JP5132049B2 - 誘電体粉末の製造方法 - Google Patents
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- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 35
- 239000000843 powder Substances 0.000 title claims description 22
- 239000007789 gas Substances 0.000 claims description 79
- 239000002245 particle Substances 0.000 claims description 74
- 239000002994 raw material Substances 0.000 claims description 49
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 claims description 43
- 239000010419 fine particle Substances 0.000 claims description 16
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 15
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 claims description 15
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 claims description 15
- 238000001816 cooling Methods 0.000 claims description 13
- 229910052797 bismuth Inorganic materials 0.000 claims description 9
- 229930195733 hydrocarbon Natural products 0.000 claims description 9
- 150000002430 hydrocarbons Chemical class 0.000 claims description 9
- 239000004215 Carbon black (E152) Substances 0.000 claims description 4
- JCXGWMGPZLAOME-UHFFFAOYSA-N bismuth atom Chemical compound [Bi] JCXGWMGPZLAOME-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 claims description 4
- 150000002736 metal compounds Chemical class 0.000 claims description 3
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 claims description 3
- 239000011734 sodium Substances 0.000 description 27
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 25
- 238000000034 method Methods 0.000 description 25
- 239000012495 reaction gas Substances 0.000 description 22
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 20
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 20
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 17
- 239000000463 material Substances 0.000 description 16
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 8
- MYMOFIZGZYHOMD-UHFFFAOYSA-N Dioxygen Chemical compound O=O MYMOFIZGZYHOMD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 229910001882 dioxygen Inorganic materials 0.000 description 6
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 6
- 239000007791 liquid phase Substances 0.000 description 6
- 239000010955 niobium Substances 0.000 description 6
- 239000011575 calcium Substances 0.000 description 5
- 229910052500 inorganic mineral Inorganic materials 0.000 description 5
- 239000011707 mineral Substances 0.000 description 5
- BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N propan-1-ol Chemical compound CCCO BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 description 5
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 5
- 238000002441 X-ray diffraction Methods 0.000 description 4
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000003989 dielectric material Substances 0.000 description 4
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 4
- 238000001027 hydrothermal synthesis Methods 0.000 description 4
- 229910052758 niobium Inorganic materials 0.000 description 4
- 238000010532 solid phase synthesis reaction Methods 0.000 description 4
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 4
- 238000005118 spray pyrolysis Methods 0.000 description 4
- 229910052712 strontium Inorganic materials 0.000 description 4
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 4
- KTXWGMUMDPYXNN-UHFFFAOYSA-N 2-ethylhexan-1-olate;titanium(4+) Chemical compound [Ti+4].CCCCC(CC)C[O-].CCCCC(CC)C[O-].CCCCC(CC)C[O-].CCCCC(CC)C[O-] KTXWGMUMDPYXNN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- LAIUFBWHERIJIH-UHFFFAOYSA-N 3-Methylheptane Chemical compound CCCCC(C)CC LAIUFBWHERIJIH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N Acetic acid Chemical compound CC(O)=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N Benzene Chemical compound C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N N-Butanol Chemical compound CCCCO LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910052788 barium Inorganic materials 0.000 description 3
- NUMHJBONQMZPBW-UHFFFAOYSA-K bis(2-ethylhexanoyloxy)bismuthanyl 2-ethylhexanoate Chemical compound [Bi+3].CCCCC(CC)C([O-])=O.CCCCC(CC)C([O-])=O.CCCCC(CC)C([O-])=O NUMHJBONQMZPBW-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 3
- 229910052791 calcium Inorganic materials 0.000 description 3
- 238000004581 coalescence Methods 0.000 description 3
- 238000002485 combustion reaction Methods 0.000 description 3
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 3
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 3
- 229910052746 lanthanum Inorganic materials 0.000 description 3
- 229910052744 lithium Inorganic materials 0.000 description 3
- 230000015654 memory Effects 0.000 description 3
- 229910052700 potassium Inorganic materials 0.000 description 3
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 3
- 238000003746 solid phase reaction Methods 0.000 description 3
- 229910052726 zirconium Inorganic materials 0.000 description 3
- PPNFILUQDVDXDA-UHFFFAOYSA-K 2-ethylhexanoate;lanthanum(3+) Chemical compound [La+3].CCCCC(CC)C([O-])=O.CCCCC(CC)C([O-])=O.CCCCC(CC)C([O-])=O PPNFILUQDVDXDA-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 2
- GXDHCNNESPLIKD-UHFFFAOYSA-N 2-methylhexane Natural products CCCCC(C)C GXDHCNNESPLIKD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- AMQJEAYHLZJPGS-UHFFFAOYSA-N N-Pentanol Chemical compound CCCCCO AMQJEAYHLZJPGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052779 Neodymium Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000003917 TEM image Methods 0.000 description 2
- 150000004696 coordination complex Chemical class 0.000 description 2
- 238000010790 dilution Methods 0.000 description 2
- 239000012895 dilution Substances 0.000 description 2
- 229910001873 dinitrogen Inorganic materials 0.000 description 2
- ZXEKIIBDNHEJCQ-UHFFFAOYSA-N isobutanol Chemical compound CC(C)CO ZXEKIIBDNHEJCQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 2
- 239000011859 microparticle Substances 0.000 description 2
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 2
- 150000002902 organometallic compounds Chemical class 0.000 description 2
- -1 polydimethylsiloxane Polymers 0.000 description 2
- 230000008569 process Effects 0.000 description 2
- 238000011084 recovery Methods 0.000 description 2
- VYPDUQYOLCLEGS-UHFFFAOYSA-M sodium;2-ethylhexanoate Chemical compound [Na+].CCCCC(CC)C([O-])=O VYPDUQYOLCLEGS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 238000003980 solgel method Methods 0.000 description 2
- 229910052715 tantalum Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000005979 thermal decomposition reaction Methods 0.000 description 2
- VXUYXOFXAQZZMF-UHFFFAOYSA-N titanium(IV) isopropoxide Chemical compound CC(C)O[Ti](OC(C)C)(OC(C)C)OC(C)C VXUYXOFXAQZZMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NQPDZGIKBAWPEJ-UHFFFAOYSA-N valeric acid Chemical compound CCCCC(O)=O NQPDZGIKBAWPEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052720 vanadium Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000012808 vapor phase Substances 0.000 description 2
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OBETXYAYXDNJHR-UHFFFAOYSA-N 2-Ethylhexanoic acid Chemical compound CCCCC(CC)C(O)=O OBETXYAYXDNJHR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QBKTXRLYEHZACW-UHFFFAOYSA-K 2-ethylhexanoate;neodymium(3+) Chemical compound [Nd+3].CCCCC(CC)C([O-])=O.CCCCC(CC)C([O-])=O.CCCCC(CC)C([O-])=O QBKTXRLYEHZACW-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- CYWDDBNPXTUVNN-UHFFFAOYSA-I 2-ethylhexanoate;niobium(5+) Chemical compound [Nb+5].CCCCC(CC)C([O-])=O.CCCCC(CC)C([O-])=O.CCCCC(CC)C([O-])=O.CCCCC(CC)C([O-])=O.CCCCC(CC)C([O-])=O CYWDDBNPXTUVNN-UHFFFAOYSA-I 0.000 description 1
- OFYFURKXMHQOGG-UHFFFAOYSA-J 2-ethylhexanoate;zirconium(4+) Chemical compound [Zr+4].CCCCC(CC)C([O-])=O.CCCCC(CC)C([O-])=O.CCCCC(CC)C([O-])=O.CCCCC(CC)C([O-])=O OFYFURKXMHQOGG-UHFFFAOYSA-J 0.000 description 1
- IXJSGXFMQSIPCS-UHFFFAOYSA-N 2-ethylhexanoic acid;scandium Chemical compound [Sc].CCCCC(CC)C(O)=O IXJSGXFMQSIPCS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XWQWHRORQLRBLN-UHFFFAOYSA-N 2-ethylhexanoic acid;tantalum Chemical compound [Ta].CCCCC(CC)C(O)=O XWQWHRORQLRBLN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-O Ammonium Chemical compound [NH4+] QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-O 0.000 description 1
- 229910015902 Bi 2 O 3 Inorganic materials 0.000 description 1
- KOGCEWMHMCXBMD-UHFFFAOYSA-N CCCO[Ti]OCCC Chemical compound CCCO[Ti]OCCC KOGCEWMHMCXBMD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WWZKQHOCKIZLMA-UHFFFAOYSA-N Caprylic acid Natural products CCCCCCCC(O)=O WWZKQHOCKIZLMA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N Cyclohexane Chemical compound C1CCCCC1 XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910017771 LaFeO Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910013641 LiNbO 3 Inorganic materials 0.000 description 1
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910020684 PbZr Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910002367 SrTiO Inorganic materials 0.000 description 1
- 241000779819 Syncarpia glomulifera Species 0.000 description 1
- XSWAJEGOBDLNHN-UHFFFAOYSA-I [V+5].CCCCC(CC)C([O-])=O.CCCCC(CC)C([O-])=O.CCCCC(CC)C([O-])=O.CCCCC(CC)C([O-])=O.CCCCC(CC)C([O-])=O Chemical compound [V+5].CCCCC(CC)C([O-])=O.CCCCC(CC)C([O-])=O.CCCCC(CC)C([O-])=O.CCCCC(CC)C([O-])=O.CCCCC(CC)C([O-])=O XSWAJEGOBDLNHN-UHFFFAOYSA-I 0.000 description 1
- 230000001133 acceleration Effects 0.000 description 1
- 230000009471 action Effects 0.000 description 1
- 238000004220 aggregation Methods 0.000 description 1
- 230000002776 aggregation Effects 0.000 description 1
- 150000004703 alkoxides Chemical class 0.000 description 1
- 229910052787 antimony Inorganic materials 0.000 description 1
- VJFFDDQGMMQGTQ-UHFFFAOYSA-L barium(2+);2-ethylhexanoate Chemical compound [Ba+2].CCCCC(CC)C([O-])=O.CCCCC(CC)C([O-])=O VJFFDDQGMMQGTQ-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- GONOPSZTUGRENK-UHFFFAOYSA-N benzyl(trichloro)silane Chemical compound Cl[Si](Cl)(Cl)CC1=CC=CC=C1 GONOPSZTUGRENK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MCHIUNWYDRZDHI-UHFFFAOYSA-K bis(2-ethylhexanoyloxy)stibanyl 2-ethylhexanoate Chemical compound [Sb+3].CCCCC(CC)C([O-])=O.CCCCC(CC)C([O-])=O.CCCCC(CC)C([O-])=O MCHIUNWYDRZDHI-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- FPCJKVGGYOAWIZ-UHFFFAOYSA-N butan-1-ol;titanium Chemical compound [Ti].CCCCO.CCCCO.CCCCO.CCCCO FPCJKVGGYOAWIZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LTPCXXMGKDQPAO-UHFFFAOYSA-L calcium;2-ethylhexanoate Chemical compound [Ca+2].CCCCC(CC)C([O-])=O.CCCCC(CC)C([O-])=O LTPCXXMGKDQPAO-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- SHZIWNPUGXLXDT-UHFFFAOYSA-N caproic acid ethyl ester Natural products CCCCCC(=O)OCC SHZIWNPUGXLXDT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000000975 co-precipitation Methods 0.000 description 1
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 1
- 238000006482 condensation reaction Methods 0.000 description 1
- 239000000112 cooling gas Substances 0.000 description 1
- 239000007771 core particle Substances 0.000 description 1
- 238000002425 crystallisation Methods 0.000 description 1
- 239000004205 dimethyl polysiloxane Substances 0.000 description 1
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 description 1
- 238000000635 electron micrograph Methods 0.000 description 1
- 239000012717 electrostatic precipitator Substances 0.000 description 1
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 1
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 description 1
- CMTDWDRSVXZCDI-UHFFFAOYSA-K gallium;2-ethylhexanoate Chemical compound [Ga+3].CCCCC(CC)C([O-])=O.CCCCC(CC)C([O-])=O.CCCCC(CC)C([O-])=O CMTDWDRSVXZCDI-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- 238000010574 gas phase reaction Methods 0.000 description 1
- 239000001307 helium Substances 0.000 description 1
- 229910052734 helium Inorganic materials 0.000 description 1
- SWQJXJOGLNCZEY-UHFFFAOYSA-N helium atom Chemical compound [He] SWQJXJOGLNCZEY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N hexane Substances CCCCCC VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000002347 injection Methods 0.000 description 1
- 239000007924 injection Substances 0.000 description 1
- 238000010884 ion-beam technique Methods 0.000 description 1
- 229910000462 iron(III) oxide hydroxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 229940035429 isobutyl alcohol Drugs 0.000 description 1
- 239000003350 kerosene Substances 0.000 description 1
- 238000000608 laser ablation Methods 0.000 description 1
- 229910052745 lead Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011344 liquid material Substances 0.000 description 1
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 description 1
- 238000002488 metal-organic chemical vapour deposition Methods 0.000 description 1
- 239000004570 mortar (masonry) Substances 0.000 description 1
- FUZZWVXGSFPDMH-UHFFFAOYSA-N n-hexanoic acid Natural products CCCCCC(O)=O FUZZWVXGSFPDMH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZTILUDNICMILKJ-UHFFFAOYSA-N niobium(v) ethoxide Chemical compound CCO[Nb](OCC)(OCC)(OCC)OCC ZTILUDNICMILKJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000004767 nitrides Chemical class 0.000 description 1
- 238000005121 nitriding Methods 0.000 description 1
- HMMGMWAXVFQUOA-UHFFFAOYSA-N octamethylcyclotetrasiloxane Chemical compound C[Si]1(C)O[Si](C)(C)O[Si](C)(C)O[Si](C)(C)O1 HMMGMWAXVFQUOA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 1
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 1
- 239000003208 petroleum Substances 0.000 description 1
- 239000012071 phase Substances 0.000 description 1
- 239000001739 pinus spp. Substances 0.000 description 1
- 229920000435 poly(dimethylsiloxane) Polymers 0.000 description 1
- ZUFQCVZBBNZMKD-UHFFFAOYSA-M potassium 2-ethylhexanoate Chemical compound [K+].CCCCC(CC)C([O-])=O ZUFQCVZBBNZMKD-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 230000002035 prolonged effect Effects 0.000 description 1
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 1
- 235000015096 spirit Nutrition 0.000 description 1
- 239000007921 spray Substances 0.000 description 1
- 238000003892 spreading Methods 0.000 description 1
- 230000007480 spreading Effects 0.000 description 1
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 1
- DLWBHRIWCMOQKI-UHFFFAOYSA-L strontium;2-ethylhexanoate Chemical compound [Sr+2].CCCCC(CC)C([O-])=O.CCCCC(CC)C([O-])=O DLWBHRIWCMOQKI-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 1
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 1
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 description 1
- 229940036248 turpentine Drugs 0.000 description 1
- 229940005605 valeric acid Drugs 0.000 description 1
- 239000006200 vaporizer Substances 0.000 description 1
- 239000008096 xylene Substances 0.000 description 1
Landscapes
- Inorganic Compounds Of Heavy Metals (AREA)
- Ceramic Capacitors (AREA)
Description
液相法は、共沈法、晶析法、ゾルゲル法などの液相反応を利用して誘電体粒子を生成するものであり、噴霧熱分解法は、原料溶液を噴霧して液滴化したのち、バーナの燃焼等によって加熱し溶媒の蒸発及び熱分解により誘電体粒子を生成するものであり、水熱合成法は、高温高圧下での合成反応を利用するものである。
また、気相法は気相反応を利用して誘電体粒子を生成するものであり、例えば液体原料から加熱により蒸発気化させた誘電体原料の蒸気成分を電気炉等の反応器内に導いて熱分解させて、強誘電体粒子を生成する方法がある(特許文献3参照)。
一方、気相法では、微細な構造の誘電体粒子を作製することは可能であるが、原料を気化器や反応器等の各部に導く必要があるため、粒子作製工程が複雑化する不利がある。
さらに、上記誘電体の金属成分を含有する原料気体流を酸素含有ガス流で覆った状態で高温雰囲気の反応空間に流入させるという簡素な構成であり、多くの工程(プロセス)を経ることなく、誘電体の金属成分からなる小粒子径の誘電体粒子を容易に作製することができる。
従って、炭化水素を含む原料気体流を酸素含有ガス流によって燃焼させることにより発生した熱を利用して原料気体流の熱反応を効率良く行わせることができるとともに、誘電体を構成する金属成分をナノメーターレベルの微細な構造で含む誘電体粒子を簡素な構成により製造することができる誘電体粉末の製造方法が提供される。
本製造方法であれば、ナノメーターレベルの微細な構造で含む圧電体粒子を簡素な構成により製造することができる圧電体粉末の製造方法が提供される。
従って、当該強誘電体粒子を原料として、圧電体や不揮発性記憶材料などに用いる強誘電体材料を作製することができる。
化学反応が一定圧力下で行われることで、酸素含有ガス流を安定させることができ、生成される誘電体粒子の大きさ(粒度)を安定させることができる。
図1に本発明の誘電体粉末の製造に用いる粒子製造システムの主要部の構成を示す。粒子製造システムは、微粒子製造装置としての反応器10と、反応器10で生成した微粒子を冷却して回収する回収器20等で構成される。尚、図示しないが、反応器10から出た微粒子は冷却塔を通過して冷却された後、回収器20に備えたバグフィルタ、サイクロン、電気集塵機、スクラバなどの回収機器によって回収される。
(1)誘電体粒子は原料気体流ETの外周部(具体的には、原料気体流ETに接する反応気体流GRの界面付近)に発生する反応領域(燃焼部ゾーン)HRで生成される。
(2)反応領域HR内の生成粒子は反応気体流GRの移動速度と同等の速度で移動する。
(3)ノズルユニット3からの反応気体の噴射量を少なくして反応気体流GRの移動速度を下げると、反応空間HKからの熱伝播による高温エリアが広がって反応領域HRがノズルユニット3側に近づく(図3(ハ)の状態)。その結果、生成粒子が反応領域HR内に留まる滞留時間(高温雰囲気に保持される時間)が長くなって高温下での熱反応の進行が速くなり、また反応気体流GRの速度低下により冷却作用も弱くなるため、生成粒子同士の合体等が促進されて粒子径が大きくなる。
(4)逆に、ノズルユニット3からの反応気体の噴射量を多くして反応気体流GRの移動速度を上げると、反応空間HKからの熱伝播による高温エリアの広がりが抑制されて反応領域HRがノズル3側から遠くなる(図3(ロ)の状態)。その結果、生成粒子が反応領域HR内に留まる滞留時間(高温雰囲気に保持される時間)が短くなって高温下での熱反応がそれ程進行せず、また反応気体流GRの速度増大により冷却作用も強くなるため、粒子同士の合体等が抑制されて粒子径が小さくなる。
すなわち、気液比が大きい場合は、反応気体流GRの流量が増加し且つ気体層の厚さが厚くなり、生成粒子の熱を吸収する周囲の気体量が増加する。これによって、生成粒子に対する冷却効果が高まって前記反応領域HRが短くなり、生成粒子の反応領域HR内での滞留時間が短くなる場合に対応するので、製造される誘電体粒子の径が小さくなる。
一方、気液比が小さい場合は、反応気体流GRの流量が減少し且つ気体層の厚さが薄くなり、生成粒子の熱を吸収する周囲の気体量が減少する。これによって、生成粒子に対する冷却効果が低下して前記反応領域HRが長くなり、生成粒子の反応領域HR内での滞留時間が長くなる場合に対応するので、製造される誘電体粒子の径が大きくなる。
Bi0.5Na0.5TiO3−DTiO3(但し、D=(Bi0.5K0.5),Sr,Ba,Ca,(Ba,Sr),(Sr,Ca)から選択される)、Bi0.5Na0.5TiO3−MNbO3(但し、M=K,Naから選択される)、Bi0.5Na0.5TiO3−DTiO3−MNbO3(但し、D,Mは上記()内と同じ)、
Bi0.5Na0.5TiO3−(1/2)Bi2O3・Sc2O3−KNbO3、
Bi0.5Na0.5TiO3−BaTiO3−BiFeO3、
Bi0.5Na0.5TiO3−BaTiO3−SrTiO3、
Bi0.5Na0.5TiO3−BiFeO3、
Bi0.5Na0.5TiO3−LaFeO3、
Bi0.5Na0.5TiO3−NaSbO3、
Bi0.5K0.5TiO3−BaTiO3、
Bi0.5K0.5TiO3−BiFeO3、
Bi0.5K0.5TiO3−Bi0.5Na0.5TiO3−BiFeO3、
Bi0.5K0.5TiO3−BaTiO3−BiFeO3、
誘電体を構成する各金属の有機金属化合物(金属錯体など)を溶剤に希釈した状態で原料液として使用する。以下、有機金属化合物名を例示する。
Li: ナフテン酸リチウム
Ba : 2−エチルヘキサン酸バリウム
Ca : 2−エチルヘキサン酸カルシウム
Si: オクタメチルシクロテトラシロキサン、又は、ポリジメチルシロキサン
Sr: 2−エチルヘキサン酸ストロンチウム
V : ナフテン酸バナジウム、又は、2−エチルヘキサン酸バナジウム
Zr: 2−エチルヘキサン酸ジルコニウム
W : メタタングステン酸アンモニウム
Nd: 2−エチルヘキサン酸ネオジム
Sb: 2−エチルヘキサン酸アンチモン
Bi: 2−エチルヘキサン酸ビスマス
Fe: 2−エチルヘキサン酸第2鉄
Ga: 2−エチルヘキサン酸ガリウム
K : 2−エチルヘキサン酸カリウム
La: 2−エチルヘキサン酸ランタン
Na: 2−エチルヘキサン酸ナトリウム
Nb: 2-エチルヘキサン酸ニオブ、ニオブブトキシド、ニオブエトキシド
Sc: 2−エチルヘキサン酸スカンジウム
Ta: 2−エチルヘキサン酸タンタル
Ti: テトラ(2−エチルヘキシル)チタネート、テトライソプロピルチタネート、
ジ−i−プロポキシチタン、テトラ−n−ブトキシチタン
Pb: 2−エチルヘキサン酸鉛
1)ミネラルスピリット、2)ミネラルシンナー、3)ペトロリウムスピリット、4)ホワイトスピリット、5)ミネラルターペン、6)灯油(ケロシン)、7)n−ヘキサン、8)ヘキサン酸、9)2−エチルヘキサン酸、10)シクロヘキサン、11)イソヘプタン、12)エタノール、13)メタノール、14)1−プロパノール、15)酢酸、16)1−ペンタノール、17)吉草酸、18)トルエン、19)イソプロピルアルコール、20)n−プロピルアルコール、21)イソブチルアルコール、22)n−ブチルアルコール、23)ベンゼン、24)キシレン
なお、本発明に係る誘電体微粒子の原料に用いる希釈溶剤は、上記列挙したものに限らず、これ以外のものを含む。
上記実施形態では、反応気体流GRを形成する気体として酸素ガスを用いて、熱反応として化学反応(酸化反応)を起こさせて、燃焼により熱を発生させるとともに金属酸化物からなる誘電体粒子を生成したが、酸素ガスの代わりに窒素ガスを用いて窒化反応を起こさせて窒化物からなる誘電体粒子を生成することも可能である。また、熱反応として、化学反応以外の反応を用いてもよい。
(圧電体材料の具体的な用途例)加速度センサ、超音波センサ、圧電トランス、圧電アクチュエータ、超音波モータ、圧電フォン、レゾネータ、高周波フィルタ、発振子、振動ピックアップ
2 プラズマ発生装置
3 ノズルユニット
4 液体ノズル
4a 供給管
5 気体ノズル
5a 供給管
7 供給管
10 反応器(微粒子製造装置)
20 回収器
ET 原料気体流(液滴流)
GR 反応気体流
HK 反応空間
HR 反応領域
Claims (5)
- 誘電体を構成する金属の化合物と、炭化水素とを含有した有機溶媒の原料気体流と、当該原料気体流を覆う酸素含有ガス流とを高温雰囲気の反応空間に流入させ、前記原料気体流中の炭化水素を前記酸素含有ガス流で燃焼させて発生した熱により前記原料気体流の外周部で熱反応によって前記金属の酸化物微粒子を形成するとともに、当該酸化物微粒子を前記酸素含有ガス流で冷却して誘電体粒子を作製する誘電体粉末の製造方法。
- 前記誘電体が圧電体である請求項1に記載の誘電体粉末の製造方法。
- 前記誘電体が強誘電体である請求項1または請求項2に記載の誘電体粉末の製造方法。
- 前記誘電体がビスマス系酸化物である請求項1から請求項3のいずれか1項に記載の誘電体粉末の製造方法。
- 前記化学反応が一定圧力下で行われる請求項1から請求項4のいずれか1項に記載の誘電体粉末の製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2005278434A JP5132049B2 (ja) | 2005-09-26 | 2005-09-26 | 誘電体粉末の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2005278434A JP5132049B2 (ja) | 2005-09-26 | 2005-09-26 | 誘電体粉末の製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2007084409A JP2007084409A (ja) | 2007-04-05 |
JP5132049B2 true JP5132049B2 (ja) | 2013-01-30 |
Family
ID=37971789
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2005278434A Expired - Fee Related JP5132049B2 (ja) | 2005-09-26 | 2005-09-26 | 誘電体粉末の製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5132049B2 (ja) |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2008208195A (ja) * | 2007-02-26 | 2008-09-11 | Hosokawa Funtai Gijutsu Kenkyusho:Kk | 真空紫外線励起発光素子用蛍光体 |
JP5926920B2 (ja) * | 2011-10-19 | 2016-05-25 | 一般財団法人ファインセラミックスセンター | 粒子捕集装置及び噴霧熱分解装置 |
Family Cites Families (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0640726A (ja) * | 1991-02-25 | 1994-02-15 | Sumitomo Sitix Corp | 金属酸化物微粉末の製造方法 |
JPH0597510A (ja) * | 1991-10-02 | 1993-04-20 | Murata Mfg Co Ltd | 誘電体磁器組成物及びその原料粉末の製造方法 |
JP4462828B2 (ja) * | 2003-01-20 | 2010-05-12 | 弌倫 木島 | チタン含有酸化物超微粒子の製造方法、及びチタン含有酸化物微粒子 |
JP4657621B2 (ja) * | 2003-06-10 | 2011-03-23 | 昭和電工株式会社 | ペロブスカイト型チタン含有複合酸化物粒子、その製造方法及び用途 |
JP4556398B2 (ja) * | 2003-09-02 | 2010-10-06 | 堺化学工業株式会社 | 組成物の製造方法 |
JP4420690B2 (ja) * | 2004-02-04 | 2010-02-24 | ホソカワミクロン株式会社 | 微粒子製造方法及び微粒子製造装置 |
JP2005255468A (ja) * | 2004-03-11 | 2005-09-22 | Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd | 常誘電性あるいは強誘電性のBi系誘電体薄膜形成用塗布液、およびBi系誘電体薄膜 |
-
2005
- 2005-09-26 JP JP2005278434A patent/JP5132049B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2007084409A (ja) | 2007-04-05 |
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