JP5154973B2 - シリカゲル、クロマトグラフ装置、分離方法、及びシリカゲルの製造方法 - Google Patents
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- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims description 119
- 239000000741 silica gel Substances 0.000 title claims description 99
- 229910002027 silica gel Inorganic materials 0.000 title claims description 99
- 238000000926 separation method Methods 0.000 title claims description 11
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 7
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 claims description 47
- 230000001476 alcoholic effect Effects 0.000 claims description 41
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims description 36
- PEDCQBHIVMGVHV-UHFFFAOYSA-N Glycerine Chemical compound OCC(O)CO PEDCQBHIVMGVHV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 30
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 21
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims description 16
- 235000011187 glycerol Nutrition 0.000 claims description 14
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 13
- LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N Ethylene glycol Chemical compound OCCO LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 12
- 230000005526 G1 to G0 transition Effects 0.000 claims description 7
- 239000011148 porous material Substances 0.000 claims description 7
- 125000005372 silanol group Chemical group 0.000 claims description 7
- 230000004048 modification Effects 0.000 claims description 6
- 238000012986 modification Methods 0.000 claims description 6
- 230000018044 dehydration Effects 0.000 claims description 5
- 238000006297 dehydration reaction Methods 0.000 claims description 5
- 238000006482 condensation reaction Methods 0.000 claims description 4
- 150000001412 amines Chemical group 0.000 claims description 3
- 238000004587 chromatography analysis Methods 0.000 claims description 3
- 150000005846 sugar alcohols Chemical class 0.000 claims description 3
- 150000003141 primary amines Chemical class 0.000 claims description 2
- 150000003335 secondary amines Chemical class 0.000 claims description 2
- 150000003512 tertiary amines Chemical class 0.000 claims description 2
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 16
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N Benzene Chemical compound C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 15
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- DOIRQSBPFJWKBE-UHFFFAOYSA-N dibutyl phthalate Chemical compound CCCCOC(=O)C1=CC=CC=C1C(=O)OCCCC DOIRQSBPFJWKBE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 239000002002 slurry Substances 0.000 description 10
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 239000006087 Silane Coupling Agent Substances 0.000 description 9
- 230000002378 acidificating effect Effects 0.000 description 9
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 9
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N Ammonia Chemical compound N QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N Pyridine Chemical compound C1=CC=NC=C1 JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 125000003700 epoxy group Chemical group 0.000 description 8
- GETQZCLCWQTVFV-UHFFFAOYSA-N trimethylamine Chemical compound CN(C)C GETQZCLCWQTVFV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N Phenol Chemical compound OC1=CC=CC=C1 ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 7
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 7
- 230000007935 neutral effect Effects 0.000 description 7
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 6
- 125000000524 functional group Chemical group 0.000 description 6
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 5
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical group [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- FBPFZTCFMRRESA-FSIIMWSLSA-N D-Glucitol Natural products OC[C@H](O)[C@H](O)[C@@H](O)[C@H](O)CO FBPFZTCFMRRESA-FSIIMWSLSA-N 0.000 description 4
- 235000010724 Wisteria floribunda Nutrition 0.000 description 4
- 125000003277 amino group Chemical group 0.000 description 4
- 229910021529 ammonia Inorganic materials 0.000 description 4
- 238000004440 column chromatography Methods 0.000 description 4
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 4
- 238000004128 high performance liquid chromatography Methods 0.000 description 4
- 239000011325 microbead Substances 0.000 description 4
- 150000002894 organic compounds Chemical class 0.000 description 4
- UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N pyridine Natural products COC1=CC=CN=C1 UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 4
- 239000000600 sorbitol Substances 0.000 description 4
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 4
- 239000004386 Erythritol Substances 0.000 description 3
- UNXHWFMMPAWVPI-UHFFFAOYSA-N Erythritol Natural products OCC(O)C(O)CO UNXHWFMMPAWVPI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acetate Chemical compound CCOC(C)=O XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- TVXBFESIOXBWNM-UHFFFAOYSA-N Xylitol Natural products OCCC(O)C(O)C(O)CCO TVXBFESIOXBWNM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 3
- 229930013930 alkaloid Natural products 0.000 description 3
- 239000012153 distilled water Substances 0.000 description 3
- 235000019414 erythritol Nutrition 0.000 description 3
- UNXHWFMMPAWVPI-ZXZARUISSA-N erythritol Chemical compound OC[C@H](O)[C@H](O)CO UNXHWFMMPAWVPI-ZXZARUISSA-N 0.000 description 3
- 229940009714 erythritol Drugs 0.000 description 3
- HEBKCHPVOIAQTA-UHFFFAOYSA-N meso ribitol Natural products OCC(O)C(O)C(O)CO HEBKCHPVOIAQTA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 3
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 3
- 238000006557 surface reaction Methods 0.000 description 3
- -1 vinca alkaloids Chemical compound 0.000 description 3
- 239000000811 xylitol Substances 0.000 description 3
- 235000010447 xylitol Nutrition 0.000 description 3
- HEBKCHPVOIAQTA-SCDXWVJYSA-N xylitol Chemical compound OC[C@H](O)[C@@H](O)[C@H](O)CO HEBKCHPVOIAQTA-SCDXWVJYSA-N 0.000 description 3
- 229960002675 xylitol Drugs 0.000 description 3
- XVMSFILGAMDHEY-UHFFFAOYSA-N 6-(4-aminophenyl)sulfonylpyridin-3-amine Chemical compound C1=CC(N)=CC=C1S(=O)(=O)C1=CC=C(N)C=N1 XVMSFILGAMDHEY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000003463 adsorbent Substances 0.000 description 2
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 2
- 239000007822 coupling agent Substances 0.000 description 2
- 238000005034 decoration Methods 0.000 description 2
- 150000002009 diols Chemical class 0.000 description 2
- VYFYYTLLBUKUHU-UHFFFAOYSA-N dopamine Chemical compound NCCC1=CC=C(O)C(O)=C1 VYFYYTLLBUKUHU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000010828 elution Methods 0.000 description 2
- 230000003993 interaction Effects 0.000 description 2
- BQJCRHHNABKAKU-KBQPJGBKSA-N morphine Chemical compound O([C@H]1[C@H](C=C[C@H]23)O)C4=C5[C@@]12CCN(C)[C@@H]3CC5=CC=C4O BQJCRHHNABKAKU-KBQPJGBKSA-N 0.000 description 2
- VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N n-Hexane Chemical compound CCCCCC VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 2
- 238000000746 purification Methods 0.000 description 2
- 238000001612 separation test Methods 0.000 description 2
- 238000004381 surface treatment Methods 0.000 description 2
- ZFXYFBGIUFBOJW-UHFFFAOYSA-N theophylline Chemical compound O=C1N(C)C(=O)N(C)C2=C1NC=N2 ZFXYFBGIUFBOJW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SNICXCGAKADSCV-JTQLQIEISA-N (-)-Nicotine Chemical compound CN1CCC[C@H]1C1=CC=CN=C1 SNICXCGAKADSCV-JTQLQIEISA-N 0.000 description 1
- WYTZZXDRDKSJID-UHFFFAOYSA-N (3-aminopropyl)triethoxysilane Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CCCN WYTZZXDRDKSJID-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910014033 C-OH Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910014570 C—OH Inorganic materials 0.000 description 1
- FBPFZTCFMRRESA-KVTDHHQDSA-N D-Mannitol Chemical compound OC[C@@H](O)[C@@H](O)[C@H](O)[C@H](O)CO FBPFZTCFMRRESA-KVTDHHQDSA-N 0.000 description 1
- FBPFZTCFMRRESA-JGWLITMVSA-N D-glucitol Chemical compound OC[C@H](O)[C@@H](O)[C@H](O)[C@H](O)CO FBPFZTCFMRRESA-JGWLITMVSA-N 0.000 description 1
- FBPFZTCFMRRESA-ZXXMMSQZSA-N D-iditol Chemical compound OC[C@@H](O)[C@H](O)[C@@H](O)[C@H](O)CO FBPFZTCFMRRESA-ZXXMMSQZSA-N 0.000 description 1
- VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N Ethene Chemical compound C=C VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005977 Ethylene Substances 0.000 description 1
- 208000007976 Ketosis Diseases 0.000 description 1
- 229930195725 Mannitol Natural products 0.000 description 1
- GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N Nitric acid Chemical compound O[N+]([O-])=O GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004115 Sodium Silicate Substances 0.000 description 1
- 229940122803 Vinca alkaloid Drugs 0.000 description 1
- 150000001323 aldoses Chemical class 0.000 description 1
- 150000003797 alkaloid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- RXVGBQCEAQZMLW-UHFFFAOYSA-N alpha-solanine Natural products CC1CCC2C(C)C3C(CC4C5CC=C6CC(CCC6(C)C5CCC34C)OC7OC(CO)C(O)C(OC8OC(CO)C(O)C(O)C8O)C7OC9OC(CO)C(O)C(O)C9O)N2C1 RXVGBQCEAQZMLW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 1
- YBHILYKTIRIUTE-UHFFFAOYSA-N berberine Chemical compound C1=C2CC[N+]3=CC4=C(OC)C(OC)=CC=C4C=C3C2=CC2=C1OCO2 YBHILYKTIRIUTE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QISXPYZVZJBNDM-UHFFFAOYSA-N berberine Natural products COc1ccc2C=C3N(Cc2c1OC)C=Cc4cc5OCOc5cc34 QISXPYZVZJBNDM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940093265 berberine Drugs 0.000 description 1
- 150000001721 carbon Chemical class 0.000 description 1
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 description 1
- 125000002915 carbonyl group Chemical group [*:2]C([*:1])=O 0.000 description 1
- 150000001732 carboxylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 239000007795 chemical reaction product Substances 0.000 description 1
- 238000009833 condensation Methods 0.000 description 1
- 230000005494 condensation Effects 0.000 description 1
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 1
- 238000002425 crystallisation Methods 0.000 description 1
- 230000008025 crystallization Effects 0.000 description 1
- 238000001514 detection method Methods 0.000 description 1
- OTARVPUIYXHRRB-UHFFFAOYSA-N diethoxy-methyl-[3-(oxiran-2-ylmethoxy)propyl]silane Chemical compound CCO[Si](C)(OCC)CCCOCC1CO1 OTARVPUIYXHRRB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UDOXGPVEBWZXBJ-UHFFFAOYSA-N dimethoxy-methyl-[3-(oxiran-2-ylmethoxy)propyl]silane;trimethoxy-[3-(oxiran-2-ylmethoxy)propyl]silane Chemical compound CO[Si](C)(OC)CCCOCC1CO1.CO[Si](OC)(OC)CCCOCC1CO1 UDOXGPVEBWZXBJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000004821 distillation Methods 0.000 description 1
- 229960003638 dopamine Drugs 0.000 description 1
- 239000003814 drug Substances 0.000 description 1
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 1
- 238000000921 elemental analysis Methods 0.000 description 1
- 238000005886 esterification reaction Methods 0.000 description 1
- 125000001301 ethoxy group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])O* 0.000 description 1
- HHBOIIOOTUCYQD-UHFFFAOYSA-N ethoxy-dimethyl-[3-(oxiran-2-ylmethoxy)propyl]silane Chemical compound CCO[Si](C)(C)CCCOCC1CO1 HHBOIIOOTUCYQD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000002485 formyl group Chemical class [H]C(*)=O 0.000 description 1
- FBPFZTCFMRRESA-GUCUJZIJSA-N galactitol Chemical compound OC[C@H](O)[C@@H](O)[C@@H](O)[C@H](O)CO FBPFZTCFMRRESA-GUCUJZIJSA-N 0.000 description 1
- 239000000499 gel Substances 0.000 description 1
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 1
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000003301 hydrolyzing effect Effects 0.000 description 1
- 239000011256 inorganic filler Substances 0.000 description 1
- 229910003475 inorganic filler Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000005342 ion exchange Methods 0.000 description 1
- 150000002584 ketoses Chemical class 0.000 description 1
- 239000000594 mannitol Substances 0.000 description 1
- 235000010355 mannitol Nutrition 0.000 description 1
- 230000000873 masking effect Effects 0.000 description 1
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 1
- 125000000956 methoxy group Chemical group [H]C([H])([H])O* 0.000 description 1
- XPDGHGYGTJOTBC-UHFFFAOYSA-N methoxy(methyl)silicon Chemical compound CO[Si]C XPDGHGYGTJOTBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000007522 mineralic acids Chemical class 0.000 description 1
- 239000003595 mist Substances 0.000 description 1
- 229960005181 morphine Drugs 0.000 description 1
- 229960002715 nicotine Drugs 0.000 description 1
- SNICXCGAKADSCV-UHFFFAOYSA-N nicotine Natural products CN1CCCC1C1=CC=CN=C1 SNICXCGAKADSCV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910017604 nitric acid Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000012299 nitrogen atmosphere Substances 0.000 description 1
- 125000004433 nitrogen atom Chemical group N* 0.000 description 1
- 239000000825 pharmaceutical preparation Substances 0.000 description 1
- 229940127557 pharmaceutical product Drugs 0.000 description 1
- 125000002924 primary amino group Chemical group [H]N([H])* 0.000 description 1
- 239000000047 product Substances 0.000 description 1
- 238000010992 reflux Methods 0.000 description 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 1
- 150000003377 silicon compounds Chemical class 0.000 description 1
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 1
- NTHWMYGWWRZVTN-UHFFFAOYSA-N sodium silicate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-][Si]([O-])=O NTHWMYGWWRZVTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052911 sodium silicate Inorganic materials 0.000 description 1
- ZGVSETXHNHBTRK-OTYSSXIJSA-N solanine Chemical compound O([C@H]1[C@@H](O)[C@@H](CO)O[C@H]([C@@H]1O[C@@H]1[C@@H]([C@H](O)[C@@H](O)[C@H](C)O1)O)O[C@@H]1CC2=CC[C@H]3[C@@H]4C[C@@H]5N6C[C@@H](C)CC[C@@H]6[C@H]([C@@H]5[C@@]4(C)CC[C@@H]3[C@@]2(C)CC1)C)[C@@H]1O[C@H](CO)[C@@H](O)[C@H](O)[C@H]1O ZGVSETXHNHBTRK-OTYSSXIJSA-N 0.000 description 1
- 229940031352 solanine Drugs 0.000 description 1
- 238000005063 solubilization Methods 0.000 description 1
- 238000000638 solvent extraction Methods 0.000 description 1
- 238000001179 sorption measurement Methods 0.000 description 1
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 1
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 1
- 238000000967 suction filtration Methods 0.000 description 1
- 229930184616 taxin Natural products 0.000 description 1
- KOTXAHKUCAQPQA-AAUVPWARSA-N taxine Chemical compound C1([C@@H]([C@@H](O)C(=O)O[C@@H]2C=3/C[C@@](C([C@H](O)C4=C(C)[C@@H](OC(C)=O)CC(C4(C)C)[C@@H](OC(C)=O)\C=3)=O)(C)[C@@H](O)C2)N(C)C)=CC=CC=C1 KOTXAHKUCAQPQA-AAUVPWARSA-N 0.000 description 1
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 1
- 229960000278 theophylline Drugs 0.000 description 1
- JXUKBNICSRJFAP-UHFFFAOYSA-N triethoxy-[3-(oxiran-2-ylmethoxy)propyl]silane Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CCCOCC1CO1 JXUKBNICSRJFAP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BPSIOYPQMFLKFR-UHFFFAOYSA-N trimethoxy-[3-(oxiran-2-ylmethoxy)propyl]silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCOCC1CO1 BPSIOYPQMFLKFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
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Description
本発明は、シリカゲル、シリカゲルを用いたクロマトグラフ装置、クロマトグラフ装置を用いて塩基性物質を分離する分離方法、及びシリカゲルの製造方法に関する。
アルカロイド類等、塩基性の有機化合物には、医薬品として有用な物質が多く存在する。医薬品は、使用の安全性の点から、高い純度の製品が求められ、蒸留、結晶化、溶剤抽出など種々の方法で精製される。精製方法の一つとして、シリカゲルやアルミナのような無機充填剤との相互作用を利用したカラムクロマトグラフィーも広く使用されている。特にシリカゲルは高い表面積、安定性から実験室から工業分野まで多くの利用が見られる。
しかしながらシリカゲルは、その性質上、表面に酸性の水酸基（シラノール基）を有しているため、塩基性物質との相互作用が強すぎ、塩基性物質を良好に分離できないという問題があった。この問題を解決するため、カラムの展開溶剤にアンモニアやトリメチルアミンなどの塩基性物質を加え、シラノール基をマスクして分離させる方法や、表面にアミノ基を有するシランカップリング剤で処理したシリカゲルを使用する方法がとられてきた（特許文献１、２）。
ＷＯ０２／０１８３３５号公報
特開２００６−７６８８４号公報
しかしながら、上記の方法では、分離時に環境が高アルカリ性となるため、分離しようとする化合物の分解が生じてしまうという問題や、分離しようとする化合物がアミンとともにアルデヒドやカルボン酸を有するような化合物の場合は、逆に、化合物とシリカゲルとの間に強い吸着力が生じ、分離が困難になってしまうという問題があった。
本発明は以上の点に鑑みなされたものであり、中性領域で使用することができ、塩基性物質とともに酸性物質の分離も妨げないシリカゲル、そのシリカゲルを用いたクロマトグラフ装置、クロマトグラフ装置を用いて塩基性物質を分離する分離方法、及びシリカゲルの製造方法を提供することを目的とする。
本発明は、細孔内を含む表面をアルコール性水酸基で修飾され、クロマトグラフィーにおける固定相として用いられるシリカゲルであって、前記アルコール性水酸基による修飾は、アルコール性水酸基を２個以上有するアルコールを、前記アルコール性水酸基とシリカゲル表面のシラノール基との脱水縮合反応によりシリカゲル表面に結合させる方法でなされたものであることを特徴とするシリカゲルを要旨とする。
アルコール性水酸基は中性でかつ安定であり、また多くの有機化合物と水素結合により相互作用があるから、本発明のシリカゲルをクロマトグラフィーにおける固定相として用いれば、中性領域で、塩基性物質、及び酸性物質を良好に分離することができる。また、カラムの展開溶剤にアンモニアやトリメチルアミンなどの塩基性物質を加え、シラノール基をマスクして分離させる方法や、表面にアミノ基を有するシランカップリング剤で処理したシリカゲルを用いる方法とは異なり、環境が高アルカリ性となってしまうことを防止できる。
アルコール性水酸基は中性でかつ安定であり、また多くの有機化合物と水素結合により相互作用があるから、本発明のシリカゲルをクロマトグラフィーにおける固定相として用いれば、中性領域で、塩基性物質、及び酸性物質を良好に分離することができる。また、カラムの展開溶剤にアンモニアやトリメチルアミンなどの塩基性物質を加え、シラノール基をマスクして分離させる方法や、表面にアミノ基を有するシランカップリング剤で処理したシリカゲルを用いる方法とは異なり、環境が高アルカリ性となってしまうことを防止できる。
前記アルコール性水酸基とは、炭素と結合したヒドロキシ基である。炭素と、それに結合したアルコール性水酸基とは、化学式「Ｃ−ＯＨ」で表される。
前記アルコール性水酸基によるシリカゲル表面の修飾は、アルコール性水酸基を２個以上有するアルコールを、前記アルコール性水酸基によりシリカゲル表面に結合させる方法で行うことができる。
前記アルコール性水酸基によるシリカゲル表面の修飾は、アルコール性水酸基を２個以上有するアルコールを、前記アルコール性水酸基によりシリカゲル表面に結合させる方法で行うことができる。
アルコール性水酸基を２個以上有するアルコールとしては、例えば、エチレングリコール(n=2)、グリセリン(n=3)、および糖アルコール類から成る群から選ばれる１種以上が挙げられる。グリセリンとシリカゲルとの反応は、化学式１で示すものとなり、脱水縮合反応で簡単にシリカゲル表面にアルコール性水酸基を導入できる。
アルコール性水酸基を２個以上有するアルコールを用いてシリカゲルの表面を修飾する方法としては、例えば、触媒存在下、アルコール性水酸基の一つを脱水縮合させ、シリカゲルに固定化させると同時に、残存した水酸基をアルコール性水酸基として利用する方法がある。なお、シリカゲル表面とアルコール性水酸基を有する化合物との反応としては、化学式２で示されるエステル化反応が知られている。
基材として使用されるシリカゲルは市販されているどのようなタイプでもかまわないが用途上、カラムクロマトグラフィー用に粒子径および細孔径を制御されたものが好ましい。具体的には、細孔径が4nmから30nm、好ましくは6nmから15nmに制御され、粒子径が、カラムクロマトグラフィー用の場合は、平均粒子径30μmから200μmに制御され、高速液体クロマトグラフィー（HPLC）用の場合は、平均粒子径2μmから20μmに制御されたものが好ましい。
また、本発明は、請求項１又は２記載のシリカゲルを固定相として備えるクロマトグラフ装置を要旨とする。
本発明によれば、中性領域で、塩基性物質、及び酸性物質を良好に分離することができる。また、カラムの展開溶剤にアンモニアやトリメチルアミンなどの塩基性物質を加え、シラノール基をマスクして分離させる方法や、表面にアミノ基を有するシランカップリング剤で処理したシリカゲルを用いる方法をとる必要がないので、環境を高アルカリ性にしなくてもよい。
本発明によれば、中性領域で、塩基性物質、及び酸性物質を良好に分離することができる。また、カラムの展開溶剤にアンモニアやトリメチルアミンなどの塩基性物質を加え、シラノール基をマスクして分離させる方法や、表面にアミノ基を有するシランカップリング剤で処理したシリカゲルを用いる方法をとる必要がないので、環境を高アルカリ性にしなくてもよい。
また、本発明は、細孔内を含む表面をアルコール性水酸基で修飾されたシリカゲルを固定相として備えるクロマトグラフ装置を用いて、順相条件で塩基性物質を分離する分離方法を要旨とする。
本発明によれば、中性領域で、塩基性物質（例えば、１級アミン、２級アミン、３級アミン、及び４級アミンのうちのいずれかを有する化合物）、及び酸性物質を良好に分離することができる。また、カラムの展開溶剤にアンモニアやトリメチルアミンなどの塩基性物質を加え、シラノール基をマスクして分離させる方法や、表面にアミノ基を有するシランカップリング剤で処理したシリカゲルを用いる方法をとる必要がないので、環境を高アルカリ性にしなくてもよい。
本発明によれば、中性領域で、塩基性物質（例えば、１級アミン、２級アミン、３級アミン、及び４級アミンのうちのいずれかを有する化合物）、及び酸性物質を良好に分離することができる。また、カラムの展開溶剤にアンモニアやトリメチルアミンなどの塩基性物質を加え、シラノール基をマスクして分離させる方法や、表面にアミノ基を有するシランカップリング剤で処理したシリカゲルを用いる方法をとる必要がないので、環境を高アルカリ性にしなくてもよい。
本発明の分離方法は、例えば、アルカロイドのカラムクロマトグラフィー精製に適用することができる。アルカロイドは、窒素原子を含み塩基性を示す有機化合物の総称であり、具体的にはアコニチン、アトロピン、アリストロキア酸、アレコリン、エフェドリン、カフェイン、カンプトテシン、キニーネ、クラーレ、コカイン、コルヒチン、スコポラミン、ストリキニーネ、ソラニン、タキシン、テオフィリン、ドーパミン、ニコチン、ビンカアルカロイド、ベルベリン、モルヒネ、リコリン等がある。
前記アルコール性水酸基によるシリカゲル表面の修飾は、下記の（ａ）〜（ｂ）のうちのいずれかの方法で行うことができる。
（ａ）エポキシ基と、シリカゲルに結合可能な官能基とを備える化合物を、前記シリカゲルに結合可能な官能基によりシリカゲル表面に結合させた後、前記エポキシ基を加水分解してアルコール性水酸基とする方法
（ｂ）アルコール性水酸基と、シリカゲルに結合可能な官能基とを備える化合物を、前記シリカゲルに結合可能な官能基によりシリカゲル表面に結合させる方法
前記（ａ）における化合物としては、例えば、エポキシ基を有するシランカップリング剤が挙げられる。この場合、シリカゲルの表面を修飾する方法としては、例えば、エポキシ基を有するシランカップリング剤を、シリカゲルに結合可能な官能基（例えばアルコール性水酸基）においてシリカゲルに結合させた後、水存在下で酸または塩基によりエポキシ基を加水分解することで、アルコール性水酸基（例えばジオール型水酸基）でシリカ表面を修飾する方法がある。
エポキシ基を有するシランカップリング剤としては、例えば、有機珪素化合物であって、珪素にエトキシ基またはメトキシ基を有し、シリカゲルの表面と反応して表面改質を行える化合物が挙げられ、具体的には、（3-グリシドキシプロピル）ヂメチルエトキシシラン、（3-グリシドキシプロピル）メチルジエトキシシラン、（3-グリシドキシプロピル）トリエトキシシラン、（3-グリシドキシプロピル）ヂメチルメトキシシラン、（3-グリシドキシプロピル）メチルジメトキシシラン（3-グリシドキシプロピル）トリメトキシシラン等が挙げられる。特に、前記エポキシ基として、γ-グリシドキシプロピル基を有する
ものが好ましい。
エポキシ基を有するシランカップリング剤とシリカゲルとを反応させる方法としては、例えば、トルエンなどの有機溶剤中で還流させながら反応させる方法や、水中で酸を加えてカップリング剤を一部加水分解させて水溶化して行う方法や、シリカゲルに対し、直接、カップリング剤を霧状に噴霧させて行う方法が適用できる。
前記（ｂ）における化合物としては、例えば、アルコール性水酸基を２個以上有する有機化合物（例えばアルコール）であって、前記シリカゲルに結合可能な官能基として、アルコール性水酸基を有するものが挙げられる。
前記アルコール性水酸基によるシリカゲル表面の修飾は、下記の（ａ）〜（ｂ）のうちのいずれかの方法で行うことができる。
（ａ）エポキシ基と、シリカゲルに結合可能な官能基とを備える化合物を、前記シリカゲルに結合可能な官能基によりシリカゲル表面に結合させた後、前記エポキシ基を加水分解してアルコール性水酸基とする方法
（ｂ）アルコール性水酸基と、シリカゲルに結合可能な官能基とを備える化合物を、前記シリカゲルに結合可能な官能基によりシリカゲル表面に結合させる方法
前記（ａ）における化合物としては、例えば、エポキシ基を有するシランカップリング剤が挙げられる。この場合、シリカゲルの表面を修飾する方法としては、例えば、エポキシ基を有するシランカップリング剤を、シリカゲルに結合可能な官能基（例えばアルコール性水酸基）においてシリカゲルに結合させた後、水存在下で酸または塩基によりエポキシ基を加水分解することで、アルコール性水酸基（例えばジオール型水酸基）でシリカ表面を修飾する方法がある。
エポキシ基を有するシランカップリング剤としては、例えば、有機珪素化合物であって、珪素にエトキシ基またはメトキシ基を有し、シリカゲルの表面と反応して表面改質を行える化合物が挙げられ、具体的には、（3-グリシドキシプロピル）ヂメチルエトキシシラン、（3-グリシドキシプロピル）メチルジエトキシシラン、（3-グリシドキシプロピル）トリエトキシシラン、（3-グリシドキシプロピル）ヂメチルメトキシシラン、（3-グリシドキシプロピル）メチルジメトキシシラン（3-グリシドキシプロピル）トリメトキシシラン等が挙げられる。特に、前記エポキシ基として、γ-グリシドキシプロピル基を有する
ものが好ましい。
エポキシ基を有するシランカップリング剤とシリカゲルとを反応させる方法としては、例えば、トルエンなどの有機溶剤中で還流させながら反応させる方法や、水中で酸を加えてカップリング剤を一部加水分解させて水溶化して行う方法や、シリカゲルに対し、直接、カップリング剤を霧状に噴霧させて行う方法が適用できる。
前記（ｂ）における化合物としては、例えば、アルコール性水酸基を２個以上有する有機化合物（例えばアルコール）であって、前記シリカゲルに結合可能な官能基として、アルコール性水酸基を有するものが挙げられる。
また、本発明は、請求項１又は２に記載のシリカゲルの製造方法であって、アルコール性水酸基を２個以上有するアルコールを、前記アルコール性水酸基によりシリカゲル表面に結合させる工程を用いることを特徴とするシリカゲルの製造方法を要旨とする。
本発明を実施例に基づいて説明する。
球状シリカゲル（商品名：スーパーマイクロビーズシリカゲル、富士シリシア化学（株）製、グレードSMB 100-20/45ミクロン）100gを180℃で乾燥したのち、冷却器、撹拌機を設置した500ml三つ口フラスコに入れた。トルエン350mlを加えてスラリーとし、そのスラリーを撹拌しながらγ-グリシドキシプロピルトリメトキシシラン（シランカップリング剤）35.5gを加え、窒素雰囲気下で110℃、3時間加熱撹拌した。冷却後、スラリーを吸引ろ過し、シリカゲルを分離した。そのシリカゲルをトルエン0.6L、メチルアルコール0.6Lで洗浄した後、80℃で12時間乾燥させて、エポキシ化シリカゲルを112g得た。エポキシ化シリカゲルを1リットルビーカーに入れ、水1.0Lを加えてスラリーとした。このスラリーを撹拌しながら、1M塩酸を滴下してｐHを2とした。常温で2時間撹拌した後、スラリーを吸引ろ過してシリカゲルを分離し、そのシリカゲルをイオン交換水2.0L、メチルアルコール0.3Lで洗浄した後、80℃で12時間乾燥させ、ジオールシリカゲルを112g得た。
グリセリン40gを蒸留水128.4gに溶解させ、続いて濃塩酸120μlを加えてグリセリン水溶液を調製した。1リットル容器に球状シリカゲル（商品名：スーパーマイクロビーズシリカゲル、富士シリシア化学（株）製、グレードSMB 70-20/45ミクロン）200gを入れ、さらに、上記で調製したグリセリン水溶液を少しずつ加えながら振り混ぜ、全体が均一になるように、シリカゲルにグリセリンを含浸させた。グリセリンの含浸したシリカゲルを、乾燥機を用いて、180℃で2時間乾燥して水分を除去し、さらに2時間180℃に保ち、シリカゲルとグリセリンとを反応させた。放冷後、1リットルビーカーにシリカゲルを移し、蒸留水1000mlを加えてスラリーとし、そのスラリーを撹拌しながら0.5Mの水酸化ナトリウムを加え、スラリーのｐHを７とした。続いて、スラリーをブフナー漏斗で吸引ろ過してシリカゲルを分離し、そのシリカゲルを蒸留水4リットルで洗浄した後、180℃で一夜乾燥させて、グリセリンで修飾したシリカゲルを得た。
基本的には前記実施例２と同様の方法で、表面をアルコール性水酸基で修飾したシリカゲルを得た。ただし、本実施例３では、前記実施例２におけるグリセリン水溶液の代わりに、表１に示す組成のエチレングリコール水溶液を用いた。その結果、表面をエチレングリコールで修飾したエチレングリコール化シリカゲルを得た。
基本的には前記実施例２と同様の方法で、表面をアルコール性水酸基で修飾したシリカゲルを得た。ただし、本実施例４では、前記実施例２におけるグリセリン水溶液の代わりに、表１に示す組成のエリスリトール水溶液を用いた。また、エリスリトールの含浸したシリカゲルを加熱するときの温度は、１２０℃とした。その結果、表面をエリスリトールで修飾したエリスリトール化シリカゲルを得た。
基本的には前記実施例２と同様の方法で、表面をアルコール性水酸基で修飾したシリカゲルを得た。ただし、本実施例５では、前記実施例２におけるグリセリン水溶液の代わりに、表１に示す組成のキシリトール水溶液を用いた。また、キシリトールの含浸したシリカゲルを加熱するときの温度は、１２０℃とした。その結果、表面をキシリトールで修飾したキシリトール化シリカゲルを得た。
基本的には前記実施例２と同様の方法で、表面をアルコール性水酸基で修飾したシリカゲルを得た。ただし、本実施例６では、前記実施例２におけるグリセリン水溶液の代わりに、表１に示す組成のソルビトール水溶液を用いた。また、ソルビトールの含浸したシリカゲルを加熱するときの温度は、１２０℃とした。その結果、表面をソルビトールで修飾したソルビトール化シリカゲルを得た。
前記実施例１〜６で得られた修飾シリカゲルの炭素含有量を、元素分析により求めた。また、前記実施例１〜６で得られた修飾シリカゲルの表面反応率Ａを、下記式１により求めた。ここで、ｂは炭素含有量（wt%）であり、ｎは反応分子の炭素数であり、Ｓはベースシリカゲルの比表面積値（m2/g）である。
（式１） 表面反応率Ａ（μmol/m2）＝ｂ×１０4／１２×ｎ×Ｓ
それらの結果を表２に示す。
（式１） 表面反応率Ａ（μmol/m2）＝ｂ×１０4／１２×ｎ×Ｓ
それらの結果を表２に示す。
また、前記実施例１〜６で得られた修飾シリカゲルを、それぞれ、内径4.6mm、長さ150mmのHPLC用カラムに、イソプロピルアルコールを使用して充填した。そのカラムをH PLC装置に接続し、10％酢酸エチル/n-ヘキサン溶液(重量比)を1ml/minで流通させ、ベンゼン(非吸着質)、フタル酸ジブチル(中性物質)、フェノール(酸性物質)、およびピリジン(塩基性物質)混合物の分離クロマトグラムを検出波長UV254nmで得た。図１〜図６にそのクロマトグラムを示す。図１〜図６は、それぞれ、実施例１〜６で製造した修飾シリカゲルを用いたときの結果である。
また、比較例１、２として、以下の試験も行った。
（比較例１）
球状シリカゲル（商品名：スーパーマイクロビーズシリカゲル、富士シリシア化学（株）製、グレードMB 100-20/45ミクロン）を、表面処理を行わずに内径4.6mm、長さ150mmのHPLC用カラムに充填して上記と同様の分離試験を行った。図７にそのクロマトグラムを示す。
（比較例２）
球状シリカゲル（商品名：スーパーマイクロビーズシリカゲル、富士シリシア化学（株）製、グレードMB 100-20/45ミクロン）を、アミノプロピルトリエトキシシランで表面処理を行ない、アミノ修飾シリカゲルを作成した。このアミノ修飾シリカゲルを、内径4.6mm、長さ150mmのHPLC用カラムに充填して上記と同様の分離試験を行った。図８にそのクロマトグラムを示す。
（比較例１）
球状シリカゲル（商品名：スーパーマイクロビーズシリカゲル、富士シリシア化学（株）製、グレードMB 100-20/45ミクロン）を、表面処理を行わずに内径4.6mm、長さ150mmのHPLC用カラムに充填して上記と同様の分離試験を行った。図７にそのクロマトグラムを示す。
（比較例２）
球状シリカゲル（商品名：スーパーマイクロビーズシリカゲル、富士シリシア化学（株）製、グレードMB 100-20/45ミクロン）を、アミノプロピルトリエトキシシランで表面処理を行ない、アミノ修飾シリカゲルを作成した。このアミノ修飾シリカゲルを、内径4.6mm、長さ150mmのHPLC用カラムに充填して上記と同様の分離試験を行った。図８にそのクロマトグラムを示す。
図１〜図６に示すように、実施例１〜６で製造した修飾シリカゲルを用いると、混合物に含まれるベンゼン(非吸着質)、フタル酸ジブチル(中性物質)、フェノール(酸性物質)、およびピリジン(塩基性物質)を、順相条件で良好に分離することができた。なお、図１〜図６におけるピークは、溶出された時間が早いものから順に、ベンゼン、フタル酸ジブチル、フェノール、ピリジンである。
すなわち、本発明のように、アルコール性水酸基をシリカゲル表面に修飾する表面処理を行うことで、中性、酸性および塩基性物質を良好に分離できることが確認できた。
それに対し、比較例１の場合は、図７に示すように、塩基性物質であるピリジンは強くシリカゲルに吸着され、1時間後も溶出が認められなかった。なお、図７におけるピークは、溶出された時間が早いものから順に、ベンゼン、フタル酸ジブチル、フェノールである。
それに対し、比較例１の場合は、図７に示すように、塩基性物質であるピリジンは強くシリカゲルに吸着され、1時間後も溶出が認められなかった。なお、図７におけるピークは、溶出された時間が早いものから順に、ベンゼン、フタル酸ジブチル、フェノールである。
また、比較例２の場合は、塩基性物質であるピリジンは良好に溶出されたが、酸性物質のフェノールについては強く吸着され、1時間後も溶出が認められなかった。なお、図８におけるピークは、溶出された時間が早いものから順に、ベンゼン、フタル酸ジブチル、ピリジンである。
尚、本発明は前記実施例になんら限定されるものではなく、本発明を逸脱しない範囲において種々の態様で実施しうることはいうまでもない。
Claims (6)
- 細孔内を含む表面をアルコール性水酸基で修飾され、クロマトグラフィーにおける固定相として用いられるシリカゲルであって、
前記アルコール性水酸基による修飾は、アルコール性水酸基を２個以上有するアルコールを、前記アルコール性水酸基とシリカゲル表面のシラノール基との脱水縮合反応によりシリカゲル表面に結合させる方法でなされたものであることを特徴とするシリカゲル。 - 前記アルコール性水酸基を２個以上有するアルコールが、エチレングリコール、グリセリン、および糖アルコール類から成る群から選ばれる１種以上であることを特徴とする請求項１記載のシリカゲル。
- 請求項１又は２記載のシリカゲルを固定相として備えるクロマトグラフ装置。
- 細孔内を含む表面をアルコール性水酸基で修飾されたシリカゲルを固定相として備えるクロマトグラフ装置を用いて、順相条件で塩基性物質を分離する分離方法。
- 前記塩基性物質が、１級アミン、２級アミン、３級アミン、及び４級アミンのうちのいずれかを有する化合物であることを特徴とする請求項４記載の分離方法。
- 請求項１又は２に記載のシリカゲルの製造方法であって、
アルコール性水酸基を２個以上有するアルコールを、前記アルコール性水酸基によりシリカゲル表面に結合させる工程を用いることを特徴とするシリカゲルの製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2008038889A JP5154973B2 (ja) | 2008-02-20 | 2008-02-20 | シリカゲル、クロマトグラフ装置、分離方法、及びシリカゲルの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2008038889A JP5154973B2 (ja) | 2008-02-20 | 2008-02-20 | シリカゲル、クロマトグラフ装置、分離方法、及びシリカゲルの製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2009198252A JP2009198252A (ja) | 2009-09-03 |
| JP5154973B2 true JP5154973B2 (ja) | 2013-02-27 |
Family
ID=41141913
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2008038889A Expired - Fee Related JP5154973B2 (ja) | 2008-02-20 | 2008-02-20 | シリカゲル、クロマトグラフ装置、分離方法、及びシリカゲルの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP5154973B2 (ja) |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN116139543A (zh) * | 2022-10-26 | 2023-05-23 | 安徽色谱仪器有限公司 | 一种液相色谱硅胶微球及其制备方法和应用 |
| CN115814773B (zh) * | 2022-12-07 | 2024-07-16 | 纳谱分析技术（苏州）有限公司 | 改性硅胶微球及其制备方法和应用 |
Family Cites Families (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS61287444A (ja) * | 1985-06-13 | 1986-12-17 | Toyo Soda Mfg Co Ltd | 二重構造担体 |
| JPS6446646A (en) * | 1987-08-17 | 1989-02-21 | Shimadzu Corp | Carrier for liquid chromatography |
| JP2792038B2 (ja) * | 1988-08-08 | 1998-08-27 | 財団法人化学品検査協会 | 水溶性高分子物質と低分子成分とが共存する試料の分析方法及び前処理方法並びにクロマトグラフイー用充填剤 |
| JPH0764541B2 (ja) * | 1988-08-22 | 1995-07-12 | ナカライテスク株式会社 | 内面疎水型シリカゲルの製造方法 |
| JP2904540B2 (ja) * | 1990-03-30 | 1999-06-14 | 株式会社資生堂 | カラム充填剤及びその製造方法 |
| JP3653798B2 (ja) * | 1995-05-17 | 2005-06-02 | 和光純薬工業株式会社 | 新規な変性シリカゲル |
| JP2000055897A (ja) * | 1998-08-06 | 2000-02-25 | Showa Denko Kk | 充填剤及びその製造方法 |
| JP4024547B2 (ja) * | 2002-02-04 | 2007-12-19 | 富士シリシア化学株式会社 | シリカゲルの表面改質方法、および吸着材 |
-
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- 2008-02-20 JP JP2008038889A patent/JP5154973B2/ja not_active Expired - Fee Related
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| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2009198252A (ja) | 2009-09-03 |
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| A621 | Written request for application examination |
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|
| A977 | Report on retrieval |
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| A131 | Notification of reasons for refusal |
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| A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
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| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
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| R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
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