JP5121987B2 - メッキ層の形成方法及びこれを用いた回路基板の製造方法 - Google Patents
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- 238000007747 plating Methods 0.000 title claims description 28
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 25
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 24
- 239000011347 resin Substances 0.000 claims description 70
- 229920005989 resin Polymers 0.000 claims description 70
- 239000011888 foil Substances 0.000 claims description 29
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims description 29
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 29
- KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N Palladium Chemical compound [Pd] KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 16
- 238000007772 electroless plating Methods 0.000 claims description 6
- 238000005530 etching Methods 0.000 claims description 6
- 229910052763 palladium Inorganic materials 0.000 claims description 6
- 239000003638 chemical reducing agent Substances 0.000 claims description 5
- 238000009713 electroplating Methods 0.000 claims description 4
- 238000010030 laminating Methods 0.000 claims description 4
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 82
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 19
- JEIPFZHSYJVQDO-UHFFFAOYSA-N iron(III) oxide Inorganic materials O=[Fe]O[Fe]=O JEIPFZHSYJVQDO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 17
- 230000003449 preventive effect Effects 0.000 description 17
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 3
- 238000011946 reduction process Methods 0.000 description 3
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 2
- 239000011651 chromium Substances 0.000 description 2
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WGLPBDUCMAPZCE-UHFFFAOYSA-N Trioxochromium Chemical compound O=[Cr](=O)=O WGLPBDUCMAPZCE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012790 adhesive layer Substances 0.000 description 1
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910001430 chromium ion Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910000423 chromium oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011889 copper foil Substances 0.000 description 1
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 description 1
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 238000007598 dipping method Methods 0.000 description 1
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 1
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 1
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 1
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- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
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- H05K3/108—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits in which conductive material is applied to the insulating support in such a manner as to form the desired conductive pattern by semi-additive methods; masks therefor
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- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K2203/00—Indexing scheme relating to apparatus or processes for manufacturing printed circuits covered by H05K3/00
- H05K2203/11—Treatments characterised by their effect, e.g. heating, cooling, roughening
- H05K2203/1152—Replicating the surface structure of a sacrificial layer, e.g. for roughening
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- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K2203/00—Indexing scheme relating to apparatus or processes for manufacturing printed circuits covered by H05K3/00
- H05K2203/11—Treatments characterised by their effect, e.g. heating, cooling, roughening
- H05K2203/1157—Using means for chemical reduction
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K3/00—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
- H05K3/38—Improvement of the adhesion between the insulating substrate and the metal
- H05K3/386—Improvement of the adhesion between the insulating substrate and the metal by the use of an organic polymeric bonding layer, e.g. adhesive
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- Manufacturing Of Printed Wiring (AREA)
- Chemically Coating (AREA)
Description
6 還元性溶液
10 金属箔
12 防錆物質
20 プライマー樹脂層
30 絶縁層
40 シード層
45 回路パターン
50 メッキレジスト
Claims (9)
- 粗さが形成された一面に、プライマー樹脂層がコーティングされた金属箔を提供するステップと、
前記粗さが形成されたプライマー樹脂層を絶縁層に転写するステップと、
残存する金属箔の防錆物質を除去するために、前記プライマー樹脂層を還元処理するステップと、
前記粗さが形成されたプライマー樹脂層にメッキを施すステップと、
を含むメッキ層の形成方法。 - 前記還元処理するステップは、
還元性物質を含む還元性溶液に浸漬処理するステップを含むことを特徴とする請求項1に記載のメッキ層の形成方法。 - 前記プライマー樹脂層の転写ステップは、
前記プライマー樹脂層が前記絶縁層に接着されるように、前記金属箔を前記絶縁層に積層するステップと、
エッチングにより前記金属箔を除去するステップと、を含むことを特徴とする請求項1または請求項2に記載のメッキ層の形成方法。 - 前記プライマー樹脂層をメッキするステップは、
前記プライマー樹脂層にパラジウム(Pd)を吸着させるステップと、
前記プライマー樹脂層に無電解メッキを施すステップと、を含むことを特徴とする請求項1から請求項3の何れか1項に記載のメッキ層の形成方法。 - 粗さが形成された一面に、プライマー樹脂層がコーティングされた金属箔を提供するステップと、
前記粗さが形成されたプライマー樹脂層を絶縁層に転写するステップと、
残存する金属箔の防錆物質を除去するために、前記プライマー樹脂層を還元処理するステップと、
前記粗さが形成されたプライマー樹脂層に回路パターンを形成するステップと、
を含む回路基板の製造方法。 - 前記還元処理するステップは、
プライマー樹脂層を、還元性物質を含む還元性溶液に浸漬処理するステップを含むことを特徴とする請求項5に記載の回路基板の製造方法。 - 前記プライマー樹脂層の転写ステップは、
前記プライマー樹脂層が前記絶縁層に接着されるように、前記金属箔を前記絶縁層に積層するステップと、
エッチングにより前記金属箔を除去するステップと、を含むことを特徴とする請求項5または請求項6に記載の回路基板の製造方法。 - 前記回路パターンを形成するステップは、
前記プライマー樹脂層にシード層を形成するステップと、
前記シード層を電極として電解メッキにより前記回路パターンを形成するステップと、を含む請求項5から請求項7の何れか1項に記載の回路基板の製造方法。 - 前記シード層を形成するステップは、
前記プライマー樹脂層にパラジウム(Pd)を吸着させるステップと、
前記無電解メッキにより前記シード層を形成するステップと、を含むことを特徴とする請求項8に記載の回路基板の製造方法。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR10-2010-0075011 | 2010-08-03 | ||
KR1020100075011A KR101081588B1 (ko) | 2010-08-03 | 2010-08-03 | 도금층 형성방법 및 이를 이용한 회로기판 제조방법 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2012039111A JP2012039111A (ja) | 2012-02-23 |
JP5121987B2 true JP5121987B2 (ja) | 2013-01-16 |
Family
ID=45397415
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2011168149A Active JP5121987B2 (ja) | 2010-08-03 | 2011-08-01 | メッキ層の形成方法及びこれを用いた回路基板の製造方法 |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US20120031550A1 (ja) |
JP (1) | JP5121987B2 (ja) |
KR (1) | KR101081588B1 (ja) |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US10177401B2 (en) * | 2014-11-20 | 2019-01-08 | Qualcomm Incorporated | Method of establishing physical and electrical connections between a battery and a circuit |
JP6438370B2 (ja) * | 2015-08-03 | 2018-12-12 | Jx金属株式会社 | プリント配線板の製造方法、表面処理銅箔、積層体、プリント配線板、半導体パッケージ及び電子機器 |
Family Cites Families (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5734384A (en) * | 1980-08-09 | 1982-02-24 | Matsushita Electric Works Ltd | Method of producing board for printed circuit |
JPH05259611A (ja) * | 1992-03-12 | 1993-10-08 | Hitachi Chem Co Ltd | プリント配線板の製造法 |
JPH07226575A (ja) * | 1994-02-14 | 1995-08-22 | Hitachi Chem Co Ltd | プリント配線板の製造法 |
JP3883643B2 (ja) | 1997-04-25 | 2007-02-21 | 大日本印刷株式会社 | 配線形成方法およびそれに用いられる2層基板 |
JPH1187910A (ja) * | 1997-09-09 | 1999-03-30 | Ibiden Co Ltd | プリント配線板およびその製造方法 |
JP2000252384A (ja) | 1999-02-26 | 2000-09-14 | Sumitomo Metal Mining Co Ltd | 突起電極付き配線基板への熱可塑性接着剤層形成方法 |
TWI384908B (zh) * | 2006-01-25 | 2013-02-01 | Mitsubishi Gas Chemical Co | 樹脂複合銅箔,印刷線路板,及其等之製造方法 |
JP5024930B2 (ja) * | 2006-10-31 | 2012-09-12 | 三井金属鉱業株式会社 | 表面処理銅箔、極薄プライマ樹脂層付表面処理銅箔及びその表面処理銅箔の製造方法並びに極薄プライマ樹脂層付表面処理銅箔の製造方法 |
JP2009270174A (ja) | 2008-05-09 | 2009-11-19 | C Uyemura & Co Ltd | プリント配線基板を形成するための表面処理方法及びその表面処理方法に用いられるエッチング処理液 |
-
2010
- 2010-08-03 KR KR1020100075011A patent/KR101081588B1/ko active IP Right Grant
-
2011
- 2011-07-29 US US13/137,241 patent/US20120031550A1/en not_active Abandoned
- 2011-08-01 JP JP2011168149A patent/JP5121987B2/ja active Active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
KR101081588B1 (ko) | 2011-11-08 |
US20120031550A1 (en) | 2012-02-09 |
JP2012039111A (ja) | 2012-02-23 |
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Date | Code | Title | Description |
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A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20121010 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20121016 |
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A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
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|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
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|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20151102 Year of fee payment: 3 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
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R250 | Receipt of annual fees |
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