JP2003181974A - Transparent high water vapor barrier laminate - Google Patents
Transparent high water vapor barrier laminateInfo
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Abstract
Description
【０００１】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は、食品、医薬品、精
密電子部品等の包装分野に用いられる透明なガスバリア
材に関するものである。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a transparent gas barrier material used in the field of packaging foods, pharmaceuticals, precision electronic parts and the like.
【０００２】[0002]
【従来の技術】近年、食品、医薬品等の包装分野では、
包装した内容物の蛋白質や油脂等の酸化や変質を抑制し
て味や鮮度を保持する為に、また、内容物の有効成分の
変質を抑制して効能を維持する為に、使用する包装材料
には酸素や水蒸気の透過に対する高度なガスバリア性が
要求される。そのため、前記ガスバリア性を付与させる
為にポリビニルアルコール(ＰＶＡ)、エチレン・ビニル
アルコール共重合体(ＥＶＯＨ)、あるいはポリ塩化ビニ
リデン(ＰＶＤＣ)などのガスバリア性樹脂をコーティン
グしたフイルムやこれらの樹脂からなるフイルムを積層
した積層体、さらには、酸化珪素(ＳｉＯｘ)などの無機
化合物を蒸着したフイルムが使用されてきた。2. Description of the Related Art In recent years, in the packaging field of foods, pharmaceuticals, etc.,
A packaging material used to prevent oxidation and deterioration of proteins and fats and oils in the packaged contents to maintain taste and freshness, and to suppress deterioration of the active ingredients of the contents to maintain efficacy Has a high gas barrier property against permeation of oxygen and water vapor. Therefore, a film coated with a gas barrier resin such as polyvinyl alcohol (PVA), ethylene-vinyl alcohol copolymer (EVOH), or polyvinylidene chloride (PVDC) in order to impart the gas barrier property, or a film formed of these resins. A laminated body in which the above are laminated, and further, a film in which an inorganic compound such as silicon oxide (SiOx) is vapor-deposited have been used.
【０００３】[0003]
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、前記Ｐ
ＶＡやＥＶＯＨを用いたガスバリア材は、ガスバリア性
の温湿度依存性が大きく、高温又は高湿下においてガス
バリア性が低下する。特に水蒸気バリア性の低下が著し
く、煮沸殺菌処理やレトルト殺菌処理を行う用途や、内
容物に多くの水分が含まれる高水分活性の食品包装用と
しては不適である。また、ＰＶＤＣを用いたガスバリア
材は湿度依存性は小さいが、高ガスバリア性を得ること
は困難であり、加えて塩素を含むために焼却処理やリサ
イクル使用などの廃棄物処理の面で問題があった。However, the above-mentioned P
The gas barrier material using VA or EVOH has a large temperature-humidity dependency of the gas barrier property, and the gas barrier property deteriorates at high temperature or high humidity. In particular, the water vapor barrier property is remarkably lowered, and it is unsuitable for applications such as boiling sterilization treatment and retort sterilization treatment, and food packaging with high water activity in which the content contains a large amount of water. Further, a gas barrier material using PVDC has a small humidity dependency, but it is difficult to obtain a high gas barrier property, and in addition, since chlorine is contained, there is a problem in waste treatment such as incineration treatment or recycling use. It was
【０００４】また、前記包装分野では、ガスバリア材と
してアルミニウム箔やアルミニウム蒸着フイルムなども
用いられているが、これらは不透明で内容物の目視確認
が出来ないこと、内容物充填後の金属検査機による金属
片などの異物検査が出来ないこと、電子レンジなどのマ
イクロ波による内容物の加熱が出来ないこと、廃棄後の
焼却処理においてアルミニウムが熔融して炉底に溜ま
り、焼却炉を傷めることなどの欠点があった。In the packaging field, aluminum foil and aluminum vapor deposition film are also used as gas barrier materials, but these are opaque and the contents cannot be visually confirmed. Inability to inspect foreign matter such as metal pieces, heating of contents with microwaves such as microwave ovens, aluminum melting and accumulating at the furnace bottom during incineration processing after disposal, damage to the incinerator, etc. There was a flaw.
【０００５】そこで、これらの欠点を克服した包装用材
料として、最近では高分子材料からなる透明基材フイル
ム上に蒸着法などで無機化合物の薄膜層を一層積層した
積層体が上市されているが、水蒸気透過率が０．１ｇ／
ｍ2・２４ｈ以下の高バリアー性のものはなかった。Therefore, as a packaging material that overcomes these drawbacks, recently, a laminated body in which a thin film layer of an inorganic compound is further laminated by a vapor deposition method or the like on a transparent base film made of a polymer material has been put on the market. , Water vapor transmission rate is 0.1g /
There was no one with a high barrier property of m 2 · 24h or less.
【０００６】本発明の課題は、軽量で可撓性に優れ、透
明で、かつ、水蒸気透過率が０．１ｇ／ｍ2 ・２４ｈ以
下の高水蒸気バリア積層体を提供することにある。An object of the present invention is to provide a high water vapor barrier laminate which is lightweight, has excellent flexibility, is transparent, and has a water vapor transmission rate of 0.1 g / m 2 · 24 h or less.
【０００７】[0007]
【課題を解決するための手段】本発明の請求項１に係る
発明は、高分子材料からなる透明基材フイルムの少なく
とも一方の面に、酸化アルミニウムの蒸着薄膜層、ガス
バリア性被膜層、酸化アルミニウム蒸着薄膜層を順次積
層したものからなることを特徴とする透明な高水蒸気バ
リア積層体である。The invention according to claim 1 of the present invention provides a vapor-deposited thin film layer of aluminum oxide, a gas barrier coating layer, and aluminum oxide on at least one surface of a transparent substrate film made of a polymer material. It is a transparent high water vapor barrier laminate characterized by being formed by sequentially depositing vapor-deposited thin film layers.
【０００８】次に、請求項２に係る発明は、上記請求項
１に係る発明において、前記蒸着薄膜層の厚さが５〜１
００ｎｍの範囲内であることを特徴とする透明な高水蒸
気バリア積層体である。A second aspect of the present invention is the invention according to the first aspect, wherein the vapor-deposited thin film layer has a thickness of 5 to 1
It is a transparent high water vapor barrier laminate characterized by being in the range of 00 nm.
【０００９】次に、請求項３に係る発明は、上記請求項
１または請求項２に係る発明において、前記ガスバリア
性被膜層がガスバリア性有機高分子樹脂又はガスバリア
性無機化合物からなることを特徴とする透明な高水蒸気
バリア積層体である。Next, the invention according to claim 3 is characterized in that, in the invention according to claim 1 or 2, the gas barrier coating layer is made of a gas barrier organic polymer resin or a gas barrier inorganic compound. It is a transparent high water vapor barrier laminate.
【００１０】[0010]
【発明の実施の形態】本発明の透明な高水蒸気バリア積
層体を実施の形態に沿って以下に詳細に説明する。BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION The transparent high water vapor barrier laminate of the present invention will be described in detail below with reference to embodiments.
【００１１】図１は本発明の一実施の形態を示す透明な
高水蒸気バリア積層体の側断面図であり、積層体の厚み
方向に順に、透明基材フイルム（１）、酸化アルミニウ
ムの蒸着薄膜層（２）、ガスバリア性被膜層（３）、酸
化アルミニウムの蒸着薄膜層（４）が積層されている。FIG. 1 is a side sectional view of a transparent high water vapor barrier laminate showing an embodiment of the present invention. A transparent substrate film (1) and a vapor-deposited thin film of aluminum oxide are sequentially arranged in the thickness direction of the laminate. The layer (2), the gas barrier coating layer (3) and the vapor deposited thin film layer (4) of aluminum oxide are laminated.
【００１２】前記透明基材フイルム（１）は無色透明な
高分子材料からなり、例えば、ポリエチレンテレフタレ
ート（ＰＥＴ）、ポリプロピレン（ＰＰ）、ナイロン
（Ｎｙ）樹脂などの機械的強度、寸法安定性を有するも
のが好ましく、これらをフイルム状に加工、さらには二
軸方向に延伸したものが用いられる。また、この透明基
材フイルム（１）の表面に蒸着薄膜層の密着性を良くす
るために、前処理としてコロナ処理、低温プラズマ処
理、イオンボンバード処理を施しておいてもよく、さら
に薬品処理、溶剤処理などを施してもよい。The transparent substrate film (1) is made of a colorless and transparent polymer material, and has mechanical strength and dimensional stability such as polyethylene terephthalate (PET), polypropylene (PP) and nylon (Ny) resin. Those which are preferably processed into a film shape and further biaxially stretched are used. Further, in order to improve the adhesion of the vapor-deposited thin film layer on the surface of the transparent substrate film (1), corona treatment, low temperature plasma treatment, ion bombardment treatment may be performed as pretreatment, and further chemical treatment, You may perform a solvent treatment etc.
【００１３】前記透明基材フイルム（１）の厚さは特に
制限を受けるものではないが、包装材料としての適性、
他のフイルムを積層あるいは蒸着薄膜層を形成する場合
の加工性等を考慮すると、５〜５０μｍの範囲が好まし
い。The thickness of the transparent base film (1) is not particularly limited, but suitability as a packaging material,
Considering the processability when laminating other films or forming a vapor-deposited thin film layer, the range of 5 to 50 μm is preferable.
【００１４】また、量産性を考慮すれば、連続的に蒸着
薄膜層を形成できるように長尺状フイルムとすることが
望ましい。In consideration of mass productivity, it is desirable to use a long film so that the vapor-deposited thin film layer can be continuously formed.
【００１５】前記蒸着薄膜層（２）及び（４）は酸化ア
ルミニウムからなり、その積層方法はアルミニウム金属
を蒸発原材料にして、酸素ガス、炭酸ガスと不活性ガス
などとの混合ガスの存在下で薄膜形成を行う、いわゆる
反応性蒸着法で積層させる方法が生産性の点から望まし
い。その他に、反応性スパッタリング、反応性イオンプ
レーティングにより連続的に無機化合物の蒸着薄膜層を
積層することも出来る。The vapor-deposited thin film layers (2) and (4) are made of aluminum oxide, and the lamination method is to use aluminum metal as an evaporation raw material in the presence of a mixed gas of oxygen gas, carbon dioxide gas and an inert gas. A method of forming a thin film, that is, a method of laminating by a so-called reactive vapor deposition method is desirable from the viewpoint of productivity. In addition, a vapor deposition thin film layer of an inorganic compound can be continuously laminated by reactive sputtering or reactive ion plating.
【００１６】前記蒸着薄膜層（２）及び（４）の膜厚
は、５〜１００ｎｍの範囲内であることが望ましく、そ
の値は適宜選択される。ただし、膜厚が５ｎｍ以下であ
ると透明基材フイルム１の全面に均一な薄膜が形成され
ないことがあり、ガスバリア材としての機能を十分に果
たすことができない場合がある。また、膜厚が１００ｎ
ｍを超えた場合は蒸着薄膜にフレキシビリティを保持さ
せることができず、成膜後に折り曲げ、引っ張りなどの
外的要因により、蒸着薄膜に亀裂を生じる恐れがあるた
め良くない。The film thickness of the vapor-deposited thin film layers (2) and (4) is preferably in the range of 5 to 100 nm, and the value is appropriately selected. However, if the film thickness is 5 nm or less, a uniform thin film may not be formed on the entire surface of the transparent substrate film 1, and the function as a gas barrier material may not be sufficiently fulfilled. In addition, the film thickness is 100n
If it exceeds m, the vapor-deposited thin film cannot retain flexibility, and cracks may occur in the vapor-deposited thin film due to external factors such as bending and pulling after the film formation, which is not preferable.
【００１７】前記ガスバリア性被膜層（３）は、より高
い水蒸気バリア性を付与するために前記酸化アルミニウ
ムの蒸着薄膜層（２）の上にさらに積層されるものであ
る。ガスバリア性被膜層（３）に用いる物質の具体例と
して、ガスバリア性を有する有機高分子樹脂としては電
子線硬化型のアクリル樹脂、尿素樹脂などが挙げられ、
ガスバリア性を有する無機化合物としては化学気相成長
法で形成された酸化珪素、ダイヤモンドライクカーボン
などが挙げられる。The gas barrier coating layer (3) is further laminated on the vapor-deposited thin film layer (2) of aluminum oxide in order to impart a higher water vapor barrier property. Specific examples of the substance used for the gas barrier coating layer (3) include electron beam curable acrylic resins and urea resins as the organic polymer resin having gas barrier properties.
Examples of the inorganic compound having a gas barrier property include silicon oxide formed by chemical vapor deposition and diamond-like carbon.
【００１８】前記ガスバリア性被膜層（３）に用いる有
機高分子樹脂の厚さは０．０１μｍ以上あればよいが、
厚さが５０μｍを超えると膜にクラックが生じ易くなる
ため、０．０１〜５０μｍの範囲が好ましい。The thickness of the organic polymer resin used for the gas barrier coating layer (3) may be 0.01 μm or more.
When the thickness exceeds 50 μm, cracks are likely to occur in the film, so the range of 0.01 to 50 μm is preferable.
【００１９】前記ガスバリア性被膜層（３）に用いる無
機化合物の厚さは５ｎｍ以上１００ｎｍ以下に設定する
ことが好ましい。５ｎｍ以下であると十分なガスバリア
性が得られない等の弊害が生じ、１００ｎｍを超えると
密着性が悪くなり、薄膜に亀裂などが生じ良くない。The thickness of the inorganic compound used in the gas barrier coating layer (3) is preferably set to 5 nm or more and 100 nm or less. If the thickness is 5 nm or less, a bad effect such as insufficient gas barrier property may not be obtained, and if the thickness exceeds 100 nm, the adhesion may be poor and the thin film may be cracked.
【００２０】前記ガスバリア性被膜層（３）の積層方法
は、アクリル樹脂の場合はアクリルモノマーまたはメタ
クリルモノマーを蒸着薄膜層（２）の上に塗工し、その
塗工モノマーに電子線を照射して重合させ、硬化させて
アクリル樹脂層を形成させる。In the method of laminating the gas barrier coating layer (3), in the case of an acrylic resin, an acrylic monomer or a methacrylic monomer is applied onto the vapor-deposited thin film layer (2), and the applied monomer is irradiated with an electron beam. To polymerize and cure to form an acrylic resin layer.
【００２１】また、酸化珪素の場合は化学気相成長法
（ＣＶＤ法：Ｃｈｅｍｉｃａｌ Ｖａｐｏｒ Ｄｅｐｏ
ｓｉｔｉｏｎ）で積層する。その積層方法の一例につい
て説明すると、使用する有機モノマーとしては、１，
１，３，３−テトラメチルジシロキサン、ヘキサメチル
ジシロキサン、ビニルトリメチルシラン、メチルトリメ
チキシシラン、ヘキサメチルジシラン、メチルシラン、
ジメチルシラン、トリメチルシラン、ジエチルシラン、
プロピルシラン、フェニルシラン、ビニルトリエトキシ
シラン、ビニルトリメトキシシラン、テトラメトキシシ
ラン、テトラエトキシシラン、フェニルトリメトキシシ
ラン、メチルトリエトキシシラン、オクタメチルシクロ
テトラシロキサン等で、その中でも、１，１，３，３−
テトラメチルジシロキサン、ヘキサメチルジシロキサン
を原料として使用することが好ましい。上記の有機モノ
マーを気化させ、酸素若しくは酸化力を有するガス（例
えばＣＯ2等 ）と混合したガス、または、上記ガスに不
活性ガスであるヘリウム又はアルゴンを混合したガス、
若しくはこれに窒素、弗化炭素などを適宜加え、真空製
膜装置に導入して、酸化珪素の薄膜を形成させる。その
膜厚は５〜１００ｎｍの範囲が好ましい。Further, in the case of silicon oxide, a chemical vapor deposition method (CVD method: Chemical Vapor Depo) is used.
layer). Explaining one example of the stacking method, as the organic monomer used, 1,
1,3,3-tetramethyldisiloxane, hexamethyldisiloxane, vinyltrimethylsilane, methyltrimethyloxysilane, hexamethyldisilane, methylsilane,
Dimethylsilane, trimethylsilane, diethylsilane,
Propylsilane, phenylsilane, vinyltriethoxysilane, vinyltrimethoxysilane, tetramethoxysilane, tetraethoxysilane, phenyltrimethoxysilane, methyltriethoxysilane, octamethylcyclotetrasiloxane, etc., among which 1,1,3 , 3-
It is preferable to use tetramethyldisiloxane or hexamethyldisiloxane as a raw material. A gas obtained by vaporizing the above organic monomer and mixing it with oxygen or a gas having an oxidizing power (for example, CO 2 or the like), or a gas obtained by mixing the above gas with an inert gas such as helium or argon,
Alternatively, nitrogen, carbon fluoride, or the like is appropriately added to this and introduced into a vacuum film forming apparatus to form a thin film of silicon oxide. The film thickness is preferably in the range of 5 to 100 nm.
【００２２】[0022]
【実施例】本発明の透明な高水蒸気バリア積層体を具体
的な実施例を挙げて説明するが、本発明がこれらの実施
例に限定されるものではない。EXAMPLES The transparent high water vapor barrier laminate of the present invention will be described with reference to specific examples, but the present invention is not limited to these examples.
【００２３】〈実施例１〉以下の積層はすべて同一の真
空製膜装置を用いて実施した。透明基材フイルム（１）
として厚さ１２μｍの二軸延伸ポリエステルフイルム
（ＰＥＴフイルム）を使用し、そのＰＥＴフイルムの上
に蒸発原材料としてアルミニウムを用いて反応性蒸着法
により、厚さ２０ｎｍの酸化アルミニウムの蒸着薄膜層
（２）を積層し、さらに、その蒸着薄膜層（２）の上に
アクリルモノマーを塗布した後に電子線を照射して硬化
させ、厚さ５μｍのアクリル樹脂からなるガスバリア性
被膜層（３）を積層し、さらに、そのガスバリア性被膜
層（３）の上に蒸着薄膜層（２）と同様な方法で厚さ２
０ｎｍの酸化アルミニウムの蒸着薄膜層（４）を積層
し、本発明の透明な高水蒸気バリア積層体を作成した。<Example 1> The following lamination was carried out by using the same vacuum film forming apparatus. Transparent substrate film (1)
As a vapor-deposited thin film layer of aluminum oxide having a thickness of 20 nm by a reactive vapor deposition method using a biaxially stretched polyester film (PET film) having a thickness of 12 μm as the evaporating raw material on the PET film (2) And further coating the vapor-deposited thin film layer (2) with an acrylic monomer and then irradiating it with an electron beam to cure it, and laminating a gas barrier coating layer (3) made of an acrylic resin having a thickness of 5 μm, Furthermore, a thickness of 2 is formed on the gas barrier coating layer (3) in the same manner as the vapor-deposited thin film layer (2).
A vapor-deposited thin film layer (4) of 0 nm aluminum oxide was laminated to prepare a transparent high water vapor barrier laminate of the present invention.
【００２４】〈実施例２〉以下の積層はすべて同一の真
空製膜装置を用いて実施した。透明基材フイルム（１）
として厚さ１２μｍの二軸延伸ポリエステルフイルム
（ＰＥＴフイルム）を使用し、そのＰＥＴフイルムの上
に蒸発原材料としてアルミニウムを用いて反応性蒸着法
により、厚さ２０ｎｍの酸化アルミニウムの蒸着薄膜層
（２）を積層し、さらに、その蒸着薄膜層（２）の上に
ＣＶＤ法により厚さ１０ｎｍの酸化珪素を主成分とした
ものからなるガスバリア性被膜層（３）を積層した。さ
らに、そのガスバリア性被膜層（３）の上に蒸着薄膜層
（２）と同様な方法で厚さ２０ｎｍの酸化アルミニウム
の蒸着薄膜層（４）を積層し、本発明の透明な高水蒸気
バリア積層体を作成した。<Embodiment 2> The following lamination was carried out using the same vacuum film forming apparatus. Transparent substrate film (1)
As a vapor-deposited thin film layer of aluminum oxide having a thickness of 20 nm by a reactive vapor deposition method using a biaxially stretched polyester film (PET film) having a thickness of 12 μm as the evaporating raw material on the PET film (2) Was further laminated on the vapor-deposited thin film layer (2), and a gas barrier coating layer (3) having a thickness of 10 nm and containing silicon oxide as a main component was further laminated thereon by the CVD method. Further, a vapor-deposited thin film layer (4) of aluminum oxide having a thickness of 20 nm is laminated on the gas barrier film layer (3) in the same manner as the vapor-deposited thin film layer (2), and the transparent high water vapor barrier laminate of the present invention is laminated. Created the body.
【００２５】〈比較例１〉透明基材フイルム（１）とし
て厚さ１２μｍの二軸延伸ポリエステルフイルム（ＰＥ
Ｔフイルム）を使用し、そのＰＥＴフイルムの上に真空
製膜装置を用いて、蒸発原材料としてアルミニウムを用
いて反応性蒸着法により、厚さ２０ｎｍの酸化アルミニ
ウムの蒸着薄膜層（２）を積層し、比較用の水蒸気バリ
ア積層体を作成した。<Comparative Example 1> As the transparent substrate film (1), a biaxially stretched polyester film (PE) having a thickness of 12 μm is used.
T film), and using a vacuum film forming apparatus on the PET film, aluminum is used as an evaporation raw material and a vapor deposition thin film layer (2) of aluminum oxide having a thickness of 20 nm is laminated by a reactive vapor deposition method. A water vapor barrier laminate for comparison was prepared.
【００２６】〈評価〉実施例１〜２及び比較例１の水蒸
気バリア積層体の水蒸気透過率を以下に示す測定方法で
測定し、評価した。その結果を表１に示す。
（１）水蒸気透過率
モダンコントロール社製（ＭＯＣＯＮ ＰＥＲＭＡＴＲ
ＡＮ、Ｗ６）を用いて、４０℃、９０％ＲＨ雰囲気下で
測定した。<Evaluation> The water vapor permeability of the water vapor barrier laminates of Examples 1 and 2 and Comparative Example 1 was measured and evaluated by the following measuring method. The results are shown in Table 1. (1) Water vapor transmission rate Made by Modern Control (MOCON PERMATR
AN, W6) was used and the measurement was performed at 40 ° C. in a 90% RH atmosphere.
【００２７】[0027]
【表１】 [Table 1]
【００２８】表１の結果から、実施例１及び２は水蒸気
透過率が０．１ｇ／ｍ2・２４ｈ以下であり、高い水蒸
気バリア性を有している。一方、比較例１は水蒸気透過
率が大きく、バリア性が悪い。From the results shown in Table 1, Examples 1 and 2 have a water vapor permeability of 0.1 g / m 2 · 24 h or less, and have a high water vapor barrier property. On the other hand, Comparative Example 1 has a large water vapor permeability and poor barrier properties.
【００２９】[0029]
【発明の効果】本発明の透明な高水蒸気バリア積層体
は、透明基材フイルムの一方の面に酸化アルミニウムの
蒸着薄膜層、有機高分子樹脂または無機化合物からなる
ガスバリア性被膜層、酸化アルミニウムの蒸着薄膜層を
順次積層しているので、高透明で、かつ、高い水蒸気バ
リア性を有しているので、アルミニウム箔を使用した積
層体の代替え品として使用できる。更に、本発明の透明
な高水蒸気バリア積層体は廃棄後の焼却時も特に問題な
く焼却できる包装材料である。The transparent high water vapor barrier laminate of the present invention comprises a vapor-deposited thin film layer of aluminum oxide, a gas barrier coating layer made of an organic polymer resin or an inorganic compound, and an aluminum oxide film on one surface of a transparent substrate film. Since the vapor-deposited thin film layers are sequentially laminated, they are highly transparent and have a high water vapor barrier property, and thus can be used as a substitute for a laminate using an aluminum foil. Further, the transparent high water vapor barrier laminate of the present invention is a packaging material that can be incinerated without any particular problem even after incineration after disposal.
【図１】本発明の透明な高水蒸気バリア積層体の側断面
図である。FIG. 1 is a side sectional view of a transparent high water vapor barrier laminate of the present invention.
１…透明基材フイルム ２…蒸着薄膜層 ３…ガスバリア性被膜層 ４…蒸着薄膜層 1 ... Transparent base film 2 ... Evaporated thin film layer 3 ... Gas barrier coating layer 4 ... Evaporated thin film layer
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Ｆターム(参考） 4F100 AA00C AA00E AA19B AA19D AA19E AA20C AK01A AK01C AK01E AK25C AK42A AR00C AR00E BA04 BA05 BA06 BA07 BA10A BA10D BA10E BA13 EH66B EH66C EH66D EH66E EJ38A GB15 GB23 GB41 GB66 JA20B JA20D JA20E JD02C JD02E JD04 JM02B JM02C JM02D JM02E JN01A YY00B YY00D YY00E 4K029 AA11 AA25 BA03 BA44 BB02 BC07 CA02 EA01 ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continued front page F term (reference) 4F100 AA00C AA00E AA19B AA19D AA19E AA20C AK01A AK01C AK01E AK25C AK42A AR00C AR00E BA04 BA05 BA06 BA07 BA10A BA10D BA10E BA13 EH66B EH66C EH66D EH66E EJ38A GB15 GB23 GB41 GB66 JA20B JA20D JA20E JD02C JD02E JD04 JM02B JM02C JM02D JM02E JN01A YY00B YY00D YY00E 4K029 AA11 AA25 BA03 BA44 BB02 BC07 CA02 EA01
Claims (3)
なくとも一方の面に、酸化アルミニウムの蒸着薄膜層、
ガスバリア性被膜層、酸化アルミニウムの蒸着薄膜層を
順次積層したものからなることを特徴とする透明な高水
蒸気バリア積層体。1. A vapor-deposited thin film layer of aluminum oxide on at least one surface of a transparent substrate film made of a polymeric material,
A transparent high water vapor barrier laminate comprising a gas barrier film layer and a vapor deposited thin film layer of aluminum oxide, which are sequentially laminated.
範囲内であることを特徴とする請求項１記載の透明な高
水蒸気バリア積層体。2. The transparent high water vapor barrier laminate according to claim 1, wherein the thickness of the deposited thin film layer is in the range of 5 to 100 nm.
機高分子樹脂またはガスバリア性無機化合物からなるこ
とを特徴とする請求項１または請求項２記載の透明な高
水蒸気バリア積層体。3. The transparent high water vapor barrier laminate according to claim 1, wherein the gas barrier coating layer is made of a gas barrier organic polymer resin or a gas barrier inorganic compound.
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
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| EP1927465A4 (en) * | 2005-09-20 | 2012-06-13 | Mitsubishi Plastics Inc | Laminated film having gas barrier characteristics |
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| CN105102216A (en) * | 2013-03-29 | 2015-11-25 | 琳得科株式会社 | Laminate, method for producing same, member for electronic device, and electronic device |
-
2001
- 2001-12-21 JP JP2001389421A patent/JP2003181974A/en active Pending
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|---|---|---|---|---|
| EP1927465A4 (en) * | 2005-09-20 | 2012-06-13 | Mitsubishi Plastics Inc | Laminated film having gas barrier characteristics |
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| CN105102216B (en) * | 2013-03-29 | 2017-09-29 | 琳得科株式会社 | Layered product and its manufacture method, electronic equipment part and electronic equipment |
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