JP5109283B2 - Circuit board manufacturing method - Google Patents

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Description

本発明は、各種電子機器に利用される回路基板の製造方法に関するものである。   The present invention relates to a method of manufacturing a circuit board used for various electronic devices.

近年、電子機器の小型化、軽量化、高密度実装化に伴い、回路基板に対して、多層化、微細配線等の高い配線収容性と高密度実装性が強く要望されるようになってきた。   In recent years, with the miniaturization, weight reduction, and high-density mounting of electronic devices, there has been a strong demand for circuit boards with high wiring capacity and high-density mounting, such as multilayering and fine wiring. .

従来の回路基板の製造方法について以下に説明する。   A conventional method for manufacturing a circuit board will be described below.

図4(a)に示す基板材料21は回路基板に用いられるガラス繊維織布に熱硬化性のエポキシ樹脂等を含浸し乾燥等の方法により半硬化状態としたいわゆるプリプレグである。その基板材料21には、図4(b)に示すように、熱ロール等を用いたラミネート法により有機質フィルム22が両面に張り付けられている。   The substrate material 21 shown in FIG. 4 (a) is a so-called prepreg in which a glass fiber woven fabric used for a circuit board is impregnated with a thermosetting epoxy resin or the like and semi-cured by a method such as drying. As shown in FIG. 4B, an organic film 22 is attached to both surfaces of the substrate material 21 by a laminating method using a hot roll or the like.

次に、図4(c)に示すように、レーザ等の加工法により基板材料21に貫通穴23を形成した後、貫通穴23に銅粉等の導電性粒子と熱硬化性樹脂、硬化剤、溶剤などを混練しペースト状にした導電性ペースト24を印刷法等で充填し、図4(d)に示す構成を得る。   Next, as shown in FIG.4 (c), after forming the through-hole 23 in the board | substrate material 21 by processing methods, such as a laser, electroconductive particles, such as copper powder, thermosetting resin, and hardening | curing agent are set in the through-hole 23. Then, the conductive paste 24 kneaded with a solvent or the like is filled with a printing method or the like to obtain the configuration shown in FIG.

次に、有機質フィルム22を剥離し、図4(e)に示すような導電性ペースト24が突出した形状を得る。そして、その両側に銅箔25を配置し、さらにSUS等の金属中間板で挟み熱プレス(図示せず)によって加熱加圧することで、図4(f)に示すように基板材料21は熱硬化し、導電性ペースト24は圧縮されて表裏の銅箔25が電気的にビア接続される。   Next, the organic film 22 is peeled off to obtain a shape in which the conductive paste 24 protrudes as shown in FIG. And the copper foil 25 is arrange | positioned at the both sides, and also the board | substrate material 21 is thermosetting as shown in FIG.4 (f) by further sandwiching between metal intermediate plates, such as SUS, and heat-pressing with a hot press (not shown). The conductive paste 24 is compressed and the copper foils 25 on the front and back sides are electrically connected to vias.

さらにフォトリソエッチング等の方法で銅箔25を所望のパターンに加工して回路配線層26とし、図4(g)に示すような両面の回路基板を得る。   Further, the copper foil 25 is processed into a desired pattern by a method such as photolithography etching to form a circuit wiring layer 26, thereby obtaining a double-sided circuit board as shown in FIG.

図4では、通常回路基板に配設する外層部のソルダーレジストあるいは回路配線層26へのめっき処理等の表面仕上げ処理は図示していないが、必要に応じて配設する。   In FIG. 4, the surface finishing process such as the plating process on the solder resist or the circuit wiring layer 26 of the outer layer portion normally disposed on the circuit board is not shown, but it is disposed as necessary.

また、多層回路基板を製造する際は、図5(a)に示すように一旦完成したコア基板31の上下に図4で説明した製造方法で得られた基板材料36と銅箔34とを、位置合わせをしながら重ね合わせて熱プレスすることで図5(c)に示すような積層硬化物を得ることができる。   Further, when manufacturing a multilayer circuit board, as shown in FIG. 5A, the substrate material 36 and the copper foil 34 obtained by the manufacturing method described in FIG. A layered cured product as shown in FIG. 5C can be obtained by overlapping and hot pressing while aligning.

その積層硬化物の表層をフォトリソエッチング等の方法で銅箔34を所望のパターンに加工して回路配線層37とし、図5(d)に示すような多層回路基板を得る。   The surface layer of the laminated cured product is processed into a desired pattern by using a copper foil 34 by a method such as photolithography etching to form a circuit wiring layer 37 to obtain a multilayer circuit board as shown in FIG.

図5では、通常回路基板に配設する外層部のソルダーレジストあるいは回路配線層37へのめっき処理等の表面仕上げ処理は図示していないが、必要に応じて配設する。   In FIG. 5, the surface finishing process such as the plating process on the solder resist or the circuit wiring layer 37 of the outer layer portion normally disposed on the circuit board is not shown, but it is disposed as necessary.

なお、上記製造方法を繰り返すことでより多層化された回路基板を得ることができる。   It should be noted that a multilayered circuit board can be obtained by repeating the above manufacturing method.

このような回路基板では、複数層の回路パターンの間をインタースティシャルビアホールで電気的に接続する方法が不可欠なものになっている。例えば、導電性ペーストによってインタースティシャルビアホールを形成する構成や表層に数層のレーザーめっきビアを有する薄いファイン層を設けた構成の高密度実装用の回路基板が提案されている。これらの回路基板に対して、その絶縁層を形成するための材料であるプリプレグの特性の把握について、従来より厳格な管理を必要とすることがある。   In such a circuit board, a method of electrically connecting a plurality of layers of circuit patterns with interstitial via holes is indispensable. For example, a circuit board for high-density mounting has been proposed in which an interstitial via hole is formed with a conductive paste or a thin fine layer having several laser plating vias is provided on the surface layer. For these circuit boards, strict management may be required for grasping the characteristics of the prepreg which is a material for forming the insulating layer.

つまり、一般の回路基板より絶縁層が薄くなるため、実際の製造に使用するプリプレグの性能や特性のバラツキが大きい場合、回路基板の平坦性、絶縁層厚み等の回路基板としての性能のバラツキも大きくなり、部品実装性あるいはインピーダンス等の基板特性に悪影響を及ぼすことがある。   In other words, since the insulating layer is thinner than a general circuit board, if there are large variations in the performance and characteristics of the prepreg used in actual manufacturing, there will also be variations in circuit board performance such as circuit board flatness and insulating layer thickness. It may become large and adversely affect board characteristics such as component mountability or impedance.

特に、上記のペースト接続のビアを有する新しい形態の構成の回路基板では、プリプレグの性能や特性のバラツキがビアの電気的接続に大きく影響する。   In particular, in the circuit board having a new configuration having the paste connection via described above, variations in performance and characteristics of the prepreg greatly affect the electrical connection of the via.

その一方で、前述の回路基板の高密度化への流れに伴って、高周波対応、部品内蔵あるいは超薄型化等といった性能を備えた回路基板も要求され、多様化も進んでいる。   On the other hand, with the trend toward higher density of circuit boards described above, circuit boards having performance such as high frequency compatibility, built-in components, or ultra-thinness are also required, and diversification is progressing.

この近年の流れに伴い、要求されるプリプレグ材料の性能も多種多様となり、そのため、プリプレグ材料の特性把握の正確さは、従来に比べて厳格さが要求されてきている。   Along with this recent trend, the required performance of the prepreg material has become diverse, and therefore, the accuracy of grasping the characteristics of the prepreg material has been required to be stricter than before.

以上のように今後の回路基板に対して、プリプレグ特性の把握およびその管理は、今まで以上に厳格であり、正確性が求められ、極めて重要な事項となる。   As described above, grasping and managing the prepreg characteristics for circuit boards in the future are more strict than ever, requiring accuracy, and are extremely important matters.

しかしながら、従来のプリプレグ特性の試験方法は、JIS規格C6521で規定されている樹脂分、樹脂流れ、硬化時間等の試験での判定が一般的である。   However, conventional prepreg property testing methods generally use tests such as resin content, resin flow, and curing time defined in JIS standard C6521.

特に重要な試験項目は、回路基板の成形性に影響する樹脂流れと硬化時間であり、これらの項目は、プリプレグ樹脂の半硬化状態を間接的に数値として表現し、これをプリプレグの性能の判定値として用いている。   The test items that are particularly important are the resin flow and the curing time that affect the moldability of the circuit board. These items indirectly represent the semi-cured state of the prepreg resin as a numerical value, which is used to determine the performance of the prepreg. It is used as a value.

なお、この出願の発明に関連する先行技術文献情報としては、例えば、特許文献1、2が知られている。   As prior art document information related to the invention of this application, for example, Patent Documents 1 and 2 are known.

特開平06−268345号公報Japanese Patent Laid-Open No. 06-268345 特開平07−027726号公報Japanese Patent Application Laid-Open No. 07-027726

従来のプリプレグ特性の試験方法について、以下に説明する。   A conventional method for testing prepreg characteristics will be described below.

まず、樹脂流れの試験法は、所定サイズ、例えば100mm角にプリプレグをサンプリングして、それを所定温度、例えば175℃の熱プレスで加熱加圧した後、所定サイズ、例えば70.7mm角に切り取り、プレス前後の重量変化を測定し、樹脂の流動性を評価判定する方法である。   First, a resin flow test method is to sample a prepreg in a predetermined size, for example, 100 mm square, heat and press it with a hot press at a predetermined temperature, for example, 175 ° C., and then cut it into a predetermined size, for example, 70.7 mm square. In this method, the change in weight before and after pressing is measured and the fluidity of the resin is evaluated.

この方法の欠点は、プリプレグ樹脂の溶融粘度が極端に小さい場合、あるいはプリプレグの樹脂分が少ない場合等に測定が不可能であったり、バラツキが著しく大きくなったりする場合がある。   The disadvantage of this method is that measurement may be impossible or the variation may be significantly increased when the melt viscosity of the prepreg resin is extremely small or when the resin content of the prepreg is small.

次に、硬化時間の試験法は、プリプレグから樹脂を揉み落として、樹脂だけを取り出し、それを規定の温度、例えば170℃の熱盤上において、ゲル化するまでの時間を測定する方法である。   Next, the curing time test method is a method in which the resin is scraped off from the prepreg, only the resin is taken out, and the time until it is gelled on a hot plate at a specified temperature, for example, 170 ° C., is measured. .

この方法の欠点は、ゲル化状態の判定が測定者に依存する場合があり、硬化時間の中に測定者バラツキを多分に含むことである。   The disadvantage of this method is that the determination of the gelled state may depend on the measurer, and the measurer variation is included in the curing time.

さらにプリプレグ樹脂の溶融粘度が極端に小さい場合、あるいはプリプレグの樹脂分が少ない場合等にプリプレグから樹脂だけを取り出すことが極めて困難かつ煩雑となる。   Further, when the melt viscosity of the prepreg resin is extremely small, or when the resin content of the prepreg is small, it is extremely difficult and complicated to take out only the resin from the prepreg.

以上のように従来のプリプレグ特性の試験方法は簡便であるため、プリプレグの生産現場に非常に適した試験法であるが、プリプレグ樹脂の硬化状態をバラツキなく管理する点では限界がある。   As described above, the conventional prepreg property testing method is simple and is very suitable for the prepreg production site. However, there is a limit in managing the cured state of the prepreg resin without variation.

また、上記したように、要求されるプリプレグ材料の性能も多種多様となり、従来の試験方法ではその性能を十分に把握することができないプリプレグ材料も使用されはじめてきた。   Further, as described above, the required performance of the prepreg material has become diverse, and prepreg materials whose performance cannot be sufficiently grasped by conventional test methods have begun to be used.

具体的にはサンプリングが困難なプリプレグ、あるいはバラツキが大きいフィラー高充填タイプの樹脂を含浸させたプリプレグ、あるいは樹脂流れを極端に押さえたノンフロータイプのプリプレグ、あるいはフィルムタイプのプリプレグ等である。   Specifically, it is a prepreg difficult to sample, a prepreg impregnated with a highly-filled resin having a large variation, a non-flow type prepreg in which the resin flow is extremely suppressed, or a film type prepreg.

したがって、従来のプリプレグ特性の試験方法においては、それらのプリプレグ材料の特性を正確に把握し、かつ管理・選別して回路基板を製造しなければ、今後の回路基板に対する多種多様の要求に応え、実現供給していくことは困難である。   Therefore, in the conventional test method of prepreg characteristics, if the circuit board is not manufactured by accurately grasping the characteristics of those prepreg materials and managing / selecting them, it will meet various demands for future circuit boards, Realizing and supplying is difficult.

すなわち、本発明は、従来のプリプレグ試験方法の欠点を克服するべく、プリプレグ樹脂の半硬化状態をバラツキなく数値化し、かつプリプレグに含浸された樹脂の種類あるいは構造に影響されないプリプレグ試験方法によりプリプレグを選別し、特性バラツキの極めて少ないプリプレグ材料を用いて回路基板を製造することである。   That is, the present invention quantifies the semi-cured state of the prepreg resin without variation in order to overcome the drawbacks of the conventional prepreg test method, and the prepreg test method is not affected by the type or structure of the resin impregnated in the prepreg. Sorting and manufacturing a circuit board using a prepreg material with very little characteristic variation.

これにより、プリプレグ特性に起因する成型不良が起こらない回路基板の製造方法を提供し、特性面あるいは構造面において多種多様な要求を実現し、信頼性の高い回路基板を提供することを目的とするものである。   Accordingly, it is an object of the present invention to provide a method of manufacturing a circuit board that does not cause molding defects due to prepreg characteristics, to realize various requirements in terms of characteristics or structure, and to provide a highly reliable circuit board. Is.

上記課題を解決するために本発明は、少なくとも補強材と半硬化樹脂とからなるプリプレグを複数枚を1ロットとし、それを少なくとも1ロット準備する工程と、前記複数枚のプリプレグのうち少なくとも1枚のプリプレグのガラス転移温度を動的粘弾性測定法で常温から一定の昇温速度で加熱していくことにより測定する工程と、前記複数枚のプリプレグのうち少なくとも1枚のプリプレグのガラス転移温度を動的粘弾性測定法で常温から一定の昇温速度で加熱していくことにより測定する工程において測定された値が50℃〜100℃のガラス転移温度範囲内のガラス転移温度を有するプリプレグを良品として判定し、そのプリプレグのみを選択する工程と、選択されたプリプレグの両面に金属箔を重ねて積層体を形成する工程、あるいはコア基板と選択されたプリプレグと金属箔とを重ねて積層体を形成する工程のうち少なくとも一つの工程と、前記積層体を加熱加圧する工程を備えることを特徴とする回路基板の製造方法を提供するものである。 In order to solve the above-described problems, the present invention provides a step of preparing a plurality of prepregs made of at least a reinforcing material and a semi-cured resin, preparing at least one lot, and at least one of the plurality of prepregs A step of measuring the glass transition temperature of the prepreg of the prepreg by heating at a constant rate of temperature increase from room temperature by a dynamic viscoelasticity measurement method , and a glass transition temperature of at least one of the plurality of prepregs A prepreg having a glass transition temperature within a glass transition temperature range of 50 ° C. to 100 ° C. measured in the process of measuring by heating at a constant temperature increase rate from room temperature by a dynamic viscoelasticity measurement method. A step of selecting only the prepreg, and a step of forming a laminate by overlapping metal foils on both sides of the selected prepreg, or Provided is a circuit board manufacturing method comprising at least one step of forming a laminate by superimposing a core substrate, a selected prepreg and a metal foil, and a step of heating and pressing the laminate. To do.

前記のガラス転移温度(軟化温度という場合もある)は、樹脂状態の変化する温度であり、具体的にプリプレグを加熱することで樹脂の弾性率、熱膨張、比熱等の樹脂物性が急激に変化する温度である。   The glass transition temperature (sometimes referred to as the softening temperature) is a temperature at which the resin state changes. Specifically, by heating the prepreg, the resin physical properties such as the elastic modulus, thermal expansion and specific heat of the resin change rapidly. Temperature.

本発明者は、ガラス転移温度は、半硬化樹脂の分子構造が直接的に反映されるため、これをプリプレグ特性、具体的にはプリプレグ樹脂の物性を数値評価するには極めて有効であることを把握した。   The present inventor believes that the glass transition temperature directly reflects the molecular structure of the semi-cured resin, which is extremely effective for numerical evaluation of the prepreg characteristics, specifically the physical properties of the prepreg resin. I figured it out.

換言すれば、ガラス転移温度は、プリプレグ特性の振れを敏感に、かつバラツキなく検出することができるため、これを管理指標として用いれば、その特性管理の精度および信頼性を大幅に向上することができる。   In other words, since the glass transition temperature can detect the fluctuation of the prepreg characteristic sensitively and without variation, using this as a management index can greatly improve the accuracy and reliability of the characteristic management. it can.

これを詳細に説明すると、以下の通りである。   This will be described in detail as follows.

すなわち、従来の測定法において、樹脂量が一定であれば、樹脂流れと硬化時間との間に相関関係が成立するはずである。   That is, in the conventional measurement method, if the amount of resin is constant, a correlation should be established between the resin flow and the curing time.

しかし、厳しい公差が要求される場合、それらの相関がほとんど見られず、これは公差に対する測定バラツキの占める割合が大きいためである。   However, when tight tolerances are required, there is almost no correlation between them, because the ratio of measurement variation to tolerances is large.

例えば、硬化時間100秒のプリプレグにおいて、その公差として10%が必要な場合、その測定法によるバラツキが約8%含まれる。つまり、公差の80%が測定法のバラツキとなる。そのため、硬化時間として公差10%を要求されるプリプレグ製造は極めて困難であり、事実上不可能に近い。樹脂流れについても同様のことが言える。   For example, in a prepreg having a curing time of 100 seconds, when 10% is required as the tolerance, variation by the measurement method is included about 8%. That is, 80% of the tolerance is a variation in the measurement method. Therefore, prepreg production requiring a tolerance of 10% as a curing time is extremely difficult and practically impossible. The same can be said for the resin flow.

以上のことから、近年の回路基板のファイン化、多層化および多様化が進むに伴い、プリプレグに対する要求スペックの公差も自ずと厳しくなることが十分想定される。   From the above, it is expected that the tolerances of the required specifications for the prepreg will naturally become stricter as the finer, multi-layered and diversified circuit boards in recent years.

したがって、回路基板の技術発展のためには、その基本的な材料であるプリプレグを如何にバラツキなく製造・管理できるかが課題である。   Therefore, for the technical development of circuit boards, the problem is how to manufacture and manage the prepreg, which is the basic material, without variation.

本発明は、これに応えるべく、プリプレグの特性試験上におけるバラツキを皆無に近い状態にすることができ、厳しい要求交差に対応しうる物理的な測定手法をプリプレグの特性試験方法に用いて、要求交差を満たすプリプレグを選択し、選択された良品のみを基板材料として回路基板を製造することを特徴とするものである。   In order to meet this requirement, the present invention can make the prepreg characteristic test almost non-uniform, and a physical measurement method that can cope with severe demand crossings is used for the prepreg characteristic test method. A prepreg satisfying the intersection is selected, and a circuit board is manufactured using only the selected non-defective product as a substrate material.

また、本発明者は、このガラス転移温度を測定する具体的な手法として、動的粘弾性測定装置(DMA)、示差走査熱量測定(DSC)、熱機械測定(TMA)等があり、DMAは弾性率の変化、DSCは比熱の変化、TMAは熱膨張率の変化によって、ガラス転移温度を求めることができることを確認した。 In addition, the present inventors have a dynamic viscoelasticity measuring device (DMA), differential scanning calorimetry (DSC), thermomechanical measurement (TMA), etc. as specific methods for measuring the glass transition temperature. It was confirmed that the glass transition temperature can be obtained by a change in elastic modulus, DSC by a change in specific heat, and TMA by a change in thermal expansion coefficient.

すなわち本発明者が確認したDMAで測定されるガラス転移温度は、樹脂の分子構造に対して敏感に反応するため、この測定法が最も好ましいことを、実験評価を繰り返すことにより把握したものである。   In other words, the glass transition temperature measured by DMA confirmed by the present inventor is sensitive to the molecular structure of the resin, so that this measurement method is most preferable by repeating experimental evaluation. .

特に、この方法は、プリプレグを所定の大きさに切り出し、そのまま測定装置で測定できるため、測定者による判定バラツキが含まれず、かつサンプルからの樹脂取り出し、あるいはサンプルの加熱加圧といった処理がないため、サンプル処理によるバラツキも含まれない。   In particular, this method cuts the prepreg into a predetermined size and can be measured as it is with a measuring device, so there is no judgment variation by the measurer, and there is no processing such as taking out the resin from the sample or heating and pressing the sample. Also, variations due to sample processing are not included.

また、サンプル処理が不要であるため、一般的なガラスエポキシプリプレグや近年量産化されたアラミドエポキシプリプレグは勿論のこと、従来法が適用しないフィラー高充填タイプ、熱可塑性樹脂ブレンドタイプ、ノンフロータイプ、フィルムタイプ等のプリプレグ特性の管理が高精度にできる。   In addition, since sample processing is unnecessary, not only general glass epoxy prepreg and aramid epoxy prepreg which has been mass-produced in recent years, but also high filler filling type, thermoplastic resin blend type, non-flow type, to which conventional methods are not applied, The prepreg characteristics such as film type can be managed with high accuracy.

次に、本発明の特許請求の範囲の各請求項に記載された発明とその作用効果を以下に示す。   Next, the invention described in each claim of the present invention and the function and effect thereof will be described below.

本発明の請求項1に記載の発明は、少なくとも補強材と半硬化樹脂とからなるプリプレグを複数枚を1ロットとし、それを少なくとも1ロット準備する工程と、前記複数枚のプリプレグのうち少なくとも1枚のプリプレグのガラス転移温度を動的粘弾性測定法で常温から一定の昇温速度で加熱していくことにより測定する工程と、前記複数枚のプリプレグのうち少なくとも1枚のプリプレグのガラス転移温度を動的粘弾性測定法で常温から一定の昇温速度で加熱していくことにより測定する工程において測定された値が50℃〜100℃のガラス転移温度範囲内のガラス転移温度を有するプリプレグを良品として判定し、そのプリプレグのみを選択する工程と、選択されたプリプレグの両面に金属箔を重ねて積層体を形成する工程、あるいはコア基板と選択されたプリプレグと金属箔とを重ねて積層体を形成する工程のうち少なくとも一つの工程と、前記積層体を加熱加圧する工程を備えることを特徴とする回路基板の製造方法というものであり、これにより、プリプレグ樹脂の半硬化状態を直接的に物性値として数値化することができ、測定バラツキがなく、精度および信頼性に優れ要求公差を満たすプリプレグのみを選択することができる。そして、選択されたプリプレグを基板材料として回路基板を製造することで、精度および信頼性に優れた高品質の回路基板を提供することができる。 According to the first aspect of the present invention, a plurality of prepregs made of at least a reinforcing material and a semi-cured resin are set as one lot, and at least one lot is prepared, and at least one of the plurality of prepregs A step of measuring the glass transition temperature of a single prepreg by heating at a constant rate of temperature increase from room temperature using a dynamic viscoelasticity measurement method , and a glass transition temperature of at least one of the plurality of prepregs A prepreg having a glass transition temperature within a glass transition temperature range of 50 ° C. to 100 ° C. measured in a process of measuring by heating at a constant rate of temperature from room temperature by a dynamic viscoelasticity measurement method. Judging as a non-defective product, selecting only the prepreg, and forming a laminate by overlapping metal foil on both sides of the selected prepreg, or A circuit board manufacturing method comprising: at least one step of forming a laminate by stacking a substrate, a selected prepreg, and a metal foil; and heating and pressurizing the laminate. Thus, the semi-cured state of the prepreg resin can be directly digitized as a physical property value, and only a prepreg that has no measurement variation, is excellent in accuracy and reliability, and satisfies the required tolerance can be selected. Then, by manufacturing a circuit board using the selected prepreg as a board material, it is possible to provide a high-quality circuit board excellent in accuracy and reliability.

また、ガラス転移温度範囲50℃〜100℃を良否の判定基準としてプリプレグを選別し、前記温度範囲内を良品として選択することで、選択の判断を数値化することが可能となる。そして、選択されたプリプレグを基板材料として回路基板を製造することで、精度および信頼性に優れた高品質の回路基板を提供することができる。Further, by selecting a prepreg with a glass transition temperature range of 50 ° C. to 100 ° C. as a quality criterion, and selecting the inside of the temperature range as a non-defective product, the selection judgment can be quantified. Then, by manufacturing a circuit board using the selected prepreg as a board material, it is possible to provide a high-quality circuit board excellent in accuracy and reliability.

また、サンプル処理の必要がなく、そのままプリプレグ状態で測定することが可能であるため、プリプレグの樹脂系、構造等に測定の可否が依存することのない適用範囲の広いプリプレグの特性試験方法により、要求交差を満たすプリプレグのみを選択することができ、選択されたプリプレグを基板材料として回路基板を製造することで、精度および信頼性に優れた高品質の回路基板を提供することができる。   In addition, since it is possible to measure in the prepreg state as it is without the need for sample processing, the prepreg characteristic test method with a wide application range that does not depend on whether the measurement is possible or not depends on the resin system, structure, etc. of the prepreg, Only a prepreg satisfying the required crossing can be selected, and a circuit board can be manufactured using the selected prepreg as a substrate material, thereby providing a high-quality circuit board excellent in accuracy and reliability.

本発明の請求項に記載の発明は、プリプレグは、アラミド不織布補強材にエポキシ樹脂を含浸してなることを特徴とする請求項1に記載の回路基板の製造方法というもので、従来法におけるアラミド不織布での樹脂サンプリングに起因する測定結果のバラツキを解消し、誤差やバラツキがない高精度のプリプレグの特性試験を行うことが可能となる。これにより、平坦性、部品実装性あるいはインピーダンス等において高い性能を要求される回路基板にアラミド不織布補強材を備えたプリプレグを採用することができるという効果を有する。 The invention described in claim 2 of the present invention is the method for producing a circuit board according to claim 1, wherein the prepreg is formed by impregnating an aramid nonwoven fabric reinforcing material with an epoxy resin. It is possible to eliminate variations in measurement results caused by resin sampling in an aramid nonwoven fabric, and to conduct a highly accurate prepreg characteristic test free from errors and variations. Thereby, it has the effect that the prepreg provided with the aramid nonwoven fabric reinforcing material can be employed on a circuit board that requires high performance in terms of flatness, component mounting property, impedance, and the like.

本発明の請求項に記載の発明は、プリプレグは、ガラス繊維補強材に樹脂を含浸してなり、前記樹脂の含浸比率は40wt%以下であることを特徴とする請求項1に記載の回路基板の製造方法というものであり、樹脂の含浸比率は40wt%以下となるような低樹脂分タイプのプリプレグは樹脂流れが少なく、樹脂の半硬化状態を検出する感度が悪く、それに起因する従来法での測定結果の誤差やバラツキを解消し、高精度のプリプレグを選択することが可能となる。 The invention according to claim 3 of the present invention is characterized in that the prepreg is made by impregnating a glass fiber reinforcing material with a resin, and the impregnation ratio of the resin is 40 wt% or less. A low-resin content type prepreg in which the resin impregnation ratio is 40 wt% or less is low in the resin flow, and the sensitivity to detect the semi-cured state of the resin is poor, which is a conventional method resulting from it. It is possible to eliminate errors and variations in the measurement results and to select a highly accurate prepreg.

特に、樹脂特性の温度変化を直接的に測定するため、樹脂分が極めて少なくなっても物性変化は検出することができるため、プリプレグ特性を測定するには極めて有効である。   In particular, since the temperature change of the resin characteristics is directly measured, the change in physical properties can be detected even when the resin content is extremely small, and therefore, it is extremely effective for measuring the prepreg characteristics.

これにより、低樹脂分タイプのガラスエポキシプリプレグを採用することが可能となり、回路基板の薄板化を容易かつ高い工程歩留まりで生産し、提供することができるという効果を有する。   As a result, it is possible to adopt a glass epoxy prepreg of a low resin content type, and it is possible to produce and provide a thin circuit board easily and with a high process yield.

本発明の請求項に記載の発明は、プリプレグは、ガラス繊維補強材にフィラーが充填された樹脂を含浸してなり、前記フィラーの充填比率は20〜30wt%であることを特徴とする請求項1に記載の回路基板の製造方法というものであり、プリプレグ中のフィラーの存在による樹脂サンプルのバラツキや樹脂流動の抑制のため、特性試験ができなかったという問題点を解決し、高精度のプリプレグを選択することが可能となる。これにより、フィラー高充填タイプのガラスエポキシプリプレグを採用することが可能となり、耐熱性、誘電特性、機械的強度に優れた回路基板を容易かつ高い工程歩留まりで生産し提供することができるという効果を有する。 The invention described in claim 4 of the present invention is characterized in that the prepreg is impregnated with a resin in which a glass fiber reinforcing material is filled with a filler, and the filling ratio of the filler is 20 to 30 wt%. The method for producing a circuit board according to Item 1, which solves the problem that the characteristic test could not be performed due to the resin sample variation and the resin flow suppression due to the presence of the filler in the prepreg, and is highly accurate. A prepreg can be selected. This makes it possible to adopt a high-filler type glass epoxy prepreg, and to produce and provide a circuit board excellent in heat resistance, dielectric properties, and mechanical strength easily and at a high process yield. Have.

本発明の請求項に記載の発明は、プリプレグは、ガラス繊維補強材にノンフロータイプ樹脂を含浸してなることを特徴とする請求項1に記載の回路基板の製造方法というものであり、このタイプのプリプレグは、樹脂が溶融せず樹脂流れがなく、従来法での特性試験では測定不能であったという問題点を解決し、高精度のプリプレグを選択することが可能となる。これにより、ノンフロータイプのガラスエポキシプリプレグを採用することが可能となり、平坦性、寸法安定性に優れた回路基板を容易かつ高い工程歩留まりで生産し、提供することができるという効果を有する。 The invention according to claim 5 of the present invention is the method for producing a circuit board according to claim 1, wherein the prepreg is formed by impregnating a glass fiber reinforcing material with a non-flow type resin, This type of prepreg solves the problem that the resin is not melted and there is no resin flow, and measurement is impossible in the conventional characteristic test, and a highly accurate prepreg can be selected. Thereby, it becomes possible to employ a non-flow type glass epoxy prepreg, and it is possible to produce and provide a circuit board excellent in flatness and dimensional stability easily and at a high process yield.

本発明の請求項に記載の発明は、プリプレグは、ガラス繊維補強材に熱可塑性樹脂とエポキシ樹脂を含浸してなることを特徴とする請求項1に記載の回路基板の製造方法というものであり、この熱可塑性ブレンドタイプのプリプレグは、測定温度が変わるため、従来法での特性試験では測定不能であったという問題点を解決し、高精度のプリプレグを選択することが可能となる。これにより、熱可塑性ブレンドタイプのガラスエポキシプリプレグを採用することが可能となり、新タイプの回路基板を容易かつ高い工程歩留まりで生産し、提供することができるという効果を有する。 The invention according to claim 6 of the present invention is the method for producing a circuit board according to claim 1, wherein the prepreg is formed by impregnating a glass fiber reinforcing material with a thermoplastic resin and an epoxy resin. In addition, since this thermoplastic blend type prepreg changes the measurement temperature, it solves the problem of being impossible to measure in the conventional characteristic test, and it is possible to select a highly accurate prepreg. Accordingly, it is possible to employ a thermoplastic blend type glass epoxy prepreg, and it is possible to produce and provide a new type circuit board easily and at a high process yield.

本発明の請求項に記載の発明は、プリプレグは、有機フィルム補強材の両面あるいは片面に熱硬化性樹脂を塗布してなることを特徴とする請求項1に記載の回路基板の製造方法というものであり、このフィルムタイプのプリプレグは、その薄さからサンプリングあるいは測定自体が極めて困難となり、従来法での特性試験では測定不能であったという問題点を解決し、高精度のプリプレグを選択することが可能となる。これにより、両面接着剤付ポリイミドフィルムを採用することが可能となり、薄板化、及び可とう性を備えた新規回路基板を容易かつ高い工程歩留まりで生産し、提供することができるという効果を有する。 The invention according to claim 7 of the present invention is the method for producing a circuit board according to claim 1, wherein the prepreg is formed by applying a thermosetting resin to both surfaces or one surface of the organic film reinforcing material. This film-type prepreg solves the problem that sampling or measurement itself is extremely difficult due to its thinness, and was impossible to measure in the characteristic test by the conventional method, and a high-precision prepreg is selected. It becomes possible. As a result, it is possible to employ a polyimide film with a double-sided adhesive, and it is possible to produce and provide a new circuit board having a reduced thickness and flexibility with high process yield.

以上のように、本発明の回路基板の製造方法であれば、プリプレグ樹脂の半硬化状態を直接的に物性値として数値化することができるため、極めてバラツキなく、精度および信頼性に優れた良品のみのプリプレグを選択することが可能である。   As described above, according to the method for producing a circuit board of the present invention, the semi-cured state of the prepreg resin can be directly quantified as a physical property value, so that the non-defective product having excellent accuracy and reliability without extremely variation. It is possible to select only prepregs.

また、サンプル処理の必要がなく、そのままプリプレグ状態で測定することが可能であるため、プリプレグの樹脂系、構造等に測定の可否が依存することのない適用範囲の広いプリプレグを選択し、選択された良品のプリプレグのみを基板材料として、回路基板を製造することで、精度および信頼性に優れた高品質の回路基板を提供することができる。   In addition, since there is no need for sample processing and measurement can be performed in the prepreg state as it is, a prepreg having a wide application range that does not depend on whether or not measurement is possible depends on the resin system, structure, etc. of the prepreg is selected and selected. By manufacturing a circuit board using only a good prepreg as a substrate material, a high-quality circuit board excellent in accuracy and reliability can be provided.

かつ、従来では製造管理上、良品の回路基板を製造することが困難であった新タイプの回路基板をも提供することが可能となる。   In addition, it is possible to provide a new type of circuit board that has conventionally been difficult to manufacture a good circuit board for manufacturing management.

(実施の形態)
本発明について、具体的な実施の形態を用いて以下に説明する。
(Embodiment)
The present invention will be described below using specific embodiments.

まず、本発明の回路基板の製造方法の構成要件であるプリプレグのガラス転移温度を測定する工程、すなわち、プリプレグの試験方法について説明する。   First, a step of measuring the glass transition temperature of a prepreg, which is a constituent requirement of the method for manufacturing a circuit board of the present invention, that is, a prepreg test method will be described.

特に、本実施の形態における試験方法は、DMA(動的粘弾性測定装置)によるプリプレグのガラス転移温度を測定値として用いた。   In particular, in the test method in the present embodiment, the glass transition temperature of the prepreg by DMA (dynamic viscoelasticity measuring apparatus) was used as a measured value.

以下に具体的な試験方法とサンプルについて説明する。   Specific test methods and samples will be described below.

サンプルを長さ40mm、幅10mmに切り出し、下記の測定設備および測定条件にてサンプルのDMA測定を行った。   The sample was cut into a length of 40 mm and a width of 10 mm, and the sample was subjected to DMA measurement using the following measurement equipment and measurement conditions.

その測定結果として、図3のように材料の貯蔵弾性率E’と損失弾性率E”、それらの位相差である損失Tanδが数値データとして得られる。   As a result of the measurement, as shown in FIG. 3, the storage elastic modulus E ′ and loss elastic modulus E ″ of the material and the loss Tanδ, which is the phase difference between them, are obtained as numerical data.

本実施の形態における試験方法において、判定手法として用いる数値データは、図3のTanδのピーク温度であり、材料の弾性率が急激に変化する温度、すなわちDMAでのガラス転移温度である。   In the test method according to the present embodiment, the numerical data used as the determination method is the Tan δ peak temperature in FIG. 3 and the temperature at which the elastic modulus of the material changes rapidly, that is, the glass transition temperature in DMA.

測定装置:DMS6100(エスアイアイ・ナノテクノロジー社製)
測定条件:周波数 10Hz
昇温速度 3℃/min
測定温度範囲 25〜100℃
変形モード 引張
次に比較例として従来の試験方法について説明する。
Measuring device: DMS6100 (manufactured by SII Nano Technology)
Measurement conditions: Frequency 10Hz
Temperature increase rate 3 ℃ / min
Measurement temperature range 25-100 ° C
Deformation mode Tensile Next, a conventional test method will be described as a comparative example.

(従来法1)
樹脂だけからなるサンプルを170℃一定に保持した熱盤上に0.2g乗せ、樹脂が溶融した後テフロン(登録商標)製のかき混ぜ棒で樹脂を一定速度で攪拌して、樹脂が硬化してゲル化するまでの時間をストップウォッチで計測する。この硬化時間を判定数値データとして用いた。
(Conventional method 1)
Place 0.2 g of a sample made of resin only on a heating plate kept constant at 170 ° C., and after the resin has melted, stir the resin at a constant speed with a Teflon (registered trademark) stirring rod to cure the resin. The time until gelation is measured with a stopwatch. This curing time was used as judgment numerical data.

なお、測定開始は、熱盤上にすべての樹脂が乗せ終わった時点を0とした。また、樹脂サンプルはプリプレグを揉み解して樹脂を採取、あるいは50mm×50mmのプリプレグ10枚を重ね、その両面に離形フィルムを重ね、温度130℃に保持した熱プレスで30秒間、5.0MPaで加熱加圧して樹脂を押し出して採取のいずれかで行った。   In addition, the measurement start time was set to 0 when all the resins were placed on the hot platen. In addition, the resin sample is obtained by crushing the prepreg and collecting the resin, or 10 sheets of 50 mm × 50 mm prepregs are stacked, release films are stacked on both sides, and the pressure is maintained at 130 ° C. for 30 seconds, 5.0 MPa. The resin was extruded by heating and pressurizing at 1, and sampling was performed.

(従来法2)
サンプルを100mm×100mmに3枚切り出し、3枚の重量W1をmg単位まで測定した。次に3枚重ねのサンプルの上下に離形シートを重ねて、温度170℃に保持した熱プレス熱盤上に設置し、圧力1.5MPaで10分間加熱加圧した。
(Conventional method 2)
Three samples were cut into 100 mm × 100 mm, and the weight W1 of the three sheets was measured to the mg unit. Next, release sheets were stacked on top and bottom of the three stacked samples, placed on a hot press hot platen maintained at a temperature of 170 ° C., and heated and pressurized at a pressure of 1.5 MPa for 10 minutes.

次に加熱加圧されたサンプルを取り出し、離形シートを取り除き、さらにサンプルからはみ出した樹脂分を取り除いた。このときのサンプル重量W2を同様にmg単位まで測定した。   Next, the heated and pressurized sample was taken out, the release sheet was removed, and the resin component protruding from the sample was further removed. The sample weight W2 at this time was similarly measured to the mg unit.

それぞれのサンプルの重量を以下の計算式に当てはめて、樹脂流れ量を求め、これを判定数値データとして用いた。   The weight of each sample was applied to the following calculation formula to determine the resin flow rate, and this was used as judgment numerical data.

計算式:(W2−W1)/W1×100(%)
以上のことから、本実施の形態における試験方法は、プリプレグの半硬化状態を直接的に測定する手法であることがわかる。
Formula: (W2−W1) / W1 × 100 (%)
From the above, it can be seen that the test method in the present embodiment is a method for directly measuring the semi-cured state of the prepreg.

すなわち、従来法1であれば、樹脂分を取り出す処理が必要であり、従来法2であれば、プレス成型の処理が必要である。   That is, if it is the conventional method 1, the process which takes out a resin part is required, and if it is the conventional method 2, the process of press molding is required.

さらに従来法1では、ゲル化判定が測定者に依存することがあり、測定者間でのバラツキが評価判定に含まれる。   Furthermore, in the conventional method 1, the gelation determination may depend on the measurer, and variations among measurers are included in the evaluation determination.

本実施の形態における試験方法と、従来の試験方法である(従来法1)、(従来法2)との比較をプリプレグタイプ別に以下、詳細に説明する。   The comparison between the test method in the present embodiment and the conventional test methods (conventional method 1) and (conventional method 2) will be described in detail below for each prepreg type.

1.ガラスエポキシプリプレグでの比較
(実施例1)
樹脂分が60wt%、厚み0.1mmのガラスエポキシプリプレグからバイアス方向に長さ40mm、幅10mmにサンプリングして、そのサンプルを本実施の形態における試験方法でガラス転移温度を測定し、それをプリプレグの半硬化状態の数値データとして求めた。
1. Comparison with glass epoxy prepreg (Example 1)
A glass epoxy prepreg having a resin content of 60 wt% and a thickness of 0.1 mm was sampled to a length of 40 mm and a width of 10 mm in the bias direction, and the glass transition temperature of the sample was measured by the test method in the present embodiment. It was obtained as numerical data of the semi-cured state.

(比較例1)
樹脂分が60wt%、厚み0.1mmのガラスエポキシプリプレグを手で揉み解して樹脂分だけをサンプリングした。その樹脂サンプルを用いて、従来法1にて硬化時間を測定し、それをプリプレグの半硬化状態の数値データとして求めた。
(Comparative Example 1)
A glass epoxy prepreg having a resin content of 60 wt% and a thickness of 0.1 mm was manually squeezed to sample only the resin content. Using the resin sample, the curing time was measured by the conventional method 1 and obtained as numerical data of the semi-cured state of the prepreg.

(比較例2)
樹脂分が60wt%、厚み0.1mmのガラスエポキシプリプレグから100mm×100mmに3枚サンプリングして、そのサンプルを従来法2で樹脂流れ量を測定し、それをプリプレグの半硬化状態の数値データとして求めた。
(Comparative Example 2)
Sampling 3 sheets of 100mm x 100mm from glass epoxy prepreg with resin content of 60wt% and thickness 0.1mm, and measuring the amount of resin flow by conventional method 2, and using it as numerical data of semi-cured state of prepreg Asked.

2.アラミドエポキシプリプレグでの比較
(実施例2)
樹脂分が50wt%、厚み0.1mmのアラミドエポキシプリプレグから長さ40mm、幅10mmにサンプリングして、そのサンプルを本実施の形態における試験方法でガラス転移温度を測定し、それをプリプレグの半硬化状態の数値データとして求めた。
2. Comparison with aramid epoxy prepreg (Example 2)
Sampling from an aramid epoxy prepreg having a resin content of 50 wt% and a thickness of 0.1 mm to a length of 40 mm and a width of 10 mm, and measuring the glass transition temperature of the sample by the test method in the present embodiment, it is semi-cured of the prepreg Obtained as numerical data of the state.

(比較例3)
樹脂分が50wt%、厚み0.1mmのアラミドエポキシプリプレグから、50mm×50mmに10枚切り出し、それらを重ね、さらにその上下に離形シートを重ねて、温度130℃に保持した熱プレス熱盤上に設置し、圧力5.0MPaで30秒間加熱加圧して樹脂分だけをサンプリングした。その樹脂サンプルを用いて、従来法1にて硬化時間を測定し、それをプリプレグの半硬化状態の数値データとして求めた。
(Comparative Example 3)
On a hot press hot platen where 10 sheets of 50 mm x 50 mm are cut out from an aramid epoxy prepreg having a resin content of 50 wt% and a thickness of 0.1 mm, and the release sheets are stacked on top and bottom of the aramid epoxy prepreg. The sample was sampled only for the resin by heating and pressurizing at a pressure of 5.0 MPa for 30 seconds. Using the resin sample, the curing time was measured by the conventional method 1 and obtained as numerical data of the semi-cured state of the prepreg.

(比較例4)
樹脂分が50wt%、厚み0.1mmのアラミドエポキシプリプレグから100mm×100mmに3枚サンプリングして、そのサンプルを従来法2で樹脂流れ量を測定し、それをプリプレグの半硬化状態の数値データとして求めた。
(Comparative Example 4)
Three samples of 100 mm x 100 mm were sampled from an aramid epoxy prepreg with a resin content of 50 wt% and a thickness of 0.1 mm, and the sample was measured for the resin flow rate by the conventional method 2 and used as numerical data for the semi-cured state of the prepreg. Asked.

3.低樹脂分タイプのガラスエポキシプリプレグでの比較
(実施例3)
樹脂分が40wt%、厚み0.1mmの低樹脂分タイプのガラスエポキシプリプレグから長さ40mm、幅10mmにサンプリングして、そのサンプルを本実施の形態における試験方法でガラス転移温度を測定し、それをプリプレグの半硬化状態の数値データとして求めた。
3. Comparison with low epoxy resin type glass epoxy prepreg (Example 3)
A glass resin prepreg having a resin content of 40 wt% and a thickness of 0.1 mm was sampled to a length of 40 mm and a width of 10 mm, and the glass transition temperature was measured by the test method in the present embodiment. Was obtained as numerical data of the semi-cured state of the prepreg.

(比較例5)
樹脂分が40wt%、厚み0.1mmの低樹脂分タイプのガラスエポキシプリプレグを手で揉み解して樹脂分だけをサンプリングした。その樹脂サンプルを用いて、従来法1にて硬化時間を測定し、それをプリプレグの半硬化状態の数値データとして求めた。
(Comparative Example 5)
A low resin content type glass epoxy prepreg having a resin content of 40 wt% and a thickness of 0.1 mm was manually crushed and only the resin content was sampled. Using the resin sample, the curing time was measured by the conventional method 1 and obtained as numerical data of the semi-cured state of the prepreg.

(比較例6)
樹脂分が40wt%、厚み0.1mmの低樹脂分タイプのガラスエポキシプリプレグから100mm×100mmに3枚サンプリングして、そのサンプルを従来法2で樹脂流れ量を測定し、それをプリプレグの半硬化状態の数値データとして求めた。
(Comparative Example 6)
Three pieces of 100 mm x 100 mm were sampled from a low resin content type glass epoxy prepreg with a resin content of 40 wt% and a thickness of 0.1 mm, and the resin flow rate was measured by the conventional method 2 and the sample was semi-cured. Obtained as numerical data of the state.

4.フィラー高充填タイプのガラスエポキシプリプレグでの比較
(実施例4)
樹脂分が30wt%、フィラーが20〜30wt%で、厚み0.1mmのフィラー高充填タイプのガラスエポキシプリプレグから長さ40mm、幅10mmにサンプリングして、そのサンプルを本実施の形態における試験方法でガラス転移温度を測定し、それをプリプレグの半硬化状態の数値データとして求めた。
4). Comparison with high-filler type glass epoxy prepreg (Example 4)
The resin content is 30 wt%, the filler is 20 to 30 wt%, a 0.1 mm thick filler high filling type glass epoxy prepreg is sampled to a length of 40 mm and a width of 10 mm, and the sample is subjected to the test method in this embodiment. The glass transition temperature was measured and determined as numerical data of the semi-cured state of the prepreg.

(比較例7)
樹脂分が30wt%、フィラーが20〜30wt%で、厚み0.1mmのフィラー高充填タイプのガラスエポキシプリプレグを手で揉み解して樹脂分だけをサンプリングした。その樹脂サンプルを用いて、従来法1にて硬化時間を測定し、それをプリプレグの半硬化状態の数値データとして求めた。
(Comparative Example 7)
A resin-filled glass epoxy prepreg having a resin content of 30 wt% and a filler content of 20 to 30 wt% and a thickness of 0.1 mm was crushed by hand, and only the resin content was sampled. Using the resin sample, the curing time was measured by the conventional method 1 and obtained as numerical data of the semi-cured state of the prepreg.

(比較例8)
樹脂分が30wt%、フィラーが20〜30wt%で、厚み0.1mmのフィラー高充填タイプのガラスエポキシプリプレグから100mm×100mmに3枚サンプリングして、そのサンプルを従来法2で樹脂流れ量を測定し、それをプリプレグの半硬化状態の数値データとして求めた。
(Comparative Example 8)
Three samples of 100 mm x 100 mm were sampled from a highly filled glass epoxy prepreg with a resin content of 30 wt%, filler of 20-30 wt%, and a thickness of 0.1 mm. It was determined as numerical data of the semi-cured state of the prepreg.

5.ノンフロータイプのガラスエポキシプリプレグでの比較
(実施例5)
樹脂分が50wt%、厚み0.1mmのノンフロータイプのガラスエポキシプリプレグから長さ40mm、幅10mmにサンプリングして、そのサンプルを本実施の形態における試験方法でガラス転移温度を測定し、それをプリプレグの半硬化状態の数値データとして求めた。
5. Comparison with non-flow type glass epoxy prepreg (Example 5)
A non-flow type glass epoxy prepreg having a resin content of 50 wt% and a thickness of 0.1 mm was sampled to a length of 40 mm and a width of 10 mm, and the glass transition temperature of the sample was measured by the test method in the present embodiment. It was determined as numerical data of the semi-cured state of the prepreg.

(比較例9)
樹脂分が50wt%、厚み0.1mmのノンフロータイプのガラスエポキシプリプレグを手で揉み解して樹脂分だけをサンプリングした。その樹脂サンプルを用いて、従来法1にて硬化時間を測定し、それをプリプレグの半硬化状態の数値データとして求めた。
(Comparative Example 9)
A non-flow type glass epoxy prepreg having a resin content of 50 wt% and a thickness of 0.1 mm was manually squeezed to sample only the resin content. Using the resin sample, the curing time was measured by the conventional method 1 and obtained as numerical data of the semi-cured state of the prepreg.

(比較例10)
樹脂分が50wt%、厚み0.1mmのノンフロータイプのガラスエポキシプリプレグから100mm×100mmに3枚サンプリングして、そのサンプルを従来法2で樹脂流れ量を測定し、それをプリプレグの半硬化状態の数値データとして求めた。
(Comparative Example 10)
Three non-flow-type glass epoxy prepregs with a resin content of 50 wt% and a thickness of 0.1 mm were sampled at 100 mm x 100 mm, and the resin flow rate was measured by the conventional method 2, and the prepreg was semi-cured. Was obtained as numerical data.

6.熱可塑性樹脂ブレンドタイプのガラスエポキシプリプレグでの比較
(実施例6)
樹脂分が50wt%、厚み0.1mmのPPO樹脂とエポキシ樹脂からなる熱可塑性樹脂ブレンドタイプのガラスエポキシプリプレグから長さ40mm、幅10mmにサンプリングして、そのサンプルを本実施の形態における試験方法でガラス転移温度を測定し、それをプリプレグの半硬化状態の数値データとして求めた。
6). Comparison with glass epoxy prepreg of thermoplastic resin blend type (Example 6)
A thermoplastic resin blend type glass epoxy prepreg composed of a PPO resin and an epoxy resin with a resin content of 50 wt% and a thickness of 0.1 mm is sampled to a length of 40 mm and a width of 10 mm, and the sample is subjected to the test method in this embodiment. The glass transition temperature was measured and determined as numerical data of the semi-cured state of the prepreg.

(比較例11)
樹脂分が50wt%、厚み0.1mmのPPO樹脂とエポキシ樹脂からなる熱可塑性樹脂ブレンドタイプのガラスエポキシプリプレグを手で揉み解して樹脂分だけをサンプリングした。その樹脂サンプルを用いて、従来法1にて硬化時間を測定し、それをプリプレグの半硬化状態の数値データとして求めた。
(Comparative Example 11)
A thermoplastic resin blend type glass epoxy prepreg composed of a PPO resin and an epoxy resin having a resin content of 50 wt% and a thickness of 0.1 mm was manually crushed and the resin content alone was sampled. Using the resin sample, the curing time was measured by the conventional method 1 and obtained as numerical data of the semi-cured state of the prepreg.

(比較例12)
樹脂分が50wt%、厚み0.1mmのPPO樹脂とエポキシ樹脂からなる熱可塑性樹脂ブレンドタイプのガラスエポキシプリプレグから100mm×100mmに3枚サンプリングして、そのサンプルを従来法2で樹脂流れ量を測定し、それをプリプレグの半硬化状態の数値データとして求めた。
(Comparative Example 12)
Three samples of 100 mm x 100 mm were sampled from a thermoplastic resin blend type glass epoxy prepreg composed of PPO resin and epoxy resin with a resin content of 50 wt% and a thickness of 0.1 mm. It was determined as numerical data of the semi-cured state of the prepreg.

7.両面接着剤付ポリイミドフィルムでの比較
(実施例7)
有機フィルム補強材としての0.012mmのポリイミドフィルムの両面に厚み0.005mmの半硬化樹脂層を具備したフィルムタイプのプリプレグから長さ40mm、幅10mmにサンプリングして、そのサンプルを本実施の形態における試験方法でガラス転移温度を測定し、それをプリプレグの半硬化状態の数値データとして求めた。
7). Comparison with polyimide film with double-sided adhesive (Example 7)
A film type prepreg having a semi-cured resin layer having a thickness of 0.005 mm on both sides of a 0.012 mm polyimide film as an organic film reinforcing material is sampled to a length of 40 mm and a width of 10 mm, and the sample is used in this embodiment. The glass transition temperature was measured by the test method in, and obtained as numerical data of the semi-cured state of the prepreg.

(比較例13)
0.012mmのポリイミドフィルムの両面に厚み0.005mmの樹脂層を具備したフィルムタイプのプリプレグから樹脂分だけを表面から削りとってサンプリングした。その樹脂サンプルを用いて、従来法1にて硬化時間を測定し、それをプリプレグの半硬化状態の数値データとして求めた。
(Comparative Example 13)
Only the resin content was scraped from the surface and sampled from a film type prepreg having a 0.005 mm thick resin layer on both sides of a 0.012 mm polyimide film. Using the resin sample, the curing time was measured by the conventional method 1 and obtained as numerical data of the semi-cured state of the prepreg.

(比較例14)
0.012mmのポリイミドフィルムの両面に厚み0.005mmの樹脂層を具備したフィルムタイプのプリプレグから100mm×100mmに15枚サンプリングして、そのサンプルを従来法2で樹脂流れ量を測定し、それをプリプレグの半硬化状態の数値データとして求めた。
(Comparative Example 14)
Sampling 15 pieces of 100 mm × 100 mm from a film type prepreg having a 0.005 mm thick resin layer on both sides of a 0.012 mm polyimide film, and measuring the resin flow rate by the conventional method 2, It was determined as numerical data of the semi-cured state of the prepreg.

以上の実施例1〜7および比較例1〜14までについて、その内容と結果を(表1)にまとめた。   About the above Examples 1-7 and Comparative Examples 1-14, the content and result were put together in (Table 1).

なお、表の精度の評価結果の○△×の判定は、次のとおりである。   In addition, the determination of ○ △ × of the evaluation result of the accuracy of the table is as follows.

○:要求公差に対するバラツキの占有率が30%以内
△:要求公差に対するバラツキの占有率が60%以内
×:要求公差に対するバラツキの占有率が60%以上あるいは測定不能の場合
を示すものである。
○: The occupancy rate of the variation with respect to the required tolerance is within 30% △: The occupancy rate of the variation with respect to the required tolerance is within 60% ×: The occupancy rate of the variation with respect to the required tolerance is 60% or more or measurement is impossible.

また、表中の「測定方法」の項目における「実施の形態」は、本実施の形態における試験方法を示すものである。   In addition, “Embodiment” in the item “Measurement method” in the table indicates a test method in the present embodiment.

Figure 0005109283
Figure 0005109283

以上の結果を踏まえ、上記の7タイプのプリプレグに関し、以下に考察を述べる。   Based on the above results, the following discussion will be given regarding the above seven types of prepregs.

(1)ガラスエポキシプリプレグ(実施例1、比較例1、2)について
汎用的なガラスエポキシプリプレグについては、これまでに説明してきたように従来法1の硬化時間の測定法の精度が測定者依存の性質のため、本発明の実施例1より劣る。
(1) About Glass Epoxy Prepreg (Example 1, Comparative Examples 1 and 2) For general-purpose glass epoxy prepregs, the accuracy of the curing time measurement method of Conventional Method 1 depends on the measurer as described above. This is inferior to Example 1 of the present invention.

しかし、従来法2の樹脂流れについては、サンプル処理の有無の違いだけで、測定精度については大きな差は認められない。   However, with regard to the resin flow of the conventional method 2, there is no significant difference in measurement accuracy only by the difference in the presence or absence of sample processing.

したがって、汎用的なガラスエポキシであれば、従来法でもプリプレグ特性を問題なく管理することは可能である。   Therefore, if it is a general-purpose glass epoxy, it is possible to manage the prepreg characteristics without problems even by the conventional method.

しかし、プリプレグタイプ2〜7(実施例2〜7および比較例3〜14)においては、(従来法1)、(従来法2)の試験方法ではプリプレグの特性の把握が困難であり、管理上の限界に到るプリプレグタイプである。   However, in the prepreg types 2 to 7 (Examples 2 to 7 and Comparative Examples 3 to 14), it is difficult to grasp the characteristics of the prepreg by the test methods of (Conventional method 1) and (Conventional method 2). This is a prepreg type that reaches the limit.

これらのプリプレグは、回路基板の高密度化、基板特性の多様化等を実現するための高付加価値を生むプリプレグであり、今後ますますこのようなプリプレグが増加すると予想される。   These prepregs are high-value-added prepregs for realizing higher density of circuit boards and diversification of board characteristics, and such prepregs are expected to increase in the future.

これらの点を踏まえて、プリプレグタイプ2〜7について、以下に説明する。   Based on these points, prepreg types 2 to 7 will be described below.

(2)アラミドエポキシプリプレグ(実施例2、比較例3、4)について
ここで使用したプリプレグは、アラミドエポキシプリプレグであり、アラミド不織布にエポキシ樹脂を含浸したプリプレグである。
(2) About aramid epoxy prepreg (Example 2, Comparative Examples 3, 4) The prepreg used here is an aramid epoxy prepreg, which is a prepreg in which an aramid nonwoven fabric is impregnated with an epoxy resin.

これを用いた回路基板は、導電性ペーストをインタースティシャルビアに用いた回路基板が代表的である。最近では、一部を回路基板の表層のビルドアップ層に用いた例もある。   A circuit board using this is typically a circuit board using a conductive paste for interstitial vias. Recently, there is an example in which a part is used for a build-up layer on a surface layer of a circuit board.

さて、(表1)より、そのアラミドエポキシプリプレグについての結果をみると本実施の形態における試験方法の精度が優れていることがわかる。この差の理由として、従来法1では、これまでに説明してきた測定者によるサンプリングや測定の影響を受けやすい。   Now, from (Table 1), it can be seen that the accuracy of the test method in the present embodiment is excellent when looking at the results for the aramid epoxy prepreg. As a reason for this difference, the conventional method 1 is susceptible to the influence of sampling and measurement by the measurer described so far.

さらに、アラミドプリプレグの場合、樹脂サンプリングに問題があり、不織布のため樹脂をガラスエポキシのように揉みだすことができない。そのため、プレス等によって樹脂を溶融させて押し出す必要があり、測定前のサンプルに一時的に熱がかかることになり、バラツキを増大させる因子となる。   Furthermore, in the case of an aramid prepreg, there is a problem in resin sampling, and the resin cannot be squeezed out like glass epoxy because of the nonwoven fabric. Therefore, it is necessary to melt and extrude the resin with a press or the like, and the sample before the measurement is temporarily heated, which causes a variation.

一方、従来法2では、不織布というランダムな構造のため、プリプレグ内部での樹脂流動が複雑になり、結果として樹脂流れのバラツキ増大の要因となる。   On the other hand, in the conventional method 2, the resin flow inside the prepreg becomes complicated due to the random structure of the nonwoven fabric, resulting in an increase in the resin flow variation.

これらに対して、実施例2では、プリプレグをそのまま所定の大きさに切り出し、樹脂特性の温度変化を直接的に測定するため、測定者に依存する可能性が低く、樹脂サンプリングが不要であり、さらには不織布の構造的な影響を受けにくく、プリプレグ特性を測定するには極めて優れることが言える。   On the other hand, in Example 2, since the prepreg is cut into a predetermined size as it is and the temperature change of the resin characteristics is directly measured, the possibility of depending on the measurer is low, and resin sampling is unnecessary. Furthermore, it is hardly affected by the structure of the nonwoven fabric, and it can be said that it is extremely excellent for measuring the prepreg characteristics.

(3)低樹脂分タイプのガラスエポキシプリプレグ(実施例3、比較例5、6)について
ここで使用したプリプレグは、上記のガラスエポキシプリプレグ(実施例1、比較例1、2)に比較して、低樹脂分タイプのガラスエポキシプリプレグであり、回路基板の薄板化の際に要求されるプリプレグである。
(3) About glass epoxy prepreg of low resin content type (Example 3, Comparative Examples 5 and 6) The prepreg used here is compared with the above glass epoxy prepreg (Example 1, Comparative Examples 1 and 2). It is a low resin content type glass epoxy prepreg, and is a prepreg required when a circuit board is thinned.

実施例3と比較例5、6における差は、従来法1ではすでに説明したとおり、測定者に依存されるものである。   The difference between Example 3 and Comparative Examples 5 and 6 depends on the measurer as already described in the conventional method 1.

さらに低樹脂分タイプの場合、プリプレグの樹脂分が少ないため、従来法2による重量差が少なくなる。したがって、プリプレグの処理前後の重量差から求める樹脂流れは、その差が小さくなるため、樹脂の半硬化状態を検出する感度が必然的に悪くなる。   Further, in the case of the low resin content type, since the resin content of the prepreg is small, the weight difference due to the conventional method 2 is small. Therefore, the resin flow obtained from the difference in weight before and after the prepreg treatment has a small difference, and the sensitivity for detecting the semi-cured state of the resin is inevitably deteriorated.

一方、実施例3では、樹脂特性の温度変化を直接的に測定するため、樹脂分が極めて少なくなっても物性変化は検出することができるため、プリプレグ特性を測定するには極めて優れることが言える。   On the other hand, in Example 3, since the temperature change of the resin characteristics is directly measured, the change in physical properties can be detected even if the resin content is extremely small, and thus it can be said that it is extremely excellent for measuring the prepreg characteristics. .

(4)フィラー高充填タイプのガラスエポキシプリプレグ(実施例4、比較例7、8)、ノンフロータイプのガラスエポキシプリプレグ(実施例5、比較例9、10)、熱可塑性樹脂ブレンドタイプのガラスエポキシプリプレグ(実施例6、比較例11、12)、両面接着剤付ポリイミドフィルム(実施例7、比較例13、14)について
いずれの場合も(表1)の備考に示した理由で従来法では測定が困難である。
(4) Highly filled glass epoxy prepreg (Example 4, Comparative Examples 7 and 8), non-flow type glass epoxy prepreg (Example 5, Comparative Examples 9 and 10), thermoplastic resin blend type glass epoxy About prepreg (Example 6, Comparative Examples 11 and 12) and polyimide film with double-sided adhesive (Example 7 and Comparative Examples 13 and 14) In any case, measurement is performed by the conventional method for the reason shown in the remarks of (Table 1) Is difficult.

この中で熱可塑性樹脂ブレンドタイプのガラスエポキシプリプレグ(実施例6、比較例11、12)は、測定温度を変更する(例えば200℃)ことで測定が可能になるものの、これまで説明してきた測定法そのものの精度の問題はある。   Among them, the thermoplastic resin blend type glass epoxy prepreg (Example 6, Comparative Examples 11 and 12) can be measured by changing the measurement temperature (for example, 200 ° C.), but the measurement described so far. There is a problem with the accuracy of the law itself.

この場合、測定温度が変わるため、別種のプリプレグ特性との横並び比較は不可能となり、回路基板の成型条件を求める際に蓄積されてきた成型条件との比較ができなくなる。   In this case, since the measurement temperature changes, side-by-side comparison with other types of prepreg characteristics becomes impossible, and comparison with the molding conditions accumulated when determining the molding conditions of the circuit board becomes impossible.

したがって、これは新タイプの回路基板の開発効率に対してデメリットとなる。   Therefore, this is a disadvantage for the development efficiency of the new type of circuit board.

さらに、フィルムタイプのような全く新規なプリプレグについては、その薄さからサンプリングあるいは測定自体が極めて困難となり、従来法でのプリプレグ特性の管理は不可能である。   Furthermore, for a completely new prepreg such as a film type, sampling or measurement itself becomes extremely difficult due to its thinness, and it is impossible to manage the prepreg characteristics by the conventional method.

一方、本実施の形態における試験方法であれば、サンプル処理の必要がなく、そのままプリプレグ状態で装置によって測定することが可能であるため、プリプレグの樹脂系、構造等に依存することがない。したがって、本実施の形態における試験方法を用いれば、精度および信頼性に優れ、かつ適用範囲の広いプリプレグ特性の管理を実現することができる。   On the other hand, the test method according to the present embodiment does not require sample processing and can be directly measured by the apparatus in the prepreg state, and therefore does not depend on the resin system, structure, or the like of the prepreg. Therefore, by using the test method in the present embodiment, it is possible to realize management of prepreg characteristics that are excellent in accuracy and reliability and have a wide application range.

本実施の形態における試験方法を用いた場合の事例として、低樹脂分タイプのガラスエポキシプリプレグを基板材料として用いた回路基板の製造方法について説明する。   As an example of the case where the test method in the present embodiment is used, a method for manufacturing a circuit board using a glass epoxy prepreg of a low resin content type as a board material will be described.

まず、使用するプリプレグは、回路基板の薄板化の際に用いられるプリプレグであって、今後、採用される機会が増えていくことが予想される。   First, the prepreg to be used is a prepreg used when the circuit board is thinned, and it is expected that the opportunities to be employed will increase in the future.

具体的には、ガラス繊維織布に熱硬化性のエポキシ樹脂等を含浸し、乾燥等の方法により半硬化状態とした基板材料としてのプリプレグであって、樹脂分が40wt%、厚み0.1mmであり、低樹脂分タイプのガラスエポキシプリプレグと呼ばれるものである。   Specifically, a prepreg as a substrate material impregnated with a glass fiber woven fabric with a thermosetting epoxy resin or the like and made into a semi-cured state by a method such as drying, the resin content is 40 wt%, the thickness is 0.1 mm It is a low resin content type glass epoxy prepreg.

まず、回路基板の製造における管理上、複数枚を1ロットとし、さらに複数のロットより構成されているプリプレグが準備される。   First, a prepreg composed of a plurality of lots is prepared for management in manufacturing a circuit board.

本実施の形態においては、1ロットが30枚のプリプレグを5ロット、すなわちプリプレグが150枚準備されている事例について説明する。   In the present embodiment, a case where 5 lots of 30 prepregs, that is, 150 prepregs are prepared will be described.

次に、上記で説明した本実施の形態における試験方法を用いてプリプレグ特性の測定を以下の手順で行う。   Next, the prepreg characteristics are measured by the following procedure using the test method in the present embodiment described above.

(1)製品としての回路基板に影響しない部分、例えば、プリプレグの端部から長さ40mm、幅10mmにサンプリングする。   (1) A part that does not affect the circuit board as a product, for example, 40 mm in length and 10 mm in width from the end of the prepreg is sampled.

(2)そのサンプルを本実施の形態における試験方法でガラス転移温度を測定し、それをプリプレグの半硬化状態の数値データとして求める。   (2) The glass transition temperature of the sample is measured by the test method in the present embodiment, and it is obtained as numerical data of the semi-cured state of the prepreg.

(3)ガラス転移温度範囲50℃〜100℃のガラス転移温度を有するプリプレグを良品として判定し、そのプリプレグを基板材料として選択する。   (3) A prepreg having a glass transition temperature in a glass transition temperature range of 50 ° C. to 100 ° C. is determined as a good product, and the prepreg is selected as a substrate material.

なお、プリプレグの測定の頻度は、150枚全数であってもよく、抜き取りであってもよい。本実施の形態においては、1ロット中1枚目、15枚目、30枚目の3枚を抜き取るものとし、5ロットで合計15枚のプリプレグの特性を測定した。   Note that the frequency of measurement of the prepreg may be the total number of 150 sheets or may be extracted. In the present embodiment, three of the first, fifteenth and thirty sheets are extracted from one lot, and the characteristics of a total of 15 prepregs in five lots are measured.

1ロット目〜4ロット目の測定結果は、12枚全てが良品として判定された。その一方、5ロット目の測定結果は、3枚中2枚は良品として判定され、1枚はガラス転移温度範囲外であった。   As for the measurement results of the 1st to 4th lots, all 12 sheets were determined as non-defective products. On the other hand, in the measurement result of the fifth lot, two of the three sheets were judged as non-defective products, and one sheet was out of the glass transition temperature range.

次に、本発明の回路基板の製造方法について、図面を用いて以下に説明する。   Next, the manufacturing method of the circuit board of this invention is demonstrated below using drawing.

まず、図1(a)に示すように、本実施の形態における試験方法により良品として選別し、選択されたプリプレグ1を準備する。   First, as shown in FIG. 1A, the selected prepreg 1 is prepared by sorting as a non-defective product by the test method in the present embodiment.

次に、図1(b)に示すように、熱ロール等を用いたラミネート法によりプリプレグ1の両面に有機質フィルム2を張り付ける。   Next, as shown in FIG.1 (b), the organic film 2 is affixed on both surfaces of the prepreg 1 by the laminating method using a hot roll etc. As shown in FIG.

次に、図1(c)に示すように、レーザ等の加工法によりプリプレグ1に貫通穴3を形成した後、貫通穴3に銅粉等の導電性粒子と熱硬化性樹脂、硬化剤、溶剤などを混練しペースト状にした導電性ペースト4を印刷法等で充填し、図1(d)に示す構成を得る。   Next, as shown in FIG.1 (c), after forming the through-hole 3 in the prepreg 1 by processing methods, such as a laser, electroconductive particles, such as copper powder, a thermosetting resin, a hardening | curing agent, A conductive paste 4 kneaded with a solvent or the like is filled with a printing method or the like to obtain the configuration shown in FIG.

次に、有機質フィルム2を剥離し、図1(e)に示すような導電性ペースト4が突出した形状を得る。そして、その両側に銅箔5を配置し、さらにSUS等の金属中間板で挟み熱プレス(図示せず)によって加熱加圧することで、図1(f)に示すように、プリプレグ1が硬化成型され、導電性ペースト4は圧縮されて表裏の銅箔5が電気的に接続される。   Next, the organic film 2 is peeled off to obtain a shape in which the conductive paste 4 protrudes as shown in FIG. Then, copper foils 5 are arranged on both sides, and further sandwiched between metal intermediate plates such as SUS and heated and pressed by a hot press (not shown), so that the prepreg 1 is cured and molded as shown in FIG. Then, the conductive paste 4 is compressed and the copper foils 5 on the front and back sides are electrically connected.

さらにフォトリソエッチング等の方法で銅箔5を所望のパターンに加工して回路配線層6とし、図1(g)に示すような両面の回路基板を得る。   Further, the copper foil 5 is processed into a desired pattern by a method such as photolithography etching to form a circuit wiring layer 6 to obtain a double-sided circuit board as shown in FIG.

図1では、通常回路基板に配設する外層部のソルダーレジストあるいは回路配線層6へのめっき処理等の表面仕上げ処理は図示していないが、必要に応じて配設する。   In FIG. 1, the surface finishing process such as the plating process on the solder resist or the circuit wiring layer 6 of the outer layer part normally disposed on the circuit board is not shown, but it is disposed if necessary.

また、多層回路基板を製造する際は、図2(a)、図2(b)に示すように、一旦完成したコア基板11の上下に、上記の図1(a)〜図1(d)で説明した選別されたプリプレグおよび製造方法により別途準備されたプリプレグを層間接着用の基板材料16と、さらに銅箔14とを、位置合わせをしながら重ね合わせて熱プレスすることで、図2(c)に示すような積層硬化物を得ることができる。   When manufacturing a multilayer circuit board, as shown in FIGS. 2 (a) and 2 (b), the above-described FIGS. 1 (a) to 1 (d) are provided above and below the core substrate 11 once completed. 2A and 2B, the selected prepreg and the prepreg separately prepared by the manufacturing method described above are stacked and heat-pressed on the substrate material 16 for interlayer adhesion and the copper foil 14 while being aligned. A laminated cured product as shown in c) can be obtained.

その積層硬化物の表層をフォトリソエッチング等の方法で、銅箔14を所望のパターンに加工して回路配線層17とし、図2(d)に示すような多層回路基板を得る。   The surface layer of the laminated cured product is processed into a desired pattern by using a method such as photolithography etching to form a circuit wiring layer 17 to obtain a multilayer circuit board as shown in FIG.

図2では、通常回路基板に配設する外層部のソルダーレジストあるいは回路配線層17へのめっき処理等の表面仕上げ処理は図示していないが、必要に応じて配設する。   In FIG. 2, the surface finishing process such as the plating process on the solder resist or the circuit wiring layer 17 of the outer layer part usually disposed on the circuit board is not shown, but it is disposed if necessary.

なお、上記製造方法を繰り返すことでより多層化された回路基板を得ることができる。   It should be noted that a multilayered circuit board can be obtained by repeating the above manufacturing method.

本発明の回路基板の製造方法により、良品として選別された1ロット目〜4ロット目のプリプレグ120枚を基板材料として、図2(d)に示すような多層の回路基板を製造したところ、成型不良は発生しなかった。   A multilayer circuit board as shown in FIG. 2 (d) was manufactured by using the circuit board manufacturing method of the present invention and 120 prepregs of the first to fourth lots selected as non-defective products as substrate materials. No defects occurred.

ガラス転移温度範囲外のプリプレグが1枚検出された5ロット目については、本実施の形態における試験方法により、再度全数検査を実施したところ、30枚のプリプレグのうち、2枚がガラス転移温度範囲外として検出された。   For the fifth lot in which one prepreg outside the glass transition temperature range was detected, 100% inspection was performed again by the test method in the present embodiment. As a result, two of the 30 prepregs were in the glass transition temperature range. Detected as outside.

一方、5ロット目のプリプレグ30枚を従来法1で測定したところ、全数がガラス転移温度範囲であった。   On the other hand, when 30 prepregs of the fifth lot were measured by the conventional method 1, the total number was in the glass transition temperature range.

なお、従来法2は、プリプレグに含浸された樹脂分が少なく、測定が極めて困難であったため、実施していない。   The conventional method 2 is not carried out because the amount of resin impregnated in the prepreg is small and measurement is extremely difficult.

次に、上記の回路基板の製造方法により、5ロット目のプリプレグ30枚を基板材料として、図2(d)に示すような多層の回路基板を製造したところ、成型不良が2枚発生し、本実施の形態における試験方法により、ガラス転移温度範囲外として検出されたものと一致した。   Next, when a multilayer circuit board as shown in FIG. 2 (d) is manufactured by using the above-mentioned circuit board manufacturing method as the substrate material of the prepregs of the fifth lot, two molding defects occur, This coincided with that detected by the test method in the present embodiment as outside the glass transition temperature range.

以上のことから、従来法で試験管理されたプリプレグを用いた場合、要求公差に対して試験結果が満足しているにも関わらず突発的に形成不良が発生する場合があった。   From the above, when a prepreg controlled by the conventional method is used, a formation failure may occur suddenly even though the test result satisfies the required tolerance.

これは、従来法での測定バラツキによって、見かけ上プリプレグ特性が要求公差を満たしているものの、実際はプリプレグ特性が要求公差に収まっていないことを示すものである。   This indicates that the prepreg characteristics seem to meet the required tolerance due to measurement variations in the conventional method, but the prepreg characteristics do not actually fall within the required tolerance.

それに対し、本発明の回路基板の製造方法におけるプリプレグのガラス転移温度を測定する工程は、測定バラツキが極めて小さいことから、要求公差を満たす良品のプリプレグのみが選択された場合、それを基板材料として回路基板を製造すると、回路基板の成型不良を防ぐことができることを示している。   On the other hand, the process for measuring the glass transition temperature of the prepreg in the method for producing a circuit board of the present invention has very small measurement variation, so when only a good prepreg satisfying the required tolerance is selected, it is used as the substrate material. It shows that when a circuit board is manufactured, molding defects of the circuit board can be prevented.

すなわち、本発明の回路基板の製造方法は、本実施の形態における試験方法によりプリプレグの特性を測定し、要求公差を満たすプリプレグのみを選択し、そのプリプレグに穴加工、ペースト充填、積層、加熱加圧等の工程を経て回路基板を製造することにより、突発的な成型不良が生じることがなく、精度および信頼性に優れた高品質の回路基板を提供できる。   That is, the circuit board manufacturing method of the present invention measures the characteristics of the prepreg by the test method in the present embodiment, selects only the prepreg that satisfies the required tolerance, and drills, fills, laminates, and heats the prepreg. By manufacturing the circuit board through a process such as pressure, a high-quality circuit board excellent in accuracy and reliability can be provided without causing unexpected molding defects.

なお、本実施の形態における回路基板の製造方法は、低樹脂分タイプのガラスエポキシプリプレグを基板材料として用いた場合を示したが、汎用的なガラスエポキシプリプレグやアラミドエポキシプリプレグを基板材料として用いた場合においても有効である。   In addition, although the manufacturing method of the circuit board in this Embodiment showed the case where the low epoxy resin type glass epoxy prepreg was used as a board | substrate material, the general purpose glass epoxy prepreg or the aramid epoxy prepreg was used as a board | substrate material. It is also effective in some cases.

特に、従来法ではプリプレグ特性の測定が困難であったノンフロータイプ、フィラー高充填タイプ、熱可塑性樹脂ブレンドタイプのガラスエポキシプリプレグ、および両面接着剤付ポリイミドフィルムを基板材料として用いた場合、本発明の効果は顕著であり、本発明の回路基板の製造方法を用いることで、これらの基板材料を採用することも可能となり、その結果、新タイプの回路基板を提供することもできる。   In particular, when a non-flow type, a filler high filling type, a thermoplastic resin blend type glass epoxy prepreg, and a polyimide film with a double-sided adhesive, which are difficult to measure the prepreg characteristics by the conventional method, are used as a substrate material, the present invention These effects are remarkable. By using the circuit board manufacturing method of the present invention, it is possible to adopt these board materials, and as a result, it is possible to provide a new type of circuit board.

以上のように本発明の回路基板の製造方法は、プリプレグ樹脂の半硬化状態をバラツキなく数値化し、かつプリプレグの樹脂系あるいは構造に依存されないプリプレグ特性の試験方法を製造方法のプロセスに含むものであり、要求公差を満たす良品のプリプレグの選択が容易となる。そして前記の良品のプリプレグを用いて回路基板を製造することで、精度および信頼性に優れた高品質の回路基板を提供でき、産業上の利用可能性は大といえる。   As described above, the method for manufacturing a circuit board according to the present invention includes a method for manufacturing a prepreg resin, which quantifies the semi-cured state of the prepreg resin without variation and includes a prepreg property test method independent of the resin system or structure of the prepreg. Yes, it is easy to select a good prepreg that satisfies the required tolerance. By manufacturing a circuit board using the above-mentioned non-defective prepreg, a high-quality circuit board excellent in accuracy and reliability can be provided, and the industrial applicability is great.

本発明の実施の形態における回路基板の製造方法を示す断面図Sectional drawing which shows the manufacturing method of the circuit board in embodiment of this invention 本発明の実施の形態における回路基板の製造方法を示す断面図Sectional drawing which shows the manufacturing method of the circuit board in embodiment of this invention 本発明の実施の形態におけるプリプレグの動的粘弾性(DMA)測定データを示す図The figure which shows the dynamic viscoelasticity (DMA) measurement data of the prepreg in embodiment of this invention 従来の回路基板の製造方法を示す断面図Sectional drawing which shows the manufacturing method of the conventional circuit board 従来の回路基板の製造方法を示す断面図Sectional drawing which shows the manufacturing method of the conventional circuit board

1 プリプレグ
2 有機質フィルム
3 貫通穴
4 導電性ペースト
5、14 銅箔
6、17 回路配線層
11 コア基板
16 基板材料
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Prepreg 2 Organic film 3 Through-hole 4 Conductive paste 5, 14 Copper foil 6, 17 Circuit wiring layer 11 Core substrate 16 Substrate material

Claims (8)

少なくとも補強材と半硬化樹脂とからなるプリプレグを複数枚を1ロットとし、それを少なくとも1ロット準備する工程と、
前記複数枚のプリプレグのうち少なくとも1枚のプリプレグのガラス転移温度を動的粘弾性測定法で常温から一定の昇温速度で加熱していくことにより測定する工程と、
前記複数枚のプリプレグのうち少なくとも1枚のプリプレグのガラス転移温度を動的粘弾性測定法で常温から一定の昇温速度で加熱していくことにより測定する工程において測定された値が50℃〜100℃のガラス転移温度範囲内のガラス転移温度を有するプリプレグを良品として判定し、そのプリプレグのみを選択する工程と、
選択されたプリプレグの両面に金属箔を重ねて積層体を形成する工程、あるいはコア基板と選択されたプリプレグと金属箔とを重ねて積層体を形成する工程のうち少なくとも一つの工程と、
前記積層体を加熱加圧する工程を備えることを特徴とする回路基板の製造方法。
A step of preparing a plurality of prepregs comprising at least a reinforcing material and a semi-cured resin as one lot, and preparing at least one lot;
Measuring the glass transition temperature of at least one prepreg of the plurality of prepregs by heating at a constant rate of temperature increase from room temperature using a dynamic viscoelasticity measurement method;
A value measured in a step of measuring the glass transition temperature of at least one prepreg among the plurality of prepregs by heating at a constant rate of temperature increase from room temperature by a dynamic viscoelasticity measurement method is 50 ° C to Determining a prepreg having a glass transition temperature within a glass transition temperature range of 100 ° C. as a non-defective product, and selecting only the prepreg;
At least one of a step of forming a laminate by stacking metal foil on both sides of the selected prepreg, or a step of forming a laminate by stacking the core substrate and the selected prepreg and metal foil;
A method of manufacturing a circuit board, comprising the step of heating and pressing the laminate.
プリプレグは、アラミド不織布補強材にエポキシ樹脂を含浸してなることを特徴とする請求項1に記載の回路基板の製造方法。 The method for producing a circuit board according to claim 1, wherein the prepreg is formed by impregnating an aramid nonwoven fabric reinforcing material with an epoxy resin. プリプレグは、ガラス繊維補強材に樹脂を含浸してなり、前記樹脂の含浸比率は40wt%以下であることを特徴とする請求項1に記載の回路基板の製造方法。 The method for producing a circuit board according to claim 1, wherein the prepreg is formed by impregnating a glass fiber reinforcing material with a resin, and an impregnation ratio of the resin is 40 wt% or less. プリプレグは、ガラス繊維補強材にフィラーが充填された樹脂を含浸してなり、前記フィラーの充填比率は20〜30wt%であることを特徴とする請求項1に記載の回路基板の製造方法。 The method for producing a circuit board according to claim 1, wherein the prepreg is formed by impregnating a resin in which a glass fiber reinforcing material is filled with a filler, and a filling ratio of the filler is 20 to 30 wt%. プリプレグは、ガラス繊維補強材にノンフロータイプ樹脂を含浸してなることを特徴とする請求項1に記載の回路基板の製造方法。 2. The circuit board manufacturing method according to claim 1, wherein the prepreg is formed by impregnating a glass fiber reinforcing material with a non-flow type resin. プリプレグは、ガラス繊維補強材に熱可塑性樹脂とエポキシ樹脂を含浸してなることを特徴とする請求項1に記載の回路基板の製造方法。 The method for producing a circuit board according to claim 1, wherein the prepreg is formed by impregnating a glass fiber reinforcing material with a thermoplastic resin and an epoxy resin. プリプレグは、有機フィルム補強材の両面あるいは片面に熱硬化性樹脂を塗布してなることを特徴とする請求項1に記載の回路基板の製造方法。 The method for producing a circuit board according to claim 1, wherein the prepreg is formed by applying a thermosetting resin to both surfaces or one surface of the organic film reinforcing material. 選択されたプリプレグの両面に金属箔を重ねて積層体を形成する工程は、
前記プリプレグの両面に有機質フィルムをラミネートする工程と、
それに貫通穴を形成する工程と、前記貫通穴に導電性ペーストを充填する工程と、前記有機質フィルムを剥離する工程とを含むことを特徴とする請求項1に記載の回路基板の製造方法。
The process of forming a laminate by overlapping metal foil on both sides of the selected prepreg,
Laminating an organic film on both sides of the prepreg;
The method for manufacturing a circuit board according to claim 1, comprising a step of forming a through hole therein, a step of filling the through hole with a conductive paste, and a step of peeling off the organic film.
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