JP5077919B2 - Vacuum deposition equipment - Google Patents
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Abstract
Description
真空チャンバー内にターゲットを配置し、当該ターゲットに対し坩堝から発生した所望材料の蒸気を導き、前記ターゲットに蒸着させる真空蒸着装置に関する。 The present invention relates to a vacuum deposition apparatus in which a target is disposed in a vacuum chamber, a vapor of a desired material generated from a crucible is guided to the target, and vapor deposition is performed on the target.
この種真空蒸着装置では、坩堝から発生した蒸気をターゲットに均等に導くには、ターゲットの蒸着面に対向する箇所から蒸気をチャンバー内に導くのが有効である。
しかし、特開２００３−９５７８７号公報に示されているように複数の材料をターゲットに順次蒸着する場合は、それぞれの坩堝から発生した蒸気をチャンバー内に導く導管の出口が互いに邪魔をするために、ターゲットからの距離を遠くに配置しなければならなかった。
このような場合、チャンバー内に導かれた蒸気が散逸して、ターゲットへの蒸着量に比し多量の材料を消費することとなった。
他方、従来は、ターゲットとの距離が一定と定められていたので、蒸気の種類によりターゲットとの距離を調整することが出来なかったので、蒸気温度や真空度あるいは、材料選択によってのみ蒸着状態を制御することができなった。
In this type of vacuum vapor deposition apparatus, in order to uniformly introduce the vapor generated from the crucible to the target, it is effective to introduce the vapor into the chamber from a location facing the vapor deposition surface of the target.
However, when sequentially depositing a plurality of materials on a target as disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open No. 2003-95787, the outlets of the conduits that guide the vapor generated from each crucible into the chamber interfere with each other. Had to be located far from the target.
In such a case, the vapor introduced into the chamber is dissipated, and a large amount of material is consumed as compared with the deposition amount on the target.
On the other hand, since the distance to the target has been determined to be constant in the past, the distance to the target could not be adjusted depending on the type of vapor, so the vapor deposition state was changed only by the vapor temperature, the degree of vacuum, or material selection. I couldn't control it.
本発明は、このような実情に鑑み、ターゲットと蒸気の供給口との距離を自由に調整できるようにして蒸気問題を解決することを目的とする。 In view of such circumstances, the present invention has an object to solve the steam problem by allowing the distance between the target and the steam supply port to be freely adjusted.
また、間隔の如何にかかわらず良好な蒸着が可能なようにすることを目的とする。 It is another object of the present invention to allow good vapor deposition regardless of the interval.
本第一の発明の真空蒸着装置は、前記坩堝とこれを底部に配置した蒸気案内管とを内部に収納した伸縮管を前記チャンバーに対し密封状に固定するとともに、前記伸縮管の長さを調整する機構を有し、当該長さ調整機構により、前記蒸気案内管の先端と前記ターゲットとの距離を遠近調整可能にした蒸気供給構造を設けたことを特徴とする構成を採用した。 The vacuum vapor deposition apparatus according to the first aspect of the present invention fixes the expansion tube containing the crucible and the steam guide tube disposed at the bottom thereof in a sealed manner with respect to the chamber and the length of the expansion tube. It has a mechanism for adjusting, and a configuration is provided in which a steam supply structure is provided in which the distance between the tip of the steam guide tube and the target can be adjusted by the length adjusting mechanism.
本第二の発明の真空蒸着装置は、前記第一発明において、前記蒸気供給構造を複数組設けてあると共に、いずれの蒸気供給構造も、再接近状態でのターゲットとの距離がほぼ同じになるように配置してあることを特徴とする構成を採用した。 The vacuum vapor deposition apparatus according to the second aspect of the present invention includes a plurality of the vapor supply structures in the first aspect, and each of the vapor supply structures has substantially the same distance from the target in the reapproaching state. A configuration characterized by being arranged as described above was adopted.
本第三の発明の真空蒸着装置は、前記第一発明又は第二発明において、ターゲットから離れた退避位置において、前記蒸気案内管の先端を塞ぐ開閉蓋が設けてあることを特徴とする構成を採用した。 The vacuum evaporation apparatus according to the third aspect of the invention is characterized in that, in the first invention or the second invention, an open / close lid is provided to close the tip of the vapor guide tube at a retracted position away from the target. Adopted.
本第四の発明の真空蒸着装置は、 前記第三発明において、前記長さ調整機構による前記蒸気案内管の遠近移動にともない開閉蓋を開閉する構造を有し、ターゲットに一定以上接近させると開き、一定以上離れさせると閉じるようにしてあることを特徴とする構成を採用した。 The vacuum evaporation apparatus according to the fourth aspect of the present invention has a structure that opens and closes the opening / closing lid in accordance with the movement of the vapor guide tube by the length adjusting mechanism in the third aspect of the invention, and opens when the target is more than a certain distance. The structure is characterized in that it is closed when it is separated by a certain distance or more.
本第五の発明の真空蒸着装置は、真空チャンバー内にターゲットを配置し、当該ターゲットに対し坩堝から発生した所望材料の蒸気を導き、前記ターゲットに蒸着させる真空蒸着装置であって、前記蒸気を導くのに蒸気案内管を使用し、この案内管は内管と外管からなる二重構造を有し、前記内管は、内部を蒸気通路とし、全長にわたって加熱するヒータが外周に設けてあり、外管は前記内管との間に間隔を有し、前記過熱ヒータからの放熱を外管内に保持するようにしてあることを特徴とする構成を採用した。 A vacuum vapor deposition apparatus according to a fifth aspect of the present invention is a vacuum vapor deposition apparatus in which a target is disposed in a vacuum chamber, vapor of a desired material generated from a crucible is guided to the target, and vapor is deposited on the target. A steam guide pipe is used for guiding, and this guide pipe has a double structure consisting of an inner pipe and an outer pipe. The inner pipe has a steam passage inside and a heater for heating the entire length is provided on the outer circumference. The outer tube has a space between the inner tube and heat radiation from the overheater is held in the outer tube.
本第六の発明の真空蒸着装置は、前記第五発明において、前記坩堝とこれを底部に配置した前記蒸気案内管とを内部に収納した伸縮管を前記チャンバーに対し密封状に固定するとともに、前記伸縮管の長さを調整する機構を有し、当該長さ調整機構により、前記蒸気案内管の先端と前記ターゲットとの距離を遠近調整可能にした蒸気供給構造を設けたことを特徴とする構成を採用した。 The vacuum vapor deposition apparatus of the sixth aspect of the present invention is the fifth aspect of the invention, wherein the expansion tube containing the crucible and the steam guide tube disposed at the bottom is fixed in a sealed manner to the chamber. It has a mechanism for adjusting the length of the telescopic tube, and a steam supply structure is provided that allows the distance between the tip of the steam guide tube and the target to be adjusted by the length adjusting mechanism. Adopted the configuration.
本第七の発明の真空蒸着装置は、前記第六発明において、前記蒸気供給構造を複数組設けてあると共に、いずれの蒸気供給構造も、再接近状態でのターゲットとの距離がほぼ同じになるように配置してあることを特徴とする構成を採用した。 The vacuum vapor deposition apparatus according to the seventh aspect of the present invention is the vacuum vapor deposition apparatus according to the sixth aspect, wherein a plurality of the vapor supply structures are provided, and any of the vapor supply structures has substantially the same distance from the target in the reapproaching state. A configuration characterized by being arranged as described above was adopted.
本第八の発明の真空蒸着装置は、前記第六又は七発明において、ターゲットから離れた退避位置において、前記蒸気案内管の先端を塞ぐ開閉蓋が設けてあることを特徴とする構成を採用した。 In the sixth or seventh invention, the vacuum vapor deposition apparatus of the eighth invention employs a configuration characterized in that an open / close lid is provided to close the tip of the vapor guide tube at a retracted position away from the target. .
本第九の発明の真空蒸着装置は、 前記第八発明において、前記長さ調整機構による前記蒸気案内管の遠近移動にともない開閉蓋を開閉する構造を有し、ターゲットに一定以上接近させると開き、一定以上離れさせると閉じるようにしてあることを特徴とする構成を採用した。 A vacuum deposition apparatus according to a ninth aspect of the present invention has the structure according to the eighth aspect, wherein the open / close lid is opened and closed as the steam guide tube is moved by the length adjusting mechanism, and opens when the target approaches a certain distance. The structure is characterized in that it is closed when it is separated by a certain distance or more.
本第一の発明の真空蒸着装置は、温度や真空度などの外に蒸着源（蒸気案内管の先端）とターゲットの距離をも制御要素に加えることができるようになり、より自由な蒸着をおこなうことができるようになった。 The vacuum deposition apparatus according to the first aspect of the present invention can add the distance between the deposition source (the tip of the steam guide tube) and the target to the control element in addition to the temperature and the degree of vacuum, etc. I was able to do it.
本第二の発明の真空蒸着装置は、上記構成により、蒸気案内管の先端、つまり、チャンバー内に蒸気を供給する口部の位置を、ターゲットに対し遠近させることができるようになったので、複数の材料をターゲットに順次蒸着させるに当たり、蒸着以外の蒸気案内管を退避（離れた位置）に配置して空間を作り、蒸気を発生させる管の先端をターゲットに接近させることが出来るようになった。
この結果、複数層の蒸着を行う場合でもチャンバー内へ余分な蒸気を発散させることが少なくなった。
According to the second aspect of the present invention, the vacuum vapor deposition apparatus has the configuration described above, so that the tip of the vapor guide tube, that is, the position of the mouth for supplying the vapor into the chamber can be moved closer to the target. When sequentially depositing multiple materials on the target, it becomes possible to place a vapor guide tube other than the vapor deposition in the retreat (distant position) to create a space, and to bring the tip of the tube that generates the vapor closer to the target. It was.
As a result, even when vapor deposition of a plurality of layers is performed, it is less likely that excess vapor is diffused into the chamber.
本第三の発明の真空蒸着装置は、上記構成により、退避状態では、蒸気案内管の先端を塞ぐことができるので、退避中の蒸気案内管内への他の蒸気の逆流を防止することができた。 With the above configuration, the vacuum vapor deposition apparatus according to the third aspect of the present invention can block the tip of the steam guide tube in the retracted state, and therefore can prevent backflow of other steam into the steam guide tube being retracted. It was.
本第四の発明の真空蒸着装置は、上記構成により、退避状態の蒸気案内管の先端を塞ぐことが、蒸気案内管の移動に伴い自動的に行うことができるとともに、塞いだままの状態で蒸気を供給しようとする誤動作を未然に防ぐことができた。 With the above configuration, the vacuum vapor deposition apparatus according to the fourth aspect of the present invention can automatically close the tip of the retracted steam guide tube as the steam guide tube is moved, and can remain closed. The malfunction which tried to supply steam was prevented beforehand.
本第五の発明の真空蒸着装置は、上記構成により、蒸気案内管の先端周囲の温度を均等にすることが出来るので、温度勾配のない蒸気をチャンバー内、特にターゲットに供給することが出来る。 The vacuum vapor deposition apparatus according to the fifth aspect of the present invention can equalize the temperature around the tip of the steam guide tube with the above-described configuration, so that steam without a temperature gradient can be supplied into the chamber, particularly to the target.
本第六の発明の真空蒸着装置は、上記構成により、ターゲットに蒸気案内管の先端に近づけるほど、その先端での蒸気温度がターゲットへの蒸着の均一性に影響しやすいことから、前記発明１から３の各効果を有効に発揮させながら良好な蒸着を達成する上で有用である。 In the vacuum vapor deposition apparatus of the sixth aspect of the present invention, the vapor temperature at the tip of the vacuum vapor deposition device tends to affect the uniformity of vapor deposition on the target as it approaches the tip of the vapor guide tube. This is useful for achieving good vapor deposition while effectively exhibiting each of the effects 3 to 3.
本第七の発明の真空蒸着装置は、上記構成により、ターゲットに対する蒸気案内管の先端の加熱により影響を複数の蒸気案内管を用いた場合でも、ほぼ均等にすることができた。
これにより、蒸気案内管の先端の遠近による蒸着制御をより正確に行えるようになった。
According to the above-described configuration, the vacuum vapor deposition apparatus of the seventh aspect of the present invention can substantially uniform the influence by heating the tip of the steam guide tube with respect to the target even when a plurality of steam guide tubes are used.
As a result, the deposition control by the distance of the tip of the steam guide tube can be performed more accurately.
本第八の発明の真空蒸着装置は、上記構成により、前記発明三の効果を、発明五から七に付与することが出来た。 The vacuum vapor deposition apparatus of the eighth aspect of the present invention can impart the effects of the third aspect of the present invention to the fifth to seventh aspects of the invention.
本第九の発明の真空蒸着装置は、上記構成により、前記発明四の効果を、発明五から七に付与することが出来た。 According to the ninth aspect of the present invention, the above-described configuration enables the effects of the fourth invention to be imparted to the fifth to seventh inventions.
（１）は蒸着装置の真空チャンバーであって、内部にターゲット（Ａ）を保持する、ターゲット保持具（２）が設けてあり、この保持具（２）に向かうようにして、２本の接合管（１−１）（１−２）が貫通保持してある。
前記接合管（１−１）（１−２）は、蒸気供給構造（３）を取り付け、前記チャンバー（１）の外側から内部に蒸気を供給出来るようにするもので、連結管（５０）の上部フランジ（５０ａ）と、ボルトナット（５１）により、密封状態で結合できるフランジ（１ａ）が下端に一体的に設けてある。
前記蒸気供給構造（３）は、蒸気発生構造（１０）と、これを前記保持具（２）に対し遠近させる長さ調整機構（３０）とにより構成してある。
(1) is a vacuum chamber of the vapor deposition apparatus, and a target holder (2) for holding the target (A) is provided therein, and two joints are made so as to face the holder (2). The pipes (1-1) and (1-2) are held through.
The joint pipe (1-1) (1-2) is provided with a steam supply structure (3) so that steam can be supplied to the inside from the outside of the chamber (1). The upper flange (50a) and the bolt and nut (51) are integrally provided at the lower end with a flange (1a) that can be joined in a sealed state.
The steam supply structure (3) is composed of a steam generation structure (10) and a length adjusting mechanism (30) for moving the steam supply structure (10) away from the holder (2).
前記蒸気発生構造（１０）は、耐圧配電管（４０）の上面中央に配置した坩堝保持台（１４）、この坩堝保持台（１４）に取り替え可能に取り付けた坩堝（１５）、前記坩堝（１５）からにの蒸気を上方に案内する案内二重管（１１）（１２）及びこの案内二重管（１１）（１２）の上端を開閉する開閉蓋構造（２０）とにより構成してある。
前記案内二重管（１１）（１２）は、外管（１１）と内管（１２）との間に空隙を有してあって、前記内管（１２）の外側にはヒーターフィラメント（１３）が巻き付けである。
このヒーターフィラメント（１３）により内管を全長に渡って所定の温度に加熱、維持して、前記内管（１２）からチャンバー（１）内に放散されるときの蒸気温度を均一かつ安定させるようにしてある。
前記耐圧配電管（４０）は、外部から前記坩堝保持台（１４）のヒータ（図外）及びヒーターフィラメント（１３）のそれぞれに、密封状態を維持しながら電気を供給する為のものであり、坩堝ヒータ用電源線（４１）、ヒーターフィラメント用電源線（４２）、坩堝熱電対用信号線（４３）及び前記内管（１２）の先端における熱電対用信号線（４４）が導出されている。
坩堝熱電対用信号線（４３）は、前記坩堝（１５）の温度を測定するために設けてある坩堝熱電対（図外）の測定結果を外部に導き出し、前記坩堝保持台（１４）のヒータ（図外）の加熱温度を外部で制御可能にするために設けてある。
内管先端における熱電対用信号線（４４）は、前記内管（１２）の先端（蒸気放散口）における温度を測定する為に取り付けた熱電対（図外）の測定結果を外部に導き出し、外部でのヒーターフィラメント（１３）による加熱温度を制御するために設けてある。
このようにして、坩堝（１５）内にて気化された蒸気を、内管（１２）の先端に導き、前記チャンバー（１）内に放散するようにしてある。
The steam generation structure (10) includes a crucible holding base (14) disposed at the center of the upper surface of the pressure-resistant distribution pipe (40), a crucible (15) removably attached to the crucible holding base (14), and the crucible (15 ) From the guide double pipes (11) and (12) for guiding the steam upward and the opening and closing lid structure (20) for opening and closing the upper ends of the guide double pipes (11) and (12).
The guide double pipe (11) (12) has a gap between the outer pipe (11) and the inner pipe (12), and a heater filament (13) is provided outside the inner pipe (12). ) Is winding.
The heater filament (13) is used to heat and maintain the inner tube at a predetermined temperature over the entire length so that the vapor temperature when released from the inner tube (12) into the chamber (1) is made uniform and stable. It is.
The pressure-resistant distribution pipe (40) is for supplying electricity from outside to the heater (not shown) and the heater filament (13) of the crucible holding base (14) while maintaining a sealed state, A crucible heater power line (41), a heater filament power line (42), a crucible thermocouple signal line (43), and a thermocouple signal line (44) at the tip of the inner tube (12) are led out. .
The crucible thermocouple signal line (43) leads the measurement result of the crucible thermocouple (not shown) provided to measure the temperature of the crucible (15) to the outside, and the heater of the crucible holding base (14) It is provided so that the heating temperature (not shown) can be controlled externally.
The thermocouple signal line (44) at the tip of the inner pipe leads the measurement result of the thermocouple (not shown) attached to measure the temperature at the tip (steam vent) of the inner pipe (12), It is provided to control the heating temperature by the external heater filament (13).
In this way, the vapor vaporized in the crucible (15) is guided to the tip of the inner pipe (12) and diffused into the chamber (1).
前記長さ調整機構（３０）は、前記接合管（１−１）（１−２）のフランジ（１ａ）（１ａ）に結合する連結管（５０）に接合する上部フランジ（３０ａ）と前記耐圧配電管（４０）と接合する下部フランジ（３０ｂ）と、この両フランジ（３０ａ）（３０ｂ）を密封状態で連結する伸縮管（３１）と、前記両フランジ（３０ａ）（３０ｂ）の間隔を調整する構造により構成してある。
前記間隔調整構造は、一端を前記上部フランジ（３０ａ）にナット（３２）で固定したネジ軸（３３）と内部に前記ネジ軸（３３）に噛み合うナット（図外）を回転自在に保持した雌ネジ筒（３４）と、ネジ軸（３３）に噛み合うナットの回転を制御する調整ノブ（３６）およびこのノブ（３６）の回転位置を示す目盛り（３７）より構成してある。
このようにして、調整ノブ（３６）の回転により、前記両フランジ（３０ａ）（３０ｂ）の間隔を調整出来るようにしてある。
前記伸縮管（３１）は、前記二重管（１１）（１２）を内包しており、前記調整ノブ（３６）の回転による調整は、前記二重管（１１）（１２）の先端の出し入れを制御するようになっている。
The length adjusting mechanism (30) includes an upper flange (30a) joined to a connecting pipe (50) coupled to a flange (1a) (1a) of the joining pipe (1-1) (1-2) and the pressure resistance. The lower flange (30b) that joins the power distribution pipe (40), the expansion pipe (31) that connects the flanges (30a) and (30b) in a sealed state, and the distance between the flanges (30a) and (30b) are adjusted. It is comprised by the structure to do.
The gap adjusting structure includes a female screw shaft (33) having one end fixed to the upper flange (30a) with a nut (32) and a nut (not shown) that meshes with the screw shaft (33). It comprises a screw cylinder (34), an adjustment knob (36) for controlling the rotation of a nut meshing with the screw shaft (33), and a scale (37) indicating the rotational position of the knob (36).
In this manner, the interval between the flanges (30a) and (30b) can be adjusted by rotating the adjustment knob (36).
The telescopic tube (31) includes the double tube (11) (12), and adjustment by rotation of the adjustment knob (36) is performed at the tip of the double tube (11) (12). Is to control.
前記連結管（５０）は、同様な形状の前記上部フランジ（５０ａ）と下部フランジ（５０ｂ）とからなり、前記上部フランジ（５０ａ）は前記接合管（１−１）（１−２）のフランジ（１ａ）とボルトナット（５１）により、下部フランジ（５０ｂ）は、前記長さ調整機構（３０）の上部フランジ（３０ａ）と結合ナット（５２）によりそれぞれ密封状態で結合してある。
なお、前記接合管（１−１）（１−２）の長さによっては、この連結管（５０）を介さずに、上部フランジ（３０ａ）と接合管（１−１）（１−２）のフランジ（１ａ）とを結合ナット（５２）により直接連結することも可能である。
The connecting pipe (50) includes the upper flange (50a) and the lower flange (50b) having the same shape, and the upper flange (50a) is a flange of the joint pipe (1-1) (1-2). (1a) and the bolt and nut (51), the lower flange (50b) is coupled in a sealed state by the upper flange (30a) and the coupling nut (52) of the length adjusting mechanism (30).
Depending on the length of the joint pipe (1-1) (1-2), the upper flange (30a) and the joint pipe (1-1) (1-2) may be used without the connection pipe (50). It is also possible to directly connect the flange (1a) to the connecting nut (52).
前記開閉蓋構造（２０）は、下端を前記下部フランジ（３０ｂ）に保持し、前記連結管（５０）に中間を回転自在かつ軸心方向でスライド自在に保持した連結棒（２３）と、この上端に固定した開閉蓋（２１）と前記連結棒（２３）に固定したギヤー（２４）とこのギヤー（２４）に前記二重管（１１）（１２）の先端が前記ターゲット保持具（２）に一定以上近づくと前記ギヤー（２４）に噛み合う斜めラック（２５）とにより構成してある。
このようにして、前記二重管（１１）（１２）を前記ターゲット保持具（２）に一定以上近づけると前記ラック（２５）とギヤー（２４）の噛み合いにより、連結棒（２３）を１８０°回転させて、開閉蓋（２１）を開くようにしてある。
また、この開いている位置から前記二重管（１１）（１２）を遠ざけると、連結棒（２３）を１８０°逆回転させて、開閉蓋（２１）を閉じるようにしてある。
なお、このような自動開閉構造を用いずに、従来のように外部に前記連結棒（２３）の下端を突出させて、それを操作して開閉蓋（２１）を開閉することも可能である。
The opening / closing lid structure (20) includes a connecting rod (23) having a lower end held by the lower flange (30b) and an intermediate portion held by the connecting pipe (50) so as to be rotatable and slidable in an axial direction. The open / close lid (21) fixed to the upper end, the gear (24) fixed to the connecting rod (23), and the tip of the double pipe (11) (12) are connected to the gear (24) to the target holder (2). And a slack rack (25) meshing with the gear (24) when approaching a certain distance.
In this way, when the double pipes (11) (12) are brought closer to the target holder (2) by a certain amount or more, the connecting rod (23) is rotated 180 ° by the meshing of the rack (25) and the gear (24). The opening / closing lid (21) is opened by rotating.
Further, when the double pipe (11) (12) is moved away from the open position, the connecting rod (23) is reversely rotated by 180 ° to close the open / close lid (21).
Instead of using such an automatic opening / closing structure, it is possible to project the lower end of the connecting rod (23) to the outside and operate it to open / close the opening / closing lid (21) as in the prior art. .
前記実施例では、前記接合管（１−１）（１−２）を２本有するチャンバー（１）を例にして説明したが、３本以上有するものであっても、本発明を適用するのに何ら問題がないのは自明のことである。 In the said Example, although the chamber (1) which has the said joining pipe | tube (1-1) (1-2) was demonstrated as an example, even if it has three or more, this invention is applied. It is self-evident that there is no problem.
上記のとおり本発明は、蒸着装置による蒸着をより一層精密、かつ確実に行わせるのに有用なものである。 As described above, the present invention is useful for making the vapor deposition by the vapor deposition apparatus more accurate and reliable.
（１） 真空チャンバー
（１−１）（１−２） 真空チャンバーに蒸気供給構造を接合する接合管
（１ａ） 接合管のフランジ
（２） 蒸着用のターゲット保持具
（３） 蒸気供給構造
（１０） 蒸気発生構造
（１１） 外管
（１２） 内管
（１３） ヒータフィラメント
（１４） 坩堝保持台（坩堝ヒータが内臓）
（１５） 坩堝
（２０） 開閉蓋構造
（２１） 開閉蓋
（２２） 保持軸支え
（２３） 保持軸
（２４） ギヤー
（２５） 案内プレート
（２５ａ） 凸条
（２５ｂ） 凹溝
（３０） 長さ調整機構
（３０ａ） 上部フランジ
（３０ｂ） 下部フランジ
（３１） 伸縮管（耐圧ジャバラ管）
（３２） ネジ軸固定ナット
（３３） 長さ調整機構用のネジ軸
（３５） ネジ軸保持用のメネジ筒
（３６） 調整ノブ
（３７） 目盛り
（３８） 上部フランジ植付けボルト
（３９） 下部フランジ植付けボルト
（４０） 耐圧配電管
（４１） 坩堝ヒータ用電源線
（４２） ヒーターフィラメント用電源線
（４３） 坩堝熱電対用信号線
（４４） 内管先端における熱電対用信号線
（４５） 結合ナット
（５０） 連結管
（５０ａ） 上部フランジ
（５０ｂ） 下部フランジ
（５１） 連結用ボルト・ナット
（５２） 結合ナット
（Ａ） ターゲット
(1) Vacuum chamber (1-1) (1-2) Joining pipe (1a) joining the vapor supply structure to the vacuum chamber Flange of the joining pipe (2) Target holder for vapor deposition (3) Steam supply structure (10 Steam generation structure (11) Outer tube (12) Inner tube (13) Heater filament (14) Crucible holder (built-in crucible heater)
(15) Crucible (20) Open / close lid structure (21) Open / close lid (22) Holding shaft support (23) Holding shaft (24) Gear (25) Guide plate (25a) Convex strip (25b) Concave groove (30) Length Adjustment mechanism (30a) Upper flange (30b) Lower flange (31) Telescopic tube (pressure-resistant bellows tube)
(32) Screw shaft fixing nut (33) Screw shaft for length adjustment mechanism (35) Female thread cylinder for holding screw shaft (36) Adjustment knob (37) Scale (38) Upper flange planting bolt (39) Lower flange planting Bolt (40) Pressure distribution pipe (41) Crucible heater power line (42) Heater filament power line (43) Crucible thermocouple signal line (44) Thermocouple signal line at the inner pipe tip (45) Connecting nut ( 50) Connecting pipe (50a) Upper flange (50b) Lower flange (51) Connecting bolt / nut (52) Connecting nut (A) Target
Claims (4)
前記坩堝とこれを底部に配置した蒸気案内管とを内部に収納した伸縮管を前記チャンバーに対し密封状に固定するとともに、前記伸縮管の長さを調整する機構を有し、当該長さ調整機構により、前記蒸気案内管の先端と前記ターゲットとの距離を遠近調整可能にした蒸気供給構造を複数組設けるとともに、
前記複数組の蒸気供給構造のうちで前記蒸気を供給すべき蒸気供給構造の前記蒸気案内管の先端を選択してターゲットに接近させる
ことを特徴とする真空蒸着装置。 A vacuum deposition apparatus in which a target is placed in a vacuum chamber, a vapor of a desired material generated from a crucible is guided to the target, and vapor deposition is performed on the target .
A telescopic tube containing the crucible and a steam guide tube disposed at the bottom of the crucible is fixed in a sealed manner to the chamber, and a mechanism for adjusting the length of the telescopic tube is provided. mechanism by, a plurality of sets of steam supply structure that enables perspective adjusted distance between the tip and the target of the steam guide pipe Rutotomoni,
A vacuum deposition apparatus , wherein a tip of the steam guide tube of the steam supply structure to which the steam is to be supplied is selected from the plurality of sets of steam supply structures and is brought close to a target .
前記案内管は内管と外管からなる二重構造を有し、
前記内管は、内部を蒸気通路とし、全長にわたって加熱するヒータが外周に設けてあり、
前記外管は前記内管との間に間隔を有し、前記ヒータからの放熱を前記外管内に保持するようにしてある
ことを特徴とする真空蒸着装置。
In the vacuum evaporation apparatus in any one of Claim 1 to 3,
The guide tube has a double structure consisting of an inner tube and an outer tube ,
The inner pipe has a steam passage inside, and a heater for heating over the entire length is provided on the outer periphery ,
It said outer tube has a space between the inner tube, Ru Citea to hold before the heat dissipation from Kihi over data in the outer tube
Vacuum vapor deposition apparatus characterized by and this.
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