JP5123923B2 - 脆性基板の加工方法及び装置 - Google Patents

脆性基板の加工方法及び装置 Download PDF

Info

Publication number
JP5123923B2
JP5123923B2 JP2009278260A JP2009278260A JP5123923B2 JP 5123923 B2 JP5123923 B2 JP 5123923B2 JP 2009278260 A JP2009278260 A JP 2009278260A JP 2009278260 A JP2009278260 A JP 2009278260A JP 5123923 B2 JP5123923 B2 JP 5123923B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
laser
glass substrate
laser irradiation
lens barrel
processing apparatus
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Fee Related
Application number
JP2009278260A
Other languages
English (en)
Other versions
JP2010064493A (ja
Inventor
明 伊東
勉 上野
昌宏 藤井
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Mitsuboshi Diamond Industrial Co Ltd
Original Assignee
Mitsuboshi Diamond Industrial Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Mitsuboshi Diamond Industrial Co Ltd filed Critical Mitsuboshi Diamond Industrial Co Ltd
Priority to JP2009278260A priority Critical patent/JP5123923B2/ja
Publication of JP2010064493A publication Critical patent/JP2010064493A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP5123923B2 publication Critical patent/JP5123923B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Images

Landscapes

  • Re-Forming, After-Treatment, Cutting And Transporting Of Glass Products (AREA)
  • Dicing (AREA)
  • Processing Of Stones Or Stones Resemblance Materials (AREA)
  • Laser Beam Processing (AREA)

Description

本発明は、レーザ照射により脆性基板を加工する方法及び装置に関する。脆性基板には半導体ウエハーおよびガラス基板が含まれる。
ガラスカッターホイールを用いたガラススクライバーでは、脆性基板であるガラス基板にスクライブを行ない、これによりガラス基板表面に生じたクラックが更に促進する向きにガラス基板を撓ませることでガラス基板をスクライブしたラインでブレイクしている。
この従来のスクライブ法に替わってレーザを用いたスクライブ法が実用化されるようになっている。これは図17に示すように、矢印方向に移動しているガラス基板101に対してレーザ102よりのレーザビームが長円(その長軸が移動方向に合致)のレーザスポット103にして照射されており、そのレーザビームの照射で加熱された領域が次に冷媒ジェット104で冷却されることにより、ガラス基板101に内部歪応力が発生してクラック(この場合のクラックは目視では確認できないためブラインドクラックと呼んでいる)105が生じる。この後は従来のスクライブ法と同じようにガラス基板を撓ませることでブラインドクラックのラインに沿ってブレイクしている。
このレーザを用いた加工では、ブラインドクラックの形成時にカレットは発生しないが、機械的な外力を与えて行うブレイク工程で微細なカレットが発生するため、LCD基板の製造ラインにおいては、基板のブレイク工程をクリーンルームから離隔した空間で行わなければならないという課題があった。
また、脆性基板の板厚が薄くテーブルの移動速度が遅い場合、1回のレーザ照射で脆性基板を割断できるが、加工時間が長くなり、生産効率が悪いという問題があった。
本発明は、上述した課題を解決するためになされたものであり、本願はカレットの発生をなくした脆性基板の加工方法及び装置を提供することを目的とする。
本発明は、レーザ照射後に冷媒を吹き付けることにより、脆性基板の表面にブラインドクラックを形成した後に、更に多点ビームのレーザ照射を行うことでブラインドクラックの形成を促進させて、脆性基板を完全にブレイクさせている(以下、フルボディ加工という)。
最初に照射するレーザビームは長円でその長軸が脆性基板の移動方向に合致するものであるが、2回目に照射するレーザビームは、多点ビームであり、ブラインドクラックの両側に一対もしくは複数対のビームスポットを照射してもよい。又、あるいは、ブラインドクラックが形成されているラインをはさんで対称に奇数個もしくは偶数個配置したビームスポットで照射してもよい。
以上説明したように、本発明は、レーザ照射および冷媒吹き付けによる通常のブラインドクラック加工を行った後に更に多点ビームのレーザ照射を行ない、ブラインドクラックの形成を更に促進させることにより、脆性基板を機械的な外部応力を加えることなく完全にブレイクするものであり、機械的なブレイク工程を伴なわないためにカレットは生じず、クリーンな環境でブレイクを行える。また2回のレーザ照射により脆性基板を完全分断させることで効率よく分断させることができ、加工時間を短縮できる。
図9は本発明の第1の実施形態を示したレーザ加工装置BSの正面図である。台座1は、当紙面と垂直方向のボールネジ2をモータ3により軸回転させることにより、2列のレール4,5に沿って紙面に垂直な方向(Y方向)に移動する。その台座1の上面には、左右(X)方向にガイド6とモータ7により軸回転するボールネジ8が設けられている。そのボールネジ8は第2の台座9に設けたボールナット10に螺合しており、これにより、モータ7が回転すると、台座9はガイド6に沿ってX方向に移動する。台座9上にはθ回転機構11を介してテーブル12が備えられ、そのテーブル12上にはガラス基板13が吸引固定される。
14はレーザ発振部であり、ここで発振したレーザ光はミラーを介して内部にレンズユニットを備える鏡筒部15に導かれ、このレンズユニットにより所望サイズに絞り込まれた長円(その長軸がスクライブ方向に合致)のビームスポットがガラス基板13に対して照射される。
前記鏡筒部15の下端にはX方向に延在する支持ユニット16が設けられており、鏡筒部15の筒中心軸より右側には、カッターホイールチップ17を回転自在に保持するチップホルダー18が昇降自在に設けられ、又、鏡筒部15の筒中心軸より左側には水ジェット、Heガス、N2ガスやCO2ガスをガラス基板13に冷媒として吹き付けるためのノズル19が所定の吹き付け角で設置されている。
ガラス基板13に刻印されたアライメントマークを撮影するCCDカメラ20、21で撮影されたアライメントマークは画像認識装置により、そのの位置が認識され、これにより、テーブル12にセットしたガラス基板13の位置ずれを知ることができる。22、23はCCDカメラ20、21による撮影像を表示するモニターである。
このレーザ加工装置BSでの動作を図12に従って説明する。ステップ(A)にてガラス基板13のアライメントマークを読み取り、ステップ(B)にてガラス基板13の端部に切り目を付け、ステップ(C)にてレーザ照射と冷媒吹き付けを行い、ステップ(D)ではテーブル12を元の位置に戻してから再度テーブル12を左方向に移動させ、このときはレーザ照射のみを行い、冷媒の吹き付けは行わない。
尚、図9のレーザ加工装置BSおよび後述の図5のレーザ加工装置W3では、2回目のレーザ照射時に冷媒吹き付けを行うと、一段とブラインドクラックの形成を促進させる効果がある。
また、このレーザ加工装置BSは、レーザ発振部の取付位置を変えたり、鏡筒部15ののレンズ系を変更するなどによりビームの走行方向を90゜変えることができ、これにより加工対象の脆性基板の形状寸法やライン配置により、最適なビームの走行方向を選択できる機器構成となっている。
図10はレーザ加工装置BSを用いたシステム構成を示し、ガラス基板13が単板の場合は、加工済みのガラス基板13は搬送ロボット52により、ストッカー54へ搬出されるが、ガラス基板13が貼り合わせの場合は、前記加工済みのガラス基板13は搬送ロボット52により、中間テーブル53に載置され、そのガラス基板13を持ちかえる(反対面で吸引する)ことにより、表裏を反転させた状態でテーブル12に再セットし、再び図12のステップ(A)〜ステップ(D)を繰返す。
図11は、ガラス基板の両面に対して加工を行うシステム構成を示し、レーザ加工装置BS1でガラス基板の一方の面にフルボディ加工を行い、次に反転用の中間テーブル53により反転させたガラス基板に対して、第2のレーザ加工装置BS2において同様なフルボディ加工を行う。
図12ではレーザ照射により1条のブラインドクラックを形成する毎に続けて2回目のレーザ照射を行う例であったが、複数条のブラインドクラックを形成してからそれぞれのブラインドクラックに対して2回目のレーザ照射を行うようにしてもよい。2回目のレーザ照射においては、前述の多点スポットとしてもよい。
ブラインドクラックを直交する方向にも加工を行う時には、テーブル12を90゜回転させ、また、ブラインドクラックの形成前後に、ブラインドクラックを形成予定のストリートの交点にカッターホイールチップ17により切り目を付けておく。
また、前記ブラインドクラックを形成予定のストリートの交点に切り目を付けるのにパルスレーザを用いてもよい。
図13は本発明の第2の実施形態を示したレーザ照射装置Lを示す。この装置Lは図9のレーザ加工装置BSからチップホルダー18および冷媒吹き付けノズル19を取り除いたものと同じである。このレーザ照射装置Lは単独で使用するのではなく、図14、図15のシステム図に示すようにレーザ加工装置BSやBS1、BS2に併用して使用する。
図14は、単板のガラス基板を加工するシステム図を示し、左からストッカー51、レーザ加工装置BS、レーザ照射装置L、ストッカー54を備え、ストッカー51のガラス基板をレーザ加工装置BSのテーブルに供給し、そしてそのテーブルからガラス基板を中間テーブル53に搬送するロボット52aと、その中間テーブル53のガラス基板をレーザ照射装置Lのテーブルに供給する、その後、そのガラス基板をストッカー54に搬出するロボット52bからなる。
これらの装置BSおよび装置Lの動作を図16に従って述べる。ステップ(A)ではCCDカメラ20、21にてガラス基板13のアライメントマークを読み取る。ステップ(B)にてガラス基板13の端部に切り目を付ける。続いてレーザ照射および冷媒吹き付けによるブラインドクラック加工が行われる。そのガラス基板13はロボット52bによりレーザ照射装置Lへ搬送される。(C)同装置LのCCDカメラ20'、21'によってアライメントマークの読み取りと、それに基づくテーブル12の位置修正が行われた後、ステップ(D)にて鏡筒部15'によりレーザ照射のみによるフルボディ加工が行われる。
図15は両面加工用のシステムを示し、左からレーザ加工装置BS1、レーザ照射装置L1、レーザ加工装置BS2、レーザ照射装置L2が備えられ、レーザ加工装置BS1およびレーザ照射装置L1にて、ガラス基板の一方の面に2回のレーザ照射によるフルボディ加工がなされ、そのガラス基板は中間テーブル53bを介して反転され、レーザ加工装置BS2およびレーザ照射装置L2にて他方の面に同様に2回のレーザ照射によるフルボディ加工がなされる。
この場合においては、ブラインドクラックを形成してからそれぞれのブラインドクラックに対して2回目のレーザ照射を行う。
図1は本発明の第3の実施形態を示したレーザ加工装置Wの正面図である。構成はレーザー加工装置BSのレーザ発振部14および鏡筒部15と同等のレーザ発振部31および鏡筒部32を更に備える。その他の機器構成は図9の第1の実施形態のものと同様であるので説明を省略する。
図2は本レーザ加工装置Wを採用したシステム図を示している。未加工のガラス基板がストックされるストッカー51、ガラス基板の搬送を行う搬送ロボット52、ガラス基板を反転させるために用いる中間テーブル53及び加工済みのガラス基板をストックするストッカー54を備える。
図4に本レーザ加工装置Wにおける加工手順を示している。ステップ(A)では、搬送ロボット52によりストッカー51から供給されたガラス基板13が、テーブル12の移動によりCCDカメラ20、21の下方に移動し、ガラス基板13のアライメントマークが読み取られることにより、ガラス基板13のセット時のずれが認識される。そのずれ量を修正すべく、テーブル12のY方向の移動、テーブル12のX方向移動およびθ回転機構11によるテーブル12のθ回転が行われる。
ステップ(B)ではチップホルダー18が所定量降下した状態でテーブル12が所定の速度で図中左方向に移動する。これにより、カッターホイールチップ17がガラス基板12を乗り上げる時にガラス基板端部に切り目がつけられる。この後は直ちにチップホルダー18は上昇する。
ステップ(C)ではガラス基板13が鏡筒部15下を通過する間にレーザ照射および冷媒の吹き付けによるブラインドクラックの形成が行われる。
ステップ(D)ではガラス基板13が第2の鏡筒部32下を通過するときに再びレーザ照射が行われ、先のブラインドクラックの形成が促進されることにより、ガラス基板は完全にブレイクされる。
複数条でブレイク加工を行う場合は、テーブル12をX又はYの一方向に移動させる毎に上述した一連の動作を繰返すか、あるいは最初に複数条のブラインドクラックを形成してから、各ブラインドクラックに対して2回目のレーザ照射を行う。又、これらのブラインドクラックと直交する方向にも加工を行うときは、テーブル12を90°回転させ、ブラインドクラックの形成前後に、ブラインドクラックを形成するストリートの交点にカッターホイールチップ17により切り目をつける。
また、前記ブラインドクラックを形成するストリートの交点に切り目をつけるのにパルスレーザを用いてもよい。
ガラス基板13が単板の場合は、加工済みのガラス基板13は搬送ロボット52により、ストッカー54へ搬出されるが、ガラス基板13が貼り合わせの場合は、前記加工済みのガラス基板13は搬送ロボット52により、中間テーブル53に載置され、そのガラス基板13を持ちかえる(反対面で吸引する)ことにより、表裏を反転させた状態でテーブル12に再セットし、再び図4のステップ(A)〜ステップ(D)を繰返す。
図3は第2のシステム構成を示しており、図2で示したレーザ加工装置WをW1、W2のごとく2台設置し、両機の間に中間テーブル53を設置し、装置W1に対してはストッカー51および搬送ロボット52aを設置し、装置W2に対してはストッカー54および搬送ロボット52bを設置している。これらの搬送ロボット52a、52bは図2の搬送ロボット52と同じものである。
レーザ加工装置Wでは、複数のレーザ発振部が搭載可能で、レーザ発振部の取付位置を変えたり、鏡筒部のレンズ系を変更することで、レーザビームの走行方向を90゜変えることが可能であり、2台のレーザ発振部を搭載した場合、ビームの走行速度が遅いときには、2本ずつフルボディ加工を実行することが可能である。また、ブラインドクラックを2本ずつ複数本形成した後、2本ずつ順次2回目のレーザ照射を行い、フルボディ加工することも可能である。または、90゜ビームの走行方向を変えることで、1回のテーブル移動時に2箇所でレーザ照射を同期して行うことが可能な装置構成となっている。
図1のレーザ加工装置Wでは鏡筒15と第2の鏡筒部32とをスクライブ(X)方向に配列したが鏡筒部をスクライブ方向と直交する(Y)方向に配列してもよい。その場合は、鏡筒部15によるレーザ照射の後、同一個所を第2の鏡筒部32によってレーザ照射できるようにテーブル12をY方向に移動する。
図5のレーザ加工装置W3は、第2の鏡筒部32に、支持ユニット16と同一の支持ユニット33を設けたものであり、但し、チップホルダー34およびカッターホイールチップ35は、支持ユニット16におけるものと左右反対に設けている。
このレーザ加工装置W3ではテーブル12を左方向に移動させるときは、図1の装置と同じ動作(第2の鏡筒部32でレーザ照射のみを行う)をなすが、そのテーブルが右方向に移動するとき、第2の鏡筒部32でレーザ照射および冷媒吹き付けを行い、鏡筒部15ではレーザ照射のみを行うことで、テーブル12がいずれの方向に移動するときでも2回のレーザ照射によるフルボディ加工を行うことができる。
図5のレーザ加工装置W3では、鏡筒15と第2の鏡筒部32とを紙面に平行な(X)方向に配列したが、それらの取付け位置の配列を変えずに鏡筒部15、32のレンズ系を変えるなりしてそれらから照射されるビームの長円方向を90゜回転させる。そうすることにより、同一加工装置で、別のレーザ加工方法のモードを選択することが可能となる。すなわち、図1の当初の配列では1本のBLを形成するのに続いて、同一BLに対して第2のレーザ照射が行われるのに対して、レンズ系を90゜回転させた後の加工装置では、第1回目のレーザ照射が2箇所(2列)で並行して同時に行われ2本のBLが同時に並行して形成されていき、次の第2回目のレーザ照射が2箇所(2列)で並行して同時に行われ2箇所で同時に並行して分断が実行されていきます。
図6は、図1のレーザ加工装置Wにおけるビームスポットの位置関係を示している。B1およびCが鏡筒部15によるビームスポットおよび冷媒吹き付けによる冷却スポットであり、B2が第2の鏡筒部32によるビームスポットであり、いずれもブラインドクラックBL上に位置する。又、ビームスポットはこの場合は長円である。
図7は、図6のビームスポットB2に替えて多点スポットB3としたものである。この多点スポットB3では各スポットはブラインドクラックBL上にはなく、その両側に2対のスポットを照射している。このような多点スポットB3を用いると、よりよいスクライブ結果が得られることがある。上記の多点スポットは、B3'のごとくブラインドクラックBLに対称に奇数個配置してもよい。
多点スポットを得るには、図8のレーザスクライブ装置に示すように、第2の鏡筒部32の下端にビームスプリッタ38を装着すればよい。このビームスプリッタ38は複数のハーフミラーを用いて1本のレーザビームを複数本に分けている。各ハーフミラーの位置および角度を替えることで、冷却スポットCからの距離a、各スポット間の間隔b,cを調整できるようになっている。
本発明の1実施形態を示したレーザ加工装置の正面図 図1の装置のシステム構成図 図1の装置の別のシステム構成図 図1の装置における動作の流れを示した図 図1の装置の別の形態を示したレーザ加工装置の正面図 図1の装置におけるビームスポットの位置関係を示した図 図8の装置におけるビームスポットの位置関係を示した図 図1の装置の別の形態を示したレーザ加工装置の正面図 本発明の第2の実施形態を示したレーザ加工装置の正面図 図9の装置のシステム構成図 図9の装置の別のシステム構成図 図9の装置における動作の流れを示した図 本発明の第3の実施形態を示したレーザ照射装置の正面図 図13の装置のシステム構成図 図13の装置の別のシステム構成図 図13の装置における動作の流れを示した図 レーザを用いたスクライブ法を示した図
1 台座
11 θ回転機構
12 テーブル
13 ガラス基板
14、31 レーザ発振部
15、32 鏡筒部
17 カッターホィールチップ
18 チップホルダー
19 ノズル
20、21 CCDカメラ
22、23 モニター
38 ビームスプリッタ

Claims (1)

  1. 脆性基板(13)がセットされるテーブル(12)、テーブル(12)を移動させるテーブル移動機構(7、8、10)と、第1のレーザ照射手段(14、15)と第1のレーザ照射手段(14、15)に設置した冷媒吹き付け手段(19)と、第2のレーザ照射手段(31、32)と、第2のレーザ照射手段(31、32)の出力端に設けたビームスプリッタ(38)とを備える脆性基板(13)の加工装置において
    テーブル移動機構(7、8、10)によるテーブル(12)の移動中に、脆性基板(13)に対し
    第1のレーザ照射手段(14、15)によるレーザビームの照射と冷媒吹き付け手段(19)による冷媒吹き付けを行った後第2のレーザ照射手段(31、32)とビームスプリッタ(38)による多点ビームの照射を行うことを特徴とする脆性基板(13)の加工装置。
JP2009278260A 2009-12-08 2009-12-08 脆性基板の加工方法及び装置 Expired - Fee Related JP5123923B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2009278260A JP5123923B2 (ja) 2009-12-08 2009-12-08 脆性基板の加工方法及び装置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2009278260A JP5123923B2 (ja) 2009-12-08 2009-12-08 脆性基板の加工方法及び装置

Related Parent Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP30878799A Division JP2001130921A (ja) 1999-10-29 1999-10-29 脆性基板の加工方法及び装置

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2010064493A JP2010064493A (ja) 2010-03-25
JP5123923B2 true JP5123923B2 (ja) 2013-01-23

Family

ID=42190471

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2009278260A Expired - Fee Related JP5123923B2 (ja) 2009-12-08 2009-12-08 脆性基板の加工方法及び装置

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP5123923B2 (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP7562029B2 (ja) 2023-01-16 2024-10-04 株式会社アマダ レーザ加工装置

Families Citing this family (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP5664224B2 (ja) * 2010-12-28 2015-02-04 コニカミノルタ株式会社 ガラスロールの製造方法
JP5271394B2 (ja) * 2011-07-20 2013-08-21 三星ダイヤモンド工業株式会社 レーザスクライブ装置
JP5271393B2 (ja) * 2011-07-20 2013-08-21 三星ダイヤモンド工業株式会社 レーザスクライブ装置
JP7361357B2 (ja) * 2019-02-28 2023-10-16 三星ダイヤモンド工業株式会社 半導体基板の分断方法及び分断装置
CN113385835B (zh) * 2021-07-08 2023-03-21 广东原点智能技术有限公司 一种长筒状工件分度加工系统

Family Cites Families (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH01108006A (ja) * 1987-10-21 1989-04-25 Nagasaki Pref Gov 脆性材料の割断加工方法
JP3210934B2 (ja) * 1994-06-08 2001-09-25 長崎県 脆性材料の割断方法
JPH0912327A (ja) * 1995-06-26 1997-01-14 Corning Inc ガラス切断方法および装置

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP7562029B2 (ja) 2023-01-16 2024-10-04 株式会社アマダ レーザ加工装置

Also Published As

Publication number Publication date
JP2010064493A (ja) 2010-03-25

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP2001130921A (ja) 脆性基板の加工方法及び装置
JP4156513B2 (ja) 脆性材料基板のスクライブ方法およびスクライブ装置
JP5123923B2 (ja) 脆性基板の加工方法及び装置
US7863160B2 (en) Wafer processing method including forming blocking and dividing grooves
US7015118B2 (en) Method for forming a scribe line on a semiconductor device and an apparatus for forming the scribe line
JP4843212B2 (ja) レーザー処理装置及びレーザー処理方法
KR101183865B1 (ko) 취성 재료 기판의 모따기 가공 방법 및 모따기 가공 장치
US9120178B2 (en) Method of radiatively grooving a semiconductor substrate
JP5320395B2 (ja) 面取り加工装置
TW200927353A (en) Laser processing apparatus
KR101073459B1 (ko) 접합 기판의 단자 가공 방법
JP4080484B2 (ja) 脆性材料基板のスクライブ方法およびスクライブ装置
JP4390937B2 (ja) ガラス板分割方法及び装置
JP4615231B2 (ja) スクライブ装置およびこの装置を用いたスクライブ方法
TW542763B (en) Scribing device for fragile material substrate
JP4407584B2 (ja) レーザ照射装置およびレーザスクライブ方法
TWI292352B (ja)
JP2007021557A (ja) レーザ照射装置、レーザスクライブ方法
JPWO2003013816A1 (ja) 脆性材料基板のスクライブ方法およびスクライブ装置
TWI475710B (zh) 製造薄層太陽能電池模組的裝置
KR100578309B1 (ko) 레이저 커팅 장치 및 이를 이용한 유리 기판 커팅 방법
WO2010092964A1 (ja) 脆性材料基板の割断方法
KR20080093321A (ko) 레이저가공 장치
JP5444158B2 (ja) 脆性材料基板の割断方法
JP4329741B2 (ja) レーザ照射装置、レーザスクライブ方法

Legal Events

Date Code Title Description
A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20111227

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20120228

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20120426

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20121002

A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20121026

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20151102

Year of fee payment: 3

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees