JP5126887B2 - Flow soldering mask and flow soldering method - Google Patents

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本発明は、フローはんだ付け用マスクおよびフローはんだ付け方法に関し、たとえば電子部品を自動はんだ付け装置によりはんだ付けする際に使用する、フローはんだ付け用マスクおよびフローはんだ付け方法に関する。   The present invention relates to a flow soldering mask and a flow soldering method, and more particularly to a flow soldering mask and a flow soldering method used when an electronic component is soldered by an automatic soldering apparatus.

同一面上に表面実装部品のはんだ付けを行なう部分と挿入実装部品のはんだ付けを行なう部分とが混在するプリント配線板のフローはんだ付け工程に使用するフローはんだ付け用マスクは、プリント配線板のはんだ付けをする面全体を覆う大きさを有しており、フローはんだ付けをする部分が選択的に開口している構造である。このような技術として、特許第2872715号公報(特許文献1)に開示のはんだディップマスクが挙げられる。特許文献1によるはんだディップマスクは、耐熱性材料で形成された枠体と、この枠体に形成されたフローはんだ付けすべきプリント配線板を設置する窓部と、この窓部に取り付けられてプリント配線板のはんだ付けをする面側に突出している電子部品が埋め込まれる凹部を有し、かつはんだ付けする面を覆うとともにはんだ付けをする部分を選択的に露出する開口部が形成された耐熱性材料からなる薄板とを備えている。このディップマスクは、プリント配線板におけるはんだ付けする面に密着させて、はんだ付けする面を選択的に覆うことを特徴としている。   The flow soldering mask used in the flow soldering process for printed wiring boards in which the part to be soldered for surface mounting parts and the part to be soldered for insertion mounting parts coexist on the same surface is the solder for the printed wiring board. It has a size that covers the entire surface to be soldered, and has a structure in which a portion to be flow soldered is selectively opened. As such a technique, there is a solder dip mask disclosed in Japanese Patent No. 2872715 (Patent Document 1). A solder dip mask according to Patent Document 1 is a frame body made of a heat-resistant material, a window portion on which a printed wiring board to be soldered to the flow formed on the frame body is installed, and a print attached to the window portion. Heat resistance that has a recess in which an electronic component protruding on the surface to be soldered of a wiring board is embedded, and that has an opening that covers the surface to be soldered and selectively exposes the portion to be soldered And a thin plate made of material. This dip mask is characterized in that it is in close contact with the surface to be soldered in the printed wiring board and selectively covers the surface to be soldered.

上記特許文献1によると、プリント配線板のフローはんだ付けする面の不要箇所を覆い、はんだ付けする部分を開口部から選択的に露出させている。このため、開口部の電子部品をフローはんだ付けすることができることが開示されている。
特許第2872715号公報
According to Patent Document 1, an unnecessary portion of the surface to be soldered on the printed wiring board is covered, and a portion to be soldered is selectively exposed from the opening. For this reason, it is disclosed that the electronic component in the opening can be flow soldered.
Japanese Patent No. 2872715

しかしながら、上記特許文献1のディップマスクを用いた方法では、開口部はプリント配線板におけるはんだ付けをする部分よりも大きいため、はんだ付けをする部分以外にもフラックスが塗布されてはんだ付けが行なわれる。このため、過剰なフラックスや多量に発生するその残渣、ドロスと呼ばれるはんだ滓などの不純物が溶融はんだの液面に浮遊して、溶融はんだとともにディップマスクの開口部へ流れ込み、プリント配線板に付着してしまう。このような不純物がプリント配線板のはんだ付け部に付着すると、表面実装部品と挿入実装部品とのはんだ付けする部分以外に不純物が付着することにより、電子部品間、電子部品とリード間などで短絡が発生するという問題があった。また、不純物がプリント配線板に付着すると、プリント配線板の外観が不良になるという問題があった。   However, in the method using the dip mask of Patent Document 1, since the opening is larger than the part to be soldered in the printed wiring board, the flux is applied to the part other than the part to be soldered and soldering is performed. . For this reason, impurities such as excessive flux, a large amount of residue, solder dross called dross float on the liquid surface of the molten solder, and flow into the opening of the dip mask together with the molten solder and adhere to the printed circuit board. End up. When such impurities adhere to the soldered part of the printed wiring board, the impurities adhere to areas other than the part to be soldered between the surface mounting component and the insertion mounting component, thereby causing a short circuit between the electronic components and between the electronic components and the leads. There was a problem that occurred. Further, when impurities adhere to the printed wiring board, there is a problem that the appearance of the printed wiring board becomes poor.

本発明の目的は、不純物が付着することによる短絡を抑制し、かつ外観不良を抑制するフローはんだ付け用マスクおよびフローはんだ付け方法を提供することである。   An object of the present invention is to provide a flow soldering mask and a flow soldering method that suppress short-circuiting due to adhesion of impurities and suppress appearance defects.

本発明のフローはんだ付け用マスクは、基板表面にフローはんだ付けをするためのフローはんだ付け用マスクであって、本体部と、不純物捕捉部とを備えている。本体部は、第1および第2の面を有し、第1の面と基板とを対向させて基板を被覆し、かつ基板においてはんだ付けする部分を露出するために第1の面から第2の面を貫通する開口部が形成されている。不純物捕捉部は、第2の面における開口部に近設された凹部および凸部の少なくともいずれかを含んでいる。凹部は、凹部の一部であって、かつ開口部に近設する側に第2の面となす角が鋭角または直角である壁面を有している。凸部は、凸部の一部であって、かつ開口部に近設する側と反対側に第2の面とのなす角が鋭角である壁面を有している。   The flow soldering mask of the present invention is a flow soldering mask for performing flow soldering on a substrate surface, and includes a main body portion and an impurity trapping portion. The main body portion has first and second surfaces, covers the substrate with the first surface and the substrate facing each other, and exposes a portion to be soldered on the substrate from the first surface to the second surface. An opening penetrating the surface is formed. The impurity trapping part includes at least one of a concave part and a convex part provided close to the opening part on the second surface. The recess has a wall surface which is a part of the recess and has an acute angle or a right angle with the second surface on the side close to the opening. The convex part is a part of the convex part, and has a wall surface with an acute angle formed with the second surface on the side opposite to the side close to the opening.

本発明のフローはんだ付け用マスクによれば、はんだ付けする部分を露出して、はんだ付けする部分以外の部分を覆った状態でフローはんだ付けに用いることができる。過剰なフラックス、フラックス残渣、はんだ滓などの不純物は、溶融はんだよりも比重が軽いので、不純物が溶融はんだの液に浮遊する。開口部に対して、基板の搬送方向の上流に不純物捕捉部が位置するようにフローはんだ付け用マスクを搬送させると、凹部の側壁および凸部の側壁に不純物が捕らえられる。このため、不純物捕捉部から開口部に不純物が流れ込むことを抑制できるので、含まれる不純物を抑制したはんだを用いて、開口部から露出している基板のはんだ付けする部分をはんだ付けすることができる。したがって、不純物が基板に付着することを抑制できるので、基板に不純物が付着することによる短絡を抑制できるとともに、基板が外観不良となることを抑制することができる。   The flow soldering mask of the present invention can be used for flow soldering in a state in which a portion to be soldered is exposed and a portion other than the portion to be soldered is covered. Impurities such as excess flux, flux residue, and soldering iron have a lighter specific gravity than molten solder, so that the impurities float in the molten solder liquid. When the flow soldering mask is transported so that the impurity trapping portion is located upstream of the opening in the transport direction of the substrate, impurities are trapped on the side walls of the recesses and the side walls of the protrusions. For this reason, since it can suppress that an impurity flows into an opening part from an impurity capture part, the part to be soldered of the board | substrate exposed from the opening part can be soldered using the solder which suppressed the contained impurity. . Therefore, since it can suppress that an impurity adheres to a board | substrate, while being able to suppress the short circuit by an impurity adhering to a board | substrate, it can suppress that a board | substrate becomes the appearance defect.

以下、本発明の実施の形態について図に基づいて説明する。
(実施の形態1)
図1は、本実施の形態におけるフローはんだ付け用マスクを示す模式図である。図1に示すように、本実施の形態におけるフローはんだ付け用マスク1aは、基板50(図6参照)表面にフローはんだ付けをするためのフローはんだ付け用マスクであり、第1および第2の面11、12を有する本体部10と、凹部30および凸部40の少なくともいずれかを含む不純物捕捉部20とを備えている。不純物捕捉部20は、第2の面12における開口部13に近設されている。
Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings.
(Embodiment 1)
FIG. 1 is a schematic diagram showing a flow soldering mask according to the present embodiment. As shown in FIG. 1, the flow soldering mask 1a in the present embodiment is a flow soldering mask for performing flow soldering on the surface of a substrate 50 (see FIG. 6). The main body part 10 having the surfaces 11 and 12 and the impurity trapping part 20 including at least one of the concave part 30 and the convex part 40 are provided. The impurity trap 20 is provided near the opening 13 in the second surface 12.

本体部10は、第1の面11と基板50とを対向させて基板50を被覆する。基板50を被覆した状態で保持するために、本体部10の端部は第1の面11が内周に位置するように折れ曲がった形状である。   The main body 10 covers the substrate 50 with the first surface 11 and the substrate 50 facing each other. In order to hold the substrate 50 in a covered state, the end portion of the main body portion 10 is bent so that the first surface 11 is located on the inner periphery.

この本体部10には、基板50においてはんだ付けする部分を露出するために第1の面11から第2の面12を貫通する開口部13が形成されている。第1の面11と第2の面12とは、互いに対向するように位置している。開口部13は、たとえば、第1の面11から第2の面12に向けて開口する領域が増加するテーパ状である。   The main body 10 is formed with an opening 13 that penetrates from the first surface 11 to the second surface 12 in order to expose a portion to be soldered in the substrate 50. The first surface 11 and the second surface 12 are positioned so as to face each other. For example, the opening 13 has a tapered shape in which a region opening from the first surface 11 toward the second surface 12 increases.

開口部13の面積は特に制限されるものでは無く、開口部13において基板50の電極パターン55のみが選択的にはんだ付けされる大きさで、基板50の表面に実装された実装部品51を覆うことに支障がなければ、大きいほどよい。   The area of the opening 13 is not particularly limited, and covers the mounting component 51 mounted on the surface of the substrate 50 so that only the electrode pattern 55 of the substrate 50 is selectively soldered in the opening 13. If there is no problem, the larger the better.

本体部10の第1の面11には、基板50の表面にすでに実装された実装部品51を覆うための開口部11aが形成されている。開口部11aは、実装部品51の厚みと略同じ深さである。   On the first surface 11 of the main body 10, an opening 11 a for covering the mounting component 51 already mounted on the surface of the substrate 50 is formed. The opening 11 a has substantially the same depth as the thickness of the mounting component 51.

本体部10を構成する材料の熱伝導率、基板50においてはんだ付けする部分(本実施の形態では実装部品52およびリード54)の耐熱温度、搬送される際に接触する溶融はんだの温度、溶融はんだとフローはんだ付け用マスクとの接触時間などにより、本体部10の材料および厚みHを適宜決めることが好ましい。フローはんだ付け用マスク1aは、フローはんだ付け時に変形しないことが好ましく、厚みHとしてたとえば6mm以下が好ましく、材料としてはたとえばABS樹脂が好ましい。なお、本体部10を構成する材料は樹脂に特に限定されず、たとえばアルミニウムやステンレスのような金属材料であってもよく、セラミックスのような無機材料であってもよい。また、本体部10の厚みHとは、開口部13が形成されている部分における第1の面11と第2の面12との距離である。厚みHの上限は、たとえば基板50に形成されている実装部品51を保護できる厚さで、かつフローはんだ付け装置でフローはんだ付け用マスク1aの搬送に支障をきたさない厚さである。   The thermal conductivity of the material constituting the main body 10, the heat resistance temperature of the parts to be soldered on the substrate 50 (in this embodiment, the mounting component 52 and the lead 54), the temperature of the molten solder that is contacted when transported, the molten solder It is preferable to appropriately determine the material and thickness H of the main body 10 depending on the contact time between the solder and the flow soldering mask. The flow soldering mask 1a is preferably not deformed during flow soldering, and the thickness H is preferably 6 mm or less, and the material is preferably ABS resin, for example. In addition, the material which comprises the main-body part 10 is not specifically limited to resin, For example, metal materials, such as aluminum and stainless steel, and inorganic materials, such as ceramics, may be sufficient. The thickness H of the main body 10 is the distance between the first surface 11 and the second surface 12 in the portion where the opening 13 is formed. The upper limit of the thickness H is, for example, a thickness that can protect the mounting component 51 formed on the substrate 50, and a thickness that does not hinder the conveyance of the flow soldering mask 1a by the flow soldering apparatus.

不純物捕捉部20は、第2の面12に形成され、かつ開口部13の周囲に配置されている。不純物捕捉部20は、凹部30および凸部40の少なくともいずれかを含んでいる。   The impurity trap 20 is formed on the second surface 12 and is disposed around the opening 13. The impurity capturing unit 20 includes at least one of the concave portion 30 and the convex portion 40.

図2は、本実施の形態における凹部を模式的に示す概略断面図である。図2に示すように、凹部30は、凹部30の一部であって、かつ開口部13に近設する側に壁面としての側壁31を有している。この側壁31は、第2の面12から第1の面11に向けて窪むように伸び、かつ開口部13に近い側に位置している。この側壁31と第2の面12とのなす角θ30は、鋭角または直角である。言い換えると、フローはんだ付け用マスク1aを用いてフローはんだ付けをする場合には、フローはんだ付け用マスク1aの搬送方向と側壁31とのなす角は、断面視において(基板の搬送方向と同じ方向における断面において)鋭角または直角である。凹部30は溝状であり、凹部30を構成する第2の面12から第1の面11へは貫通していない。   FIG. 2 is a schematic cross-sectional view schematically showing a concave portion in the present embodiment. As shown in FIG. 2, the recess 30 is a part of the recess 30 and has a side wall 31 as a wall surface on the side close to the opening 13. The side wall 31 extends from the second surface 12 toward the first surface 11 and is positioned on the side close to the opening 13. An angle θ30 formed by the side wall 31 and the second surface 12 is an acute angle or a right angle. In other words, when flow soldering is performed using the flow soldering mask 1a, the angle formed between the conveyance direction of the flow soldering mask 1a and the side wall 31 is the same as the substrate conveyance direction in a sectional view (see FIG. Acute or right-angled (in cross section). The recess 30 is groove-shaped and does not penetrate from the second surface 12 constituting the recess 30 to the first surface 11.

図3は、本実施の形態における別の凹部を模式的に示す概略断面図である。凹部30は、開口部13に近設する側と反対側に側壁32をさらに有している。この側壁32は、第2の面12から第1の面11に向けて伸び、かつ開口部13に遠い側に位置する。この側壁32と第2の面とのなす角は、図2に示すように鈍角であってもよく、図3に示すように鋭角であってもよく、または直角であってもよい。   FIG. 3 is a schematic cross-sectional view schematically showing another concave portion in the present embodiment. The recess 30 further has a side wall 32 on the side opposite to the side close to the opening 13. The side wall 32 extends from the second surface 12 toward the first surface 11 and is located on the side far from the opening 13. The angle formed by the side wall 32 and the second surface may be an obtuse angle as shown in FIG. 2, an acute angle as shown in FIG. 3, or a right angle.

凹部30は、たとえば0.5mm以上の深さH30と、2mm以上の幅W30とを有している。本実施の形態では、たとえば凹部30の深さH30は3mmであり、凹部30の幅W30が3mmの略正方形である。   Recess 30 has, for example, a depth H30 of 0.5 mm or more and a width W30 of 2 mm or more. In the present embodiment, for example, the depth H30 of the recessed portion 30 is 3 mm, and the width W30 of the recessed portion 30 is approximately 3 mm.

ここで、凹部30の深さHとは、凹部30において第2の面12から伸びる開口部13側の側壁32(開口部13に近設する側の壁面)と第2の面12との最も大きい距離である。   Here, the depth H of the concave portion 30 is the largest of the second surface 12 and the side wall 32 on the side of the opening 13 extending from the second surface 12 in the concave portion 30 (the wall surface on the side close to the opening 13). It is a big distance.

フローはんだ付け装置のはんだ槽において溶融したはんだ液面に浮遊するフラックス残渣、ドロスなどの不純物の厚さは一般的に0.5mm程度であり、かつ幅は一般的に2mm程度である。このため、凹部30の深さHおよび幅W30を、上記のようにすることにより、凹部30に不純物を選択的に侵入させて捕捉することができる。   The thickness of impurities such as flux residue and dross floating on the molten solder surface in the solder bath of the flow soldering apparatus is generally about 0.5 mm, and the width is generally about 2 mm. For this reason, by making the depth H and the width W30 of the concave portion 30 as described above, impurities can be selectively invaded into the concave portion 30 and captured.

なお、凹部30は、不純物を捕捉できる大きさであれば、これらに特に限定されない。凹部30に不純物を選択的に侵入させて効果的に捕捉する観点から、凹部30の深さHおよび幅W30は不純物の大きさ以上であることが好ましい。また、凹部30の断面形状は、正方形に限定されるものではなく、たとえば、開口部13に近くなるほど(基板50の搬送方向の後方に向けて)、深さH30が大きくなるなど凹部30の底面に角度をつけても良い。また、凹部30の底面と側壁31、32との接続部分は、角ばった形状であってもよく、丸みを持たせた形状であってもよい。   In addition, the recessed part 30 will not be specifically limited if it is a magnitude | size which can capture | acquire an impurity. From the viewpoint of selectively trapping the impurities into the recesses 30 and effectively capturing them, the depth H and the width W30 of the recesses 30 are preferably greater than or equal to the size of the impurities. Further, the cross-sectional shape of the recess 30 is not limited to a square. For example, the closer to the opening 13 (toward the rear in the transport direction of the substrate 50), the depth H30 becomes larger, and the bottom surface of the recess 30 is increased. An angle may be added to the. Moreover, the connection part of the bottom face of the recessed part 30 and the side walls 31 and 32 may have an angular shape, or may have a rounded shape.

このような凹部30は、たとえば切削加工によって形成されている。また図3に示すように凹部30の底部は平滑であってもよく、図1および図2に示すように凹部30の底部に切り欠き12を設けてもよい。切り欠き12により不純物が開口部13に流れ込むことを抑制できるような凹凸形状を有していることが好ましい。   Such a recess 30 is formed by cutting, for example. Further, the bottom of the recess 30 may be smooth as shown in FIG. 3, or the notch 12 may be provided in the bottom of the recess 30 as shown in FIGS. It is preferable that the notch 12 has an uneven shape that can prevent impurities from flowing into the opening 13.

図4は、本実施の形態における凸部を模式的に示す概略断面図である。図4に示すように、凸部40は、凸部40の一部であって、かつ開口部13に近設する側と反対側に壁面としての側壁42を有している。この側壁42は、第2の面12から突出するように伸び、かつ開口部13に遠い側に位置する。この側壁42と、第2の面12とのなす角θ40が鋭角である。言い換えると、フローはんだ付け用マスク1aを用いてフローはんだ付けをする場合には、フローはんだ付け用マスク1aの搬送方向と側壁42とのなす角は、断面視において鋭角である。凸部40は、堤状である。   FIG. 4 is a schematic cross-sectional view schematically showing a convex portion in the present embodiment. As shown in FIG. 4, the convex portion 40 is a part of the convex portion 40 and has a side wall 42 as a wall surface on the side opposite to the side close to the opening portion 13. The side wall 42 extends so as to protrude from the second surface 12, and is located on the side far from the opening 13. An angle θ40 formed by the side wall 42 and the second surface 12 is an acute angle. In other words, when performing flow soldering using the flow soldering mask 1a, the angle formed between the conveyance direction of the flow soldering mask 1a and the side wall 42 is an acute angle in a cross-sectional view. The convex portion 40 has a bank shape.

凸部40は、開口部13に近設する側に側壁41を有している。この側壁41は、第2の面から突出するように伸び、かつ開口部13に近い側に位置する。この側壁41と第2の面12とのなす角は、図4に示すように断面視において直角であってもよく、鋭角または鈍角であってもよい。   The convex part 40 has a side wall 41 on the side close to the opening part 13. The side wall 41 extends so as to protrude from the second surface and is located on the side close to the opening 13. The angle formed by the side wall 41 and the second surface 12 may be a right angle in a cross-sectional view as shown in FIG. 4, or may be an acute angle or an obtuse angle.

凸部40は、たとえば0.5mm以上6mm以下の高さH40と、2mm以上の幅W40とを有している。本実施の形態では、たとえば凸部40の高さH40は3mmであり、凸部40の幅W40は3mmであり、凸部40の奥行きD40は3mmである。   The convex part 40 has, for example, a height H40 of 0.5 mm or more and 6 mm or less and a width W40 of 2 mm or more. In the present embodiment, for example, the height H40 of the convex portion 40 is 3 mm, the width W40 of the convex portion 40 is 3 mm, and the depth D40 of the convex portion 40 is 3 mm.

ここで、凸部40の高さHとは、凸部40において、第2の面12から伸びる開口部13と反対側の側壁41(開口部13に近設する側と反対側の壁面)と、第2の面12との最も大きい距離である。   Here, the height H of the convex portion 40 refers to the side wall 41 opposite to the opening 13 extending from the second surface 12 in the convex portion 40 (the wall surface on the opposite side to the side close to the opening 13). , The largest distance from the second surface 12.

フローはんだ付け装置のはんだ槽において溶融したはんだ液面に浮遊するフラックス残渣、ドロスなどの不純物の厚さは、上述したように一般的に0.5mm程度であり、かつ幅は一般的に2mm程度である。このため、凸部40で不純物を捕捉して、開口部13へ流れ込むことを抑制できる。   The thickness of impurities such as flux residue and dross floating on the molten solder surface in the solder bath of the flow soldering apparatus is generally about 0.5 mm as described above, and the width is generally about 2 mm. It is. For this reason, it can suppress that an impurity is captured by the convex part 40 and flows into the opening part 13.

また、フローはんだ付け用マスク1aをフローはんだ付け装置に用いた場合には、はんだを噴出する部材(本実施の形態では、図6におけるはんだ噴流ノズル14)と第2の面12との距離は一般的に6mm程度であることから、凸部40の高さH40は6mm以下であることが好ましい。   In addition, when the flow soldering mask 1a is used in a flow soldering apparatus, the distance between the member for jetting solder (in this embodiment, the solder jet nozzle 14 in FIG. 6) and the second surface 12 is as follows. Since it is generally about 6 mm, the height H40 of the convex portion 40 is preferably 6 mm or less.

凸部40においてはんだと接触する面に塗布されたフラックスが開口部13へ流れ込むことを防止する観点から、凸部40の幅W40は小さいほど好ましい。また、不純物を開口部13に流れ込むことを抑制できる観点から、凸部40の奥行きD40は、開口部13の前方を塞ぐ程度の大きさであることが好ましい。   From the viewpoint of preventing the flux applied to the surface of the convex portion 40 that contacts the solder from flowing into the opening portion 13, the width W40 of the convex portion 40 is preferably as small as possible. In addition, from the viewpoint of suppressing the flow of impurities into the opening 13, the depth D 40 of the protrusion 40 is preferably large enough to block the front of the opening 13.

なお、凸部40は、不純物を捕捉できる大きさであれば、これらに特に限定されない。凸部40に不純物を選択的に侵入させて効果的に捕捉する観点から、凸部40の深さHおよび幅W30は不純物の大きさ以上であることが好ましい。また、凸部40の断面形状は略正方形に特に限定されるものではなく、たとえば、開口部13に近くなるほど(基板50の搬送方向の後方に)、凸部40の高さ41は、凸部40の先端に向けて角度をつけても良い。また、凸部40の先端と側壁41、42との接続部分は、角ばった形状であってもよく、丸みを持たせた形状であってもよい。   In addition, if the convex part 40 is a magnitude | size which can capture | acquire an impurity, it will not specifically limit to these. From the viewpoint of selectively capturing the impurities by selectively intruding into the convex portions 40, the depth H and the width W30 of the convex portions 40 are preferably equal to or larger than the size of the impurities. In addition, the cross-sectional shape of the convex portion 40 is not particularly limited to a substantially square shape. For example, the closer to the opening portion 13 (toward the back of the transport direction of the substrate 50), the height 41 of the convex portion 40 is the convex portion. An angle may be given toward the tip of 40. Moreover, the connection part of the front-end | tip of the convex part 40 and the side walls 41 and 42 may be a square shape, and the shape which gave the roundness may be sufficient as it.

また、凸部40の材料は、たとえばABS樹脂、アルミニウムやステンレスのような金属材料、セラミックスのような無機材料などを用いることができる。凸部40は、本体部10と同様の材料であってもよく、異なる材料であってもよい。凸部40は、不純物を捕捉するために、密実であることが好ましい。   Further, as the material of the convex portion 40, for example, an ABS resin, a metal material such as aluminum or stainless steel, an inorganic material such as ceramics, or the like can be used. The convex portion 40 may be the same material as the main body portion 10 or a different material. The convex portion 40 is preferably solid in order to capture impurities.

このような凸部40は、たとえば凸部40を本体部10と別に準備して、所定の位置でのねじ止めにより、または接着剤により形成している。また、本体部10の作製時に、本体部を構成する板状の材料から削り出すことにより形成してもよい。   Such a convex part 40 is formed, for example, by preparing the convex part 40 separately from the main body part 10 and screwing it at a predetermined position or by an adhesive. Moreover, you may form by cutting out from the plate-shaped material which comprises a main-body part at the time of preparation of the main-body part 10. FIG.

図5は、本実施の形態における別の凸部を模式的に示す概略断面図である。図5に示すように、凹部30において第2の面12から伸びる開口部13側の側壁31と、凸部40において第2の面12から伸びる開口部13と反対側の側壁42とは連続していることが好ましい。   FIG. 5 is a schematic cross-sectional view schematically showing another convex portion in the present embodiment. As shown in FIG. 5, the side wall 31 on the opening 13 side extending from the second surface 12 in the concave portion 30 and the side wall 42 on the opposite side to the opening 13 extending from the second surface 12 in the convex portion 40 are continuous. It is preferable.

なお、本実施の形態における不純物捕捉部20は、凹部30および凸部40の両方を含んでいるが、不純物捕捉部20は凹部30および凸部40の少なくとも一方を含んでいればよい。   In addition, although the impurity capture | acquisition part 20 in this Embodiment contains both the recessed part 30 and the convex part 40, the impurity capture part 20 should just contain at least one of the recessed part 30 and the convex part 40. FIG.

図6は、本実施の形態におけるフローはんだ付けマスクを使用した際のフローはんだ付けを示す模式図である。続いて、本実施の形態におけるフローはんだ付け用マスク1aを用いたフローはんだ付け方法について説明する。   FIG. 6 is a schematic diagram showing flow soldering when the flow soldering mask according to the present embodiment is used. Next, a flow soldering method using the flow soldering mask 1a in the present embodiment will be described.

まず、基板50を準備する。基板50は、たとえばプリント配線板を用いることができる。図6に示すように、この基板50の一方の面には、リード54を有する実装部品52が形成され、他方の面には電極パターン55とすでに実装された複数の実装部品51とが形成されている。基板50の一方の面から他方の面に貫通するスルーホール53内に、実装部品52のリード54が挿入されている。この実装部品52は、基板50と導電性接着剤などで接続されていてもよい。本実施の形態では、基板50において、リード54と電極パターン55とをはんだ付けする。   First, the substrate 50 is prepared. As the substrate 50, for example, a printed wiring board can be used. As shown in FIG. 6, a mounting component 52 having leads 54 is formed on one surface of the substrate 50, and an electrode pattern 55 and a plurality of mounting components 51 already mounted are formed on the other surface. ing. A lead 54 of the mounting component 52 is inserted into a through hole 53 penetrating from one surface of the substrate 50 to the other surface. The mounting component 52 may be connected to the substrate 50 with a conductive adhesive or the like. In the present embodiment, the lead 54 and the electrode pattern 55 are soldered on the substrate 50.

次に、フローはんだ付け用マスク1aの開口部13から基板50のはんだ付けする部分を露出し、かつ基板50のこの部分以外を被覆するように、基板50とフローはんだ付け用マスク1aとを重ね合わせる。   Next, the substrate 50 and the flow soldering mask 1a are overlapped so that the soldering portion of the substrate 50 is exposed from the opening 13 of the flow soldering mask 1a and the portion other than this portion of the substrate 50 is covered. Match.

具体的には、フローはんだ付け用マスク1aの第1の面11に、基板50の電極パターン55が形成された面側を載置する。これにより、リード54が、第1の面11から第2の面12に向けて挿入され、リード54の先端がはんだ付けを行なうための貫通孔である開口部13に配置される。また、フローはんだ付け用マスク1aの第1の面11に形成された開口部11aで、すでにはんだ付けなどで実装された実装部品51を覆う。   Specifically, the surface side of the substrate 50 on which the electrode pattern 55 is formed is placed on the first surface 11 of the flow soldering mask 1a. As a result, the lead 54 is inserted from the first surface 11 toward the second surface 12, and the tip of the lead 54 is disposed in the opening 13 that is a through hole for soldering. In addition, the mounting part 51 already mounted by soldering or the like is covered with the opening 11a formed in the first surface 11 of the flow soldering mask 1a.

次に、フローはんだ付け用マスク1aと基板50とを重ね合わせた状態で、はんだ15を内部に配置したはんだ槽(本実施の形態では、はんだ噴流ノズル14)へ搬送し、開口部13から露出している基板50をはんだ付けする。このとき、開口部13に対して、基板50の搬送方向の上流に不純物捕捉部20が位置している。また、不純物捕捉部20は、フローはんだ付け装置においてはんだ15と接触する側に位置する。   Next, in a state where the flow soldering mask 1a and the substrate 50 are overlapped, the solder 15 is transferred to a solder bath (in this embodiment, a solder jet nozzle 14) and exposed from the opening 13. Soldering board 50 is soldered. At this time, the impurity capturing unit 20 is located upstream of the opening 13 in the transport direction of the substrate 50. Moreover, the impurity capture | acquisition part 20 is located in the side which contacts the solder 15 in a flow soldering apparatus.

具体的には、フローはんだ付け用マスクにおいてはんだ15と接触する側に、たとえばスプレー噴霧式フラクサなどを用いてフラックスを塗布する。その後、ベルトコンベアなどの搬送手段を用いてはんだ15が溶融したはんだ噴流ノズル14の上を、基板50が通過することにより、溶融したはんだ15が開口部13から露出したリード54と電極パターン55とに接触することで、開口部13から露出している電極パターン55とリード54とを選択的にはんだ付けする。   Specifically, the flux is applied to the side in contact with the solder 15 in the flow soldering mask using, for example, a spray atomizing fluxer. Thereafter, the substrate 50 passes over the solder jet nozzle 14 in which the solder 15 is melted by using a conveyor means such as a belt conveyor, so that the lead 54 and the electrode pattern 55 in which the melted solder 15 is exposed from the opening portion 13. The electrode pattern 55 exposed from the opening 13 and the lead 54 are selectively soldered.

このはんだ付けの際に、フローはんだ付け用マスクのはんだ付けをする側に塗布されたフラックスおよびその残渣、はんだが噴流することにより発生したドロスなどの不純物60が、溶融したはんだ15の液面に浮遊する。この不純物60は溶融したはんだ15に比較して比重が小さいため、溶融したはんだ15の上方へ浮遊して、選択的に凹部30および凸部40の少なくとも一方を含む不純物捕捉部20へと流れ込む。不純物捕捉部20により、この不純物60が凹部30および凸部40を潜り込んで開口部13に流れることが塞き止められる。   At the time of this soldering, the flux 60 applied to the soldering side of the flow soldering mask, its residue, and impurities 60 such as dross generated when the solder spouts on the molten solder 15 liquid surface. Float. Since the impurity 60 has a lower specific gravity than the molten solder 15, the impurity 60 floats above the molten solder 15 and selectively flows into the impurity capturing unit 20 including at least one of the concave portion 30 and the convex portion 40. The impurity trap 20 prevents the impurity 60 from entering the recess 13 and the protrusion 40 and flowing into the opening 13.

なお、図6において矢印61は、不純物60が溶融したはんだ15において通常流れる方向を示す。本実施の形態においては、不純物捕捉部20で不純物60が捕らえられて開口部13へ流れ込むことは抑制されている。   In FIG. 6, an arrow 61 indicates a normal flow direction in the solder 15 in which the impurity 60 is melted. In the present embodiment, the impurities 60 are prevented from being trapped by the impurity trapping portion 20 and flowing into the opening 13.

その結果、開口部13へ不純物60が流れ込むことを防止して、開口部13から露出した電極パターン55、リード54などのはんだ付けする部分に不純物60が付着する事を防止することができる。したがって、このフローはんだ付け方法により得られる製品(はんだ付けされた基板50)は、不純物60の付着が抑制されているため外観が良好であり、リード54と電極パターン55とを接続する部分以外に不純物60が付着することによる短絡を防止することができる。   As a result, the impurity 60 can be prevented from flowing into the opening 13, and the impurity 60 can be prevented from adhering to portions to be soldered such as the electrode pattern 55 and the lead 54 exposed from the opening 13. Therefore, the product (soldered substrate 50) obtained by this flow soldering method has a good appearance because the adhesion of the impurities 60 is suppressed, and other than the portion connecting the lead 54 and the electrode pattern 55. A short circuit due to the adhesion of the impurity 60 can be prevented.

以上説明したように、本実施の形態におけるフローはんだ付け用マスク1aは、基板50表面にフローはんだ付けをするためのフローはんだ付け用マスクであって、本体部10と、不純物捕捉部20とを備えている。本体部10は、第1および第2の面11、12を有し、第1の面11と基板50とを対向させて基板50を被覆し、かつ基板50においてはんだ付けする部分を露出するために第1の面11から第2の面12を貫通する開口部13が形成されている。不純物捕捉部20は、第2の面12における開口部13に近設された凹部30および凸部40の少なくともいずれかを含んでいる。凹部30は、凹部30の一部であって、かつ開口部13に近設する側に第2の面12となす角θ30が鋭角または直角である壁面(側壁31)を有している。凸部40は、凸部40の一部であって、かつ開口部13に近設する側と反対側に第2の面12とのなす角θ40が鋭角である壁面(側壁42)を有している。   As described above, the flow soldering mask 1a in the present embodiment is a flow soldering mask for performing flow soldering on the surface of the substrate 50, and includes the main body portion 10 and the impurity trapping portion 20. I have. The main body 10 has first and second surfaces 11 and 12 for covering the substrate 50 with the first surface 11 and the substrate 50 facing each other, and for exposing a portion to be soldered on the substrate 50. In addition, an opening 13 penetrating from the first surface 11 to the second surface 12 is formed. The impurity trapping portion 20 includes at least one of a concave portion 30 and a convex portion 40 that are provided close to the opening portion 13 in the second surface 12. The concave portion 30 is a part of the concave portion 30 and has a wall surface (side wall 31) whose angle θ30 formed with the second surface 12 is an acute angle or a right angle on the side close to the opening portion 13. The convex portion 40 is a part of the convex portion 40 and has a wall surface (side wall 42) having an acute angle θ40 formed with the second surface 12 on the side opposite to the side close to the opening 13. ing.

本実施の形態におけるフローはんだ付け用マスク1aによれば、はんだ付けする部分(本実施の形態ではリード54と電極パターン55)を露出して、はんだ付けする部分以外の部分を覆った状態でフローはんだ付け方法および装置に用いることができる。過剰なフラックス、フラックス残渣、はんだ滓などの不純物60は、溶融したはんだ15よりも比重が軽いので、この不純物60ははんだ15の液面に浮遊する。フローはんだ付け用マスク1aの開口部13に対して、基板50の搬送方向の上流に不純物捕捉部20が位置するようにフローはんだ付け用マスク1aを搬送させると、凹部30の側壁31および凸部40の側壁42に不純物が捕らえられる。かつ、フローはんだ付け用マスク1aを搬送しても、不純物捕捉部20に捕らえられた不純物60が凹部30の側壁31および凸部40の側壁42を潜り込んで開口部13に流れ込むことを抑制できる。このため、開口部13から露出している基板50においてはんだ付けする部分をはんだ付けするはんだに含まれる不純物60を低減することができる。したがって、開口部13から露出している基板50においてはんだ付けする部分に不純物60が付着することを抑制できるので、不純物60が付着することによる短絡を抑制できるとともに、外観不良となることを抑制することができる。   According to the flow soldering mask 1a in the present embodiment, the portion to be soldered (in this embodiment, the lead 54 and the electrode pattern 55) is exposed, and the flow is performed with the portion other than the portion to be soldered covered. It can be used in a soldering method and apparatus. Impurities 60 such as excess flux, flux residue, solder dregs and the like have lighter specific gravity than the melted solder 15, so that the impurities 60 float on the liquid surface of the solder 15. When the flow soldering mask 1a is transported with respect to the opening 13 of the flow soldering mask 1a so that the impurity capturing portion 20 is located upstream in the transport direction of the substrate 50, the side walls 31 and the convex portions of the recess 30 are formed. Impurities are trapped in the side walls 42 of 40. Even if the flow soldering mask 1a is transported, it is possible to suppress the impurities 60 trapped by the impurity trapping portion 20 from entering the opening portion 13 through the side walls 31 of the concave portions 30 and the side walls 42 of the convex portions 40. For this reason, the impurity 60 contained in the solder which solders the part to solder in the board | substrate 50 exposed from the opening part 13 can be reduced. Therefore, since it can suppress that the impurity 60 adheres to the part soldered in the board | substrate 50 exposed from the opening part 13, while suppressing the short circuit by the impurity 60 adhering, it can suppress that it becomes an external appearance defect. be able to.

さらに、不純物60が基板50のはんだ付けをする部分に付着することを抑制できるので、不純物60が良好な導電性を有していない場合であっても、不純物60が付着することによりはんだ付けがされていない箇所が発生するなどのはんだ付け不良を引き起こすことを抑制できる。   Furthermore, since it can suppress that the impurity 60 adheres to the part to which the board | substrate 50 is soldered, even if it is a case where the impurity 60 does not have favorable electroconductivity, soldering is carried out by the impurity 60 adhering. It is possible to suppress the occurrence of defective soldering such as occurrence of a portion that has not been performed.

さらには、不純物60がはんだ付けをする部分に付着することを抑制できるので、マイグレーション現象により基板の実装部品51、52、リード54、電極パターン55間の絶縁抵抗を低下させることを抑制できる。   Furthermore, since it can suppress that the impurity 60 adheres to the part to solder, it can suppress that the insulation resistance between the mounting components 51 and 52 of the board | substrate, the lead | read | reed 54, and the electrode pattern 55 is reduced by a migration phenomenon.

上記フローはんだ付け用マスク1aにおいて好ましくは、凸部40は6mm以下の高さH40を有する。   In the flow soldering mask 1a, the convex portion 40 preferably has a height H40 of 6 mm or less.

フローはんだ付け用マスク1aをフローはんだ付け装置に用いると、はんだ15を噴出する部材(本実施の形態では、図6におけるはんだ噴流ノズル14)と第2の面12との距離は一般的に6mm程度である。このため、凸部40の高さH40を6mm以下にすることにより、フローはんだ付け用マスク1aの汎用性を高めることができる。   When the flow soldering mask 1a is used in a flow soldering apparatus, the distance between the member (in this embodiment, the solder jet nozzle 14 in FIG. 6) for ejecting the solder 15 and the second surface 12 is generally 6 mm. Degree. For this reason, the versatility of the mask 1a for flow soldering can be improved by setting the height H40 of the convex part 40 to 6 mm or less.

本実施の形態におけるフローはんだ付け方法は、上記フローはんだ付け用マスク1aを用いて、基板50をはんだ付けするフローはんだ付け方法であって、以下の工程を備えている。まず、フローはんだ付け用マスク1aの開口部13から基板50のはんだ付けする部分を露出し、かつ基板50の部分以外を被覆するように、基板50とフローはんだ付け用マスク1aとを重ね合わせる。そして、フローはんだ付け用マスク1aと基板50とを重ね合わせた状態で、はんだ15を内部に配置したはんだ槽へ搬送し、開口部13から露出している基板50をはんだ付けする。開口部13に対して、基板50の搬送方向の上流に不純物捕捉部20が位置している。   The flow soldering method according to the present embodiment is a flow soldering method for soldering the substrate 50 using the flow soldering mask 1a, and includes the following steps. First, the substrate 50 and the flow soldering mask 1a are overlapped so that the portion to be soldered of the substrate 50 is exposed from the opening 13 of the flow soldering mask 1a and the portion other than the portion of the substrate 50 is covered. Then, in a state where the flow soldering mask 1a and the substrate 50 are overlapped, the solder 15 is transferred to a solder bath disposed therein, and the substrate 50 exposed from the opening 13 is soldered. The impurity trap 20 is positioned upstream of the opening 13 in the transport direction of the substrate 50.

本実施の形態におけるフローはんだ付け方法によれば、過剰なフラックス、フラックス残渣、はんだ滓などの不純物60は、溶融したはんだ15よりも比重が軽いので、フローはんだ付け用マスク1aの開口部13に対して、基板50の搬送方向の上流に不純物捕捉部20が位置するようにフローはんだ付け用マスク1aを搬送させると、不純物捕捉部20に不純物60を捕らえることができる。このため、基板50を覆ったフローはんだ付け用マスク1aを搬送しても、不純物捕捉部20に捕らえられた不純物60が凹部30の側壁31および凸部40の側壁42を潜り込んで開口部13に流れ込むことを抑制できる。この結果、含まれる不純物60を抑制したはんだ15により、開口部13から露出している基板50においてはんだ付けする部分をはんだ付けすることができる。したがって、不純物60が付着することによる短絡を抑制できるとともに、外観不良となることを抑制することができる。   According to the flow soldering method in the present embodiment, impurities 60 such as excess flux, flux residue, solder slag and the like have a lighter specific gravity than the melted solder 15, so that the openings 13 of the flow soldering mask 1 a are not filled. On the other hand, when the flow soldering mask 1a is transported so that the impurity capturing part 20 is located upstream in the transport direction of the substrate 50, the impurity capturing part 20 can capture the impurities 60. For this reason, even if the flow soldering mask 1 a covering the substrate 50 is transported, the impurities 60 trapped by the impurity trapping part 20 sink into the side wall 31 of the concave part 30 and the side wall 42 of the convex part 40 and enter the opening part 13. Inflow can be suppressed. As a result, the portion to be soldered in the substrate 50 exposed from the opening 13 can be soldered by the solder 15 in which the impurities 60 contained are suppressed. Therefore, it is possible to suppress a short circuit due to the adhesion of the impurity 60 and to suppress appearance defects.

(実施の形態2)
図7は、本実施の形態におけるフローはんだ付け用マスクを概略的に示す平面図である。なお、図7は、本実施の形態におけるフローはんだ付け用マスク1bに基板50を配置した状態で、第2の面12から見たときの図である。図7を参照して、本実施の形態におけるフローはんだ付け用マスク1bを説明する。図7に示すように、本実施の形態におけるフローはんだ付け用マスク1bは、実施の形態1におけるフローはんだ付け用マスク1aと同様の構成を備えているが、基板50においてはんだ付けする部分が複数あり、開口部13が複数形成され、かつ不純物捕捉部を構成する凸部40a、40b、40cおよび凹部30dが形成されている。
(Embodiment 2)
FIG. 7 is a plan view schematically showing a flow soldering mask in the present embodiment. FIG. 7 is a diagram when viewed from the second surface 12 in a state where the substrate 50 is disposed on the flow soldering mask 1b in the present embodiment. With reference to FIG. 7, the flow soldering mask 1b in the present embodiment will be described. As shown in FIG. 7, the flow soldering mask 1b in the present embodiment has the same configuration as the flow soldering mask 1a in the first embodiment, but there are a plurality of portions to be soldered in the substrate 50. Yes, a plurality of openings 13 are formed, and convex portions 40a, 40b, 40c and a concave portion 30d constituting the impurity trapping portion are formed.

凸部40a、40b、40cは、開口部13a、13b、13cに近設する側と反対側に第2の面12とのなす角が鋭角である壁面を有している。   The convex portions 40a, 40b, and 40c have a wall surface that has an acute angle with the second surface 12 on the side opposite to the side close to the openings 13a, 13b, and 13c.

凸部40aは、開口部13aの長辺を取り囲むように形成されている。開口部13aの平面視における(上方から見たときの)大きさは、たとえば長辺が50mmで短辺が30mmであり、凸部40aの平面視における大きさは、開口部13aの長辺よりも長く、たとえば長辺が70mmで短辺が3mmである。   The convex part 40a is formed so as to surround the long side of the opening part 13a. The size of the opening 13a in plan view (when viewed from above) is, for example, a long side of 50 mm and a short side of 30 mm, and the size of the convex portion 40a in plan view is larger than that of the long side of the opening 13a. For example, the long side is 70 mm and the short side is 3 mm.

また凸部40bは、開口部13bの外周の約1/2を取り囲むように形成されている。また凸部40cは、開口部13cの長辺の伸びる方向と交差する方向に伸びるように形成されている。   Moreover, the convex part 40b is formed so that about 1/2 of the outer periphery of the opening part 13b may be enclosed. Moreover, the convex part 40c is formed so that it may extend in the direction which cross | intersects the direction where the long side of the opening part 13c extends.

凹部30dは、開口部13dに近設する側に第2の面12となす角が鋭角または直角である壁面を有している。   The concave portion 30d has a wall surface whose angle formed with the second surface 12 is an acute angle or a right angle on the side close to the opening portion 13d.

続いて、図7を参照して、このフローはんだ付け用マスク1bを用いたフローはんだ付け方法を説明する。   Next, a flow soldering method using the flow soldering mask 1b will be described with reference to FIG.

まず、基板50を準備する。基板50には、はんだ付けする部分が複数形成されている。次に、フローはんだ付け用マスク1bの開口部13から基板50のはんだ付けする部分を露出し、かつ基板50のこの部分以外を被覆するように、基板50とフローはんだ付け用マスク1bとを重ね合わせる。基板50においてはんだ付けする部分が複数形成されているので、フローはんだ付け用マスクには複数の開口部13が形成されている。   First, the substrate 50 is prepared. A plurality of portions to be soldered are formed on the substrate 50. Next, the substrate 50 and the flow soldering mask 1b are overlapped so that the portion to be soldered of the substrate 50 is exposed from the opening 13 of the flow soldering mask 1b and the portion other than this portion of the substrate 50 is covered. Match. Since a plurality of portions to be soldered are formed on the substrate 50, a plurality of openings 13 are formed in the flow soldering mask.

次に、フローはんだ付け用マスク1bと基板50とを重ね合わせた状態で、はんだ15を内部に配置したはんだ槽へ搬送し、開口部13から露出している基板50をはんだ付けする。この工程では、図7に示すフローはんだ付け用マスク1bを矢印で示す搬送方向に搬送する。   Next, in a state where the flow soldering mask 1b and the substrate 50 are overlapped, the solder 15 is transferred to a solder bath disposed therein, and the substrate 50 exposed from the opening 13 is soldered. In this step, the flow soldering mask 1b shown in FIG. 7 is transported in the transport direction indicated by the arrow.

フローはんだ付け用マスク1bをはんだ槽へ搬送する際に、凸部40a、40b、40cおよび凹部30dは、フローはんだ付け用マスク1bの搬送方向において開口部13a、13b、13cの前方にそれぞれ位置している。凸部40bおよび凹部30dは、フローはんだ付け用マスク1bの搬送方向において開口部13b、13dの前方および側部を取り囲むように位置している。凸部40a、40b、40cおよび凹部30dは、帯状であってもよく、波状であってもよい。   When the flow soldering mask 1b is transported to the solder bath, the convex portions 40a, 40b, 40c and the concave portion 30d are positioned in front of the openings 13a, 13b, 13c, respectively, in the transport direction of the flow soldering mask 1b. ing. The convex portion 40b and the concave portion 30d are positioned so as to surround the front and side portions of the openings 13b and 13d in the transport direction of the flow soldering mask 1b. The convex portions 40a, 40b, 40c and the concave portion 30d may be strip-shaped or wave-shaped.

また、フローはんだ付け用マスク1bの凸部40a、40b、40cおよび凹部30dは、基板50の搬送方向の上流からフローはんだ付け用マスクを見たときの開口部13a、13b、13c、13dの幅よりも大きい幅を有している。なお、凸部40a、40b、40cおよび凹部30dは、溶融したはんだ15が開口部13a、13b、13c、13dに流れ込むことを阻害されない形状であることが好ましい。   Further, the convex portions 40a, 40b, 40c and the concave portion 30d of the flow soldering mask 1b are the widths of the openings 13a, 13b, 13c, 13d when the flow soldering mask is viewed from the upstream in the transport direction of the substrate 50. Has a larger width. In addition, it is preferable that the convex parts 40a, 40b, 40c and the concave part 30d have a shape that does not inhibit the molten solder 15 from flowing into the openings 13a, 13b, 13c, 13d.

また、凸部40aのように、凸部40aの壁面の法線が基板50の搬送方向と平行である方向を有して(凸部40aの長手方向と搬送方向は直交して)いてもよい。また、凸部40b、40cのように、凸部40b、40cの壁面の法線が基板50の搬送方向と平行でない方向を有して(平面視において基板50の搬送方向となす角が鋭角および鈍角の少なくとも一方になるように形成されている部分を含んでいて)もよい。また、凹部30dのように、凹部30dは、平面視において基板50の搬送方向と同じ方向に伸びる部分を含んでいてもよい。言い換えると、平面視において、凸部40b、40cおよび凹部30dと、基板50の搬送方向とのなす角は直角でなくてもよい。   Moreover, like the convex part 40a, the normal line of the wall surface of the convex part 40a may have a direction parallel to the transport direction of the substrate 50 (the longitudinal direction of the convex part 40a and the transport direction are orthogonal to each other). . Further, like the convex portions 40b and 40c, the normal line of the wall surface of the convex portions 40b and 40c has a direction that is not parallel to the transport direction of the substrate 50 (the angle between the transport direction of the substrate 50 in plan view is an acute angle and It may include a portion formed so as to be at least one of an obtuse angle). Further, like the recess 30d, the recess 30d may include a portion extending in the same direction as the transport direction of the substrate 50 in plan view. In other words, the angle formed by the convex portions 40b and 40c and the concave portion 30d and the transport direction of the substrate 50 may not be a right angle in a plan view.

なお、上記凸部40a、40b、40cは、凹部であってもよく、あるいは、搬送方向に交差する方向の凸部40a、40b、40cの上流側および下流側の少なくとも一方にであって、開口部13a、13b、13cの上流側に凹部がさらに形成されていてもよい。また凹部30dは、凸部であってもよく、あるいは搬送方向に交差する方向の凹部30dの上流側および下流側の少なくとも一方であって開口部13dの上流側に凸部がさらに形成されていてもよい。また、1つの開口部13a、13b、13c、13dに対して、複数の凹部および凸部が形成されていてもよい。   The convex portions 40a, 40b, and 40c may be concave portions, or at least one of the upstream and downstream sides of the convex portions 40a, 40b, and 40c in the direction intersecting the transport direction, A recess may be further formed on the upstream side of the portions 13a, 13b, and 13c. The concave portion 30d may be a convex portion, or a convex portion is further formed on at least one of the upstream side and the downstream side of the concave portion 30d in the direction intersecting the transport direction and upstream of the opening portion 13d. Also good. A plurality of recesses and projections may be formed for one opening 13a, 13b, 13c, 13d.

凸部40a、40b、40cおよび凹部30dと、開口部13a、13b、13c、13dとの距離は、たとえば10mmである。なお、凸部40a、40b、40cおよび凹部30dと、開口部13a、13b、13c、13dとの距離は、開口部13a、13b、13c、13dにはんだが流れ込めば、短いほど好ましい。これにより、開口部13a、13b、13c、13dにおいて凸部40a、40b、40cおよび凹部30d側の先端と、凸部40a、40b、40cおよび凹部30dとの間に塗布されたフラックスが、はんだ付け時に開口部13a、13b、13c、13dに流れ込むことを防止することができる。   The distances between the convex portions 40a, 40b, 40c and the concave portion 30d and the openings 13a, 13b, 13c, 13d are, for example, 10 mm. The distance between the protrusions 40a, 40b, 40c and the recess 30d and the openings 13a, 13b, 13c, 13d is preferably as short as possible when solder flows into the openings 13a, 13b, 13c, 13d. As a result, the flux applied between the protrusions 40a, 40b, 40c and the recess 30d side tip and the protrusions 40a, 40b, 40c and the recess 30d in the openings 13a, 13b, 13c, and 13d is soldered. Sometimes it can be prevented from flowing into the openings 13a, 13b, 13c, 13d.

以上説明したように、本実施の形態におけるフローはんだ付け方法は、凹部30dの壁面および凸部40b、40cの壁面の少なくとも一方の法線が、基板50の搬送方向と平行でない方向を有するフローはんだ付け用マスクを用いる。   As described above, in the flow soldering method according to the present embodiment, the flow soldering has a direction in which at least one normal line of the wall surface of the recess 30d and the wall surfaces of the protrusions 40b and 40c is not parallel to the conveyance direction of the substrate 50. Use an attachment mask.

これにより、凹部30dおよび凸部40a、40b、40cの配置の自由度が高くなり、不純物を捕捉するための不純物捕捉部20を効率的に配置することができる。このため、開口部13a、13b、13c、13dに流れ込む不純物を抑制することができる。   Thereby, the freedom degree of arrangement | positioning of the recessed part 30d and convex part 40a, 40b, 40c becomes high, and the impurity trap part 20 for trapping an impurity can be arrange | positioned efficiently. For this reason, the impurity which flows into opening part 13a, 13b, 13c, 13d can be suppressed.

また本実施の形態におけるフローはんだ付け方法は、フローはんだ付け用マスク1bの凸部40a、40b、40cおよび凹部30dの少なくとも一方は、基板50の搬送方向の上流からフローはんだ付け用マスク1bを見たときの開口部13a、13b、13c、13dの幅よりも大きい幅を有している。   Further, in the flow soldering method according to the present embodiment, at least one of the convex portions 40a, 40b, 40c and the concave portion 30d of the flow soldering mask 1b is viewed from the upstream in the conveying direction of the substrate 50. The opening portions 13a, 13b, 13c and 13d have a width larger than that of the opening.

これにより、開口部13a、13b、13c、13dに流れ込む不純物を凸部40a、40b、40cおよび凹部30dで効果的に捕捉することができる。このため、開口部13a、13b、13c、13dに流れ込む不純物を抑制することができる。   Thereby, the impurities flowing into the openings 13a, 13b, 13c, and 13d can be effectively captured by the convex portions 40a, 40b, and 40c and the concave portion 30d. For this reason, the impurity which flows into opening part 13a, 13b, 13c, 13d can be suppressed.

今回開示された実施の形態はすべての点で例示であって制限的なものではないと考えられるべきである。本発明の範囲は上記した実施の形態ではなくて特許請求の範囲によって示され、特許請求の範囲と均等の意味および範囲内でのすべての変更が含まれることが意図される。   The embodiment disclosed this time should be considered as illustrative in all points and not restrictive. The scope of the present invention is shown not by the above-described embodiment but by the scope of claims, and is intended to include all modifications within the meaning and scope equivalent to the scope of claims.

本発明の実施の形態1におけるフローはんだ付け用マスクを示す模式図である。It is a schematic diagram which shows the mask for flow soldering in Embodiment 1 of this invention. 本発明の実施の形態1における凹部を模式的に示す概略断面図である。It is a schematic sectional drawing which shows typically the recessed part in Embodiment 1 of this invention. 本発明の実施の形態1における別の凹部を模式的に示す概略断面図である。It is a schematic sectional drawing which shows typically another recessed part in Embodiment 1 of this invention. 本発明の実施の形態1における凸部を模式的に示す概略断面図である。It is a schematic sectional drawing which shows typically the convex part in Embodiment 1 of this invention. 本発明の実施の形態1における別の凸部を模式的に示す概略断面図である。It is a schematic sectional drawing which shows typically another convex part in Embodiment 1 of this invention. 本発明の実施の形態1におけるフローはんだ付けマスクを使用した際のフローはんだ付けを示す模式図である。It is a schematic diagram which shows the flow soldering at the time of using the flow soldering mask in Embodiment 1 of this invention. 本発明の実施の形態2におけるフローはんだ付け用マスクを概略的に示す平面図である。It is a top view which shows roughly the mask for flow soldering in Embodiment 2 of this invention.

符号の説明Explanation of symbols

1a,1b フローはんだ付け用マスク、10 本体部、11 第1の面、11a,13,13a,13b,13c,13d 開口部、12 第2の面、14 噴流ノズル、20 不純物捕捉部、30,30d 凹部、31,32,41,42 側壁、40,40a,40b,40c 凸部、50 基板、51,52 実装部品、53 スルーホール、54 リード、55 電極パターン、60 不純物、61 矢印、W30,W40 幅、θ30,θ40 角。   DESCRIPTION OF SYMBOLS 1a, 1b Flow soldering mask, 10 Main-body part, 11 1st surface, 11a, 13, 13a, 13b, 13c, 13d Opening part, 12 2nd surface, 14 Jet nozzle, 20 Impurity capture | acquisition part, 30, 30d Recess, 31, 32, 41, 42 Side wall, 40, 40a, 40b, 40c Protrusion, 50 Substrate, 51, 52 Mounted part, 53 Through hole, 54 Lead, 55 Electrode pattern, 60 Impurity, 61 Arrow, W30, W40 width, θ30, θ40 angle.

Claims (5)

基板表面にフローはんだ付けをするためのフローはんだ付け用マスクであって、
第1および第2の面を有し、前記第1の面と前記基板とを対向させて前記基板を被覆し、かつ前記基板においてはんだ付けする部分を露出するために前記第1の面から前記第2の面を貫通する開口部が形成された本体部と、
前記第2の面における前記開口部に近設された凹部および凸部を含む不純物捕捉部とを備え、
前記凹部は、前記凹部の一部であって、かつ前記開口部に近設する側に前記第2の面となす角が鋭角または直角である壁面を有し、
前記凸部は、前記凸部の一部であって、かつ前記開口部に近設する側と反対側に前記第2の面とのなす角が鋭角である壁面を有する、フローはんだ付け用マスク。
A flow soldering mask for performing flow soldering on a substrate surface,
A first surface and a second surface, the first surface and the substrate facing each other to cover the substrate and to expose a portion to be soldered on the substrate from the first surface; A main body formed with an opening penetrating the second surface;
An impurity capturing part including a concave part and a convex part provided near the opening in the second surface;
The recess has a wall surface that is a part of the recess and has an acute angle or a right angle with the second surface on the side close to the opening.
The flow soldering mask, wherein the convex part has a wall surface that is a part of the convex part and has an acute angle with the second surface on the side opposite to the side close to the opening. .
上記凸部は6mm以下の高さを有する、請求項1に記載のフローはんだ付け用マスク。   The flow soldering mask according to claim 1, wherein the convex portion has a height of 6 mm or less. 請求項1または2に記載のフローはんだ付け用マスクを用いて、前記基板をはんだ付けするフローはんだ付け方法であって、
前記フローはんだ付け用マスクの前記開口部から前記基板のはんだ付けする部分を露出し、かつ前記基板の前記部分以外を被覆するように、前記基板と前記フローはんだ付け用マスクとを重ね合わせる工程と、
前記フローはんだ付け用マスクと前記基板とを重ね合わせた状態で、はんだを内部に配置したはんだ槽へ搬送し、前記開口部から露出している前記基板をはんだ付けする工程とを備え、
前記開口部に対して、前記基板の搬送方向の上流に前記不純物捕捉部が位置する、フローはんだ付け方法。
A flow soldering method for soldering the substrate using the flow soldering mask according to claim 1 or 2,
Superimposing the substrate and the flow soldering mask so as to expose a portion to be soldered of the substrate from the opening of the flow soldering mask and to cover the portion other than the portion of the substrate; ,
In a state where the flow soldering mask and the substrate are superposed, the solder is transferred to a solder bath disposed therein, and the substrate exposed from the opening is soldered.
The flow soldering method, wherein the impurity trapping portion is positioned upstream of the opening in the transport direction of the substrate.
前記凹部の前記壁面および前記凸部の前記壁面の少なくとも一方の法線が、前記基板の搬送方向と平行でない方向を有する前記フローはんだ付け用マスクを用いる、請求項3に記載のフローはんだ付け方法。   The flow soldering method according to claim 3, wherein the flow soldering mask has a direction in which at least one of the wall surface of the concave portion and the wall surface of the convex portion is not parallel to the transport direction of the substrate. . 前記フローはんだ付け用マスクの前記凸部および前記凹部の少なくとも一方は、前記基板の搬送方向の上流から前記フローはんだ付け用マスクを見たときの前記開口部の幅よりも大きい幅を有する、請求項3または4に記載のフローはんだ付け方法。   At least one of the convex portion and the concave portion of the flow soldering mask has a width larger than a width of the opening when the flow soldering mask is viewed from upstream in the transport direction of the substrate. Item 5. A soldering method according to item 3 or 4.
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