JP5134562B2 - Dispensing device - Google Patents

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Description

本発明は、集積回路素子などのチップ部品と基板の間隙に塗布液などのアンダーフィル剤を充填する場合に、そのアンダーフィル剤をボイドレスにて充填することができるディスペンス装置に関するものである。   The present invention relates to a dispensing apparatus capable of filling an underfill agent such as a coating solution in a gap between a chip component such as an integrated circuit element and a substrate with a void dress.

半導体チップなどのチップ部品と基板の間隙に塗布液などのアンダーフィル剤を充填する装置として特許文献1に示されるような半導体製造装置が知られている。特許文献1の装置は、チップ部品を基板に実装するステージと、チップ部品が実装された基板にアンダーフィル剤を充填する真空チャンバを備えている。チップ部品が実装された基板は、真空チャンバーに搬送される。そして、真空チャンバー内においてチップ部品が実装された基板にアンダーフィル剤が充填され、一定時間の経過後、真空チャンバを大気圧に晒す。真空チャンバの内部にはアンダーフィル剤を充填するディスペンス装置が備えられており、真空状態に保たれた状態で、チップ部品に沿ってディスペンス装置が動作しアンダーフィル剤を充填するように構成されている。このようにアンダーフィル剤の充填に真空状態もしくは減圧状態を保っているので大気の巻き込みによるアンダーフィル剤中の気泡の発生が少ないというメリットがある。   As an apparatus for filling an underfill agent such as a coating solution into a gap between a chip component such as a semiconductor chip and a substrate, a semiconductor manufacturing apparatus as shown in Patent Document 1 is known. The apparatus of Patent Document 1 includes a stage for mounting a chip component on a substrate, and a vacuum chamber for filling the substrate on which the chip component is mounted with an underfill agent. The substrate on which the chip components are mounted is transferred to a vacuum chamber. Then, the substrate on which the chip components are mounted in the vacuum chamber is filled with an underfill agent, and after a certain period of time, the vacuum chamber is exposed to atmospheric pressure. The inside of the vacuum chamber is provided with a dispensing device that fills the underfill agent, and is configured so that the dispensing device operates along the chip component and fills the underfill agent in a state of being kept in a vacuum state. Yes. Thus, since the underfill agent is filled in a vacuum state or a reduced pressure state, there is an advantage that the generation of bubbles in the underfill agent due to the entrainment of the atmosphere is small.

一方、アンダーフィル剤を高速にかつ精密に制御する目的で特許文献2に記載されているようなディスペンス装置が知られている。特許文献2のディスペンス装置は、アンダーフィル剤を貯留する液貯留部と、液貯留部に配管を経由して取り付けられたニードルバルブを備えている。液貯留部に蓄えられたアンダーフィル剤は、ニードルバルブに備えられたピストンの動作により、ニードルバルブの吐出孔より高速かつ精密に制御されてチップ部品と基板の間隙に充填されるようになっている。   On the other hand, a dispensing apparatus as described in Patent Document 2 is known for the purpose of controlling the underfill agent at high speed and precisely. The dispensing device of Patent Literature 2 includes a liquid storage unit that stores an underfill agent, and a needle valve that is attached to the liquid storage unit via a pipe. The underfill agent stored in the liquid reservoir is filled in the gap between the chip component and the substrate by being controlled at high speed and precisely from the discharge hole of the needle valve by the operation of the piston provided in the needle valve. Yes.

特開2008−113045号公報JP 2008-113045 A 特開2001−46936号公報JP 2001-46936 A

そこで、特許文献1に記載されるような真空チャンバを用いたアンダーフィル剤の充填方法と、特許文献2に記載されるようなディスペンス装置を組み合わせることで高速かつ精密に大気の巻き込みのないアンダーフィル剤の充填ができると考えられる。   Therefore, by combining the underfill agent filling method using the vacuum chamber as described in Patent Document 1 and the dispensing apparatus as described in Patent Document 2, the underfill without air entrainment at high speed and precision. It is thought that the agent can be filled.

しかしながら、ディスペンス装置は大気圧状態における使用を前提としているため、真空チャンバで形成される真空雰囲気では吐出されるアンダーフィル剤の吐出量や吐出位置精度が不安定になる問題があった。   However, since the dispensing device is assumed to be used in an atmospheric pressure state, there is a problem that the discharge amount and discharge position accuracy of the underfill agent discharged in a vacuum atmosphere formed in a vacuum chamber becomes unstable.

そこで、上記問題点に鑑み、アンダーフィル剤の吐出量や吐出位置精度を精度良く安定化してチップ部品と基板の間隙に充填することができるディスペンス装置を提供することを目的とする。   In view of the above problems, an object of the present invention is to provide a dispensing apparatus that can accurately stabilize the discharge amount and discharge position accuracy of the underfill agent and fill the gap between the chip component and the substrate.

以上の課題を解決するために、請求項1に記載の発明は、
真空チャンバーで形成した真空雰囲気に備えられたディスペンス装置であって、
シリンダと、シリンダ内を移動するピストンと、ピストンに連結されるニードルを備え
記ニードルが塗布液を蓄えたニードルバルブの中を移動することにより塗布液をニード
ルバルブの先端に設けられた吐出孔より吐出する構成であって、
前記シリンダの内部を前記ピストンで仕切ることにより形成される筒室の一方が大気開放
される換気口に接続され、他方の筒室が前記ピストンを駆動する流体圧力源に切替弁を介
して接続されていることを特徴とするディスペンス装置である。
In order to solve the above problems, the invention described in claim 1
A dispensing device provided in a vacuum atmosphere formed in a vacuum chamber,
A cylinder, a piston moving in the cylinder, and a needle coupled to the piston ;
A configuration in which pre-Symbol needle is discharged from the discharge hole provided a coating solution to the tip of the needle valve by moving through the needle valve accumulated a coating solution,
One of the cylindrical chambers formed by partitioning the inside of the cylinder with the piston is connected to a vent opening that is open to the atmosphere, and the other cylindrical chamber is connected to a fluid pressure source that drives the piston via a switching valve. It is the dispensing apparatus characterized by the above-mentioned.

請求項1に記載の発明によれば、シリンダのピストンにより仕切られる筒室の一方を大気開放するようにしているので、真空雰囲気にディスペンス装置が設けられていても大気雰囲気と同様の条件で、ディスペンス装置のピストンを動作させることができる。そのため、ピストンに連結されたニードルの動作も大気雰囲気と同様になり、ニードルバルブの先端に設けられた吐出孔から吐出される塗布液の吐出量や吐出位置精度を精度良く安定化してチップ部品と基板の間隙に充填することができる。   According to the invention described in claim 1, since one of the cylindrical chambers partitioned by the piston of the cylinder is opened to the atmosphere, even if a dispensing device is provided in a vacuum atmosphere, The piston of the dispensing device can be operated. Therefore, the operation of the needle connected to the piston is the same as in the atmosphere, and the discharge amount and discharge position accuracy of the coating liquid discharged from the discharge hole provided at the tip of the needle valve is stabilized with high accuracy. The gap between the substrates can be filled.

本発明の実施の形態に係るディスペンス装置の斜視図である。It is a perspective view of the dispensing apparatus which concerns on embodiment of this invention. 本発明の実施の形態に係るディスペンス装置の断面図である。It is sectional drawing of the dispensing apparatus which concerns on embodiment of this invention. 本発明の実施の形態に係るディスペンス方法のフロチャートである。It is a flowchart of the dispensing method which concerns on embodiment of this invention.

以下、図面を参照して本発明の実施の形態を説明する。図1は、本発明のディスペンス装置1が真空チャンバ2に備えられた状態を示す概略斜視図である。図1において、真空チャンバ2の設置面(水平面)をXY平面とし高さ方向をZ方向として説明する。   Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings. FIG. 1 is a schematic perspective view showing a state in which a dispensing apparatus 1 of the present invention is provided in a vacuum chamber 2. In FIG. 1, the installation surface (horizontal plane) of the vacuum chamber 2 is described as an XY plane, and the height direction is described as a Z direction.

図1に示すように、ディスペンス装置1は、真空チャンバ2の上部中央に配置され、ディスペンス装置1の下部に配置された基板3に塗布液であるアンダーフィル剤4を充填するようになっている。基板3の所定箇所にアンダーフィル剤4を充填するため基板3を保持している基板保持ステージ5がXY方向に移動可能になっている。なお、ディスペンス装置1がXY方向に移動可能に構成しても良い。また、ディスペンス装置1は、真空チャンバ2の中でZ方向に移動可能に構成されている。基板保持ステージ5の保持面にはヒータ6が埋め込まれており、基板3を所定の温度に加熱することができるようになっている。   As shown in FIG. 1, the dispensing apparatus 1 is arranged at the upper center of the vacuum chamber 2, and the substrate 3 arranged at the lower part of the dispensing apparatus 1 is filled with an underfill agent 4 as a coating solution. . The substrate holding stage 5 holding the substrate 3 is movable in the XY directions in order to fill the predetermined portion of the substrate 3 with the underfill agent 4. The dispensing apparatus 1 may be configured to be movable in the XY directions. The dispensing apparatus 1 is configured to be movable in the Z direction in the vacuum chamber 2. A heater 6 is embedded in the holding surface of the substrate holding stage 5 so that the substrate 3 can be heated to a predetermined temperature.

アンダーフィル剤4は本発明の塗布液に相当する。   The underfill agent 4 corresponds to the coating solution of the present invention.

真空チャンバ2には基板3を出し入れする際に開閉する可動壁7が設けられている。可動壁7は、基板3の搬入用と搬出用それぞれ設けても良いし、一つの可動壁を基板3の搬入および搬出に兼用する構成としても良い。基板3が真空チャンバ2に搬入されると、可動壁7が締まり真空チャンバ2の圧力を大気圧から50Paまで減圧することができるようになっている。図1では、可動壁7が搬入用と搬出用のそれぞれ個別に構成された状態を示している。また、真空チャンバ2の内部を説明するため、図1において真空チャンバ2と可動壁7は一点鎖線で表記した。   The vacuum chamber 2 is provided with a movable wall 7 that opens and closes when the substrate 3 is taken in and out. The movable wall 7 may be provided for loading and unloading the substrate 3, or a single movable wall may be used for loading and unloading the substrate 3. When the substrate 3 is carried into the vacuum chamber 2, the movable wall 7 is tightened so that the pressure in the vacuum chamber 2 can be reduced from atmospheric pressure to 50 Pa. FIG. 1 shows a state in which the movable wall 7 is individually configured for loading and unloading. Further, in order to explain the inside of the vacuum chamber 2, the vacuum chamber 2 and the movable wall 7 in FIG.

このように、真空雰囲気でアンダーフィル剤4の充填を行う構成であるので、チップ部品8と基板3の間隙に発生する大気の巻き込みによるアンダーフィル剤4中の気泡の発生が少ない。   As described above, since the underfill agent 4 is filled in a vacuum atmosphere, the generation of bubbles in the underfill agent 4 due to air entrainment generated in the gap between the chip component 8 and the substrate 3 is small.

なお、本実施の形態では、基板3にチップ部品8を実装した後、アンダーフィル剤4を充填する形態について説明を行うが、チップ部品8が実装されていない基板3に、アンダーフィル剤4を塗布する形態であっても良い。   In this embodiment, a mode in which the underfill agent 4 is filled after the chip component 8 is mounted on the substrate 3 will be described. However, the underfill agent 4 is applied to the substrate 3 on which the chip component 8 is not mounted. The form to apply | coat may be sufficient.

次に、ディスペンス装置1の構成について図2を参照しながら詳細に説明する。図2は、ディスペンス装置1の内部構成を示す断面図である。図2の横方向をXY方向、上下方向をZ方向として説明する。また、真空チャンバ2の一部を斜線で示した。   Next, the configuration of the dispensing apparatus 1 will be described in detail with reference to FIG. FIG. 2 is a cross-sectional view showing the internal configuration of the dispensing apparatus 1. The horizontal direction in FIG. 2 will be described as the XY direction, and the vertical direction will be described as the Z direction. A part of the vacuum chamber 2 is indicated by hatching.

図2に示すように、ディスペンス装置1には、アンダーフィル剤4を貯留する液貯留部10からアンダーフィル剤4をディスペンス装置1に導く流路配管12が接続されている。   As shown in FIG. 2, the dispensing apparatus 1 is connected to a flow path pipe 12 that guides the underfill agent 4 from the liquid storage unit 10 that stores the underfill agent 4 to the dispensing apparatus 1.

ディスペンス装置1は、シリンダ13とシリンダ13内をZ方向に移動可能なピストン14と、ピストン14の下部に連結されZ方向に棒状に配置されシリンダ13から下側に突き出たニードル15と、突き出たニードル15を被うニードルバルブ16とから構成されている。ニードル15はニードルバルブ16の内部をピストン14の動作に連動してZ方向に動作し、ニードル15の下側はニードルバルブ16の下部に設けられたノズル17を貫通している。ニードルバルブ16は、ニードル15とニードルバルブ16の内壁の間に流路配管12から供給されたアンダーフィル剤4が満たされるようになっている。ニードルバルブ16の上部はシール材18が設けられており、シール材18の穴を経由してニードル15がピストン14と連結されている。   The dispensing device 1 protrudes from a cylinder 13 and a piston 14 that can move in the cylinder 13 in the Z direction, a needle 15 that is connected to the lower part of the piston 14 and arranged in a bar shape in the Z direction and protrudes downward from the cylinder 13. The needle valve 16 covers the needle 15. The needle 15 moves in the Z direction in conjunction with the operation of the piston 14 inside the needle valve 16, and the lower side of the needle 15 passes through a nozzle 17 provided at the lower portion of the needle valve 16. The needle valve 16 is configured such that the underfill agent 4 supplied from the flow path pipe 12 is filled between the needle 15 and the inner wall of the needle valve 16. A sealing material 18 is provided on the upper portion of the needle valve 16, and the needle 15 is connected to the piston 14 through a hole in the sealing material 18.

シリンダ13は、ピストン14を介して上下に筒室19,25が形成されており上側の筒室19にはバネ20がシリンダ13の内壁とピストン14の間に設置されている。筒室19の側面には孔30が設けられている。孔30と真空チャンバ2に設けられている換気口31は、換気配管26を介して接続されている。これにより、筒室19が大気雰囲気になるようになっている。   In the cylinder 13, cylinder chambers 19 and 25 are formed vertically via a piston 14, and a spring 20 is installed between the inner wall of the cylinder 13 and the piston 14 in the upper cylinder chamber 19. A hole 30 is provided in the side surface of the cylindrical chamber 19. The hole 30 and the ventilation port 31 provided in the vacuum chamber 2 are connected via a ventilation pipe 26. Thereby, the cylinder chamber 19 becomes an atmospheric atmosphere.

ピストン14の下側の筒室25の側面には孔32が設けられており、孔32と真空チャンバ2の外側に設けられている切替弁28が加圧配管27を介して接続されている。切替弁28には加圧ポンプ29が接続され、加圧ポンプ29で加圧された流体が切替弁28をONすることにより加圧配管27を介して筒室25に供給されるようになっている。切替弁28がOFFすると、筒室25に供給された流体が切替弁28に設けられた排出口33より放出されるようになっている。本実施の形態では、筒室25に供給される流体が気体で加圧ポンプ29及び切替弁28は気体(例えば空気)を対象とした圧空機器として説明する。   A hole 32 is provided in the side surface of the lower cylinder chamber 25 of the piston 14, and a switching valve 28 provided outside the vacuum chamber 2 is connected to the hole 32 via a pressurizing pipe 27. A pressurizing pump 29 is connected to the switching valve 28, and the fluid pressurized by the pressurizing pump 29 is supplied to the cylinder chamber 25 via the pressurizing pipe 27 by turning on the switching valve 28. Yes. When the switching valve 28 is turned OFF, the fluid supplied to the cylinder chamber 25 is discharged from the discharge port 33 provided in the switching valve 28. In the present embodiment, the fluid supplied to the cylinder chamber 25 is a gas, and the pressurization pump 29 and the switching valve 28 will be described as a pneumatic device intended for gas (for example, air).

加圧ポンプ29は、本発明の流体圧力源に相当する。   The pressurizing pump 29 corresponds to the fluid pressure source of the present invention.

筒室25の流体の吸入および排出を切替弁28で制御すると、筒室19に設けられたバネ20のバネ力と筒室25の圧力のバランスにより、ピストン14をZ方向に動作させることができる。ピストン14の動作により、ピストン14に連結するニードル15が上下動し、ニードルバルブ16に設けられたノズル17よりアンダーフィル剤4がZ方向下側に吐出されるようになっている。   When the suction and discharge of the fluid in the cylinder chamber 25 is controlled by the switching valve 28, the piston 14 can be operated in the Z direction by the balance between the spring force of the spring 20 provided in the cylinder chamber 19 and the pressure in the cylinder chamber 25. . By the operation of the piston 14, the needle 15 connected to the piston 14 moves up and down, and the underfill agent 4 is discharged from the nozzle 17 provided in the needle valve 16 downward in the Z direction.

ピストン14を動作させる筒室19,25の環境は、ディスペンス装置1が真空チャンバ2に被われた真空雰囲気であっても、換気配管26により真空チャンバ2の外側と接続されているため、大気雰囲気の環境下と同じになる。そのため、アンダーフィル剤4を大気圧雰囲気と同じ条件で精度良く高速に吐出することができる。   The environment of the cylinder chambers 19 and 25 for operating the piston 14 is the atmospheric atmosphere because the dispensing device 1 is connected to the outside of the vacuum chamber 2 by the ventilation pipe 26 even in a vacuum atmosphere covered with the vacuum chamber 2. It will be the same as under the environment. Therefore, the underfill agent 4 can be discharged with high accuracy and high speed under the same conditions as the atmospheric pressure atmosphere.

液貯留部10に供給されたアンダーフィル剤4は、液貯留部10に設けられたプランジャ21により所定の圧力が加圧されるようになっている。また、ニードルバルブ16に設けられたノズル17はノズルヒータ23で加熱されるようになっている。   A predetermined pressure is applied to the underfill agent 4 supplied to the liquid storage unit 10 by a plunger 21 provided in the liquid storage unit 10. The nozzle 17 provided in the needle valve 16 is heated by a nozzle heater 23.

次に、本発明のディスペンス装置1を用いて基板3にアンダーフィル剤4を充填するディスペンス方法について説明する。図3はアンダーフィル剤4を充填するフロチャートである。   Next, a dispensing method for filling the substrate 3 with the underfill agent 4 using the dispensing apparatus 1 of the present invention will be described. FIG. 3 is a flowchart for filling the underfill agent 4.

まず、真空チャンバ2の内部に備えられている液貯留部10にアンダーフィル剤4を供給する。また、チップ部品8が実装された基板3を可動壁7を開閉して真空チャンバ2の基板保持ステージ5に吸着保持させる(ステップSP01)。   First, the underfill agent 4 is supplied to the liquid storage unit 10 provided inside the vacuum chamber 2. Further, the substrate 3 on which the chip component 8 is mounted is sucked and held on the substrate holding stage 5 of the vacuum chamber 2 by opening and closing the movable wall 7 (step SP01).

次に、可動壁7を閉じて真空チャンバ2を大気圧から50Paの圧力になるように減圧する。基板保持ステージ5に埋め込まれているヒータ6をONし基板3を約60度から100度に加熱する。ディスペンス装置1のノズルヒータ23をONしノズル17の温度を約60度から100度に加熱する(ステップSP02)。   Next, the movable wall 7 is closed and the vacuum chamber 2 is depressurized so that the pressure is from atmospheric pressure to 50 Pa. The heater 6 embedded in the substrate holding stage 5 is turned on to heat the substrate 3 from about 60 degrees to 100 degrees. The nozzle heater 23 of the dispensing apparatus 1 is turned on to heat the nozzle 17 from about 60 degrees to 100 degrees (step SP02).

次に、基板保持ステージ5をXY方向に動作させディスペンス装置1のノズル17の下側に所定のアンダーフィル剤4の充填位置がくるように制御した後、ディスペンス装置1をZ方向下側に動作させる。ディスペンス装置1のシリンダ13の筒室25の流体の吸入および排出を行うことによりノズル17からアンダーフィル剤4を高速で精密な量だけ吐出し、基板3の所定位置に充填する(ステップSP03)。   Next, the substrate holding stage 5 is moved in the X and Y directions to control the filling position of the predetermined underfill agent 4 below the nozzle 17 of the dispensing apparatus 1, and then the dispensing apparatus 1 is moved downward in the Z direction. Let By sucking and discharging the fluid in the cylinder chamber 25 of the cylinder 13 of the dispensing apparatus 1, the underfill agent 4 is discharged from the nozzle 17 by a precise amount at a high speed, and filled in a predetermined position on the substrate 3 (step SP03).

次に、基板3の所定位置にアンダーフィル剤4の充填が完了すると、アンダーフィル剤4の硬化が完了するまで真空チャンバ2を減圧状態に保つ。硬化が完了すると、真空チャンバ2を大気開放し、可動壁7を開けて基板3を取り出す。基板3に充填されたアンダーフィル剤4は気泡の破裂なく良好にチップ部品と基板3の間隙に充填されるようになる(ステップSP04)。   Next, when the filling of the underfill agent 4 at a predetermined position of the substrate 3 is completed, the vacuum chamber 2 is kept in a reduced pressure state until the curing of the underfill agent 4 is completed. When the curing is completed, the vacuum chamber 2 is opened to the atmosphere, the movable wall 7 is opened, and the substrate 3 is taken out. The underfill agent 4 filled in the substrate 3 is satisfactorily filled in the gap between the chip component and the substrate 3 without rupture of bubbles (step SP04).

なお、本実施の形態において塗布液としてアンダーフィル剤4を用いた例を説明したが、塗布液が銀ナノペーストで基板3に配線パターンなどを描画する場合などにも本発明を適用できる。   Although an example in which the underfill agent 4 is used as the coating liquid has been described in the present embodiment, the present invention can also be applied to the case where the coating liquid is drawn with a silver nanopaste on the substrate 3.

また、液貯留部10は真空チャンバ2の外部に備えられていても良い。さらに、シリンダ13の筒室19をピストン14の下側に配置し、筒室25を上側に配置する形態であっても良い。   Further, the liquid storage unit 10 may be provided outside the vacuum chamber 2. Further, the cylinder chamber 19 of the cylinder 13 may be disposed below the piston 14 and the cylinder chamber 25 may be disposed above.

また、筒室25に供給される流体が液体であっても良い。液体の場合(例えば油)、加圧ポンプ29及び切替弁28は液体を対象とした油圧機器を用いる。   The fluid supplied to the cylinder chamber 25 may be a liquid. In the case of liquid (for example, oil), the pressurizing pump 29 and the switching valve 28 use hydraulic equipment for the liquid.

1 ディスペンス装置
2 真空チャンバ
3 基板
4 アンダーフィル剤
5 基板保持ステージ
6 ヒータ
7 可動壁
8 チップ部品
12 流路配管
13 シリンダ
14 ピストン
15 ニードル
16 ニードルバルブ
17 ノズル
18 シール材
19 筒室
20 バネ
21 プランジャ
23 ノズルヒータ
25 筒室
26 換気配管
27 加圧配管
28 切替弁
29 加圧ポンプ
30 孔
31 換気口
32 孔
33 排出口
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Dispensing apparatus 2 Vacuum chamber 3 Substrate 4 Underfill agent 5 Substrate holding stage 6 Heater 7 Movable wall 8 Chip component 12 Channel piping 13 Cylinder 14 Piston 15 Needle 16 Needle valve 17 Nozzle 18 Sealing material 19 Cylinder chamber 20 Spring 21 Plunger 23 Nozzle heater 25 Cylinder chamber 26 Ventilation piping 27 Pressurization piping 28 Switching valve 29 Pressurization pump 30 Hole 31 Ventilation port 32 Hole 33 Discharge port

Claims (1)

真空チャンバーで形成した真空雰囲気に備えられたディスペンス装置であって、
シリンダと、シリンダ内を移動するピストンと、ピストンに連結されるニードルを備え
記ニードルが塗布液を蓄えたニードルバルブの中を移動することにより塗布液をニード
ルバルブの先端に設けられた吐出孔より吐出する構成であって、
前記シリンダの内部を前記ピストンで仕切ることにより形成される筒室の一方が大気開放
される換気口に接続され、他方の筒室が前記ピストンを駆動する流体圧力源に切替弁を介
して接続されていることを特徴とするディスペンス装置。
A dispensing device provided in a vacuum atmosphere formed in a vacuum chamber,
A cylinder, a piston moving in the cylinder, and a needle coupled to the piston ;
A configuration in which pre-Symbol needle is discharged from the discharge hole provided a coating solution to the tip of the needle valve by moving through the needle valve accumulated a coating solution,
One of the cylindrical chambers formed by partitioning the inside of the cylinder with the piston is connected to a vent opening that is open to the atmosphere, and the other cylindrical chamber is connected to a fluid pressure source that drives the piston via a switching valve. Dispensing device characterized by that.
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