JP5143746B2 - レーザ・システムを較正する装置及び方法 - Google Patents

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Description

本発明は一般にレーザ・システムの較正手順に関する。より詳細には、本発明は、レーザ・システムの較正を実行するシステム及び方法に関し、この較正では、レーザ・ビームが、基準物質内でレーザ誘起光学破壊(Laser Induced Optical Breakdown:LIOB)を引き起こす。それだけに限定はされないが、本発明は特に、LIOBが起こる基準物質内の位置を識別、測定することによってレーザ・システムを正確に較正するシステム及び方法として有用である。
眼科手術で使用されるレーザ・システムでは、レーザ・ビームが適切に集束され、レーザ発生ユニットに対するビームの焦点の位置が既知であることが重要である。さらに、角膜の湾曲した性質のため、眼科手術で使用されるビームは、適切な深さを示さなければならず、且つ傾斜(tilt)及び横変位(偏心(decentration))を回避しなければならない。さらに、レーザ・ビームの焦点は、処理領域の全ての位置において実質的に一定のエネルギー密度を有していなければならない。この分野におけるレーザ・システムの適切な較正では、これらの全ての因子(すなわち焦点位置、エネルギー密度及び全体的なビームの方向)を総合的に考慮する必要がある。不正確に又は不適切に導かれたレーザ・ビームは、処理するつもりのない眼の領域に恒久的な損傷を生じさせる可能性があるため、このことは特に重要である。
適切に較正されたレーザ・システムは、眼科手術の結果を改善するのに不可欠だが、これまでに、レーザ・システムを所望の高い精度まで適切に較正することは困難であることが示されている。以上のことを考慮すれば、本発明の目的は、手術用レーザ・システムを較正する能率的な装置及び方法を提供することにある。本発明の他の目的は、ビームの横変位が較正部材のz軸変位に変換される装置及び方法を提供することにある。本発明の他の目的は、z軸における焦点の位置を識別する装置及び方法を提供することにある。本発明の他の目的は、レーザ・ビームの傾斜及び偏心の識別を可能にするレーザ較正装置及び方法を提供することにある。本発明の他の目的は、レーザ・システムを較正する装置及び方法であって、容易に実行することができ、比較的に費用効果に優れた装置及び方法を提供することにある。
手術用レーザ・システムを較正する装置は、フェムト秒レーザ・ビームを発生させるレーザ・ユニットを含む。本発明の文脈では、このレーザ・ユニットが、較正手順の空間基準として使用することができるベース・データムを画定するとみなされる。このシステムはさらに、レーザ・ユニットに取り付けられた較正ボディを含む。本発明の目的上、LIOBに対する所定のエネルギーしきい値を有する材料でできた較正部材が、較正ボディに付加される。
構造上、この較正部材は、それに対して実質的に垂直な中心軸を画定する表面を含む。較正部材の表面は、曲率半径が約8から12ミリメートルの範囲にある所定の曲率を有することが好ましい。較正部材が較正ボディに付加され、較正ボディがレーザ・ユニットに取り付けられているとき、較正部材の表面は、レーザ・ユニットのベース・データムから所定の距離のところに配置される。さらに、較正部材の中心軸は、レーザ・ビームの予想経路と実質的にアラインメントがとれており、較正部材の中心軸は較正部材の表面の頂点を通る。
本発明では、このシステムがさらに、予め選択された初期位置にある焦点にレーザ・ビームを集束させ、次いで予想される最終位置(予想最終位置)に向かってz方向にレーザ・ビームを移動させる機構を含む。この移動では、それぞれの焦点位置が、集束機構の特定の構成Cに対応する。したがって、予め選択された焦点の初期位置は、集束機構の最初の構成Cに対応する。Cが確立された後、焦点は次いで、予想最終位置に向かって移動される。重要には、レーザ・ビームが適切に較正された場合、焦点の予想最終位置は較正部材の表面にあり、集束機構は構成Cを有する。一方、表面上でLIOBが早く出現し、又はLIOBが全く起こらないことは、レーザ・ユニットがz方向に較正されていないことを示す。LIOBが起こらない場合には、LIOBが実際に表面で起こるまで、(Cに対応する)焦点の最終位置を、z方向に(すなわち中心軸に沿って)さらに移動させる必要がある。LIOBが予想よりも早く起こるか、又はz方向にさらに移動させた後に起こるかにかかわらず、表面上でLIOBを観察することができる最終位置を以後、実最終位置と呼び、これは集束機構の構成Cに対応する。このプロセスでは、較正部材の上面がz較正のために使用されている場合、焦点は、較正部材に向かってレーザ・ユニットから遠ざかるように移動される。一方、較正部材の下面が使用される場合、焦点は、レーザ・ユニットに向かって移動される。いずれにせよ、予想最終位置(Cに対応)と実最終位置(Cに対応)との間の距離「d」が決定される。したがって、距離「d」は、集束機構の構成CとCとの間の差によって表される。次いで、この距離「d」が、レーザ・システムのz位置の較正で使用される。しかしこれで較正プロセスは終わりではない。レーザ・システムの実最終位置(すなわちCに対応するz補正)が較正されても、傾斜及び偏心を較正する必要がある。
さらに、全ての較正評価のために、このシステムは、LIOBが誘起されるかどうかを識別する撮像装置を備える。レーザ・ビームを較正するために、距離「d」及び最終LIOB位置の中心軸からの半径方向距離「r」を測定する測定装置も提供される。このようにして、レーザ・ビームの制御を較正することができる。
システムの動作中に、複数の最終LIOB位置を使用して、レーザ・ビームの「傾斜」及び「偏心」を較正することができる。さらに、複数の最終LIOB位置を使用して、異なるエネルギーを有するレーザ・ビームから試験パターンを生成することもできる。具体的には、レーザ・ビームの焦点のエネルギー密度を決定するため、較正部材のLIOBに対するエネルギー密度しきい値よりも低いエネルギー密度を焦点に与える低エネルギーと、較正部材のLIOBに対するエネルギー密度しきい値よりも高い高エネルギー密度を焦点に与える高エネルギーとの間の範囲のエネルギーが提供される。さらに、レーザ・ビームの焦点のエネルギー密度の均一性を判定するために、複数の試験パターンを互いに比較することができる。
構造と動作の両方に関する本発明の新規の特徴及び本発明自体は、添付の説明と関連させて描かれた添付図面から最もよく理解される。添付図面では、同様の参照符号が同様の部分を指す。
最初に図1を参照すると、レーザ・システム、好ましくはフェムト秒レーザ・システムを較正する本発明に基づくシステムが示されており、このシステムは全体が10で示されている。示されているとおり、システム10は、レーザ・ビーム14を発生させるレーザ・ユニット12を含む。さらに、レーザ・ユニット12は、システム10によって実行される較正手順の空間基準として使用されるベース・データム(base datum)16を画定する。後に説明するように、システム10は、較正部材18に依存して、レーザ・ユニット12を較正する。しかし、システム10を適切に説明するため、最初に、レーザ・ビーム14を集束させるために使用される一般的な構成要素を識別し、それらについて論じる。
構造上、レーザ・ユニット12はハウジング20に取り付けられている。レーザ・ユニット12は、眼科レーザ・ビーム14を発生させる能力を有する当技術分野でよく知られている任意のタイプのレーザ・ユニットとすることができる。さらに、システム10を貫いてレーザ・ビーム14を導くために使用することができる特定の光学配置が示されているが、知られている任意の光学配置を使用することができることを理解されたい。図1に示されているように、ハウジング20は、レーザ・ビーム14を集束させる機構22に固定して取り付けられている。具体的には、ハウジング20は、機構22の実質的に円筒形のベース24に接続されている。さらに、機構22は、ベース24が接続された実質的に円筒形のフレーム26を含む。
図1をさらに参照すると、システム10は、レーザ・ビーム14を集束させる対物レンズ28を有するように示されている。構造上、レンズ28は、突起(図示せず)を有するブラケット(bracket)30の中に保持されている。さらに、ベース24は、突起を受け取り、突起と対合するトラック(track)32を含む。この構造協同の結果、所望の較正手順を完了させるために、レンズ28を、定められた経路に沿って、レーザ・ユニット12に近づけ、又はレーザ・ユニット12から遠ざけて、レーザ・ビーム14を集束させることができる。或いは、レンズ28を固定してもよく、レーザ・ビーム14の広がりを変化させることによって焦点を移動させることができる。もちろん、ベース・データム16に対するレーザ・ビーム14の集束の制御を可能にする他の任意のタイプの機構を使用することも本発明の範囲に含まれる。この機構の特定の構成Cは、特定の焦点位置に対応することも理解されたい。
示されているように、フレーム26は、実質的に円筒形のアラインメント装置34に固定されている。さらに、アラインメント装置34は、較正手順の間、実質的に円筒形の較正ボディ(body)36に対して保持される。図1に示されているように、較正ボディ36は、選択的に互いに係合させ、又は互いから分離することができる上部37及び下部39を含むことが好ましい。したがって、上部37と下部39とが係合したときに、それらの間に較正部材18を保持することができる。本発明に関して想像されるとおり、ねじ(図示せず)で留めるなど関連技術分野においてよく知られている任意の方法で、部品37と39とを係合させ、一体に保持することができる。これの意図するところは、手順が完了した後に、より正確な追加の評価のために、部分37と39を分離し、較正部材18を取り外すことができることである。次いで、較正ボディ36に新しい較正部材18を組み込むことができ、その新しい較正部材18を、後続の別の較正手順の試験及び評価に使用することができる。より具体的には、この後続の評価は、外部の顕微鏡を使用して、レーザ・ユニット12の一部として含めることができる手術用顕微鏡だけを使用して得ることができる分解能よりも良好な分解能で実施することができる。図1にさらに示されているように、アラインメント装置34はチャネル38を備える。チャネル38は、アラインメント装置34の上部37と較正ボディ36との間の境界面40に隣接して配置されている。チャネル38の中に部分真空を生み出して、較正手順の間、アラインメント装置34を較正ボディ36に対して保持するために、チャネル38を真空ポンプ(図示せず)に接続することができる。
図1をさらに参照すると、円筒形の較正ボディ36が、レーザ・ビーム14を通過させる穴44を画定する内面42を有することが分かる。較正部材18が穴44をまたいでおり、較正部材18は、LIOBに対する明確に定義された所定のエネルギーしきい値を有する材料でできている。先に開示したとおり、較正ボディ36及び較正部材18は、一体の又は別個の構成部品とすることができる。示されているように、較正部材18は、中心軸48を画定する表面46を含み、中心軸48は、表面46の頂点を通り、表面46に対して実質的に垂直である。本発明の一態様では、表面46が、較正部材18から見てレーザ・ユニット12とは反対の側にある。別の言い方をすれば、較正部材18はレーザ・ユニット12と表面46の間にある。しかし、表面46が、レーザ・ユニット12に面することもできることを理解されたい。この場合、表面46は、較正部材18とレーザ・ユニット12の間にある。表面46は湾曲しているように示されているが、どちらの場合も、表面46は平らでもよい。一般に、表面46は、手術中に使用される患者界面(角膜)と同様の形状を有する。ある実施例では、表面46が、曲率半径が約8から12ミリメートルの範囲にある所定の曲率を有する。組み立てられたとき、表面46は、レーザ・ユニット12のベース・データム16から所定の距離のところに配置される。その結果、システム10は、較正部材18の表面46に対するレーザ・ビーム14の正確な較正を提供する。
さらに示されているとおり、システム10は、較正部材18内でLIOBが起こったかどうかを識別する、電荷結合素子(CCD)カメラ、手術用顕微鏡/カメラ・アセンブリなどの撮像装置50を備える。具体的には、撮像装置50は、レーザ・ユニット12に隣接してハウジング20に取り付けられているように示されている。さらに、ベース・データム16に対するレーザ・ビーム14の焦点の位置(距離)及び中心軸48に対するレーザ・ビーム14の焦点の位置(半径方向距離)を測定するため、測定装置52をハウジング20に取り付けることができる。
次に、図2を参照して、較正部材18の使用したレーザ・ビーム14のz軸制御の較正を説明する。示されているように、レーザ・ビーム14は、集束機構22によって、予め選択された初期位置56にある焦点54まで導かれる。この初期の段階において、焦点54におけるビームのエネルギー密度は、較正部材18内の材料のLIOBを引き起こすのに十分だが、焦点54の上流側で到達するビーム14’の最大ビーム・エネルギー密度は、較正部材18内でLIOBを引き起こすには不十分である。その後、焦点54を、矢印58の方向に、中心軸48に沿って、又は中心軸48と平行に、μm刻みで、ビーム14’から14’’、14’’’まで移動させる。この較正部材18に向かっての焦点54の移動の終わりに、ビーム14’’’の焦点54が較正部材18の表面46に到達し、この最終位置60でLIOBが起こる。本発明では、撮像装置50(図1に示されている)が、較正部材18内でのLIOBの発生に関連したプラズマ・スパークを識別する。LIOBの発生は或いは、オペレータが識別してもよい。較正部材18の下ではなく較正部材18の上の初期位置56’に焦点54がある状況では、集束機構22から遠ざかり、較正部材18に近づく焦点54の逆方向の移動が必要となる。結果は本質的に同じである。
LIOBが識別されたら、矢印58の方向の焦点54の移動を終わらせる。その後、ベース・データム16に対する最終位置60のz位置を、測定装置52(図1に示されている)によって測定し、又は集束機構22の構成Cから導き出すことができ、レーザ・システム10のz軸制御を較正することができる。
次に図3A及び3Bを参照すると、レーザ・ユニット12(図1に示されている)からのビーム14の傾斜及び偏心を較正することができることが示されている。示されているように、表面46の周縁の内側の円形経路62上で、ビーム14の焦点54を移動させる。前述のとおり、焦点54は最初、表面46の下流側の初期位置56に置かれており、次いで、矢印58の方向に表面46に向かって、好ましくは2ミクロン刻みで移動される。焦点54は、円形経路62’から、経路62’’を経て、経路62’’’まで移動し、そこで、焦点54は、較正部材18の表面46と位置64で接触する。本発明では、焦点54を、円形経路62に沿って移動させながら、較正部材18内で完全な経路62’’’が完成されるまで上方へ移動させる。次いで、複数の位置64を使用して、レーザ・ビーム14の「傾斜」及び「偏心」を較正する。具体的には、撮像装置50(図1に示されている)が、焦点54と表面46との間の最初の接触のz軸位置と、完全に較正部材18内にある最初の円形経路62’’’のz軸位置の両方を記録する。図3Aに示されたレーザ・ビーム14は、較正表面46と完全にアラインメントがとれているため、焦点54と表面46との間の最初の接触とほぼ同時に、円形経路62’’’を一周してLIOBが起こる。分かりやすくするために図3A及び3Bには4つの位置64しか示されていないが、この実施例では、円形経路62’’’全体に沿ってLIOBが起こることを理解されたい。
円形経路62’’’が実際に、レーザ・ビーム14の完全なアラインメントの結果であるかどうかの判定は容易に確認することができる。具体的には、この確認は、上で開示した手順の完了後に実行することができる。中心軸48を中心に較正ボディ36を所定の角度(例えば90°又は180°)だけ回転させることによって、較正部材18の中に、確認経路65(図3Bでは破線の円として示されている)を引くことができる。確認経路65が円形経路62’’’と一致するとき、レーザ・ビーム14と較正部材18の完全なアラインメントが指示される。他方、確認経路65が、(図3Bに示されているように)円形経路62’’’に対して変位している場合、傾斜及び偏心の追加の評価が必要となる。
次に図4A及び4Bを参照すると、左側へ横変位したビーム14の較正プロセスが示されている。この偏心の結果、焦点54と表面46との間の接触による最初のLIOB位置64は、図3A及び3Bに示された例から左にずれている。位置64と中心軸48との間の半径方向距離は「r」によって表される。さらに、LIOBは、図4Bに示されているように経路62’’’上の位置64でしか起こらない。理解することができるとおり、偏心を有するビーム14では、位置64のz軸位置と、完全に較正部材18内にある最初の円形経路(図示せず)のz軸位置とでかなりの差がある。このz軸位置の差を測定し、これを使用して、ビーム14を、較正表面46の既知の曲率に基づいて較正することができる。
次に図5A及び5Bを参照すると、傾斜を有するビーム14の較正プロセスが示されている。図4Aと同様に、中心軸48から半径方向距離「r」だけ離れた左側の位置64で最初に起こったLIOBが示されている。完全に較正部材18内のある最初の円形経路62の中心は、中心軸48とある角度をなす光軸66上にある。最初のLIOB位置64と、完全に部材18内にある最初の円形経路62の両方が、撮像装置50によって記録され、測定装置52(ともに図1に示されている)によって測定されるので、傾斜を補正するためにビーム14を較正することができる。
次に図6A及び6Bを参照すると、集束機構22のガルバノメトリック・スキャナ(galvanometric scanner)(図示せず)の不適合によって生じる可能性があるものなどの楕円形経路62’’’’を有するビーム14の較正プロセスが示されている。この場合、LIOBは最初、楕円形経路62’’’’の長軸に沿った位置64でしか起こらない。さらに、完全に較正部材18内にある最初の経路62も楕円形である。この場合も、レーザ・ビーム14を較正するために、撮像装置50及び測定装置52(ともに図1に示されている)が、位置64及び完全に較正部材18内にある最初の経路62を識別し、測定する。本発明では、表面46の曲率が一般的な角膜の曲率と同等であり、すなわち曲率半径が約8〜12mmであり、半径約5mmの経路62が切られる場合、ビーム14の横変位は、z軸変位に対してほぼ同じ効果を有する。すなわち、10μmの横変位は、約10μmのz軸変位に帰着する。その結果、ビーム14の経路62を2μm刻みで方向58に移動させる場合には、長軸に沿ったLIOBが起きた5刻み後に、経路62全体に沿ったLIOBが起こるであろう。したがって、経路62の楕円形の性質は容易に識別されるであろう。他方、レーザ・システム10に取り付けられた標準手術用顕微鏡の分解能及び/又は倍率は一般に限られているため、楕円を測定することによって楕円の2軸間の10ミクロンの差を検出することは不可能であろう。
図2〜6Bから理解されるように、システム10を使用して、レーザ・ビーム14のz軸位置、傾斜/偏心及び楕円率を決定し、較正することができる。較正が実行された後、レーザ・ビーム14を使用して、較正部材18内に複数の最終位置60を含む試験パターンを適用することができる。具体的には、試験パターンは、焦点におけるエネルギー密度及び処理領域全体のエネルギー密度の均一性をチェックするために、LIOBによって適用することができる。図7A及び7Bに示されているように、焦点54内のエネルギー密度は、較正部材18内で、エネルギー・バンド68、スポーク(spoke)70又は円72によって画定された経路に沿って、焦点54を、エネルギー・レベルを増大させて誘導することによって決定することができる。レーザ・ビーム14の焦点内のエネルギー密度を決定するために、それぞれの試験パターンは、較正部材のLIOBに対するエネルギー密度しきい値よりも低いエネルギー密度を焦点に与える低エネルギーと、較正部材のLIOBに対するエネルギー密度しきい値よりも高い高エネルギー密度を焦点に与える高エネルギーとの間の範囲の異なるエネルギーをそれぞれレーザ・ビーム14に使用して生成されることが好ましい。LIOBは一般にあるエネルギー・レベルで起こる。すなわち、LIOBは、エネルギー・バンド68内のある位置、あるスポーク70又はある円72で起こる。先に論じたとおり、LIOBの発生は、オペレータが検出し、又は撮像装置50(図1に示されている)によって検出することができる。
さらに、複数の試験パターンを互いに比較して、レーザ・ビーム14の焦点におけるエネルギー密度の均一性を判定することができる。例えば、エネルギー密度の均一性は、異なるエネルギー・レベルを有する円72を見ることによって判定することができる。ビーム14の焦点におけるエネルギー密度に変動がない場合、それぞれの円72は均一な強度を有する。強度は、異なるビーム・エネルギーを有するように形成された円72と円72の間でしか変化しない。変動がある場合に、円72の一部がかすんで見え、或いは円72の一部が見えなくなることもある。試験パターンは、較正部材18の材料内に生成されることが好ましい。このことを考慮すると、その上面と下面との間の較正部材18の厚さは一般に約0.5ミリメートルである。
図7Bに示されているように、ビーム14を使用して、システム情報74を保管目的で較正部材18に記入することができる。図7A及び7Bにさらに示されているように、異なる深さを有する円76、十字線/目盛78、及び所定の直径を有する基準円80を、較正部材18に記入することもできる。
本明細書に示され、詳細に開示された特定の「レーザ・システムを較正する装置及び方法」は、本明細書に記載された目的を完全に達成し、本明細書に記載された利点を完全に提供することができるが、この特定の装置及び方法は単に、現時点における本発明の好ましい実施例を例示するものであること、及び添付の特許請求の範囲に記載された事項を除き、本明細書に示された構造又は設計の詳細に限定しようとする意図は一切ないことを理解されたい。
レーザ・システムを較正する本発明の装置の一実施例の断面図である。 本発明に従って図1の較正部材の表面と接触するように誘導されている、図1のシステムのレーザ・ビームの焦点の概略図である。ただし尺度は一律ではない。 本発明に従って、それぞれのレーザ・ビームの焦点が、円形経路上を誘導されながら、較正部材と接触するように誘導されている、図1のシステムの概略立面図である。ただし尺度は一律ではない。 図3Aに示されたレーザ・ビームの誘導に対応する較正部材の平面図である。 本発明に従って、それぞれのレーザ・ビームの焦点が、円形経路上を誘導されながら、較正部材と接触するように誘導されている、図1のシステムの概略立面図である。ただし尺度は一律ではない。 図4Aに示されたレーザ・ビームの誘導に対応する較正部材の平面図である。 本発明に従って、それぞれのレーザ・ビームの焦点が、円形経路上を誘導されながら、較正部材と接触するように誘導されている、図1のシステムの概略立面図である。ただし尺度は一律ではない。 図5Aに示されたレーザ・ビームの誘導に対応する較正部材の平面図である。 本発明に従って、それぞれのレーザ・ビームの焦点が、円形経路上を誘導されながら、較正部材と接触するように誘導されている、図1のシステムの概略立面図である。ただし尺度は一律ではない。 図6Aに示されたレーザ・ビームの誘導に対応する較正部材の平面図である。 本発明に従ってさまざまなレーザ・ビーム焦点パターンが適用された較正部材の平面図である。 本発明に従ってさまざまなレーザ・ビーム焦点パターンが適用された較正部材の平面図である。

Claims (3)

  1. レーザ・システムを較正する装置であって、
    レーザ・ビームを発生させるレーザ・ユニットであって、データムを画定するレーザ・ユニットと、
    前記レーザ・ユニットに取り付けられた較正ボディと、
    湾曲した表面を有する較正部材であって、前記較正部材の前記表面を、前記レーザ・ユニットの前記データムから所定の距離のところに配置するように前記較正ボディに付加された較正部材と、
    予め選択された初期位置にある焦点に前記レーザ・ビームを集束させる光学手段と、
    前記較正部材の前記表面上の位置でレーザ誘起光学破壊(LIOB)が誘起されるまで、前記焦点を、前記較正部材の前記表面に向かってある距離にわたって移動させ、及び前記レーザ・ビームの傾斜及び偏心を較正するために、前記焦点を複数の位置へ移動させる手段と、
    前記レーザ・システムを較正するために前記距離を所定の値と比較する手段と
    を含む装置。
  2. 複数の位置が試験パターンを生成する、請求項に記載の装置。
  3. それぞれの試験パターンがそれぞれ、前記レーザ・ビームの異なるエネルギーを使用して生成され、前記レーザ・ビームの前記焦点のエネルギー密度を決定するために、前記較正部材のLIOBに対するエネルギー密度しきい値よりも低い、前記焦点のエネルギー密度、及び前記較正部材のLIOBに対するエネルギー密度しきい値よりも高い、前記焦点の高エネルギー密度を含む、請求項に記載の装置。
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