JP5057157B2 - 光学異方体及びその製造方法 - Google Patents
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Description
本発明は、基板上に重合性液晶組成物を塗布することにより作製する光学異方体に関する。
通常、液晶表示装置（ＬＣＤ）は、液晶セル及びその両側に配置された二枚の偏光板からなる。反射型液晶表示装置は、反射板、液晶セル、及び一枚の偏光板が積層されている。これらの液晶表示装置は、視野角の拡大、着色解消、あるいは表示モードに応じて位相差を調整するために、液晶セルと偏光板との間に光学異方体の一種である光学補償シート（位相差板）を配置する場合が多い。
通常、光学補償シートには複屈折を有する高分子フィルムが使用されており、例えば、重合性の液晶組成物に配向処理を施した後、紫外線硬化させて配向状態を固定化した光学異方体からなる複屈折を有する高分子フィルムが、ＬＣＤ用の光学補償シートとして実用化されている。
また、最近では、従来のバッチ製造と比較して大幅な製造効率向上を目的とした、塗工プロセスを導入したロールツウロール（Ｒｏｌｌ ｔｏ Ｒｏｌｌ）法等の液晶表示装置の製造方法の開発が進んでいる。ロールツウロール法に適用される光学補償シートは、塗工法で作製でき、且つ、得られたシートに他の部材が積層されることを前提として設計される。
また、最近では、従来のバッチ製造と比較して大幅な製造効率向上を目的とした、塗工プロセスを導入したロールツウロール（Ｒｏｌｌ ｔｏ Ｒｏｌｌ）法等の液晶表示装置の製造方法の開発が進んでいる。ロールツウロール法に適用される光学補償シートは、塗工法で作製でき、且つ、得られたシートに他の部材が積層されることを前提として設計される。
重合性液晶組成物を用いて光学異方体を作製する場合、通常では二枚の配向膜に重合性液晶組成物を挟持させ、両側からの配向規制力により液晶分子を配向させる方法が一般的である。しかし、光学補償シートの製造にロールツウロールのような塗工プロセスを用いた場合はこの方法が不可能であるため、配向膜を有する基板上に重合性の液晶組成物を塗布し、重合性の液晶組成物の配向処理は、一方に形成した配向膜の配向規制力のみを利用して行っている。
この方法では、二枚の配向膜に重合性液晶組成物を挟持させる方法と異なり、配向膜に接していない空気との界面付近では、液晶分子に配向規制力が作用しづらい。従って、気液界面では配向欠陥が発生しやすいといった問題や、基板から離れるに従って配向方向が空気界面で液晶層の水平面に対し垂直方向に立つ傾向を示したり、外乱によって方位角方向の乱れが生じたりといった、光学補償シート中の液晶ダイレクタの設計を行う上で予想しにくい効果を考慮しなければならない問題があった。
また、重合性液晶組成物として使用される化合物の殆どはアクリレートであるため、気液界面は紫外線硬化時に酸素阻害の影響を受ける。従って、窒素雰囲気下で紫外線を照射したり、光重合開始剤の添加量を増やすといったことが必要となるが、前者は、ロールツウロール法のようにロール状の連続基板フィルムを使用する場合では製造工程中に密閉設備を設けることが困難であるといった問題がある。また後者は、液晶組成物中に液晶相の形成を妨害する等方相物質である光重合開始剤を混合することになるため、添加量が増えると複屈折が低下したり、液晶相の形成温度範囲がずれたり消滅するといった問題が生じる。
この方法では、二枚の配向膜に重合性液晶組成物を挟持させる方法と異なり、配向膜に接していない空気との界面付近では、液晶分子に配向規制力が作用しづらい。従って、気液界面では配向欠陥が発生しやすいといった問題や、基板から離れるに従って配向方向が空気界面で液晶層の水平面に対し垂直方向に立つ傾向を示したり、外乱によって方位角方向の乱れが生じたりといった、光学補償シート中の液晶ダイレクタの設計を行う上で予想しにくい効果を考慮しなければならない問題があった。
また、重合性液晶組成物として使用される化合物の殆どはアクリレートであるため、気液界面は紫外線硬化時に酸素阻害の影響を受ける。従って、窒素雰囲気下で紫外線を照射したり、光重合開始剤の添加量を増やすといったことが必要となるが、前者は、ロールツウロール法のようにロール状の連続基板フィルムを使用する場合では製造工程中に密閉設備を設けることが困難であるといった問題がある。また後者は、液晶組成物中に液晶相の形成を妨害する等方相物質である光重合開始剤を混合することになるため、添加量が増えると複屈折が低下したり、液晶相の形成温度範囲がずれたり消滅するといった問題が生じる。
液晶組成物層と空気界面との配向規制力にかかる問題を解決する方法として、重合性の液晶組成物に混合して空気との界面付近の液晶分子の配向を制御させる添加剤が提案されており、例えば、一分子中に、フッ素置換脂肪族基やオリゴシロキサン基等の疎水性基と、少なくとも二つの環状構造を含む排除体積効果を有する基とを有する化合物からなる液晶配向促進剤や（例えば特許文献１参照）、空気界面に偏在する能力の高いフッ素基を含有する側鎖と液晶分子と相溶する基を特定の割合で有する（メタ）アクリル共重合体（例えば特許文献２参照）等が知られている。
これらの添加剤は、空気界面側での液晶性分子の傾斜角を、液晶性分子の種類に限定されることなく任意に制御できるため、より配向に優れた光学異方体を得ることができる。しかしながらフッ素基を含むために、得られた重合後の液晶層上への塗工性や接着性に著しく劣り、例えば配向膜層と重合性液晶層とを複数層積層させた位相差膜を得たい場合に、重合性液晶層上に配向膜層を設けることが困難であった。
また、これらの添加剤は、アクリレートの酸素阻害を防止する機能は有していないため、該添加剤によって酸素阻害の問題は解消できない。
これらの添加剤は、空気界面側での液晶性分子の傾斜角を、液晶性分子の種類に限定されることなく任意に制御できるため、より配向に優れた光学異方体を得ることができる。しかしながらフッ素基を含むために、得られた重合後の液晶層上への塗工性や接着性に著しく劣り、例えば配向膜層と重合性液晶層とを複数層積層させた位相差膜を得たい場合に、重合性液晶層上に配向膜層を設けることが困難であった。
また、これらの添加剤は、アクリレートの酸素阻害を防止する機能は有していないため、該添加剤によって酸素阻害の問題は解消できない。
本発明が解決しようとする課題は、添加剤等を使用せずに、
１．重合性液晶層の空気界面における配向の無規制状態を回避し、
２．酸素阻害の影響なく且つ少量の重合開始剤量で重合性液晶層の重合を可能とした、
重合性液晶層が均一に配向している光学異方体を提供することにある。
１．重合性液晶層の空気界面における配向の無規制状態を回避し、
２．酸素阻害の影響なく且つ少量の重合開始剤量で重合性液晶層の重合を可能とした、
重合性液晶層が均一に配向している光学異方体を提供することにある。
本発明者らは、基板上に直接重合性液晶層を設けた後、配向膜用組成物を未硬化の重合性液晶層上に塗布または印刷等の方法により設け、重合性液晶層を配向させた後重合させることで、重合性液晶層が空気界面に接しない状態で重合性液晶層を配向させ硬化することを可能にした。
未硬化即ち液状の重合性液晶層上に配向膜を設ける方法として、配向が非接触で行うことのできる光配向膜を使用することで問題を解決した。またこの時、該重合性液晶層と相溶しないよう、配向膜組成物は重合性液晶組成物と相溶しないもの、例えば親水性溶媒を含む組成物を使用することで、重合性液晶層が均一に配向している光学異方体が得られることを見いだした。
未硬化即ち液状の重合性液晶層上に配向膜を設ける方法として、配向が非接触で行うことのできる光配向膜を使用することで問題を解決した。またこの時、該重合性液晶層と相溶しないよう、配向膜組成物は重合性液晶組成物と相溶しないもの、例えば親水性溶媒を含む組成物を使用することで、重合性液晶層が均一に配向している光学異方体が得られることを見いだした。
即ち、本発明は、光照射により液晶配向能を生じる光配向膜用組成物の層（Ａ）と重合性液晶組成物の層（Ｂ）とを有する積層体の、前記層（Ｂ）中の重合性基を有する液晶化合物を配向させた状態で重合させた光学異方性層を、１層又は複数層有する光学異方体であって、前記積層体が、基板上又は既に形成された光学異方性層上に形成した前記層（Ｂ）上に、前記層（Ｂ）が溶解しない溶媒を含む光配向膜用組成物溶液を塗布または印刷した後乾燥させた前記層（Ａ）を有する光学異方体を提供する。
また、本発明は、前記記載の光学異方体と偏光板とを積層してなる楕円偏光板を提供する。
また、本発明は、前記記載の光学異方体と偏光板とを積層してなる円偏光板を提供する。
また、本発明は、前記記載の基板上に設けたカラーフィルタもしくはその保護膜上に、請求項１に記載の光学異方体を積層してなるカラーフィルタ付き基板を提供する。
また、本発明は、前記記載の光学異方体を位相差フィルムとして使用する液晶表示素子を提供する。
また、本発明は、基板上もしくは既に形成された光学異方性層上に重合性液晶組成物の層（Ｂ）を形成し、前記層（Ｂ）が溶解しない溶媒を含む光配向膜用組成物溶液を塗布または印刷した後乾燥させて層（Ａ）を形成後、偏光を照射して、前記層（Ｂ）中の重合性基を有する液晶化合物を配向させた状態で重合させる光学異方体の製造方法を提供する。
本発明により下記の効果を得ることができる。
１．重合性液晶層と空気との間に光配向膜層を設けるために、液晶層の空気界面における配向の無規制状態が生じない。液晶ダイレクタの配向状態を厳密に規制できる。そのため位相差膜の設計が容易となりまた精度が向上する。
２．重合性液晶層が空気中の酸素と触れないので酸素阻害が生じず、従って空気中の酸素濃度を下げることなく重合性液晶を重合することが可能であり、設備の複雑化を防ぐことができる。また、重合開始剤の量を増やす必要もないので、液晶の複屈折性が低下することがなく光学フィルムの塗工膜厚を薄くすることが可能となる。
１．重合性液晶層と空気との間に光配向膜層を設けるために、液晶層の空気界面における配向の無規制状態が生じない。液晶ダイレクタの配向状態を厳密に規制できる。そのため位相差膜の設計が容易となりまた精度が向上する。
２．重合性液晶層が空気中の酸素と触れないので酸素阻害が生じず、従って空気中の酸素濃度を下げることなく重合性液晶を重合することが可能であり、設備の複雑化を防ぐことができる。また、重合開始剤の量を増やす必要もないので、液晶の複屈折性が低下することがなく光学フィルムの塗工膜厚を薄くすることが可能となる。
本発明の光学異方体は、光照射により液晶配向能を生じる光配向膜用組成物の層（Ａ）と重合性液晶組成物の層（Ｂ）とを有する積層体の、前記層（Ｂ）中の重合性基を有する液晶化合物を配向させた状態で重合させた光学異方性層を、１層又は複数層有する光学異方体である。
（層（Ａ））
層（Ａ）を形成する化合物の少なくとも一つは、光を照射することにより液晶配向能を生じる基（以下、光配向性基と略す）を含有する。また、本発明のように光配向膜用組成物の層（Ａ））（以下、層（Ａ）と略す）と重合性液晶組成物の層（Ｂ）（以下、層（Ｂ）と略す）の各々を層として維持するためには、各々の層の親和性が高すぎることは適当でなく、両層が混合しない程度の非親和性と界面での相互作用が生じる程度の親和性が必要である。即ち、一般に疎水性を有する重合性液晶分子に対して、光配向膜用組成物は適度な親水性を有していることが好ましく、組成物を形成する分子中にシアノ基、アルコキシ基、アルコキシカルボニル基、ヒドロキシル基、アルキレンジオキシ基、スルホン酸基およびその塩、カルボキシ基およびその塩など親水性を有する分子構造が含まれることが好ましい。
層（Ａ）を形成する化合物の少なくとも一つは、光を照射することにより液晶配向能を生じる基（以下、光配向性基と略す）を含有する。また、本発明のように光配向膜用組成物の層（Ａ））（以下、層（Ａ）と略す）と重合性液晶組成物の層（Ｂ）（以下、層（Ｂ）と略す）の各々を層として維持するためには、各々の層の親和性が高すぎることは適当でなく、両層が混合しない程度の非親和性と界面での相互作用が生じる程度の親和性が必要である。即ち、一般に疎水性を有する重合性液晶分子に対して、光配向膜用組成物は適度な親水性を有していることが好ましく、組成物を形成する分子中にシアノ基、アルコキシ基、アルコキシカルボニル基、ヒドロキシル基、アルキレンジオキシ基、スルホン酸基およびその塩、カルボキシ基およびその塩など親水性を有する分子構造が含まれることが好ましい。
本発明において層（Ａ）を形成する化合物が有する光配向性基とは、光を照射することで生じる、光二色性に起因するワイゲルト効果による分子の配向誘起もしくは異性化反応（例：アゾベンゼン基）、二量化反応（例：シンナモイル基）、光架橋反応（例：ベンゾフェノン基）、あるいは光分解反応（例：ポリイミド基）のような、液晶配向能の起源となる光反応を生じる基を表す(以下、本明細書中においてこれら光を照射することによる光配向膜層の変化および反応を光配向反応と略す)。中でも、光二色性に起因するワイゲルト効果による分子の配向誘起もしくは異性化反応、二量化反応、あるいは光架橋反応を利用した二色性化合物が、配向性に優れ、重合性液晶を簡単に配向させることができ好ましい。
光配向性基としては特に限定されないが、中でも、Ｃ＝Ｃ、Ｃ＝Ｎ、Ｎ＝Ｎ、及びＣ＝Ｏからなる群より選ばれる少なくとも一つの二重結合（但し、芳香環を形成する二重結合を除く）を有する基が特に好ましく用いられる。
光配向性基としては特に限定されないが、中でも、Ｃ＝Ｃ、Ｃ＝Ｎ、Ｎ＝Ｎ、及びＣ＝Ｏからなる群より選ばれる少なくとも一つの二重結合（但し、芳香環を形成する二重結合を除く）を有する基が特に好ましく用いられる。
これらの光配向性基として、Ｃ＝Ｃ結合を有する基としては、例えば、ポリエン基、スチルベン基、スチルバゾ−ル基、スチルバゾリウム基、シンナモイル基、ヘミチオインジゴ基、カルコン基等の構造を有する基が挙げられる。Ｃ＝Ｎ結合を有する基としては、芳香族シッフ塩基、芳香族ヒドラゾン等の構造を有する基が挙げられる。Ｎ＝Ｎ結合を有する基としては、アゾベンゼン基、アゾナフタレン基、芳香族複素環アゾ基、ビスアゾ基、ホルマザン基等の構造を有する基や、アゾキシベンゼンを基本構造とするものが挙げられる。Ｃ＝Ｏ結合を有する基としては、ベンゾフェノン基、クマリン基、アントラキノン基等の構造を有する基が挙げられる。これらの基は、アルキル基、アルコキシ基、アリ−ル基、アリルオキシ基、シアノ基、アルコキシカルボニル基、ヒドロキシル基、スルホン酸基、カルボキシル基、ハロゲン化アルキル基等の置換基を有していても良い。
中でも、光異性化反応により光配向性を示すアゾベンゼン基又はアントラキノン基、あるいは、光二量化反応により光配向性を示すベンゾフェノン基、シンナモイル基、カルコン基、又はクマリン基が、光配向に必要な偏光の照射量が少なく、かつ得られた光配向膜の熱安定性、経時安定性が優れているため、特に好ましい。
中でも、光異性化反応により光配向性を示すアゾベンゼン基又はアントラキノン基、あるいは、光二量化反応により光配向性を示すベンゾフェノン基、シンナモイル基、カルコン基、又はクマリン基が、光配向に必要な偏光の照射量が少なく、かつ得られた光配向膜の熱安定性、経時安定性が優れているため、特に好ましい。
本発明の光学異方体の層（Ａ）と層（Ｂ）とが共有結合で結合されていると、更に優れた密着性が得られ好ましい。そのためには層（Ａ）として、光配向性基及び重合性基を有する化合物（以下、化合物（Ｃ）と略す）、あるいは光配向性基を有し重合性基を有さない化合物（以下、化合物（Ｄ）と略す）と汎用の重合性化合物（以下、化合物（Ｅ）と略す）、または（Ｃ）と（Ｅ）とを含む組成物を含有する光配向性重合性組成物層（以下、光配向性重合性組成物層と略す）を用いる。重合性液晶組成物層と光配向膜層からなる積層構造を形成した後、該重合性基を有する液晶化合物を配向させた状態で、両層を反応させて得ることができる。本発明で使用する光学異方性層は、層（Ａ）と層（Ｂ）とが完全に重合硬化している必要はなく、層（Ａ）と層（Ｂ）との界面が共有結合で結合されていればよい。
化合物（Ｃ）が有する重合性基としては、例えば、（メタ）アクリロイル基、（メタ）アクリロイルオキシ基、（メタ）アクリルアミド基、ビニル基、ビニルオキシ基、アジド基、クロロメチル基、エポキシ基、マレイミド基などが挙げられる。これらの中でも、光重合や熱重合が比較的容易なことから、（メタ）アクリロイル基、（メタ）アクリロイルオキシ基、（メタ）アクリルアミド基、ビニル基、ビニルオキシ基が好ましく、（メタ）アクリロイル基、（メタ）アクリロイルオキシ基、又は（メタ）アクリルアミド基がより好ましい。また、マレイミド基であると、光重合開始剤を使用せずに重合させることができる。
化合物（Ｃ）が有する重合性基としては、例えば、（メタ）アクリロイル基、（メタ）アクリロイルオキシ基、（メタ）アクリルアミド基、ビニル基、ビニルオキシ基、アジド基、クロロメチル基、エポキシ基、マレイミド基などが挙げられる。これらの中でも、光重合や熱重合が比較的容易なことから、（メタ）アクリロイル基、（メタ）アクリロイルオキシ基、（メタ）アクリルアミド基、ビニル基、ビニルオキシ基が好ましく、（メタ）アクリロイル基、（メタ）アクリロイルオキシ基、又は（メタ）アクリルアミド基がより好ましい。また、マレイミド基であると、光重合開始剤を使用せずに重合させることができる。
これらの重合性基は、前記光配向性基と直接結合していてもよいし、アルキレン基やフェニレン基等の連結基を介して結合していてもよい。該連結基は、エステル結合、エ−テル結合、イミド結合、アミド結合又はウレタン結合を有していてもよい。そのような連結基としては、例えば、メチレン基、エチレン基、トリメチレン基、テトラメチレン基、ペンタメチレン基、ヘキサメチレン基、ヘプタメチレン基、オクタメチレン基、ノナメチレン基、デカメチレン基、ウンデカメチレン基、ドデカメチレン基等の炭素原子数が１〜１８の直鎖状アルキレン基；１−メチルエチレン基、１−メチル−トリメチレン基、２−メチル−トリメチレン基、１−メチル−テトラメチレン基、２−メチル−テトラメチレン基、１−メチル−ペンタメチレン基、２−メチル−ペンタメチレン基、３−メチル−ペンタメチレン基等の炭素原子数が１から１８の分岐状アルキレン基；ｐ−フェニレン基等のフェニレン基；２−メトキシ−１／４−フェニレン基、３−メトキシ−１／４−フェニレン基、２−エトキシ−１／４−フェニレン基、３−エトキシ−１／４−フェニレン基、２，３，５−トリメトキシ−１／４−フェニレン基等の炭素原子数が１〜１８の直鎖状又は分岐状アルコキシル基を有するアルコキシフェニレン基、などが挙げられる。
化合物（Ｃ）や化合物（Ｄ）の分子量としては、質量平均分子量に換算して１×１０２〜１×１０６の範囲が好ましい。但し、あまり分子量が高くなると、光配向性基が系中で動きづらくなり、光に対して感度が下がる傾向にあるので、１×１０２〜１×１０５の範囲がより好ましく、１×１０２〜５×１０３の範囲が更に好ましい。
前記化合物（Ｃ）として、具体的には、一般式（１）で表される化合物が好ましい。
式中、Ｒ１およびＲ２は、各々独立して、（メタ）アクリロイル基、（メタ）アクリロイルオキシ基、（メタ）アクリルアミド基、ビニル基、ビニルオキシ基、及びマレイミド基からなる群から選ばれる重合性基を表す。なかでも、（メタ）アクリロイル基、（メタ）アクリロイルオキシ基、又は（メタ）アクリルアミド基であると、光重合や熱重合が比較的容易であり好ましい。またマレイミド基は、重合開始剤が不要となるので、より好ましい。
一般式（１）において、Ｘ１は、−（Ａ１−Ｂ１）ｍ−で表される連結基を表し、Ｘ２は−（Ｂ２−Ａ２）ｎ−で表される連結基を表す。ここで、Ａ１及びＡ２は各々独立して単結合、又は二価の炭化水素基を表す。二価の炭化水素基としては、エチレン基、メチレン基、プロピレン基、ペンタメチレン基、ヘプチレン基等の炭素原子数１〜２０のアルキレン基；シクロプロピレン基、シクロヘキシレン基等の炭素原子数３〜２０のシクロアルキレン基；フェニレン基、ナフチレン基等の炭素原子数６〜２０のアリ−レン基等が挙げられる。これらの中でも、アルキレン基が好ましく、炭素原子数１〜４のアルキレン基がより好ましい。
Ｂ１及びＢ２は各々独立して単結合、−Ｏ−、−ＣＯ−Ｏ−、−ＯＣＯ−、−ＣＯＮＨ−、−ＮＨＣＯ−、−ＮＨＣＯ−Ｏ−、又は−ＯＣＯＮＨ−を表す。ｍ及びｎは各々独立して１〜４の整数を表す。ｍ又はｎが２以上のとき、複数あるＡ１、Ｂ１、Ａ２及びＢ２は、同じであっても異なっていてもよい。但し、二つのＢ１又はＢ２の間に挟まれたＡ１又はＡ２は、単結合ではないものとする。具体的には、ｍが２のとき、−（Ａ１−Ｂ１）ｍ−で表される連結基は、−ＣＨ２ＣＨ２−Ｏ−ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２−ＣＯ−Ｏ−や、−Ｏ−ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２−ＣＯ−Ｏ−等を表し、ｎが２のとき、−（Ｂ２−Ａ２）ｎ−で表される連結基は、−Ｏ−ＣＯ−Ｐｈ（フェニレン基）−Ｏ−（ＣＨ２）６−等を表す。
Ｙは、アゾベンゼン基、アントラキノン基、ベンゾフェノン基、シンナモイル基、カルコン基又はクマリン基を有する基を表す。中でも、下記構造の基が好ましい。
前記構造中、ｐ１〜ｐ１１は各々独立して、水素原子、ハロゲン原子、ハロゲン化アルキル基、ハロゲン化アルコキシ基、シアノ基、ニトロ基、アルキル基、ヒドロキシアルキル基、アルコキシ基、アリール基、アリルオキシ基、アルコキシカルボニル基、カルボキシル基、スルホン酸基、アミノ基、又はヒドロキシ基を表す。但し、カルボキシル基、スルホン酸基はアルカリ金属と塩を形成していても良い。
前記一般式（１）で表される化合物は、具体的には、特開２００２−２５０９２４号公報や特開２００２−３１７０１３号公報に記載の化合物をあげることができ、該公報に記載の方法で容易に合成することができる。
前記一般式（１）で表される化合物は低分子であるので、塗膜にした際の光による感度にすぐれる。従って光照射により簡単に液晶配向能を付与できる。また重合性基は、ポリマーに結合した重合性基よりも自由度が高いので反応率が高く、層（Ａ）と層（Ｂ）とを界面で良好に反応させることができ、界面での接着性にすぐれる。
化合物（Ｄ）としてはアゾ基を有する二色性化合物、アントラキノン基を有する二色性化合物、インジゴ染料、フタロシアニン染料、カルボニウム染料、キノンイミン染料、メチン染料、キノリン染料、ニトロ染料、ニトロソ染料、ベンゾキノン染料、ナフトキノン染料、ナフタルイミド染料、ペリノン染料などが挙げられるが、具体的には、一般式（２）で表される化合物が好ましい。
式中、Ｘ１、Ｙ、及びＸ２は、前記一般式（１）で表される基と同じ基を表す。
Ｒ３およびＲ４は、各々独立して、水素原子、ハロゲン原子、水酸基、ニトロ基、スルホン酸基、スルホン酸塩基、ハロゲン化メチル基、シアノ基、アミノ基、ホルミル基、カルボキシル基、ピペリジノ基、および一般式（３）
Ｒ３およびＲ４は、各々独立して、水素原子、ハロゲン原子、水酸基、ニトロ基、スルホン酸基、スルホン酸塩基、ハロゲン化メチル基、シアノ基、アミノ基、ホルミル基、カルボキシル基、ピペリジノ基、および一般式（３）
（式中、Ｒ５は水素原子、アルキル基、シクロアルキル基、フェニル基、ピペリジノ基；及びこれらの基にアルキル基、シクロアルキル基、フェニル基、アルコキシル基、シクロアルコキシル基又はフェノキシ基が結合した有機基を表す。）
からなる群より選ばれる１つ以上の基を表す。
からなる群より選ばれる１つ以上の基を表す。
化合物（Ｅ）としては、例えば、（メタ）アクリロイル基、（メタ）アクリロイルオキシ基、（メタ）アクリルアミド基、ビニル基、ビニルオキシ基、アジド基、クロロメチル基、エポキシ基、マレイミド基などを有する重合性化合物が挙げられる。中でも、親水性の傾向が強い、水酸基、カルボキシル基やエチレングリコール単位を有するアクリルモノマーやメタクリリックアシッド−３−トリメトキシシリルプロピルエーテル等のシランカップリング剤等が好ましい。
また化合物（Ｅ）は、光配向性を損なわない範囲で化合物（Ｃ）に添加して使用することもできる。
また化合物（Ｅ）は、光配向性を損なわない範囲で化合物（Ｃ）に添加して使用することもできる。
層（Ａ）が光配向性重合性組成物層であり、層（Ａ）と層（Ｂ）との界面を共有結合させる工程を経て光学異方体を得る場合は、層（Ａ）及び／又は後述の層（Ｂ）は光重合開始剤を含むのが好ましい。使用する光重合開始剤としては、後述の光異性化工程で得られた配向状態を乱さないようにするため、使用する光配向性基が持つ吸収帯とは異なる光吸収波長帯域を持つ光重合開始剤を使用するのが好ましい。また、通常の光重合開始剤の吸収帯よりも長波長の光を吸収し、重合開始剤へのエネルギー移動を起こすことによって重合反応を誘起する化合物を混合しても良い。これらにより、光配向操作で固定されている光配向膜用組成物の配向状態を乱さずに、重合させることができる。一方、重合のための光を光配向操作と同じ方向から照射する場合や、アゾベンゼン骨格の吸収遷移モーメントと直交する偏波面を有する偏光照射を行えば、得られた配向状態を乱す恐れがないので、任意の波長を使用することができる。
例えば、光配向材料に光重合開始剤を添加しておき、光配向材料を配向させるような光を照射すると、光配向と光重合を同時に行うことができる。また、光配向を、重合阻害をおこすような雰囲気、例えば空気中で行うことにより、光配向のみ行い、その後、雰囲気を、重合阻害を及ぼさない、例えば、窒素中に変更することにより、光重合を開始させることもできる。この場合は、光配向処理時の照射量を調整し、重合阻害の雰囲気で光配向を行っているうちに、すべての光重合開始剤を消費しないようにすることが好ましい。
例えば、光配向材料に光重合開始剤を添加しておき、光配向材料を配向させるような光を照射すると、光配向と光重合を同時に行うことができる。また、光配向を、重合阻害をおこすような雰囲気、例えば空気中で行うことにより、光配向のみ行い、その後、雰囲気を、重合阻害を及ぼさない、例えば、窒素中に変更することにより、光重合を開始させることもできる。この場合は、光配向処理時の照射量を調整し、重合阻害の雰囲気で光配向を行っているうちに、すべての光重合開始剤を消費しないようにすることが好ましい。
例えば、アゾベンゼン骨格が有する光の吸収帯とは異なる光吸収波長帯域を持つ光重合開始剤としては、例えば、特許第３０１６６０６号に記載の近赤外線吸収色素と有機ホウ素を組み合わせたもの等が挙げられる。
その他の光重合開始剤としては、例えば、１−（４−イソプロピルフェニル）−２−ヒドロキシル２−メチルプロパン−１−オン（メルク社製「ダロキュア１１１６」）、２−メチル−１−［（メチルチオ）フェニル］−２−モリホリノプロパン−１（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製「イルガキュア９０７」）。ベンジルメチルケタ−ル（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製「イルガキュア６５１」）。２，４−ジエチルチオキサントン（日本化薬社製「カヤキュアＤＥＴＸ」）とｐ−ジメチルアミノ安息香酸エチル（日本化薬社製「カヤキュアＥＰＡ」）との混合物、イソプロピルチオキサントン（ワ−ドプレキンソップ社製「カンタキュア−ＩＴＸ」）とｐ−ジメチルアミノ安息香酸エチルとの混合物、アシルフォスフィンオキシド（ＢＡＳＦ社製「ルシリンＴＰＯ」）、などが挙げられる。光重合開始剤の使用量は重合性液晶化合物に対して７質量％以下が好ましく、０．５〜５質量％が特に好ましい。添加量が増えると複屈折が低下したり、液晶相の形成温度範囲がずれたり消滅するといった問題が生じる。
その他の光重合開始剤としては、例えば、１−（４−イソプロピルフェニル）−２−ヒドロキシル２−メチルプロパン−１−オン（メルク社製「ダロキュア１１１６」）、２−メチル−１−［（メチルチオ）フェニル］−２−モリホリノプロパン−１（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製「イルガキュア９０７」）。ベンジルメチルケタ−ル（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製「イルガキュア６５１」）。２，４−ジエチルチオキサントン（日本化薬社製「カヤキュアＤＥＴＸ」）とｐ−ジメチルアミノ安息香酸エチル（日本化薬社製「カヤキュアＥＰＡ」）との混合物、イソプロピルチオキサントン（ワ−ドプレキンソップ社製「カンタキュア−ＩＴＸ」）とｐ−ジメチルアミノ安息香酸エチルとの混合物、アシルフォスフィンオキシド（ＢＡＳＦ社製「ルシリンＴＰＯ」）、などが挙げられる。光重合開始剤の使用量は重合性液晶化合物に対して７質量％以下が好ましく、０．５〜５質量％が特に好ましい。添加量が増えると複屈折が低下したり、液晶相の形成温度範囲がずれたり消滅するといった問題が生じる。
（光配向膜用組成物溶液に含まれる溶媒）
前記光配向膜用組成物溶液に使用する溶媒は、被塗工層である層（Ｂ）を溶解したり、該層に浸透したりしないものが好ましく、親水性溶媒が好適に用いられる。なお、ここで「溶解しない」とは、溶解度０％を示すものではなく、層（Ｂ）表面を浸食したり平滑度が変化しない程度に溶解しない溶媒であればよく、５％以下、好ましくは1％以下の溶解性は有していてもよい。このような溶媒としては、水、メタノールなどのアルコール、プロピレングリコールなどのグリコール類等が用いられる。
前記光配向膜用組成物溶液に使用する溶媒は、被塗工層である層（Ｂ）を溶解したり、該層に浸透したりしないものが好ましく、親水性溶媒が好適に用いられる。なお、ここで「溶解しない」とは、溶解度０％を示すものではなく、層（Ｂ）表面を浸食したり平滑度が変化しない程度に溶解しない溶媒であればよく、５％以下、好ましくは1％以下の溶解性は有していてもよい。このような溶媒としては、水、メタノールなどのアルコール、プロピレングリコールなどのグリコール類等が用いられる。
前記光配向膜用組成物溶液をインクジェット法などにより層（Ｂ）上に形成する場合には、該溶液中に揮発性の高い溶媒を添加しておくことにより、該溶液が層（Ｂ）上に着弾した時点で溶媒分のほとんどが揮発しほぼ固形分となるようにすることができる。揮発性の高い溶媒としては沸点９０℃以下のメタノール、アセトン、酢酸エチル、テトラヒドロフランなどの溶媒が用いられる。また揮発性の高い溶媒はその他の溶媒と溶解性の良いことが望ましく、共沸混合物となることが更に望ましい。揮発性の高い溶媒の添加量は溶媒総量の１０〜１００質量％とすることができる。
層（Ａ）の膜厚は、５〜５００ｎｍであることが好ましい。層（Ａ）の膜厚が薄すぎると、液晶配向能を付与する紫外線等の光照射時に、層（Ｂ）にまで過剰の光が照射されてしまい、重合性液晶層中の光重合開始剤が失活する恐れがある。一方膜厚が厚すぎると、光透過度が低下し、後述の光配向処理の後、層（Ｂ）中の重合性基を有する液晶化合物を配向させた状態で重合させる工程が十分進行しない恐れがある。層（Ａ）の膜厚は、光配向膜用組成物溶液の固形分濃度（以下ＮＶと略す。）で調節することができ、例えば、ＮＶ１％の光配向膜用組成物溶液を膜厚１μｍに塗布し、乾燥させることで、１０ｎｍの層（Ａ）が得られる。ＮＶは、０．０１〜１０質量％の範囲が好ましく、０．０２〜５質量％が特に好ましい。
また、本発明の効果を損なわない範囲で、ポリビニルアルコ−ルやポリイミド等の高分子材料、アクリルモノマーなどの重合性化合物などを混合することもできる。
また、本発明の効果を損なわない範囲で、ポリビニルアルコ−ルやポリイミド等の高分子材料、アクリルモノマーなどの重合性化合物などを混合することもできる。
（層（Ｂ））
本発明において、重合性液晶組成物の層（Ｂ）が含有する重合性基を有する液晶化合物は、単独又は他の液晶化合物との組成物において液晶性を示す、重合性基を有する化合物であれば特に限定はない。例えば、Ｈａｎｄｂｏｏｋ ｏｆ Ｌｉｑｕｉｄ Ｃｒｙｓｔａｌｓ （Ｄ． Ｄｅｍｕｓ， Ｊ． Ｗ． Ｇｏｏｄｂｙ， Ｇ． Ｗ． Ｇｒａｙ， Ｈ． Ｗ． Ｓｐｉｅｓｓ， Ｖ． Ｖｉｌｌ編集、Ｗｉｌｅｙ−ＶＣＨ 社発行、１９９８年）、季刊化学総説Ｎｏ．２２、液晶の化学（日本化学会編、１９９４年）、あるいは、特開平７−２９４７３５号公報、特開平８−３１１１号公報、特開平８−２９６１８号公報、特開平１１−８００９０号公報、特開平１１−１／４８０７９号公報、特開２０００−１７８２３３号公報、特開２００２−３０８８３１号公報、特開２００２−１／４５８３０号公報に記載されているような、１／４−フェニレン基、１／４−シクロヘキシレン基等の構造が複数繋がったメソゲンと呼ばれる剛直な部位と、（メタ）アクリロイル基、ビニルオキシ基、エポキシ基といった重合性官能基とを有する棒状重合性液晶化合物、
本発明において、重合性液晶組成物の層（Ｂ）が含有する重合性基を有する液晶化合物は、単独又は他の液晶化合物との組成物において液晶性を示す、重合性基を有する化合物であれば特に限定はない。例えば、Ｈａｎｄｂｏｏｋ ｏｆ Ｌｉｑｕｉｄ Ｃｒｙｓｔａｌｓ （Ｄ． Ｄｅｍｕｓ， Ｊ． Ｗ． Ｇｏｏｄｂｙ， Ｇ． Ｗ． Ｇｒａｙ， Ｈ． Ｗ． Ｓｐｉｅｓｓ， Ｖ． Ｖｉｌｌ編集、Ｗｉｌｅｙ−ＶＣＨ 社発行、１９９８年）、季刊化学総説Ｎｏ．２２、液晶の化学（日本化学会編、１９９４年）、あるいは、特開平７−２９４７３５号公報、特開平８−３１１１号公報、特開平８−２９６１８号公報、特開平１１−８００９０号公報、特開平１１−１／４８０７９号公報、特開２０００−１７８２３３号公報、特開２００２−３０８８３１号公報、特開２００２−１／４５８３０号公報に記載されているような、１／４−フェニレン基、１／４−シクロヘキシレン基等の構造が複数繋がったメソゲンと呼ばれる剛直な部位と、（メタ）アクリロイル基、ビニルオキシ基、エポキシ基といった重合性官能基とを有する棒状重合性液晶化合物、
あるいは、例えば、Ｈａｎｄｂｏｏｋ ｏｆ Ｌｉｑｕｉｄ Ｃｒｙｓｔａｌｓ （Ｄ． Ｄｅｍｕｓ， Ｊ． Ｗ． Ｇｏｏｄｂｙ， Ｇ． Ｗ． Ｇｒａｙ， Ｈ． Ｗ． Ｓｐｉｅｓｓ， Ｖ． Ｖｉｌｌ編集、Ｗｉｌｅｙ−ＶＣＨ 社発行、１９９８年）、季刊化学総説Ｎｏ．２２、液晶の化学（日本化学会編、１９９４年）や、特開平０７−１／４６４０９号公報に記載されているディスコティック重合性化合物があげられる。中でも、重合性基を有する棒状液晶化合物が、液晶温度範囲として室温前後の低温を含むものを作りやすく好ましい。
また、層（Ｂ）には、液晶性を損なわない範囲において前記化合物（Ｅ）を若干量含んでいても良い。化合物（Ｅ）を添加することにより層（Ａ）と（Ｂ）との親和性を制御し、層間の混合を抑制しながら適度な相互作用を喚起し、層（Ａ）による（Ｂ）の液晶分子の配向制御を容易ならしめ、かつ層間の共有結合を進行させることができる。
層（Ｂ）の膜厚は、光学フィルムの目的と用いる重合性液晶の複屈折によって異なるが、１／４波長板や１／２波長板では１μｍ〜５μｍが好ましい。
(界面活性剤)
層（Ａ）と層（Ｂ）とが、界面で混和、浸積等するのをより防止する目的で、層（Ａ）または層（Ｂ）のいずれかに、界面活性剤を添加しておいてもよい。界面活性剤のＨＬＢ値は使用する光配向膜用組成物と重合性液晶組成物との組合せや溶媒の選択によって異なるが、およそ１５以下であることが好ましい。
層（Ａ）と層（Ｂ）とが、界面で混和、浸積等するのをより防止する目的で、層（Ａ）または層（Ｂ）のいずれかに、界面活性剤を添加しておいてもよい。界面活性剤のＨＬＢ値は使用する光配向膜用組成物と重合性液晶組成物との組合せや溶媒の選択によって異なるが、およそ１５以下であることが好ましい。
（光学的等方性樹脂層）
本発明の光学異方体が前記光学異方性層を複数層有する場合、隣り合う光学異方性層の間、即ち下層の層（Ａ）とその上に形成される層（Ｂ）との間に、光学的等方性樹脂層を設けてもよい。それにより、上に形成される層（Ｂ）の配向方向が、下層の層（Ａ）即ち光配向膜層の配向方向の影響を受けず、隣り合う複数の光学異方性層が異なる配向方向である光学異方体を容易に作製することができる。
光学的等方性樹脂層の材質としては特に限られるものではないが、アクリル樹脂やポリビニルアルコールなどの熱可塑性樹脂類、アクリルモノマー等の光重合性樹脂やエポキシモノマー等の熱重合性樹脂を使用することができる。中でも、粘度は５０〜２００００Ｐａ・ｓｅｃが好ましく、塗布後の光学的等方性樹脂層表面の平滑化を考えると５００〜２００００Ｐａ・ｓｅｃが望ましい。また光学的等方性樹脂層と下層の層（Ａ）との密着性および、その上に形成される層（Ｂ）との密着性を向上させる目的では、光学的等方性樹脂層を構成する樹脂組成物は重合性基を有する樹脂組成物が好ましく、アクリルモノマー等の光重合性樹脂やエポキシモノマー等の熱重合性樹脂等が好ましい。
光学的等方性樹脂層の厚さは上記の目的を達成するものであれば制限はないが、工業的な応用を考えると薄型化、軽量化が望まれることから、０．０１〜３０μｍ、中でも０．０１〜１０μｍが望ましい。
光学的等方性樹脂層は塗布法により、光学異方性層の上に直接設けることができる。また必要により光照射または熱により重合を行ってもよい。
光学的等方性樹脂層を設けることで、層間の接着性あるいは密着性が向上し、隣り合う複数の光学異方性層が異なる配向方向である光学異方体を容易に作製することができる。更に、下層の層（Ａ）の表面平坦性が向上し、その上に形成される層（Ｂ）の均一性を増すことができ、また光学異方性層間の屈折率差等に起因する界面反射を避けることができる。
本発明の光学異方体が前記光学異方性層を複数層有する場合、隣り合う光学異方性層の間、即ち下層の層（Ａ）とその上に形成される層（Ｂ）との間に、光学的等方性樹脂層を設けてもよい。それにより、上に形成される層（Ｂ）の配向方向が、下層の層（Ａ）即ち光配向膜層の配向方向の影響を受けず、隣り合う複数の光学異方性層が異なる配向方向である光学異方体を容易に作製することができる。
光学的等方性樹脂層の材質としては特に限られるものではないが、アクリル樹脂やポリビニルアルコールなどの熱可塑性樹脂類、アクリルモノマー等の光重合性樹脂やエポキシモノマー等の熱重合性樹脂を使用することができる。中でも、粘度は５０〜２００００Ｐａ・ｓｅｃが好ましく、塗布後の光学的等方性樹脂層表面の平滑化を考えると５００〜２００００Ｐａ・ｓｅｃが望ましい。また光学的等方性樹脂層と下層の層（Ａ）との密着性および、その上に形成される層（Ｂ）との密着性を向上させる目的では、光学的等方性樹脂層を構成する樹脂組成物は重合性基を有する樹脂組成物が好ましく、アクリルモノマー等の光重合性樹脂やエポキシモノマー等の熱重合性樹脂等が好ましい。
光学的等方性樹脂層の厚さは上記の目的を達成するものであれば制限はないが、工業的な応用を考えると薄型化、軽量化が望まれることから、０．０１〜３０μｍ、中でも０．０１〜１０μｍが望ましい。
光学的等方性樹脂層は塗布法により、光学異方性層の上に直接設けることができる。また必要により光照射または熱により重合を行ってもよい。
光学的等方性樹脂層を設けることで、層間の接着性あるいは密着性が向上し、隣り合う複数の光学異方性層が異なる配向方向である光学異方体を容易に作製することができる。更に、下層の層（Ａ）の表面平坦性が向上し、その上に形成される層（Ｂ）の均一性を増すことができ、また光学異方性層間の屈折率差等に起因する界面反射を避けることができる。
（製造方法）
本発明の光学異方体は、基板上に重合性液晶組成物の層（Ｂ）を形成し、前記層（Ｂ）が溶解しない溶媒を含む光配向膜用組成物溶液を塗布または印刷した後乾燥させて層（Ａ）を形成後、偏光を照射して、前記層（Ｂ）中の重合性基を有する液晶化合物を配向させた状態で重合させることを特徴とする。
更に、このように得られた光学異方性層上に、新たに層（Ｂ）と層（Ａ）とを繰り返し形成して新たな光学異方体層を設けることで、複数層の光学異方性層を有する光学異方体を得ることも可能である。光学異方性層の位相差は、層（Ａ）の配向処理の際の光照射方向と層（Ｂ）の重合性液晶組成物の種類によってのみ決定されるので、異なる位相差を有する複数の光学異方性層が積層された光学異方体を、ロールツウロール法等の連続法により得ることも可能である。
本発明の光学異方体は、基板上に重合性液晶組成物の層（Ｂ）を形成し、前記層（Ｂ）が溶解しない溶媒を含む光配向膜用組成物溶液を塗布または印刷した後乾燥させて層（Ａ）を形成後、偏光を照射して、前記層（Ｂ）中の重合性基を有する液晶化合物を配向させた状態で重合させることを特徴とする。
更に、このように得られた光学異方性層上に、新たに層（Ｂ）と層（Ａ）とを繰り返し形成して新たな光学異方体層を設けることで、複数層の光学異方性層を有する光学異方体を得ることも可能である。光学異方性層の位相差は、層（Ａ）の配向処理の際の光照射方向と層（Ｂ）の重合性液晶組成物の種類によってのみ決定されるので、異なる位相差を有する複数の光学異方性層が積層された光学異方体を、ロールツウロール法等の連続法により得ることも可能である。
（基板）
基板は実質的に透明であれば材質に特に限定はなく、ガラス、セラミックス、プラスチック等を使用することができる。プラスチック基板としてはセルロ−ス、トリアセチルセルロ−ス、ジアセチルセルロ−ス等のセルロ−ス誘導体、ポリシクロオレフィン誘導体、ポリエチレンテレフタレ−ト、ポリエチレンナフタレ−ト等のポリエステル、ポリプロピレン、ポリエチレン等のポリオレフィン、ポリカーボネート、ポリビニルアルコ−ル、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ナイロン、ポリスチレン、ポリアクリレート、ポリメチルメタクリレ−ト、ポリエーテルサルホン、ポリアリレートなどを用いることができる。
また、基板上に、素子に必要な部材、例えばカラーフィルタ、ブラックマトリックス、カラーフィルタ用保護膜、透明電極、ＴＦＴ、偏光フィルム等が予め設けられていてもよい。このように、基板上に直接設置して使用する部材が予め設けられている場合は、本発明で使用する重合性液晶組成物が各部材を侵さない限り、各部材の上から直接塗布または印刷法によって層（Ｂ）を形成することができる。
基板は実質的に透明であれば材質に特に限定はなく、ガラス、セラミックス、プラスチック等を使用することができる。プラスチック基板としてはセルロ−ス、トリアセチルセルロ−ス、ジアセチルセルロ−ス等のセルロ−ス誘導体、ポリシクロオレフィン誘導体、ポリエチレンテレフタレ−ト、ポリエチレンナフタレ−ト等のポリエステル、ポリプロピレン、ポリエチレン等のポリオレフィン、ポリカーボネート、ポリビニルアルコ−ル、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ナイロン、ポリスチレン、ポリアクリレート、ポリメチルメタクリレ−ト、ポリエーテルサルホン、ポリアリレートなどを用いることができる。
また、基板上に、素子に必要な部材、例えばカラーフィルタ、ブラックマトリックス、カラーフィルタ用保護膜、透明電極、ＴＦＴ、偏光フィルム等が予め設けられていてもよい。このように、基板上に直接設置して使用する部材が予め設けられている場合は、本発明で使用する重合性液晶組成物が各部材を侵さない限り、各部材の上から直接塗布または印刷法によって層（Ｂ）を形成することができる。
（塗布方法）
基板上、層（Ａ）上もしくは層（Ｂ）上に各々の組成物層を形成する方法は、インクジェット法、スピンコ−ティング法、エクストルージョン法、グラビアコーティング法、ダイコーティング法、スライドコーティング法、バーコーティング法、アプリケータ法などの塗布法やフレキソ法などの印刷法等、公知の方法を使用できる。
特に、未硬化の層（Ｂ）上に層（Ａ）となる光配向膜用組成物を塗布または印刷する方法としては、未硬化の層（Ｂ）表面に影響を与えにくいインクジェット法、ダイコーティング法、スライドコーティング法等の方法が好ましい。
基板上、層（Ａ）上もしくは層（Ｂ）上に各々の組成物層を形成する方法は、インクジェット法、スピンコ−ティング法、エクストルージョン法、グラビアコーティング法、ダイコーティング法、スライドコーティング法、バーコーティング法、アプリケータ法などの塗布法やフレキソ法などの印刷法等、公知の方法を使用できる。
特に、未硬化の層（Ｂ）上に層（Ａ）となる光配向膜用組成物を塗布または印刷する方法としては、未硬化の層（Ｂ）表面に影響を与えにくいインクジェット法、ダイコーティング法、スライドコーティング法等の方法が好ましい。
（乾燥）
層（Ａ）または層（Ｂ）を乾燥させる方法としては、公知の熱風乾燥、赤外線加熱、誘電加熱、加熱ロール等の方法を使用できる。
中でも、熱風乾燥が好ましい。
層（Ａ）または層（Ｂ）を乾燥させる方法としては、公知の熱風乾燥、赤外線加熱、誘電加熱、加熱ロール等の方法を使用できる。
中でも、熱風乾燥が好ましい。
基板上もしくは既に形成された光学異方性層上に重合性液晶組成物の層（Ｂ）を形成した前記層（Ｂ）上に、前記層（Ｂ）が溶解しない溶媒を含む光配向膜用組成物溶液を塗布または印刷した後乾燥させて、前記層（Ａ）を形成する。その後、前記層（Ａ）を光配向操作により配向させた後、層（Ｂ）中の重合性基を有する液晶化合物を配向させた状態で重合させて、光学異方性層を得る。
（光配向操作）
光配向操作で使用する、異方性を有する光としては、直線偏光や楕円偏光等の偏光、もしくは基板面に対して斜めの方向から非偏光があげられる。偏光は直線偏光、楕円偏光のいずれでも良いが、効率よく光配向を行うためには、消光比の高い直線偏光を用いることが好ましい。
光配向操作で使用する、異方性を有する光としては、直線偏光や楕円偏光等の偏光、もしくは基板面に対して斜めの方向から非偏光があげられる。偏光は直線偏光、楕円偏光のいずれでも良いが、効率よく光配向を行うためには、消光比の高い直線偏光を用いることが好ましい。
また、光照射装置において偏光を得るためには偏光フィルタ等を用いる必要があるので、膜面に照射される光強度が減少するといった欠点があるが、膜面に対して斜め方向から非偏光を照射する方法では、照射装置に偏光フィルタ等を必要とせず、大きな照射強度が得られ、光配向のための照射時間を短縮することができるという利点がある。このときの非偏光の入射角は基板法線に対して１０°〜８０°の範囲が好ましく、照射面における照射エネルギーの均一性、得られるプレチルト角、配向効率等を考慮すると、２０°〜６０°の範囲が更に好ましく、４５°が最も好ましい。
照射する光は、使用する化合物の光配向性基が吸収を有する波長領域の光であれば良い。例えば光配向性基がアゾベンゼン構造を有する場合は、アゾベンゼンのπ→π＊遷移による強い吸収がある、波長３３０〜５００ｎｍの範囲の紫外線が特に好ましい。
照射する光は、使用する化合物の光配向性基が吸収を有する波長領域の光であれば良い。例えば光配向性基がアゾベンゼン構造を有する場合は、アゾベンゼンのπ→π＊遷移による強い吸収がある、波長３３０〜５００ｎｍの範囲の紫外線が特に好ましい。
照射光の光源としては、キセノンランプ、高圧水銀ランプ、超高圧水銀ランプ、メタルハライドランプ等の紫外光源、ＫｒＦ、ＡｒＦ等の紫外光レーザー、Ａｒイオンレーザー等の可視光レーザー等が挙げられる。特に光配向性基がアゾベンゼン構造を有する場合は、３６５ｎｍの紫外線の発光強度が特に大きい超高圧水銀ランプを有効に使用することができる。
前記光源からの光をヨウ素系および染料系の偏光フィルム、ワイヤーグリッド型偏光板などの偏光フィルタやグラントムソン、グランテ−ラ−等の偏光プリズムを通すことで紫外線の直線偏光を得ることができる。
また、偏光、非偏光のいずれを使用する場合でも、照射する光は、ほぼ平行光であることが特に好ましい。
前記光源からの光をヨウ素系および染料系の偏光フィルム、ワイヤーグリッド型偏光板などの偏光フィルタやグラントムソン、グランテ−ラ−等の偏光プリズムを通すことで紫外線の直線偏光を得ることができる。
また、偏光、非偏光のいずれを使用する場合でも、照射する光は、ほぼ平行光であることが特に好ましい。
(パターン化)
本発明の光学異方体は偏光を照射する際、フォトマスクを使用すれば基板上で配向状態の異なる部分を２以上作り分けることが可能である。即ち、基板上に層（Ｂ）を形成し、層（Ｂ）が溶解しない溶媒を含む光配向膜用組成物溶液を塗布または印刷した後乾燥させた層（Ａ）とをこの順に設ける。加温して前記層（Ｂ）を等方相状態とした後、前記層（Ａ）の上からフォトマスクを介して偏光紫外線を照射し、前記層（Ａ）の照射部分に配向性を誘起する。次いで前記層（Ｂ）が液晶相を示す温度に冷却した後同じマスクを介して配向の誘起された部分のみに紫外線を照射しその部分を硬化する。再び加温して前記層（Ｂ）を等方相状態とした後、前記層（Ａ）の未硬化の部分に紫外線が照射されるフォトマスクを介して偏光紫外線を照射し、前記層（Ａ）の照射部分に配向性を誘起する。次いで前記層（Ｂ）が液晶相を示す温度に冷却した後同じマスクを介して後の工程で配向の誘起された部分にのみ紫外線を照射しその部分を硬化する。このプロセスを続ければ配向状態の異なる領域を作り分けることができる。
別の態様としては、基板上に層（Ｂ）、この上に層（Ａ）をこの順序で形成する。加温して前記層（Ｂ）を等方相状態とした後、前記層（Ａ）の上からマスクを介して偏光紫外線を照射し、前記層（Ａ）の照射部分に配向性を誘起する。次いで前記層（Ｂ）が液晶相を示す温度に冷却した後同じマスクを介して配向の誘起された部分のみに紫外線を照射し配向部分を硬化する。再び加温して前記層（Ｂ）を等方相状態とした後、紫外線を前記層（Ａ）の全面に十分照射する。前記層（Ａ）の配向方向に関わらず前記層（Ｂ）は等方相状態で硬化するので、配向部分と等方性部分とからなる配向状態の異なる領域を作り分けることができる。この他にもいくつかの方法があり、本発明に従って一枚の光学異方体上に配向状態の異なる領域を複数作成することは容易である。
本発明の光学異方体は偏光を照射する際、フォトマスクを使用すれば基板上で配向状態の異なる部分を２以上作り分けることが可能である。即ち、基板上に層（Ｂ）を形成し、層（Ｂ）が溶解しない溶媒を含む光配向膜用組成物溶液を塗布または印刷した後乾燥させた層（Ａ）とをこの順に設ける。加温して前記層（Ｂ）を等方相状態とした後、前記層（Ａ）の上からフォトマスクを介して偏光紫外線を照射し、前記層（Ａ）の照射部分に配向性を誘起する。次いで前記層（Ｂ）が液晶相を示す温度に冷却した後同じマスクを介して配向の誘起された部分のみに紫外線を照射しその部分を硬化する。再び加温して前記層（Ｂ）を等方相状態とした後、前記層（Ａ）の未硬化の部分に紫外線が照射されるフォトマスクを介して偏光紫外線を照射し、前記層（Ａ）の照射部分に配向性を誘起する。次いで前記層（Ｂ）が液晶相を示す温度に冷却した後同じマスクを介して後の工程で配向の誘起された部分にのみ紫外線を照射しその部分を硬化する。このプロセスを続ければ配向状態の異なる領域を作り分けることができる。
別の態様としては、基板上に層（Ｂ）、この上に層（Ａ）をこの順序で形成する。加温して前記層（Ｂ）を等方相状態とした後、前記層（Ａ）の上からマスクを介して偏光紫外線を照射し、前記層（Ａ）の照射部分に配向性を誘起する。次いで前記層（Ｂ）が液晶相を示す温度に冷却した後同じマスクを介して配向の誘起された部分のみに紫外線を照射し配向部分を硬化する。再び加温して前記層（Ｂ）を等方相状態とした後、紫外線を前記層（Ａ）の全面に十分照射する。前記層（Ａ）の配向方向に関わらず前記層（Ｂ）は等方相状態で硬化するので、配向部分と等方性部分とからなる配向状態の異なる領域を作り分けることができる。この他にもいくつかの方法があり、本発明に従って一枚の光学異方体上に配向状態の異なる領域を複数作成することは容易である。
以下、これら一連の工程の具体的態様として、光配向膜用組成物として、重合性基を含む光配向膜用重合性組成物を使用した例を挙げる。尚、重合性基を含まない光配向膜用組成物を使用した場合には、層（Ａ）と層（Ｂ）間に共有結合が生じない以外は同様の挙動により光学異方体が得られる。
１．光重合開始剤を、重合性液晶組成物のみに添加しておく方法
基板上へ光重合開始剤を含む重合性液晶組成物溶液を塗布、乾燥し、層（Ｂ）形成する。次いでこの上に、重合開始剤を含まない光配向膜用重合性組成物を塗布、乾燥して層（Ａ）を形成する。その後、層（Ａ）の表面側から、光配向膜用重合性組成物中の光配向性基が吸収しうる波長の偏光を照射して層（Ａ）に液晶配向能を付与する。光照射初期においては、層（Ａ）には光重合開始剤が含まれないので層（Ａ）の重合反応は誘起されず、光配向性基が照射光の大部分を吸収して光配向反応が進行する。この時層（Ｂ）に光はあまり漏洩しない。光配向性基が光により状態変化するに従って層（Ａ）の液晶配向能が発現すると、次第に光配向性基の吸収効率が低下するので照射光が層（Ｂ）に漏れるようになる。層（Ａ）の液晶配向能の発現と同時に層（Ｂ）の配向が生じるので、層（Ｂ）の重合が進行できる程の照射光が層（Ｂ）に漏れるころには層（Ｂ）は既に配向しており、配向させた状態での重合体が得られる。このときは、層（Ｂ）の重合と共に層（Ｂ）と層（Ａ）との界面に存在する光重合開始剤により両層の分子間で重合反応が生じ両層は共有結合される。即ち、光重合開始剤が開裂して生じるラジカルは両層を移動することができるので、光重合開始剤が層（Ｂ）に含まれていれば、両層の界面に存在する重合性基を重合させることができ、層（Ａ）と層（Ｂ）とが共有結合され、両層の密着性が改良された光学異方体を得ることができる。
この方法は、光配向性組成物が光重合開始剤を含まないので、紫外線等を照射中に予期せぬ重合が生じて光配向反応を妨げる恐れがない。従って単一の光で配向操作から重合操作までを連続して行うことができる。従って製造工程における光照射回数を減らすことが可能となり工程を効率化できる。但し、光の照射強度や層（Ａ）の膜厚等を適宜調製して、適切な条件を設定することが重要である。
基板上へ光重合開始剤を含む重合性液晶組成物溶液を塗布、乾燥し、層（Ｂ）形成する。次いでこの上に、重合開始剤を含まない光配向膜用重合性組成物を塗布、乾燥して層（Ａ）を形成する。その後、層（Ａ）の表面側から、光配向膜用重合性組成物中の光配向性基が吸収しうる波長の偏光を照射して層（Ａ）に液晶配向能を付与する。光照射初期においては、層（Ａ）には光重合開始剤が含まれないので層（Ａ）の重合反応は誘起されず、光配向性基が照射光の大部分を吸収して光配向反応が進行する。この時層（Ｂ）に光はあまり漏洩しない。光配向性基が光により状態変化するに従って層（Ａ）の液晶配向能が発現すると、次第に光配向性基の吸収効率が低下するので照射光が層（Ｂ）に漏れるようになる。層（Ａ）の液晶配向能の発現と同時に層（Ｂ）の配向が生じるので、層（Ｂ）の重合が進行できる程の照射光が層（Ｂ）に漏れるころには層（Ｂ）は既に配向しており、配向させた状態での重合体が得られる。このときは、層（Ｂ）の重合と共に層（Ｂ）と層（Ａ）との界面に存在する光重合開始剤により両層の分子間で重合反応が生じ両層は共有結合される。即ち、光重合開始剤が開裂して生じるラジカルは両層を移動することができるので、光重合開始剤が層（Ｂ）に含まれていれば、両層の界面に存在する重合性基を重合させることができ、層（Ａ）と層（Ｂ）とが共有結合され、両層の密着性が改良された光学異方体を得ることができる。
この方法は、光配向性組成物が光重合開始剤を含まないので、紫外線等を照射中に予期せぬ重合が生じて光配向反応を妨げる恐れがない。従って単一の光で配向操作から重合操作までを連続して行うことができる。従って製造工程における光照射回数を減らすことが可能となり工程を効率化できる。但し、光の照射強度や層（Ａ）の膜厚等を適宜調製して、適切な条件を設定することが重要である。
２．光配向性基が有する光の吸収帯とは異なる光吸収波長帯域を持つ光重合開始剤を、重合性液晶組成物及び光配向性重合性組成物の一方又は両方に添加しておく方法
前記１．の方法と同様に層（Ｂ）上に層（Ａ）を形成した後、層（Ａ）表面から光配向性基が吸収しうる波長の偏光又は基板に対して斜め方向からの非偏光を照射して液晶配向能を与える。この光配向操作により層（Ｂ）も次第に配向する。十分配向させた後、光重合開始剤が吸収する波長の光を照射して、層（Ｂ）を重合させる。層（Ａ）と層（Ｂ）も共有結合され、両層の密着性が改良された光学異方体を得ることができる。尚、光重合開始剤は前記１．と同様、層（Ｂ） だけに添加しておいても良いし、層(Ａ)と（Ｂ）両方に添加しても良い。
この方法では、層（Ａ）に液晶配向能を付与する光照射工程と、層（Ｂ）の重合を進行させる光照射工程とが分離するために、層（Ａ）の配向処理を十分行った後に層（Ｂ）の重合操作を行うことができ、条件が簡単で、反応が十分な光学異方体を得ることが可能である。
前記１．の方法と同様に層（Ｂ）上に層（Ａ）を形成した後、層（Ａ）表面から光配向性基が吸収しうる波長の偏光又は基板に対して斜め方向からの非偏光を照射して液晶配向能を与える。この光配向操作により層（Ｂ）も次第に配向する。十分配向させた後、光重合開始剤が吸収する波長の光を照射して、層（Ｂ）を重合させる。層（Ａ）と層（Ｂ）も共有結合され、両層の密着性が改良された光学異方体を得ることができる。尚、光重合開始剤は前記１．と同様、層（Ｂ） だけに添加しておいても良いし、層(Ａ)と（Ｂ）両方に添加しても良い。
この方法では、層（Ａ）に液晶配向能を付与する光照射工程と、層（Ｂ）の重合を進行させる光照射工程とが分離するために、層（Ａ）の配向処理を十分行った後に層（Ｂ）の重合操作を行うことができ、条件が簡単で、反応が十分な光学異方体を得ることが可能である。
３．熱重合開始剤を、重合性液晶組成物あるいは光配向性重合性組成物の一方又は両方に添加しておく方法
前記１．の方法と同様に層（Ｂ）上に層（Ａ）を形成した後、層（Ａ）表面側から光配向性基が吸収しうる波長の偏光又は基板に対して斜め方向からの非偏光を照射して液晶配向能を与える。次いで両層を加熱して熱重合開始剤を開裂させて層（Ｂ）の硬化を生起する。または両層の硬化を進めると同時に、層（Ａ）と層（Ｂ）との界面に存在する熱重合開始剤により両層の分子間を重合する。熱重合開始剤が開裂して生じるラジカルは両層を移動することができるので、どちらかの層に含まれていれば、両層の界面に存在する重合性基を重合させることができ、層（Ａ）と層（Ｂ）とが共有結合され、密着性の改良された光学異方体を得ることができる。尚、加熱温度は層（Ｂ）が液晶状態である温度範囲に留めておくことが光学異方体を得るために必要である。また熱重合開始剤は前記１．と同様、層（Ｂ） だけに添加しておいても良いし、層(Ａ)と（Ｂ）両方に添加しても良い。
この方法によれば液晶配向能を与える光照射により予期しない層（Ａ）および（Ｂ）の重合を回避することができる。
前記１．の方法と同様に層（Ｂ）上に層（Ａ）を形成した後、層（Ａ）表面側から光配向性基が吸収しうる波長の偏光又は基板に対して斜め方向からの非偏光を照射して液晶配向能を与える。次いで両層を加熱して熱重合開始剤を開裂させて層（Ｂ）の硬化を生起する。または両層の硬化を進めると同時に、層（Ａ）と層（Ｂ）との界面に存在する熱重合開始剤により両層の分子間を重合する。熱重合開始剤が開裂して生じるラジカルは両層を移動することができるので、どちらかの層に含まれていれば、両層の界面に存在する重合性基を重合させることができ、層（Ａ）と層（Ｂ）とが共有結合され、密着性の改良された光学異方体を得ることができる。尚、加熱温度は層（Ｂ）が液晶状態である温度範囲に留めておくことが光学異方体を得るために必要である。また熱重合開始剤は前記１．と同様、層（Ｂ） だけに添加しておいても良いし、層(Ａ)と（Ｂ）両方に添加しても良い。
この方法によれば液晶配向能を与える光照射により予期しない層（Ａ）および（Ｂ）の重合を回避することができる。
４．熱重合開始剤と光重合開始剤を併用する方法
層（Ａ）に光配向性基が有する光の吸収帯とは異なる光吸収波長帯域を持つ光重合開始剤、（Ｂ）に熱重合開始剤を添加し、前記１．の方法と同様にして、層（Ａ）表面側から光配向性基が吸収しうる波長の偏光又は基板に対して斜め方向からの非偏光を照射して液晶配向能を与える。層（Ｂ）の重合性液晶が配向した後、積層した２層を、熱重合開始剤の開裂する適当な温度に保って層（Ｂ）を硬化、または層（Ｂ）の硬化と共に両層の分子間を重合し、更に光重合開始剤が吸収する波長帯域の光を照射し層（Ａ）の硬化と共に層（Ａ）と層（Ｂ）との界面を共重合する。熱重合と光重合の順番を入れ替えても同様な効果を得ることができる。または、層（Ａ）に熱重合開始剤、（Ｂ）に光重合開始剤を添加し、前記１．の方法と同様にして、層（Ａ）表面側から光配向性基が吸収しうる波長の偏光又は基板に対して斜め方向からの非偏光を照射して液晶配向能を与える。層（Ｂ）の重合性液晶が配向した後、積層した２層を、熱重合開始剤の開裂する適当な温度に加温し層（Ａ）を硬化、または層（Ａ）の硬化と共に両層の分子間を重合し、更に光重合開始剤が吸収する波長帯域の光を照射し層（Ｂ）の硬化と共に層（Ａ）と層（Ｂ）との界面を共重合する。熱重合と光重合の順番を入れ替えても同様な効果を得ることができる。
この方法によっても液晶配向能を与える光照射により予期しない層（Ａ）または（Ｂ）の重合を回避することができる。
層（Ａ）に光配向性基が有する光の吸収帯とは異なる光吸収波長帯域を持つ光重合開始剤、（Ｂ）に熱重合開始剤を添加し、前記１．の方法と同様にして、層（Ａ）表面側から光配向性基が吸収しうる波長の偏光又は基板に対して斜め方向からの非偏光を照射して液晶配向能を与える。層（Ｂ）の重合性液晶が配向した後、積層した２層を、熱重合開始剤の開裂する適当な温度に保って層（Ｂ）を硬化、または層（Ｂ）の硬化と共に両層の分子間を重合し、更に光重合開始剤が吸収する波長帯域の光を照射し層（Ａ）の硬化と共に層（Ａ）と層（Ｂ）との界面を共重合する。熱重合と光重合の順番を入れ替えても同様な効果を得ることができる。または、層（Ａ）に熱重合開始剤、（Ｂ）に光重合開始剤を添加し、前記１．の方法と同様にして、層（Ａ）表面側から光配向性基が吸収しうる波長の偏光又は基板に対して斜め方向からの非偏光を照射して液晶配向能を与える。層（Ｂ）の重合性液晶が配向した後、積層した２層を、熱重合開始剤の開裂する適当な温度に加温し層（Ａ）を硬化、または層（Ａ）の硬化と共に両層の分子間を重合し、更に光重合開始剤が吸収する波長帯域の光を照射し層（Ｂ）の硬化と共に層（Ａ）と層（Ｂ）との界面を共重合する。熱重合と光重合の順番を入れ替えても同様な効果を得ることができる。
この方法によっても液晶配向能を与える光照射により予期しない層（Ａ）または（Ｂ）の重合を回避することができる。
これら１．〜４．の方法における光配向操作において、光配向性基が、ワイゲルト効果による分子の配向誘起もしくは異性化反応等を利用する基である場合には、層（Ｂ）を等方相状態にしておくことにより光配向操作をより効率的に行うことができる。これは重合性液晶分子の分子運動が激しい等方相においては、該重合性液晶分子と接する光配向基を有する化合物の再配向が容易に進行するためと考えられる。該基が効率よく吸収する波長の非偏光を基板に対して斜め方向から照射し液晶配向機能を与えてもよい。
尚、前記１．においては特に、層（Ｂ）を液晶相状態に戻し、層（Ａ）の液晶配向能の効果により層（Ｂ）が意図した配向状態となった後、層（Ｂ）に添加した光重合開始剤が吸収する波長の光を照射し、重合性液晶化合物の重合を進めるが、照射する光は液晶配向能を与えた時と同方向に振動する偏光であることが層（Ａ）および層（Ｂ）の配向状態を崩しにくいため好ましい。
尚、前記１．においては特に、層（Ｂ）を液晶相状態に戻し、層（Ａ）の液晶配向能の効果により層（Ｂ）が意図した配向状態となった後、層（Ｂ）に添加した光重合開始剤が吸収する波長の光を照射し、重合性液晶化合物の重合を進めるが、照射する光は液晶配向能を与えた時と同方向に振動する偏光であることが層（Ａ）および層（Ｂ）の配向状態を崩しにくいため好ましい。
層（Ａ）表面に光を照射するだけで、次第に層（Ａ）から層（Ｂ）に光が漏れ、層（Ｂ）の重合反応が良好に進行する機構については次のように推定される。アゾベンゼン基等のような異性化反応を生じてワイゲルト効果による分子配向が誘起される系では光の吸収により光配向性重合性組成物の配向方向が変化し吸収を最小化する配向状態をとるようになるため、照射光は次第に重合性液晶組成物層に漏れるようになり、層（Ｂ）の重合を誘起する。同様に層（Ａ）として二量化反応（例：シンナモイル基）、光架橋反応（例：ベンゾフェノン基）、あるいは光分解反応（例：ポリイミド基）等を利用する化合物を用いた場合にも、偏光の吸収により該方向に配向した成分がそれぞれ二量化、光架橋、光分解し、次第に吸収する該基が減少して照射光は層（Ｂ）に漏れるようになり、層（Ｂ）の重合を誘起する。
使用する基板の層（Ｂ）に対する配向性と、層（Ａ）の液晶に対する配向性とを適宜組み合わせることで、任意の配向性を有する光学異方体が得られる。
使用する基板として、あるいは重合性液晶が接する基板表面材質として、ガラスまたは脂肪族鎖を有するポリイミドやステアリルアクリレート硬化物などの低表面張力の表面を有する基板を使用すれば、基板と液晶組成物との界面において垂直配向が得られる。一方、基板として、あるいは重合性液晶が接する基板表面材質として、ＴＡＣ、ポリイミド、ポリビニルアルコール等、比較的表面張力の高い表面を有する基板を使用すれば、基板と液晶組成物との界面において平行配向が得られる。
また、層（Ａ）に使用する光配向膜用組成物としてアゾ系染料等を使用すれば、該光配向膜と液晶組成物との界面において、平行配向が得られる。これらを組み合わせることで、垂直配向、平行配向、あるいはハイブリッド配向を有する光学異方体を容易に得ることができる。
例えば、波長５４５．７ｎｍで測定した位相差が２４０〜３１０ｎｍの前記光学異方性層と、波長５４５．７ｎｍで測定した位相差が１００〜１７０ｎｍの前記光学異方性層の少なくとも２層を有する光学異方体は、反射型液晶表示素子用の位相差フィルムとして好適に使用することができる。
使用する基板として、あるいは重合性液晶が接する基板表面材質として、ガラスまたは脂肪族鎖を有するポリイミドやステアリルアクリレート硬化物などの低表面張力の表面を有する基板を使用すれば、基板と液晶組成物との界面において垂直配向が得られる。一方、基板として、あるいは重合性液晶が接する基板表面材質として、ＴＡＣ、ポリイミド、ポリビニルアルコール等、比較的表面張力の高い表面を有する基板を使用すれば、基板と液晶組成物との界面において平行配向が得られる。
また、層（Ａ）に使用する光配向膜用組成物としてアゾ系染料等を使用すれば、該光配向膜と液晶組成物との界面において、平行配向が得られる。これらを組み合わせることで、垂直配向、平行配向、あるいはハイブリッド配向を有する光学異方体を容易に得ることができる。
例えば、波長５４５．７ｎｍで測定した位相差が２４０〜３１０ｎｍの前記光学異方性層と、波長５４５．７ｎｍで測定した位相差が１００〜１７０ｎｍの前記光学異方性層の少なくとも２層を有する光学異方体は、反射型液晶表示素子用の位相差フィルムとして好適に使用することができる。
（偏光板）
本発明の光学異方体は、適当な直線偏光板と貼合することで楕円偏光板や円偏光板を形成することができる。直線偏光板としては特に制限はなく、ヨウ素系および染料系の偏光フィルム、ワイヤーグリッド型偏光板、またグラントムソン、グランテ−ラ−等の偏光プリズムと組み合わせることもできる。
この場合、基板に塗布して得た光学異方体を直線偏光フィルムに貼合してもよく、塗布により形成した光学異方体を基板より剥離して直線偏光フィルムと貼合してもよく、また偏光フィルム上に直接本発明の光学異方体を形成し、円偏光板および楕円偏光板とすることもできる。
本発明の光学異方体は、適当な直線偏光板と貼合することで楕円偏光板や円偏光板を形成することができる。直線偏光板としては特に制限はなく、ヨウ素系および染料系の偏光フィルム、ワイヤーグリッド型偏光板、またグラントムソン、グランテ−ラ−等の偏光プリズムと組み合わせることもできる。
この場合、基板に塗布して得た光学異方体を直線偏光フィルムに貼合してもよく、塗布により形成した光学異方体を基板より剥離して直線偏光フィルムと貼合してもよく、また偏光フィルム上に直接本発明の光学異方体を形成し、円偏光板および楕円偏光板とすることもできる。
（位相差機能を有するカラーフィルタ付き基板）
本発明の光学異方体は基板上に作製したカラーフィルタと貼合またはカラーフィルタ上に塗設することによって、位相差機能を有するカラーフィルタ付き基板とすることができる。位相差機能を有するカラーフィルタ付き基板とは、具体的には、基板上に設けたカラーフィルタもしくはその保護膜上に重合性液晶組成物の層（Ｂ）と、前記層（Ｂ）が溶解しない溶媒を含む光配向膜用組成物溶液を塗布または印刷した後乾燥させた前記層（Ａ）とをこの順に設け、前記層（Ｂ）中の重合性基を有する液晶化合物を配向させた状態で重合させた光学異方体を積層してなる。または予め適当な基板上に本発明による光学異方体を形成し、これをカラーフィルタに貼合することによっても作製可能であり、基板上に形成した光学異方体を基板から剥離してカラーフィルタに貼合してもよい。あるいは基板上に本発明の位相差膜を形成し、位相差膜上にカラーフィルタを形成してもよい。
位相差層の位置はカラーフィルタ直上でもよく、カラーフィルタと基板との間でもよく、基板上のカラーフィルタ面とは逆の面に設けてもよい。このカラーフィルタ付き基板を、液晶表示素子を構成する少なくとも一方の基板として用いることができる。液晶ディスプレイを製造するに当たりカラーフィルタ機能と位相差機能とを別々に作りこむ必要がなく工程数の簡略化が図れる。
本発明の光学異方体は基板上に作製したカラーフィルタと貼合またはカラーフィルタ上に塗設することによって、位相差機能を有するカラーフィルタ付き基板とすることができる。位相差機能を有するカラーフィルタ付き基板とは、具体的には、基板上に設けたカラーフィルタもしくはその保護膜上に重合性液晶組成物の層（Ｂ）と、前記層（Ｂ）が溶解しない溶媒を含む光配向膜用組成物溶液を塗布または印刷した後乾燥させた前記層（Ａ）とをこの順に設け、前記層（Ｂ）中の重合性基を有する液晶化合物を配向させた状態で重合させた光学異方体を積層してなる。または予め適当な基板上に本発明による光学異方体を形成し、これをカラーフィルタに貼合することによっても作製可能であり、基板上に形成した光学異方体を基板から剥離してカラーフィルタに貼合してもよい。あるいは基板上に本発明の位相差膜を形成し、位相差膜上にカラーフィルタを形成してもよい。
位相差層の位置はカラーフィルタ直上でもよく、カラーフィルタと基板との間でもよく、基板上のカラーフィルタ面とは逆の面に設けてもよい。このカラーフィルタ付き基板を、液晶表示素子を構成する少なくとも一方の基板として用いることができる。液晶ディスプレイを製造するに当たりカラーフィルタ機能と位相差機能とを別々に作りこむ必要がなく工程数の簡略化が図れる。
本発明の位相差機能を有するカラーフィルタ付き基板は画素と位相差の分布とを近接した状態で対応させる場合に有効であり、即ち斜めから見た場合のカラーフィルタの個々の画素位置と位相差膜との視差が起こりにくい特徴を有する。従って、半透過半反射液晶ディスプレイに有用である。
半透過半反射液晶ディスプレイの構造についてはいくつか提案されており、反射モードによって画像を形成する部分と透過モードによって画像を形成する部分とを一つの画素の中に作り分ける場合がある。反射モードで画像を形成する部分においては円偏光を作るため１／４波長板を積層する必要があるが、透過モード部分には画質向上のため１／４波長板は積層しないことが好ましい。本発明の光学異方体は、前述の通り任意の場所にパターン化も可能であり、前述のパターン化の方法を用いると、反射モード部分には１／４波長板を有し透過モード部分には設けない構成を簡単に得ることができる。具体的には、カラーフィルタ上に直接層（Ｂ）を形成し、この上に層（Ａ）を設ける。次いでこれを前記層（Ｂ）が等方相になる温度に保ったままマスクを介して偏光紫外線を照射して前記層（Ａ）を配向処理する。次に前記層（Ｂ）が液晶相を示す温度まで冷却した後、同じマスクを介して偏光紫外線を照射し配向部分のみを硬化する(反射モード部分)。次に再び加熱し前記層（Ｂ）の未硬化部分(透過モード部分)が等方相を示す温度まで昇温し、カラーフィルタ全面に紫外線を十分照射し等方相部分を硬化させる。このようにすることにより、カラーフィルタ上には反射モードの部分に１／４波長板機能を有する層（Ｂ）が形成され、透過モードの部分には等方性の層（Ｂ）が形成された位相差機能を有するカラーフィルタ付き基板が得られる。これを使用し、半透過反射型の液晶ディスプレイとすることができる。
半透過半反射液晶ディスプレイの構造についてはいくつか提案されており、反射モードによって画像を形成する部分と透過モードによって画像を形成する部分とを一つの画素の中に作り分ける場合がある。反射モードで画像を形成する部分においては円偏光を作るため１／４波長板を積層する必要があるが、透過モード部分には画質向上のため１／４波長板は積層しないことが好ましい。本発明の光学異方体は、前述の通り任意の場所にパターン化も可能であり、前述のパターン化の方法を用いると、反射モード部分には１／４波長板を有し透過モード部分には設けない構成を簡単に得ることができる。具体的には、カラーフィルタ上に直接層（Ｂ）を形成し、この上に層（Ａ）を設ける。次いでこれを前記層（Ｂ）が等方相になる温度に保ったままマスクを介して偏光紫外線を照射して前記層（Ａ）を配向処理する。次に前記層（Ｂ）が液晶相を示す温度まで冷却した後、同じマスクを介して偏光紫外線を照射し配向部分のみを硬化する(反射モード部分)。次に再び加熱し前記層（Ｂ）の未硬化部分(透過モード部分)が等方相を示す温度まで昇温し、カラーフィルタ全面に紫外線を十分照射し等方相部分を硬化させる。このようにすることにより、カラーフィルタ上には反射モードの部分に１／４波長板機能を有する層（Ｂ）が形成され、透過モードの部分には等方性の層（Ｂ）が形成された位相差機能を有するカラーフィルタ付き基板が得られる。これを使用し、半透過反射型の液晶ディスプレイとすることができる。
本発明の位相差機能を有するカラーフィルタ付き基板に使用する基板は、前述の基板の項目で述べた材質を使用すればよい。またカラーフィルタ上には平坦化のため保護層を設けてから本発明の位相差層を形成してもよい。また位相差膜表面の平坦化のため保護層を設けてから電極層を設けてもよい。
（光配向性重合性組成物の調製 Ａ−１）
式（１）で表される化合物と界面活性剤(エマルゲン１０８ 花王（株）)とを質量比９５：５の比率で水に溶解し、固形分０．１質量％溶液とした。この溶液を孔径０．４５μｍのフィルタで濾過し、光配向性重合性組成物溶液（Ａ−１）とした。
式（１）で表される化合物と界面活性剤(エマルゲン１０８ 花王（株）)とを質量比９５：５の比率で水に溶解し、固形分０．１質量％溶液とした。この溶液を孔径０．４５μｍのフィルタで濾過し、光配向性重合性組成物溶液（Ａ−１）とした。
（光配向性重合性組成物の調製 Ａ−２）
式（１）で表される化合物をジプロピレングリコールモノメチルエーテル／２−ブトキシエタノール／水の等体積混合溶媒に溶解し、固形分１質量％溶液とした。この溶液を孔径０．４５μｍのフィルタで濾過し、光配向性重合性組成物溶液（Ａ−２）とした。
式（１）で表される化合物をジプロピレングリコールモノメチルエーテル／２−ブトキシエタノール／水の等体積混合溶媒に溶解し、固形分１質量％溶液とした。この溶液を孔径０．４５μｍのフィルタで濾過し、光配向性重合性組成物溶液（Ａ−２）とした。
（光配向性重合性組成物の調製 Ａ−３）
式（２）で表される化合物と界面活性剤(エマルゲン１０８ 花王（株）)とを質量比９５：５の比率で水に溶解して１.０質量％溶液とした。この溶液を孔径０．４５μｍのフィルタで濾過し、光配向性重合性組成物溶液（Ａ−３）とした。
式（２）で表される化合物と界面活性剤(エマルゲン１０８ 花王（株）)とを質量比９５：５の比率で水に溶解して１.０質量％溶液とした。この溶液を孔径０．４５μｍのフィルタで濾過し、光配向性重合性組成物溶液（Ａ−３）とした。
式（２）で表される化合物をジプロピレングリコールモノメチルエーテル／２−ブトキシエタノール／水の等体積混合溶媒に溶解して１.０質量％溶液とした。この溶液を孔径０．４５μｍのフィルタ−で濾過し、光配向性重合性組成物溶液（Ａ−４）とした。
（光配向性重合性組成物の調製 Ａ−５）
式（２）で表される化合物と界面活性剤(エマルゲン１０８ 花王（株）)とを質量比１００：５の比率で水に溶解して１.０質量％溶液とした。この溶液を孔径０．４５μｍのフィルタで濾過し、光配向性重合性組成物溶液（Ａ−５）とした。
式（２）で表される化合物と界面活性剤(エマルゲン１０８ 花王（株）)とを質量比１００：５の比率で水に溶解して１.０質量％溶液とした。この溶液を孔径０．４５μｍのフィルタで濾過し、光配向性重合性組成物溶液（Ａ−５）とした。
（光配向性重合性組成物の調製 Ａ−６）
式（２）で表される化合物と界面活性剤(エマルゲン１０８ 花王（株）)とを質量比１００：５の比率で水とアセトンからなる等質量混合溶媒に溶解して１.０質量％溶液とした。この溶液を孔径０．４５μｍのフィルタで濾過し、光配向性重合性組成物溶液（Ａ−６）とした。
式（２）で表される化合物と界面活性剤(エマルゲン１０８ 花王（株）)とを質量比１００：５の比率で水とアセトンからなる等質量混合溶媒に溶解して１.０質量％溶液とした。この溶液を孔径０．４５μｍのフィルタで濾過し、光配向性重合性組成物溶液（Ａ−６）とした。
（光配向性重合性組成物の調製 Ａ−７）
式（２）で表される化合物と界面活性剤(エマルゲン１０８ 花王（株）)と、ポリエチレングリコールジアクリレート（Ｍ−２６０ 東亞合成（株））を質量比１０：２０：１の比率で水に溶解して３．０質量％溶液とした。この溶液を孔径０．４５μｍのフィルタで濾過し、光配向性重合性組成物溶液（Ａ−７）とした。
式（２）で表される化合物と界面活性剤(エマルゲン１０８ 花王（株）)と、ポリエチレングリコールジアクリレート（Ｍ−２６０ 東亞合成（株））を質量比１０：２０：１の比率で水に溶解して３．０質量％溶液とした。この溶液を孔径０．４５μｍのフィルタで濾過し、光配向性重合性組成物溶液（Ａ−７）とした。
（重合性液晶組成物の調製 Ｂ−１）
式（３）及び式（４）で表される化合物を質量比で等量混合した重合性液晶組成物を調製し、該組成物１００質量部にチバスペシャリティケミカルズ（株）製の光重合開始剤「イルガキュア９０７」を２部、キシレン２２０部を混合し、重合性液晶組成物溶液（Ｂ−１）とした。該重合性液晶組成物溶液（Ｂ−１）からキシレンを蒸発させた後の液晶組成物は２５℃において液晶相を示し、以下の実施例は２５℃において調製した。次いで孔径０．４５μｍのフィルタ−で濾過した。
式（３）及び式（４）で表される化合物を質量比で等量混合した重合性液晶組成物を調製し、該組成物１００質量部にチバスペシャリティケミカルズ（株）製の光重合開始剤「イルガキュア９０７」を２部、キシレン２２０部を混合し、重合性液晶組成物溶液（Ｂ−１）とした。該重合性液晶組成物溶液（Ｂ−１）からキシレンを蒸発させた後の液晶組成物は２５℃において液晶相を示し、以下の実施例は２５℃において調製した。次いで孔径０．４５μｍのフィルタ−で濾過した。
（重合性液晶組成物の調製 Ｂ−２）
式（３）及び式（４）で表される化合物を質量比で等量混合した重合性液晶組成物を調製し、該組成物１００質量部にチバスペシャリティケミカルズ（株）製の光重合開始剤「イルガキュア９０７」を８部、キシレン２２０部を混合し、重合性液晶組成物溶液（Ｂ−２）とした。該重合性液晶組成物溶液（Ｂ−２）からキシレンを蒸発させた後の液晶組成物は２５℃において液晶相を示し、以下の実施例は２５℃において調製した。次いで孔径０．４５μｍのフィルタ−で濾過した。
式（３）及び式（４）で表される化合物を質量比で等量混合した重合性液晶組成物を調製し、該組成物１００質量部にチバスペシャリティケミカルズ（株）製の光重合開始剤「イルガキュア９０７」を８部、キシレン２２０部を混合し、重合性液晶組成物溶液（Ｂ−２）とした。該重合性液晶組成物溶液（Ｂ−２）からキシレンを蒸発させた後の液晶組成物は２５℃において液晶相を示し、以下の実施例は２５℃において調製した。次いで孔径０．４５μｍのフィルタ−で濾過した。
（重合性液晶組成物の調製 Ｂ−３）
式（３）、及び式（４）で表される化合物を質量比で等量混合した重合性液晶組成物を調製し、重合性液晶組成物１００質量部に対し、質量平均分子量４７０００の添加剤（５）を０．５質量部、チバスペシャリティケミカルズ（株）製の光重合開始剤「イルガキュア９０７」を２部、キシレン２２０部を混合し、重合性液晶組成物溶液（Ｂ−３）とした。該重合性液晶組成物溶液（Ｂ−３）からキシレンを蒸発させた後の液晶組成物は２５℃において液晶相を示し、以下の実施例は２５℃において調製した。次いで孔径０．４５μｍのフィルタ−で濾過した。
式（３）、及び式（４）で表される化合物を質量比で等量混合した重合性液晶組成物を調製し、重合性液晶組成物１００質量部に対し、質量平均分子量４７０００の添加剤（５）を０．５質量部、チバスペシャリティケミカルズ（株）製の光重合開始剤「イルガキュア９０７」を２部、キシレン２２０部を混合し、重合性液晶組成物溶液（Ｂ−３）とした。該重合性液晶組成物溶液（Ｂ−３）からキシレンを蒸発させた後の液晶組成物は２５℃において液晶相を示し、以下の実施例は２５℃において調製した。次いで孔径０．４５μｍのフィルタ−で濾過した。
（重合性液晶組成物の調製 Ｂ−４）
式（３）及び式（４）で表される化合物を質量比で等量混合した重合性液晶組成物を調製し、該組成物１００質量部にチバスペシャリティケミカルズ（株）製の光重合開始剤「イルガキュア１８４」を４部、ポリエチレングリコールジアクリレート（Ｍ−２６０ 東亞合成（株））を１部、キシレン３００部を混合し、重合性液晶組成物溶液（Ｂ−４）とした。該重合性液晶組成物溶液（Ｂ−４）からキシレンを蒸発させた後の液晶組成物は２５℃において液晶相を示し、以下の実施例は２５℃において調製した。次いで孔径０．４５μｍのフィルタ−で濾過した。
式（３）及び式（４）で表される化合物を質量比で等量混合した重合性液晶組成物を調製し、該組成物１００質量部にチバスペシャリティケミカルズ（株）製の光重合開始剤「イルガキュア１８４」を４部、ポリエチレングリコールジアクリレート（Ｍ−２６０ 東亞合成（株））を１部、キシレン３００部を混合し、重合性液晶組成物溶液（Ｂ−４）とした。該重合性液晶組成物溶液（Ｂ−４）からキシレンを蒸発させた後の液晶組成物は２５℃において液晶相を示し、以下の実施例は２５℃において調製した。次いで孔径０．４５μｍのフィルタ−で濾過した。
（配向性の評価方法）
光学異方体の配向性は、外観目視、及び、偏光顕微鏡観察することにより、５段階で評価した。
Ａ：目視で均一な配向が得られており、偏光顕微鏡観察でも欠陥が全くない
Ｂ：目視では均一な配向が得られているが、偏光顕微鏡観察での配向面積は９０〜１００％
Ｃ：目視ではＡ、Ｂ程の配向は得られていないが、偏光顕微鏡観察での配向面積は６０〜９０％
Ｄ：目視では無配向に近いが、偏光顕微鏡観察での配向面積は４０〜６０％
Ｅ：目視では無配向で、偏光顕微鏡観察での配向面積も４０％以下
光学異方体の配向性は、外観目視、及び、偏光顕微鏡観察することにより、５段階で評価した。
Ａ：目視で均一な配向が得られており、偏光顕微鏡観察でも欠陥が全くない
Ｂ：目視では均一な配向が得られているが、偏光顕微鏡観察での配向面積は９０〜１００％
Ｃ：目視ではＡ、Ｂ程の配向は得られていないが、偏光顕微鏡観察での配向面積は６０〜９０％
Ｄ：目視では無配向に近いが、偏光顕微鏡観察での配向面積は４０〜６０％
Ｅ：目視では無配向で、偏光顕微鏡観察での配向面積も４０％以下
（密着性）
光学異方体の層間の密着性は、作成した光学異方体をガラス基板に貼合し、カッタ−で１ｍｍ角の碁盤目状にガラス面に到達する切れ目を入れ、セロテ−プ（セロテープは登録商標である）を貼って垂直方向に引き上げ、光学フィルムの残った碁盤目の数の割合を求めた。膜中に生成した欠陥は直交ニコル下の偏光顕微鏡観察によって光が透過する升目の数、即ち残った碁盤目の数を数えた。
光学異方体の層間の密着性は、作成した光学異方体をガラス基板に貼合し、カッタ−で１ｍｍ角の碁盤目状にガラス面に到達する切れ目を入れ、セロテ−プ（セロテープは登録商標である）を貼って垂直方向に引き上げ、光学フィルムの残った碁盤目の数の割合を求めた。膜中に生成した欠陥は直交ニコル下の偏光顕微鏡観察によって光が透過する升目の数、即ち残った碁盤目の数を数えた。
（実施例１）
ＴＡＣフィルムをコロナ処理した後、重合性液晶組成物溶液（Ｂ−１）をスピンコートし６０℃で乾燥して膜厚１．７μｍの層（Ｂ−１）を得た。これを室温に冷却した後、層（Ｂ−１）上に光配向性重合性組成物溶液（Ａ−１）をスピンコートし６０℃で乾燥して膜厚３０ｎｍの層（Ａ−１）を得た。該層（Ａ−１）の垂直上方から、配向処理を行うため３６５ｎｍのバンドパスフィルタ及び誘電体多層膜からなる偏光板を透過した強度２ｍＷ／ｃｍ２の偏光紫外線を５００ｓｅｃ照射し、層（Ａ−１）を配向処理した。その際、基板の温度を７５℃に加温し重合性液晶組成物層（Ｂ−１）の等方相転移点７０℃以上に上げて液晶層を等方相として紫外線を照射した。照射終了後室温に戻し、空気雰囲気下にて偏光紫外線を６４０ｍＪ／ｃｍ２照射して光学異方体を得た。
ＴＡＣフィルムをコロナ処理した後、重合性液晶組成物溶液（Ｂ−１）をスピンコートし６０℃で乾燥して膜厚１．７μｍの層（Ｂ−１）を得た。これを室温に冷却した後、層（Ｂ−１）上に光配向性重合性組成物溶液（Ａ−１）をスピンコートし６０℃で乾燥して膜厚３０ｎｍの層（Ａ−１）を得た。該層（Ａ−１）の垂直上方から、配向処理を行うため３６５ｎｍのバンドパスフィルタ及び誘電体多層膜からなる偏光板を透過した強度２ｍＷ／ｃｍ２の偏光紫外線を５００ｓｅｃ照射し、層（Ａ−１）を配向処理した。その際、基板の温度を７５℃に加温し重合性液晶組成物層（Ｂ−１）の等方相転移点７０℃以上に上げて液晶層を等方相として紫外線を照射した。照射終了後室温に戻し、空気雰囲気下にて偏光紫外線を６４０ｍＪ／ｃｍ２照射して光学異方体を得た。
（実施例２）
実施例１と同様に、ＴＡＣフィルムをコロナ処理した後、重合性液晶組成物溶液（Ｂ−１）をスピンコートし６０℃で乾燥して膜厚１．７μｍの層（Ｂ−１）を得た。これを室温に冷却した後、層（Ｂ−１）上に光配向性重合性組成物溶液（Ａ−３）をスピンコートし６０℃で乾燥して膜厚３０ｎｍの層（Ａ−３）を得た。該層（Ａ−３）層の垂直上方から、配向処理を行うため３６５ｎｍのバンドパスフィルタ及び誘電体多層膜からなる偏光板を透過した強度２ｍＷ／ｃｍ２の偏光紫外線を５００ｓｅｃ照射し、層（Ａ−３）を配向処理した。その際、基板の温度を７５℃に加温し重合性液晶組成物層（Ｂ−１）の等方相転移点７０℃以上に上げて液晶層を等方相として紫外線を照射した。照射終了後室温に戻し、空気雰囲気下にて偏光紫外線を６４０ｍＪ／ｃｍ２照射して光学異方体を得た。
実施例１と同様に、ＴＡＣフィルムをコロナ処理した後、重合性液晶組成物溶液（Ｂ−１）をスピンコートし６０℃で乾燥して膜厚１．７μｍの層（Ｂ−１）を得た。これを室温に冷却した後、層（Ｂ−１）上に光配向性重合性組成物溶液（Ａ−３）をスピンコートし６０℃で乾燥して膜厚３０ｎｍの層（Ａ−３）を得た。該層（Ａ−３）層の垂直上方から、配向処理を行うため３６５ｎｍのバンドパスフィルタ及び誘電体多層膜からなる偏光板を透過した強度２ｍＷ／ｃｍ２の偏光紫外線を５００ｓｅｃ照射し、層（Ａ−３）を配向処理した。その際、基板の温度を７５℃に加温し重合性液晶組成物層（Ｂ−１）の等方相転移点７０℃以上に上げて液晶層を等方相として紫外線を照射した。照射終了後室温に戻し、空気雰囲気下にて偏光紫外線を６４０ｍＪ／ｃｍ２照射して光学異方体を得た。
（実施例３）
ロール状のＴＡＣ連続フィルムをコロナ処理した後、ダイコータを用いて重合性液晶組成物溶液（Ｂ−１）を連続塗工し、膜厚３．５μｍの層を形成した。これを６０℃で乾燥した後、層（Ｂ−１）上に光配向性重合性組成物溶液（Ａ−１）をダイコータにより連続塗工し６０℃で乾燥して膜厚３０ｎｍの層（Ａ−１）を得た。配向処理を行うため、基板を７５℃に加熱しながら３６５ｎｍのバンドパスフィルタ及び誘電体多層膜からなる偏光板を透過した紫外線を該層面の法線方向から１Ｊ／ｃｍ２照射し、層（Ａ−１）を配向処理した。この時照射した偏光の振動方向はフィルムの長手方向に対し１５°傾いた方向であった。その後、基板温度を室温まで冷却し空気雰囲気下にて同じ偏光を１Ｊ／ｃｍ２照射して重合性液晶を硬化し連続製膜した位相差２７４ｎｍの位相差層を得た。次いで、該位相差フィルム層の上に重合性液晶組成物溶液（Ｂ−１）を連続塗工し、膜厚１．８μｍの層を形成した。これを６０℃で乾燥した後、層（Ｂ−１）上に光配向性重合性組成物溶液（Ａ−１）をダイコータにより連続塗工し６０℃で乾燥して膜厚３０ｎｍの層（Ａ−１）を得た。配向処理を行うため、基板を７５℃に加熱しながら３６５ｎｍのバンドパスフィルタ及び誘電体多層膜からなる偏光板を透過した紫外線を該層面の法線方向から１Ｊ／ｃｍ２照射し、層（Ａ−１）を配向処理した。この時照射した偏光の振動方向はフィルムの長手方向に対し７５°傾いた方向であった。その後、基板温度を室温まで冷却し空気雰囲気下にて同じ偏光を１Ｊ／ｃｍ２照射して重合性液晶を硬化し、位相差１３８ｎｍの位相差膜とした。連続製膜により積層した該光学異方体を偏光板と貼合すると楕円率９６％の円偏光板として機能することを確認した。
ロール状のＴＡＣ連続フィルムをコロナ処理した後、ダイコータを用いて重合性液晶組成物溶液（Ｂ−１）を連続塗工し、膜厚３．５μｍの層を形成した。これを６０℃で乾燥した後、層（Ｂ−１）上に光配向性重合性組成物溶液（Ａ−１）をダイコータにより連続塗工し６０℃で乾燥して膜厚３０ｎｍの層（Ａ−１）を得た。配向処理を行うため、基板を７５℃に加熱しながら３６５ｎｍのバンドパスフィルタ及び誘電体多層膜からなる偏光板を透過した紫外線を該層面の法線方向から１Ｊ／ｃｍ２照射し、層（Ａ−１）を配向処理した。この時照射した偏光の振動方向はフィルムの長手方向に対し１５°傾いた方向であった。その後、基板温度を室温まで冷却し空気雰囲気下にて同じ偏光を１Ｊ／ｃｍ２照射して重合性液晶を硬化し連続製膜した位相差２７４ｎｍの位相差層を得た。次いで、該位相差フィルム層の上に重合性液晶組成物溶液（Ｂ−１）を連続塗工し、膜厚１．８μｍの層を形成した。これを６０℃で乾燥した後、層（Ｂ−１）上に光配向性重合性組成物溶液（Ａ−１）をダイコータにより連続塗工し６０℃で乾燥して膜厚３０ｎｍの層（Ａ−１）を得た。配向処理を行うため、基板を７５℃に加熱しながら３６５ｎｍのバンドパスフィルタ及び誘電体多層膜からなる偏光板を透過した紫外線を該層面の法線方向から１Ｊ／ｃｍ２照射し、層（Ａ−１）を配向処理した。この時照射した偏光の振動方向はフィルムの長手方向に対し７５°傾いた方向であった。その後、基板温度を室温まで冷却し空気雰囲気下にて同じ偏光を１Ｊ／ｃｍ２照射して重合性液晶を硬化し、位相差１３８ｎｍの位相差膜とした。連続製膜により積層した該光学異方体を偏光板と貼合すると楕円率９６％の円偏光板として機能することを確認した。
（実施例４）
ロール状のＴＡＣ連続フィルムをコロナ処理した後、ダイコータを用いて重合性液晶組成物溶液（Ｂ−１）を連続塗工し、膜厚３．４μｍの層を形成した。これを６０℃で乾燥した後、層（Ｂ−１）上に光配向性重合性組成物溶液（Ａ−１）をダイコータにより連続塗工し６０℃で乾燥して膜厚３０ｎｍの層（Ａ−１）を得た。配向処理を行うため、基板を７５℃に加熱しながら３６５ｎｍのバンドパスフィルタ及び誘電体多層膜からなる偏光板を透過した紫外線を該層面の法線方向から１Ｊ／ｃｍ２照射し、層（Ａ−１）を配向処理した。この時照射した偏光の振動方向はフィルムの長手方向に対し１５°傾いた方向であった。その後、基板温度を室温まで冷却し空気雰囲気下にて同じ偏光を１Ｊ／ｃｍ２照射して重合性液晶を硬化し連続製膜した位相差２７１ｎｍの位相差フィルムを得た。次いで、該１／２波長板フィルム層の上にトリメチロールプロパン(東亞合成（株）) １００質量部にチバスペシャリティケミカルズ（株）製の光重合開始剤「イルガキュア９０７」を２部、２−ブトキシエタノール１００部を混合した溶液をダイコータにより塗工し、３６５ｎｍのバンドパスフィルタ及び誘電体多層膜からなる偏光板を透過した紫外線を該層面の法線方向から１Ｊ／ｃｍ２照射して硬化し等方性樹脂層とした。該等方性樹脂層上に重合性液晶組成物溶液（Ｂ−１）を連続塗工し、膜厚１．７μｍの層を形成した。これを６０℃で乾燥した後、層（Ｂ−１）上に光配向性重合性組成物溶液（Ａ−１）をダイコータにより連続塗工し６０℃で乾燥して膜厚３０ｎｍの層（Ａ−１）を得た。配向処理を行うため、基板を７５℃に加熱しながら３６５ｎｍのバンドパスフィルタ及び誘電体多層膜からなる偏光板を透過した紫外線を該層面の法線方向から１Ｊ／ｃｍ２照射し、層（Ａ−１）を配向処理した。この時照射した偏光の振動方向はフィルムの長手方向に対し７５°傾いた方向であった。その後、基板温度を室温まで冷却し空気雰囲気下にて同じ偏光を１Ｊ／ｃｍ２照射して重合性液晶を硬化し位相差１３５ｎｍの位相差膜とした。連続製膜により積層した該光学異方体を偏光板と貼合すると楕円率９７％の円偏光板として機能することを確認した。
ロール状のＴＡＣ連続フィルムをコロナ処理した後、ダイコータを用いて重合性液晶組成物溶液（Ｂ−１）を連続塗工し、膜厚３．４μｍの層を形成した。これを６０℃で乾燥した後、層（Ｂ−１）上に光配向性重合性組成物溶液（Ａ−１）をダイコータにより連続塗工し６０℃で乾燥して膜厚３０ｎｍの層（Ａ−１）を得た。配向処理を行うため、基板を７５℃に加熱しながら３６５ｎｍのバンドパスフィルタ及び誘電体多層膜からなる偏光板を透過した紫外線を該層面の法線方向から１Ｊ／ｃｍ２照射し、層（Ａ−１）を配向処理した。この時照射した偏光の振動方向はフィルムの長手方向に対し１５°傾いた方向であった。その後、基板温度を室温まで冷却し空気雰囲気下にて同じ偏光を１Ｊ／ｃｍ２照射して重合性液晶を硬化し連続製膜した位相差２７１ｎｍの位相差フィルムを得た。次いで、該１／２波長板フィルム層の上にトリメチロールプロパン(東亞合成（株）) １００質量部にチバスペシャリティケミカルズ（株）製の光重合開始剤「イルガキュア９０７」を２部、２−ブトキシエタノール１００部を混合した溶液をダイコータにより塗工し、３６５ｎｍのバンドパスフィルタ及び誘電体多層膜からなる偏光板を透過した紫外線を該層面の法線方向から１Ｊ／ｃｍ２照射して硬化し等方性樹脂層とした。該等方性樹脂層上に重合性液晶組成物溶液（Ｂ−１）を連続塗工し、膜厚１．７μｍの層を形成した。これを６０℃で乾燥した後、層（Ｂ−１）上に光配向性重合性組成物溶液（Ａ−１）をダイコータにより連続塗工し６０℃で乾燥して膜厚３０ｎｍの層（Ａ−１）を得た。配向処理を行うため、基板を７５℃に加熱しながら３６５ｎｍのバンドパスフィルタ及び誘電体多層膜からなる偏光板を透過した紫外線を該層面の法線方向から１Ｊ／ｃｍ２照射し、層（Ａ−１）を配向処理した。この時照射した偏光の振動方向はフィルムの長手方向に対し７５°傾いた方向であった。その後、基板温度を室温まで冷却し空気雰囲気下にて同じ偏光を１Ｊ／ｃｍ２照射して重合性液晶を硬化し位相差１３５ｎｍの位相差膜とした。連続製膜により積層した該光学異方体を偏光板と貼合すると楕円率９７％の円偏光板として機能することを確認した。
（実施例５）
カラーフィルタ付きのガラス基板をカラーフィルタ上からコロナ処理した後、重合性液晶組成物溶液（Ｂ−１）をスピンコートし６０℃で乾燥して膜厚１．７μｍの層（Ｂ−１）を得た。これを室温に冷却した後、層（Ｂ−１）上に光配向性重合性組成物溶液（Ａ−３）をスピンコートし６０℃で乾燥して膜厚３０ｎｍの層（Ａ−３）を得た。該層（Ａ−３）層の垂直上方から、配向処理を行うため３６５ｎｍのバンドパスフィルタ及び誘電体多層膜からなる偏光板を透過した強度２ｍＷ／ｃｍ２の偏光紫外線を５００ｓｅｃ照射し、層（Ａ−３）を配向処理した。その際、基板の温度を７５℃に加温し重合性液晶組成物層（Ｂ−１）の等方相転移点７０℃以上に上げて液晶層を等方相として紫外線を照射した。照射終了後室温に戻し、空気雰囲気下にて偏光紫外線を６４０ｍＪ／ｃｍ２照射してカラーフィルタ上に形成した光学異方体を得た。
カラーフィルタ付きのガラス基板をカラーフィルタ上からコロナ処理した後、重合性液晶組成物溶液（Ｂ−１）をスピンコートし６０℃で乾燥して膜厚１．７μｍの層（Ｂ−１）を得た。これを室温に冷却した後、層（Ｂ−１）上に光配向性重合性組成物溶液（Ａ−３）をスピンコートし６０℃で乾燥して膜厚３０ｎｍの層（Ａ−３）を得た。該層（Ａ−３）層の垂直上方から、配向処理を行うため３６５ｎｍのバンドパスフィルタ及び誘電体多層膜からなる偏光板を透過した強度２ｍＷ／ｃｍ２の偏光紫外線を５００ｓｅｃ照射し、層（Ａ−３）を配向処理した。その際、基板の温度を７５℃に加温し重合性液晶組成物層（Ｂ−１）の等方相転移点７０℃以上に上げて液晶層を等方相として紫外線を照射した。照射終了後室温に戻し、空気雰囲気下にて偏光紫外線を６４０ｍＪ／ｃｍ２照射してカラーフィルタ上に形成した光学異方体を得た。
（実施例６）
ＴＡＣフィルムをコロナ処理した後、重合性液晶組成物溶液（Ｂ−１）をスピンコートし６０℃で乾燥して膜厚１．７μｍの層（Ｂ−１）を得た。これを室温に冷却した後、層（Ｂ−１）上に光配向性重合性組成物溶液（Ａ−５）をインクジェット装置（吐出１滴の体積１４ｐｌ、ヘッド周波数６０打数/sec）塗布し、室温で乾燥した。塗布と乾燥を各々、計６回繰り返して膜厚３０ｎｍの層（Ａ−５）を得た。該層（Ａ−５）の垂直上方から、配向処理を行うため３６５ｎｍのバンドパスフィルタ及び誘電体多層膜からなる偏光板を透過した強度２ｍＷ／ｃｍ２の偏光紫外線を５００ｓｅｃ照射し、層（Ａ−５）を配向処理した。その際、基板の温度を７５℃に加温し重合性液晶組成物層（Ｂ−１）の等方相転移点７０℃以上に上げて液晶層を等方相とし、空気雰囲気下にて紫外線を照射した。照射終了後室温に戻し、空気雰囲気下にて偏光紫外線を１Ｊ／ｃｍ２照射して光学異方体を得た。
ＴＡＣフィルムをコロナ処理した後、重合性液晶組成物溶液（Ｂ−１）をスピンコートし６０℃で乾燥して膜厚１．７μｍの層（Ｂ−１）を得た。これを室温に冷却した後、層（Ｂ−１）上に光配向性重合性組成物溶液（Ａ−５）をインクジェット装置（吐出１滴の体積１４ｐｌ、ヘッド周波数６０打数/sec）塗布し、室温で乾燥した。塗布と乾燥を各々、計６回繰り返して膜厚３０ｎｍの層（Ａ−５）を得た。該層（Ａ−５）の垂直上方から、配向処理を行うため３６５ｎｍのバンドパスフィルタ及び誘電体多層膜からなる偏光板を透過した強度２ｍＷ／ｃｍ２の偏光紫外線を５００ｓｅｃ照射し、層（Ａ−５）を配向処理した。その際、基板の温度を７５℃に加温し重合性液晶組成物層（Ｂ−１）の等方相転移点７０℃以上に上げて液晶層を等方相とし、空気雰囲気下にて紫外線を照射した。照射終了後室温に戻し、空気雰囲気下にて偏光紫外線を１Ｊ／ｃｍ２照射して光学異方体を得た。
（実施例７）
ＴＡＣフィルムをコロナ処理した後、重合性液晶組成物溶液（Ｂ−１）をスピンコートし６０℃で乾燥して膜厚１．７μｍの層（Ｂ−１）を得た。これを室温に冷却した後、層（Ｂ−１）上に光配向性重合性組成物溶液（Ａ−６）をインクジェット装置（吐出１滴の体積１４ｐｌ、ヘッド周波数６０打数/sec）塗布し、室温で乾燥した。塗布と乾燥を各々、計６回繰り返して膜厚３０ｎｍの層（Ａ−６）を得た。該層（Ａ−６）の垂直上方から、配向処理を行うため３６５ｎｍのバンドパスフィルタ及び誘電体多層膜からなる偏光板を透過した強度２ｍＷ／ｃｍ２の偏光紫外線を５００ｓｅｃ照射し、層（Ａ−６）を配向処理した。その際、基板の温度を７５℃に加温し重合性液晶組成物層（Ｂ−１）の等方相転移点７０℃以上に上げて液晶層を等方相とし、空気雰囲気下にて紫外線を照射した。照射終了後室温に戻し、空気雰囲気下にて偏光紫外線を１Ｊ／ｃｍ２照射して光学異方体を得た。
ＴＡＣフィルムをコロナ処理した後、重合性液晶組成物溶液（Ｂ−１）をスピンコートし６０℃で乾燥して膜厚１．７μｍの層（Ｂ−１）を得た。これを室温に冷却した後、層（Ｂ−１）上に光配向性重合性組成物溶液（Ａ−６）をインクジェット装置（吐出１滴の体積１４ｐｌ、ヘッド周波数６０打数/sec）塗布し、室温で乾燥した。塗布と乾燥を各々、計６回繰り返して膜厚３０ｎｍの層（Ａ−６）を得た。該層（Ａ−６）の垂直上方から、配向処理を行うため３６５ｎｍのバンドパスフィルタ及び誘電体多層膜からなる偏光板を透過した強度２ｍＷ／ｃｍ２の偏光紫外線を５００ｓｅｃ照射し、層（Ａ−６）を配向処理した。その際、基板の温度を７５℃に加温し重合性液晶組成物層（Ｂ−１）の等方相転移点７０℃以上に上げて液晶層を等方相とし、空気雰囲気下にて紫外線を照射した。照射終了後室温に戻し、空気雰囲気下にて偏光紫外線を１Ｊ／ｃｍ２照射して光学異方体を得た。
（実施例８）
ＴＡＣフィルムをコロナ処理した後、重合性液晶組成物溶液（Ｂ−４）をスピンコートし６０℃で乾燥して膜厚１．７μｍの層（Ｂ−４）を得た。これを室温に冷却した後、層（Ｂ−４）上をコロナ処理し、光配向性重合性組成物溶液（Ａ−７）をスピンコートし６０℃で乾燥して膜厚３０ｎｍの層（Ａ−７）を得た。該層（Ａ−７）の垂直上方から、配向処理を行うため空気雰囲気下にて３６５ｎｍのバンドパスフィルタ及び誘電体多層膜からなる偏光板を透過した強度２ｍＷ／ｃｍ２の偏光紫外線を５００ｓｅｃ照射し、層（Ａ−７）を配向処理した。その際、基板の温度を７０℃に加温し重合性液晶組成物層（Ｂ−４）の等方相転移点６０℃以上に上げて液晶層を等方相として紫外線を照射した。照射終了後室温に戻し、空気雰囲気下にて先に照射した偏光紫外線偏光紫外線を１Ｊ／ｃｍ２照射して光学異方体を得た。
ＴＡＣフィルムをコロナ処理した後、重合性液晶組成物溶液（Ｂ−４）をスピンコートし６０℃で乾燥して膜厚１．７μｍの層（Ｂ−４）を得た。これを室温に冷却した後、層（Ｂ−４）上をコロナ処理し、光配向性重合性組成物溶液（Ａ−７）をスピンコートし６０℃で乾燥して膜厚３０ｎｍの層（Ａ−７）を得た。該層（Ａ−７）の垂直上方から、配向処理を行うため空気雰囲気下にて３６５ｎｍのバンドパスフィルタ及び誘電体多層膜からなる偏光板を透過した強度２ｍＷ／ｃｍ２の偏光紫外線を５００ｓｅｃ照射し、層（Ａ−７）を配向処理した。その際、基板の温度を７０℃に加温し重合性液晶組成物層（Ｂ−４）の等方相転移点６０℃以上に上げて液晶層を等方相として紫外線を照射した。照射終了後室温に戻し、空気雰囲気下にて先に照射した偏光紫外線偏光紫外線を１Ｊ／ｃｍ２照射して光学異方体を得た。
（比較例１）
ＴＡＣフィルムをコロナ処理した後、光配向性重合性組成物溶液（Ａ−４）をスピンコートし６０℃で乾燥して膜厚３０ｎｍの層（Ａ−４）を得た。該層（Ａ−４）の垂直上方から、配向処理を行うため３６５ｎｍのバンドパスフィルタ及び誘電体多層膜からなる偏光板を透過した強度２ｍＷ／ｃｍ２の偏光紫外線を５００ｓｅｃ照射し、層（Ａ−４）を配向処理した。層（Ａ−４）上に重合性液晶組成物溶液（Ｂ−１）をスピンコートし６０℃で乾燥して膜厚１．７μｍの層（Ｂ−１）を得た。これを室温に冷却した後、空気雰囲気下にて偏光紫外線を６４０ｍＪ／ｃｍ２照射して光学異方体を得た。
ＴＡＣフィルムをコロナ処理した後、光配向性重合性組成物溶液（Ａ−４）をスピンコートし６０℃で乾燥して膜厚３０ｎｍの層（Ａ−４）を得た。該層（Ａ−４）の垂直上方から、配向処理を行うため３６５ｎｍのバンドパスフィルタ及び誘電体多層膜からなる偏光板を透過した強度２ｍＷ／ｃｍ２の偏光紫外線を５００ｓｅｃ照射し、層（Ａ−４）を配向処理した。層（Ａ−４）上に重合性液晶組成物溶液（Ｂ−１）をスピンコートし６０℃で乾燥して膜厚１．７μｍの層（Ｂ−１）を得た。これを室温に冷却した後、空気雰囲気下にて偏光紫外線を６４０ｍＪ／ｃｍ２照射して光学異方体を得た。
（比較例２）
ＴＡＣフィルムをコロナ処理した後、光配向性重合性組成物溶液（Ａ−４）をスピンコートし６０℃で乾燥して膜厚３０ｎｍの層（Ａ−４）を得た。該層（Ａ−４）の垂直上方から、配向処理を行うため３６５ｎｍの波長を含む紫外線を誘電体多層膜からなる偏光板を介して強度２ｍＷ／ｃｍ２の偏光紫外線として５００ｓｅｃ照射し、層（Ａ−４）を配向処理した。層（Ａ−４）上に重合性液晶組成物溶液（Ｂ−２）をスピンコートし６０℃で乾燥して膜厚１．７μｍの層（Ｂ−２）を得た。これを室温に冷却した後、空気雰囲気下にて偏光紫外線を６４０ｍＪ／ｃｍ２照射して光学異方体を得た。
ＴＡＣフィルムをコロナ処理した後、光配向性重合性組成物溶液（Ａ−４）をスピンコートし６０℃で乾燥して膜厚３０ｎｍの層（Ａ−４）を得た。該層（Ａ−４）の垂直上方から、配向処理を行うため３６５ｎｍの波長を含む紫外線を誘電体多層膜からなる偏光板を介して強度２ｍＷ／ｃｍ２の偏光紫外線として５００ｓｅｃ照射し、層（Ａ−４）を配向処理した。層（Ａ−４）上に重合性液晶組成物溶液（Ｂ−２）をスピンコートし６０℃で乾燥して膜厚１．７μｍの層（Ｂ−２）を得た。これを室温に冷却した後、空気雰囲気下にて偏光紫外線を６４０ｍＪ／ｃｍ２照射して光学異方体を得た。
（比較例３）
ロール状のＴＡＣ連続フィルムをコロナ処理した後、ダイコータを用いて光配向性重合性組成物溶液（Ａ−２）を連続塗工し、膜厚３０ｎｍの層（Ａ−２）を形成した。これを６０℃で乾燥した後、３６５ｎｍのバンドパスフィルタ及び誘電体多層膜からなる偏光板を透過した紫外線を該層面の法線方向から１Ｊ／ｃｍ２照射し、層（Ａ−２）を配向処理した。この時照射した偏光の振動方向はフィルムの長手方向に対し１５°傾いた方向であった。層（Ａ−２）上に重合性液晶組成物溶液（Ｂ−３）をダイコータにより連続塗工し６０℃で乾燥して膜厚３．７μｍの層（Ｂ−３）を得た。基板を室温まで冷却し窒素雰囲気下で同じ偏光を１Ｊ／ｃｍ２照射して重合性液晶を硬化し連続製膜によって位相差２６１ｎｍの位相差フィルムを得た。次いで、該位相差フィルム層をコロナ処理した後、該層上に光配向性重合性組成物溶液（Ａ−２）をダイコータを用いて連続塗工し、膜厚３０ｎｍの層（Ａ−２）を形成した。これを６０℃で乾燥した後、３６５ｎｍのバンドパスフィルタ及び誘電体多層膜からなる偏光板を透過した紫外線を該層面の法線方向から１Ｊ／ｃｍ２照射し、層（Ａ−２）を配向処理した。この時照射した偏光の振動方向はフィルムの長手方向に対し７５°傾いた方向であった。層（Ａ−２）上に重合性液晶組成物溶液（Ｂ−３）をダイコータにより連続塗工し６０℃で乾燥して膜厚２．３μｍの層（Ｂ−３）を得た。基板を室温まで冷却し窒素雰囲気下で同じ偏光を１Ｊ／ｃｍ２照射して重合性液晶を硬化し位相差１４９ｎｍの位相差膜とした。連続製膜により積層した該光学異方体を偏光板と貼合すると楕円率７８％の円偏光板となった。
ロール状のＴＡＣ連続フィルムをコロナ処理した後、ダイコータを用いて光配向性重合性組成物溶液（Ａ−２）を連続塗工し、膜厚３０ｎｍの層（Ａ−２）を形成した。これを６０℃で乾燥した後、３６５ｎｍのバンドパスフィルタ及び誘電体多層膜からなる偏光板を透過した紫外線を該層面の法線方向から１Ｊ／ｃｍ２照射し、層（Ａ−２）を配向処理した。この時照射した偏光の振動方向はフィルムの長手方向に対し１５°傾いた方向であった。層（Ａ−２）上に重合性液晶組成物溶液（Ｂ−３）をダイコータにより連続塗工し６０℃で乾燥して膜厚３．７μｍの層（Ｂ−３）を得た。基板を室温まで冷却し窒素雰囲気下で同じ偏光を１Ｊ／ｃｍ２照射して重合性液晶を硬化し連続製膜によって位相差２６１ｎｍの位相差フィルムを得た。次いで、該位相差フィルム層をコロナ処理した後、該層上に光配向性重合性組成物溶液（Ａ−２）をダイコータを用いて連続塗工し、膜厚３０ｎｍの層（Ａ−２）を形成した。これを６０℃で乾燥した後、３６５ｎｍのバンドパスフィルタ及び誘電体多層膜からなる偏光板を透過した紫外線を該層面の法線方向から１Ｊ／ｃｍ２照射し、層（Ａ−２）を配向処理した。この時照射した偏光の振動方向はフィルムの長手方向に対し７５°傾いた方向であった。層（Ａ−２）上に重合性液晶組成物溶液（Ｂ−３）をダイコータにより連続塗工し６０℃で乾燥して膜厚２．３μｍの層（Ｂ−３）を得た。基板を室温まで冷却し窒素雰囲気下で同じ偏光を１Ｊ／ｃｍ２照射して重合性液晶を硬化し位相差１４９ｎｍの位相差膜とした。連続製膜により積層した該光学異方体を偏光板と貼合すると楕円率７８％の円偏光板となった。
本発明の光学異方体、該光学異方体と偏光板を積層してなる円偏光板や楕円偏光板は、液晶表示装置の視野角補償フィルムとして利用される。この他にも、表面での反射を抑える反射防止膜としても使用できる。これらはタッチパネル、ＥＬディスプレイ、反射型プロジェクターなどに応用できる。
Claims (12)
- 光照射により液晶配向能を生じる光配向膜用組成物の層（Ａ）と重合性液晶組成物の層（Ｂ）とを有する積層体の、前記層（Ｂ）中の重合性基を有する液晶化合物を配向させた状態で重合させた光学異方性層を、１層又は複数層有する光学異方体であって、前記積層体が、基板上又は既に形成された光学異方性層上に前記層（Ｂ）を形成し、形成した前記層（Ｂ）上に、前記層（Ｂ）が溶解しない溶媒を含む光配向膜用組成物溶液を塗布または印刷した後乾燥させた前記層（Ａ）を有することを特徴とする光学異方体。
- 前記光配向膜用組成物溶液に含まれる溶媒が親水性溶媒である請求項１に記載の光学異方体。
- 前記光配向膜用組成物溶液又は前記重合性液晶組成物が界面活性剤を含む、請求項１に記載の光学異方体。
- 前記光配向膜用組成物が、光配向性基及び重合性基を有する化合物を主成分とする組成物、又は光配向性基を有し重合性基を有さない化合物と重合性化合物の２成分を主成分とする組成物である、請求項１に記載の光学異方体。
- 波長５４５．７ｎｍで測定した位相差が２４０〜３１０ｎｍの前記光学異方性層、及び、波長５４５．７ｎｍで測定した位相差が１００〜１７０ｎｍの前記光学異方性層の少なくとも２層を有する、請求項１に記載の光学異方体。
- 前記光学異方性層を複数層有し、隣接する前記光学異方性層の間のいずれかもしくは全てに光学的等方性樹脂層を有する、請求項１に記載の光学異方体。
- 請求項１に記載の光学異方体と偏光板とを積層してなる楕円偏光板。
- 請求項１に記載の光学異方体と偏光板とを積層してなる円偏光板。
- 基板上に設けたカラーフィルタもしくはその保護膜上に、請求項１に記載の光学異方体を積層してなるカラーフィルタ付き基板。
- 請求項１に記載の光学異方体を位相差フィルムとして使用することを特徴とする液晶表示素子。
- 基板上もしくは既に形成された光学異方性層上に重合性液晶組成物の層（Ｂ）を形成し、前記層（Ｂ）が溶解しない溶媒を含む光配向膜用組成物溶液を塗布または印刷した後乾燥させて層（Ａ）を形成後、偏光を照射して、前記層（Ｂ）中の重合性基を有する液晶化合物を配向させた状態で重合させることを特徴とする光学異方体の製造方法。
- 前記印刷方法がインクジェット法である、請求項１１に記載の光学異方体の製造方法。
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