JP5123923B2 - 脆性基板の加工方法及び装置 - Google Patents
脆性基板の加工方法及び装置 Download PDFInfo
- Publication number
- JP5123923B2 JP5123923B2 JP2009278260A JP2009278260A JP5123923B2 JP 5123923 B2 JP5123923 B2 JP 5123923B2 JP 2009278260 A JP2009278260 A JP 2009278260A JP 2009278260 A JP2009278260 A JP 2009278260A JP 5123923 B2 JP5123923 B2 JP 5123923B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- laser
- glass substrate
- laser irradiation
- lens barrel
- processing apparatus
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Images
Landscapes
- Re-Forming, After-Treatment, Cutting And Transporting Of Glass Products (AREA)
- Dicing (AREA)
- Processing Of Stones Or Stones Resemblance Materials (AREA)
- Laser Beam Processing (AREA)
Description
最初に照射するレーザビームは長円でその長軸が脆性基板の移動方向に合致するものであるが、2回目に照射するレーザビームは、多点ビームであり、ブラインドクラックの両側に一対もしくは複数対のビームスポットを照射してもよい。又、あるいは、ブラインドクラックが形成されているラインをはさんで対称に奇数個もしくは偶数個配置したビームスポットで照射してもよい。
ステップ(D)ではガラス基板13が第2の鏡筒部32下を通過するときに再びレーザ照射が行われ、先のブラインドクラックの形成が促進されることにより、ガラス基板は完全にブレイクされる。
11 θ回転機構
12 テーブル
13 ガラス基板
14、31 レーザ発振部
15、32 鏡筒部
17 カッターホィールチップ
18 チップホルダー
19 ノズル
20、21 CCDカメラ
22、23 モニター
38 ビームスプリッタ
Claims (1)
- 脆性基板(13)がセットされるテーブル(12)と、テーブル(12)を移動させるテーブル移動機構(7、8、10)と、第1のレーザ照射手段(14、15)と、第1のレーザ照射手段(14、15)に設置した冷媒吹き付け手段(19)と、第2のレーザ照射手段(31、32)と、第2のレーザ照射手段(31、32)の出力端に設けたビームスプリッタ(38)とを備える脆性基板(13)の加工装置において、
テーブル移動機構(7、8、10)によるテーブル(12)の移動中に、脆性基板(13)に対して、
第1のレーザ照射手段(14、15)によるレーザビームの照射と冷媒吹き付け手段(19)による冷媒の吹き付けを行った後、第2のレーザ照射手段(31、32)とビームスプリッタ(38)による多点ビームの照射を行うことを特徴とする脆性基板(13)の加工装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2009278260A JP5123923B2 (ja) | 2009-12-08 | 2009-12-08 | 脆性基板の加工方法及び装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2009278260A JP5123923B2 (ja) | 2009-12-08 | 2009-12-08 | 脆性基板の加工方法及び装置 |
Related Parent Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP30878799A Division JP2001130921A (ja) | 1999-10-29 | 1999-10-29 | 脆性基板の加工方法及び装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2010064493A JP2010064493A (ja) | 2010-03-25 |
JP5123923B2 true JP5123923B2 (ja) | 2013-01-23 |
Family
ID=42190471
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2009278260A Expired - Fee Related JP5123923B2 (ja) | 2009-12-08 | 2009-12-08 | 脆性基板の加工方法及び装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5123923B2 (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP7562029B2 (ja) | 2023-01-16 | 2024-10-04 | 株式会社アマダ | レーザ加工装置 |
Families Citing this family (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP5664224B2 (ja) * | 2010-12-28 | 2015-02-04 | コニカミノルタ株式会社 | ガラスロールの製造方法 |
JP5271394B2 (ja) * | 2011-07-20 | 2013-08-21 | 三星ダイヤモンド工業株式会社 | レーザスクライブ装置 |
JP5271393B2 (ja) * | 2011-07-20 | 2013-08-21 | 三星ダイヤモンド工業株式会社 | レーザスクライブ装置 |
JP7361357B2 (ja) * | 2019-02-28 | 2023-10-16 | 三星ダイヤモンド工業株式会社 | 半導体基板の分断方法及び分断装置 |
CN113385835B (zh) * | 2021-07-08 | 2023-03-21 | 广东原点智能技术有限公司 | 一种长筒状工件分度加工系统 |
Family Cites Families (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH01108006A (ja) * | 1987-10-21 | 1989-04-25 | Nagasaki Pref Gov | 脆性材料の割断加工方法 |
JP3210934B2 (ja) * | 1994-06-08 | 2001-09-25 | 長崎県 | 脆性材料の割断方法 |
JPH0912327A (ja) * | 1995-06-26 | 1997-01-14 | Corning Inc | ガラス切断方法および装置 |
-
2009
- 2009-12-08 JP JP2009278260A patent/JP5123923B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP7562029B2 (ja) | 2023-01-16 | 2024-10-04 | 株式会社アマダ | レーザ加工装置 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2010064493A (ja) | 2010-03-25 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP2001130921A (ja) | 脆性基板の加工方法及び装置 | |
JP4156513B2 (ja) | 脆性材料基板のスクライブ方法およびスクライブ装置 | |
JP5123923B2 (ja) | 脆性基板の加工方法及び装置 | |
US7863160B2 (en) | Wafer processing method including forming blocking and dividing grooves | |
US7015118B2 (en) | Method for forming a scribe line on a semiconductor device and an apparatus for forming the scribe line | |
JP4843212B2 (ja) | レーザー処理装置及びレーザー処理方法 | |
KR101183865B1 (ko) | 취성 재료 기판의 모따기 가공 방법 및 모따기 가공 장치 | |
US9120178B2 (en) | Method of radiatively grooving a semiconductor substrate | |
JP5320395B2 (ja) | 面取り加工装置 | |
TW200927353A (en) | Laser processing apparatus | |
KR101073459B1 (ko) | 접합 기판의 단자 가공 방법 | |
JP4080484B2 (ja) | 脆性材料基板のスクライブ方法およびスクライブ装置 | |
JP4390937B2 (ja) | ガラス板分割方法及び装置 | |
JP4615231B2 (ja) | スクライブ装置およびこの装置を用いたスクライブ方法 | |
TW542763B (en) | Scribing device for fragile material substrate | |
JP4407584B2 (ja) | レーザ照射装置およびレーザスクライブ方法 | |
TWI292352B (ja) | ||
JP2007021557A (ja) | レーザ照射装置、レーザスクライブ方法 | |
JPWO2003013816A1 (ja) | 脆性材料基板のスクライブ方法およびスクライブ装置 | |
TWI475710B (zh) | 製造薄層太陽能電池模組的裝置 | |
KR100578309B1 (ko) | 레이저 커팅 장치 및 이를 이용한 유리 기판 커팅 방법 | |
WO2010092964A1 (ja) | 脆性材料基板の割断方法 | |
KR20080093321A (ko) | 레이저가공 장치 | |
JP5444158B2 (ja) | 脆性材料基板の割断方法 | |
JP4329741B2 (ja) | レーザ照射装置、レーザスクライブ方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20111227 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20120228 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20120426 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20121002 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20121026 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20151102 Year of fee payment: 3 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |