JP5125195B2 - 量子ドットの製造方法 - Google Patents
量子ドットの製造方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP5125195B2 JP5125195B2 JP2007106380A JP2007106380A JP5125195B2 JP 5125195 B2 JP5125195 B2 JP 5125195B2 JP 2007106380 A JP2007106380 A JP 2007106380A JP 2007106380 A JP2007106380 A JP 2007106380A JP 5125195 B2 JP5125195 B2 JP 5125195B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- catalyst
- quantum dots
- catalyst layer
- vapor deposition
- timing
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Images
Landscapes
- Catalysts (AREA)
- Carbon And Carbon Compounds (AREA)
Description
図1(a)〜(c)は、本発明に係る量子ドットの製造方法を含む、量子ドット素子の製造方法の一実施形態を示す図である。本実施形態による量子ドット素子の製造方法は、基材の表面上に量子ドットが形成された素子(半導体レーザ素子や光起電力素子など)を製造する方法であって、図1(a)に示すように基材10の表面10a上に触媒層12を形成する工程(触媒層形成工程)と、図1(b)に示すように触媒層12上にカーボン材料による量子ドット14を形成する工程(量子ドット形成工程)と、図1(c)に示すように基材10の表面10aおよび量子ドット14を高バンドギャップ層16で覆う工程(高バンドギャップ層形成工程)とを含んでいる。
図5及び図6は、上記実施形態による量子ドットの製造方法の変形例として、多孔部材30及び32をそれぞれ示す図である。上述した量子ドットの製造方法においては、図3に示した多孔部材28に代えて、多孔部材30または32を用いてもよい。
Claims (5)
- 基材の表面に量子ドットを製造する方法であって、
前記表面上に触媒材料を物理蒸着することにより、前記触媒材料を含む触媒層を前記量子ドットに対応する複数の領域に形成する触媒層形成工程と、
前記触媒層上にカーボン材料を成長させて前記カーボン材料による前記量子ドットを形成する量子ドット形成工程と
を備え、
前記触媒層形成工程の際に、前記複数の領域の寸法に応じた大きさの複数の開口部を有する多孔部材と、前記触媒材料からなる蒸着源及び前記基材の間を遮断するシャッタ機構とを前記蒸着源及び前記基材の間に配置し、前記触媒材料の蒸発を開始した後の所定の第1のタイミングで前記シャッタ機構を開き、前記第1のタイミングより後の所定の第2のタイミングで前記シャッタ機構を閉じ、
前記シャッタ機構が、前記蒸着源と前記基材との間に並置された第1及び第2のシャッタ部材を含み、
前記触媒材料の蒸発を開始してから前記第1のタイミングまでは前記第1のシャッタ部材によって前記蒸着源及び前記基材の間を遮断し、前記第2のタイミングの後は前記第2のシャッタ部材によって前記蒸着源及び前記基材の間を遮断することを特徴とする、量子ドットの製造方法。 - 前記カーボン材料がカーボンナノチューブであることを特徴とする、請求項1に記載の量子ドットの製造方法。
- 前記触媒材料が鉄、コバルト、及びニッケルのうち少なくとも一つを含むことを特徴とする、請求項1または2に記載の量子ドットの製造方法。
- 前記多孔部材が複数の網材を重ねて構成されていることを特徴とする、請求項1〜3のいずれか一項に記載の量子ドットの製造方法。
- 前記複数の領域の平均径が20ナノメートル以下であることを特徴とする、請求項1〜4のいずれか一項に記載の量子ドットの製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2007106380A JP5125195B2 (ja) | 2007-04-13 | 2007-04-13 | 量子ドットの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2007106380A JP5125195B2 (ja) | 2007-04-13 | 2007-04-13 | 量子ドットの製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2008263141A JP2008263141A (ja) | 2008-10-30 |
JP5125195B2 true JP5125195B2 (ja) | 2013-01-23 |
Family
ID=39985378
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2007106380A Expired - Fee Related JP5125195B2 (ja) | 2007-04-13 | 2007-04-13 | 量子ドットの製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5125195B2 (ja) |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN107919266B (zh) * | 2016-10-08 | 2020-04-10 | 青岛翼晨镭硕科技有限公司 | 一种量子点结构的制作方法 |
JPWO2020230810A1 (ja) * | 2019-05-13 | 2020-11-19 |
Family Cites Families (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR20040010558A (ko) * | 2000-11-13 | 2004-01-31 | 인터내셔널 비지네스 머신즈 코포레이션 | 단일벽 탄소 나노튜브를 포함하는 결정 |
JP3781732B2 (ja) * | 2003-03-20 | 2006-05-31 | 株式会社東芝 | カーボンナノチューブの製造方法、カーボンナノチューブを用いた半導体装置の製造方法、及びカーボンナノチューブの製造装置 |
JP2006035379A (ja) * | 2004-07-27 | 2006-02-09 | Society Of Chemical Engineers Japan | カーボンナノチューブデバイス及びカーボンナノチューブデバイスの製造方法 |
-
2007
- 2007-04-13 JP JP2007106380A patent/JP5125195B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2008263141A (ja) | 2008-10-30 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
EP1511058B1 (en) | Carbon-nano tube structure, method of manufacturing the same, and field emitter and display device each adopting the same | |
US8277770B2 (en) | Method of manufacturing carbon nanotube | |
US20110183206A1 (en) | Apparatus, system, and method for carbon nanotube templated battery electrodes | |
TW200815281A (en) | Substrate for growth of carbon nanotube, method for growth of carbon nanotube, method for control of particle diameter of catalyst for growth of carbon nanotube, and method for control carbon nanotube diameter | |
JP2006297549A (ja) | 金属ナノ粒子の配列蒸着方法及び金属ナノ粒子を用いたカーボンナノチューブの成長方法 | |
WO2014025615A1 (en) | Methods for graphene fabrication on patterned catalytic metal | |
WO2012057229A1 (ja) | カーボンナノチューブの製造方法 | |
US7767185B2 (en) | Method of producing a carbon nanotube and a carbon nanotube structure | |
JP5125195B2 (ja) | 量子ドットの製造方法 | |
JP5374801B2 (ja) | 炭素元素からなる線状構造物質の形成体及び形成方法 | |
JP5228986B2 (ja) | ナノ炭素材料複合基板製造方法 | |
US7932510B2 (en) | Carbon nanotube grown on catalyst and manufacture method | |
US20150292080A1 (en) | Apparatus for the generation of nanocluster films and methods for doing the same | |
JP2003277029A (ja) | カーボンナノチューブ及びその製造方法 | |
KR100634547B1 (ko) | 링 타입 에미터를 갖는 전계방출소자 및 그 제조 방법 | |
JP3475358B2 (ja) | カーボン微粒子の製造装置 | |
Yilmazoglu et al. | Pronounced field emission from vertically aligned carbon nanotube blocks and bundles | |
KR20060042145A (ko) | 카바이드 및 나이트라이드 나노 전자 에미터를 구비한 소자의 제조방법 | |
JP3819566B2 (ja) | ダイヤモンド膜またはダイヤモンド状炭素膜の成膜方法 | |
JP2010116303A (ja) | カーボンナノチューブ成長用基板、トランジスタ及びカーボンナノチューブ成長用基板の製造方法 | |
JP2006253122A (ja) | プラズマ源、イオン源、及び、イオン生成方法 | |
KR20200055350A (ko) | 엑스레이 튜브용 에미터 및 이의 제작방법 | |
JP4631095B2 (ja) | 金属ナノ粒子の生成方法 | |
KR102494599B1 (ko) | 엑스레이 튜브용 에미터 및 이의 제조방법 | |
JP4796313B2 (ja) | カーボンナノチューブの成長方法及びトランジスタ |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20091222 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20120821 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20120907 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20121002 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20121015 |
|
R151 | Written notification of patent or utility model registration |
Ref document number: 5125195 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R151 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20151109 Year of fee payment: 3 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |