JP5142152B2 - 4,5−ジアリールピロール誘導体、この調製方法および治療におけるこの使用 - Google Patents
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R1は、水素原子または(C1〜C4)アルキル基を表し;
R2は、
非置換であるか、またはハロゲン原子、ヒドロキシル、(C1〜C4)アルコキシ、(C1〜C4)アルキルチオ、フェノキシ、トリフルオロメトキシ基、ジフルオロメトキシ基、ジフルオロメチルチオ基およびトリフルオロメチルチオ基から独立して選択される置換基によって1回もしくは複数回置換された(C1〜C12)アルキル;
非置換であるか、または(C1〜C4)アルキル、(C1〜C4)アルコキシ、(C1〜C4)アルキルチオ、フッ素原子、ヒドロキシル、トリフルオロメチル基、ジフルオロメチル基、トリフルオロメトキシ基、ジフルオロメトキシ基、トリフルオロメチルチオ基およびジフルオロメチルチオ基から独立して選択される置換基によって1回もしくは複数回置換された非芳香族炭素環(C3〜C12)基;
非置換であるか、または(C1〜C4)アルキル、(C1〜C4)アルコキシ、(C1〜C4)アルキルチオ、フッ素原子、ヒドロキシル、トリフルオロメチル基、ジフルオロメチル基、トリフルオロメトキシ基、ジフルオロメトキシ基、トリフルオロメチルチオ基およびジフルオロメチルチオ基から独立して選択される置換基によって1回もしくは複数回置換された非芳香族炭素環(C3〜C12)基によって置換されたメチル;
各フェニル基が非置換であるか、またはハロゲン原子、ヒドロキシル、(C1〜C4)アルキル、(C1〜C4)アルコキシ、メチレンジオキシ、シアノ、ニトロ、トリフルオロメチル、ジフルオロメチル、ジフルオロメトキシ、トリフルオロメトキシ、トリフルオロメチルチオ、ジフルオロメチルチオ、S(O)nAlk基、OS(O)nAlk基および(C1〜C4)アルキルカルボニル基から独立して選択される置換基によって1回もしくは複数回置換されたフェニル、ベンジル、ベンズヒドリルまたはベンズヒドリルメチル基;
ピロリル、イミダゾリル、ピリジルまたはピラゾリルから選択される複素環基によって置換されたフェニル基(前記複素環基は、非置換であるか、またはハロゲン原子もしくは(C1〜C4)アルキル基から独立して選択される1つもしくは複数の置換基によって1回もしくは複数回置換されている。);
各フェニル基が非置換であるか、またはハロゲン原子、ヒドロキシル、(C1〜C4)アルキル、(C1〜C4)アルコキシ、メチレンジオキシ、シアノ、ニトロ、トリフルオロメチル、ジフルオロメチル、ジフルオロメトキシ、トリフルオロメトキシ、トリフルオロメチルチオ、ジフルオロメチルチオ、S(O)nAlk基、OS(O)nAlk基および(C1〜C4)アルキルカルボニル基から独立して選択される置換基によって1回もしくは複数回置換されたフェニルまたはフェノキシで置換されたフェニル基;
非置換であるか、または(C1〜C4)アルキルもしくはトリフルオロメチルによって1回もしくは複数回置換された1,2,3,4−テトラヒドロナフタレン−2−イル;
ピロリル、イミダゾリル、ピリジル、ピラゾリル、フリル、チエニル、オキサゾリルまたはチアゾリル基(前記基は、非置換であるか、またはハロゲン原子、(C1〜C4)アルキル基もしくはトリフルオロメチル基から独立して選択される1つもしくは複数の置換基によって置換されている。);
インドール−2−イルまたはN−メチルインドール−2−イルを表し;
R3は、(C1〜C5)アルキルまたは(C3〜C7)シクロアルキルを表し;
R4は、非置換であるか、またはハロゲン原子、(C1〜C4)アルキル、(C1〜C4)アルコキシ、シアノ、ジフルオロメチル基、トリフルオロメチル基、ジフルオロメトキシ基、トリフルオロメトキシ基、S(O)nAlk基もしくはOS(O)nAlk基から独立して選択される置換基によって1回もしくは複数回置換されたフェニルを表し;
R5は、非置換であるか、またはハロゲン原子、(C1〜C4)アルキル、(C1〜C4)アルコキシ、シアノ、ジフルオロメチル基、トリフルオロメチル基、ジフルオロメトキシ基、トリフルオロメトキシ基、S(O)nAlk基もしくはOS(O)nAlk基から独立して選択される置換基によって1回もしくは複数回置換されたフェニルを表し;
R6は、水素原子または(C1〜C4)アルキルを表し;
nは、0、1または2を表し;
Alkは、(C1〜C4)アルキルを表す。]。
Xが、基
R1が、水素原子または(C1〜C4)アルキル基を表し;
R2が、
(C1〜C7)アルキル;
非置換であるか、または(C1〜C4)アルキル基によって1回もしくは複数回置換された非芳香族炭素環(C3〜C12)基;
非置換であるか、または(C1〜C4)アルキルによって炭素環上で1回もしくは複数回置換された非芳香族炭素環(C3〜C12)基によって置換されたメチル;
非置換であるか、あるいはハロゲン原子、(C1〜C4)アルキル、ヒドロキシル、(C1〜C4)アルコキシ、シアノ、トリフルオロメチル基、トリフルオロメトキシ基、S(O)nAlk基および(C1〜C4)アルキルカルボニル基から;または、フェニル、フェノキシ、ピロリル、イミダゾリル、ピリジルもしくはピラゾリル基(前記基は、非置換であるか、または(C1〜C4)アルキルによって1回もしくは複数回置換されている。)から独立して選択される置換基によって1回または複数回置換されたフェニル;
非置換であるか、あるいはハロゲン原子、シアノ、(C1〜C4)アルキル、(C1〜C4)アルコキシ、トリフルオロメチル基もしくはS(O)nAlk基から独立して選択される置換基によってフェニル上で1回もしくは複数回置換されたベンジル;または(C1〜C4)アルキルおよび(C3〜C7)シクロアルキルから選択される1つもしくは2つの同様のもしくは異なる基によってα位において置換されたベンジル;
ベンズヒドリルまたはベンズヒドリルメチル基;
非置換であるか、または(C1〜C4)アルキルによって1回もしくは複数回置換された1,2,3,4−テトラヒドロナフタレン−2−イル;
ピロリル、イミダゾリル、ピリジル、ピラゾリル、フリルまたはチエニル基(前記基は、非置換であるか、またはハロゲン原子もしくは(C1〜C4)アルキル基から独立して選択される1つもしくは複数の置換基によって置換されている。);
インドール−2−イルまたはN−メチルインドール−2−イルを表し;
R3が、(C1〜C5)アルキルまたは(C3〜C7)シクロアルキルを表し;
R4が、非置換であるか、またはハロゲン原子、(C1〜C4)アルキル、(C1〜C4)アルコキシ、トリフルオロメチル基もしくはS(O)nAlk基から独立して選択される置換基によって1回もしくは複数回置換されたフェニルを表し;
R5が、非置換であるか、またはハロゲン原子、(C1〜C4)アルキル、(C1〜C4)アルコキシ、トリフルオロメチル基もしくはS(O)nAlk基から独立して選択される置換基によって1回もしくは複数回置換されたフェニルを表し;
R6が、水素原子または(C1〜C4)アルキルを表し;
nが、0、1または2を表し;
Alkが、(C1〜C4)アルキルを表す、式(I)の化合物である。
式(IB)の化合物(式中、−X−は、−SO2−基を表し、置換基R1からR5は、式(I)の化合物について定義される通りである。);
式(IC)の化合物(式中、−X−は、−CON(R6)−基を表し、置換基R1からR6は、式(I)の化合物について定義される通りである。);
式(ID)の化合物(式中、−X−は、−CSN(R6)−基を表し、置換基R1からR6は、式(I)の化合物について定義される通りである。)。
R1が、水素原子を表し;
R2が、(I)の定義の値の1つを有し;
R3が、メチル基を表し;
R4およびR5が、2,4−ジクロロフェニルおよび4−クロロフェニル、2,4−ジクロロフェニルおよび4−ブロモフェニル、2−クロロフェニルおよび4−クロロフェニル、または2,4−ジクロロフェニルおよび4−メトキシフェニルを表し;
Xが、基−CO−;−SO2−または−CON(R6)−;およびこの水和物またはこの溶媒和物を表す、式(I)の化合物が好ましい。
次式の化合物を
式(I)の化合物(式中、−X−は、−CO−基を表す。)を調製する必要がある場合、式(III)の酸もしくはこの酸の機能的誘導体
HOOC−R2(III)
(式中、R2は、式(I)の化合物について定義される通りである。);
または式(IB)の化合物(式中、−X−は−SO2−基を表す。)を調製する必要がある場合、次式のハロゲン化スルホニル
Hal−SO2−R2(IV)
(式中、R2は、式(I)の化合物について定義される通りであり、Halは、ハロゲン原子、好ましくは塩素を表す。);
または式(IC)の化合物(式中、−X−は−CON(R6)−基を表す。)を調製する必要がある場合、次式の中間化合物を得るために
HalCOOAr(V)
(式中、Halは、ハロゲン原子を表し、Arは、フェニルまたは4−ニトロフェニルを表す。)、[この中間体を次式(VII)のアミンと
HN(R6)R2(VII)
(式中、R2およびR6は、式(I)の化合物について定義される通りである。)引き続いて反応させる。];
または式(ID)の化合物(式中、−X−は、−CSN(R6)−基を表す。)を調製する必要がある場合、式R2−N=C=S(IX)のイソチオシアネート
(式中、R2は、式(I)の化合物について定義される通りである。)のいずれかで処理することを特徴とする、方法にしたがって調製することができる。
R1=H;
R3=Me;
R4=2,4−ジクロロフェニルまたは2−クロロフェニル
R5=4−クロロフェニル、4−ブロモフェニルまたは4−メトキシフェニルである、式(II)の化合物である。
エーテル:ジエチルエーテル
イソエーテル:ジイソプロピルエーテル
DMSO:ジメチルスルホキシド
DMF:N,N−ジメチルホルムアミド
THF:テトラヒドロフラン
TBTU:テトラフルオロホウ酸2−(1H−ベンゾトリアゾール−1−イル)−1,1,3,3−テトラメチルウロニウム
DCM:ジクロロメタン
EtOAc:酢酸エチル
DIPEA:ジイソプロピルエチルアミン
BH3−THF:ボラン−テトラヒドロフラン錯体
DBU:1,8−ジアザビシクロ[5,4,0]ウンデカ−7−エン
TFA:トリフルオロ酢酸
2N塩酸エーテル:塩酸の2Nジエチルエーテル溶液
Mp:融点
AT:周囲温度
Bp:沸点
HPLC:高速液体クロマトグラフィー
シリカH:メルク(DARMSTAD)により販売されている60Hシリカゲル
緩衝液pH=2:KHSO416.66gおよびK2SO432.32gの水(1L)溶液
プロトン核磁気共鳴(1H NMR)スペクトルは、DMSO−d6中において200MHzで記録する。化学シフトδは、百万分率(ppm)で表す。スペクトルの解釈のために、以下の略語を使用する。s:一重線(singulet)、d:二重線(doublet)、t:三重線(triplet)、q:四重線(quadruplet)、up:非分裂ピーク(unresolved peak)、mt:多重線(multiplet)、bs:幅広一重線(broad singlet)、rd:分裂した二重線(resolved doublet)。
シンメトリーC18カラム(2.1×50mm、3.5μm)を、30℃、流速0.4ml/分で使用する。
溶媒B:0.005%TFAアセトニトリル溶液。
XTERRA MS C18カラム(2.1×30mm、3.5μm)を、流速0.8ml/分で使用する。
溶媒B:0.025%TFAアセトニトリル溶液。
調製法1
A)メチル2−(((4−メチルフェニル)スルホニル)アミノ)ペンタ−3−イノエート
2−アミノブタ−3−イン酸2.5gを、0℃でメタノール45mlに懸濁する。塩化チオニル1.8mlを、この温度で1滴ずつ流し込み、次に混合液を3時間撹拌する。本溶液を濃縮し、残渣を、減圧下で乾燥させる。残渣を、アセトニトリル60mlで可溶化し、続いてトリエチルアミン5.4ml、次に塩化トシル4.6gを加える。混合液を、周囲温度で19時間撹拌し、次に50℃でさらに1時間撹拌する。濃縮後、粗成生物を、ジクロロメタンで可溶化し、有機相を、KHSO4、次にK2CO3の飽和水溶液で連続的に洗浄する。有機相を、硫酸マグネシウムで乾燥させ、次にろ過し、最後に濃縮して予期した化合物5.18gを得る。
1H NMR:δ(ppm):2.35:s:3H;2.45:up:2H;3.45:s:3H;3.9:rd:1H;7.35:d:2H;7.65:d:2H;8.4:d:1H。
前ステップの化合物1gおよび4−クロロヨードベンゼン0.57gを、無水DMF20mlで可溶化する。本溶液を、真空下で30分間脱気する。トリエチルアミン0.64mlと、次にテトラキス(トリフェニルホスフィン)パラジウム(0)0.28gと、ヨウ化銅0.1gを加える。混合液を、アルゴン雰囲気下で、周囲温度で19時間撹拌する。反応混合物を、濃縮し、シリカゲルクロマトグラフィーにより精製し、溶出は、シクロヘキサン/酢酸エチル(80/20;v/v)で実施する。予期した化合物1gを回収する。
1H NMR:δ(ppm):2.35:s:3H;2.70〜2.80:up:2H;3.45:s:3H;4.05:rd:1H;7.35:m:4H;7.4:d:2H;7.65:d:2H;8.51:d:1H。
前ステップで得られた化合物1gを、炭酸カリウム1gの存在下において、0℃で無水アセトニトリル5mlに溶解する。固体のヨウ素2gを、少量ずつに分けて、この温度で、撹拌しながら加える。混合液を、周囲温度に24時間戻す。変色が生じるまでチオ硫酸ナトリウム溶液を加えて、反応を中止させ、有機相を、ジクロロメタンで抽出する。硫酸マグネシウムで乾燥させ、ろ過および濃縮した後、予期した化合物1.27gを得る。
LC/MS:M=517、tr=10.8分。
前ステップで得られた化合物15gおよび2,4−ジクロロフェニルボロン酸6.8gを、炭酸ナトリウム(2N)溶液48mlの存在下において、メタノール150mlおよびトルエン710mlの混合液で可溶化する。反応媒質を、アルゴン下で30分間放置し、次にテトラキス(トリフェニルホスフィン)パラジウム(0)4.7gを加える。本溶液を、不活性雰囲気下で、60℃で4時間加熱する。冷却後、粗生成物を、濃縮し、シリカゲルクロマトグラフィー(トルエン)によって精製する。予期した化合物9.7gを、白色の粉末の形で得る。
1H NMR:δ(ppm):2.4:s:3H;2.75〜2.95:up:1H;3.8:s:3H;5.15:d:1H;6.7:d:1H;7.1〜7.7:up:6H。
前ステップで得られた化合物9.7gを、無水N,N−ジメチルホルムアミド60mlで可溶化する。次にDBU5.4mlを加え、混合液を、100℃で24時間加熱する。粗生成物を濃縮し、次にエタノールを添加後、白色の沈殿物が生じる。沈殿物をろ過し、予期した化合物6gを回収する。
1H NMR:δ(ppm):3.8:s:3H;6.9:s:1H;7.2:s:1H;7.25:s:2H;7.3〜7.4:up:3H;7.65:rd:1H;12.4:s:1H。
前ステップで得られた化合物5.9gを、DMF150mlで可溶化し、炭酸カリウム3.5gを加える。周囲温度でヨウ化メチル1.5mlを、混合液に加え、全体をATで24時間撹拌したまま放置する。本溶液をろ過し、ろ液を蒸発乾固し、次にメタノール430mlで可溶化し、水7mlを加え、続いて水酸化カリウムペレット8.7gを加える。混合液を24時間還流させる。濃縮後、得られた固体を、エーテルで洗浄し、次にジクロロメタンに溶解する。有機相を、10%塩酸水溶液で処理する。次に有機相を硫酸マグネシウムで乾燥させ、次にろ過および濃縮する。予期した化合物5.8gを、白色の固体の形で回収する(Mp=194℃)。
1H NMR:δ(ppm):3.75:s:3H;6.9:s:2H;7.05:rd:2H;7.15〜7.30:up:3H;7.45:d:2H;7.55:rd:1H;12.5:s:1H。
前ステップで得られた酸4gおよび1,1’−カルボニルビス(1H−イミダゾール)1.9gを、無水DMF40mlで可溶化する。混合液を、ATで1時間撹拌し、次に溶液にアンモニアガスを1時間吹き込む。水の添加後、生成物をエチルエーテルで抽出する。有機相を、NaOH(1N)溶液で洗浄する。硫酸マグネシウムで乾燥させ、ろ過および濃縮した後、予期されたアミドに相当する白色の固体3.3gを得る。LC/MS:条件1、MH+=379、tr=10.42。純度:95.2%。
1NのBH3OTHF溶液43mlを、前ステップで得られた化合物3.2gのTHF溶液8mlに、1滴ずつ加える。次に混合液を60〜70℃で19時間加熱する。0℃まで冷却後、メタノール15mlを加える。混合液を、4分の3まで濃縮し、残りの溶液を、塩化水素エーテル溶液200mlに1滴ずつ加える。沈殿およびろ過後、予期した化合物2.55gを、白色の固体の形で得る。
1H NMR:2.1 ppm:s:3H;3.9 ppm:s:2H;6.55 ppm:s:1H;7.05〜7.55 ppm:up:7H;8.35 ppm:s:3H。
LC/MS:MH+=364、tr=9.04。
N−((5−(4−クロロフェニル)−4−(2,4−ジクロロフェニル)−1−メチル−1H−ピロール−2−イル)メチル)−4−(トリフルオロメチル)ベンズアミド
調製法1の化合物1gを、トリエチルアミン1mlの存在下において、DCM30mlで可溶化する。4−塩化トリフルオロメチルベンゾイル0.57mlを加え、混合液をATで24時間撹拌する。得られた混合液を、蒸発乾固し、次にクロマトグラフィーによって精製し、固体の形で予期した化合物0.42gを得る。
3−クロロ−N−((5−4−クロロフェニル−4−(2,4−ジクロロフェニル)−1−メチル−1H−ピロール−2−イル)メチル)ベンゼンスルホンアミド
調製法1の化合物0.5gを、トリエチルアミン0.4mlの存在下において、DCM15mlに溶解し;3−塩化クロロベンゼンスルホニル0.32mgを加え、混合液をATで20時間撹拌したまま放置する。得られた混合液を、蒸発乾固し、次にクロマトグラフィーによって精製し、固体の形で予期した化合物0.15gを得る。
N−((5−(4−クロロフェニル−4−(2,4−ジクロロフェニル)−1−メチル−1H−ピロール−2−イル)メチル)−N’−(3−(トリフルオロメチル)フェニル)ウレア
調製法1の化合物0.8gを、トリエチルアミン0.40mlの存在下において、DCM40mlで可溶化し;3−トリフルオロメチルベンゼンイソシアネート0.34mlを加え、混合液をATで20時間撹拌したまま放置する。得られた混合液を、クロマトグラフィーによって精製し、固体の形で予期した化合物0.25gを得る。
式(IA)の化合物を、以下に記載の方法にしたがってコンビナトリアル化学によって調製する。
カンナビノイドCB2受容体モジュレーター;
アンギオテンシンII AT1受容体アンタゴニスト;
変換酵素阻害薬;
カルシウムアンタゴニスト;
利尿薬;
β遮断薬;
抗高脂血症薬または抗高コレステロール血症薬
抗糖尿病薬;
別の抗肥満薬;
ニコチンアゴニストまたは部分的ニコチンアゴニスト;
抗抑うつ薬、抗精神病薬または抗不安薬;
抗癌薬または抗増殖薬;
オピオイドアンタゴニスト;
さらに
記憶改善薬;
アルコール依存症または離脱症状用薬;
骨粗鬆症治療に有用な薬剤;
非ステロイド性またはステロイド性の抗炎症薬;
抗感染薬;
鎮痛薬;
抗ヒスタミン薬。
PTP1B(タンパク質チロシンホスファターゼ−1B)阻害薬、VPAC2受容体アゴニスト、GLKモジュレーター、レチノイドモジュレーター、グリコーゲンホスホリラーゼ(HGLPa)阻害薬、グルカゴンアンタゴニスト、グルコース−6−リン酸阻害薬、ピルビン酸脱水素酵素キナーゼ(PKD)アクチベーター、RXR、FXRまたはLXRモジュレーター、SGLT(ナトリウム依存性グルコーストランスポーター)阻害薬、CETP(コレステリルエステル転送タンパク質)阻害薬、スクアレンシンセターゼ阻害薬、スクアレンエポキシダーゼ阻害薬、トリグリセリド合成阻害薬、LDL(低密度リポタンパク質)受容体誘導物質、IBAT阻害薬、エフビーパーゼ(FBPase)(フルクトース−1,6−ビホスファターゼ)阻害薬、CART(コカイン−アンフェタミン調節転写)モジュレーター、MC4(メラノコルチン4)モジュレーターおよびオレキシン受容体拮抗剤。
本発明による化合物:50.0mg
マンニトール:223.75mg
ナトリウムクロスカルメロース:6.0mg
コーンスターチ:15.0mg
ヒドロキシプロピルメチルセルロース:2.25mg
ステアリン酸マグネシウム:3.0mg
Claims (8)
- 式(I)に相当する化合物、またはその塩基若しくは酸付加塩の形態にある化合物、またはその水和物若しくは溶媒和物の形態にある化合物
R1は、水素原子または(C1〜C4)アルキル基を表し;
R2は、
非置換であるか、またはハロゲン原子、ヒドロキシル、(C1〜C4)アルコキシ、(C1〜C4)アルキルチオ、フェノキシ、トリフルオロメトキシ基、ジフルオロメトキシ基、ジフルオロメチルチオ基およびトリフルオロメチルチオ基から独立して選択される置換基によって1回もしくは複数回置換された(C1〜C12)アルキル;
非置換であるか、または(C1〜C4)アルキル、(C1〜C4)アルコキシ、(C1〜C4)アルキルチオ、フッ素原子、ヒドロキシル、トリフルオロメチル基、ジフルオロメチル基、トリフルオロメトキシ基、ジフルオロメトキシ基、トリフルオロメチルチオ基およびジフルオロメチルチオ基から独立して選択される置換基によって1回もしくは複数回置換された非芳香族炭素環(C3〜C12)基;
非置換であるか、または(C1〜C4)アルキル、(C1〜C4)アルコキシ、(C1〜C4)アルキルチオ、フッ素原子、ヒドロキシル、トリフルオロメチル基、ジフルオロメチル基、トリフルオロメトキシ基、ジフルオロメトキシ基、トリフルオロメチルチオ基およびジフルオロメチルチオ基から独立して選択される置換基によって1回もしくは複数回置換された非芳香族炭素環(C3〜C12)基によって置換されたメチル;
各フェニル基が非置換であるか、またはハロゲン原子、ヒドロキシル、(C1〜C4)アルキル、(C1〜C4)アルコキシ、メチレンジオキシ、シアノ、ニトロ、トリフルオロメチル、ジフルオロメチル、ジフルオロメトキシ、トリフルオロメトキシ、トリフルオロメチルチオ、ジフルオロメチルチオ、S(O)nAlk基、OS(O)nAlk基および(C1〜C4)アルキルカルボニル基から独立して選択される置換基によって1回もしくは複数回置換されたフェニル、ベンジル、ベンズヒドリルまたはベンズヒドリルメチル基;
ピロリル、イミダゾリル、ピリジルまたはピラゾリルから選択される複素環基によって置換されたフェニル基(前記複素環基は、非置換であるか、またはハロゲン原子もしくは(C1〜C4)アルキル基から独立して選択される1つまたは複数の置換基によって1回もしくは複数回置換されている。);
各フェニル基が非置換であるか、またはハロゲン原子、ヒドロキシル、(C1〜C4)アルキル、(C1〜C4)アルコキシ、メチレンジオキシ、シアノ、ニトロ、トリフルオロメチル、ジフルオロメチル、ジフルオロメトキシ、トリフルオロメトキシ、トリフルオロメチルチオ、ジフルオロメチルチオ、S(O)nAlk基、OS(O)nAlk基および(C1〜C4)アルキルカルボニル基から独立して選択される置換基によって1回もしくは複数回置換されたフェニルまたはフェノキシで置換されたフェニル基;
非置換であるか、または(C1〜C4)アルキルもしくはトリフルオロメチルによって1回もしくは複数回置換された1,2,3,4−テトラヒドロナフタレン−2−イル;
ピロリル、イミダゾリル、ピリジル、ピラゾリル、フリル、チエニル、オキサゾリルまたはチアゾリル基(前記基は、非置換であるか、またはハロゲン原子、(C1〜C4)アルキル基もしくはトリフルオロメチル基から独立して選択される1つもしくは複数の置換基によって置換されている。);
インドール−2−イルまたはN−メチルインドール−2−イルを表し;
R3は、(C1〜C5)アルキルまたは(C3〜C7)シクロアルキルを表し;
R4は、非置換であるか、またはハロゲン原子、(C1〜C4)アルキル、(C1〜C4)アルコキシ、シアノ、ジフルオロメチル基、トリフルオロメチル基、ジフルオロメトキシ基、トリフルオロメトキシ基、S(O)nAlk基もしくはOS(O)nAlk基から独立して選択される置換基によって1回もしくは複数回置換されたフェニルを表し;
R5は、非置換であるか、またはハロゲン原子、(C1〜C4)アルキル、(C1〜C4)アルコキシ、シアノ、ジフルオロメチル基、トリフルオロメチル基、ジフルオロメトキシ基、トリフルオロメトキシ基、S(O)nAlk基もしくはOS(O)nAlk基から独立して選択される置換基によって1回もしくは複数回置換されたフェニルを表し;
R6は、水素原子または(C1〜C4)アルキルを表し;
nは、0、1または2を表し;
Alkは、(C1〜C4)アルキルを表す。]。 - Xが、基
R1が、水素原子または(C1〜C4)アルキル基を表し;
R2が、
(C1〜C7)アルキル;
非置換であるか、または(C1〜C4)アルキル基によって1回もしくは複数回置換された非芳香族炭素環(C3〜C12)基;
非置換であるか、または(C1〜C4)アルキルによって炭素環上で1回もしくは複数回置換された非芳香族炭素環(C3〜C12)基によって置換されたメチル;
非置換であるか、あるいはハロゲン原子、(C1〜C4)アルキル、ヒドロキシル、(C1〜C4)アルコキシ、シアノ、トリフルオロメチル基、トリフルオロメトキシ基、S(O)nAlk基および(C1〜C4)アルキルカルボニル基から;または、フェニル、フェノキシ、ピロリル、イミダゾリル、ピリジルもしくはピラゾリル基(前記基は、非置換であるか、または(C1〜C4)アルキルによって1回もしくは複数回置換されている。)から独立して選択される置換基によって1回または複数回置換されたフェニル;
非置換であるか、またはハロゲン原子、シアノ、(C1〜C4)アルキル、(C1〜C4)アルコキシ、トリフルオロメチル基もしくはS(O)nAlk基から独立して選択される置換基によってフェニル上で1回もしくは複数回置換されたベンジル
ベンズヒドリルまたはベンズヒドリルメチル基;
非置換であるか、または(C1〜C4)アルキルによって1回もしくは複数回置換された1,2,3,4−テトラヒドロナフタレン−2−イル;
ピロリル、イミダゾリル、ピリジル、ピラゾリル、フリルまたはチエニル基(前記基は、非置換であるか、またはハロゲン原子もしくは(C1〜C4)アルキル基から独立して選択される1つもしくは複数の置換基によって置換されている。);
インドール−2−イルまたはN−メチルインドール−2−イルを表し;
R3が、(C1〜C5)アルキルまたは(C3〜C7)シクロアルキルを表し;
R4が、非置換であるか、またはハロゲン原子、(C1〜C4)アルキル、(C1〜C4)アルコキシ、トリフルオロメチル基もしくはS(O)nAlk基から独立して選択される置換基によって1回もしくは複数回置換されたフェニルを表し;
R5が、非置換であるか、またはハロゲン原子、(C1〜C4)アルキル、(C1〜C4)アルコキシ、トリフルオロメチル基もしくはS(O)nAlk基から独立して選択される置換基によって1回もしくは複数回置換されたフェニルを表し;
R6が、水素原子または(C1〜C4)アルキルを表し;
nが、0、1または2を表し;
Alkが、(C1〜C4)アルキルを表す請求項1に記載の式(I)に相当する化合物、またはその塩基若しくは酸付加塩の形態にある化合物、またはその水和物若しくは溶媒和物の形態にある化合物。 - −X−が、−CO−基を表し、および置換基R1からR5が、請求項1における式(I)の化合物について定義される通りである式(IA)の、請求項1に記載の化合物。
- −X−が、−SO2−基を表し、および置換基R1からR5が、請求項1における式(I)の化合物について定義される通りである式(IB)の、請求項1に記載の化合物。
- −X−が、−CON(R6)−基を表し、および置換基R1からR6が、請求項1における式(I)の化合物について定義される通りである式(IC)の、請求項1に記載の化合物。
- 請求項1に記載の式(I)の化合物の調製方法であり、式
の化合物を、
式(IA)の化合物(式中、−X−は、−CO−基を表す。)を調製する必要がある場合、式
HOOC−R2 (III)
(式中、R2は、式(IA)の化合物について定義される通りである。)
の酸もしくはこの酸の機能的誘導体で処理する、
または式(IB)の化合物(式中、−X−は、−SO2−基を表す。)を調製する必要がある場合、式
Hal−SO2−R2 (IV)
(式中、R2は、式(I)の化合物について定義される通りであり、Halは、ハロゲン原子を表す。)
のハロゲン化スルホニルで処理する、
または式(IC)の化合物(式中、−X−は、−CON(R6)−基を表す。)を調製する必要がある場合、式
HalCOOAr (V)
(式中、Halは、ハロゲン原子を表し、Arは、フェニルまたは4−ニトロフェニルを表す。)
のハロホルメートで処理して、式
の中間体を得た後、続いて式
HN(R6)R2 (VII)
(式中、R2およびR6は、式(I)の化合物について定義される通りである。)
のアミンと反応させる、
または式(ID)の化合物(式中、−X−は、−CSN(R6)−基を表す。)を調製する必要がある場合、式R2−N=C=S(IX)のイソチオシアネート(式中、R2は、式(I)の化合物について定義される通りである。)で処理する
ことを特徴とする、方法。 - 式(IV)で表されるハロゲン化スルホニルにおいて、Halが塩素を表すものである、請求項6に記載の方法。
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