JP5109236B2 - Hole blocking material and organic electroluminescent device - Google Patents

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Description

本発明は正孔阻止材料及び有機電界発光素子に関するものであり、詳しくは、発光効率が高く、連続駆動時の輝度低下の少ない有機電界発光素子を提供し得る正孔阻止材料と、この正孔阻止材料を正孔阻止層に用いた有機電界発光素子に関するものである。   The present invention relates to a hole blocking material and an organic electroluminescent device, and more specifically, a hole blocking material capable of providing an organic electroluminescent device having high luminous efficiency and low luminance reduction during continuous driving, and the hole. The present invention relates to an organic electroluminescence device using a blocking material for a hole blocking layer.

近年、薄膜型の電界発光(EL)素子としては、無機材料を使用したものに代わり、有機薄膜を用いた有機電界発光素子の開発が行われるようになっている。また、有機電界発光素子の発光効率を上げる試みとして、蛍光(一重項励起子による発光)ではなく燐光(三重項励起子による発光)を用いることが検討されている。燐光を用いると、蛍光を用いた素子と比べて、効率が3倍程度向上すると考えられており、燐光分子としてユーロピウム錯体、白金錯体等を使用することが報告されている。しかしながら、従来の燐光分子を用いた有機電界発光素子は、高効率発光ではあるが、駆動安定性の点において実用には不十分であり、高効率な表示素子の実現は困難な状況であった。   In recent years, organic electroluminescent elements using organic thin films have been developed as thin film type electroluminescent (EL) elements instead of using inorganic materials. In addition, as an attempt to increase the light emission efficiency of the organic electroluminescence device, it has been studied to use phosphorescence (light emission by triplet excitons) instead of fluorescence (light emission by singlet excitons). When phosphorescence is used, it is considered that the efficiency is improved about three times as compared with an element using fluorescence, and it has been reported that europium complex, platinum complex or the like is used as phosphorescent molecule. However, the conventional organic electroluminescent device using phosphorescent molecules is highly efficient, but is insufficient for practical use in terms of driving stability, and it is difficult to realize a highly efficient display device. .

これまでに報告されている有機電界発光素子では、基本的には正孔輸送層と電子輸送層の組み合わせにより発光を得ている。即ち、陽極から注入された正孔は正孔輸送層を移動し、陰極から注入されて電子輸送層を移動してくる電子と、両層の界面近傍で再結合をし、正孔輸送層及び/又は電子輸送層を励起させて発光させるのがその原理であり、更に、正孔輸送層と電子輸送層の間に発光層を設けることにより、発光効率を向上させている素子が一般的である。   In the organic electroluminescence device reported so far, light emission is basically obtained by a combination of a hole transport layer and an electron transport layer. That is, the holes injected from the anode move through the hole transport layer, recombine with the electrons injected from the cathode and moving through the electron transport layer near the interface between the two layers, and the hole transport layer and The principle is that the electron transport layer is excited to emit light, and a device that improves the light emission efficiency by providing a light emitting layer between the hole transport layer and the electron transport layer is common. is there.

更に、発光層中での励起子生成を促進させ、発光の高効率化・発光色の高純度化を目的に、発光層の陰極側界面に接して正孔阻止層を設ける場合がある。例えば、正孔注入/輸送層にトリアリールアミン系化合物を、電子注入/輸送層にアルミニウム錯体を用いた素子などは、正孔の移動度が電子の移動度を上回る傾向にあり、正孔が発光に寄与せず陰極側へ通り抜けてしまうという問題があったが、この問題を解決するために、発光層の陰極側界面に正孔阻止層を設けることが好ましいと考えられている。   Furthermore, a hole blocking layer may be provided in contact with the cathode side interface of the light emitting layer for the purpose of promoting the generation of excitons in the light emitting layer and improving the efficiency of light emission and the purity of the light emission color. For example, a device using a triarylamine compound for the hole injection / transport layer and an aluminum complex for the electron injection / transport layer has a tendency that the hole mobility exceeds the electron mobility. There has been a problem that the light passes through the cathode without contributing to light emission. In order to solve this problem, it is considered preferable to provide a hole blocking layer at the cathode side interface of the light emitting layer.

特に、発光層の酸化電位が大きい場合、通常用いられる8−ヒドロキシキノリンのアルミニウム錯体などの電子輸送層を有する、発光層への正孔の封じ込めが困難である青色発光素子や燐光発光素子では、正孔阻止層の必要性が高い。   In particular, when the oxidation potential of the light emitting layer is large, a blue light emitting device or a phosphorescent light emitting device having an electron transport layer such as a commonly used aluminum complex of 8-hydroxyquinoline, which is difficult to contain holes in the light emitting layer, The need for a hole blocking layer is high.

特許文献1には、発光層のイオン化ポテンシャルよりも大きなイオン化ポテンシャルを有する正孔阻止層を設けた有機電界発光素子が記載されている。該文献では、正孔阻止層に使用される正孔阻止材料として、トリス(5,7−ジクロル−8−ヒドロキシキノリノ)アルミニウムの使用が提案されている。また、特許文献2では、正孔阻止材料として、シラシクロペンタジエンの使用が提案されている。しかし、これらはいずれも、駆動安定性が十分ではなかった。この駆動時の安定性が不十分である要因としては、正孔阻止材料のガラス転移温度(Tg)が低い事に由来する熱劣化や、電子や正孔の注入によって起きる正孔阻止材料の電気化学的変性などが指摘されている。   Patent Document 1 describes an organic electroluminescence device provided with a hole blocking layer having an ionization potential larger than the ionization potential of the light emitting layer. This document proposes the use of tris (5,7-dichloro-8-hydroxyquinolino) aluminum as the hole blocking material used in the hole blocking layer. Patent Document 2 proposes the use of silacyclopentadiene as a hole blocking material. However, none of these has sufficient driving stability. The reason why the stability at the time of driving is insufficient is that the hole blocking material is thermally deteriorated due to the low glass transition temperature (Tg), or the electrical property of the hole blocking material caused by injection of electrons and holes. Chemical modification has been pointed out.

一方で、有機電界発光素子の長寿命化が検討されており、このための、正孔阻止材料の改善も検討されている。非特許文献1では、燐光素子の寿命を改善することを目的として、Balq(アルミニウム(III)ビス(2−メチル−8−キノリネート)4−フェニルフェノレート)やSAlq(アルミニウム(III)ビス(2−メチル−8−キノリネート)トリフェニルシラノレート)などの、アルミニウム錯体系正孔阻止材料が盛んに用いられ、一定の長寿命化に成功している。しかしながら、上記化合物では、正孔阻止能が十分でないために、素子の発光効率が不十分であったり、正孔の一部が正孔阻止層を通過して電子輸送層へ抜けてしまうことによって、電子輸送材料の酸化劣化が起こったりするという問題があった。   On the other hand, extending the lifetime of organic electroluminescent elements has been studied, and improvement of hole blocking materials for this purpose has also been studied. In Non-Patent Document 1, Balq (aluminum (III) bis (2-methyl-8-quinolinate) 4-phenylphenolate) or SAlq (aluminum (III) bis (2) is used for the purpose of improving the lifetime of the phosphorescent device. Aluminum complex-based hole blocking materials such as -methyl-8-quinolinate) triphenylsilanolate) have been actively used and have achieved a certain long life. However, in the above compound, since the hole blocking ability is not sufficient, the luminous efficiency of the device is insufficient, or some of the holes pass through the hole blocking layer and escape to the electron transport layer. There has been a problem that the electron transport material is oxidized and deteriorated.

また、燐光素子の寿命を改善することを目的とした別の手法として、特許文献3には、NPD(N,N’−ジフェニル−N,N’−ビス−α−ナフチルベンジジン)とAlq3(8−ヒドロキシキノリンのアルミニウム錯体)を混合したホスト材料と、これにPtOEP(2,3,7,8,12,12,17,18−オクタエチル−21H,23H−ポルフィンプラチナ(II)、又は、BTPIr(bis(2−(2’−ベンゾ[4,5−a]チエニルピリジネート−N,C3’)イリジウム(III)−アセチルアセトネート)を燐光ドーパントとすることが記載されている。しかし、これらは、赤色のドーパント材料にしか適用できず、フルカラー表示に必要な緑色燐光素子や青色燐光素子の長寿命化は実現できていなかった。   As another method for improving the lifetime of the phosphorescent element, Patent Document 3 discloses NPD (N, N′-diphenyl-N, N′-bis-α-naphthylbenzidine) and Alq3 (8 -A host material mixed with an aluminum complex of hydroxyquinoline) and PtOEP (2,3,7,8,12,12,17,18-octaethyl-21H, 23H-porphine platinum (II) or BTPIr ( Bis (2- (2′-benzo [4,5-a] thienylpyridinate-N, C3 ′) iridium (III) -acetylacetonate) is described as a phosphorescent dopant. Can only be applied to red dopant materials, and it has not been possible to extend the life of green phosphors and blue phosphors required for full-color display.

上述の理由から、高発光効率で、かつ正孔阻止能の高い有機電界発光素子が求められていた。特に、正孔阻止材料自体が、電気的酸化還元耐久性、特に電気的還元耐久性を有していることが求められていた。
特開平2-195683号公報 特開平9-87616号公報 米国特許出願公開第2002/0074935号明細書 Appl.Phys.Lett.,81巻,162頁,2002年
For the above reasons, there has been a demand for an organic electroluminescent device having high luminous efficiency and high hole blocking ability. In particular, the hole blocking material itself has been required to have electrical redox durability, particularly electrical reduction durability.
Japanese Patent Laid-Open No. 2-195683 Japanese Patent Laid-Open No. 9-87616 US Patent Application Publication No. 2002/0074935 Appl. Phys. Lett., 81, 162, 2002

本発明は、高い発光効率を維持しながら、連続駆動時に輝度低下の少ない、長寿命な正孔阻止材料を提供し得る、正孔阻止能が高く、電気的酸化還元耐久性、特に電気的還元耐久性に優れた正孔阻止材料と、この正孔阻止材料を用いた、高発光効率で連続駆動時の輝度低下の少ない、長寿命な有機電界発光素子を提供することを課題とする。   The present invention can provide a long-lived hole blocking material that maintains a high luminous efficiency and has a low luminance drop during continuous driving, and has a high hole blocking ability and electrical redox durability, particularly electrical reduction. It is an object of the present invention to provide a hole blocking material excellent in durability and a long-life organic electroluminescence device using the hole blocking material and having a high luminous efficiency and a low luminance decrease during continuous driving.

本発明者らが鋭意検討した結果、分子量が400以上の正孔阻止材料であって、サイクリックボルタンメトリー測定によって得られる第一還元波の還元電流値(Ipc)と酸化電流値(Ipa)の比(Ipa/Ipc)が0.1以上である正孔阻止材料を用いることにより、有機電界発光素子において、高効率発光を維持した上で、連続駆動時に輝度低下が少なく、かつ長寿命化を図ることができることを見出し、本発明に到達した。   As a result of intensive studies by the present inventors, the ratio of the reduction current value (Ipc) and oxidation current value (Ipa) of the first reduction wave obtained by cyclic voltammetry measurement is a hole blocking material having a molecular weight of 400 or more. By using a hole blocking material having (Ipa / Ipc) of 0.1 or more, in an organic electroluminescent device, while maintaining high efficiency light emission, there is little decrease in luminance during continuous driving and long life is achieved. The present invention has been found.

即ち、これまで一般的な知見として、正孔阻止材料のような電子輸送性の材料は、電気化学的に安定、特に還元に対して安定なものが好ましいとされてきた。しかしながら、このような材料を、具体的に特定することは非常に困難であった。そこで、本発明者らは、この電気化学的に安定な材料を特定するため、様々な測定や材料の設計を試みたところ、Ipa/Ipc比が有用ではないかとの結論に到達した。従来の正孔阻止材料は、特に高いガラス転移温度を得られる分子量が400以上の材料については、通常Ipa/Ipc比が0.1より小さいものが使用されていた。ところが、本発明者らは敢えて、それに代えてIpa/Ipc比が0.1以上の正孔阻止材料を正孔阻止層に使用してみたところ、素子の電気的還元耐久性が飛躍的に向上し、長寿命化されることがわかった。即ち、Ipa/Ipc比が0.1を境にして、それ以上のものは、正孔阻止材料として電気化学的に安定というだけでなく、有機電界発光素子に用いると、高い発光効率を維持しながら、連続駆動時に輝度低下の少ない、長寿命な素子を提供できることを見出し、本発明に到達した。   That is, as a general knowledge so far, it has been preferable that an electron transporting material such as a hole blocking material is electrochemically stable, particularly stable against reduction. However, it has been very difficult to specify such a material specifically. Therefore, the present inventors tried various measurements and material designs to identify this electrochemically stable material, and reached the conclusion that the Ipa / Ipc ratio was useful. As the conventional hole blocking material, a material having an Ipa / Ipc ratio of less than 0.1 is usually used for a material having a molecular weight of 400 or more that can obtain a high glass transition temperature. However, when the present inventors dared to use a hole blocking material having an Ipa / Ipc ratio of 0.1 or more for the hole blocking layer instead, the electrical reduction durability of the device was dramatically improved. And it has been found that the service life is extended. That is, when the Ipa / Ipc ratio is 0.1 or higher, not only is it electrochemically stable as a hole blocking material, but it also maintains high luminous efficiency when used in an organic electroluminescent device. However, the inventors have found that it is possible to provide an element having a long lifetime with little decrease in luminance during continuous driving, and the present invention has been achieved.

本発明の第一の要旨は、下記一般式(I)で示される化合物であって、分子量が400以上であることを特徴とする正孔阻止材料、に存する。

Figure 0005109236
(一般式(I)中、R〜Rは、各々独立に、置換基を有していてもよい芳香族炭化水素基を表す。mは、であり、Qは、置換基を有していてもよい2価の芳香族炭化水素基であり、ピリジン環の2〜6位のいずれか1つと直接結合する。但し、Qがピリジン環の2,4,6位のいずれかに結合する場合は、その結合位置にあるR〜RのいずれかがQとなる。又、複数個含まれるR〜Rは、それぞれ同一であつても異なっていてもよく、ピリジン環がQと結合する位置は、それぞれ同一の位置であつても異なった位置であってもよい。) The first gist of the present invention resides in a hole blocking material which is a compound represented by the following general formula (I) and has a molecular weight of 400 or more.
Figure 0005109236
(In General Formula (I), R 1 to R 3 each independently represents an optionally substituted aromatic hydrocarbon group . M is 2 , and Q 1 represents a substituent. A divalent aromatic hydrocarbon group which may be present and directly bonded to any one of positions 2 to 6 of the pyridine ring, provided that Q 1 is any of positions 2, 4 and 6 of the pyridine ring; If attached, either R 1 to R 3 is Q 1 in its coupled position in. Further, R 1 to R 3 which contained several double may be different even shall apply the same respectively The position at which the pyridine ring is bonded to Q 1 may be the same position or different positions.)

また、本発明の第二の要旨は、基板上に、陽極及び陰極に挟持された発光層を有し、該発光層の陰極側界面に接して正孔阻止層が設けられている有機電界発光素子において、該正孔阻止層が、上記本発明の正孔阻止材料を含有することを特徴とする有機電界発光素子、に存する。   The second aspect of the present invention is an organic electroluminescence device comprising a light emitting layer sandwiched between an anode and a cathode on a substrate, and a hole blocking layer provided on the cathode side interface of the light emitting layer. In the device, the hole blocking layer resides in an organic electroluminescent device characterized by containing the hole blocking material of the present invention.

本発明の正孔阻止材料によれば、高効率でかつ連続駆動時の輝度低下の少ない長寿命な有機電界発光素子が実現可能となる。   According to the hole blocking material of the present invention, it is possible to realize a long-life organic electroluminescence device that is highly efficient and has a low luminance decrease during continuous driving.

従って、本発明による有機電界発光素子はフラットパネル・ディスプレイ(例えばOAコンピュータ用や壁掛けテレビ)、車載表示素子、携帯電話表示や面発光体としての特徴を生かした光源(例えば、複写機の光源、液晶ディスプレイや計器類のバックライト光源)、表示板、標識灯への応用が考えられ、その技術的価値は大きいものである。   Therefore, the organic electroluminescent device according to the present invention is a flat panel display (for example, for OA computers and wall-mounted televisions), an in-vehicle display device, a light source utilizing characteristics of a mobile phone display or a surface light emitter (for example, a light source of a copying machine, It can be applied to liquid crystal displays and back light sources for instruments, display panels, and indicator lights, and its technical value is great.

以下に本発明の実施の形態を詳細に説明するが、以下に記載する構成要件の説明は、本発明の実施態様の一例(代表例)であり、本発明はその要旨を超えない限り、これらの内容に特定はされない。   Embodiments of the present invention will be described in detail below, but the description of the constituent elements described below is an example (representative example) of an embodiment of the present invention, and the present invention does not exceed the gist thereof. The content of is not specified.

[正孔阻止材料]
まず、本発明の正孔阻止材料について説明する。
本発明の正孔阻止材料は、分子量が400以上の正孔阻止材料であって、サイクリックボルタンメトリー測定によって得られる第一還元波の還元電流値(Ipc)と酸化電流値(Ipa)の比(Ipa/Ipc)が0.1以上であるものであり、通常、基板上に、陽極及び陰極に挟持された発光層を有する有機電界発光素子において、発光層の陰極側界面に接して設けられる層(通常、正孔阻止層)の材料として使用される。
[Hole blocking material]
First, the hole blocking material of the present invention will be described.
The hole blocking material of the present invention is a hole blocking material having a molecular weight of 400 or more, and is a ratio of the reduction current value (Ipc) and the oxidation current value (Ipa) of the first reduction wave obtained by cyclic voltammetry measurement ( Ipa / Ipc) is usually 0.1 or more. In an organic electroluminescence device having a light emitting layer sandwiched between an anode and a cathode on a substrate, a layer provided in contact with the cathode side interface of the light emitting layer Used as a material for (usually hole blocking layer).

ここで、サイクリックボルタンメトリー測定は、「電気化学測定マニュアル基礎編」(電気化学会編 丸善 P.13〜44)に記載の方法で実施されるもの(或いはそれと同等の測定法であってもよい)であって、具体的には、三電極系の測定系を用い、例えば、支持電解質として過塩素酸テトラブチルアンモニウム0.1Mのアセトニトリル溶液、過塩素酸テトラブチルアンモニウム0.1Mのジクロロメタン溶液、過塩素酸テトラブチルアンモニウム0.1Mのジメチルホルムアミド溶液、又は、過塩素酸テトラブチルアンモニウム0.1Mのアセトニトリル溶液と過塩素酸テトラブチルアンモニウム0.1Mのテトラヒドロフラン溶液の混合溶媒を用い、作用電極としてBAS製GCE、対電極としてPt線、参照電極としてAg線を用いて測定される。   Here, the cyclic voltammetry measurement is carried out by the method described in “Electrochemical Measurement Manual Basics” (Electrical Society of Japan, Maruzen P.13-44) (or a measurement method equivalent thereto) Specifically, using a three-electrode measurement system, for example, as a supporting electrolyte, tetrabutylammonium perchlorate 0.1 M acetonitrile solution, tetrabutylammonium perchlorate 0.1 M dichloromethane solution, Using a mixed solvent of tetrabutylammonium perchlorate 0.1M dimethylformamide solution or tetrabutylammonium perchlorate 0.1M acetonitrile solution and tetrabutylammonium perchlorate 0.1M tetrahydrofuran solution as working electrode Measured using BAS GCE, Pt wire as counter electrode and Ag wire as reference electrode Determined.

また、サイクリックボルタンメトリー測定に使用する機器は、特定されるものではなく、例えば、BAS社製「エレクトロケミカルアナライザー650A」が使用できるが、これと同等のものであればその他のものも使用することができる。   In addition, the equipment used for cyclic voltammetry measurement is not specified, and for example, “Electrochemical Analyzer 650A” manufactured by BAS can be used. Can do.

測定条件としては、掃引速度は10V/sec以下で測定することが好ましく、例えば100mV/sec程度で測定できる。また、電極表面への試料以外の酸化還元物質の付着などを可能な限り防ぐために必要以上に掃引領域を大きくしないことが望ましい。試料の濃度は通常0.5〜5mMが好ましく、例えば1mMの試料濃度で測定できる。   As measurement conditions, the sweep speed is preferably measured at 10 V / sec or less, and can be measured at, for example, about 100 mV / sec. Also, it is desirable not to make the sweep region unnecessarily large in order to prevent as much as possible the adhesion of redox substances other than the sample to the electrode surface. The concentration of the sample is usually preferably 0.5 to 5 mM, and can be measured, for example, at a sample concentration of 1 mM.

なお、支持電解質、溶媒、作用電極、対極、参照電極、等は、測定対象物に合わせて適宜変更可能であり、参照電極には、Ag/Ag電極やAg/AgCl電極等を使用してもよい。 The supporting electrolyte, solvent, working electrode, counter electrode, reference electrode, and the like can be appropriately changed according to the object to be measured. For the reference electrode, an Ag / Ag + electrode, an Ag / AgCl electrode, or the like is used. Also good.

本発明で規定する、還元電流値(Ipc)と酸化電流値(Ipa)とは、「電気化学」(渡辺正他共著、井上靖夫他編、丸善P.90〜93)に記載のものを意味するものである。   The reduction current value (Ipc) and the oxidation current value (Ipa) defined in the present invention mean those described in “Electrochemistry” (Masayoshi Watanabe et al., Ikuo Inoue et al., Maruzen P. 90-93). To do.

正孔阻止材料は、電子の輸送を担うため、電子に対する安定性が求められる。つまりは、還元安定性が求められることとなる。本発明の正孔阻止材料は、第一還元波の還元電流値(Ipc)と酸化電流値(Ipa)の比(Ipa/Ipc)は、0.1以上であり、好ましくは0.2以上、最も好ましくは0.3以上である。この下限を下回ると、電気的還元安定性が著しく劣るため、好ましくない。Ipa/Ipcは、1に近ければ近いほど電気的還元安定性がよいと推測される。   The hole blocking material is responsible for transport of electrons, and thus is required to have stability against electrons. In other words, reduction stability is required. In the hole blocking material of the present invention, the ratio (Ipa / Ipc) of the reduction current value (Ipc) and the oxidation current value (Ipa) of the first reduction wave is 0.1 or more, preferably 0.2 or more, Most preferably, it is 0.3 or more. Below this lower limit, the electrical reduction stability is remarkably inferior, which is not preferable. It is estimated that Ipa / Ipc is closer to 1 and has better electroreduction stability.

なお、本発明では、第一酸化電位及び第一還元電位は、内部標準にフェロセン/フェロセニウム(Fc/Fc)を用い、+0.41V vs.SCEとして電位を決定した。 In the present invention, the first oxidation potential and the first reduction potential are ferrocene / ferrocenium (Fc / Fc + ) as an internal standard, and +0.41 V vs. The potential was determined as SCE.

求められた酸化還元電位より規定される酸化還元電位の差(エネルギーギャップ)は、
3.5V以上のものが好ましい。
The difference (energy gap) in redox potential defined by the calculated redox potential is:
The thing of 3.5V or more is preferable.

本発明の正孔阻止材料の分子量は、通常4000以下、好ましくは3000以下、より好ましくは2000以下であり、また通常400以上、より好ましくは500以上である。分子量が上記上限を超えると、昇華性が著しく低下して有機電界発光素子を制作する際に蒸着法を用いる場合において支障を来したり、或いは有機溶媒などへの溶解性の低下や、合成工程で生じる不純物成分の増加に伴って、材料の高純度化(即ち劣化原因物質の除去)が困難になる場合がある。また、分子量が上記下限を下回ると、ガラス転移温度及び、融点、気化温度などが低下するため、耐熱性が著しく損なわれたり、アモルファス性の低下により結晶性が向上し、膜安定性が低下する場合があるため好ましくない。   The molecular weight of the hole blocking material of the present invention is usually 4000 or less, preferably 3000 or less, more preferably 2000 or less, and usually 400 or more, more preferably 500 or more. If the molecular weight exceeds the above upper limit, the sublimation property is remarkably lowered, which may cause trouble when using an evaporation method when producing an organic electroluminescent device, or a decrease in solubility in an organic solvent, or a synthesis process. With the increase in impurity components generated in the process, it may be difficult to increase the purity of the material (that is, to remove the deterioration-causing substance). On the other hand, if the molecular weight is below the lower limit, the glass transition temperature, melting point, vaporization temperature and the like are lowered, so that the heat resistance is remarkably impaired, the crystallinity is improved due to a decrease in amorphousness, and the film stability is lowered. Since there are cases, it is not preferable.

該正孔阻止材料のガラス転移温度(Tg)は70℃以上が好ましく、より好ましくは100℃以上である。ガラス転移温度がこの下限を下回ると耐熱性が著しく損なわれ、有機電界発光素子に適用した際の駆動寿命にも悪影響を及ぼす。   The glass transition temperature (Tg) of the hole blocking material is preferably 70 ° C. or higher, more preferably 100 ° C. or higher. When the glass transition temperature is below this lower limit, the heat resistance is remarkably impaired, and the driving life when applied to an organic electroluminescent device is also adversely affected.

有機電界発光素子の正孔阻止層に用いられる正孔阻止材料には、陰極側から移動してきた電荷(この場合、電子)を効率よく発光層中に移動できることが求められる。その為、正孔阻止層は、それぞれ隣接する発光層及び電子輸送層とのエネルギー障壁が少ないことが好ましい。更には、電荷に対する移動度(この場合は電子移動度)が高いと、陰極側から移動してきた電荷を効率よく発光層中に取り込むことができ、素子の駆動電圧を下げることが可能となるため、好ましい。   The hole blocking material used for the hole blocking layer of the organic electroluminescence device is required to be able to efficiently move the charges (in this case, electrons) moved from the cathode side into the light emitting layer. Therefore, it is preferable that the hole blocking layer has few energy barriers with the adjacent light emitting layer and electron transport layer. Furthermore, if the mobility with respect to the charge (in this case, the electron mobility) is high, the charge moving from the cathode side can be efficiently taken into the light emitting layer, and the drive voltage of the element can be lowered. ,preferable.

加えて、本発明の正孔阻止材料は、励起三重項準位が2.2eV以上であることが好ましい。励起三重項準位は、発光色、並びに発光効率と相関があり、特に青色等の短波長で燐光を示すドーパント材料を効率よく発光させるためには、より高い励起三重項準位が必要となる。正孔阻止材料の励起三重項準位は、好ましくは2.2eV以上であり、より好ましくは2.4eV以上、特に好ましくは2.6eV以上である。また、好ましくは3.4eV以下であり、より好ましくは3.2eV以下である。   In addition, the hole blocking material of the present invention preferably has an excited triplet level of 2.2 eV or higher. The excited triplet level correlates with the emission color and the luminous efficiency, and in particular, a higher excited triplet level is necessary for efficiently emitting a dopant material that exhibits phosphorescence at a short wavelength such as blue. . The excited triplet level of the hole blocking material is preferably 2.2 eV or more, more preferably 2.4 eV or more, and particularly preferably 2.6 eV or more. Moreover, it is preferably 3.4 eV or less, more preferably 3.2 eV or less.

なお、燐光は励起三重項状態から基底状態への遷移によって生じる発光であり、励起三重項準位(T1)は実験的に物質の燐光スペクトルを測定することにより求められる。励起三重項準位は5〜10K程度に冷却して測定した燐光スペクトルのλT1を用いて以下の関係式から求めることができる。
T1[eV]=1240/λT1[nm]
通常は、得られた燐光スペクトルの最もエネルギーの高い(波長の短い)ピーク波長(λT1[nm])から算出される。
Note that phosphorescence is light emission generated by transition from an excited triplet state to a ground state, and the excited triplet level (T1) can be obtained by experimentally measuring the phosphorescence spectrum of a substance. The excited triplet level can be obtained from the following relational expression using λT1 of the phosphorescence spectrum measured by cooling to about 5 to 10K.
T1 [eV] = 1240 / λT1 [nm]
Usually, it is calculated from the peak wavelength (λT1 [nm]) having the highest energy (short wavelength) in the obtained phosphorescence spectrum.

本発明の正孔阻止材料としては、分子量が400以上でIpa/Ipcが0.1以上のものであればよく、具体的には、オキサジアゾール誘導体、トリアゾール誘導体、ジスチリルビフェニル誘導体、シロール誘導体、ベンズオキサゾール金属錯体、ベンゾチアゾール金属錯体、トリスベンズイミダゾリルベンゼン、キノキサリン化合物、フェナントロリン誘導体、含ホウ素化合物、含ピリジン環化合物などから選ばれるものを、有機電界発光素子の正孔阻止材料として使用すればよい。中でも、ピリジン環を有する化合物は高い電気的還元安定性を示し、更には励起三重項順位(T1)が高くより好ましい。   The hole blocking material of the present invention may be any material having a molecular weight of 400 or more and Ipa / Ipc of 0.1 or more. Specifically, oxadiazole derivatives, triazole derivatives, distyrylbiphenyl derivatives, silole derivatives A benzoxazole metal complex, a benzothiazole metal complex, trisbenzimidazolylbenzene, a quinoxaline compound, a phenanthroline derivative, a boron-containing compound, a pyridine-containing ring compound, or the like is used as a hole blocking material for an organic electroluminescent device. Good. Among these, a compound having a pyridine ring exhibits high electroreduction stability, and further has a high excited triplet rank (T1) and is more preferable.

ピリジン環を有する化合物のうち、下記一般式(I)で示される化合物が更に好ましい。

Figure 0005109236
(一般式(I)中、R〜Rは、各々独立に、任意の置換基を表す。ピリジン環の3位、5位は、置換されていてもよい。mは、1〜8の整数である。
は、mが1の時、ピリジン環の置換基或いは水素原子であり、mが2以上の時、m価の連結基である。Qは、ピリジン環の2〜6位のいずれか1つと直接結合する。但し、Qが、ピリジン環の2,4,6位のいずれかに結合する場合は、その結合位置にあるR〜RのいずれかがQとなる。
mが2以上の時、化合物中に複数個含まれるR〜Rは、それぞれ同一であつても異なっていてもよい。また、mが2以上の時、ピリジン環がQと結合する位置は、それぞれ同一の位置であつても異なっていてもよい。) Of the compounds having a pyridine ring, compounds represented by the following general formula (I) are more preferred.
Figure 0005109236
(In General Formula (I), R 1 to R 3 each independently represents an arbitrary substituent. The 3-position and 5-position of the pyridine ring may be substituted. It is an integer.
Q 1 is a substituent of the pyridine ring or a hydrogen atom when m is 1, and an m-valent linking group when m is 2 or more. Q 1 is directly bonded to any one of positions 2 to 6 of the pyridine ring. However, when Q 1 is bonded to any of the 2, 4 and 6 positions of the pyridine ring, any one of R 1 to R 3 at the bonding position is Q 1 .
When m is 2 or more, a plurality of R 1 to R 3 contained in the compound may be the same or different. When m is 2 or more, the position at which the pyridine ring is bonded to Q 1 may be the same position or different. )

前記一般式(I)で表される化合物の取りうるmの値は、1〜8の整数であるが、分子内にピリジン環を2つ以上有している場合に優れた耐久性を発揮可能であり、これによって優れた電子輸送性と広い酸化還元電位差を発現する。他方、ピリジン環が多すぎると化合物としての塩基性が強くなりすぎ、正孔阻止層に含まれる場合、長時間の電界印加により配位子交換を生じる危険性がある。そうした観点から、Q1と結合したピリジン環の数を表すmは2以上が好ましく、6以下が好ましく、4以下が更に好ましく、3以下が最も好ましい。 The value of m that can be taken by the compound represented by the general formula (I) is an integer of 1 to 8, but it can exhibit excellent durability when it has two or more pyridine rings in the molecule. As a result, it exhibits excellent electron transport properties and a wide redox potential difference. On the other hand, when there are too many pyridine rings, the basicity as a compound becomes too strong, and when it is contained in the hole blocking layer, there is a risk of causing ligand exchange by applying a long electric field. From such a viewpoint, m representing the number of pyridine rings bonded to Q 1 is preferably 2 or more, preferably 6 or less, more preferably 4 or less, and most preferably 3 or less.

上記一般式(I)で表される化合物の分子量は、前述の正孔阻止層の分子量と同様な理由から、通常4000以下、好ましくは3000以下、より好ましくは2000以下であり、また通常400以上、より好ましくは500以上である。
また、前記一般式(I)で表される化合物の好ましい総炭素数は、通常300以下、好ましくは200以下、より好ましくは100以下であり、また通常15以上、好ましくは20以上、より好ましくは30以上である。
The molecular weight of the compound represented by the general formula (I) is usually 4000 or less, preferably 3000 or less, more preferably 2000 or less, and usually 400 or more for the same reason as the molecular weight of the hole blocking layer described above. More preferably, it is 500 or more.
The preferred total carbon number of the compound represented by the general formula (I) is usually 300 or less, preferably 200 or less, more preferably 100 or less, and usually 15 or more, preferably 20 or more, more preferably 30 or more.

一般式(I)において、ピリジン環の数を表すmが2以上であるとき、連結基Q1は、ピリジン環同士を繋ぐ直接結合、又は好ましくはジアリールアミン骨格を持たない任意の連結基を適用可能である。 In the general formula (I), when m representing the number of pyridine rings is 2 or more, the linking group Q 1 is a direct bond connecting the pyridine rings or preferably any linking group having no diarylamine skeleton. Is possible.

一般式(I)において、連結基Q1としては、好ましくは、
直接結合、
置換基を有していてもよいアルケン基(アルケン由来の基)、
置換基を有していてもよいアルキン基(アルキン由来の基)、
置換基を有していてもよい芳香族炭化水素基(例えばベンゼン環、ナフタレン環、アントラセン環、フェナントレン環、ペリレン環、テトラセン環、ピレン環、ベンズピレン環、クリセン環、トリフェニレン環、フルオランテンなど由来のm価の基が含まれる)
又は、置換基を有していてもよい芳香族複素環基(例えばフラン環、チオフェン環、ピロール環、ピラゾール環、イミダゾール環、オキサジアゾール環、ピリジン環、ピラジン環、ピリダジン環、ピリミジン環、トリアジン環、キノリン環、イソキノリン環、シノリン環、キノキサリン環、ペリミジン環、キナゾリン環、キナゾリノン環、アズレン環など由来のm価の基が含まれる)、
或いは、これらが2つ以上連結してなる基、
などが挙げられる。
In the general formula (I), the linking group Q 1 is preferably
Direct bond,
Alkene group (group derived from alkene) which may have a substituent,
Alkyne group (group derived from alkyne) which may have a substituent,
An aromatic hydrocarbon group which may have a substituent (for example, derived from benzene ring, naphthalene ring, anthracene ring, phenanthrene ring, perylene ring, tetracene ring, pyrene ring, benzpyrene ring, chrysene ring, triphenylene ring, fluoranthene, etc. m-valent groups are included)
Or an aromatic heterocyclic group which may have a substituent (for example, furan ring, thiophene ring, pyrrole ring, pyrazole ring, imidazole ring, oxadiazole ring, pyridine ring, pyrazine ring, pyridazine ring, pyrimidine ring, M-valent groups derived from triazine ring, quinoline ring, isoquinoline ring, sinoline ring, quinoxaline ring, perimidine ring, quinazoline ring, quinazolinone ring, azulene ring, etc.),
Or a group formed by connecting two or more of these,
Etc.

化合物の電気的酸化還元耐久性の観点からは、一般式(I)で表される化合物は、1分子中に含まれる2以上のピリジン環が、連結基Q1を介して互いに共役関係にある化合物であることが好ましい。このような化合物とするためには、ピリジン環間が、直接結合、

Figure 0005109236
又は、これらを組み合わせてなる部分構造で連結されている場合が好ましい。なお、上記式において、G1〜G3は各々独立に、水素原子又は任意の置換基を表すか、或いは、Q1の例として前述した芳香族炭化水素や芳香族複素環の一部を構成する。同一のQ1基中に含まれるG1〜G3は、各々、同一であっても異なっていてもよい。 From the viewpoint of the electrical redox durability of the compound, in the compound represented by the general formula (I), two or more pyridine rings contained in one molecule are conjugated with each other through a linking group Q 1. A compound is preferred. In order to make such a compound, a direct bond between pyridine rings,
Figure 0005109236
Or the case where it connects with the partial structure which combines these is preferable. In the above formula, G 1 to G 3 each independently represent a hydrogen atom or an arbitrary substituent, or constitute a part of the aromatic hydrocarbon or aromatic heterocycle described above as an example of Q 1. To do. G 1 to G 3 contained in the same Q 1 group may be the same or different from each other.

これらの中でも、ピリジン環間が

Figure 0005109236
で表される構造で結合されている場合がより好ましく、更にG1及びG2が、Q1基における芳香族炭化水素基の一部を構成する場合が、特に好ましい。 Among these, the space between the pyridine rings
Figure 0005109236
Is more preferable, and it is particularly preferable that G 1 and G 2 constitute a part of the aromatic hydrocarbon group in the Q 1 group.

連結基Q1として、好ましい具体例を以下のZ−1〜Z−173に示すが、何らこれらに限定されるものではない。 Preferable specific examples of the linking group Q 1 are shown in the following Z-1 to Z-173, but are not limited thereto.

Figure 0005109236
Figure 0005109236

Figure 0005109236
Figure 0005109236

Figure 0005109236
Figure 0005109236

Figure 0005109236
Figure 0005109236

Figure 0005109236
Figure 0005109236

Figure 0005109236
Figure 0005109236

Figure 0005109236
Figure 0005109236

Figure 0005109236
Figure 0005109236

Figure 0005109236
Figure 0005109236

Figure 0005109236
Figure 0005109236

中でも、酸化還元電位差を十分に広くする観点と繰返し電気酸化還元耐久性の観点から、連結基Q1としては、
Z−1(直接結合),Z−2〜69,79,82,84,89,96,103,105,108,109,111〜114,117,118,121,124,167,170
が好ましく、
Z−2,8,11〜13,15,17,19,20,22,23〜25,27〜30,34,37,44,47〜61,63〜69,89,105,109,114,124,167,170
がより好ましく、
Z−2,8,12,13,15,17,19,20,22,23,25,27〜30,34,37,44,47〜50,63,64,66,67,89,109,114,124,167
が更に好ましく、
Z−2,8,12,13,15,17,19,20,23,28〜30,34,66
が最も好ましい。
Among them, from the viewpoint of sufficiently widening the redox potential difference and the viewpoint of repeated electric redox durability, as the linking group Q 1 ,
Z-1 (direct coupling), Z-2 to 69, 79, 82, 84, 89, 96, 103, 105, 108, 109, 111 to 114, 117, 118, 121, 124, 167, 170
Is preferred,
Z-2, 8, 11-13, 15, 17, 19, 20, 22, 23-25, 27-30, 34, 37, 44, 47-61, 63-69, 89, 105, 109, 114, 124, 167, 170
Is more preferred,
Z-2, 8, 12, 13, 15, 17, 19, 20, 22, 23, 25, 27-30, 34, 37, 44, 47-50, 63, 64, 66, 67, 89, 109, 114, 124, 167
Is more preferred,
Z-2, 8, 12, 13, 15, 17, 19, 20, 23, 28-30, 34, 66
Is most preferred.

上記具体例の連結基Q1は、(ジアリールアミン骨格、アリールオキシド骨格及びアリールスルフィド骨格を持たない)任意の置換基を有してもよく、このような置換基の例としては、次のようなものが挙げられる。
ハロゲン原子(フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子)
置換基を有していてもよいアルキル基(好ましくは炭素数1〜8の直鎖又は分岐のアルキル基であり、例えばメチル、エチル、n−プロピル、2−プロピル、n−ブチル、イソブチル、tert−ブチル基などが挙げられる。)
置換基を有していてもよいアルケニル基(好ましくは炭素数1〜8のアルケニル基であり、例えばビニル、アリル、1−ブテニル基などが挙げられる。)
置換基を有していてもよいアルキニル基(好ましくは炭素数1〜8のアルキニル基であり、例えばエチニル、プロパルギル基などが挙げられる。)
置換基を有していてもよいアラルキル基(好ましくは炭素数1〜8のアラルキル基であり、例えばベンジル基などが挙げられる。)
置換基を有していてもよいアシル基(好ましくは置換基を有していてもよい炭素数1〜8のアシル基であり、例えばホルミル、アセチル、ベンゾイル基などが挙げられる。)
置換基を有していてもよいアルコキシカルボニル基(好ましくは置換基を有してもよい炭素数2〜13のアルコキシカルボニル基であり、例えばメトキシカルボニル、エトキシカルボニル基などが挙げられる。)
置換基を有していてもよいアリールオキシカルボニル基(好ましくは置換基を有してもよい炭素数2〜13のアリールオキシカルボニル基であり、例えばアセトキシ基などが含まれる)
カルボキシル基

Figure 0005109236
(上記式中、Raは任意の置換基であり、好ましくは置換基を有していてもよい炭素数1〜8のアルキル基、アラルキル基、アリール基の何れかである。Rbは水素原子又は任意の置換基であり、好ましくは置換基を有していてもよい炭素数1〜8のアルキル基、アラルキル基、アリール基の何れかである。)
Figure 0005109236
(上記式中、Rc、Rdは水素原子又は任意の置換基であり、好ましくは置換基を有していてもよい炭素数1〜8のアルキル基、アラルキル基、アリール基の何れかである。)
シアノ基
置換基を有していてもよいシリル基(例えばトリメチルシリル基、トリフェニルシリル基などが挙げられる。)
置換基を有していてもよいボリル基(例えばジメシチルボリル基などが挙げられる。)
置換基を有していてもよいホスフィノ基(例えばジフェニルホスフィノ基などが挙げられる。)
置換基を有していてもよい芳香族炭化水素基(例えばベンゼン環、ナフタレン環、アントラセン環、フェナントレン環、ペリレン環、テトラセン環、ピレン環、ベンズピレン環、クリセン環、トリフェニレン環、フルオランテン環などが挙げられる。)
置換基を有していてもよい芳香族複素環基(例えばフラン環、チオフェン環、ピロール環、ピラゾール環、イミダゾール環、オキサジアゾール環、ピリジン環、ピラジン環、ピリダジン環、ピリミジン環、トリアジン環、キノリン環、イソキノリン環、シノリン環、キノキサリン環、ペリミジン環、キナゾリン環、キナゾリノン環、アズレン環などが挙げられる。) The linking group Q 1 in the above specific example may have an arbitrary substituent (having no diarylamine skeleton, aryloxide skeleton and arylsulfide skeleton). Examples of such a substituent are as follows: The thing is mentioned.
Halogen atom (fluorine atom, chlorine atom, bromine atom, iodine atom)
An alkyl group which may have a substituent (preferably a linear or branched alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, such as methyl, ethyl, n-propyl, 2-propyl, n-butyl, isobutyl, tert -A butyl group etc. are mentioned.)
An alkenyl group which may have a substituent (preferably an alkenyl group having 1 to 8 carbon atoms, such as vinyl, allyl and 1-butenyl groups).
An alkynyl group which may have a substituent (preferably an alkynyl group having 1 to 8 carbon atoms, such as ethynyl and propargyl groups).
Aralkyl group which may have a substituent (preferably an aralkyl group having 1 to 8 carbon atoms, such as benzyl group).
An acyl group which may have a substituent (preferably an acyl group having 1 to 8 carbon atoms which may have a substituent, such as formyl, acetyl and benzoyl groups).
An alkoxycarbonyl group which may have a substituent (preferably an alkoxycarbonyl group having 2 to 13 carbon atoms which may have a substituent, such as methoxycarbonyl and ethoxycarbonyl groups).
Aryloxycarbonyl group which may have a substituent (preferably an aryloxycarbonyl group having 2 to 13 carbon atoms which may have a substituent, including, for example, an acetoxy group)
Carboxyl group
Figure 0005109236
(In the above formula, R a is an arbitrary substituent, preferably an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, an aralkyl group or an aryl group which may have a substituent. R b is hydrogen. An atom or an arbitrary substituent, preferably an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms which may have a substituent, an aralkyl group, or an aryl group.
Figure 0005109236
(In the above formula, R c and R d are a hydrogen atom or an arbitrary substituent, preferably an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, an aralkyl group or an aryl group which may have a substituent. is there.)
Cyano group A silyl group which may have a substituent (for example, a trimethylsilyl group, a triphenylsilyl group, etc.).
An optionally substituted boryl group (eg, a dimesitylboryl group).
A phosphino group which may have a substituent (for example, a diphenylphosphino group).
An aromatic hydrocarbon group which may have a substituent (for example, benzene ring, naphthalene ring, anthracene ring, phenanthrene ring, perylene ring, tetracene ring, pyrene ring, benzpyrene ring, chrysene ring, triphenylene ring, fluoranthene ring, etc. Can be mentioned.)
An aromatic heterocyclic group which may have a substituent (for example, furan ring, thiophene ring, pyrrole ring, pyrazole ring, imidazole ring, oxadiazole ring, pyridine ring, pyrazine ring, pyridazine ring, pyrimidine ring, triazine ring) Quinoline ring, isoquinoline ring, sinoline ring, quinoxaline ring, perimidine ring, quinazoline ring, quinazolinone ring, azulene ring and the like.

分子振動を制限する観点から、連結基Q1は置換基を有さないか、或いは、置換基としてメチル基、又はフェニル基を有するものであり、最も好ましくは置換基を有さないものである。 From the viewpoint of limiting molecular vibration, the linking group Q 1 does not have a substituent, or has a methyl group or a phenyl group as a substituent, and most preferably has no substituent. .

前記一般式(I)におけるR1ないしR3は、各々独立に任意の置換基を表す。また、mが2以上の時、化合物中に複数個含まれるR1ないしR3は、それぞれ同一であっても異なっていてもよい。R1ないしR3に用いうる任意の基として、具体的には、次のようなものが挙げられる。
置換基を有していてもよいアルキル基(好ましくは炭素数1〜8の直鎖又は分岐のアルキル基であり、例えばメチル、エチル、n−プロピル、2−プロピル、n−ブチル、イソブチル、tert−ブチル基などが挙げられる。)
置換基を有していてもよいアルケニル基(好ましくは炭素数2〜9のアルケニル基であり、例えばビニル、アリル、1−ブテニル基などが挙げられる。)
置換基を有していてもよいアルキニル基(好ましくは炭素数2〜9のアルキニル基であり、例えばエチニル、プロパルギル基などが挙げられる。)
置換基を有していてもよいアラルキル基(好ましくは炭素数7〜15のアラルキル基であり、例えばベンジル基などが挙げられる。)
以下のような置換基を有していてもよいアミノ基
(置換基を有していてもよい炭素数1〜8のアルキル基を1つ以上有するアルキルアミノ基であり、例えばメチルアミノ、ジメチルアミノ、ジエチルアミノ、ジベンジルアミノ基などが挙げられる。
置換基を有していてもよい炭素数6〜12の芳香族炭化水素基を有するアリールアミノ基であり、例えばフェニルアミノ、ジフェニルアミノ、ジトリルアミノ基などが挙げられる。
置換基を有していてもよい、5又は6員環の芳香族複素環を有するヘテロアリールアミノ基であり、例えばピリジルアミノ、チエニルアミノ、ジチエニルアミノ基などが挙げられる。
置換基を有していてもよい、炭素数2〜10のアシル基を有するアシルアミノ基であり、例えばアセチルアミノ、ベンゾイルアミノ基などが挙げられる。)
置換基を有していてもよいアルコキシ基(好ましくは置換基を有していてもよい炭素数1〜8のアルコキシ基であり、例えばメトキシ、エトキシ、ブトキシ基などが挙げられる。)
置換基を有していてもよいアリールオキシ基(好ましくは炭素数6〜12の芳香族炭化水素基を有するものであり、例えばフェニルオキシ、1−ナフチルオキシ、2−ナフチルオキシ基などが挙げられる。)
置換基を有していてもよいヘテロアリールオキシ基(好ましくは5又は6員環の芳香族複素環基を有するものであり、例えばピリジルオキシ、チエニルオキシ基などが挙げられる。)
置換基を有していてもよいアシル基(好ましくは置換基を有していてもよい炭素数2〜10のアシル基であり、例えばホルミル、アセチル、ベンゾイル基などが挙げられる。)
置換基を有していてもよいアルコキシカルボニル基(好ましくは置換基を有していてもよい炭素数2〜10のアルコキシカルボニル基であり、例えばメトキシカルボニル、エトキシカルボニル基などが挙げられる。)
置換基を有していてもよいアリールオキシカルボニル基(好ましくは置換基を有していてもよい炭素数7〜13のアリールオキシカルボニル基であり、例えばフェノキシカルボニル基などが挙げられる。)
置換基を有していてもよいアルキルカルボニルオキシ基(好ましくは置換基を有していてもよい炭素数2〜10のアルキルカルボニルオキシ基であり、例えばアセトキシ基などが挙げられる。)
ハロゲン原子(特に、フッ素原子又は塩素原子)
カルボキシル基
シアノ基
水酸基
メルカプト基
置換基を有していてもよいアルキルチオ基(好ましくは炭素数1〜8のアルキルチオ基であり、例えばメチルチオ基、エチルチオ基などが挙げられる。)
置換基を有していてもよいアリールチオ基(好ましくは炭素数6〜12までのアリールチオ基であり、例えばフェニルチオ基、1−ナフチルチオ基などが挙げられる。)
置換基を有していてもよいスルホニル基(例えばメシル基、トシル基などが挙げられる。)
置換基を有していてもよいシリル基(例えばトリメチルシリル基、トリフェニルシリル基などが挙げられる。)
置換基を有していてもよいボリル基(例えばジメシチルボリル基などが挙げられる。)
置換基を有していてもよいホスフィノ基(例えばジフェニルホスフィノ基などが挙げられる。)
置換基を有していてもよい芳香族炭化水素基(例えばベンゼン環、ナフタレン環、アントラセン環、フェナントレン環、ペリレン環、テトラセン環、ピレン環、ベンズピレン環、クリセン環、トリフェニレン環、フルオランテン環などの、5又は6員環の単環又は2〜5縮合環由来の1価の基が挙げられる。)
置換基を有していてもよい芳香族複素環基(例えばフラン環、ベンゾフラン環、チオフェン環、ベンゾチオフェン環、ピロール環、ピラゾール環、イミダゾール環、オキサジアゾール環、インドール環、カルバゾール環、ピロロイミダゾール環、ピロロピラゾール環、ピロロピロール環、チエノピロール環、チエノチオフェン環、フロピロール環、フロフラン環、チエノフラン環、ベンゾイソオキサゾール環、ベンゾイソチアゾール環、ベンゾイミダゾール環、ピリジン環、ピラジン環、ピリダジン環、ピリミジン環、トリアジン環、キノリン環、イソキノリン環、シノリン環、キノキサリン環、ベンゾイミダゾール環、ペリミジン環、キナゾリン環などの、5又は6員環の単環又は2〜4縮合環由来の1価の基が挙げられる。)
R 1 to R 3 in the general formula (I) each independently represents an arbitrary substituent. When m is 2 or more, R 1 to R 3 contained in the compound may be the same or different. Specific examples of the optional group that can be used for R 1 to R 3 include the following.
An alkyl group which may have a substituent (preferably a linear or branched alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, such as methyl, ethyl, n-propyl, 2-propyl, n-butyl, isobutyl, tert -A butyl group etc. are mentioned.)
An alkenyl group which may have a substituent (preferably an alkenyl group having 2 to 9 carbon atoms, such as vinyl, allyl and 1-butenyl groups).
An alkynyl group which may have a substituent (preferably an alkynyl group having 2 to 9 carbon atoms, such as ethynyl and propargyl groups).
An aralkyl group which may have a substituent (preferably an aralkyl group having 7 to 15 carbon atoms, such as a benzyl group).
An amino group which may have a substituent as described below (an alkylamino group having one or more alkyl groups having 1 to 8 carbon atoms which may have a substituent, such as methylamino, dimethylamino , Diethylamino, dibenzylamino group and the like.
An arylamino group having an aromatic hydrocarbon group having 6 to 12 carbon atoms which may have a substituent, such as phenylamino, diphenylamino, and ditolylamino groups.
A heteroarylamino group having a 5- or 6-membered aromatic heterocyclic ring which may have a substituent, such as pyridylamino, thienylamino, dithienylamino group and the like.
An acylamino group having an acyl group having 2 to 10 carbon atoms, which may have a substituent, such as acetylamino and benzoylamino groups. )
An alkoxy group that may have a substituent (preferably an alkoxy group having 1 to 8 carbon atoms that may have a substituent, such as methoxy, ethoxy, and butoxy groups).
An aryloxy group which may have a substituent (preferably an aromatic hydrocarbon group having 6 to 12 carbon atoms, such as phenyloxy, 1-naphthyloxy, 2-naphthyloxy group and the like. .)
A heteroaryloxy group which may have a substituent (preferably has a 5- or 6-membered aromatic heterocyclic group, and examples thereof include a pyridyloxy and thienyloxy group).
An acyl group which may have a substituent (preferably an acyl group having 2 to 10 carbon atoms which may have a substituent, such as formyl, acetyl and benzoyl groups).
An alkoxycarbonyl group which may have a substituent (preferably an alkoxycarbonyl group having 2 to 10 carbon atoms which may have a substituent, such as methoxycarbonyl and ethoxycarbonyl groups).
An aryloxycarbonyl group which may have a substituent (preferably an aryloxycarbonyl group having 7 to 13 carbon atoms which may have a substituent, such as a phenoxycarbonyl group).
An alkylcarbonyloxy group which may have a substituent (preferably an alkylcarbonyloxy group having 2 to 10 carbon atoms which may have a substituent, such as an acetoxy group).
Halogen atom (especially fluorine atom or chlorine atom)
Carboxyl group Cyano group Hydroxyl group Mercapto group Alkylthio group which may have a substituent (preferably an alkylthio group having 1 to 8 carbon atoms, such as methylthio group and ethylthio group).
An arylthio group which may have a substituent (preferably an arylthio group having 6 to 12 carbon atoms, such as a phenylthio group and a 1-naphthylthio group).
A sulfonyl group which may have a substituent (for example, a mesyl group, a tosyl group, etc.).
A silyl group which may have a substituent (for example, a trimethylsilyl group, a triphenylsilyl group, etc.).
An optionally substituted boryl group (eg, a dimesitylboryl group).
A phosphino group which may have a substituent (for example, a diphenylphosphino group).
An aromatic hydrocarbon group which may have a substituent (for example, benzene ring, naphthalene ring, anthracene ring, phenanthrene ring, perylene ring, tetracene ring, pyrene ring, benzpyrene ring, chrysene ring, triphenylene ring, fluoranthene ring, etc. And monovalent groups derived from 5- or 6-membered monocyclic rings or 2 to 5 condensed rings.)
An aromatic heterocyclic group which may have a substituent (for example, furan ring, benzofuran ring, thiophene ring, benzothiophene ring, pyrrole ring, pyrazole ring, imidazole ring, oxadiazole ring, indole ring, carbazole ring, pyrrolo) Imidazole ring, pyrrolopyrazole ring, pyrrolopyrrole ring, thienopyrrole ring, thienothiophene ring, furopyrrole ring, furofuran ring, thienofuran ring, benzisoxazole ring, benzoisothiazole ring, benzimidazole ring, pyridine ring, pyrazine ring, pyridazine ring, Monovalent groups derived from 5- or 6-membered monocyclic or 2-4 condensed rings such as pyrimidine ring, triazine ring, quinoline ring, isoquinoline ring, sinoline ring, quinoxaline ring, benzimidazole ring, perimidine ring, quinazoline ring Can be mentioned.)

これらR1〜R3の基が有しうる置換基としては、一般式(I)で表される化合物の性能を損なわない限り特に制限はないが、好ましくはアルキル基、芳香族炭化水素基、又はアルキル置換芳香族炭化水素基が挙げられ、各々の具体例としては、メチル基、エチル基、イソプロピル基、tert−ブチル基などの、炭素数1〜6程度のアルキル基;フェニル基、ナフチル基、フルオレニル基などの、炭素数6〜18程度の芳香族炭化水素基;トリル基、メシチル基、2,6−ジメチルフェニル基などの、総炭素数7〜30程度のアルキル置換芳香族炭化水素基、などが挙げられる。 The substituent that these R 1 to R 3 groups may have is not particularly limited as long as the performance of the compound represented by the general formula (I) is not impaired, but preferably an alkyl group, an aromatic hydrocarbon group, Or an alkyl-substituted aromatic hydrocarbon group, and specific examples thereof include alkyl groups having about 1 to 6 carbon atoms such as a methyl group, an ethyl group, an isopropyl group, and a tert-butyl group; a phenyl group and a naphthyl group. An aromatic hydrocarbon group having about 6 to 18 carbon atoms such as fluorenyl group; an alkyl-substituted aromatic hydrocarbon group having about 7 to 30 carbon atoms such as tolyl group, mesityl group and 2,6-dimethylphenyl group , Etc.

以下に、R1〜R3が芳香族炭化水素基或いは芳香族複素環基である場合の具体例R−1〜R−55を示すが、何らこれらに限定されるものではない。 Specific examples R-1 to R-55 in the case where R 1 to R 3 are aromatic hydrocarbon groups or aromatic heterocyclic groups are shown below, but are not limited thereto.

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(上記各式中、L1〜L3は各々独立に、置換基を有していてもよい、アルキル基、芳香族炭化水素基、又はアルキル置換芳香族炭化水素基を表す。L4及びL5は各々独立に、置換基を有していてもよい、水素原子、アルキル基、芳香族炭化水素基、又はアルキル置換芳香族炭化水素基を表す。
1〜L5のアルキル基、芳香族炭化水素基、又はアルキル置換芳香族炭化水素基として、具体的には、メチル基、エチル基、イソプロピル基、tert−ブチル基などの、炭素数1〜6程度のアルキル基;フェニル基、ナフチル基、フルオレニル基などの、炭素数6〜18程度の芳香族炭化水素基;トリル基、メシチル基、2,6−ジメチルフェニル基などの、総炭素数7〜30程度のアルキル置換芳香族炭化水素基、などが挙げられる。
なお、上記構造はいずれも、L1〜L5の他にも置換基を有していてもよいが、自身が結合しているピリジン環上の電子状態に強く影響を及ぼしてしまうと、酸化還元電位差が狭くなってしまうおそれがあるため、置換基としては、電子供与性・電子吸引性が共に小さく、かつ、分子内共役長の広がりをもたらしにくい基を選択することが好ましい。このような置換基の具体例としても、やはりアルキル基、芳香族炭化水素基、アルキル置換芳香族炭化水素基等が挙げられる。
なお、1分子中に上記構造を2個以上有する化合物の場合、1分子中に含まれる2個以上のL1〜L5は、同一であっても異なっていてもよい。)
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(In the above formulas, L 1 to L 3 each independently represents an alkyl group, an aromatic hydrocarbon group, or an alkyl-substituted aromatic hydrocarbon group which may have a substituent. L 4 and L Each 5 independently represents a hydrogen atom, an alkyl group, an aromatic hydrocarbon group, or an alkyl-substituted aromatic hydrocarbon group, which may have a substituent.
Specific examples of the alkyl group, aromatic hydrocarbon group, or alkyl-substituted aromatic hydrocarbon group represented by L 1 to L 5 include a methyl group, an ethyl group, an isopropyl group, and a tert-butyl group. An alkyl group of about 6; an aromatic hydrocarbon group of about 6 to 18 carbon atoms such as a phenyl group, a naphthyl group and a fluorenyl group; a total carbon number of 7 such as a tolyl group, a mesityl group and a 2,6-dimethylphenyl group And about 30 alkyl-substituted aromatic hydrocarbon groups.
Any of the above structures may have a substituent in addition to L 1 to L 5 , but if it strongly affects the electronic state on the pyridine ring to which it is bonded, oxidation will occur. Since the reduction potential difference may be narrowed, it is preferable to select a group that has a small electron donating property and electron withdrawing property and does not easily cause an increase in intramolecular conjugated length. Specific examples of such substituents also include alkyl groups, aromatic hydrocarbon groups, alkyl-substituted aromatic hydrocarbon groups, and the like.
In the case of a compound having two or more of the above structures in one molecule, two or more L 1 to L 5 contained in one molecule may be the same or different. )

1〜R3の前記例示構造のうち、広い酸化還元電位差を与える観点から、R−1〜6、10〜13、33、34、38、45、48が好ましく、R−1〜6、48がより好ましく、R−1〜3、48が最も好ましい。 Among the exemplary structures of R 1 to R 3 , R- 1 to 6, 10 to 13, 33, 34, 38, 45, and 48 are preferable, and R-1 to 6, 48, from the viewpoint of giving a wide redox potential difference. Are more preferable, and R-1 to 3 and 48 are most preferable.

1〜R3は、例えば、本発明の正孔阻止材料を有機電界発光素子の正孔阻止層に適用する場合、昇華性及び耐熱性向上の観点から、置換基を有していてもよいアルキル基、又は置換基を有していてもよい芳香族炭化水素基(中でも炭素数6〜12程度の芳香族炭化水素基)が好ましく、大きな酸化電位を持たせる観点からは、水素原子又はフェニル基が特に好ましい。 For example, when the hole blocking material of the present invention is applied to the hole blocking layer of the organic electroluminescent element, R 1 to R 3 may have a substituent from the viewpoint of sublimation and heat resistance improvement. An alkyl group or an aromatic hydrocarbon group which may have a substituent (especially an aromatic hydrocarbon group having about 6 to 12 carbon atoms) is preferable. From the viewpoint of giving a large oxidation potential, a hydrogen atom or phenyl The group is particularly preferred.

前記一般式(I)において、ピリジン環の3位、5位は、R1〜R3に用い得る任意の基として具体的に挙げた、いずれの基で置換されていてもよいが、電気的酸化還元耐久性を向上させる観点及び耐熱性を向上させる観点から、この置換基としては芳香族炭化水素基或いは芳香族複素環基であることが好ましい。 In the general formula (I), the 3-position and 5-position of the pyridine ring may be substituted with any group specifically exemplified as an arbitrary group that can be used for R 1 to R 3. From the viewpoint of improving redox durability and improving heat resistance, the substituent is preferably an aromatic hydrocarbon group or an aromatic heterocyclic group.

以下に、前記一般式(I)で表される化合物として好ましい具体的な例を示すが、本発明の正孔阻止材料はこれらに何ら限定されるものではない。   Specific examples preferable as the compound represented by the general formula (I) are shown below, but the hole blocking material of the present invention is not limited thereto.

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[有機電界発光素子]
次に、このような本発明の正孔阻止材料を用いる本発明の有機電界発光素子について説明する。
[Organic electroluminescence device]
Next, the organic electroluminescent element of the present invention using such a hole blocking material of the present invention will be described.

本発明の有機電界発光素子は、基板上に、陽極及び陰極に挟持された発光層を有し、この発光層の陰極側界面に接して正孔阻止層が設けられる有機電界発光素子において、正孔阻止層が、本発明の正孔阻止材料を含有することを特徴とするものである。   The organic electroluminescent device of the present invention is an organic electroluminescent device having a light-emitting layer sandwiched between an anode and a cathode on a substrate and provided with a hole blocking layer in contact with the cathode-side interface of the light-emitting layer. The hole blocking layer contains the hole blocking material of the present invention.

本発明の正孔阻止材料を、このように有機電界発光素子の正孔阻止層の正孔阻止材料として用いる場合、1種を単独で用いても良く、2種以上を組み合わせて用いても良い。   When the hole blocking material of the present invention is used as the hole blocking material of the hole blocking layer of the organic electroluminescence device as described above, one kind may be used alone, or two or more kinds may be used in combination. .

本発明の正孔阻止材料は、特に、正孔阻止層の正孔阻止材料の、サイクリックボルタンメトリー測定において得られる第一酸化電位が、発光層中の発光物質の第一酸化電位よりも大きいことが好ましく、発光層中に発光物質が複数種含まれる場合には、中でも一番大きい第一酸化電位を有する発光物質よりも、正孔阻止材料の第一酸化電位が大きくなることが最も好ましい。また、正孔阻止層中に複数の正孔阻止材料が含まれる場合、正孔阻止材料のうち、一番小さい第一酸化電位のものが、発光層中の発光物質の第一酸化電位よりも大きいことが好ましい。ここで、本発明における発光物質とは、発光層において発光を示す化合物のことを意味する。ドーパント材料とホスト材料を含んでいる発光層の場合には、通常、ドーパント材料を発光物質という。   In the hole blocking material of the present invention, in particular, the first oxidation potential obtained in the cyclic voltammetry measurement of the hole blocking material of the hole blocking layer is higher than the first oxidation potential of the light emitting substance in the light emitting layer. In the case where a plurality of light emitting substances are included in the light emitting layer, it is most preferable that the first oxidation potential of the hole blocking material is higher than that of the light emitting substance having the highest first oxidation potential. Further, when a plurality of hole blocking materials are included in the hole blocking layer, the one with the lowest first oxidation potential among the hole blocking materials is more than the first oxidation potential of the light emitting substance in the light emitting layer. Larger is preferred. Here, the light emitting substance in the present invention means a compound that emits light in the light emitting layer. In the case of a light emitting layer containing a dopant material and a host material, the dopant material is usually referred to as a light emitting substance.

正孔阻止層中の正孔阻止材料の、サイクリックボルタンメトリー測定において得られる第一酸化電位は、発光層の発光物質の第一酸化電位より0.1V以上大きいことが好ましい。発光層がホスト材料とドーパント材料を含んでいる場合には、ドーパント材料の第一酸化電位より正孔阻止材料の第一酸化電位が0.1V以上大きいことが好ましく、ホスト材料の酸化電位より正孔阻止材料の第一酸化電位が0.1V以上大きいことが、より好ましい。   The first oxidation potential obtained in the cyclic voltammetry measurement of the hole blocking material in the hole blocking layer is preferably 0.1 V or more higher than the first oxidation potential of the light emitting substance in the light emitting layer. When the light emitting layer includes a host material and a dopant material, the first oxidation potential of the hole blocking material is preferably 0.1 V or more higher than the first oxidation potential of the dopant material, and is more positive than the oxidation potential of the host material. It is more preferable that the first oxidation potential of the hole blocking material is 0.1 V or more.

これらの正孔阻止材料は、発光層と隣接する正孔阻止層に用いられるため、正孔阻止材料と発光物質の酸化電位が上記関係を満たすと、陽極側から運ばれてきた正孔を発光層内に閉じ込める効果がより大きくなり、陽極側から運ばれてきた正孔をより一層発光に寄与させることが可能となり、高い発光効率が達成できる。   Since these hole blocking materials are used in the hole blocking layer adjacent to the light emitting layer, when the oxidation potential of the hole blocking material and the light emitting material satisfies the above relationship, the holes carried from the anode side emit light. The effect of confining in the layer is further increased, and holes carried from the anode side can be further contributed to light emission, and high light emission efficiency can be achieved.

以下に、本発明の有機電界発光素子の構造の一例について、図面を参照しながら説明するが、本発明の有機電界発光素子の構造は以下の図示のものに限定されるものではない。
図1〜3は本発明の有機電界発光素子の構造例を模式的に示す断面図であり、1は基板、2は陽極、3は陽極バッファ層、4は正孔輸送層、5は発光層、6は正孔阻止層、7は電子輸送層、8は陰極を各々表す。
Hereinafter, an example of the structure of the organic electroluminescent element of the present invention will be described with reference to the drawings. However, the structure of the organic electroluminescent element of the present invention is not limited to the one shown in the drawings.
1 to 3 are cross-sectional views schematically showing an example of the structure of the organic electroluminescent device of the present invention, wherein 1 is a substrate, 2 is an anode, 3 is an anode buffer layer, 4 is a hole transport layer, and 5 is a light emitting layer. , 6 represents a hole blocking layer, 7 represents an electron transport layer, and 8 represents a cathode.

(基板)
基板1は有機電界発光素子の支持体となるものであり、石英やガラスの板、金属板や金属箔、プラスチックフィルムやシートなどが用いられる。特にガラス板や、ポリエステル、ポリメタクリレート、ポリカーボネート、ポリスルホンなどの透明な合成樹脂の板又はフイルムが好ましい。合成樹脂基板を使用する場合にはガスバリア性に留意する必要がある。基板のガスバリア性が小さすぎると、基板を通過した外気により有機電界発光素子が劣化することがあるので好ましくない。このため、合成樹脂基板の少なくとも片面に緻密なシリコン酸化膜等を設けてガスバリア性を確保する方法も好ましい方法の一つである。
(substrate)
The substrate 1 serves as a support for the organic electroluminescent element, and a quartz or glass plate, a metal plate or a metal foil, a plastic film, a sheet, or the like is used. In particular, a glass plate, a transparent synthetic resin plate such as polyester, polymethacrylate, polycarbonate, polysulfone, or a film is preferable. When using a synthetic resin substrate, it is necessary to pay attention to gas barrier properties. If the gas barrier property of the substrate is too small, the organic electroluminescent element may be deteriorated by the outside air that has passed through the substrate, which is not preferable. For this reason, a method of providing a gas barrier property by providing a dense silicon oxide film or the like on at least one surface of the synthetic resin substrate is also a preferable method.

(陽極)
基板1上には陽極2が設けられる。陽極2は正孔輸送層4への正孔注入の役割を果たすものである。陽極2は、通常、アルミニウム、金、銀、ニッケル、パラジウム、白金等の金属、インジウム及び/又はスズの酸化物などの金属酸化物、ヨウ化銅などのハロゲン化金属、カーボンブラック、或いは、ポリ(3−メチルチオフェン)、ポリピロール、ポリアニリン等の導電性高分子などにより構成される。陽極2は通常、スパッタリング法、真空蒸着法などにより形成されることが多い。また、銀などの金属微粒子、ヨウ化銅などの微粒子、カーボンブラック、導電性の金属酸化物微粒子、導電性高分子微粉末などで陽極2を形成する場合には、適当なバインダー樹脂溶液中に分散させて、基板1上に塗布することにより形成することもできる。更に、導電性高分子で陽極2を形成する場合には、電解重合により基板1上に直接重合薄膜を形成したり、基板1上に導電性高分子を塗布して形成することもできる(Appl.Phys.Lett.,60巻,2711頁,1992年)。
(anode)
An anode 2 is provided on the substrate 1. The anode 2 plays a role of hole injection into the hole transport layer 4. The anode 2 is usually a metal such as aluminum, gold, silver, nickel, palladium, or platinum, a metal oxide such as an oxide of indium and / or tin, a metal halide such as copper iodide, carbon black, or poly It is composed of conductive polymers such as (3-methylthiophene), polypyrrole, and polyaniline. In general, the anode 2 is often formed by a sputtering method, a vacuum deposition method, or the like. Further, when the anode 2 is formed of metal fine particles such as silver, fine particles such as copper iodide, carbon black, conductive metal oxide fine particles, and conductive polymer fine powder, It can also be formed by dispersing and coating on the substrate 1. Further, when the anode 2 is formed with a conductive polymer, a polymerized thin film can be formed directly on the substrate 1 by electrolytic polymerization, or a conductive polymer can be applied on the substrate 1 (Appl). Phys. Lett., 60, 2711, 1992).

陽極2は通常は単層構造であるが、所望により複数の材料からなる積層構造とすること
も可能である。
The anode 2 usually has a single-layer structure, but it can also have a laminated structure made of a plurality of materials if desired.

陽極2の厚みは、必要とする透明性により異なる。透明性が必要とされる場合は、可視光の透過率を、通常60%以上、好ましくは80%以上とすることが望ましい。この場合、陽極の厚みは通常5nm以上、好ましくは10nm以上であり、また通常1000nm以下、好ましくは500nm以下程度である。不透明でよい場合は陽極2の厚みは任意であり、所望により金属で形成して基板1を兼ねてもよい。   The thickness of the anode 2 varies depending on the required transparency. When transparency is required, the visible light transmittance is usually 60% or more, preferably 80% or more. In this case, the thickness of the anode is usually 5 nm or more, preferably 10 nm or more, and usually 1000 nm or less, preferably about 500 nm or less. When it may be opaque, the thickness of the anode 2 is arbitrary, and if desired, it may be formed of metal to serve as the substrate 1.

(正孔輸送層)
図1に示す構成の素子において、陽極2の上には正孔輸送層4が設けられる。正孔輸送層の材料に要求される条件としては、陽極2からの正孔注入効率が高く、かつ、注入された正孔を効率よく輸送することができる材料であることが必要である。そのためには、イオン化ポテンシャルが小さく、可視光の光に対して透明性が高く、しかも正孔移動度が大きく、更に安定性に優れ、トラップとなる不純物が製造時や使用時に発生しにくいことが要求される。また、発光層5に接するために発光層5からの発光を消光したり、発光層5との間でエキサイプレックスを形成して効率を低下させないことが求められる。上記の一般的要求以外に、車載表示用の応用を考えた場合、素子には更に耐熱性が要求される。従って、ガラス転移温度として85℃以上の値を有する材料が望ましい。
(Hole transport layer)
In the element having the configuration shown in FIG. 1, a hole transport layer 4 is provided on the anode 2. As conditions required for the material of the hole transport layer, it is necessary that the material has a high hole injection efficiency from the anode 2 and can efficiently transport the injected holes. For this purpose, the ionization potential is low, the transparency to visible light is high, the hole mobility is high, the stability is high, and impurities that become traps are unlikely to be generated during manufacturing or use. Required. Further, in order to contact the light emitting layer 5, it is required not to quench the light emitted from the light emitting layer 5 or to form an exciplex with the light emitting layer 5 to reduce the efficiency. In addition to the above general requirements, when the application for in-vehicle display is considered, the element is further required to have heat resistance. Therefore, a material having a glass transition temperature of 85 ° C. or higher is desirable.

このような正孔輸送材料としては、発光層5のホスト材料に用いられる正孔輸送性材料と同様に、4,4’−ビス[N−(1−ナフチル)−N−フェニルアミノ]ビフェニルで代表される2個以上の3級アミンを含み2個以上の縮合芳香族環が窒素原子に置換した芳香族ジアミン(特開平5−234681号公報)、4,4’,4''−トリス(1−ナフチルフェニルアミノ)トリフェニルアミン等のスターバースト構造を有する芳香族アミン化合物(J. Lumin., 72−74巻、985頁、1997年)、トリフェニルアミンの四量体から成る芳香族アミン化合物(Chem. Commun.,2175頁、1996年)、2,2’,7,7’−テトラキス−(ジフェニルアミノ)−9,9’−スピロビフルオレン等のスピロ化合物(Synth. Metals, 91巻、209頁、1997年)、4,4'−N,N'−ジカルバゾールビフェニルなどのカルバゾール誘導体等が挙げられる。これらの化合物は、1種を単独で用いてもよいし、必要に応じて複数種混合して用いてもよい。   As such a hole transporting material, 4,4′-bis [N- (1-naphthyl) -N-phenylamino] biphenyl is used similarly to the hole transporting material used for the host material of the light emitting layer 5. Aromatic diamines containing two or more representative tertiary amines and having two or more condensed aromatic rings substituted with nitrogen atoms (Japanese Patent Laid-Open No. 5-234681), 4,4 ′, 4 ″ -tris ( Aromatic amine compounds having a starburst structure such as 1-naphthylphenylamino) triphenylamine (J. Lumin., 72-74, 985, 1997), a triphenylamine tetramer Spiro compounds such as compounds (Chem. Commun., 2175, 1996), 2,2 ′, 7,7′-tetrakis- (diphenylamino) -9,9′-spirobifluorene (Synth. Metals, 91, pp. 209 pp., 1997), 4,4'-N, such as a carbazole derivative such as N'- dicarbazole biphenyl. These compounds may be used individually by 1 type, and may be used in mixture of multiple types as needed.

上記の化合物以外に、正孔輸送層4の材料として、ポリビニルカルバゾール、ポリビニルトリフェニルアミン(特開平7−53953号公報)、テトラフェニルベンジジンを含有するポリアリーレンエーテルサルホン(Polym. Adv. Tech., 7巻、33頁、1996年)等の高分子材料が挙げられる。   In addition to the above compounds, polyarylene ether sulfone (Polym. Adv. Tech.) Containing polyvinyl carbazole, polyvinyl triphenylamine (Japanese Patent Laid-Open No. 7-53953), and tetraphenylbenzidine as the material of the hole transport layer 4 is used. , 7, p. 33, 1996).

正孔輸送層4は、スプレー法、印刷法、スピンコート法、ディップコート法、ダイコート法などの通常の塗布法や、インクジェット法、スクリーン印刷法など各種印刷法等の湿式成膜法や、真空蒸着法などの乾式成膜法で形成することができる。   The hole transport layer 4 may be formed by a normal coating method such as a spray method, a printing method, a spin coating method, a dip coating method, or a die coating method, a wet film forming method such as various printing methods such as an ink jet method or a screen printing method, or a vacuum. It can be formed by a dry film formation method such as a vapor deposition method.

塗布法の場合は、正孔輸送材料の1種又は2種以上に、必要により正孔のトラップにならないバインダー樹脂や塗布性改良剤などの添加剤を添加し、適当な溶剤に溶解して塗布溶液を調製し、スピンコート法などの方法により陽極2上に塗布し、乾燥して正孔輸送層4を形成する。バインダー樹脂としては、ポリカーボネート、ポリアリレート、ポリエステル等が挙げられる。バインダー樹脂は添加量が多いと正孔移動度を低下させるので、少ない方が望ましく、通常、正孔輸送層中の含有量で50重量%以下が好ましい。   In the case of the coating method, an additive such as a binder resin or a coating property improving agent that does not trap holes is added to one or more of the hole transport materials, if necessary, and dissolved in a suitable solvent. A solution is prepared, applied onto the anode 2 by a method such as spin coating, and dried to form the hole transport layer 4. Examples of the binder resin include polycarbonate, polyarylate, and polyester. When the amount of the binder resin added is large, the hole mobility is lowered. Therefore, the smaller amount is desirable, and the content in the hole transport layer is usually preferably 50% by weight or less.

真空蒸着法の場合には、正孔輸送材料を真空容器内に設置されたルツボに入れ、真空容器内を適当な真空ポンプで10-4Pa程度にまで排気した後、ルツボを加熱して、正孔輸送材料を蒸発させ、ルツボと向かい合って置かれた、陽極2が形成された基板1上に正孔輸送層4を形成させる。 In the case of the vacuum evaporation method, the hole transport material is put in a crucible installed in a vacuum vessel, the inside of the vacuum vessel is evacuated to about 10 −4 Pa with a suitable vacuum pump, and then the crucible is heated, The hole transport material is evaporated and a hole transport layer 4 is formed on the substrate 1 on which the anode 2 is formed, which is placed facing the crucible.

正孔輸送層4の膜厚は、通常5nm以上、好ましくは10nm以上であり、また通常300nm以下、好ましくは100nm以下である。この様に薄い膜を一様に形成するためには、一般に真空蒸着法がよく用いられる。   The thickness of the hole transport layer 4 is usually 5 nm or more, preferably 10 nm or more, and is usually 300 nm or less, preferably 100 nm or less. In order to uniformly form such a thin film, a vacuum deposition method is generally used.

(発光層)
図1に示す素子において、正孔輸送層4の上には発光層5が設けられる。発光層5は、電界を与えられた電極間において、陽極2から注入されて正孔輸送層4を移動する正孔と、陰極から注入されて正孔阻止層6を移動する電子との再結合により励起されて強い発光を示す発光物質により形成される。通常、発光層5には、前述の如く、発光物質であるドーパント材料とホスト材料が含まれる。尚、本発明では、ドーパント材料やホスト材料等、発光層に含まれる材料を発光層材料という。
(Light emitting layer)
In the element shown in FIG. 1, a light emitting layer 5 is provided on the hole transport layer 4. The light emitting layer 5 is a recombination of holes injected from the anode 2 and moving through the hole transport layer 4 and electrons injected from the cathode and moved through the hole blocking layer 6 between the electrodes to which an electric field is applied. It is formed of a luminescent material that emits strong light when excited by. Usually, the light emitting layer 5 includes a dopant material and a host material, which are light emitting substances, as described above. In the present invention, a material contained in the light emitting layer such as a dopant material or a host material is referred to as a light emitting layer material.

発光層5に用いられる発光物質としては、安定な薄膜形状を有し、固体状態で高い発光(蛍光又は燐光)量子収率を示し、正孔及び/又は電子を効率よく輸送することができる化合物であることが必要である。更に電気化学的かつ化学的に安定であり、トラップとなる不純物が製造時や使用時に発生しにくい化合物であることが要求される。   The light-emitting substance used in the light-emitting layer 5 is a compound that has a stable thin film shape, exhibits high emission (fluorescence or phosphorescence) quantum yield in the solid state, and can efficiently transport holes and / or electrons. It is necessary to be. Further, it is required to be a compound that is electrochemically and chemically stable and does not easily generate impurities as traps during production or use.

更に、本発明においては、前述の如く、正孔阻止層の正孔阻止材料の第一酸化電位よりも第一酸化電位が小さい発光物質、とりわけ
(正孔阻止材料の酸化電位)−(発光物質の酸化電位)≧0.1V
(正孔阻止材料の還元電位)≧(発光物質の還元電位)
を満たす発光物質を用いることが好ましい。
Furthermore, in the present invention, as described above, a luminescent material having a first oxidation potential smaller than the first oxidation potential of the hole blocking material of the hole blocking layer, particularly (oxidation potential of the hole blocking material) − (luminescent material). Oxidation potential) ≧ 0.1V
(Reduction potential of hole blocking material) ≧ (Reduction potential of luminescent substance)
It is preferable to use a light-emitting substance that satisfies the above.

このような条件を満たし、蛍光を発する発光層を形成する材料としては、8−ヒドロキシキノリンのアルミニウム錯体などの金属錯体(特開昭59−194393号公報)、10−ヒドロキシベンゾ[h]キノリンの金属錯体(特開平6−322362号公報)、ビススチリルベンゼン誘導体(特開平1−245087号公報、同2−222484号公報)、ビススチリルアリーレン誘導体(特開平2−247278号公報)、(2−ヒドロキシフェニル)ベンゾチアゾールの金属錯体(特開平8−315983号公報)、シロール誘導体、等が挙げられる。これらの発光層材料は、通常は真空蒸着法により正孔輸送層上に積層される。また、前述の正孔輸送層材料のうち、発光性を有する芳香族アミン系化合物も発光層材料として用いることができる。   As a material that satisfies such conditions and forms a light emitting layer that emits fluorescence, a metal complex such as an aluminum complex of 8-hydroxyquinoline (Japanese Patent Laid-Open No. 59-194393), 10-hydroxybenzo [h] quinoline Metal complexes (JP-A-6-322362), bisstyrylbenzene derivatives (JP-A-1-245087, JP-A-2-222484), bisstyrylarylene derivatives (JP-A-2-247278), (2- Hydroxyphenyl) benzothiazole metal complexes (Japanese Patent Laid-Open No. 8-315983), silole derivatives, and the like. These light emitting layer materials are usually laminated on the hole transport layer by a vacuum deposition method. Of the hole transport layer materials described above, an aromatic amine compound having a light-emitting property can also be used as the light-emitting layer material.

素子の発光効率を向上させるとともに発光色を変える目的で、例えば、8−ヒドロキシキノリンのアルミニウム錯体をホスト材料として、クマリン等のレーザー用蛍光色素をドープすること(J.Appl.Phys.,65巻,3610頁, 1989年)等が行われている。このドーピング手法は、発光層5にも適用でき、ドープ用材料としては、クマリン以外にも各種の蛍光色素が使用できる。青色発光を与える蛍光色素としては、ペリレン、ピレン、アントラセン、クマリン及びそれらの誘導体等が挙げられる。緑色蛍光色素としては、キナクリドン誘導体、クマリン誘導体等が挙げられる。黄色蛍光色素としては、ルブレン、ペリミドン誘導体等が挙げられる。赤色蛍光色素としては、DCM系化合物、ベンゾピラン誘導体、ローダミン誘導体、ベンゾチオキサンテン誘導体、アザベンゾチオキサンテン等が挙げられる。   For the purpose of improving the luminous efficiency of the device and changing the emission color, for example, doping a fluorescent dye for lasers such as coumarin with an aluminum complex of 8-hydroxyquinoline as a host material (J. Appl. Phys., Volume 65). 3610 (1989)). This doping technique can also be applied to the light emitting layer 5, and various fluorescent dyes can be used as a doping material in addition to coumarin. Examples of fluorescent dyes that emit blue light include perylene, pyrene, anthracene, coumarin, and derivatives thereof. Examples of the green fluorescent dye include quinacridone derivatives and coumarin derivatives. Examples of yellow fluorescent dyes include rubrene and perimidone derivatives. Examples of red fluorescent dyes include DCM compounds, benzopyran derivatives, rhodamine derivatives, benzothioxanthene derivatives, azabenzothioxanthene and the like.

上記のドープ用蛍光色素以外にも、ホスト材料に応じて、レーザー研究,8巻,694頁,803頁,958頁(1980年);同9巻,85頁(1981年)、に列挙されている蛍光色素などが発光層用のドープ材料として使用することができる。   Other than the above-mentioned fluorescent dyes for doping, depending on the host material, listed in Laser Research, 8, 694, 803, 958 (1980); 9, 9, 85 (1981). Fluorescent dyes and the like that can be used as a doping material for the light emitting layer.

ホスト材料に対して上記蛍光色素がドープされる量は、10-3重量%以上が好ましく、0.1重量%以上がより好ましい。また10重量%以下が好ましく、3重量%以下がより好ましい。この下限値を下回ると素子の発光効率向上に寄与できない場合があり、上限値を越えると濃度消光が起き、発光効率の低下に至る可能性がある。 The amount by which the fluorescent dye is doped with respect to the host material is preferably 10 −3 wt% or more, more preferably 0.1 wt% or more. Moreover, 10 weight% or less is preferable and 3 weight% or less is more preferable. If the lower limit is not reached, it may not be possible to contribute to improving the luminous efficiency of the device. If the upper limit is exceeded, concentration quenching may occur, leading to a reduction in luminous efficiency.

本発明において、発光層に使用されるドーパント材料として、好ましくは、周期表7ないし11族から選ばれる金属を含む有機金属錯体が挙げられる。該金属錯体のT1(励起三重項準位)はホスト材料として使用する電荷輸送性化合物のT1より高いことが発光効率の観点から好ましい。更にドーパント材料において発光が起こることから、酸化還元などの化学的安定成も要求される。   In the present invention, the dopant material used for the light emitting layer is preferably an organometallic complex containing a metal selected from Groups 7 to 11 of the periodic table. The T1 (excited triplet level) of the metal complex is preferably higher than the T1 of the charge transporting compound used as the host material from the viewpoint of light emission efficiency. Furthermore, since light emission occurs in the dopant material, chemical stabilization such as redox is also required.

周期表7ないし11族から選ばれる金属を含む燐光性有機金属錯体における、該金属として好ましくは、ルテニウム、ロジウム、パラジウム、銀、レニウム、オスミウム、イリジウム、白金、及び金が挙げられる。これらの有機金属錯体として、好ましくは下記一般式(II)又は一般式(VI)で表される化合物が挙げられる。
MLn-jL’j (II)
(式中、Mは金属、nは該金属の価数を表す。L及びL’は二座配位子を表す。jは0又は1又は2を表す。)
Preferred examples of the metal in the phosphorescent organometallic complex containing a metal selected from Groups 7 to 11 of the periodic table include ruthenium, rhodium, palladium, silver, rhenium, osmium, iridium, platinum, and gold. Preferred examples of these organometallic complexes include compounds represented by the following general formula (II) or general formula (VI).
MLn-jL'j (II)
(In the formula, M represents a metal, n represents a valence of the metal, L and L ′ represent a bidentate ligand, and j represents 0, 1 or 2.)

Figure 0005109236
(式中、M7は金属、Tは炭素又は窒素を表す。Tが窒素の場合はR14、R15は無く、Tが炭素の場合はR14、R15は水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アラルキル基、アルケニル基、シアノ基、アミノ基、アシル基、アルコキシカルボニル基、カルボキシル基、アルコキシ基、アルキルアミノ基、アラルキルアミノ基、ハロアルキル基、水酸基、アリールオキシ基、置換基を有していてもよい芳香族炭化水素基又は芳香族複素環基を表す。
12、R13は水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アラルキル基、アルケニル基、シアノ基、アミノ基、アシル基、アルコキシカルボニル基、カルボキシル基、アルコキシ基、アルキルアミノ基、アラルキルアミノ基、ハロアルキル基、水酸基、アリールオキシ基、置換基を有していてもよい芳香族炭化水素基又は芳香族複素環基を表し、互いに連結して環を形成しても良い。)
Figure 0005109236
(In the formula, M 7 represents a metal, T represents carbon or nitrogen. When T is nitrogen, there are no R 14 and R 15 , and when T is carbon, R 14 and R 15 represent a hydrogen atom, a halogen atom, and an alkyl. Group, aralkyl group, alkenyl group, cyano group, amino group, acyl group, alkoxycarbonyl group, carboxyl group, alkoxy group, alkylamino group, aralkylamino group, haloalkyl group, hydroxyl group, aryloxy group, substituent Represents an aromatic hydrocarbon group or an aromatic heterocyclic group.
R 12 and R 13 are hydrogen atom, halogen atom, alkyl group, aralkyl group, alkenyl group, cyano group, amino group, acyl group, alkoxycarbonyl group, carboxyl group, alkoxy group, alkylamino group, aralkylamino group, haloalkyl group Represents an aromatic hydrocarbon group or an aromatic heterocyclic group which may have a hydroxyl group, an aryloxy group or a substituent, and may be linked to each other to form a ring. )

一般式(II)中の二座配位子L及びL’はそれぞれ以下の部分構造を有する配位子を示す。   In the general formula (II), bidentate ligands L and L ′ each represent a ligand having the following partial structure.

Figure 0005109236
(環A1及び環A1’は各々独立に、芳香族炭化水素基又は芳香族複素環基を表し、置換基を有していてもよい。環A2及び環A2’は含窒素芳香族複素環基を表し、置換基を有していてもよい。R’、R’’及びR’’’はそれぞれハロゲン原子;アルキル基;アルケニル基;アルコキシカルボニル基;メトキシ基;アルコキシ基;アリールオキシ基;ジアルキルアミノ基;ジアリールアミノ基;カルバゾリル基;アシル基;ハロアルキル基又はシアノ基を表す。)
Figure 0005109236
(Ring A1 and Ring A1 ′ each independently represents an aromatic hydrocarbon group or an aromatic heterocyclic group, which may have a substituent. Ring A2 and Ring A2 ′ are nitrogen-containing aromatic heterocyclic groups. Each of R ′, R ″ and R ′ ″ represents a halogen atom; an alkyl group; an alkenyl group; an alkoxycarbonyl group; a methoxy group; an alkoxy group; an aryloxy group; (Amino group; diarylamino group; carbazolyl group; acyl group; haloalkyl group or cyano group)

一般式(II)で表される化合物として、更に好ましくは下記一般式(Va)、(Vb)(Vc)で表される化合物が挙げられる。   More preferable examples of the compound represented by the general formula (II) include compounds represented by the following general formulas (Va), (Vb) and (Vc).

Figure 0005109236
(式中、M4は金属、nは該金属の価数を表す。環A1は置換基を有していてもよい芳香族炭化水素基を表し、環A2は置換基を有していてもよい含窒素芳香族複素環基を表す。)
Figure 0005109236
(In the formula, M 4 represents a metal, and n represents a valence of the metal. Ring A1 represents an aromatic hydrocarbon group which may have a substituent, and ring A2 may have a substituent. Represents a good nitrogen-containing aromatic heterocyclic group.)

Figure 0005109236
(式中、M5は金属、nは該金属の価数を表す。環A1は置換基を有していてもよい芳香族炭化水素基又は芳香族複素環基を表し、環A2は置換基を有していてもよい含窒素芳香族複素環基を表す。)
Figure 0005109236
(In the formula, M 5 represents a metal, and n represents a valence of the metal. Ring A1 represents an optionally substituted aromatic hydrocarbon group or aromatic heterocyclic group, and ring A2 represents a substituent. Represents a nitrogen-containing aromatic heterocyclic group which may have

Figure 0005109236
(式中、M6は金属、nは該金属の価数を表し、jは0又は1又は2を表す。環A1及び環A1’は各々独立に、置換基を有していてもよい芳香族炭化水素基又は芳香族複素環基を表し、環A2及び環A2’は各々独立に、置換基を有していてもよい含窒素芳香族複素環基を表す。)
Figure 0005109236
(Wherein M 6 represents a metal, n represents a valence of the metal, and j represents 0, 1 or 2. Each of ring A1 and ring A1 ′ is independently an aromatic group optionally having a substituent. Represents an aromatic hydrocarbon group or an aromatic heterocyclic group, and ring A2 and ring A2 ′ each independently represent a nitrogen-containing aromatic heterocyclic group which may have a substituent.)

一般式(Va)、(Vb)、(Vc)で表される化合物の環A1及び環A1’として、好ましくは、フェニル基、ビフェニル基、ナフチル基、アントリル基、チエニル基、フリル基、ベンゾチエニル基、ベンゾフリル基、ピリジル基、キノリル基、イソキノリル基、又はカルバゾリル基が挙げられる。   The ring A1 and ring A1 ′ of the compounds represented by the general formulas (Va), (Vb), and (Vc) are preferably phenyl group, biphenyl group, naphthyl group, anthryl group, thienyl group, furyl group, benzothienyl. Group, benzofuryl group, pyridyl group, quinolyl group, isoquinolyl group, or carbazolyl group.

環A2及び環A2’として、好ましくは、ピリジル基、ピリミジル基、ピラジル基、トリアジル基、ベンゾチアゾール基、ベンゾオキサゾール基、ベンゾイミダゾール基、キノリル基、イソキノリル基、キノキサリル基、又はフェナントリジル基が挙げられる。   Ring A2 and ring A2 ′ are preferably a pyridyl group, pyrimidyl group, pyrazyl group, triazyl group, benzothiazole group, benzoxazole group, benzimidazole group, quinolyl group, isoquinolyl group, quinoxalyl group, or phenanthridyl group. Can be mentioned.

一般式(Va)、(Vb)及び(Vc)で表される化合物が有していてもよい置換基としては、フッ素原子等のハロゲン原子;メチル基、エチル基等の炭素数1〜6のアルキル基;ビニル基等の炭素数2〜6のアルケニル基;メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基等の炭素数2〜6のアルコキシカルボニル基;メトキシ基、エトキシ基等の炭素数1〜6のアルコキシ基;フェノキシ基、ベンジルオキシ基などのアリールオキシ基;ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基等のジアルキルアミノ基;ジフェニルアミノ基等のジアリールアミノ基;カルバゾリル基;アセチル基等のアシル基;トリフルオロメチル基等のハロアルキル基;シアノ基等が挙げられ、これらは互いに連結して環を形成しても良い。   Examples of the substituent that the compounds represented by the general formulas (Va), (Vb), and (Vc) may have include a halogen atom such as a fluorine atom; a C 1-6 carbon atom such as a methyl group and an ethyl group An alkyl group; an alkenyl group having 2 to 6 carbon atoms such as a vinyl group; an alkoxycarbonyl group having 2 to 6 carbon atoms such as a methoxycarbonyl group and an ethoxycarbonyl group; an alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms such as a methoxy group and an ethoxy group; An aryloxy group such as a phenoxy group and a benzyloxy group; a dialkylamino group such as a dimethylamino group and a diethylamino group; a diarylamino group such as a diphenylamino group; a carbazolyl group; an acyl group such as an acetyl group; A haloalkyl group; a cyano group, and the like, which may be linked to each other to form a ring.

なお、環A1が有する置換基と環A2が有する置換基が結合、又は環A1’が有する置換基と環A2’が有する置換基が結合して、一つの縮合環を形成してもよく、このような縮合環としては7,8−ベンゾキノリン基等が挙げられる。   In addition, the substituent which ring A1 and the substituent which ring A2 has may combine, or the substituent which ring A1 'and the substituent which ring A2' may combine may form one condensed ring, Examples of such a condensed ring include a 7,8-benzoquinoline group.

環A1、環A1’、環A2及び環A2’の置換基として、より好ましくはアルキル基、アルコキシ基、芳香族炭化水素基、シアノ基、ハロゲン原子、ハロアルキル基、ジアリールアミノ基、又はカルバゾリル基が挙げられる。   More preferably, the substituent for ring A1, ring A1 ′, ring A2 and ring A2 ′ is an alkyl group, an alkoxy group, an aromatic hydrocarbon group, a cyano group, a halogen atom, a haloalkyl group, a diarylamino group, or a carbazolyl group. Can be mentioned.

式(Va)、(Vb)におけるM4ないしM5として好ましくは、ルテニウム、ロジウム、パラジウム、銀、レニウム、オスミウム、イリジウム、白金又は金が挙げられる。式(VI)におけるM7として好ましくは、ルテニウム、ロジウム、パラジウム、銀、レニウム、オスミウム、イリジウム、白金又は金が挙げられ、特に好ましくは、白金、パラジウム等の2価の金属が挙げられる。 M 4 to M 5 in the formulas (Va) and (Vb) are preferably ruthenium, rhodium, palladium, silver, rhenium, osmium, iridium, platinum or gold. M 7 in the formula (VI) is preferably ruthenium, rhodium, palladium, silver, rhenium, osmium, iridium, platinum or gold, and particularly preferably a divalent metal such as platinum or palladium.

前記一般式(II)、(Va)、(Vb)及び(Vc)で示される有機金属錯体の具体例を以下に示すが、下記の化合物に限定されるわけではない。   Specific examples of the organometallic complexes represented by the general formulas (II), (Va), (Vb) and (Vc) are shown below, but are not limited to the following compounds.

Figure 0005109236
Figure 0005109236

Figure 0005109236
Figure 0005109236

前記一般式(II)、(Va)、(Vb)及び(Vc)で表される有機金属錯体の中でも、特に配位子L及び/又はL’として2−アリールピリジン系配位子(2−アリールピリジン、これに任意の置換基が結合したもの、又はこれに任意の気が縮合してなるもの)を有する化合物が好ましい。   Among the organometallic complexes represented by the general formulas (II), (Va), (Vb) and (Vc), a 2-arylpyridine ligand (2- A compound having an arylpyridine, a compound in which an arbitrary substituent is bonded to the arylpyridine, or a compound in which an arbitrary gas is condensed thereto is preferable.

前記一般式(VI)で表わされる有機金属錯体の具体例を以下に示すが、下記の化合物に限定されるわけではない。   Specific examples of the organometallic complex represented by the general formula (VI) are shown below, but are not limited to the following compounds.

Figure 0005109236
Figure 0005109236

このような燐光性ドーパント材料の分子量は、通常4000以下、好ましくは3000以下、より好ましくは2000以下であり、また通常200以上、好ましくは300以上、より好ましくは400以上である。分子量がこの上限値を超えると、昇華性が著しく低下して電界発光素子を制作する際に蒸着法を用いる場合において支障を来したり、或いは有機溶媒などへの溶解性の低下や、合成工程で生じる不純物成分の増加に伴って、材料の高純度化(即ち劣化原因物質の除去)が困難になる場合があり、また分子量が上記下限値を下回ると、ガラス転移温度及び、融点、気化温度などが低下するため、耐熱性が著しく損なわれるおそれがある。   The molecular weight of such a phosphorescent dopant material is usually 4000 or less, preferably 3000 or less, more preferably 2000 or less, and usually 200 or more, preferably 300 or more, more preferably 400 or more. If the molecular weight exceeds this upper limit, the sublimation property is significantly reduced, which may cause problems when using an evaporation method when producing an electroluminescent device, or decrease in solubility in an organic solvent, or a synthesis process. With the increase in the impurity components generated in the process, it may be difficult to improve the purity of the material (that is, to remove the deterioration-causing substance), and when the molecular weight is below the lower limit, the glass transition temperature, the melting point, and the vaporization temperature. Etc., the heat resistance may be significantly impaired.

これらのドーパント材料を2種類以上使用する場合は、前述の如く、正孔阻止層中の正孔阻止材料の酸化電位が、複数種のドーパント材料の中で一番大きな酸化電位を有するものよりも大きいことが好ましい。   When two or more of these dopant materials are used, as described above, the oxidation potential of the hole blocking material in the hole blocking layer is higher than that having the highest oxidation potential among the plurality of types of dopant materials. Larger is preferred.

このような有機金属錯体をドーパント材料として用いた、燐光発光を示す発光層に使用されるホスト材料としては、蛍光発光を示す発光層に使用されるホスト材料として前述した材料の他に、4,4´−N,N´−ジカルバゾールビフェニルなどのカルバゾール誘導体(WO 00/70655号公報)、トリス(8−ヒドロキシキノリン)アルミニウム(USP 6,303,238号公報)、2,2´,2´´−(1,3,5−ベンゼントリル)トリス[1−フェニル−1H−ベンズイミダゾール](Appl.Phys.Lett.,78巻,1622頁,2001年)、ポリビニルカルバゾール(特開2001−257076号公報)等が挙げられる。尚、本発明の正孔阻止材料をホスト材料として使用することもできる。   As a host material used for a light emitting layer that exhibits phosphorescence using such an organometallic complex as a dopant material, in addition to the materials described above as a host material used for a light emitting layer that exhibits fluorescence, Carbazole derivatives such as 4′-N, N′-dicarbazole biphenyl (WO 00/70655), tris (8-hydroxyquinoline) aluminum (USP 6,303,238), 2, 2 ′, 2 ′ '-(1,3,5-benzenetolyl) tris [1-phenyl-1H-benzimidazole] (Appl. Phys. Lett., 78, 1622, 2001), polyvinylcarbazole (Japanese Patent Laid-Open No. 2001-257076) Gazette) and the like. The hole blocking material of the present invention can also be used as a host material.

発光層中にドーパント材料として含有される有機金属錯体の量は、0.1重量%以上が好ましく、また30重量%以下が好ましい。この下限値を下回ると素子の発光効率向上に寄与できない場合があり、上限値を上回ると有機金属錯体同士が2量体を形成する等の理由で濃度消光が起き、発光効率の低下に至る可能性がある。   The amount of the organometallic complex contained as a dopant material in the light emitting layer is preferably 0.1% by weight or more, and more preferably 30% by weight or less. If the lower limit is not reached, it may not be possible to contribute to improving the luminous efficiency of the device. If the upper limit is exceeded, concentration quenching may occur due to the formation of dimers between organometallic complexes, etc., leading to a decrease in luminous efficiency. There is sex.

燐光発光を示す発光層におけるドーパント材料の量は、従来の蛍光(1重項)を用いた素子において、発光層に含有される蛍光性色素の量より、若干多い方が好ましい傾向がある。また、燐光性ドーパント材料と共に蛍光色素が発光層中に含有される場合、該蛍光色素の量は、0.05重量%以上が好ましく、0.1重量%以上がより好ましい。また10重量%以下が好ましく、3重量%以下がより好ましい。   The amount of the dopant material in the light emitting layer exhibiting phosphorescence tends to be preferably slightly larger than the amount of the fluorescent dye contained in the light emitting layer in a conventional device using fluorescence (singlet). Moreover, when a fluorescent pigment | dye is contained in a light emitting layer with a phosphorescent dopant material, 0.05 weight% or more is preferable and 0.1 weight% or more is more preferable. Moreover, 10 weight% or less is preferable and 3 weight% or less is more preferable.

発光層5の膜厚は、通常3nm以上、好ましくは5nm以上であり、また通常200nm以下、好ましくは100nm以下である。   The thickness of the light emitting layer 5 is usually 3 nm or more, preferably 5 nm or more, and is usually 200 nm or less, preferably 100 nm or less.

発光層5も正孔輸送層4と同様の方法で形成することができる。   The light emitting layer 5 can also be formed by the same method as the hole transport layer 4.

ドーパント材料としての上述の蛍光色素及び/又は燐光色素(燐光性ドーパント材料)を発光層のホスト材料にドープする方法を以下に説明する。   A method of doping the above-described fluorescent dye and / or phosphorescent dye (phosphorescent dopant material) as a dopant material into the host material of the light emitting layer will be described below.

塗布の場合は、前記発光層ホスト材料と、ドーパント材料、更に必要により、電子のトラップや発光の消光剤とならないバインダー樹脂や、レベリング剤等の塗布性改良剤などの添加剤を添加し溶解した塗布溶液を調製し、スピンコート法などの方法により正孔輸送層4上に塗布し、乾燥して発光層5を形成する。バインダー樹脂としては、ポリカーボネート、ポリアリレート、ポリエステル等が挙げられる。バインダー樹脂は添加量が多いと正孔/電子移動度を低下させるので、少ない方が望ましく、発光層中の含有量で50重量%以下が好ましい。   In the case of coating, the light emitting layer host material, the dopant material, and if necessary, additives such as a binder resin that does not serve as an electron trap or light emission quencher, and a coating property improving agent such as a leveling agent were added and dissolved. A coating solution is prepared, applied onto the hole transport layer 4 by a method such as spin coating, and dried to form the light emitting layer 5. Examples of the binder resin include polycarbonate, polyarylate, and polyester. When the amount of the binder resin added is large, the hole / electron mobility is lowered. Therefore, it is desirable that the amount is small, and the content in the light emitting layer is preferably 50 wt% or less.

真空蒸着法の場合には、前記ホスト材料を真空容器内に設置されたルツボに入れ、ドーパント材料を別のルツボに入れ、真空容器内を適当な真空ポンプで10-4Pa程度にまで排気した後、各々のルツボを同時に加熱して蒸発させ、ルツボと向かい合って置かれた基板上に層を形成する。また、他の方法として、上記の材料を予め所定比で混合したものを同一のルツボを用いて蒸発させてもよい。 In the case of the vacuum deposition method, the host material is put in a crucible installed in a vacuum vessel, the dopant material is put in another crucible, and the inside of the vacuum vessel is evacuated to about 10 −4 Pa by an appropriate vacuum pump. Thereafter, each crucible is heated and evaporated simultaneously to form a layer on the substrate placed facing the crucible. As another method, a mixture of the above materials in a predetermined ratio may be evaporated using the same crucible.

上記各ドーパント材料が発光層5中にドープされる場合、発光層の膜厚方向において均一にドープされるが、膜厚方向において濃度分布があっても構わない。例えば、正孔輸送層4との界面近傍にのみドープしたり、逆に、正孔阻止層6界面近傍にドープしてもよい。   When each of the above dopant materials is doped into the light emitting layer 5, it is uniformly doped in the film thickness direction of the light emitting layer, but there may be a concentration distribution in the film thickness direction. For example, it may be doped only in the vicinity of the interface with the hole transport layer 4, or conversely, it may be doped in the vicinity of the interface of the hole blocking layer 6.

発光層5も正孔輸送層4と同様の方法で形成することができるが、通常は真空蒸着法が用いられる。
なお発光層5は、本発明の性能を損なわない範囲で上記以外の成分を含んでいてもよい。
The light emitting layer 5 can also be formed by the same method as the hole transport layer 4, but usually a vacuum deposition method is used.
In addition, the light emitting layer 5 may contain components other than the above in the range which does not impair the performance of this invention.

(正孔阻止層)
図1に示す素子において、正孔阻止層6は発光層5の上に、発光層5の陰極側の界面に接するように積層される。
(Hole blocking layer)
In the element shown in FIG. 1, the hole blocking layer 6 is laminated on the light emitting layer 5 so as to be in contact with the cathode side interface of the light emitting layer 5.

正孔阻止層6は、正孔輸送層4から移動してくる正孔を陰極8に到達するのを阻止する役割と、陰極8から注入された電子を効率よく発光層5の方向に輸送することができる化合物より形成されることが好ましい。本発明において、正孔阻止層6を構成する正孔阻止材料は、上記分子量及びIpa/Ipcの値を満たし、かつ、電子移動度が高く正孔移動度が低いことが必要とされる。正孔阻止層6は正孔と電子を発光層5内に閉じこめて、発光効率を向上させる機能を有する。   The hole blocking layer 6 serves to block the holes moving from the hole transport layer 4 from reaching the cathode 8 and efficiently transports electrons injected from the cathode 8 toward the light emitting layer 5. Preferably, it is formed from a compound that can be used. In the present invention, the hole blocking material constituting the hole blocking layer 6 is required to satisfy the above molecular weight and the value of Ipa / Ipc, and to have high electron mobility and low hole mobility. The hole blocking layer 6 has a function of confining holes and electrons in the light emitting layer 5 and improving luminous efficiency.

特に、正孔阻止材料としての前記一般式(I)で表されるピリジン環を有する化合物はその励起三重項準位(T1)が高いため、励起子を発光層5に閉じ込める効果が高く、発光効率の観点から正孔阻止材料としてより好ましい。前記一般式(I)で表される化合物は正孔阻止層中に、1種を単独で用いてもよいし、複数種併用してもよい。正孔阻止層6には、更に、本発明に係る正孔阻止材料の性能を損なわない範囲で、他の公知の正孔阻止機能を有する化合物を併用してもよい。   In particular, a compound having a pyridine ring represented by the above general formula (I) as a hole blocking material has a high excited triplet level (T1), and thus has a high effect of confining excitons in the light emitting layer 5 and emits light. From the viewpoint of efficiency, it is more preferable as a hole blocking material. The compound represented by the general formula (I) may be used alone or in combination of two or more in the hole blocking layer. The hole blocking layer 6 may be used in combination with another known compound having a hole blocking function as long as the performance of the hole blocking material according to the present invention is not impaired.

本発明で用いられる正孔阻止層6のイオン化ポテンシャルは発光層5のイオン化ポテンシャルより0.1eV以上大きいことが好ましい。発光層5がホスト材料とドーパント材料を含んでいる場合、正孔阻止材料はこのドーパント材料のイオン化ポテンシャルより0.1eV以上大きいことが好ましく、ホスト材料のイオン化ポテンシャルより0.1eV以上大きいことが、より好ましい。   The ionization potential of the hole blocking layer 6 used in the present invention is preferably greater than the ionization potential of the light emitting layer 5 by 0.1 eV or more. When the light emitting layer 5 includes a host material and a dopant material, the hole blocking material is preferably 0.1 eV or more larger than the ionization potential of the dopant material, and 0.1 eV or more larger than the ionization potential of the host material, More preferred.

イオン化ポテンシャルは物質のHOMO(最高被占分子軌道)レベルにある電子を真空準位に放出するのに必要なエネルギーで定義される。イオン化ポテンシャルは光電子分光法で直接定義されるか、電気化学的に測定した酸化電位を基準電極に対して補正しても求められる。後者の方法の場合、例えば飽和甘コウ電極(SCE)を基準電極として用いたとき、
イオン化ポテンシャル=酸化電位(vs.SCE)+4.3eV
で定義される。(“Molecular Semiconductors”,Springer−Verlag,1985年、98頁)。
The ionization potential is defined by the energy required to emit electrons at the HOMO (highest occupied molecular orbital) level of the material to the vacuum level. The ionization potential can be defined directly by photoelectron spectroscopy or can be determined by correcting the electrochemically measured oxidation potential relative to the reference electrode. In the case of the latter method, for example, when a saturated sweet potato electrode (SCE) is used as a reference electrode,
Ionization potential = oxidation potential (vs. SCE) + 4.3 eV
Defined by ("Molecular Semiconductors", Springer-Verlag, 1985, page 98).

更に、正孔阻止層6を構成する正孔阻止材料の電子親和力(EA)は、発光層の電子親和力(発光層中のホスト材料のうち電子輸送性化合物の電子親和力)と比較して同等以上であることが好ましい。電子親和力もイオン化ポテンシャルと同様に真空準位を基準として、真空準位にある電子が物質のLUMO(最低空分子軌道)レベルに落ちて安定化するエネルギーで定義される。電子親和力は、上述のイオン化ポテンシャルから光学的バンドギャップを差し引いて求められるか、電気化学的な還元電位から下記の式で同様に求められる。
電子親和力=還元電位(vs.SCE)+4.3eV
Furthermore, the electron affinity (EA) of the hole blocking material constituting the hole blocking layer 6 is equal to or greater than the electron affinity of the light emitting layer (the electron affinity of the electron transporting compound among the host materials in the light emitting layer). It is preferable that Similar to the ionization potential, the electron affinity is also defined by the energy at which the electrons in the vacuum level fall to the LUMO (lowest unoccupied molecular orbital) level of the material and stabilize, with the vacuum level as a reference. The electron affinity can be obtained by subtracting the optical band gap from the above-mentioned ionization potential, or similarly obtained from the electrochemical reduction potential by the following formula.
Electron affinity = reduction potential (vs. SCE) +4.3 eV

正孔阻止層6は、正孔輸送層4と同様にして塗布法或いは真空蒸着法により発光層5上に積層することにより形成されるが、通常は、真空蒸着法が用いられる。   The hole blocking layer 6 is formed by laminating on the light emitting layer 5 by a coating method or a vacuum vapor deposition method in the same manner as the hole transport layer 4, but a vacuum vapor deposition method is usually used.

正孔阻止層6の膜厚は、通常5nm以上、好ましくは10nm以上であり、また通常3
00nm以下、好ましくは100nm以下である。この様に薄い膜を一様に形成するためには、一般に真空蒸着法がよく用いられる。
The thickness of the hole blocking layer 6 is usually 5 nm or more, preferably 10 nm or more, and usually 3
00 nm or less, preferably 100 nm or less. In order to uniformly form such a thin film, a vacuum deposition method is generally used.

(陰極)
陰極8は、正孔阻止層6を介して発光層5に電子を注入する役割を果たす。陰極8として用いられる材料は、前記陽極2に使用される材料を用いることが可能であるが、効率よく電子注入を行なうには、仕事関数の低い金属が好ましく、スズ、マグネシウム、インジウム、カルシウム、アルミニウム、銀等の適当な金属又はそれらの合金が用いられる。具体例としては、マグネシウム−銀合金、マグネシウム−インジウム合金、アルミニウム−リチウム合金等の低仕事関数合金電極が挙げられる。
(cathode)
The cathode 8 serves to inject electrons into the light emitting layer 5 through the hole blocking layer 6. The material used for the cathode 8 can be the material used for the anode 2, but a metal having a low work function is preferable for efficient electron injection, such as tin, magnesium, indium, calcium, A suitable metal such as aluminum or silver or an alloy thereof is used. Specific examples include low work function alloy electrodes such as magnesium-silver alloy, magnesium-indium alloy, and aluminum-lithium alloy.

陰極8の膜厚は通常、陽極2と同様である。
低仕事関数金属から成る陰極8を保護する目的で、この上に更に、仕事関数が高く大気に対して安定な金属層を積層することは素子の安定性を増す。この目的のために、アルミニウム、銀、銅、ニッケル、クロム、金、白金等の金属が使われる。
The film thickness of the cathode 8 is usually the same as that of the anode 2.
For the purpose of protecting the cathode 8 made of a low work function metal, further laminating a metal layer having a high work function and stable to the atmosphere increases the stability of the device. For this purpose, metals such as aluminum, silver, copper, nickel, chromium, gold, platinum are used.

更に、陰極8と発光層5又は後述の電子輸送層7との界面にLiF、MgF、LiO等の極薄絶縁膜(0.1〜5nm)を挿入することも、素子の効率を向上させる有効な方法である(Appl. Phys. Lett.,70巻,152頁,1997年;特開平10−74586号公報;IEEE Trans. Electron. Devices,44巻,1245頁,1997年)。 Furthermore, it is also possible to insert a very thin insulating film (0.1 to 5 nm) such as LiF, MgF 2 , Li 2 O at the interface between the cathode 8 and the light emitting layer 5 or the electron transport layer 7 to be described later. It is an effective method to improve (Appl. Phys. Lett., 70, 152, 1997; JP-A-10-74586; IEEE Trans. Electron. Devices, 44, 1245, 1997).

(電子輸送層)
素子の発光効率を更に向上させることを目的として、図2及び図3に示すように、正孔阻止層6と陰極8の間に電子輸送層7が設けられることが好ましい。電子輸送層7は、電界を与えられた電極間において陰極8から注入された電子を効率よく正孔阻止層6の方向に輸送することができる化合物より形成される。
(Electron transport layer)
For the purpose of further improving the luminous efficiency of the device, it is preferable to provide an electron transport layer 7 between the hole blocking layer 6 and the cathode 8 as shown in FIGS. The electron transport layer 7 is formed of a compound that can efficiently transport electrons injected from the cathode 8 between electrodes to which an electric field is applied in the direction of the hole blocking layer 6.

このような条件を満たす材料としては、8−ヒドロキシキノリンのアルミニウム錯体な
どの金属錯体(特開昭59−194393号公報)、10−ヒドロキシベンゾ[h]キノリンの金属錯体、オキサジアゾール誘導体、ジスチリルビフェニル誘導体、シロール誘導体、3−又は5−ヒドロキシフラボン金属錯体、ベンズオキサゾール金属錯体、ベンゾチアゾール金属錯体、トリスベンズイミダゾリルベンゼン(米国特許第 5,645,948号)、キノキサリン化合物(特開平6−207169号公報)、フェナントロリン誘導体(特開平5−331459号公報)、2−t−ブチル−9,10−N,N’−ジシアノアントラキノンジイミン、n型水素化非晶質炭化シリコン、n型硫化亜鉛、n型セレン化亜鉛などが挙げられる。
Materials satisfying such conditions include metal complexes such as aluminum complexes of 8-hydroxyquinoline (Japanese Patent Laid-Open No. 59-194393), metal complexes of 10-hydroxybenzo [h] quinoline, oxadiazole derivatives, Styryl biphenyl derivative, silole derivative, 3- or 5-hydroxyflavone metal complex, benzoxazole metal complex, benzothiazole metal complex, trisbenzimidazolylbenzene (US Pat. No. 5,645,948), quinoxaline compound No. 207169), phenanthroline derivatives (Japanese Patent Laid-Open No. 5-331459), 2-t-butyl-9,10-N, N′-dicyanoanthraquinonediimine, n-type hydrogenated amorphous silicon carbide, n-type sulfide Examples include zinc and n-type zinc selenide.

また、上述のような電子輸送材料に、アルカリ金属をドープする(特開平10−270171号公報、特願2000−285656号、特願2000−285657号などに記載)ことにより、電子輸送性が向上するため好ましい。   Further, the electron transport material is doped with an alkali metal (described in Japanese Patent Application Laid-Open No. 10-270171, Japanese Patent Application No. 2000-285656, Japanese Patent Application No. 2000-285657, etc.), thereby improving the electron transport property. Therefore, it is preferable.

このような電子輸送層7を形成する場合、正孔阻止層6の電子親和力は電子輸送層7の電子親和力と比較して同等以下であることが好ましい。   When such an electron transport layer 7 is formed, the electron affinity of the hole blocking layer 6 is preferably equal to or less than the electron affinity of the electron transport layer 7.

また、発光層5中の発光層材料、正孔阻止層6の正孔阻止材料及び電子輸送層に用いられる電子輸送材料の還元電位は、下記関係を満たすことが、発光領域を調整し、駆動電圧を下げるという観点から好ましい。
(電子輸送材料の還元電位)≧(正孔阻止材料の還元電位)≧(発光層材料の還元電位)
ここで、電子輸送材料、正孔阻止材料或いは発光層材料が、それぞれ複数用いられている場合には、最も小さい還元電位のものを比較に使用する。
In addition, the reduction potential of the light emitting layer material in the light emitting layer 5, the hole blocking material of the hole blocking layer 6 and the electron transport material used for the electron transport layer satisfies the following relationship to adjust the light emitting region and drive This is preferable from the viewpoint of lowering the voltage.
(Reduction potential of electron transport material) ≧ (Reduction potential of hole blocking material) ≧ (Reduction potential of light emitting layer material)
Here, when a plurality of electron transport materials, hole blocking materials, or light emitting layer materials are used, the one having the lowest reduction potential is used for comparison.

なお、本発明の正孔阻止材料をこの電子輸送層7に使用しても良い。その場合、本発明の正孔阻止材料のみを使用して電子輸送層7を形成しても良いし、前述した各種公知の材料と併用しても良い。   The hole blocking material of the present invention may be used for this electron transport layer 7. In that case, the electron transport layer 7 may be formed using only the hole blocking material of the present invention, or may be used in combination with the various known materials described above.

電子輸送層7に本発明の正孔阻止材料を使用した場合、前述の正孔阻止層6にも本発明の正孔阻止材料を使用しても良いし、また電子輸送層7のみに本発明の正孔阻止材料を使用し、正孔阻止層6には、それ以外の、公知の正孔阻止材料を使用しても良い。   When the hole blocking material of the present invention is used for the electron transport layer 7, the hole blocking material of the present invention may be used for the hole blocking layer 6 described above, or the present invention is applied only to the electron transport layer 7. Other known hole blocking materials may be used for the hole blocking layer 6.

電子輸送層6の膜厚は、通常5nm以上、好ましくは10nm以上であり、また通常200nm以下、好ましくは100nm以下である。   The thickness of the electron transport layer 6 is usually 5 nm or more, preferably 10 nm or more, and is usually 200 nm or less, preferably 100 nm or less.

電子輸送層7は、正孔輸送層4と同様にして塗布法或いは真空蒸着法により正孔阻止層6上に積層することにより形成されるが、通常は、真空蒸着法が用いられる。   The electron transport layer 7 is formed by laminating on the hole blocking layer 6 by a coating method or a vacuum vapor deposition method in the same manner as the hole transport layer 4, but a vacuum vapor deposition method is usually used.

(陽極バッファ層)
正孔注入の効率を更に向上させ、かつ、有機層全体の陽極2への付着力を改善させる目的で、図3に示すように、正孔輸送層4と陽極2との間に陽極バッファ層3を挿入することも行われている。陽極バッファ層3を挿入することで、初期の素子の駆動電圧が下がると同時に、素子を定電流で連続駆動した時の電圧上昇も抑制される効果がある。
(Anode buffer layer)
For the purpose of further improving the efficiency of hole injection and improving the adhesion of the entire organic layer to the anode 2, an anode buffer layer is provided between the hole transport layer 4 and the anode 2 as shown in FIG. 3 is also inserted. By inserting the anode buffer layer 3, the driving voltage of the initial element is lowered, and at the same time, an increase in voltage when the element is continuously driven with a constant current is suppressed.

陽極バッファ層3に用いられる材料に要求される条件としては、陽極2とのコンタクトがよく均一な薄膜が形成でき、熱的に安定であることが挙げられ、融点及びガラス転移温度が高く、融点としては300℃以上、ガラス転移温度としては100℃以上であることが好ましい。更に、イオン化ポテンシャルが低く陽極2からの正孔注入が容易なこと、正孔移動度が大きいことが挙げられる。   Conditions required for the material used for the anode buffer layer 3 include that the contact with the anode 2 is good, a uniform thin film can be formed, and that the material is thermally stable. The melting point and glass transition temperature are high. Is preferably 300 ° C. or higher, and the glass transition temperature is preferably 100 ° C. or higher. Furthermore, the ionization potential is low, hole injection from the anode 2 is easy, and the hole mobility is high.

この目的のために、陽極バッファ層3の材料として、これまでにポルフィリン誘導体やフタロシアニン化合物(特開昭63-295695号公報)、ヒドラゾン化合物、アルコキシ置換の芳香族ジアミン誘導体、p-(9-アントリル)-N,N'-ジ-p-トリルアニリン、ポリチエニレンビニレンやポリ-p-フェニレンビニレン、ポリアニリン(Appl.Phys.Lett.,64巻、1245頁,1994年)、ポリチオフェン(OpticalMaterials,9巻、125頁、1998年)、スターバスト型芳香族トリアミン(特開平4-308688号公報)等の有機化合物や、スパッタ・カーボン膜(Synth.Met.,91巻、73頁、1997年)や、バナジウム酸化物、ルテニウム酸化物、モリブデン酸化物等の金属酸化物(J.Phys.D,29巻、2750頁、1996年)が報告されている。   For this purpose, porphyrin derivatives, phthalocyanine compounds (JP-A 63-295695), hydrazone compounds, alkoxy-substituted aromatic diamine derivatives, p- (9-anthryl) have been used as materials for the anode buffer layer 3 so far. ) -N, N'-di-p-tolylaniline, polythienylene vinylene or poly-p-phenylene vinylene, polyaniline (Appl. Phys. Lett., 64, 1245, 1994), polythiophene (Optical Materials, 9 Vol. 125, 1998), organic compounds such as starbust aromatic triamine (JP-A-4-308688), sputtered carbon film (Synth. Met. 91, 73, 1997) Metal oxides such as vanadium oxide, ruthenium oxide, molybdenum oxide (J. Phys. D, 29, 2750, 1996) have been reported.

また、正孔注入・輸送性の低分子有機化合物と電子受容性化合物を含有する層(特開平11−251067号公報、特開2000−159221号公報等に記載)や、芳香族アミノ基等を含有する非共役系高分子化合物に、必要に応じて電子受容性化合物をドープしてなる層(特開平11−135262号公報、特開平11−283750号公報、特開2
000−36390号公報、特開2000−150168号公報、特開平2001−223084号公報、及びWO97/33193号公報など)、又はポリチオフェン等の導電性ポリマーを含む層(特開平10−92584号公報)なども挙げられるが、これらに限定されるものではない。
In addition, a layer containing a hole injection / transporting low molecular organic compound and an electron accepting compound (described in JP-A-11-251067, JP-A-2000-159221, etc.), an aromatic amino group, etc. A layer obtained by doping the contained non-conjugated polymer compound with an electron-accepting compound as necessary (JP-A-11-135262, JP-A-11-283750, JP-A-2)
No. 000-36390, JP-A 2000-150168, JP-A 2001-223084, and WO 97/33193), or a layer containing a conductive polymer such as polythiophene (JP-A 10-92584) However, it is not limited to these.

上記陽極バッファ層3の材料としては、低分子・高分子いずれの化合物を用いることも可能である。   As the material of the anode buffer layer 3, it is possible to use either low molecular or high molecular compounds.

低分子化合物のうち、よく使用されるものとしては、ポルフィン化合物又はフタロシアニン化合物が挙げられる。これらの化合物は中心金属を有していても良いし、無金属のものでも良い。これらの化合物の好ましい例としては、以下の化合物が挙げられる。
ポルフィン、
5,10,15,20-テトラフェニル-21H,23H-ポルフィン、
5,10,15,20-テトラフェニル-21H,23H-ポルフィンコバルト(II)、
5,10,15,20-テトラフェニル-21H,23H-ポルフィン銅(II)、
5,10,15,20-テトラフェニル-21H,23H-ポルフィン亜鉛(II)、
5,10,15,20-テトラフェニル-21H,23H-ポルフィンバナジウム(IV)オキシド、
5,10,15,20-テトラ(4-ピリジル)-21H,23H-ポルフィン、
29H,31H-フタロシアニン、
銅(II)フタロシアニン、
亜鉛(II)フタロシアニン、
チタンフタロシアニンオキシド、
マグネシウムフタロシアニン、
鉛フタロシアニン、
銅(II)4,4'4'',4'''-テトラアザ-29H,31H-フタロシアニン
Of the low molecular weight compounds, those often used include porphine compounds and phthalocyanine compounds. These compounds may have a central metal or may be metal-free. Preferable examples of these compounds include the following compounds.
Porphin,
5,10,15,20-tetraphenyl-21H, 23H-porphine,
5,10,15,20-tetraphenyl-21H, 23H-porphine cobalt (II),
5,10,15,20-tetraphenyl-21H, 23H-porphine copper (II),
5,10,15,20-tetraphenyl-21H, 23H-porphine zinc (II),
5,10,15,20-tetraphenyl-21H, 23H-porphine vanadium (IV) oxide,
5,10,15,20-tetra (4-pyridyl) -21H, 23H-porphine,
29H, 31H-phthalocyanine,
Copper (II) phthalocyanine,
Zinc (II) phthalocyanine,
Titanium phthalocyanine oxide,
Magnesium phthalocyanine,
Lead phthalocyanine,
Copper (II) 4,4'4 '', 4 '''-tetraaza-29H, 31H-phthalocyanine

陽極バッファ層3も、正孔輸送層4と同様にして薄膜形成可能であるが、無機物の場合には、更に、スパッタ法や電子ビーム蒸着法、プラズマCVD法が用いられる。   The anode buffer layer 3 can also be formed as a thin film in the same manner as the hole transport layer 4, but in the case of an inorganic material, a sputtering method, an electron beam evaporation method, or a plasma CVD method is further used.

以上の様にして形成される陽極バッファ層3の膜厚は、低分子化合物を用いて形成される場合、下限は通常3nm、好ましくは10nm程度であり、上限は通常100nm、好ましくは50nm程度である。   When the anode buffer layer 3 formed as described above is formed using a low molecular weight compound, the lower limit is usually 3 nm, preferably about 10 nm, and the upper limit is usually 100 nm, preferably about 50 nm. is there.

陽極バッファ層3の材料として、高分子化合物を用いる場合は、例えば、前記高分子化合物や電子受容性化合物、更に必要により正孔のトラップとならない、バインダー樹脂やレベリング剤等の塗布性改良剤などの添加剤を添加し溶解した塗布溶液を調製し、スプレー法、印刷法、スピンコート法、ディップコート法、ダイコート法などの通常のコーティング法や、インクジェット法等により陽極2上に塗布し、乾燥することにより陽極バッファ層3を薄膜形成することができる。バインダー樹脂としては、ポリカーボネート、ポリアリレート、ポリエステル等が挙げられる。バインダー樹脂は該層中の含有量が多いと正孔移動度を低下させる虞があるので、少ない方が望ましく、陽極バッファ層3中の含有量で50重量%以下が好ましい。   When a polymer compound is used as the material of the anode buffer layer 3, for example, the polymer compound or the electron-accepting compound, and if necessary, a coating resin such as a binder resin or a leveling agent that does not trap holes if necessary. A coating solution in which the above additives are added and dissolved is prepared, applied to the anode 2 by a normal coating method such as a spray method, a printing method, a spin coating method, a dip coating method, a die coating method, or an ink jet method, and then dried. By doing so, the anode buffer layer 3 can be formed into a thin film. Examples of the binder resin include polycarbonate, polyarylate, and polyester. If the binder resin is high in the layer, the hole mobility may be lowered. Therefore, it is desirable that the binder resin is low, and the content in the anode buffer layer 3 is preferably 50% by weight or less.

また、フィルム、支持基板、ロール等の媒体に、前述の薄膜形成方法によって予め薄膜を形成しておき、媒体上の薄膜を、陽極2上に熱転写又は圧力転写することにより、薄膜形成することもできる。   Alternatively, a thin film may be formed in advance on a medium such as a film, a support substrate, or a roll by the above-described thin film forming method, and the thin film on the medium is thermally or pressure transferred onto the anode 2. it can.

以上のようにして、高分子化合物を用いて形成される陽極バッファ層3の膜厚の下限は通常5nm、好ましくは10nm程度であり、上限は通常1000nm、好ましくは500nm程度である。   As described above, the lower limit of the film thickness of the anode buffer layer 3 formed using the polymer compound is usually 5 nm, preferably about 10 nm, and the upper limit is usually about 1000 nm, preferably about 500 nm.

(層構成)
本発明の有機電界発光素子は、図1とは逆の構造、即ち、基板1上に陰極8、正孔阻止層6、発光層5、正孔輸送層4、陽極2の順に積層することも可能であり、既述したように少なくとも一方が透明性の高い2枚の基板の間に本発明の有機電界発光素子を設けることも可能である。同様に、図2又は図3に示した前記各層構成とは逆の順に積層することも可能である。また、図1〜3のいずれの層構成においても、本発明の趣旨を逸脱しない範囲で、上述以外の任意の層を有していてもよく、また上記複数の層の機能を併有する層を設けることにより、層構成を簡略化する等、適宜変形を加えることが可能である。
(Layer structure)
The organic electroluminescent device of the present invention has a structure opposite to that shown in FIG. 1, that is, a cathode 8, a hole blocking layer 6, a light emitting layer 5, a hole transport layer 4, and an anode 2 are laminated on the substrate 1 in this order. As described above, the organic electroluminescent element of the present invention can be provided between two substrates, at least one of which is highly transparent. Similarly, the layers can be stacked in the reverse order to the above-described layer configuration shown in FIG. Moreover, in any layer structure of FIGS. 1-3, in the range which does not deviate from the meaning of this invention, it may have arbitrary layers other than the above-mentioned, and the layer which has the function of several said layers together By providing, it is possible to appropriately modify the layer structure, for example.

或いはまた、トップエミッション構造や陰極・陽極共に透明電極を用いて透過型とすること、更には、図1に示す層構成を複数段重ねた構造(発光ユニットを複数積層させた構造)とすることも可能である。その際には段間(発光ユニット間)の界面層(陽極がITO、陰極がAlの場合はその2層)の代わりに、例えばV等を電荷発生層(CGL)として用いると段間の障壁が少なくなり、発光効率・駆動電圧の観点からより好ましい。 Alternatively, a top emission structure or a transmission type using a transparent electrode for both the cathode and anode, and a structure in which the layer configuration shown in FIG. 1 is stacked in multiple layers (a structure in which a plurality of light emitting units are stacked) is used. Is also possible. In that case, instead of the interfacial layer (between the light emitting units) (when the anode is ITO and the cathode is Al, the two layers), for example, V 2 O 5 is used as the charge generation layer (CGL). This is more preferable from the viewpoint of luminous efficiency and driving voltage.

本発明は、有機電界発光素子が、単一の素子、アレイ状に配置された構造からなる素子、陽極と陰極がX−Yマトリックス状に配置された構造のいずれにおいても適用することができる。   The present invention can be applied to any of an organic electroluminescent element having a single element, an element having a structure arranged in an array, and a structure having an anode and a cathode arranged in an XY matrix.

次に、本発明を実施例によって更に具体的に説明するが、本発明はその要旨を超えない限り、以下の実施例の記載に限定されるものではない。   EXAMPLES Next, although an Example demonstrates this invention further more concretely, this invention is not limited to description of a following example, unless the summary is exceeded.

<実施例1>
正孔阻止材料として、以下の化合物1を1×10−3mol/l、支持電解質として過塩素酸テトラブチルアンモニウム0.1mol/lをアセトニトリルに完全に溶解した。
<Example 1>
As a hole blocking material, 1 × 10 −3 mol / l of the following compound 1 and 0.1 mol / l of tetrabutylammonium perchlorate as a supporting electrolyte were completely dissolved in acetonitrile.

Figure 0005109236
Figure 0005109236

サイクリックボルタンメトリーは、作用電極としてBAS製GCE、対電極としてPt線、参照電極としてAg線を用いて測定した。この測定時の掃引速度は100mV/sec、走査電位領域は−2.0V〜1.4Vであった。第一還元電位は、内部標準にフェロセン/フェロセニウム(Fc/Fc)を用い、+0.41V vs.SCEとして電位を換算した。第一酸化電位は化合物1を1×10−3mol/l、支持電解質として過塩素酸テトラブチルアンモニウム0.1mol/lをジクロロメタンに完全に溶解し、前述の第一還元電位と同様に測定し、換算した。得られた電位を飽和甘コウ電極(SCE)を基準電極として換算して求めた化合物1の酸化還元電位、第一還元波のIpa/Ipcの値を表1に示す。 Cyclic voltammetry was measured using BAS GCE as the working electrode, Pt line as the counter electrode, and Ag line as the reference electrode. The sweep rate during this measurement was 100 mV / sec, and the scanning potential region was −2.0 V to 1.4 V. The first reduction potential was determined by using ferrocene / ferrocenium (Fc / Fc + ) as an internal standard and +0.41 V vs. The potential was converted as SCE. The first oxidation potential was measured in the same manner as the above-mentioned first reduction potential by completely dissolving Compound 1 in 1 × 10 −3 mol / l and tetrabutylammonium perchlorate 0.1 mol / l in dichloromethane as the supporting electrolyte. Converted. Table 1 shows the oxidation-reduction potential of Compound 1 and the value of Ipa / Ipc of the first reduction wave, which were obtained by converting the obtained potential using a saturated sweet potato electrode (SCE) as a reference electrode.

(素子の作製)
上記化合物1を用いて、図3に示す構造を有する有機電界発光素子を以下の方法で作製した。
(Production of element)
Using the compound 1, an organic electroluminescent device having the structure shown in FIG. 3 was produced by the following method.

ガラス基板1の上にインジウム・スズ酸化物(ITO)透明導電膜を150nm堆積したもの(スパッター成膜品;シート抵抗15Ω)を通常のフォトリソグラフィ技術と塩酸エッチングを用いて2mm幅のストライプにパターニングして陽極2を形成した。パターン形成したITO基板を、アセトンによる超音波洗浄、純水による水洗、イソプロピルアルコールによる超音波洗浄の順で洗浄後、窒素ブローで乾燥させ、最後に紫外線オゾン洗浄を行った。   An indium tin oxide (ITO) transparent conductive film deposited on a glass substrate 1 having a thickness of 150 nm (sputtered film; sheet resistance 15 Ω) is patterned into a 2 mm wide stripe using normal photolithography and hydrochloric acid etching. Thus, an anode 2 was formed. The patterned ITO substrate was cleaned in the order of ultrasonic cleaning with acetone, water with pure water, and ultrasonic cleaning with isopropyl alcohol, then dried with nitrogen blow, and finally subjected to ultraviolet ozone cleaning.

陽極バッファ層3の材料として、以下に示す構造式の芳香族アミノ基を有する非共役系高分子化合物(PB−1)(重量平均分子量:29400,数平均分子量:12600)を以下に示す電子受容性化合物(A−1)と共に以下の条件でスピンコートした。   As a material for the anode buffer layer 3, a non-conjugated polymer compound (PB-1) having an aromatic amino group represented by the following structural formula (weight average molecular weight: 29400, number average molecular weight: 12600) is shown below. Spin coating was carried out under the following conditions together with the active compound (A-1).

Figure 0005109236
Figure 0005109236

Figure 0005109236
Figure 0005109236

溶媒:安息香酸エチル
塗布液濃度:2[wt%]
PB−1:A−1=10:1(モル比)
スピナ回転数:1500[rpm]
スピナ回転時間:30[秒]
乾燥条件:100℃,1時間
Solvent: Ethyl benzoate Coating solution concentration: 2 [wt%]
PB-1: A-1 = 10: 1 (molar ratio)
Spinner speed: 1500 [rpm]
Spinner rotation time: 30 [seconds]
Drying conditions: 100 ° C, 1 hour

上記のスピンコートにより膜厚30nmの均一な薄膜よりなる陽極バッファ層3が形成された。   An anode buffer layer 3 made of a uniform thin film having a thickness of 30 nm was formed by the above spin coating.

次に陽極バッファ層3を成膜した基板を真空蒸着装置内に設置した。上記装置の粗排気を油回転ポンプにより行った後、装置内の真空度が1.1×10−6Torr(約1.5×10−4Pa)以下になるまで油拡散ポンプを用いて排気した。上記装置内に配置されたセラミックルツボに入れた、下記に示すアリールアミン化合物(H−1)をルツボの周囲のタンタル線ヒーターで加熱して蒸着を行った。この時のルツボの温度は、318〜334℃の範囲で制御した。蒸着時の真空度1.1×10−6Torr(約1.4×10−4Pa)、蒸着速度は0.15nm/秒で膜厚60nmの正孔輸送層4を得た。 Next, the substrate on which the anode buffer layer 3 was formed was placed in a vacuum deposition apparatus. After performing rough exhaust of the above apparatus with an oil rotary pump, exhaust using an oil diffusion pump until the degree of vacuum in the apparatus becomes 1.1 × 10 −6 Torr (about 1.5 × 10 −4 Pa) or less. did. The following arylamine compound (H-1) placed in a ceramic crucible arranged in the above apparatus was heated by a tantalum wire heater around the crucible to perform vapor deposition. At this time, the temperature of the crucible was controlled in the range of 318 to 334 ° C. The degree of vacuum at the time of vapor deposition was 1.1 × 10 −6 Torr (about 1.4 × 10 −4 Pa), the vapor deposition rate was 0.15 nm / second, and a hole transport layer 4 having a film thickness of 60 nm was obtained.

Figure 0005109236
Figure 0005109236

引続き、発光層5のホスト材料として下記に示すカルバゾール誘導体(E−1)(励起三重項準位2.6eV)を、発光物質(ドーパント材料)として有機イリジウム錯体(D−1)(還元電位−1.88V,酸化電位1.29V,励起三重項準位2.6eV)を別々のセラミックルツボに設置し、2元同時蒸着法により成膜を行った。   Subsequently, the carbazole derivative (E-1) (excited triplet level 2.6 eV) shown below as the host material of the light-emitting layer 5 is used, and the organic iridium complex (D-1) (reduction potential − (1.88 V, oxidation potential 1.29 V, excited triplet level 2.6 eV) were placed in separate ceramic crucibles, and film formation was performed by binary co-evaporation.

Figure 0005109236
Figure 0005109236

Figure 0005109236
Figure 0005109236

化合物(E−1)のルツボ温度は200〜205℃、蒸着速度は0.11nm/秒に、化合物(D−1)のルツボ温度は306〜309℃にそれぞれ制御し、膜厚30nmで化合物(D−1)が6重量%含有された発光層5を正孔輸送層4の上に積層した。蒸着時の真空度は1.0×10−6Torr(約1.3×10−4Pa)であった。 The crucible temperature of the compound (E-1) is 200 to 205 ° C., the vapor deposition rate is controlled to 0.11 nm / second, the crucible temperature of the compound (D-1) is controlled to 306 to 309 ° C., and the compound ( The light emitting layer 5 containing 6 wt% of D-1) was laminated on the hole transport layer 4. The degree of vacuum at the time of vapor deposition was 1.0 × 10 −6 Torr (about 1.3 × 10 −4 Pa).

更に、正孔阻止層6として、前述の化合物1をルツボ温度を190〜196℃として、蒸着速度0.13nm/秒で10nmの膜厚で積層した。蒸着時の真空度は0.7×10−6Torr(約0.9×10−4Pa)であった。 Further, as the hole blocking layer 6, the above-described compound 1 was laminated at a crucible temperature of 190 to 196 ° C. and a film thickness of 10 nm at a deposition rate of 0.13 nm / second. The degree of vacuum during vapor deposition was 0.7 × 10 −6 Torr (about 0.9 × 10 −4 Pa).

このようにして形成した正孔阻止層6の上に、電子輸送層7として下記に示すアルミニウムの8−ヒドロキシキノリン錯体(ET−1)(還元電位−1.87V)を同様にして蒸着した。この時のアルミニウムの8−ヒドロキシキノリン錯体のルツボ温度は250〜262℃の範囲で制御し、蒸着時の真空度は0.7×10−6Torr(約0.9×10−4Pa)、蒸着速度は0.21nm/秒で膜厚は35nmとした。 On the hole blocking layer 6 thus formed, an aluminum 8-hydroxyquinoline complex (ET-1) (reduction potential—1.87 V) shown below was deposited as the electron transport layer 7 in the same manner. At this time, the crucible temperature of the aluminum 8-hydroxyquinoline complex is controlled in the range of 250 to 262 ° C., and the degree of vacuum during the deposition is 0.7 × 10 −6 Torr (about 0.9 × 10 −4 Pa), The deposition rate was 0.21 nm / second and the film thickness was 35 nm.

Figure 0005109236
Figure 0005109236

ここで、電子輸送層6までの蒸着を行った素子を一度前記真空蒸着装置内より大気中に取り出して、陰極蒸着用のマスクとして、2mm幅のストライプ状シャドーマスクを、陽極2のITOストライプとは直交するように素子に密着させて、別の真空蒸着装置内に設置して有機層と同様にして装置内の真空度が2.7×10−6Torr(約2.0×10−4Pa)以下になるまで排気した。陰極8として、先ず、フッ化リチウム(LiF)をモリブデンボートを用いて、蒸着速度0.01nm/秒、真空度3.0×10−6Torr(約4.0×10−4Pa)で、0.5nmの膜厚で電子輸送層7の上に成膜した。次に、アルミニウムを同様にモリブデンボートにより加熱して、蒸着速度0.48nm/秒、真空度8.5×10−6Torr(約1.1×10−3Pa)で膜厚80nmのアルミニウム層を形成して陰極8を完成させた。以上の2層型陰極8の蒸着時の基板温度は室温に保持した。 Here, the element that has been vapor-deposited up to the electron transport layer 6 is once taken out from the vacuum vapor deposition apparatus to the atmosphere, and a 2 mm wide stripe-shaped shadow mask is used as the cathode stripe mask as a cathode vapor deposition mask. Are in close contact with the element so as to be orthogonal to each other, and are installed in another vacuum deposition apparatus, and the degree of vacuum in the apparatus is 2.7 × 10 −6 Torr (about 2.0 × 10 −4) in the same manner as the organic layer. Pa) was exhausted to below. As the cathode 8, first, lithium fluoride (LiF) was deposited at a deposition rate of 0.01 nm / second and a degree of vacuum of 3.0 × 10 −6 Torr (about 4.0 × 10 −4 Pa) using a molybdenum boat. A film having a thickness of 0.5 nm was formed on the electron transport layer 7. Next, aluminum was similarly heated by a molybdenum boat, and an aluminum layer having a film thickness of 80 nm at a deposition rate of 0.48 nm / second and a degree of vacuum of 8.5 × 10 −6 Torr (about 1.1 × 10 −3 Pa). Thus, the cathode 8 was completed. The substrate temperature at the time of vapor deposition of the above two-layer cathode 8 was kept at room temperature.

以上の様にして、2mm×2mmのサイズの発光面積部分を有する有機電界発光素子が得られた。この素子の発光スペクトルの極大波長は471nmであり、有機イリジウム錯体(D−1)からのものと同定された。色度はCIE(X,Y)=(0.15,0.35)であった。   As described above, an organic electroluminescent element having a light emitting area portion having a size of 2 mm × 2 mm was obtained. The maximum wavelength of the emission spectrum of this device was 471 nm, which was identified as that from the organic iridium complex (D-1). The chromaticity was CIE (X, Y) = (0.15, 0.35).

また、駆動寿命として、室温で、通電開始時の発光輝度が200cd/mとなる一定電流値で直流定電流連続通電し、発光輝度が100cd/mとなったときの通電時間を調べ、結果を表1に示した。 Further, as the driving life, at room temperature, a constant DC current is continuously energized with a constant current emission luminance at the start of energization is 200 cd / m 2, examine the current time when the light emission luminance becomes 100 cd / m 2, The results are shown in Table 1.

<実施例2>
正孔阻止材料として以下の化合物2を、1×10−3mol/l、支持電解質として過塩素酸テトラブチルアンモニウム0.1mol/lをアセトニトリルとテトラヒドロフラン混合溶媒(混合比1:1)に完全に溶解した。
<Example 2>
The following compound 2 as a hole blocking material is 1 × 10 −3 mol / l and tetrabutylammonium perchlorate 0.1 mol / l as a supporting electrolyte completely in a mixed solvent of acetonitrile and tetrahydrofuran (mixing ratio 1: 1). Dissolved.

Figure 0005109236
Figure 0005109236

サイクリックボルタンメトリーは、実施例1と同様に測定し、掃引速度は10V/sec、測定時の走査電位領域は−2.3V〜0.6Vである。酸化還元電位は掃引速度100mV/secで、実施例1と同様に測定した。この化合物2の酸化還元電位、第一還元波のIpa/Ipcの値を表1に示す。   Cyclic voltammetry is measured in the same manner as in Example 1, the sweep speed is 10 V / sec, and the scanning potential region during measurement is -2.3 V to 0.6 V. The oxidation-reduction potential was measured in the same manner as in Example 1 at a sweep rate of 100 mV / sec. Table 1 shows the redox potential of Compound 2 and the Ipa / Ipc value of the first reduction wave.

(素子の作成)
実施例1において、化合物1の代わりに化合物2を用い、発光層5の発光物質(ドーパント材料)として有機イリジウム錯体(D−1)の代わりに下記に示す有機イリジウム錯体(D−2)(還元電位−2.30V,酸化電位0.72V,励起三重項準位2.3eV)を用いた他は、実施例1と同様にして、2mm×2mmのサイズの発光面積部分を有する有機電界発光素子を得た。
(Element creation)
In Example 1, the compound 2 was used instead of the compound 1, and the organic iridium complex (D-2) (reduction) shown below instead of the organic iridium complex (D-1) as the light-emitting substance (dopant material) of the light-emitting layer 5 An organic electroluminescence device having a light emitting area portion of 2 mm × 2 mm in the same manner as in Example 1 except that a potential of −2.30 V, an oxidation potential of 0.72 V, and an excited triplet level of 2.3 eV were used. Got.

Figure 0005109236
Figure 0005109236

この素子の発光スペクトルの極大波長は510nmであり、有機イリジウム錯体(D−2)からのものと同定された。色度はCIE(x,y)=(0.28,0.62)であった。   The maximum wavelength of the emission spectrum of this device was 510 nm, which was identified as that from the organic iridium complex (D-2). The chromaticity was CIE (x, y) = (0.28, 0.62).

また、駆動寿命として、室温で、通電開始時の発光輝度が2000cd/mとなる一定電流値で直流定電流連続通電し、発光輝度が1000cd/mとなったときの通電時間を調べ、結果を表1に示した。 In addition, as a driving life, a constant current with a constant current at which light emission luminance at the start of energization is 2000 cd / m 2 at room temperature and a constant current at a constant current value are investigated, and an energization time when the light emission luminance becomes 1000 cd / m 2 is investigated. The results are shown in Table 1.

<実施例3>
正孔阻止材料として以下の化合物3を、1×10−3mol/l、支持電解質として過塩素酸テトラブチルアンモニウム0.1mol/lをジメチルホルムアミドに完全に溶解した。
<Example 3>
1 × 10 −3 mol / l of the following compound 3 as a hole blocking material and 0.1 mol / l of tetrabutylammonium perchlorate as a supporting electrolyte were completely dissolved in dimethylformamide.

Figure 0005109236
Figure 0005109236

サイクリックボルタンメトリーは、実施例1と同様に測定し、掃引速度は100mV/sec、測定時の走査電位領域は−2.0V〜1.0Vである。酸化還元電位は掃引速度100mV/secで、実施例1と同様に測定した。この化合物3の酸化還元電位、第一還元波のIpa/Ipcの値を表1に示す。   Cyclic voltammetry is measured in the same manner as in Example 1, the sweep speed is 100 mV / sec, and the scanning potential region at the time of measurement is −2.0 V to 1.0 V. The oxidation-reduction potential was measured in the same manner as in Example 1 at a sweep rate of 100 mV / sec. Table 1 shows the redox potential of Compound 3 and the value of Ipa / Ipc of the first reduction wave.

(素子の作成)
実施例2において、化合物2の代わりに化合物3を用いた以外は、実施例2と同様にして、2mm×2mmのサイズの発光面積部分を有する有機電界発光素子を得た。
(Element creation)
In Example 2, an organic electroluminescence device having a light emitting area portion of 2 mm × 2 mm in size was obtained in the same manner as in Example 2 except that Compound 3 was used instead of Compound 2.

この素子の発光スペクトルの極大波長は510nmであり、有機イリジウム錯体(D−2)からのものと同定された。色度はCIE(x,y)=(0.28,0.62)であった。   The maximum wavelength of the emission spectrum of this device was 510 nm, which was identified as that from the organic iridium complex (D-2). The chromaticity was CIE (x, y) = (0.28, 0.62).

また、実施例2と同様にして求めた駆動寿命は表1に示す通りであった。   The drive life obtained in the same manner as in Example 2 was as shown in Table 1.

<実施例4>
正孔阻止材料として以下の化合物4を、1×10−3mol/l、支持電解質として過塩素酸テトラブチルアンモニウム0.1mol/lをジメチルホルムアミドに完全に溶解した。
<Example 4>
1 × 10 −3 mol / l of the following compound 4 as a hole blocking material and 0.1 mol / l of tetrabutylammonium perchlorate as a supporting electrolyte were completely dissolved in dimethylformamide.

Figure 0005109236
Figure 0005109236

サイクリックボルタンメトリーは、実施例1と同様に測定し、掃引速度は100mV/sec、測定時の走査電位領域は−2.0V〜1.0Vである。酸化還元電位は掃引速度100mV/secで、実施例1と同様に測定した。この化合物4の酸化還元電位、第一還元波のIpa/Ipcの値を表1に示す。   Cyclic voltammetry is measured in the same manner as in Example 1, the sweep speed is 100 mV / sec, and the scanning potential region at the time of measurement is −2.0 V to 1.0 V. The oxidation-reduction potential was measured in the same manner as in Example 1 at a sweep rate of 100 mV / sec. Table 1 shows the oxidation-reduction potential of this compound 4 and the value of Ipa / Ipc of the first reduction wave.

(素子の作成)
実施例2において、化合物2の代わりに化合物4を用いた以外は、実施例2と同様にして、2mm×2mmのサイズの発光面積部分を有する有機電界発光素子を得た。
(Element creation)
In Example 2, an organic electroluminescence device having a light emitting area portion having a size of 2 mm × 2 mm was obtained in the same manner as in Example 2 except that Compound 4 was used instead of Compound 2.

この素子の発光スペクトルの極大波長は512nmであり、有機イリジウム錯体(D−2)からのものと同定された。色度はCIE(x,y)=(0.29,0.61)であった。   The maximum wavelength of the emission spectrum of this device was 512 nm, which was identified as that from the organic iridium complex (D-2). The chromaticity was CIE (x, y) = (0.29, 0.61).

また、実施例2と同様にして求めた駆動寿命は表1に示す通りであった。   The drive life obtained in the same manner as in Example 2 was as shown in Table 1.

<比較例1>
下記の化合物(HB−1)を1×10−3mol/l、支持電解質として過塩素酸テトラブチルアンモニウム0.1mol/lをアセトニトリルに完全に溶解した。
<Comparative Example 1>
1 × 10 −3 mol / l of the following compound (HB-1) and 0.1 mol / l of tetrabutylammonium perchlorate as a supporting electrolyte were completely dissolved in acetonitrile.

Figure 0005109236
Figure 0005109236

サイクリックボルタンメトリーは、実施例1と同様に測定し、掃引速度は100mV/sec、測定時の走査電位領域は−1.8V〜1.6Vである。酸化還元電位は掃引速度100mV/secで、実施例1と同様に測定した。この化合物(HB−1)の酸化還元電位、第一還元波のIpa/Ipcの値を表1に示す。   Cyclic voltammetry is measured in the same manner as in Example 1, the sweep speed is 100 mV / sec, and the scanning potential region at the time of measurement is −1.8 V to 1.6 V. The oxidation-reduction potential was measured in the same manner as in Example 1 at a sweep rate of 100 mV / sec. Table 1 shows the oxidation-reduction potential of this compound (HB-1) and the value of Ipa / Ipc of the first reduction wave.

(素子の作成)
実施例1において、化合物1の代わりにHB−1を用いた他は、実施例1と同様にして、2mm×2mmのサイズの発光面積部分を有する有機電界発光素子を得た。
(Element creation)
In Example 1, except that HB-1 was used in place of Compound 1, an organic electroluminescent device having a light emitting area portion having a size of 2 mm × 2 mm was obtained in the same manner as Example 1.

この素子の発光スペクトルの極大波長は471nmであり、有機イリジウム錯体(D−1)からのものと同定された。色度はCIE(x,y)=(0.16,0.33)であった。   The maximum wavelength of the emission spectrum of this device was 471 nm, which was identified as that from the organic iridium complex (D-1). The chromaticity was CIE (x, y) = (0.16, 0.33).

また、実施例1と同様にして求めた駆動寿命は表1に示す通りであった。   Further, the drive life obtained in the same manner as in Example 1 was as shown in Table 1.

<比較例2>
下記の化合物(HB−2)を1×10−3mol/l、支持電解質として過塩素酸テトラブチルアンモニウム0.1mol/lをアセトニトリルとテトラヒドロフラン混合溶媒(混合比1:1)に完全に溶解した。
<Comparative example 2>
1 × 10 −3 mol / l of the following compound (HB-2) and 0.1 mol / l of tetrabutylammonium perchlorate as a supporting electrolyte were completely dissolved in a mixed solvent of acetonitrile and tetrahydrofuran (mixing ratio 1: 1). .

Figure 0005109236
Figure 0005109236

サイクリックボルタンメトリーは、実施例1と同様にして測定し、掃引速度は10V/sec、測定時の走査電位領域は−2.3V〜1.35Vである。酸化還元電位は掃引速度100mV/secで、実施例1と同様に測定した。この化合物(HB−2)の酸化還元電位、第一還元波のIpa/Ipcの値を表1に示す。   Cyclic voltammetry is measured in the same manner as in Example 1, the sweep speed is 10 V / sec, and the scanning potential region during measurement is -2.3 V to 1.35 V. The oxidation-reduction potential was measured in the same manner as in Example 1 at a sweep rate of 100 mV / sec. Table 1 shows the oxidation-reduction potential of this compound (HB-2) and the value of Ipa / Ipc of the first reduction wave.

(素子の作成)
実施例2において、化合物2の代わりに化合物(HB−2)を用いたこと以外は、実施例2と同様にして、2mm×2mmのサイズの発光面積部分を有する有機電界発光素子を得た。この素子の発光スペクトルの極大波長は512nmであり、有機イリジウム錯体(D−2)からのものと同定された。色度はCIE(x,y)=(0.30,0.62)であった。
(Element creation)
In Example 2, an organic electroluminescence device having a light emitting area portion of 2 mm × 2 mm in size was obtained in the same manner as in Example 2 except that the compound (HB-2) was used instead of the compound 2. The maximum wavelength of the emission spectrum of this device was 512 nm, which was identified as that from the organic iridium complex (D-2). The chromaticity was CIE (x, y) = (0.30, 0.62).

また、実施例2と同様にして求めた駆動寿命は表1に示す通りであった。   The drive life obtained in the same manner as in Example 2 was as shown in Table 1.

Figure 0005109236
Figure 0005109236

表1より、Ipa/Ipcの値が0.1以上の正孔阻止材料を用いることにより、駆動寿命の長い有機電界発光素子が得られることが分かる。   From Table 1, it can be seen that an organic electroluminescence device having a long driving life can be obtained by using a hole blocking material having an Ipa / Ipc value of 0.1 or more.

本発明の有機電界発光素子の一例を示した模式的断面図である。It is typical sectional drawing which showed an example of the organic electroluminescent element of this invention. 本発明の有機電界発光素子の別の例を示した模式的断面図である。It is typical sectional drawing which showed another example of the organic electroluminescent element of this invention. 本発明の有機電界発光素子の別の例を示した模式的断面図である。It is typical sectional drawing which showed another example of the organic electroluminescent element of this invention.

符号の説明Explanation of symbols

1 基板
2 陽極
3 陽極バッファ層
4 正孔輸送層
5 発光層
6 正孔阻止層
7 電子輸送層
8 陰極
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Substrate 2 Anode 3 Anode buffer layer 4 Hole transport layer 5 Light emitting layer 6 Hole blocking layer 7 Electron transport layer 8 Cathode

Claims (7)

下記一般式(I)で示される化合物であって、分子量が400以上であることを特徴とする正孔阻止材料。
Figure 0005109236
(一般式(I)中、R〜Rは、各々独立に、置換基を有していてもよい芳香族炭化水素基を表す。mは、であり、Qは、置換基を有していてもよい2価の芳香族炭化水素基であり、ピリジン環の2〜6位のいずれか1つと直接結合する。但し、Qがピリジン環の2,4,6位のいずれかに結合する場合は、その結合位置にあるR〜RのいずれかがQとなる。又、複数個含まれるR〜Rは、それぞれ同一であつても異なっていてもよく、ピリジン環がQと結合する位置は、それぞれ同一の位置であつても異なった位置であってもよい。)
A hole blocking material, which is a compound represented by the following general formula (I) and has a molecular weight of 400 or more.
Figure 0005109236
(In General Formula (I), R 1 to R 3 each independently represents an optionally substituted aromatic hydrocarbon group . M is 2 , and Q 1 represents a substituent. A divalent aromatic hydrocarbon group which may be present and directly bonded to any one of positions 2 to 6 of the pyridine ring, provided that Q 1 is any of positions 2, 4 and 6 of the pyridine ring; If attached, either R 1 to R 3 is Q 1 in its coupled position in. Further, R 1 to R 3 which contained several double may be different even shall apply the same respectively The position at which the pyridine ring is bonded to Q 1 may be the same position or different positions.)
前記一般式(I)において、R〜Rが、置換基を有していてもよいフェニル基である請求項1に記載の正孔阻止材料。 2. The hole blocking material according to claim 1, wherein in the general formula (I), R 1 to R 3 are a phenyl group which may have a substituent. 前記一般式(I)において、Qが、置換基を有していてもよいフェニレン基である請求項1又は2に記載の正孔阻止材料。 The hole blocking material according to claim 1 or 2 , wherein in the general formula (I), Q 1 is a phenylene group which may have a substituent. 基板上に、陽極及び陰極に挟持された発光層を有し、該発光層の陰極側界面に接して正孔阻止層が設けられている有機電界発光素子において、該正孔阻止層が、請求項1乃至のいずれかに記載の正孔阻止材料を含有することを特徴とする有機電界発光素子。 In an organic electroluminescent device having a light-emitting layer sandwiched between an anode and a cathode on a substrate and provided with a hole-blocking layer in contact with the cathode-side interface of the light-emitting layer, the hole-blocking layer is claimed. Item 4. An organic electroluminescence device comprising the hole blocking material according to any one of Items 1 to 3 . 前記正孔阻止材料の、サイクリックボルタンメトリー測定において得られる第一酸化電位が、前記発光層に用いられる発光物質の第一酸化電位よりも大きい請求項に記載の有機電界発光素子。 The organic electroluminescent element according to claim 4 , wherein a first oxidation potential obtained by cyclic voltammetry measurement of the hole blocking material is larger than a first oxidation potential of a light emitting substance used for the light emitting layer. 前記正孔阻止層と陰極との間に、電子輸送層が設けられている請求項又はに記載の有機電界発光素子。 Wherein between the hole blocking layer and the cathode, the organic electroluminescent device according to claim 4 or 5 electron-transporting layer is provided. 前記発光層に用いられる発光層材料、前記正孔阻止材料及び前記電子輸送層に用いられる電子輸送材料の還元電位が、以下の関係を満たす請求項に記載の有機電界発光素子。
(電子輸送材料の還元電位)≧(正孔阻止材料の還元電位)≧(発光層材料の還元電位)
The organic electroluminescent element according to claim 6 , wherein the reduction potentials of the light emitting layer material used for the light emitting layer, the hole blocking material, and the electron transport material used for the electron transport layer satisfy the following relationship.
(Reduction potential of electron transport material) ≧ (Reduction potential of hole blocking material) ≧ (Reduction potential of light emitting layer material)
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100881455B1 (en) * 2006-08-14 2009-02-06 주식회사 잉크테크 Organic Electroluminescent Device and preparation method thereof
KR101233377B1 (en) * 2008-12-30 2013-02-18 제일모직주식회사 Novel compound for organic photoelectricand organic photoelectric device including the same
KR101196142B1 (en) * 2009-12-30 2012-10-30 주식회사 두산 Triphenylene-based compounds and organic electroluminescent device comprising same
CN104247077B (en) * 2012-04-20 2016-11-09 株式会社半导体能源研究所 Light-emitting component, light-emitting device, electronic equipment and lighting device
KR102275732B1 (en) * 2019-02-01 2021-07-08 주식회사 엘지화학 Screening method of electron transport material and hole blocking material for use in organic light emitting device
CN112300179A (en) * 2019-07-30 2021-02-02 北京鼎材科技有限公司 Compound, organic electronic light-emitting device comprising compound and application of compound

Family Cites Families (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2673261B2 (en) * 1989-01-23 1997-11-05 旭化成工業株式会社 Organic electroluminescent device
JP3763649B2 (en) * 1997-09-17 2006-04-05 ケミプロ化成株式会社 Electron transporting laminated film or hole transporting laminated film, electrochromic device and organic electroluminescent device using the same
JP2000306676A (en) * 1999-04-21 2000-11-02 Chemiprokasei Kaisha Ltd Organic electroluminescent element
JP4741049B2 (en) * 1999-10-04 2011-08-03 ケミプロ化成株式会社 Novel heterocycle-containing arylamine compound and organic electroluminescent device using the same
JP4052010B2 (en) * 2002-05-21 2008-02-27 東レ株式会社 Light emitting device material and light emitting device using the same
JP4106974B2 (en) * 2002-06-17 2008-06-25 コニカミノルタホールディングス株式会社 Organic electroluminescence element and display device

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