JP5103184B2 - Gas barrier laminated film - Google Patents

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Description

本発明はガスバリア性に優れた積層フィルムに関する。   The present invention relates to a laminated film having excellent gas barrier properties.

従来より、プラスチックフィルムを基材とし、その表面に無機薄膜を形成したガスバリア性プラスチックフィルムは、水蒸気や酸素等の各種ガスの遮断を必要とする物品の包装、例えば、食品や工業用品及び医薬品等の変質を防止するための包装に広く利用されている。また、このガスバリア性プラスチックフィルムについては、包装用途以外にも、近年、液晶表示素子、太陽電池、電磁波シールド、タッチパネル、EL用基板、カラーフィルター等で使用する透明導電シートとしての新しい用途も注目されている。
このような無機薄膜を形成してなるガスバリア性プラスチックフィルムに関しては、種々の目的の下、いくつかの改良が検討されており、例えば、透明性やガスバリア性の点から、プラスチックフィルムに、金属酸化物層/樹脂/金属酸化物層を順次積層してなる全光線透過率が85%以上であり、酢酸エチル1分間浸漬後の酸素透過率及び水蒸気透過率の低下率が共に20%以下かつ該酸素透過率と該水蒸気透過率が共に1以下であるガスバリア性フィルム(特許文献1参照)が、また、金属酸化物の破損を防止、抑制するため、透明性プラスチックフィルムに、金属酸化物層、有機物層を、順次交互に積層したバリアフィルムであって、金属酸化物層を挟んで隣接する有機物層と透明プラスチックフィルムとの溶解度因子の差が、1.0以上であるバリアフィルム(特許文献2参照)が開示されている。
Conventionally, a gas barrier plastic film in which a plastic film is used as a base material and an inorganic thin film is formed on the surface thereof is used for packaging articles that require blocking of various gases such as water vapor and oxygen, such as food, industrial products, and pharmaceuticals. Widely used in packaging to prevent deterioration of In addition to packaging applications, the gas barrier plastic film has recently attracted attention as a new application as a transparent conductive sheet used in liquid crystal display elements, solar cells, electromagnetic wave shields, touch panels, EL substrates, color filters, and the like. ing.
With regard to the gas barrier plastic film formed with such an inorganic thin film, several improvements have been studied for various purposes. For example, from the viewpoint of transparency and gas barrier property, a metal oxide is applied to the plastic film. The total light transmittance obtained by sequentially laminating the physical layer / resin / metal oxide layer is 85% or more, and both the oxygen transmission rate and the water vapor transmission rate decrease after immersion for 1 minute in ethyl acetate are 20% or less and A gas barrier film (see Patent Document 1) in which both the oxygen permeability and the water vapor permeability are 1 or less is used to prevent or suppress damage to the metal oxide. It is a barrier film in which organic layers are sequentially laminated alternately, and the difference in solubility factor between the organic layer adjacent to the metal oxide layer and the transparent plastic film is 1.0. Barrier film is above (see Patent Document 2) are disclosed.

しかしながら、これらのフィルムにおいては、各々の目的とする性状はある程度改善されるものの、例えば、ガスバリア性や積層フィルムの構成層間の密着強度などについては未だ不十分であり、その改善が望まれていた。   However, in these films, although the intended properties of each are improved to some extent, for example, the gas barrier properties and the adhesion strength between the constituent layers of the laminated film are still insufficient, and the improvement has been desired. .

特開2003−71968号公報JP 2003-71968 A 特開2003−231202号公報JP 2003-231202 A

本発明が解決しようとする課題は、製造直後から高いガスバリア性を示し、かつ優れたガスバリア性を維持しつつ、構成層間の優れた密着強度を有する積層フィルムを提供することにある。   The problem to be solved by the present invention is to provide a laminated film having an excellent adhesion strength between constituent layers while exhibiting a high gas barrier property immediately after production and maintaining an excellent gas barrier property.

本発明は、
(1)基材フィルムの少なくとも一方の面に形成された無機薄膜上に、厚さ0.1〜10nmのアンカーコート層と該アンカーコート層上に形成された無機薄膜とからなる構成単位層を少なくとも1個有するガスバリア性積層フィルム、及び
(2)(A)基材フィルムの少なくとも一方の面に、蒸着法により無機薄膜を形成する工程、及び、(B)上記無機薄膜上に、厚さ0.1〜10nmのアンカーコート層を形成し、該アンカーコート層上に蒸着法により無機薄膜を形成する工程を少なくとも1回行なう工程、を有するガスバリア性積層フィルムの製造方法
に関する。
The present invention
(1) A structural unit layer comprising an anchor coat layer having a thickness of 0.1 to 10 nm and an inorganic thin film formed on the anchor coat layer on an inorganic thin film formed on at least one surface of the base film. A gas barrier laminate film having at least one, and (2) (A) a step of forming an inorganic thin film by vapor deposition on at least one surface of the base film, and (B) a thickness of 0 on the inorganic thin film. The present invention relates to a method for producing a gas barrier laminate film comprising: forming an anchor coat layer having a thickness of 1 to 10 nm, and performing at least one step of forming an inorganic thin film on the anchor coat layer by vapor deposition.

本発明は、製造直後から高いガスバリア性を示し、かつ優れたガスバリア性を維持しつつ、積層フィルムの構成層間の優れた密着強度を有する積層フィルムを提供する。   The present invention provides a laminated film having high gas barrier properties immediately after production and having excellent adhesion strength between the constituent layers of the laminated film while maintaining excellent gas barrier properties.

以下、本発明を詳細に説明する。
本発明のガスバリア性積層フィルムの基材フィルムとしては熱可塑性高分子フィルムが好ましく、その原料としては、通常の包装材料に使用しうる樹脂であれば特に制限なく用いることができる。具体的には、エチレン、プロピレン、ブテン等の単独重合体または共重合体などのポリオレフィン、環状ポリオレフィン等の非晶質ポリオレフィン、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレン−2,6−ナフタレート等のポリエステル、ナイロン6、ナイロン66、ナイロン12、共重合ナイロン等のポリアミド、ポリビニルアルコール、エチレン−酢酸ビニル共重合体部分加水分解物(EVOH)、ポリイミド、ポリエーテルイミド、ポリサルホン、ポリエーテルサルホン、ポリエーテルエーテルケトン、ポリカーボネート、ポリビニルブチラール、ポリアリレート、フッ素樹脂、アクリレート樹脂、生分解性樹脂などが挙げられる。これらの中では、フィルム強度、コストなどの点から、ポリエステル、ポリアミド、ポリオレフィン、生分解性樹脂が好ましい。
また、上記基材フィルムは、公知の添加剤、例えば、帯電防止剤、光線遮断剤、紫外線吸収剤、可塑剤、滑剤、フィラー、着色剤、安定剤、潤滑剤、架橋剤、ブロッキング防止剤、酸化防止剤等を含有することができる。
Hereinafter, the present invention will be described in detail.
The base film of the gas barrier laminate film of the present invention is preferably a thermoplastic polymer film, and the raw material thereof can be used without particular limitation as long as it is a resin that can be used for ordinary packaging materials. Specifically, polyolefins such as homopolymers or copolymers such as ethylene, propylene and butene, amorphous polyolefins such as cyclic polyolefin, polyesters such as polyethylene terephthalate and polyethylene-2,6-naphthalate, nylon 6, nylon 66, nylon 12, polyamide such as copolymer nylon, polyvinyl alcohol, ethylene-vinyl acetate copolymer partial hydrolyzate (EVOH), polyimide, polyetherimide, polysulfone, polyethersulfone, polyetheretherketone, polycarbonate, Examples include polyvinyl butyral, polyarylate, fluororesin, acrylate resin, and biodegradable resin. Among these, polyester, polyamide, polyolefin, and biodegradable resin are preferable from the viewpoint of film strength and cost.
The base film is a known additive such as an antistatic agent, a light blocking agent, an ultraviolet absorber, a plasticizer, a lubricant, a filler, a colorant, a stabilizer, a lubricant, a crosslinking agent, an antiblocking agent, An antioxidant etc. can be contained.

上記基材フィルムとしての熱可塑性高分子フィルムは、上記の原料を用いて成形してなるものであるが、基材として用いる際は、未延伸であってもよいし延伸したものであってもよい。また、他のプラスチック基材と積層されていてもよい。かかる基材フィルムは、従来公知の方法により製造することができ、例えば、原料樹脂を押出機により溶融し、環状ダイやTダイにより押出して、急冷することにより実質的に無定型で配向していない未延伸フィルムを製造することができる。この未延伸フィルムを一軸延伸、テンター式逐次二軸延伸、テンター式同時二軸延伸、チューブラー式同時二軸延伸などの公知の方法により、フィルムの流れ(縦軸)方向又はフィルムの流れ方向とそれに直角な(横軸)方向に延伸することにより、少なくとも一軸方向に延伸したフィルムを製造することができる。
基材フィルムの厚さは、本発明のガスバリア性積層フィルムの基材としての機械強度、可撓性、透明性等の点から、その用途に応じ、通常5〜500μm、好ましくは10〜200μmの範囲で選択され、厚さが大きいシート状のものも含む。また、フィルムの幅や長さについては特に制限はなく、適宜用途に応じて選択することができる。
The thermoplastic polymer film as the substrate film is formed by using the above raw materials, but when used as a substrate, it may be unstretched or stretched. Good. Moreover, you may laminate | stack with the other plastic base material. Such a base film can be produced by a conventionally known method. For example, a raw material resin is melted by an extruder, extruded by an annular die or a T die, and rapidly cooled to be oriented substantially amorphously. No unstretched film can be produced. The unstretched film is subjected to a known method such as uniaxial stretching, tenter sequential biaxial stretching, tenter simultaneous biaxial stretching, tubular simultaneous biaxial stretching, or the like. A film stretched in at least a uniaxial direction can be produced by stretching in a direction (horizontal axis) perpendicular thereto.
The thickness of the base film is usually 5 to 500 μm, preferably 10 to 200 μm, depending on its use from the viewpoint of mechanical strength, flexibility, transparency, etc. as the base material of the gas barrier laminate film of the present invention. A sheet-like material selected in a range and having a large thickness is also included. Moreover, there is no restriction | limiting in particular about the width | variety and length of a film, According to a use, it can select suitably.

基材フィルムの少なくとも一方の面に形成する無機薄膜を構成する無機物質としては、珪素、アルミニウム、マグネシウム、亜鉛、錫、ニッケル、チタン、炭化水素等、あるいはこれらの酸化物、炭化物、窒化物またはそれらの混合物が挙げられるが、好ましくは酸化珪素、酸化アルミニウム、炭化水素(例えば、ダイアモンドライクカーボンなどの炭化水素を主体とした物質)である。特に、酸化珪素、酸化アルミニウムは、高いガスバリア性が安定に維持できる点で好ましい。上記無機物質は、1種単独で用いてもよいが、2種以上組み合わせて用いてもよい。
無機薄膜の形成方法としては、蒸着法、コーティング法などの方法がいずれも使用できるが、ガスバリア性の高い均一な薄膜が得られるという点で蒸着法が好ましい。この蒸着法には、真空蒸着、イオンプレーティング、スパッタリングなどのPVD(物理的気相蒸着)、CVD(化学的気相蒸着)等の方法がいずれも含まれる。
無機薄膜の厚さは、一般に0.1〜500nmであるが、好ましくは0.5〜40nmである。上記範囲内であれば、十分なガスバリア性が得られ、また、無機薄膜に亀裂や剥離を発生させることなく、透明性にも優れている。
As an inorganic substance constituting the inorganic thin film formed on at least one surface of the base film, silicon, aluminum, magnesium, zinc, tin, nickel, titanium, hydrocarbon, etc., or their oxides, carbides, nitrides or A mixture thereof may be mentioned, but silicon oxide, aluminum oxide, and hydrocarbon (for example, a substance mainly composed of hydrocarbon such as diamond-like carbon) are preferable. In particular, silicon oxide and aluminum oxide are preferable in that high gas barrier properties can be stably maintained. Although the said inorganic substance may be used individually by 1 type, you may use it in combination of 2 or more type.
As a method for forming the inorganic thin film, any method such as a vapor deposition method and a coating method can be used, but the vapor deposition method is preferable in that a uniform thin film having a high gas barrier property can be obtained. This vapor deposition method includes all methods such as PVD (physical vapor deposition) and CVD (chemical vapor deposition) such as vacuum deposition, ion plating, and sputtering.
The thickness of the inorganic thin film is generally 0.1 to 500 nm, but preferably 0.5 to 40 nm. If it is in the said range, sufficient gas-barrier property will be acquired, and it will be excellent also in transparency, without generating a crack and peeling in an inorganic thin film.

本発明のガスバリア性積層フィルムは、無機薄膜上に、厚さ0.1〜10nmのアンカーコート層と該アンカーコート層上に形成された無機薄膜とからなる構成単位層を少なくとも1層有する。
上記構成単位層を構成するアンカーコート層としては、熱硬化性樹脂、熱可塑性樹脂などの樹脂、金属、金属酸化物及び金属窒化物から選ばれる少なくとも一種からなる層を使用することができる。
アンカーコート層を形成する熱硬化性樹脂、熱可塑性樹脂などの樹脂としては、溶剤性及び水性の樹脂がいずれも使用することができ、具体的には、ポリエステル系樹脂、ウレタン系樹脂、アクリル系樹脂、ニトロセルロース系樹脂、シリコン系樹脂、ビニルアルコール系樹脂、ポリビニルアルコール系樹脂、エチレンビニルアルコール系樹脂、ビニル系変性樹脂、イソシアネート基含有樹脂、カルボジイミド系樹脂、アルコキシル基含有樹脂、エポキシ系樹脂、オキサゾリン基含有樹脂、変性スチレン系樹脂、変性シリコン系樹脂、アルキルチタネート等を単独であるいは2種以上組み合わせて使用することができる。
本発明においては、ガスバリア性の点から、ポリエステル系樹脂、ウレタン系樹脂、アクリル系樹脂、ニトロセルロース系樹脂、シリコン系樹脂、イソシアネート基含有樹脂及びこれらの共重合体からなる群から選択される少なくとも1種の樹脂を用いることが好ましい。中でもポリエステル系樹脂が好ましい。
The gas barrier laminate film of the present invention has at least one structural unit layer comprising an anchor coat layer having a thickness of 0.1 to 10 nm and an inorganic thin film formed on the anchor coat layer on the inorganic thin film.
As the anchor coat layer constituting the structural unit layer, a layer made of at least one selected from resins such as thermosetting resins and thermoplastic resins, metals, metal oxides, and metal nitrides can be used.
As a resin such as a thermosetting resin or a thermoplastic resin that forms the anchor coat layer, both solvent-based and water-based resins can be used. Specifically, polyester-based resins, urethane-based resins, acrylic-based resins can be used. Resin, nitrocellulose resin, silicon resin, vinyl alcohol resin, polyvinyl alcohol resin, ethylene vinyl alcohol resin, vinyl modified resin, isocyanate group-containing resin, carbodiimide resin, alkoxyl group-containing resin, epoxy resin, Oxazoline group-containing resins, modified styrene resins, modified silicon resins, alkyl titanates and the like can be used alone or in combination of two or more.
In the present invention, from the viewpoint of gas barrier properties, at least selected from the group consisting of polyester resins, urethane resins, acrylic resins, nitrocellulose resins, silicon resins, isocyanate group-containing resins, and copolymers thereof. It is preferable to use one kind of resin. Of these, polyester resins are preferred.

アンカーコート層に用いられる上記ポリエステル系樹脂は、多価カルボン酸成分と多価アルコール成分を反応させることにより得ることができる。多価カルボン酸成分としては、テレフタル酸、イソフタル酸、アジピン酸、セバシン酸、アゼライン酸、オルトフタル酸、ジフェニルカルボン酸、ジメチルフタル酸等が例示され、多価アルコール成分としては、エチレングリコール、1,2−プロイレングリコール、1,3−プロイレングリコール、1,4−ブタンジオール、ジエチレングリコール、ネオペンチルグリコール、ジプロピレングリコール、1,6−ヘキサンジオール、ビスフェノールA等が例示される。
上記樹脂を構成するポリマーの分子量は、ガスバリア性、密着性の点から、数平均分子量で、3,000〜30,000、好ましくは4,000〜28,000、更に好ましくは5,000〜25,000である。
The polyester resin used in the anchor coat layer can be obtained by reacting a polyvalent carboxylic acid component and a polyhydric alcohol component. Examples of the polyvalent carboxylic acid component include terephthalic acid, isophthalic acid, adipic acid, sebacic acid, azelaic acid, orthophthalic acid, diphenylcarboxylic acid, and dimethylphthalic acid. Examples of the polyhydric alcohol component include ethylene glycol, 1, Examples include 2-propylene glycol, 1,3-propylene glycol, 1,4-butanediol, diethylene glycol, neopentyl glycol, dipropylene glycol, 1,6-hexanediol, bisphenol A, and the like.
The polymer constituting the resin has a number average molecular weight of 3,000 to 30,000, preferably 4,000 to 28,000, and more preferably 5,000 to 25 in terms of gas barrier properties and adhesion. , 000.

上記アンカーコート層には、層間の密着性向上の観点から、シランカップリング剤を添加することが好ましい。シランカップリング剤としては、例えば、β−(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチルトリメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルメチルジエトキシラン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシランなどのエポキシ基含有シランカップリング剤、γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、N−β(アミノエチル)γ−アミノプロピルメチルジェトキシラン、N−β(アミノエチル)γ−アミノプロピルトリメトキシラン、N−β(アミノエチル)γ−アミノプロピルトリエトキシランなどのアミノ基含有シランカップリング剤等、およびそれらの混合物が挙げられる。層間の密着性の観点から、好ましいシランカップリング剤としては、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、およびγ−アミノプロピルトリメトキシシランが挙げられる。これらのシランカップリング剤は、1種単独で用いてもよいが、2種以上組み合わせて用いてもよい。
シランカップリング剤は、密着性の点から、アンカーコート層を形成する樹脂に対して、好ましくは0.1〜80質量%、更に好ましくは1〜50質量%の割合で含有する。
It is preferable to add a silane coupling agent to the anchor coat layer from the viewpoint of improving the adhesion between the layers. Examples of the silane coupling agent include epoxy group-containing silanes such as β- (3,4-epoxycyclohexyl) ethyltrimethoxysilane, γ-glycidoxypropylmethyldiethoxylane, and γ-glycidoxypropyltrimethoxysilane. Coupling agent, γ-aminopropyltrimethoxysilane, N-β (aminoethyl) γ-aminopropylmethyljetoxylan, N-β (aminoethyl) γ-aminopropyltrimethoxylane, N-β (aminoethyl) γ -Amino group-containing silane coupling agents such as aminopropyltriethoxylane, and mixtures thereof. From the viewpoint of adhesion between layers, preferable silane coupling agents include γ-glycidoxypropyltrimethoxysilane and γ-aminopropyltrimethoxysilane. These silane coupling agents may be used alone or in combination of two or more.
The silane coupling agent is preferably contained in a proportion of 0.1 to 80% by mass, more preferably 1 to 50% by mass with respect to the resin forming the anchor coat layer from the viewpoint of adhesion.

また、上記アンカーコート層には、硬化剤を含有することが好ましく、硬化剤としては、ポリイソシアネートを使用することが好ましい。具体的には、たとえばヘキサメチレンジイソシアネート、ジシクロヘキシルメタンジイソシアネートなどの脂肪族ポリイソシアネートや、キシレンジイソシアネート、トリレンジイソシアネート、ジフェニルメタンジイソシアネート、ポリメチレンポリフェニレンジイソシアネート、トリジンジイソシアネート、ナフタレンジイソシアネートなどの芳香族ポリイソシアネート等が挙げられる。特に2官能以上のポリイソシアネートがバリア性向上の点から好ましい。   The anchor coat layer preferably contains a curing agent, and it is preferable to use polyisocyanate as the curing agent. Specific examples include aliphatic polyisocyanates such as hexamethylene diisocyanate and dicyclohexylmethane diisocyanate, and aromatic polyisocyanates such as xylene diisocyanate, tolylene diisocyanate, diphenylmethane diisocyanate, polymethylene polyphenylene diisocyanate, tolidine diisocyanate, and naphthalene diisocyanate. It is done. In particular, bifunctional or higher polyisocyanates are preferable from the viewpoint of improving barrier properties.

上記アンカーコート層には、公知の各種添加剤を配合することができる。このような添加剤としては、グリセリン、エチレングリコール、ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコールなどの多価アルコール、水性エポキシ樹脂、メタノール、エタノール、ノルマルプロパノール、イソプロパノール等の低級アルコール、エチレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル等のエーテル類、プロピレングリコールモノアセテート、エチレングリコールモノアセテート等のエステル類、酸化防止剤、耐候安定剤、紫外線吸収剤、帯電防止剤、顔料、染料、抗菌剤、滑剤、無機充填剤、ブロッキング防止剤、接着剤等を挙げることができる。   Various known additives can be blended in the anchor coat layer. Examples of such additives include polyhydric alcohols such as glycerin, ethylene glycol, polyethylene glycol and polypropylene glycol, aqueous epoxy resins, lower alcohols such as methanol, ethanol, normal propanol and isopropanol, ethylene glycol monomethyl ether, propylene glycol monomethyl ether. , Ethers such as propylene glycol diethyl ether, diethylene glycol monoethyl ether, propylene glycol monoethyl ether, esters such as propylene glycol monoacetate and ethylene glycol monoacetate, antioxidants, weathering stabilizers, UV absorbers, antistatic agents , Pigments, dyes, antibacterial agents, lubricants, inorganic fillers, antiblocking agents, adhesives and the like.

また、アンカーコート層を形成する金属としては、ガスバリア性、密着性の点から、クロム、アルミニウム、珪素、ニッケル、チタン、錫、鉄、モリブデン等又はこれら2種以上の合金が好ましく挙げられる。また、金属酸化物又は金属窒化物としては、ガスバリア性、密着性の点から、上記金属の酸化物、窒化物が好ましく挙げられる。本発明においては、アンカーコート層として、上記観点から、クロム、窒化珪素及び酸化チタンから選ばれる少なくとも一種からなるものが更に好ましい。   Moreover, as a metal which forms an anchor coat layer, chromium, aluminum, silicon, nickel, titanium, tin, iron, molybdenum etc. or these 2 or more types of alloys are mentioned preferably from the point of gas barrier property and adhesiveness. Moreover, as a metal oxide or metal nitride, the said metal oxide and nitride are mentioned preferably from the point of gas-barrier property and adhesiveness. In the present invention, the anchor coat layer is more preferably composed of at least one selected from chromium, silicon nitride and titanium oxide from the above viewpoint.

上記構成単位層においては、上記アンカーコート層の厚さは、その上限値が10nmであり、8nmであることが好ましく、5nmであることがより好ましい。また、その下限値は、0.1nmであり、0.5nmであることが好ましい。厚さが上記範囲内であれば、密着性などが良好であり好ましい。上記観点から、アンカーコート層の厚さは、0.1〜10nmであり、密着性などの点から、0.1〜8nmであることが好ましく、0.1〜5nmであることがより好ましい。また、アンカーコート層が前記熱硬化性樹脂、熱可塑性樹脂などの樹脂からなる場合は、アンカーコート層の厚さは、0.5〜10nmであり、密着性などの点から、0.5〜8nmであることが好ましく、0.5〜5nmであることがより好ましい。このアンカーコート層には、耐水性、耐久性を高めるために、電子線照射による架橋処理を行う事もできる。   In the structural unit layer, the upper limit of the thickness of the anchor coat layer is 10 nm, preferably 8 nm, and more preferably 5 nm. Moreover, the lower limit is 0.1 nm, and preferably 0.5 nm. If the thickness is within the above range, good adhesion and the like are preferable. From the above viewpoint, the anchor coat layer has a thickness of 0.1 to 10 nm, preferably 0.1 to 8 nm, more preferably 0.1 to 5 nm from the viewpoint of adhesion and the like. When the anchor coat layer is made of a resin such as the thermosetting resin or thermoplastic resin, the thickness of the anchor coat layer is 0.5 to 10 nm. 8 nm is preferable, and 0.5 to 5 nm is more preferable. This anchor coat layer can be subjected to a crosslinking treatment by electron beam irradiation in order to enhance water resistance and durability.

上記熱硬化性樹脂、熱可塑性樹脂などの樹脂からなるアンカーコート層を形成する方法としては、公知のコーティング方法が適宜採択される。例えば、リバースロールコーター、グラビアコーター、ロッドコーター、エアドクタコーター、スプレイあるいは刷毛を用いたコーティング方法等の方法がいずれも使用できる。また、蒸着フィルムを樹脂液に浸漬して行ってもよい。塗布後は、80〜200℃程度の温度での熱風乾燥、熱ロール乾燥などの加熱乾燥や、赤外線乾燥などの公知の乾燥方法を用いて溶媒を蒸発させることができる。これにより、均一なコーティング層を有する積層フィルムが得られる。
また、金属、金属酸化物及び金属窒化物から選ばれる少なくとも一種からなるアンカーコート層の形成方法としては、蒸着法、コーティング法などの方法がいずれも使用できるが、密着性の高い均一な薄膜が得られるという点で蒸着法が好ましい。この蒸着法には、前記無機薄膜の形成に使用しうる方法と同様の方法がいずれも使用することができる。
As a method of forming an anchor coat layer made of a resin such as the thermosetting resin or thermoplastic resin, a known coating method is appropriately adopted. For example, any method such as a reverse roll coater, a gravure coater, a rod coater, an air doctor coater, a spray or a coating method using a brush can be used. Alternatively, the vapor deposition film may be immersed in a resin solution. After application, the solvent can be evaporated using a known drying method such as hot drying such as hot air drying or hot roll drying at a temperature of about 80 to 200 ° C., or infrared drying. Thereby, a laminated film having a uniform coating layer is obtained.
In addition, as a method for forming an anchor coat layer made of at least one selected from metals, metal oxides, and metal nitrides, any method such as vapor deposition and coating can be used. The vapor deposition method is preferable in that it is obtained. For this vapor deposition method, any of the same methods that can be used to form the inorganic thin film can be used.

上記構成単位層においては、上述のアンカーコート層上に無機薄膜を形成するが、この無機薄膜としては前記基材フィルム上に形成された無機薄膜と同様のものを使用することができる。本発明のガスバリア性積層フィルムは、上記アンカーコート層と無機薄膜とからなる構成単位層を、基材上に設けた無機薄膜上に少なくとも1層有するものであるが、生産性の点から、好ましくは上記構成単位層を、無機薄膜上に1〜3層有することが好ましく、より好ましくは1層又は2層有する。ここで、構成単位層の層数をいう場合は、アンカーコート層1層と無機薄膜1層とからなる単位を構成単位層1層と称する。
また、同様の観点から、上記構成単位層の積層は、2以上の構成単位層を順次繰り返し設けることが好ましく、1の構成単位層の無機薄膜層面に、他の構成単位層のアンカーコート層を積層して行うことがより好ましい。本発明においては、構成単位層の間に他の層を有することは任意である。
In the structural unit layer, an inorganic thin film is formed on the anchor coat layer, and the same inorganic thin film formed on the substrate film can be used as the inorganic thin film. The gas barrier laminate film of the present invention has at least one layer of the structural unit layer composed of the anchor coat layer and the inorganic thin film on the inorganic thin film provided on the substrate, but is preferable from the viewpoint of productivity. Preferably have 1 to 3 structural unit layers on the inorganic thin film, more preferably 1 layer or 2 layers. Here, when referring to the number of constituent unit layers, a unit composed of one anchor coat layer and one inorganic thin film is referred to as one constituent unit layer.
From the same point of view, it is preferable that two or more structural unit layers are sequentially provided in the lamination of the structural unit layers, and the anchor coat layer of another structural unit layer is formed on the surface of the inorganic thin film layer of one structural unit layer. It is more preferable to carry out lamination. In the present invention, it is optional to have another layer between the constituent unit layers.

本発明においては、前記基材フィルムと無機薄膜との密着性向上のため、基材フィルムと無機薄膜の間に、アンカーコート剤を塗布してアンカーコート層を設けることが好ましい。アンカーコート剤としては、上記構成単位層を構成するアンカーコート層に用いたものと同様のものを用いることができる。
基材フィルム上に設けるアンカーコート層の厚さは通常0.1〜5000nm、好ましくは1〜2000nm、より好ましくは1〜1000nmである。上記範囲内であれば、滑り性が良好であり、アンカーコート層自体の内部応力による基材フィルムからの剥離もほとんどなく、また、均一な厚さを保つことができ、更に層間の密着性においても優れている。
また、基材フィルムへのアンカーコート剤の塗布性、接着性を改良するため、アンカーコート剤の塗布前に基材フィルムに通常の化学処理、放電処理などの表面処理を施してもよい。
In the present invention, in order to improve the adhesion between the base film and the inorganic thin film, it is preferable to provide an anchor coat layer by applying an anchor coating agent between the base film and the inorganic thin film. As an anchor coat agent, the same thing as what was used for the anchor coat layer which comprises the said structural unit layer can be used.
The thickness of the anchor coat layer provided on the base film is usually 0.1 to 5000 nm, preferably 1 to 2000 nm, more preferably 1 to 1000 nm. If it is in the above range, the slipperiness is good, there is almost no peeling from the base film due to the internal stress of the anchor coat layer itself, and a uniform thickness can be maintained. Is also excellent.
Moreover, in order to improve the applicability | paintability of an anchor coating agent to a base film, and adhesiveness, you may perform surface treatments, such as a normal chemical treatment and electrical discharge treatment, to a base film before application | coating of an anchor coating agent.

また、本発明のガスバリア性積層フィルムは、上記構成単位層を有する側の最上層として保護層を有することが好ましい。該保護層を形成する樹脂としては、溶剤性及び水性の樹脂をいずれも使用することができ、具体的には、ポリエステル系樹脂、ウレタン系樹脂系、アクリル系樹脂、ポリビニルアルコール系樹脂、エチレン・不飽和カルボン酸共重合樹脂、エチレンビニルアルコール系樹脂、ビニル変性樹脂、ニトロセルロース系樹脂、シリコン系樹脂、イソシアネート系樹脂、エポキシ系樹脂、オキサゾリン基含有樹脂、変性スチレン系樹脂、変性シリコン系樹脂、アルキルチタネート等を単独であるいは2種以上組み併せて使用することができる。また、保護層としては、バリア性、摩耗性、滑り性向上のため、シリカゾル、アルミナゾル、粒子状無機フィラー及び層状無機フィラーから選ばれる1種以上の無機粒子を前記1種以上の樹脂に混合してなる層、又は該無機粒子存在下で前記樹脂の原料を重合させて形成される無機粒子含有樹脂からなる層を用いることが好ましい。   In addition, the gas barrier laminate film of the present invention preferably has a protective layer as the uppermost layer on the side having the structural unit layer. As the resin for forming the protective layer, both solvent-based and water-based resins can be used. Specifically, polyester resins, urethane resins, acrylic resins, polyvinyl alcohol resins, ethylene Unsaturated carboxylic acid copolymer resin, ethylene vinyl alcohol resin, vinyl modified resin, nitrocellulose resin, silicon resin, isocyanate resin, epoxy resin, oxazoline group-containing resin, modified styrene resin, modified silicon resin, Alkyl titanates can be used alone or in combination of two or more. As the protective layer, one or more kinds of inorganic particles selected from silica sol, alumina sol, particulate inorganic filler, and layered inorganic filler are mixed with the one or more kinds of resins in order to improve barrier properties, wearability, and slipperiness. It is preferable to use a layer made of an inorganic particle-containing resin formed by polymerizing the resin raw material in the presence of the inorganic particles.

保護層を形成する樹脂としては、無機薄膜のガスバリア性向上の点から上記水性樹脂が好ましい。さらに水性樹脂として、ポリビニルアルコール系樹脂またはエチレンビニルアルコール系樹脂、または、エチレン・不飽和カルボン酸共重合体樹脂が好ましい。
以下に、上記樹脂層について説明する。
As the resin for forming the protective layer, the above aqueous resin is preferable from the viewpoint of improving the gas barrier property of the inorganic thin film. Further, the aqueous resin is preferably a polyvinyl alcohol resin, an ethylene vinyl alcohol resin, or an ethylene / unsaturated carboxylic acid copolymer resin.
Below, the said resin layer is demonstrated.

ポリビニルアルコールは公知の方法で得ることができ、通常は、酢酸ビニルの重合体をケン化することで得ることができる。ケン化度は80%以上のものが使用でき、好ましくは90%以上、更に好ましくは95%以上、特に好ましくは98%以上であることがガスバリア性の点から好ましい。
その平均重合度は、通常500〜3000であり、ガスバリア性、延伸性の点で、好ましくは500〜2000である。また、ポリビニルアルコールとして、40%以下の割合でエチレンを共重合したものも用いることができる。ポリビニルアルコールの水性液は、例えば、ポリビニルアルコール樹脂を常温水中で攪拌しながら供給して昇温し、80〜95℃で30〜60分攪拌することで調製される。
Polyvinyl alcohol can be obtained by a known method, and can usually be obtained by saponifying a polymer of vinyl acetate. A saponification degree of 80% or more can be used, preferably 90% or more, more preferably 95% or more, and particularly preferably 98% or more from the viewpoint of gas barrier properties.
The average degree of polymerization is usually 500 to 3000, and preferably 500 to 2000 in terms of gas barrier properties and stretchability. Moreover, what copolymerized ethylene in the ratio of 40% or less as polyvinyl alcohol can also be used. The aqueous liquid of polyvinyl alcohol is prepared by, for example, supplying a polyvinyl alcohol resin while stirring in normal temperature water, raising the temperature, and stirring at 80 to 95 ° C. for 30 to 60 minutes.

エチレン・不飽和カルボン酸共重合体は、エチレンと、アクリル酸、メタクリル酸、エタクリル酸、フマル酸、マレイン酸、イタコン酸、マレイン酸モノメチル、マレイン酸モノエチル、無水マレイン酸、無水イタコン酸などの不飽和カルボン酸との共重合体であり、中でも汎用性の点からエチレンとアクリル酸またはメタクリル酸との共重合体が好ましい。このエチレン−不飽和カルボン酸共重合体は任意の他の単量体を含んでいてもよい。   Ethylene / unsaturated carboxylic acid copolymer is a combination of ethylene and acrylic acid, methacrylic acid, ethacrylic acid, fumaric acid, maleic acid, itaconic acid, monomethyl maleate, monoethyl maleate, maleic anhydride, itaconic anhydride, etc. It is a copolymer with a saturated carboxylic acid, and among them, a copolymer of ethylene and acrylic acid or methacrylic acid is preferable from the viewpoint of versatility. The ethylene-unsaturated carboxylic acid copolymer may contain any other monomer.

エチレン・不飽和カルボン酸共重合体における、エチレン成分は汎用性、柔軟性の点から好ましくは65〜90質量%、更に好ましくは70〜85質量%であり、不飽和カルボン酸成分は好ましくは10〜35質量%、更に好ましくは15〜30質量%である。上記エチレン・不飽和カルボン酸共重合体の、190℃、2160g荷重におけるメルトフローレート(MFR)は、フィルムの耐屈曲性の点から、好ましくは30〜2000g/10分、更に好ましくは60〜1500g/10分である。数平均分子量は、2000〜250000の範囲が好ましい。   The ethylene component in the ethylene / unsaturated carboxylic acid copolymer is preferably 65 to 90% by mass, more preferably 70 to 85% by mass from the viewpoint of versatility and flexibility, and the unsaturated carboxylic acid component is preferably 10%. It is -35 mass%, More preferably, it is 15-30 mass%. The melt flow rate (MFR) at 190 ° C. under a load of 2160 g of the ethylene / unsaturated carboxylic acid copolymer is preferably 30 to 2000 g / 10 minutes, more preferably 60 to 1500 g, from the viewpoint of the bending resistance of the film. / 10 minutes. The number average molecular weight is preferably in the range of 2000 to 250,000.

本発明においては、ガスバリア性、層間密着性などの点から、上記エチレン・不飽和カルボン酸共重合体は、その部分中和物を含むことが好ましく、該部分中和物の中和度はガスバリア性の点から、好ましくは20〜100%、更に好ましくは40〜100%、特に好ましくは60〜100%である。なお、中和度は、下記の式により求めることができる。
中和度=(A/B)×100(%)
A:部分中和されたエチレン・不飽和カルボン酸共重合体1g中の中和されたカルボキシル基のモル数
B:部分中和する前のエチレン・不飽和カルボン酸共重合体1g中のカルボキシル基のモル数
なお、水性液の場合は、簡便的に、上記Aを(溶媒中の金属イオン数)x(その金属イオンの価数)とし、Bを部分中和する前のエチレン・不飽和カルボン酸共重合体のカルボキシル基の数として、算出することができる。
In the present invention, from the viewpoint of gas barrier properties, interlayer adhesion, etc., the ethylene / unsaturated carboxylic acid copolymer preferably contains a partially neutralized product, and the degree of neutralization of the partially neutralized product is a gas barrier. From the viewpoint of property, it is preferably 20 to 100%, more preferably 40 to 100%, and particularly preferably 60 to 100%. The degree of neutralization can be obtained from the following formula.
Degree of neutralization = (A / B) x 100 (%)
A: Number of moles of neutralized carboxyl group in 1 g of partially neutralized ethylene / unsaturated carboxylic acid copolymer B: Carboxyl group in 1 g of ethylene / unsaturated carboxylic acid copolymer before partial neutralization In the case of an aqueous liquid, for convenience, the above-mentioned A is defined as (number of metal ions in the solvent) x (valence of the metal ions) and B is partially neutralized with ethylene / unsaturated carboxylic acid. It can be calculated as the number of carboxyl groups in the acid copolymer.

上記エチレン・不飽和カルボン酸共重合体は、ガスバリア性の点から、上記共重合体とアンモニア、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化リチウム等を含む水性媒体とからなる水性液として用いることが好ましく、エチレン・不飽和カルボン酸共重合体の有するカルボキシル基の全モル数に対して、上式中和度が20〜100%、更には40〜100%となるように上記水性媒体を用いたものが好ましく用いられる。
本発明においては、上記保護層は、上記樹脂1種で構成されていてもよいが、2種以上を組み合わせて使用することもできる。
From the viewpoint of gas barrier properties, the ethylene / unsaturated carboxylic acid copolymer may be used as an aqueous liquid comprising the copolymer and an aqueous medium containing ammonia, sodium hydroxide, potassium hydroxide, lithium hydroxide and the like. Preferably, the aqueous medium is used so that the degree of neutralization is 20 to 100%, more preferably 40 to 100%, based on the total number of moles of carboxyl groups of the ethylene / unsaturated carboxylic acid copolymer. Those are preferably used.
In the present invention, the protective layer may be composed of one kind of the resin, but may be used in combination of two or more kinds.

また、上記保護層にはバリア性、密着性向上のため無機粒子を添加することができる。
本発明に使用する無機粒子には特に制限はなく、例えば無機フィラーや無機層状化合物、金属酸化物ゾル等の公知のものをいずれも使用することができる。
無機フィラーの例としては、ケイ素、アルミニウム、マグネシウム、カルシウム、カリウム、ナトリウム、チタン、亜鉛、鉄などの酸化物、水酸化物、水和物、炭酸化物及びこれらの混合物、複合物等が挙げられる。
無機層状化合物の例としては、カオリナイト族、スメクタイト族、マイカ族等に代表される粘土鉱物が挙げられ、モンモリロナイト、ヘクトライト、サポナイト等を用いることができる。
金属酸化物ゾルの例としては、ケイ素、アンチモン、ジルコニウム、アルミニウム、セリウム、チタン等の金属酸化物またはそれらの混合物が挙げられる。中でも、耐熱水性、ガスバリア性などの点から、ヒドロキシ基、アルコキシ基等の加水分解縮合可能な反応性官能基を有するものが好ましく、特に反応性官能基中、シラノール基を10〜100モル%、更に20〜100モル%含有するものが好ましく用いられる。
In addition, inorganic particles can be added to the protective layer in order to improve barrier properties and adhesion.
There is no restriction | limiting in particular in the inorganic particle used for this invention, For example, all well-known things, such as an inorganic filler, an inorganic layered compound, a metal oxide sol, can be used.
Examples of inorganic fillers include oxides such as silicon, aluminum, magnesium, calcium, potassium, sodium, titanium, zinc, iron, hydroxides, hydrates, carbonates, and mixtures and composites thereof. .
Examples of the inorganic layered compound include clay minerals typified by kaolinite group, smectite group, mica group and the like, and montmorillonite, hectorite, saponite and the like can be used.
Examples of the metal oxide sol include metal oxides such as silicon, antimony, zirconium, aluminum, cerium, and titanium, or a mixture thereof. Among these, from the viewpoint of hot water resistance and gas barrier properties, those having a reactive functional group capable of being hydrolytically condensed, such as a hydroxy group and an alkoxy group, are preferred, and in the reactive functional group, 10 to 100 mol% of a silanol group, Furthermore, what contains 20-100 mol% is used preferably.

本発明においては、上記無機粒子としては、汎用性、安定性の点からシリカ粒子が好ましく用いられる。上記無機粒子は、1種で用いてもよいが、2種以上を組み合わせて使用することもできる。
無機粒子は、その平均粒子径は、耐熱水性、耐凝集破壊性の点から、その下限値が、好ましくは0.5nm、より好ましくは1nmであり、また、その上限値は好ましくは2μm、より好ましくは200nm、より好ましくは100nm、より好ましくは25nm、より好ましくは10nm、更に好ましくは5nmである。具体的には、上記平均粒子径は、0.5〜2μmであることが好ましく、より好ましくは0.5〜200nm、より好ましくは0.5〜100nm、より好ましくは0.5〜25nm、より好ましくは1〜20nm、より好ましくは1〜10nm、更に好ましくは1〜5nmである。
In the present invention, silica particles are preferably used as the inorganic particles from the viewpoint of versatility and stability. Although the said inorganic particle may be used by 1 type, it can also be used in combination of 2 or more type.
The average particle diameter of the inorganic particles is preferably 0.5 nm, more preferably 1 nm, and the upper limit is preferably 2 μm, in view of hot water resistance and cohesive fracture resistance. Preferably it is 200 nm, More preferably, it is 100 nm, More preferably, it is 25 nm, More preferably, it is 10 nm, More preferably, it is 5 nm. Specifically, the average particle diameter is preferably 0.5 to 2 μm, more preferably 0.5 to 200 nm, more preferably 0.5 to 100 nm, more preferably 0.5 to 25 nm, and more. Preferably it is 1-20 nm, More preferably, it is 1-10 nm, More preferably, it is 1-5 nm.

保護層の厚さについては、印刷性、加工性の点から、好ましくは0.05〜10μm,更に好ましくは0.1〜3μmである。その形成方法としては、公知のコーティング方法が適宜採択される。例えば、リバースロールコーター、グラビアコーター、ロッドコーター、エアドクタコーター、スプレイあるいは刷毛を用いたコーティング方法等の方法がいずれも使用できる。また、蒸着フィルムを保護層用樹脂液に浸漬して行ってもよい。塗布後は、80〜200℃程度の温度での熱風乾燥、熱ロール乾燥などの加熱乾燥や、赤外線乾燥などの公知の乾燥方法を用いて水分を蒸発させることができる。これにより、均一なコーティング層を有する積層フィルムが得られる。   The thickness of the protective layer is preferably 0.05 to 10 μm, more preferably 0.1 to 3 μm, from the viewpoints of printability and processability. A known coating method is appropriately adopted as the formation method. For example, any method such as a reverse roll coater, a gravure coater, a rod coater, an air doctor coater, a spray or a coating method using a brush can be used. Moreover, you may immerse a vapor deposition film in the resin liquid for protective layers. After coating, moisture can be evaporated using a known drying method such as hot drying such as hot air drying or hot roll drying at a temperature of about 80 to 200 ° C. or infrared drying. Thereby, a laminated film having a uniform coating layer is obtained.

本発明のガスバリア性積層フィルムとしては、ガスバリア性、密着性の点から、以下のような態様を好ましく用いることができる。
(1)基材フィルム/AC/無機薄膜/AC/無機薄膜
(2)基材フィルム/AC/無機薄膜/AC/無機薄膜/AC/無機薄膜
(3)基材フィルム/AC/無機薄膜/AC/無機薄膜/AC/無機薄膜/AC/無機薄膜
(4)基材フィルム/AC/無機薄膜/AC/無機薄膜/保護層
(5)基材フィルム/AC/無機薄膜/AC/無機薄膜/AC/無機薄膜/保護層
(6)基材フィルム/AC/無機薄膜/AC/無機薄膜/AC/無機薄膜/AC/無機薄膜/保護層
(7)基材フィルム/無機薄膜/AC/無機薄膜
(8)基材フィルム/無機薄膜/AC/無機薄膜/AC/無機薄膜
(9)基材フィルム/無機薄膜/AC/無機薄膜/AC/無機薄膜/AC/無機薄膜
(10)基材フィルム/無機薄膜/AC/無機薄膜/保護層
(11)基材フィルム/無機薄膜/AC/無機薄膜/AC/無機薄膜/保護層
(12)基材フィルム/無機薄膜/AC/無機薄膜/AC/無機薄膜/AC/無機薄膜/保護層
(なお、上記態様中、ACはアンカーコート層を指す。)
As the gas barrier laminate film of the present invention, the following embodiments can be preferably used from the viewpoint of gas barrier properties and adhesion.
(1) Base film / AC / inorganic thin film / AC / inorganic thin film (2) Base film / AC / inorganic thin film / AC / inorganic thin film / AC / inorganic thin film (3) Base film / AC / inorganic thin film / AC / Inorganic thin film / AC / Inorganic thin film / AC / Inorganic thin film (4) Base film / AC / Inorganic thin film / AC / Inorganic thin film / Protective layer (5) Base film / AC / Inorganic thin film / AC / Inorganic thin film / AC / Inorganic thin film / Protective layer (6) Base film / AC / Inorganic thin film / AC / Inorganic thin film / AC / Inorganic thin film / AC / Inorganic thin film / Protective layer (7) Base film / Inorganic thin film / AC / Inorganic thin film ( 8) Base film / Inorganic thin film / AC / Inorganic thin film / AC / Inorganic thin film (9) Base film / Inorganic thin film / AC / Inorganic thin film / AC / Inorganic thin film / AC / Inorganic thin film (10) Base film / Inorganic Thin film / AC / Inorganic thin film / Protective layer (11) Base material Film / inorganic thin film / AC / inorganic thin film / AC / inorganic thin film / protective layer (12) substrate film / inorganic thin film / AC / inorganic thin film / AC / inorganic thin film / AC / inorganic thin film / protective layer (in the above embodiment) AC refers to the anchor coat layer.)

本発明においては、上記構成層に必要に応じ更に追加の構成層を積層した各種ガスバリア性積層フィルムが用途に応じて使用できる。
通常の実施態様としては、上記無機薄膜あるいは保護層の上にプラスチックフィルムを設けたガスバリア性積層フィルムが各種用途に使用される。上記プラスチックフィルムの厚さは、積層構造体の基材としての機械強度、可撓性、透明性等の点から、通常5〜500μm、好ましくは10〜200μmの範囲で用途に応じて選択される。また、フィルムの幅や長さは特に制限はなく、適宜用途に応じて選択することができる。例えば、無機薄膜あるいは保護層の面上にヒートシールが可能な樹脂を使用することにより、ヒートシールが可能となり、種々の容器として使用できる。ヒートシールが可能な樹脂としては、ポリエチレン樹脂、ポリプロピレン樹脂、エチレン−酢酸ビニル共重合体、アイオノマー樹脂、アクリル系樹脂、生分解性樹脂等の公知の樹脂が例示される。
In the present invention, various gas barrier laminate films in which additional constituent layers are further laminated on the above constituent layers as necessary can be used according to applications.
As a normal embodiment, a gas barrier laminate film in which a plastic film is provided on the inorganic thin film or the protective layer is used for various applications. The thickness of the plastic film is usually 5 to 500 μm, preferably 10 to 200 μm, depending on the application, from the viewpoints of mechanical strength, flexibility, transparency as a substrate of the laminated structure. . Further, the width and length of the film are not particularly limited and can be appropriately selected according to the intended use. For example, by using a resin capable of heat sealing on the surface of the inorganic thin film or the protective layer, heat sealing becomes possible and it can be used as various containers. Examples of the resin that can be heat sealed include known resins such as polyethylene resin, polypropylene resin, ethylene-vinyl acetate copolymer, ionomer resin, acrylic resin, and biodegradable resin.

また、別のガスバリア性積層フィルムの実施態様としては、無機薄膜あるいは保護層の塗布面上に印刷層を形成し、更にその上にヒートシール層を積層するものが挙げられる。印刷層を形成する印刷インクとしては、水性及び溶媒系の樹脂含有印刷インクが使用できる。ここで、印刷インクに使用される樹脂としては、アクリル系樹脂、ウレタン系樹脂、ポリエステル系樹脂、塩化ビニル系樹脂、酢酸ビニル共重合樹脂又はこれらの混合物が例示される。更に、印刷インクには、帯電防止剤、光線遮光剤、紫外線吸収剤、可塑剤、滑剤、フィラー、着色剤、安定剤、潤滑剤、消泡剤、架橋剤、耐ブロッキング剤、酸化防止剤等の公知の添加剤を添加してもよい。   Another embodiment of the gas barrier laminate film is one in which a printing layer is formed on the coating surface of the inorganic thin film or the protective layer, and a heat seal layer is further laminated thereon. As the printing ink for forming the printing layer, aqueous and solvent-based resin-containing printing inks can be used. Here, examples of the resin used in the printing ink include acrylic resins, urethane resins, polyester resins, vinyl chloride resins, vinyl acetate copolymer resins, and mixtures thereof. Furthermore, for printing inks, antistatic agents, light shielding agents, ultraviolet absorbers, plasticizers, lubricants, fillers, colorants, stabilizers, lubricants, antifoaming agents, crosslinking agents, antiblocking agents, antioxidants, etc. These known additives may be added.

印刷層を設けるための印刷方法としては特に限定されないが、オフセット印刷法、グラビア印刷法、スクリーン印刷法等の公知の印刷方法が使用できる。印刷後の溶媒の乾燥には、熱風乾燥、熱ロール乾燥、赤外線乾燥等の公知の乾燥方法が使用できる。
また、印刷層とヒートシール層との間に紙又はプラスチックフィルムを少なくとも1層積層することが可能である。プラスチックフィルムとしては、本発明のガスバリア性積層フィルムに用いられる基材フィルムとしての熱可塑性高分子フィルムと同様のものが使用できる。中でも、十分な積層体の剛性及び強度を得る観点から、紙、ポリエステル樹脂、ポリアミド樹脂又は生分解性樹脂が好ましい。
Although it does not specifically limit as a printing method for providing a printing layer, Well-known printing methods, such as an offset printing method, a gravure printing method, and a screen printing method, can be used. For drying the solvent after printing, a known drying method such as hot air drying, hot roll drying, or infrared drying can be used.
It is also possible to laminate at least one paper or plastic film between the printing layer and the heat seal layer. As a plastic film, the thing similar to the thermoplastic polymer film as a base film used for the gas barrier laminate film of the present invention can be used. Among these, paper, polyester resin, polyamide resin or biodegradable resin is preferable from the viewpoint of obtaining sufficient rigidity and strength of the laminate.

本発明においては、前記構成単位層を構成するアンカーコート層を形成した後、或いは構成単位層を構成する無機薄膜を形成した後、更には保護層を形成した後に、ガスバリア性、膜質及び塗布層質の安定化等の点から加熱処理を施すことが好ましい。
加熱処理は、ガスバリア積層フィルムを構成する要素の種類や厚さなどによりその条件が異なるが、必要な温度、時間を維持できる方法であれば特に限定されない。例えば、必要な温度に設定したオーブンや恒温室で保管する方法、熱風を吹き付ける方法、赤外線ヒーターで加熱する方法、ランプで光を照射する方法、熱ロールや熱版と接触させて直接的に熱を付与する方法、マイクロ波を照射する方法などが使用できる。また、取り扱いが容易な大きさにフィルムを切断してから加熱処理しても、フィルムロールのままで加熱処理してもよい。更に必要な時間と温度が得られる限りにおいては、コーター、スリッター等のフィルム製造装置の一部分に加熱装置を組み込み、製造過程で加熱を行うこともできる。
In the present invention, after forming the anchor coat layer constituting the structural unit layer, or after forming the inorganic thin film constituting the structural unit layer, and further forming the protective layer, the gas barrier property, film quality and coating layer are formed. Heat treatment is preferably performed from the viewpoint of stabilization of quality.
The conditions for the heat treatment vary depending on the type and thickness of the elements constituting the gas barrier laminated film, but are not particularly limited as long as the necessary temperature and time can be maintained. For example, a method of storing in an oven or temperature-controlled room set to the required temperature, a method of blowing hot air, a method of heating with an infrared heater, a method of irradiating light with a lamp, or heating directly by contact with a hot roll or hot plate A method of imparting a light, a method of irradiating with a microwave, or the like can be used. Moreover, even if it heat-processes, after cutting a film into the magnitude | size which is easy to handle, it may heat-process with a film roll. Furthermore, as long as the necessary time and temperature can be obtained, a heating device can be incorporated in a part of a film manufacturing apparatus such as a coater or a slitter, and heating can be performed in the manufacturing process.

加熱処理の温度は、使用する基材、プラスチックフィルム等の融点以下の温度であれば特に限定されないが、熱処理の効果が発現するために必要な処理時間を適度に設定できることから60℃以上であることが好ましく、更に70℃以上で行うことが好ましい。加熱処理温度の上限は、ガスバリア性積層フィルムを構成する要素の熱分解によるガスバリア性の低下を防止する観点から、通常200℃、好ましくは160℃である。処理時間は、加熱処理温度に依存し、処理温度が高い程、短くすることが好ましい。例えば、加熱処理温度が60℃の場合、処理時間は3日〜6ヶ月程度、80℃の場合、処理時間は3時間〜10日程度、120℃の場合、処理時間は1時間から1日程度、150℃の場合、処理時間は3〜60分程度であるが、これらは単なる目安であって、ガスバリア性積層フィルムを構成する要素の種類や厚さ等により適宜調整することができる。   The temperature of the heat treatment is not particularly limited as long as it is a temperature below the melting point of the base material, plastic film, etc. to be used, but it is 60 ° C. or higher because the treatment time necessary for the effect of heat treatment can be set appropriately. It is preferable to carry out at 70 ° C. or higher. The upper limit of the heat treatment temperature is usually 200 ° C., preferably 160 ° C., from the viewpoint of preventing deterioration of gas barrier properties due to thermal decomposition of the elements constituting the gas barrier laminate film. The treatment time depends on the heat treatment temperature, and is preferably shorter as the treatment temperature is higher. For example, when the heat treatment temperature is 60 ° C., the treatment time is about 3 days to 6 months, when it is 80 ° C., the treatment time is about 3 hours to 10 days, and when it is 120 ° C., the treatment time is about 1 hour to 1 day. In the case of 150 ° C., the processing time is about 3 to 60 minutes, but these are merely guidelines and can be appropriately adjusted depending on the type and thickness of the elements constituting the gas barrier laminate film.

本発明のガスバリア性積層フィルムの製造方法は、(A)基材フィルムの少なくとも一方の面に、蒸着法により無機薄膜を形成する工程、及び、B)上記無機薄膜上に、厚さ0.1〜10nmのアンカーコート層、及び蒸着法により形成された無機薄膜を順次形成してなる構成単位層を少なくとも1層形成する工程、を有するものである。
(A)基材フィルムの少なくとも一方の面に蒸着法により無機薄膜を形成する工程により、前述のように、ガスバリア性の高い均一な薄膜が得ることができる。この基材フィルム、無機薄膜、蒸着法としては、前記の通りである。
また、B)該無機薄膜面上に、上記無機薄膜上に厚さ0.1〜10nmのアンカーコート層を形成し、該アンカーコート層上に蒸着法により無機薄膜を形成する工程により、無機薄膜の多層蒸着における各層の密着性を向上させることができ、更にこれを1回以上、好ましくは1〜3回繰り返すことによりガスバリア性を向上することができる。このような方法における構成単位層を構成するアンカーコート層及び無機薄膜としては前述の通りであり、上記アンカーコート層を厚さ0.1〜10nmで形成することにより、優れた密着性を得ることができる。
The method for producing a gas barrier laminate film of the present invention comprises (A) a step of forming an inorganic thin film by vapor deposition on at least one surface of a base film, and B) a thickness of 0.1 on the inorganic thin film. A step of forming at least one structural unit layer formed by sequentially forming a 10 nm anchor coat layer and an inorganic thin film formed by vapor deposition.
(A) As described above, a uniform thin film having a high gas barrier property can be obtained by the step of forming an inorganic thin film on at least one surface of the base film by vapor deposition. The base film, the inorganic thin film, and the vapor deposition method are as described above.
B) An inorganic thin film is formed by forming an anchor coat layer having a thickness of 0.1 to 10 nm on the inorganic thin film on the surface of the inorganic thin film, and forming the inorganic thin film on the anchor coat layer by vapor deposition. In this multilayer deposition, the adhesion of each layer can be improved, and the gas barrier property can be improved by repeating this one or more times, preferably 1-3 times. The anchor coat layer and the inorganic thin film constituting the structural unit layer in such a method are as described above, and excellent adhesion is obtained by forming the anchor coat layer with a thickness of 0.1 to 10 nm. Can do.

以下、本発明を実施例により具体的に説明するが、本発明は以下の例に限定されるものではない。なお、以下の実施例におけるフィルムの評価方法は、次の通りである。
<水蒸気透過率>
JIS Z0222「防湿包装容器の透湿度試験方法」、JIS Z0208「防湿包装材量の透湿度試験方法(カップ法)」の諸条件に準じ、次の手法で評価した。
透湿面積10.0cm×10.0cm角の各ガスバリア性積層フィルムを2枚用い、吸湿剤として無水塩化カルシウム約20gを入れ四辺を封じた袋を作製し、その袋を温度40℃相対湿度90%の恒温恒湿装置に入れ、48時間以上間隔で重量増加がほぼ一定になる目安として14日間まで、質量測定(0.1mg単位)し、水蒸気透過率を下記式から算出した。なお、表1−1及び表1−2には、3日目における水蒸気透過率の値を示す。
水蒸気透過率(g/m2/24h)=(m/s)/t
m; 試験期間最後2回の秤量間隔の増加質量(g)
s; 透湿面積(m2
t; 試験期間最後2回の秤量間隔の時間(h)/24(h)
EXAMPLES Hereinafter, although an Example demonstrates this invention concretely, this invention is not limited to the following examples. In addition, the evaluation method of the film in the following examples is as follows.
<Water vapor transmission rate>
According to the conditions of JIS Z0222 “moisture-proof packaging container moisture permeability test method” and JIS Z0208 “moisture-proof packaging material moisture permeability test method (cup method)”, the following methods were used for evaluation.
Using two gas barrier laminated films each having a moisture permeable area of 10.0 cm × 10.0 cm square, a bag having about 20 g of anhydrous calcium chloride as a hygroscopic agent and sealed on all sides was produced, and the bag was heated to a temperature of 40 ° C. and a relative humidity of 90 As a guideline, the weight increase was almost constant at intervals of 48 hours or longer, and mass measurement (0.1 mg unit) was performed up to 14 days, and the water vapor transmission rate was calculated from the following formula. In addition, in Table 1-1 and Table 1-2, the value of the water-vapor-permeation rate in the 3rd day is shown.
Water vapor transmission rate (g / m 2 / 24h) = (m / s) / t
m: Mass increase in the last two weighing intervals (g)
s; Moisture permeable area (m 2 )
t: Time of last two weighing intervals (h) / 24 (h)

<層間の密着性>
JIS Z1707に準じ、積層フィルムを幅15mmの短冊状に切り出し、その端部を一部剥離させ、剥離試験機により300mm/分の速度でT型剥離を行い、ラミネート強度(g/15mm)を測定した。
<Interlayer adhesion>
In accordance with JIS Z1707, the laminated film is cut into strips with a width of 15 mm, the edges are partially peeled off, and T-type peeling is performed at a rate of 300 mm / min using a peeling tester, and the laminate strength (g / 15 mm) is measured. did.

実施例1
ポリエチレンテレフタレート樹脂(以下「PET」と略す。三菱化学(株)製「ノバペックス」)を溶融押出してシートを形成し、延伸温度95℃、延伸比3.3で長手方向に延伸した後、延伸温度110℃、延伸比3.3で横方向に延伸することにより、厚さ12μmの二軸延伸PETフィルムを得た。そのフィルムの片側表面に、イソシアネート化合物(日本ポリウレタン工業製「コロネートL」)と飽和ポリエステル(東洋紡績製「バイロン300」、数平均分子量23000)とを1:1質量比で配合した混合物を塗布乾燥して厚さ100nmのアンカーコート層を形成した。
次いで、真空蒸着装置を使用して1×10-5Torrの真空下でSiOを高周波加熱方式で蒸発させ、アンカーコート層上に厚さ約20nmの無機薄膜を形成した。
得られた無機薄膜フィルムの無機薄膜面上に、イソシアネート化合物(日本ポリウレタン工業製「コロネートL」)と飽和ポリエステル(東洋紡績製「バイロン300」)とを1:1質量比で配合した混合物塗布乾燥して厚さ0.5nmのアンカーコート層を形成した。
Example 1
Polyethylene terephthalate resin (hereinafter abbreviated as “PET”; “Novapex” manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation) is melt-extruded to form a sheet, stretched in the longitudinal direction at a stretching temperature of 95 ° C. and a stretching ratio of 3.3, and then stretched. A biaxially stretched PET film having a thickness of 12 μm was obtained by stretching in the transverse direction at 110 ° C. and a stretch ratio of 3.3. On one surface of the film, a mixture containing an isocyanate compound (“Coronate L” manufactured by Nippon Polyurethane Industry) and saturated polyester (“Byron 300” manufactured by Toyobo Co., Ltd., number average molecular weight 23000) in a 1: 1 mass ratio was applied and dried. Thus, an anchor coat layer having a thickness of 100 nm was formed.
Next, SiO was evaporated by a high-frequency heating method under a vacuum of 1 × 10 −5 Torr using a vacuum deposition apparatus, and an inorganic thin film having a thickness of about 20 nm was formed on the anchor coat layer.
Mixture application drying which blended isocyanate compound ("Coronate L" by Nippon Polyurethane Industry) and saturated polyester ("Byron 300" by Toyobo Co., Ltd.) by 1: 1 mass ratio on the inorganic thin film surface of the obtained inorganic thin film. Thus, an anchor coat layer having a thickness of 0.5 nm was formed.

次いで、真空蒸着装置を使用して1×10-5Torrの真空下でSiOを高周波加熱方式で蒸発させ、アンカーコート層上に厚さ約20nmの無機薄膜を形成した。
更に、得られたフィルムの無機薄膜面側に、ウレタン系接着剤(東洋モートン社製「AD900」と「CAT−RT85」とを10:1.5の割合で配合)を塗布、乾燥し、厚さ約3μmの接着樹脂層を形成し、この接着樹脂層上に、厚さ60μmの未延伸ポリプロピレンフィルム(東洋紡績(株)製「パイレンフィルム−CT P1146」)をラミネートし、積層フィルムを得た。得られた積層フィルムについて、前記の評価を行った。結果を表1−1に示す。
Next, SiO was evaporated by a high-frequency heating method under a vacuum of 1 × 10 −5 Torr using a vacuum deposition apparatus, and an inorganic thin film having a thickness of about 20 nm was formed on the anchor coat layer.
Further, a urethane adhesive (“AD900” and “CAT-RT85” manufactured by Toyo Morton Co., Ltd. in a ratio of 10: 1.5) was applied to the inorganic thin film surface side of the obtained film, dried, and thickened. An adhesive resin layer having a thickness of about 3 μm was formed, and an unstretched polypropylene film having a thickness of 60 μm (“Pyrene Film-CTP 1146” manufactured by Toyobo Co., Ltd.) was laminated on the adhesive resin layer to obtain a laminated film. . Said evaluation was performed about the obtained laminated | multilayer film. The results are shown in Table 1-1.

実施例2
実施例1において、無機薄膜層間のアンカーコート層の厚さを10nmとした以外は同様にして積層フィルムを作製した。得られた積層フィルムについて、前記の評価を行った。結果を表1−1に示す。
Example 2
A laminated film was produced in the same manner as in Example 1 except that the thickness of the anchor coat layer between the inorganic thin film layers was 10 nm. Said evaluation was performed about the obtained laminated | multilayer film. The results are shown in Table 1-1.

実施例3
実施例1において、無機薄膜層間のアンカーコート層を形成する混合物に、固形分割合で5質量%のシランカップリング剤(東レ・ダウコーニング・シリコーン(株)製SH6040)を添加した以外は同様にして積層フィルムを作製した。得られた積層フィルムについて、前記の評価を行った。結果を表1−1に示す。
Example 3
In Example 1, the same procedure was performed except that a silane coupling agent (SH6040 manufactured by Toray Dow Corning Silicone Co., Ltd.) having a solid content ratio of 5% by mass was added to the mixture forming the anchor coat layer between the inorganic thin film layers. Thus, a laminated film was produced. Said evaluation was performed about the obtained laminated | multilayer film. The results are shown in Table 1-1.

実施例4
実施例1において、無機薄膜層間のアンカーコート層を形成する混合物に、固形分割合で50質量%のシランカップリング剤(東レ・ダウコーニング・シリコーン(株)製SH6040)を添加を添加した以外は同様にして積層フィルムを作製した。得られた積層フィルムについて、前記の評価を行った。結果を表1−1に示す。
Example 4
In Example 1, except that an addition of 50% by mass of a silane coupling agent (SH6040 manufactured by Toray Dow Corning Silicone Co., Ltd.) in a solid content ratio was added to the mixture forming the anchor coat layer between the inorganic thin film layers. A laminated film was produced in the same manner. Said evaluation was performed about the obtained laminated | multilayer film. The results are shown in Table 1-1.

実施例5
実施例1において、基材のPETフィルム上にアンカーコート層を設けなかったこと以外は同様にして積層フィルムを作製した。得られた積層フィルムについて、前記の評価を行った。結果を表1−1に示す。
Example 5
In Example 1, a laminated film was produced in the same manner except that the anchor coat layer was not provided on the base PET film. Said evaluation was performed about the obtained laminated | multilayer film. The results are shown in Table 1-1.

実施例6
実施例1において、接着樹脂層の塗布前の積層フィルムの上層の無機薄膜面に、さらに実施例1と同様のアンカーコート層、無機薄膜を各々実施例1と同様の方法で順次形成した以外は同様にして積層フィルムを作製した。得られた積層フィルムについて、実施例1と同様にして未延伸ポリプロピレンフィルムをラミネートした後、前記の評価を行った。結果を表1−2に示す。
Example 6
In Example 1, except that the same anchor coat layer and inorganic thin film as those in Example 1 were sequentially formed in the same manner as in Example 1 on the inorganic thin film surface of the upper layer of the laminated film before application of the adhesive resin layer. A laminated film was produced in the same manner. About the obtained laminated | multilayer film, after laminating | stacking an unstretched polypropylene film like Example 1, the said evaluation was performed. The results are shown in Table 1-2.

実施例7
実施例1において、接着樹脂層の塗布前の積層フィルムの上層の無機薄膜面に、さらにポリビニルアルコール(PVA、日本合成化学工業(株)製「ゴーセノールN−300、鹸化度98%以上)とシリカゾル(日産化学工業(株)社製スノーテックスXS、平均粒径4〜6nm)を固形分質量比1:1で含む溶液を、グラビアコート法で塗布した後乾燥し、厚さ0.2μmの保護層を設けた以外は同様にして積層フィルムを作製した。得られた積層フィルムについて、実施例1と同様にして未延伸ポリプロピレンフィルムをラミネートした後、前記の評価を行った。結果を表1−2に示す。
Example 7
In Example 1, polyvinyl alcohol (PVA, “GOHSENOL N-300, saponification degree of 98% or more) manufactured by Nippon Synthetic Chemical Industry Co., Ltd.) and silica sol were further formed on the upper inorganic thin film surface of the laminated film before the application of the adhesive resin layer. A solution containing (Snowtex XS manufactured by Nissan Chemical Industries, Ltd., average particle size 4 to 6 nm) at a solid content mass ratio of 1: 1 was applied by a gravure coating method and then dried to provide a thickness of 0.2 μm. A laminated film was produced in the same manner except that the layer was provided.The obtained laminated film was laminated with an unstretched polypropylene film in the same manner as in Example 1. Then, the above evaluation was performed. It is shown in 2.

実施例8
下記調製したPVA水性液、エチレン・不飽和カルボン酸共重合体水性液及び水性シリカゾルの各水性液を固形分質量比で80:10:10の割合で混合し保護層用塗布液を得た。実施例1における、接着樹脂層の塗布前の積層フィルムの上層の無機薄膜面に、上記調製した保護層用塗布液をバーコーターで乾燥厚0.3μmとなるように塗布して保護層を形成し、その上に実施例1と同様にして未延伸ポリプロピレンフィルムをラミネートした以外は、実施例1と同様にして積層フィルムを作製した。得られた積層フィルムについて、前記の評価を行った。結果を表1−2に示す。
Example 8
The following PVA aqueous solution, ethylene / unsaturated carboxylic acid copolymer aqueous solution, and aqueous silica sol aqueous solution were mixed at a solid content mass ratio of 80:10:10 to obtain a coating solution for a protective layer. In Example 1, the protective layer coating solution is applied to the upper inorganic thin film surface of the laminated film before application of the adhesive resin layer by a bar coater so as to have a dry thickness of 0.3 μm to form a protective layer. Then, a laminated film was produced in the same manner as in Example 1 except that an unstretched polypropylene film was laminated thereon in the same manner as in Example 1. Said evaluation was performed about the obtained laminated | multilayer film. The results are shown in Table 1-2.

<PVA水性液の調製>
ポリビニルアルコール(PVA、日本合成化学工業(株)製「ゴーセノールN−300」、鹸化度98%以上)とイオン交換水を用い、固形分濃度10%水性液を調製した。
<エチレン・不飽和カルボン酸共重合体水性液の調製>
エチレン・アクリル酸共重合体(EAA)(アクリル酸20重量%、MFR:300g/10分)、アンモニア及びイオン交換水を95℃2時間攪拌混合して、中和度75%、固形分20%水性液を調製した。
<Preparation of PVA aqueous solution>
A 10% solid content aqueous solution was prepared using polyvinyl alcohol (PVA, “GOHSENOL N-300” manufactured by Nippon Synthetic Chemical Industry Co., Ltd., saponification degree of 98% or more) and ion-exchanged water.
<Preparation of aqueous solution of ethylene / unsaturated carboxylic acid copolymer>
Ethylene / acrylic acid copolymer (EAA) (acrylic acid 20% by weight, MFR: 300 g / 10 min), ammonia and ion-exchanged water are stirred and mixed at 95 ° C. for 2 hours to obtain a neutralization degree of 75% and a solid content of 20%. An aqueous liquid was prepared.

<水性シリカゾルの調製>
特開平6−16414号公報の段落[0012]〜[0031]の記載に準じて水性シリカゾルを調製した。すなわち、ナトリウム水ガラスJIS3号を硝酸ナトリウム水溶液に溶解し、珪酸ナトリウム水溶液を作製し、水素型カチオン交換樹脂カラム、水酸基型アニオン交換樹脂カラム、再度水素型カチオン交換樹脂カラムと順に通した後、水酸化ナトリウム水溶液を添加し、珪酸水溶液を得た。次いで、該珪酸水溶液の5%量を減圧蒸留し蒸発水を除去すると共に、残りの珪酸水溶液を連続的に徐々に供給することにより、減圧蒸留を連続的に行い、コロイダルシリカゾルを作製した。更に、該コロイダルシリカゾルを水素型カチオン交換樹脂カラム、水酸基型アニオン交換樹脂カラム、再度水素型カチオン交換樹脂カラムと順に通し、その直後に特級アンモニア水を添加し、pH9、平均粒子径20nm、各種金属酸化物濃度が500ppm未満の水性シリカゾル(反応性官能基はシラノール基割合:100モル%)を得た。
<Preparation of aqueous silica sol>
An aqueous silica sol was prepared according to the description in paragraphs [0012] to [0031] of JP-A-6-16414. That is, sodium water glass JIS3 was dissolved in a sodium nitrate aqueous solution to prepare a sodium silicate aqueous solution, which was passed through a hydrogen-type cation exchange resin column, a hydroxyl-type anion exchange resin column, and a hydrogen-type cation exchange resin column in this order, An aqueous sodium oxide solution was added to obtain an aqueous silicic acid solution. Next, 5% of the aqueous silicic acid solution was distilled under reduced pressure to remove evaporated water, and the remaining aqueous silicic acid solution was gradually and continuously supplied to continuously carry out reduced pressure distillation to produce a colloidal silica sol. Further, the colloidal silica sol is passed through a hydrogen-type cation exchange resin column, a hydroxyl group-type anion exchange resin column, and a hydrogen-type cation exchange resin column in this order, and immediately after that, special grade ammonia water is added, pH 9, average particle diameter 20 nm, various metals An aqueous silica sol having an oxide concentration of less than 500 ppm (reactive functional group: silanol group ratio: 100 mol%) was obtained.

実施例9
実施例1において、無機薄膜層間のアンカーコート層として、イソシアネート化合物(日本ポリウレタン工業製「コロネートL」)とウレタン樹脂(三菱化学製「マイテックNY220A」)とを質量比1:1で配合した混合物を塗布し、乾燥して厚さ0.5nmのアンカーコート層を形成した以外は同様にして積層フィルムを作製した。得られた積層フィルムについて、前記の評価を行った。結果を表1−2に示す。
Example 9
In Example 1, as an anchor coat layer between inorganic thin film layers, a mixture in which an isocyanate compound (“Coronate L” manufactured by Nippon Polyurethane Industry) and a urethane resin (“Mittech NY220A” manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation) were mixed at a mass ratio of 1: 1. A laminated film was prepared in the same manner except that an anchor coat layer having a thickness of 0.5 nm was formed by coating and drying. Said evaluation was performed about the obtained laminated | multilayer film. The results are shown in Table 1-2.

実施例10
実施例1において、無機薄膜層間のアンカーコート層として、イソシアネート化合物(日本ポリウレタン工業製「コロネートL」)とアクリル樹脂(ロームアンドハース製「パラロイドB66」)とを質量比1:1で配合した混合物を塗布し、乾燥して厚さ0.5nmのアンカーコート層を形成した以外は同様にして積層フィルムを作製した。得られた積層フィルムについて、前記の評価を行った。結果を表1−2に示す。
Example 10
In Example 1, as an anchor coat layer between the inorganic thin film layers, a mixture in which an isocyanate compound (“Coronate L” manufactured by Nippon Polyurethane Industry) and an acrylic resin (“Paralloid B66” manufactured by Rohm and Haas) were mixed at a mass ratio of 1: 1. A laminated film was prepared in the same manner except that an anchor coat layer having a thickness of 0.5 nm was formed by coating and drying. Said evaluation was performed about the obtained laminated | multilayer film. The results are shown in Table 1-2.

実施例11
実施例1において、無機薄膜層間のアンカーコート層として、イソシアネート化合物(日本ポリウレタン工業製「コロネートL」)とニトロセルロース樹脂(ダイセル化学工業製「RS1」)とを質量比1:1で配合した混合物を塗布し、乾燥して厚さ0.5nmのアンカーコート層を形成した以外は同様にして積層フィルムを作製した。得られた積層フィルムについて、前記の評価を行った。結果を表1−2に示す。
Example 11
In Example 1, as an anchor coat layer between inorganic thin film layers, a mixture containing an isocyanate compound (“Coronate L” manufactured by Nippon Polyurethane Industry) and a nitrocellulose resin (“RS1” manufactured by Daicel Chemical Industries) at a mass ratio of 1: 1. A laminated film was prepared in the same manner except that an anchor coat layer having a thickness of 0.5 nm was formed by coating and drying. Said evaluation was performed about the obtained laminated | multilayer film. The results are shown in Table 1-2.

実施例12
実施例1において、無機薄膜層間のアンカーコート層として、DCマグネトロンスパッタリング装置でクロムをターゲットとし、1×10-2Torrのアルゴン雰囲気下でスパッタリングを行い厚さ0.1nmのクロムを形成したアンカーコート層を用いた以外は同様にして積層フィルムを作製した。得られた積層フィルムについて、前記の評価を行った。結果を表1−2に示す。
Example 12
In Example 1, as an anchor coat layer between the inorganic thin film layers, a chromium magnet was used as a target in a DC magnetron sputtering apparatus, and the sputtering was performed in an argon atmosphere of 1 × 10 −2 Torr to form a chromium film having a thickness of 0.1 nm. A laminated film was produced in the same manner except that the layer was used. Said evaluation was performed about the obtained laminated | multilayer film. The results are shown in Table 1-2.

実施例13
実施例1において、無機薄膜層間のアンカーコート層として、プラズマCVD装置でシランとアンモニアを導入し、1×10-2Torrのアルゴン雰囲気下で形成した厚さ0.5nmのSi34をアンカーコート層とした以外は同様にして積層フィルムを作製した。得られた積層フィルムについて、前記の評価を行った。結果を表1−2に示す。
Example 13
In Example 1, as an anchor coat layer between inorganic thin film layers, silane and ammonia were introduced by a plasma CVD apparatus, and 0.5 nm thick Si 3 N 4 formed in an argon atmosphere of 1 × 10 −2 Torr was anchored. A laminated film was produced in the same manner except that the coating layer was used. Said evaluation was performed about the obtained laminated | multilayer film. The results are shown in Table 1-2.

実施例14
実施例1において、無機薄膜層間のアンカーコート層として、真空蒸着装置を使用して1×10-5Torrの真空下でTiO2を高周波加熱方式で蒸発させて形成した厚さ0.2nmのTiO2をアンカーコート層とした以外は同様にして積層フィルムを作製した。得られた積層フィルムについて、前記の評価を行った。結果を表1−2に示す。
Example 14
In Example 1, as an anchor coat layer between inorganic thin film layers, TiO 2 having a thickness of 0.2 nm was formed by evaporating TiO 2 by a high-frequency heating method under a vacuum of 1 × 10 −5 Torr using a vacuum deposition apparatus. A laminated film was prepared in the same manner except that 2 was an anchor coat layer. Said evaluation was performed about the obtained laminated | multilayer film. The results are shown in Table 1-2.

比較例1
実施例1において、無機薄膜層間のアンカーコート層を設けず、直接無機薄膜を形成した以外は同様にして積層フィルムを作製した。得られた積層フィルムについて、前記の評価を行った。結果を表1−2に示す。
比較例2
実施例1において、無機薄膜層間のアンカーコート層の厚さを200nmとした以外は同様にして積層フィルムを作製した。得られた積層フィルムについて、前記の評価を行った。結果を表1−2に示す。
Comparative Example 1
A laminated film was produced in the same manner as in Example 1 except that an inorganic thin film was directly formed without providing an anchor coat layer between inorganic thin film layers. Said evaluation was performed about the obtained laminated | multilayer film. The results are shown in Table 1-2.
Comparative Example 2
A laminated film was produced in the same manner as in Example 1 except that the thickness of the anchor coat layer between the inorganic thin film layers was 200 nm. Said evaluation was performed about the obtained laminated | multilayer film. The results are shown in Table 1-2.

Figure 0005103184
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Figure 0005103184
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本発明のガスバリア性積層フィルムは、水蒸気や酸素等の各種ガスの遮断を必要とする物品の包装、例えば、食品や工業用品及び医薬品等の変質を防止するための包装に広く利用される。また、包装用途以外にも、液晶表示素子、太陽電池、電磁波シールド、タッチパネル、EL用基板、カラーフィルター等で使用する透明導電シートとしても好適に使用できる。   The gas-barrier laminated film of the present invention is widely used for packaging of articles that need to block various gases such as water vapor and oxygen, for example, packaging for preventing alteration of food, industrial goods, pharmaceuticals, and the like. Moreover, it can use suitably also as a transparent conductive sheet used with a liquid crystal display element, a solar cell, an electromagnetic wave shield, a touch panel, a substrate for EL, a color filter, etc. besides a packaging use.

Claims (10)

基材フィルムの少なくとも一方の面に形成された無機薄膜(1)上に、厚さ0.1〜10nmのアンカーコート層(A)と該アンカーコート層(A)上に形成された無機薄膜(2)とからなる構成単位層を少なくとも1層有し、基材フィルムと無機薄膜(1)との間にアンカーコート層(B)を有し、かつ前記無機薄膜(1)及び(2)の各々が酸化珪素又は酸化アルミニウムからなり、
前記アンカーコート層(A)が、熱硬化性樹脂、熱可塑性樹脂、金属、金属酸化物及び金属窒化物からなる群から選択される少なくとも1種からなる層であり、前記金属酸化物がクロム、ニッケル、チタン、錫、鉄、又はモリブデン、あるいはこれら2種以上の合金の酸化物であるガスバリア性積層フィルム。
On the inorganic thin film (1) formed on at least one surface of the base film, an anchor coat layer (A) having a thickness of 0.1 to 10 nm and an inorganic thin film (A) formed on the anchor coat layer (A) 2) at least one constitutional unit layer, an anchor coat layer (B) between the base film and the inorganic thin film (1), and the inorganic thin films (1) and (2) each Ri is Do of silicon oxide or aluminum oxide,
The anchor coat layer (A) is a layer composed of at least one selected from the group consisting of a thermosetting resin, a thermoplastic resin, a metal, a metal oxide, and a metal nitride, and the metal oxide is chromium, A gas barrier laminate film which is an oxide of nickel, titanium, tin, iron, molybdenum, or an alloy of two or more of these .
前記構成単位層を1〜3層有する、請求項1記載の積層フィルム。  The laminated film according to claim 1, comprising 1 to 3 structural unit layers. 前記アンカーコート層(A)が、ポリエステル系樹脂、ウレタン系樹脂、アクリル系樹脂、ニトロセルロース系樹脂、シリコン系樹脂、及びイソシアネート系樹脂からなる群から選択される少なくとも1種の樹脂からなる、請求項1又は2に記載の積層フィルム。  The anchor coat layer (A) is made of at least one resin selected from the group consisting of polyester resins, urethane resins, acrylic resins, nitrocellulose resins, silicon resins, and isocyanate resins. Item 3. The laminated film according to Item 1 or 2. 前記アンカーコート層(A)がシランカップリング剤を含有する、請求項1〜3のいずれかに記載の積層フィルム。  The laminated film according to any one of claims 1 to 3, wherein the anchor coat layer (A) contains a silane coupling agent. 前記アンカーコート層(A)が、クロム、酸化チタン及び窒化珪素から選ばれる少なくとも一種からなる請求項1又は2に記載の積層フィルム。  The laminated film according to claim 1 or 2, wherein the anchor coat layer (A) comprises at least one selected from chromium, titanium oxide, and silicon nitride. 前記アンカーコート層(A)の厚さが0.1〜5nmである、請求項1〜5のいずれかに記載の積層フィルム。  The laminated film according to any one of claims 1 to 5, wherein the anchor coat layer (A) has a thickness of 0.1 to 5 nm. 最上層として保護層を有する、請求項1〜6のいずれかに記載の積層フィルム。  The laminated film according to claim 1, which has a protective layer as an uppermost layer. 保護層が水性樹脂からなる、請求項7記載の積層フィルム。  The laminated film according to claim 7, wherein the protective layer is made of an aqueous resin. 保護層が、ポリビニルアルコール、エチレンビニルアルコール及びエチレン・不飽和カルボン酸共重合体から選ばれる少なくとも一種の樹脂からなる、請求項8記載の積層フィルム。  The laminated film according to claim 8, wherein the protective layer comprises at least one resin selected from polyvinyl alcohol, ethylene vinyl alcohol, and an ethylene / unsaturated carboxylic acid copolymer. (A)基材フィルムの少なくとも一方の面に、アンカーコート層を設け、蒸着法により、該アンカーコート層上に酸化珪素又は酸化アルミニウムからなる無機薄膜を形成する工程、及び、(B)上記無機薄膜上に、厚さ0.1〜10nmのアンカーコート層、及び蒸着法により形成された酸化珪素又は酸化アルミニウムからなる無機薄膜を順次形成してなる構成単位層を少なくとも1層形成する工程、を有し、
(B)の前記厚さ0.1〜10nmのアンカーコート層が、熱硬化性樹脂、熱可塑性樹脂、金属、金属酸化物及び金属窒化物からなる群から選択される少なくとも1種からなる層であり、前記金属酸化物がクロム、ニッケル、チタン、錫、鉄、又はモリブデン、あるいはこれら2種以上の合金の酸化物であるガスバリア性積層フィルムの製造方法。
(A) A step of providing an anchor coat layer on at least one surface of the base film and forming an inorganic thin film made of silicon oxide or aluminum oxide on the anchor coat layer by a vapor deposition method; and (B) the above inorganic Forming at least one structural unit layer by sequentially forming an anchor coat layer having a thickness of 0.1 to 10 nm and an inorganic thin film made of silicon oxide or aluminum oxide formed by vapor deposition on the thin film; Yes, and
The anchor coat layer having a thickness of 0.1 to 10 nm in (B) is a layer composed of at least one selected from the group consisting of a thermosetting resin, a thermoplastic resin, a metal, a metal oxide, and a metal nitride. A method for producing a gas barrier laminate film , wherein the metal oxide is chromium, nickel, titanium, tin, iron, molybdenum, or an oxide of two or more of these alloys .
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