymerization initiator, and the like with the thermoplastic elastomer, and a liquid composition obtained by mixing a photopolymerizable monomer, a photopolymerization initiator, etc. with a plastomer resin. Can be mentioned. In the present invention, unlike the design concept of the photosensitive resin composition, in which the function of forming a fine pattern is an important element, it is not necessary to form a fine pattern using light, and by curing by overall exposure, Since it is sufficient to ensure a certain level of mechanical strength, the degree of freedom in selecting a material is extremely high.
Moreover, non-sulfur cross-linked rubbers such as sulfur cross-linked rubber, organic peroxide, phenol resin initial condensate, quinone dioxime, metal oxide, and thiourea can also be used.
Furthermore, it is also possible to use a three-dimensionally crosslinked elastomer obtained by using a curing agent that reacts with a telechelic liquid rubber.

本発明において多層化する場合、前記バックフィルムの位置は、クッション層の下、すなわち印刷原版の最下部、あるいは、レーザー彫刻可能な感光性樹脂層とクッション層との間の位置、すなわち印刷原版の中央部、いずれの位置でも構わない。
また、本発明のレーザー彫刻印刷版の表面に改質層を形成させることにより、印刷版表面のタックの低減、インク濡れ性の向上を行うこともできる。改質層としては、シランカップリング剤あるいはチタンカップリング剤等の表面水酸基と反応する化合物で処理した被膜、あるいは多孔質無機粒子を含有するポリマーフィルムを挙げることができる。
In the case of multilayering in the present invention, the position of the back film is below the cushion layer, that is, at the bottom of the printing original plate, or between the photosensitive resin layer capable of laser engraving and the cushion layer, that is, on the printing original plate. It does not matter at any position in the center.
Further, by forming a modified layer on the surface of the laser engraving printing plate of the present invention, the tack of the printing plate surface can be reduced and the ink wettability can be improved. Examples of the modified layer include a film treated with a compound that reacts with a surface hydroxyl group such as a silane coupling agent or a titanium coupling agent, or a polymer film containing porous inorganic particles.

広く用いられているシランカップリング剤は、基材の表面水酸基との反応性の高い官能基を分子内に有する化合物であり、そのような官能基とは、例えばトリメトキシシリル基、トリエトキシシリル基、トリクロロシリル基、ジエトキシシリル基、ジメトキシシリル基、ジモノクロロシリル基、モノエトキシシリル基、モノメトキシシリル基、モノクロロシリル基を挙げることができる。また、これらの官能基は分子内に少なくとも1つ以上存在し、基材の表面水酸基と反応することにより基材表面に固定化される。更に本発明のシランカップリング剤を構成する化合物は、分子内に反応性官能基としてアクリロイル基、メタクリロイル基、活性水素含有アミノ基、エポキシ基、ビニル基、パーフルオロアルキル基、及びメルカプト基から選ばれた少なくとも1個の官能基を有するもの、あるいは長鎖アルキル基を有するものを用いることができる。   A widely used silane coupling agent is a compound having in its molecule a functional group highly reactive with the surface hydroxyl group of the substrate. Examples of such a functional group include a trimethoxysilyl group and a triethoxysilyl group. Group, trichlorosilyl group, diethoxysilyl group, dimethoxysilyl group, dimonochlorosilyl group, monoethoxysilyl group, monomethoxysilyl group, monochlorosilyl group. Further, at least one of these functional groups exists in the molecule, and is immobilized on the surface of the base material by reacting with the surface hydroxyl group of the base material. Further, the compound constituting the silane coupling agent of the present invention is selected from acryloyl group, methacryloyl group, active hydrogen-containing amino group, epoxy group, vinyl group, perfluoroalkyl group, and mercapto group as reactive functional groups in the molecule. Those having at least one functional group or those having a long-chain alkyl group can be used.

また、チタンカップリング剤としては、イソプロピルトリイソステアロイルチタネート、イソプロピルトリス(ジオクチルパイロホスフェート)チタネート、イソプロピルトリ(N−アミノエチル−アミノエチル)チタネート、テトラオクチルビス(ジ−トリデシルホスファイト)チタネート、テトラ(2,2−ジアリルオキシメチル−1−ブチル)ビス(ジ−トリデシル)ホスファイトチタネート、ビス(オクチルパイロホスフェート)オキシアセテートチタネート、ビス(ジオクチルパイロホスフェート)エチレンチタネート、イソプロピルトリオクタノイルチタネート、イソプロピルジメタクリルイソステアロイルチタネート、イソプロピルトリドデシルベンゼンスルホニルチタネート、イソプロピルイソステアロイルジアクリルチタネート、イソプロピルトリ(ジオクチルスルフェート)チタネート、イソプロピルトリクミルフェニルチタネート、テトライソプロピルビス(ジオクチルホスファイト)チタネート等の化合物を挙げることができる。   Examples of titanium coupling agents include isopropyl triisostearoyl titanate, isopropyl tris (dioctyl pyrophosphate) titanate, isopropyl tri (N-aminoethyl-aminoethyl) titanate, tetraoctyl bis (di-tridecyl phosphite) titanate, Tetra (2,2-diallyloxymethyl-1-butyl) bis (di-tridecyl) phosphite titanate, bis (octylpyrophosphate) oxyacetate titanate, bis (dioctylpyrophosphate) ethylene titanate, isopropyltrioctanoyl titanate, isopropyl Dimethacrylisostearoyl titanate, isopropyltridodecylbenzenesulfonyl titanate, isopropylisostearoyl diacryl titanate Over DOO, isopropyl tri (dioctyl sulfate) titanate, isopropyl tricumylphenyl titanate, tetraisopropyl bis (dioctyl phosphite) may include compounds such as titanates.

表面に固定化したカップリング剤分子が特に重合性反応基を有する場合、表面への固定化後、光、熱、あるいは電子線を照射し架橋させることにより、より強固な被膜とすることもできる。
本発明では、上記のカップリング剤に、必要に応じ、水−アルコール、或いは酢酸水−アルコール混合液で希釈して、調整する。処理液中のカップリング剤の濃度は、0.05〜10.0重量%が好ましい。
本発明におけるカップリング剤処理法について説明する。前記のカップリング剤を含む処理液を、印刷原版、あるいはレーザー彫刻後の印刷版表面に塗布して用いられる。カップリング剤処理液を塗布する方法に特に限定はなく、例えば浸漬法、スプレー法、ロールコート法、或いは刷毛塗り法等を適応することが出来る。また、被覆処理温度、被覆処理時間についても特に限定はないが、5〜60℃であることが好ましく、処理時間は0.1〜60秒であることが好ましい。更に樹脂版表面上の処理液層の乾燥を加熱下で行うことが好ましく、加熱温度としては50〜150℃が好ましい。
When the coupling agent molecule immobilized on the surface has a polymerizable reactive group in particular, it is possible to obtain a stronger coating by irradiating light, heat, or an electron beam and crosslinking after immobilization on the surface. .
In the present invention, the above-described coupling agent is diluted with water-alcohol or acetic acid water-alcohol mixed solution as necessary. The concentration of the coupling agent in the treatment liquid is preferably 0.05 to 10.0% by weight.
The coupling agent treatment method in the present invention will be described. The treatment liquid containing the coupling agent is applied to the printing original plate or the surface of the printing plate after laser engraving. The method for applying the coupling agent treatment liquid is not particularly limited, and for example, an immersion method, a spray method, a roll coating method, or a brush coating method can be applied. Further, the coating treatment temperature and the coating treatment time are not particularly limited, but are preferably 5 to 60 ° C., and the treatment time is preferably 0.1 to 60 seconds. Furthermore, it is preferable to dry the treatment liquid layer on the surface of the resin plate under heating, and the heating temperature is preferably 50 to 150 ° C.

カップリング剤で印刷版表面を処理する前に、キセノンエキシマランプ等の波長が200nm以下の真空紫外線領域の光を照射する方法、あるいはプラズマ等の高エネルギー雰囲気に曝すことにより、印刷版表面に水酸基を発生させ高密度にカップリング剤を固定化することもできる。
また、無機多孔質体粒子を含有する層が印刷版表面に露出している場合、プラズマ等の高エネルギー雰囲気下で処理し、表面の有機物層を若干エッチング除去することにより印刷版表面に微小な凹凸を形成させることができる。この処理により印刷版表面のタックを低減させること、および表面に露出した無機多孔質体粒子がインクを吸収しやすくすることによりインク濡れ性が向上する効果も期待できる。
Before treating the printing plate surface with a coupling agent, a method of irradiating light in a vacuum ultraviolet region with a wavelength of 200 nm or less such as a xenon excimer lamp, or by exposing it to a high energy atmosphere such as plasma, a hydroxyl group on the printing plate surface. And the coupling agent can be immobilized at a high density.
In addition, when the layer containing inorganic porous particles is exposed on the printing plate surface, it is treated in a high-energy atmosphere such as plasma, and the organic layer on the surface is slightly etched away to remove minute particles on the printing plate surface. Unevenness can be formed. By this treatment, the effect of improving the ink wettability can be expected by reducing the tack of the printing plate surface and making the inorganic porous particles exposed on the surface easy to absorb the ink.

レーザー彫刻においては、形成したい画像をデジタル型のデータとしてコンピューターを利用してレーザー装置を操作し、原版上にレリーフ画像を作成する。レーザー彫刻に用いるレーザーは、原版が吸収を有する波長を含むものであればどのようなものを用いてもよいが、彫刻を高速度で行なうためには出力の高いものが望ましく、炭酸ガスレーザーやYAGレーザー、半導体レーザー等の赤外線あるいは赤外線放出固体レーザーが好ましいものの一つである。また、可視光線領域に発振波長を有するYAGレーザーの第2高調波、銅蒸気レーザー、紫外線領域に発振波長を有する紫外線レーザー、例えばエキシマレーザー、第3あるいは第4高調波へ波長変換したYAGレーザーは、有機分子の結合を切断するアブレージョン加工が可能であり、微細加工に適する。また、レーザーは連続照射でも、パルス照射でも良い。一般には樹脂は炭酸ガスレーザーの10μm近傍に吸収を持つため、特にレーザー光の吸収を助けるような成分の添加は必須ではないが、YAGレーザーは1.06μm近傍の波長であり、この波長の吸収を有するものはあまり無い。その場合、これの吸収を助ける成分である、染料、顔料の添加が必要となる。このような染料の例としては、ポリ(置換)フタロシアニン化合物および金属含有フタロシアニン化合物、;シアニン化合物;スクアリリウム染料;カルコゲノピリロアリリデン染料;クロロニウム染料;金属チオレート染料;ビス(カルコゲノピリロ)ポリメチン染料;オキシインドリジン染料;ビス(アミノアリール)ポリメチン染料;メロシアニン染料;及びキノイド染料などが挙げられる。顔料の例としてはカーボンブラック、グラファイト、亜クロム酸銅、酸化クロム、コバルトクロームアルミネート、酸化銅、酸化鉄等の暗色の無機顔料や鉄、アルミニウム、銅、亜鉛のような金属粉およびこれら金属にSi、Mg、P、Co、Ni、Y等をドープしたもの等が挙げられる。これら染料、顔料は単独で使用しても良いし、複数を組み合わせて使用しても良いし、複層構造にするなどのあらゆる形態で組み合わせても良い。ただし、光を用いて感光性樹脂組成物を硬化させる系の場合、硬化に使用する光の波長における光吸収が大きな有機/無機化合物の添加量は、光硬化性に支障のない範囲にすることが好ましく、感光性樹脂組成物全体量に対する添加比率としては、好ましくは5wt%以下、より好ましくは2wt%以下である。   In laser engraving, a relief image is created on an original by operating a laser device using a computer as an image to be formed as digital data. Any laser may be used for the laser engraving as long as the original plate includes a wavelength having absorption, but in order to perform engraving at a high speed, a laser with a high output is desirable. Infrared or infrared emitting solid lasers such as YAG lasers and semiconductor lasers are preferred. In addition, the second harmonic of a YAG laser having an oscillation wavelength in the visible light region, a copper vapor laser, an ultraviolet laser having an oscillation wavelength in the ultraviolet region, such as an excimer laser, and a YAG laser wavelength-converted to the third or fourth harmonic are It can be ablated by cutting the bonds of organic molecules and is suitable for fine processing. The laser may be continuous irradiation or pulse irradiation. In general, resin has absorption in the vicinity of 10 μm of carbon dioxide laser, so it is not essential to add a component that helps the absorption of laser light, but YAG laser has a wavelength in the vicinity of 1.06 μm. There is not much that has. In that case, it is necessary to add dyes and pigments, which are components that assist in the absorption of these. Examples of such dyes include poly (substituted) phthalocyanine compounds and metal-containing phthalocyanine compounds; cyanine compounds; squarylium dyes; chalcogenopyrylarylidene dyes; chloronium dyes; Indolizine dyes; bis (aminoaryl) polymethine dyes; merocyanine dyes; and quinoid dyes. Examples of pigments include carbon black, graphite, copper chromite, chromium oxide, cobalt chrome aluminate, dark inorganic pigments such as copper oxide and iron oxide, and metal powders such as iron, aluminum, copper and zinc, and these metals And those doped with Si, Mg, P, Co, Ni, Y or the like. These dyes and pigments may be used alone, in combination of a plurality, or in any form such as a multilayer structure. However, in the case of a system in which the photosensitive resin composition is cured using light, the amount of the organic / inorganic compound that absorbs a large amount of light at the wavelength of light used for curing should be within a range that does not hinder the photocurability. The addition ratio with respect to the total amount of the photosensitive resin composition is preferably 5 wt% or less, more preferably 2 wt% or less.

レーザーによる彫刻は酸素含有ガス下、一般には空気存在下もしくは気流下に実施するが、炭酸ガス、窒素ガス下でも実施できる。彫刻終了後、レリーフ印刷版面にわずかに発生する粉末状もしくは液状の物質は適当な方法、例えば溶剤や界面活性剤の入った水等で洗いとる方法、高圧スプレー等により水系洗浄剤を照射する方法、高圧スチームを照射する方法などを用いて除去しても良い。   Laser engraving is carried out in an oxygen-containing gas, generally in the presence of air or an air stream, but can also be carried out in the presence of carbon dioxide or nitrogen gas. After engraving is finished, the powdery or liquid substance slightly generated on the relief printing plate surface is washed with an appropriate method such as water containing a solvent or a surfactant, or a water-based cleaning agent is irradiated by a high-pressure spray or the like. Alternatively, it may be removed using a method of irradiating high-pressure steam.

本発明において、レーザー彫刻印刷原版にレーザー光を照射し凹パターンを形成する際に、該レーザー彫刻印刷原版表面を加熱しレーザー彫刻を補助することもできる。レーザー彫刻印刷原版の加熱方法としては、レーザー彫刻機のシート状あるいは円筒状定盤を、ヒーターを用いて加熱する方法、赤外線ヒーターを用いて該レーザー彫刻印刷原版表面を直接加熱する方法を挙げることができる。この加熱工程により、レーザー彫刻性を向上させることができる。加熱の程度は、好ましくは50℃以上200℃以下の範囲、より好ましくは80℃以上200℃以下の範囲、更に好ましくは100℃以上200℃以下の範囲である。   In the present invention, when the laser engraving printing original plate is irradiated with laser light to form a concave pattern, the laser engraving printing original plate surface can be heated to assist laser engraving. Examples of the heating method of the laser engraving printing original plate include a method of heating a sheet or cylindrical surface plate of a laser engraving machine using a heater, and a method of directly heating the surface of the laser engraving printing original plate using an infrared heater. Can do. The laser engraving property can be improved by this heating step. The degree of heating is preferably in the range of 50 ° C to 200 ° C, more preferably in the range of 80 ° C to 200 ° C, and still more preferably in the range of 100 ° C to 200 ° C.

本発明において、レーザー光を照射し凹パターンを形成する彫刻後に、版表面に残存する粉末状あるいは粘性のある液状カスを除去する工程に引き続き、パターンを形成した印刷版表面に波長200nm〜450nmの光を照射する後露光を実施することもできる。表面のタック除去に効果がある方法である。後露光は大気中、不活性ガス雰囲気中、水中のいずれの環境で行っても構わない。用いる感光性樹脂組成物中に水素引き抜き型光重合開始剤が含まれている場合、特に効果的である。更に、後露光工程前に印刷版表面を、水素引き抜き型光重合開始剤を含む処理液で処理し露光しても構わない。また、水素引き抜き型光重合開始剤を含む処理液中に印刷版を浸漬した状態で露光しても構わない。   In the present invention, after engraving to form a concave pattern by irradiating a laser beam, following the step of removing powdery or viscous liquid residue remaining on the plate surface, the surface of the printing plate on which the pattern is formed has a wavelength of 200 nm to 450 nm. Post-exposure can be performed by irradiating light. This method is effective in removing tack on the surface. The post-exposure may be performed in any environment such as air, inert gas atmosphere, and water. This is particularly effective when the photosensitive resin composition used contains a hydrogen abstraction type photopolymerization initiator. Furthermore, before the post-exposure step, the printing plate surface may be exposed to a treatment liquid containing a hydrogen abstraction type photopolymerization initiator. Moreover, you may expose in the state which immersed the printing plate in the process liquid containing a hydrogen abstraction type photoinitiator.

本発明の印刷原版は印刷版用レリーフ画像の他、スタンプ・印章、エンボス加工用のデザインロール、電子部品作成に用いられる絶縁体、抵抗体、導電体ペーストのパターニング用レリーフ画像、光学部品の反射防止膜、カラーフィルター、(近)赤外線吸収フィルター等の機能性材料のパターン形成、液晶ディスプレイあるいは有機エレクトロルミネッセンスディスプレイ等の表示素子の製造における配向膜、下地層、発光層、電子輸送層、封止剤層の塗膜・パターン形成、窯業製品の型材用レリーフ画像、広告・表示板などのディスプレイ用レリーフ画像、各種成型品の原型・母型など各種の用途に応用し利用できる。   The printing original plate of the present invention is a relief image for a printing plate, a stamp / stamp, a design roll for embossing, a relief image for patterning an insulator, a resistor, and a conductor paste used for creating an electronic component, and a reflection of an optical component. Pattern formation of functional materials such as prevention films, color filters, (near) infrared absorption filters, alignment films, underlayers, light-emitting layers, electron transport layers, sealing in the manufacture of display elements such as liquid crystal displays or organic electroluminescence displays It can be applied and used for various applications such as coating film / pattern formation of agent layers, relief images for mold materials of ceramic products, relief images for displays such as advertisements and display boards, and prototypes / mother molds of various molded products.

以下、本発明を実施例に基づいて説明するが、本発明はこれらによって制限されるものではない。
(1)レーザー彫刻
レーザー彫刻は炭酸ガスレーザー彫刻機(商標:ZED−mini−1000、英国、ZED社製、米国、コヒーレント社製、出力250W炭酸ガスレーザーを搭載)を用いて行った。彫刻は、網点(80 lines per inch で面積率10%)、500μm幅の凸線による線画、及び、500μm幅の白抜き線を含むパターンを作成して実施した。彫刻深さを大きく設定すると、微細な網点部のパターンのトップ部の面積が確保できず、形状も崩れて不鮮明となるため、彫刻深さは0.55mmとした。
EXAMPLES Hereinafter, although this invention is demonstrated based on an Example, this invention is not restrict | limited by these.
(1) Laser engraving Laser engraving was performed using a carbon dioxide laser engraving machine (trademark: ZED-mini-1000, UK, manufactured by ZED, USA, coherent, equipped with an output 250 W carbon dioxide laser). Engraving was performed by creating a pattern including halftone dots (80 lines per inch, area ratio 10%), line drawing with a 500 μm wide convex line, and 500 μm wide white line. If the engraving depth is set large, the area of the top portion of the fine halftone dot pattern cannot be secured, and the shape is broken and unclear, so the engraving depth is set to 0.55 mm.

(2)カスの拭き取り回数とカス残存率
レーザー彫刻後のレリーフ印刷版上のカスは、エタノールもしくはアセトンを含浸させた不織布(商標:BEMCOT M−3、日本国、旭化成株式会社製、)を用いてレリーフ印刷版上のカスを拭き取った。彫刻後に発生する粘稠性の液状カスを除去するのに必要な拭き取り処理の回数をカス拭き取り回数とした。この回数が多いと、液状カスの量が多いことを意味する。優れた印刷版のカス拭き取り回数は、5回以下、好ましくは3回以下である。
更に、レーザー彫刻前の印刷原版、レーザー彫刻直後の印刷版、及び拭き取り後のレリーフ印刷版各々重量を測定し、下記の式により、彫刻時のカス残存率を求めた。
(彫刻直後の版の重量−拭き取り後の版の重量)÷(彫刻前の原版重量−拭き取り後の版の重量)×100
優れた印刷版のカス残存率は15wt%以下、好ましくは10wt%以下である。
レリーフ上に残存したカスを除去した後、印刷版表面に紫外線を照射する後露光を実施した。後露光に用いた光は、紫外線蛍光灯(ケミカルランプ、中心波長:370nm)と殺菌灯(ジャーミサイダルランプ、中心波長:253nm)の光であった。
(2) Number of residue wiping and residue remaining rate The residue on the relief printing plate after laser engraving uses a nonwoven fabric impregnated with ethanol or acetone (trademark: BEMCOT M-3, manufactured by Asahi Kasei Corporation, Japan). The residue on the relief printing plate was wiped off. The number of wiping processes necessary to remove the viscous liquid residue generated after engraving was defined as the number of residue wiping operations. A large number of times means a large amount of liquid residue. The number of wiping off of the excellent printing plate is 5 times or less, preferably 3 times or less.
Furthermore, the weights of the printing original plate before laser engraving, the printing plate immediately after laser engraving, and the relief printing plate after wiping were measured, and the residue rate at the time of engraving was determined by the following formula.
(Weight of plate immediately after engraving-Weight of plate after wiping) ÷ (Weight of original plate before engraving-Weight of plate after wiping) x 100
The residue rate of the excellent printing plate is 15 wt% or less, preferably 10 wt% or less.
After removing the residue remaining on the relief, post-exposure was performed by irradiating the printing plate surface with ultraviolet rays. The light used for post-exposure was ultraviolet fluorescent lamp (chemical lamp, center wavelength: 370 nm) and germicidal lamp (germisidal lamp, center wavelength: 253 nm).

(3)網点部の形状
彫刻した部位のうち、80lpi(Lines per inch)で面積率約10%の網点部の形状を電子顕微鏡で、200倍〜500倍の倍率で観察した。網点が円錐形または擬似円錐形(円錐の頂点付近を円錐の底面に平行な面で切った、末広がりの形状)の場合には、印刷版として良好である。
(3) Shape of halftone dot portion The shape of the halftone dot portion having an area ratio of about 10% at 80 lpi (Lines per inch) was observed with an electron microscope at a magnification of 200 to 500 times. In the case where the halftone dot is conical or pseudo-conical (a divergent shape obtained by cutting the vicinity of the apex of the cone with a plane parallel to the bottom of the cone), the printing plate is good.

(4)多孔質体および無孔質体の細孔容積、平均細孔径及び比表面積
多孔質体又は無孔質体2gを試料管に取り、前処理装置で150℃、1.3Pa以下の条件で12時間減圧乾燥した。乾燥した多孔質体又は無孔質体の細孔容積、平均細孔径及び比表面積は、米国、カンタクローム社製、オートソープ3MP(商標)を用い、液体窒素温度雰囲気下、窒素ガスを吸着させて測定した。具体的には、比表面積はBET式に基づいて算出した。細孔容積および平均細孔径は、窒素の脱着時の吸着等温線から円筒モデルを仮定し、BJH(Brrett-Joyner-Halenda)法という細孔分布解析法に基づいて算出した。
(4) Pore volume, average pore diameter, and specific surface area of porous body and nonporous body 2 g of porous body or nonporous body was taken in a sample tube, and conditions of 150 ° C. and 1.3 Pa or less in a pretreatment device And dried under reduced pressure for 12 hours. The pore volume, average pore diameter, and specific surface area of the dried porous body or non-porous body were measured by adsorbing nitrogen gas in a liquid nitrogen temperature atmosphere using Autosoap 3MP (trademark) manufactured by Cantachrome, USA. Measured. Specifically, the specific surface area was calculated based on the BET formula. The pore volume and average pore diameter were calculated based on a pore distribution analysis method called BJH (Brrett-Joyner-Halenda) method, assuming a cylindrical model from the adsorption isotherm at the time of nitrogen desorption.

(5)多孔質体および無孔質体の灼熱減量
測定用の多孔質体又は無孔質体の重量を記録する。次に測定用試料を高温電気炉(FG31型;日本国、ヤマト科学社製)に入れ、空気雰囲気、950℃の条件下で2時間処理した。処理後の重量変化を灼熱減量とした。
(5) Loss on ignition of porous body and nonporous body Record the weight of the porous body or nonporous body for measurement. Next, the measurement sample was placed in a high-temperature electric furnace (FG31 type; manufactured by Yamato Kagaku Co., Ltd., Japan) and treated for 2 hours in an air atmosphere at 950 ° C. The change in weight after treatment was defined as loss on ignition.

(6)多孔質体および無孔質体の粒子径分布における標準偏差
多孔質体および無孔質体の粒子径分布の測定は、レーザー回折式粒度分布測定装置(SALD−2000J型;日本国、島津製作所製)を用いて行った。装置の仕様では、0.03μmから500μmまでの粒子径範囲の測定が可能であることが、カタログに記載されている。分散媒体としてメチルアルコールを用い、超音波を約2分間照射し粒子を分散させ測定液を調整した。
(6) Standard deviation in particle size distribution of porous body and nonporous body The particle size distribution of the porous body and nonporous body was measured by a laser diffraction type particle size distribution analyzer (SALD-2000J type; Japan, (Manufactured by Shimadzu Corporation). According to the specification of the apparatus, it is described in the catalog that a particle size range from 0.03 μm to 500 μm can be measured. Methyl alcohol was used as a dispersion medium, and ultrasonic waves were applied for about 2 minutes to disperse the particles to prepare a measurement solution.

(7)粘度
感光性樹脂組成物の粘度は、B型粘度計(B8H型;日本国、東京計器社製)を用い、20℃で測定した。
(7) Viscosity The viscosity of the photosensitive resin composition was measured at 20 ° C. using a B-type viscometer (B8H type; manufactured by Tokyo Keiki Co., Ltd., Japan).

(8)数平均分子量の測定
樹脂(a)の数平均分子量は、ゲル浸透クロマトグラフ法(GPC法)を用いて、分子量既知のポリスチレンで換算して求めた。高速GPC装置(日本国、東ソー社製のHLC−8020)とポリスチレン充填カラム(商標:TSKgel GMHXL;日本国、東ソー社製)を用い、テトラヒドロフラン(THF)で展開して測定した。カラムの温度は40℃に設定した。GPC装置に注入する試料としては、樹脂濃度が1wt%のTHF溶液を調製し、注入量10μlとした。また、検出器としては、樹脂(a)に関しては紫外吸収検出器を使用し、モニター光として254nmの光を用いた。本発明の実施例あるいは比較例で用いている樹脂(a)は、GPC法で用いて求めた多分散度(Mw/Mn)が1.1より大きいものであったため、GPC法で求めた数平均分子量Mnを採用した。
(8) Measurement of number average molecular weight The number average molecular weight of resin (a ) was calculated | required by converting into polystyrene with known molecular weight using the gel permeation chromatography method (GPC method). Using a high-speed GPC device (HLC-8020 manufactured by Tosoh Corporation, Japan) and a polystyrene-filled column (trademark: TSKgel GMHXL; manufactured by Tosoh Corporation, Japan), the measurement was performed with tetrahydrofuran (THF). The column temperature was set to 40 ° C. As a sample to be injected into the GPC apparatus, a THF solution having a resin concentration of 1 wt% was prepared, and the injection amount was 10 μl. As the detector, for the resin (a), an ultraviolet absorption detector was used, and 254 nm light was used as monitor light . The resin (a ) used in the examples or comparative examples of the present invention had a polydispersity (Mw / Mn) obtained by using the GPC method greater than 1.1, and thus the number obtained by the GPC method. Average molecular weight Mn was adopted.

(9)重合性不飽和基の数の測定
合成した樹脂(a)の分子内に存在する重合性不飽和基の平均数は、未反応の低分子成分を液体クロマトグラフ法を用いて除去した後、核磁気共鳴スペクトル法(NMR法)を用いて分子構造解析し求めた。
(9) Measurement of the number of polymerizable unsaturated groups The average number of polymerizable unsaturated groups present in the molecule of the synthesized resin (a) was obtained by removing unreacted low molecular components using liquid chromatography. Thereafter, molecular structure analysis was performed using a nuclear magnetic resonance spectrum method (NMR method).

(10)軟化温度の測定
軟化温度の測定には、レオメトリック・サイエンティフィック・エフ・イー社製の粘弾性測定装置、回転型のレオメーターを用いて測定した。測定周波数は10rad/秒、昇温速度は10℃/分で室温から加熱を開始し、最初に粘性率が大きく低下する温度領域の粘性率曲線を外挿し、ベースラインと交わった点での温度を軟化点として求めた。
(10) Measurement of softening temperature The softening temperature was measured using a viscoelasticity measuring device and a rotational rheometer manufactured by Rheometric Scientific F.E. The measurement frequency is 10 rad / sec, the heating rate is 10 ° C./min, and heating starts from room temperature. First, extrapolate the viscosity curve in the temperature range where the viscosity decreases greatly, and the temperature at the point where the baseline intersects Was determined as the softening point.

(実施例1〜7、参考例8
20℃において固体状の樹脂(a)として、スチレン−ブタジエン−スチレン(SBS、旭化成ケミカルズ社製、商標「タフプレンA」、数平均分子量:7.3万)を用い、表1に示すように有機化合物(b)、無機多孔質体(f)、光重合開始剤、その他添加剤を加えてニーダーを用いて混錬し樹脂組成物を作成した。得られた樹脂組成物10重量部に対し、トルエンを20重量部添加し、液状感光性樹脂組成物を調整した。
(Examples 1-7 , Reference Example 8 )
As solid resin (a) at 20 ° C., a styrene - butadiene - styrene (SBS, manufactured by Asahi Kasei Chemicals Corporation, trade "Tufprene A", the number-average molecular weight: 73,000) have use a, as shown in Table 1 An organic compound (b) , an inorganic porous material (f), a photopolymerization initiator, and other additives were added and kneaded using a kneader to prepare a resin composition. To 10 parts by weight of the obtained resin composition, 20 parts by weight of toluene was added to prepare a liquid photosensitive resin composition.

また、無機多孔質体(f)として、富士シリシア化学株式会社製、多孔質性微粉末シリカである、商標「サイロスフェアC−1504」(以下略してC−1504、数平均粒子径4.5μm、比表面積520m/g、平均細孔径12nm、細孔容積1.5ml/g、灼熱減量2.5wt%、吸油量290ml/100g)、商標「サイリシア450」(以下略してCH−450、数平均粒子径8.0μm、比表面積300m/g、平均細孔径17nm、細孔容積1.25ml/g、灼熱減量5.0wt%、吸油量200ml/100g)、商標「サイリシア470」(以下略してC−470、数平均粒子径14.1μm、比表面積300m/g、平均細孔径17nm、細孔容積1.25ml/g、灼熱減量5.0wt%、吸油量180ml/100g)を用いた。用いた多孔質性微粉末シリカの多孔度は、密度を2g/cmとして算出すると、サイロスフェアーC−1504が780、サイリシア450が800であった。添加した多孔質球状シリカであるサイロスフェアーC−1504の真球度は、走査型電子顕微鏡を用いて観察したところ、ほぼ全ての粒子が0.9以上であった。サイリシア450、サイリシア470は、多孔質シリカではあるが球状シリカではなかった。 In addition, as the inorganic porous body (f), a trademark “Pyrospher C-1504” (hereinafter abbreviated as C-1504, number average particle diameter: 4.5 μm), which is a porous fine powder silica manufactured by Fuji Silysia Chemical Ltd. , Specific surface area 520 m 2 / g, average pore diameter 12 nm, pore volume 1.5 ml / g, loss on ignition 2.5 wt%, oil absorption 290 ml / 100 g), trademark “Silicia 450” (hereinafter abbreviated as CH-450, number) Average particle diameter 8.0 μm, specific surface area 300 m 2 / g, average pore diameter 17 nm, pore volume 1.25 ml / g, loss on ignition 5.0 wt%, oil absorption 200 ml / 100 g), trademark “Silicia 470” (hereinafter abbreviated) C-470, number average particle size 14.1 μm, specific surface area 300 m 2 / g, average pore size 17 nm, pore volume 1.25 ml / g, ignition loss 5.0 wt%, oil absorption 180 ml / 100 g) was used. The porosity of the porous fine powder silica used was calculated with a density of 2 g / cm 3 and was 780 for Pyrosphere C-1504 and 800 for Cylicia 450. When the sphericity of Pyrospher C-1504, which was added porous spherical silica, was observed using a scanning electron microscope, almost all of the particles were 0.9 or more. Silicia 450 and Silicia 470 were porous silica but not spherical silica.

厚さ2mm、内径213.384mmのガラス繊維強化プラスチック製の円筒状支持体上に、両面に接着剤層が付いたクッションテープを貼り付け、クッション層付の円筒状支持体を作製した。この円筒状支持体を回転させながら、該円筒状支持体上にドクターブレードを用いて液状感光性樹脂組成物を塗布し、その後円筒状支持体を回転させながら温風を吹きつけながら溶剤であるトルエンを乾燥除去した。得られた感光性樹脂組成物層の厚さが1.7mmになるようにグラインダーを用いて整形した。   Cushion tape with an adhesive layer on both sides was affixed on a glass fiber reinforced plastic cylindrical support having a thickness of 2 mm and an inner diameter of 213.384 mm to produce a cylindrical support with a cushion layer. While rotating the cylindrical support, the liquid photosensitive resin composition is applied onto the cylindrical support using a doctor blade, and then the solvent is used while blowing hot air while rotating the cylindrical support. Toluene was removed by drying. The resulting photosensitive resin composition layer was shaped using a grinder so that the thickness was 1.7 mm.

実施例1から7については、メタルハライドランプ(アイ・グラフィックス社製、商標「M056−L21」)を円筒状支持体を回転させながら、開口部(開口部寸法:40mm×310mm)から出てくる光を、大気中で感光性樹脂組成物層に照射し、レーザー彫刻可能な感光性樹脂硬化物層を形成した。照射したエネルギー量は、4000mJ/cm(UV−35−APRフィルターで測定した照度を時間積分した値)であった。照射面でのランプ照度は、UVメーター(オーク製作所社製、商標「UV−M02」)を用いて測定した。UV−35−APRフィルターを使用して測定したランプ照度は、100mW/cm、UV−25フィルターを使用して測定したランプ照度は、14mW/cmであった。 For Examples 1 to 7, a metal halide lamp (trade name “M056-L21” manufactured by Eye Graphics, Inc.) comes out from the opening (opening size: 40 mm × 310 mm) while rotating the cylindrical support. The photosensitive resin composition layer was irradiated with light in the atmosphere to form a cured photosensitive resin layer capable of laser engraving. The amount of energy irradiated was 4000 mJ / cm 2 (a value obtained by integrating the illuminance measured with the UV-35-APR filter over time). The lamp illuminance on the irradiated surface was measured using a UV meter (trade name “UV-M02” manufactured by Oak Manufacturing Co., Ltd.). The lamp illuminance measured using a UV-35-APR filter was 100 mW / cm 2 , and the lamp illuminance measured using a UV-25 filter was 14 mW / cm 2 .

その後、炭酸ガスレーザー彫刻機を用いて表面にパターンを形成した。得られた微細な網点部の形状は、ほぼ円錐状で良好であった。
参考例8については、クッション付の円筒状支持体上に実施例1と同様にして、感光性樹脂組成物層を形成した。得られた感光性樹脂組成物層の表面に、パターンを形成した離型剤付のネガフィルムを離型剤層側から貼り付け、その後、ネガフィルムを通してケミカルランプ(中心波長:370nm)の光を照射し、感光性樹脂組成物層中に潜像を形成した。更に、ネガフィルムを取り外し、未硬化部を炭化水素系溶剤で現像除去した。得られた微細な網点部の形状は、ほぼ円錐状で良好であった。
Thereafter, a pattern was formed on the surface using a carbon dioxide laser engraving machine. The shape of the obtained fine halftone dot portion was almost conical and good.
In Reference Example 8, a photosensitive resin composition layer was formed in the same manner as in Example 1 on a cylindrical support with a cushion. A negative film with a release agent having a pattern formed is attached to the surface of the obtained photosensitive resin composition layer from the side of the release agent layer, and then light from a chemical lamp (center wavelength: 370 nm) is passed through the negative film. Irradiation formed a latent image in the photosensitive resin composition layer. Further, the negative film was removed, and the uncured portion was developed and removed with a hydrocarbon solvent. The shape of the obtained fine halftone dot portion was almost conical and good.

実施例の感光性樹脂硬化物層中に含まれる溶剤含有率を、0.25mg採取したサンプルを分析し求めた。熱分解GC/MS装置を用いて、熱分解炉の温度を120℃に設定し、発生するガスを液体窒素でトラップするクライオフォーカシング法を用いて採取した。採取したガスをGC/MSを用いて分析した結果、残留する溶剤でるトルエンの量は、50ppmから300ppmの範囲に入っていた。分析に用いた熱分解GC/MS装置は、熱分解装置(フロンティアラボ社製、商標「Py−2010D」)とキャピラリーガスクロマトグラフ装置(GCと略す)、質量分析装置(MSと略す、日本電子社製、商標「Automass Sun」)から構成されていた。
The sample containing 0.25 mg of the solvent content contained in the cured photosensitive resin layer of the example was analyzed and determined. Using a pyrolysis GC / MS apparatus, the temperature of the pyrolysis furnace was set to 120 ° C., and the generated gas was collected using a cryofocusing method in which liquid nitrogen was trapped. Results collected gas was analyzed using GC / MS, the amount of Ah Ru toluene solvent remaining had entered from 50ppm in the range of 300 ppm. The pyrolysis GC / MS apparatus used for the analysis is a pyrolysis apparatus (trade name “Py-2010D” manufactured by Frontier Laboratories), a capillary gas chromatograph apparatus (abbreviated as GC), and a mass spectrometer (abbreviated as MS, JEOL Ltd.) Made by the trademark "Automass Sun").

実施例で用いた光重合開始剤は、ベンゾフェノン(BP)が水素引き抜き型光重合開始剤(d)であり、2,2−ジメトキシ−2−フェニルアセトフェノン(DMPAP)が崩壊型光重合開始剤であった。また、本発明の実施例で用いている二重結合含有有機化合物の内、脂環族および芳香族の誘導体は、BZMA、CHMAおよびPEMAである。
実施例1〜7の感光性樹脂組成物は、いずれも20℃において液状であった。また、B型粘度計を用いて測定した粘度は、20℃において、いずれの系も50Pa・s以上5kPa・s以下であった。
本発明で用いたSBSの軟化温度は、130℃であった。
In the photopolymerization initiator used in the examples, benzophenone (BP) is a hydrogen abstraction photopolymerization initiator (d), and 2,2-dimethoxy-2-phenylacetophenone (DMMAP) is a decay photopolymerization initiator. there were. Among the double bond-containing organic compounds used in the examples of the present invention, the alicyclic and aromatic derivatives are BZMA, CHMA and PEMA.
The photosensitive resin compositions of Examples 1 to 7 were all liquid at 20 ° C. The viscosity measured using a B-type viscometer was 50 Pa · s or more and 5 kPa · s or less in any system at 20 ° C.
The softening temperature of SBS used in the present invention was 130 ° C.

本発明はレーザー彫刻によるフレキソ印刷版用レリーフ画像作成、エンボス加工等の表面加工用パターンの形成、タイル等の印刷用レリーフ画像形成、電子部品の導体、半導体、絶縁体、パターン形成、光学部品の反射防止膜、カラーフィルター、(近)赤外線カットフィルター等の機能性材料のパターン形成、更には液晶ディスプレイあるいは有機エレクトロルミネッセンスディスプレイ等の表示素子の製造における配向膜、下地層、発光層、電子輸送層、封止材層の塗膜・パターン形成用として最適である。   The present invention relates to the creation of relief images for flexographic printing plates by laser engraving, the formation of patterns for surface processing such as embossing, the formation of relief images for printing such as tiles, the conductors of electronic components, semiconductors, insulators, pattern formation, optical components Pattern formation of functional materials such as antireflection films, color filters, (near) infrared cut filters, and alignment films, base layers, light emitting layers, electron transport layers in the production of display elements such as liquid crystal displays or organic electroluminescence displays It is most suitable for forming a coating film / pattern of a sealing material layer.

Claims (10)

数平均分子量が1000以上30万以下の重合性不飽和基を有する20℃において固体状の樹脂(a)、数平均分子量が1000未満の重合性不飽和基を有する有機化合物(b)、揮発性溶剤、水素引き抜き型光重合開始剤(d)、崩壊型光重合開始剤(e)を含有する液状感光性樹脂組成物であって、該液状感光性樹脂組成物の粘度が20℃において10Pa・s以上50kPa・s以下である感光性樹脂組成物を円筒状支持体上に載せ感光性樹脂層としたのち、円筒状に形成された感光性樹脂層に大気中で光を照射し架橋硬化させ、感光性樹脂硬化物層とするレーザー彫刻可能な円筒状フレキソ印刷原版の製造方法Solid resin (a) at 20 ° C. having a polymerizable unsaturated group having a number average molecular weight of 1000 or more and 300,000 or less, an organic compound (b) having a polymerizable unsaturated group having a number average molecular weight of less than 1000, and volatility solvents, hydrogen abstraction type photopolymerization initiator (d), a liquid photosensitive resin composition containing a disintegrating photopolymerization initiator (e), the viscosity of the liquid photosensitive resin composition is 20 ° C. A photosensitive resin composition of 10 Pa · s or more and 50 kPa · s or less is placed on a cylindrical support to form a photosensitive resin layer, and then the photosensitive resin layer formed in a cylindrical shape is irradiated with light in the air to crosslink. A method for producing a laser-engravable cylindrical flexographic printing plate that is cured to form a cured photosensitive resin layer . 樹脂(a)の軟化する温度が350℃以下であることを特徴とする請求項1に記載のレーザー彫刻可能な円筒状フレキソ印刷原版の製造方法The method for producing a laser-engravable cylindrical flexographic printing original plate according to claim 1, wherein the temperature at which the resin (a) softens is 350 ° C or lower. 樹脂(a)が熱可塑性エラストマーであることを特徴とする請求項1、2のいずれかに記載のレーザー彫刻可能な円筒状フレキソ印刷原版の製造方法The method for producing a laser-engravable cylindrical flexographic printing original plate according to claim 1, wherein the resin (a) is a thermoplastic elastomer. 水素引き抜き型光重合開始剤(d)が、ベンゾフェノン類、キサンテン類、アントラキノン類から選ばれる少なくとも一種類の化合物からなり、かつ崩壊型光重合開始剤(e)が、ベンゾインアルキルエーテル類、2,2−ジアルコキシ−2−フェニルアセトフェノン類、アシルオキシムエステル類、アゾ化合物類、有機イオウ化合物類、ジケトン類から選ばれる少なくとも1種類の化合物からなることを特徴とする請求項1〜3のいずれか一項に記載のレーザー彫刻可能な円筒状フレキソ印刷原版の製造方法The hydrogen abstraction type photopolymerization initiator (d) comprises at least one compound selected from benzophenones, xanthenes and anthraquinones, and the decay type photopolymerization initiator (e) comprises benzoin alkyl ethers, 2, 4. It consists of at least one compound selected from 2-dialkoxy-2-phenylacetophenones, acyloxime esters, azo compounds, organic sulfur compounds, and diketones . A method for producing a cylindrical flexographic printing original plate capable of laser engraving according to one item . 感光性樹脂組成物が、さらに無機多孔質体(f)を含有し、該無機多孔質体(f)の比表面積が10m/g以上1500m/g以下、平均細孔径が1nm以上1000nm以下、細孔容積が0.1ml/g以上10ml/g以下、かつ吸油量が10ml/100g以上2000ml/100g以下であることを特徴とする請求項1からのいずれかに記載のレーザー彫刻可能な円筒状フレキソ印刷原版の製造方法The photosensitive resin composition further contains an inorganic porous body (f), the specific surface area of the inorganic porous body (f) is 10 m 2 / g or more and 1500 m 2 / g or less, and the average pore diameter is 1 nm or more and 1000 nm or less. and a pore volume 0.1 ml / g or more 10 ml / g or less, and the oil absorption may possible laser engraving according to any one of claims 1 to 4, characterized in that not more than 10 ml / 100 g or more 2000 ml / 100 g A method for producing a cylindrical flexographic printing original plate . 無機多孔質体(f)の数平均粒子径が0.1μm以上100μm以下であって、少なくとも70%の粒子の真球度が0.5〜1の範囲の球状粒子であることを特徴とする請求項に記載のレーザー彫刻可能な円筒状フレキソ印刷原版の製造方法The inorganic porous body (f) has a number average particle size of 0.1 μm or more and 100 μm or less, and at least 70% of the particles are spherical particles having a sphericity of 0.5 to 1. The method for producing a laser-engravable cylindrical flexographic printing original plate according to claim 5 . 前記感光性樹脂組成物を円筒状支持体上に載せ感光性樹脂層を設ける工程と、円筒状に形成された感光性樹脂組成物に大気中で光を照射し架橋硬化せしめる工程との間に、揮発性溶剤を乾燥除去する工程を有する請求項1〜6のいずれか一項に記載のレーザー彫刻可能な円筒状フレキソ印刷原版の製造方法 Between the step of placing the photosensitive resin composition on a cylindrical support and providing a photosensitive resin layer, and the step of irradiating the photosensitive resin composition formed in a cylindrical shape with light in the air to cure by crosslinking. The method for producing a laser-engravable cylindrical flexographic printing original plate according to any one of claims 1 to 6, further comprising a step of drying and removing the volatile solvent. 円筒状に形成された感光性樹脂層に照射される光に波長200nm以上450nm以下の光が含まれ、かつ、感光性樹脂組成物の光架橋硬化に用いる光の版面での照度が、オーク製作所社製のUVメーター「UV−M02」(商標)とUV−35−APRフィルターを用いて測定した場合、20mW/cm以上であること、かつ前記UVメーターとUV−25フィルターを用いて測定した場合、5mW/cm以上であることを特徴とする請求項1〜7のいずれか一項に記載のレーザー彫刻可能な円筒状フレキソ印刷原版の製造方法。 It includes 450nm or less light than the wavelength 200nm to light irradiated to the photosensitive resin layer formed into a cylindrical shape, and the illuminance on the plate surface of the light used for photo-crosslinking curing of the photosensitive resin composition, ORC Manufacturing If company made of UV Gauge "UV-M02" and (R) was measured using a UV-35-APR filter, it is 20 mW / cm 2 or more and measured using the UV meter and UV-25 filter The method for producing a laser-engravable cylindrical flexographic printing original plate according to any one of claims 1 to 7 , wherein the method is 5 mW / cm 2 or more. 請求項1〜8のいずれか一項に記載のレーザー彫刻可能な円筒状フレキソ印刷原版の製造方法で得られた印刷原版にレーザー光を照射し、該レーザー照射部を除去することにより凹パターンを形成する工程を含むことを特徴とする円筒状フレキソ印刷版の製造方法。 A laser beam is irradiated to the printing original plate obtained by the method for producing a cylindrical flexographic printing original plate capable of laser engraving according to any one of claims 1 to 8 , and the concave pattern is formed by removing the laser irradiation portion. circular cylindrical flexographic printing plate manufacturing method of you and a step of forming. ーザー光を照射し印刷原版を彫刻して凹パターンを形成する工程の後に、彫刻時に発生するカスを洗浄除去する工程、更にその後、波長200nm以上450nm以下の光を、パターンを形成した印刷版表面に照射する工程を含むことを特徴とする請求項に記載の円筒状フレキソ印刷版の製造方法。
After the step of forming a concave pattern by engraving the printing plate irradiated with Les Za light, washing removal of debris generated during engraving, Thereafter, the following light 450nm or more wavelength 200 nm, printing plate to form a pattern The method for producing a cylindrical flexographic printing plate according to claim 8 , comprising a step of irradiating the surface.
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