JP5048513B2 - 水銀非含有、ナトリウム非含有の組成物およびそれを組み込む放射線源 - Google Patents

水銀非含有、ナトリウム非含有の組成物およびそれを組み込む放射線源 Download PDF

Info

Publication number
JP5048513B2
JP5048513B2 JP2007546831A JP2007546831A JP5048513B2 JP 5048513 B2 JP5048513 B2 JP 5048513B2 JP 2007546831 A JP2007546831 A JP 2007546831A JP 2007546831 A JP2007546831 A JP 2007546831A JP 5048513 B2 JP5048513 B2 JP 5048513B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
metal
radiation source
free
radiation
group
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Fee Related
Application number
JP2007546831A
Other languages
English (en)
Other versions
JP2008524809A5 (ja
JP2008524809A (ja
Inventor
スミス,デイヴィッド・ジョン
ソマーアー,ティモシー・ジョン
マイケル,ジョセフ・ダリル
ミダア,ヴィカス
コツァス,ジョージ・マイケル
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
General Electric Co
Original Assignee
General Electric Co
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by General Electric Co filed Critical General Electric Co
Publication of JP2008524809A publication Critical patent/JP2008524809A/ja
Publication of JP2008524809A5 publication Critical patent/JP2008524809A5/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP5048513B2 publication Critical patent/JP5048513B2/ja
Expired - Fee Related legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J61/00Gas-discharge or vapour-discharge lamps
    • H01J61/02Details
    • H01J61/12Selection of substances for gas fillings; Specified operating pressure or temperature
    • H01J61/18Selection of substances for gas fillings; Specified operating pressure or temperature having a metallic vapour as the principal constituent
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J61/00Gas-discharge or vapour-discharge lamps
    • H01J61/02Details
    • H01J61/12Selection of substances for gas fillings; Specified operating pressure or temperature
    • H01J61/125Selection of substances for gas fillings; Specified operating pressure or temperature having an halogenide as principal component
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J61/00Gas-discharge or vapour-discharge lamps
    • H01J61/02Details
    • H01J61/30Vessels; Containers
    • H01J61/32Special longitudinal shape, e.g. for advertising purposes
    • H01J61/327"Compact"-lamps, i.e. lamps having a folded discharge path
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J61/00Gas-discharge or vapour-discharge lamps
    • H01J61/70Lamps with low-pressure unconstricted discharge having a cold pressure < 400 Torr
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J65/00Lamps without any electrode inside the vessel; Lamps with at least one main electrode outside the vessel
    • H01J65/04Lamps in which a gas filling is excited to luminesce by an external electromagnetic field or by external corpuscular radiation, e.g. for indicating plasma display panels
    • H01J65/042Lamps in which a gas filling is excited to luminesce by an external electromagnetic field or by external corpuscular radiation, e.g. for indicating plasma display panels by an external electromagnetic field

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Electromagnetism (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Plasma & Fusion (AREA)
  • Luminescent Compositions (AREA)
  • Discharge Lamp (AREA)

Description

本発明は、一般に、励起された場合に放射線を放出できる水銀非含有、ナトリウム非含有の組成物に関する。特に、本発明は、励起された場合に放射線を放出できるイオン化性で水銀非含有、ナトリウム非含有の組成物を含む放射線源に関する。
イオン化性組成物が、放電源において使用される。放電放射線源において、放射線は、媒体中での放電によって生成される。放電媒体は、通常、ガス相または蒸気相の状態にあり、好ましくは、ハウジングから、発生した放射線を透過させることができるハウジング内に収容される。放電媒体は、通常、媒体の両端に設置された電極の対にわたって電圧を印加することによってイオン化される。放射線の発生は、ガス放電状態で起こり、そのとき、電子およびイオンなどの高エネルギーの荷電粒子が、放電媒体内のガス原子または分子と衝突し、原子および分子が、イオン化または励起させられる。励起エネルギーのかなりの部分は、これらの原子および分子が、低いエネルギー状態に緩和するときに、放射線に変換され、このプロセス中に、放射線が放出される。
ガス放電放射線源が、入手可能であり、内圧の範囲で動作する。圧力範囲の一方の端部において、放出の原因となる化学種が、非常にわずかな量で存在し、数百パスカル以下の、動作中の圧力を発生する。放射する化学種は、時々、総圧の0.1%ほどの少量を構成する場合がある。
圧力範囲の下方端の総動作圧を有し、少なくとも部分的に、蛍光体コーティングを含むUVスペクトル範囲で放射するガス放電放射線源は、UV放射線を可視放射線に変換することができ、蛍光源と呼ばれることが多い。蛍光体はまた、蛍光源のカラー特性を決定するのに役立つ。所望のカラー外観を生成するのに、蛍光体の混合物が、通常、使用される。
高強度放電源を含む他のガス放電源は、比較的高い圧力(約0.05MPa〜約20MPa)で、かつ、比較的高い温度(約600℃より高温)で動作する。これらの放電源は、通常、外側外囲器内に閉囲された内側アーク管を収容する。
多くの一般に使用される放電放射線源は、イオン化性組成物の成分として水銀を収容する。こうした水銀含有放射線源の廃棄は、環境に対して有害である可能性がある。
米国特許第3,764,843号 米国特許第4,001,626号 米国特許第4,157,485号 米国特許第4,360,756号 米国特許第4,387,319号 米国特許第4,439,711号 米国特許第4,924,142号 米国特許第5,192,891号 米国特許第5,481,159号 米国特許第5,798,612号 米国特許第6,137,230号 米国特許第6,218,781号 米国特許出願公開第2002/0047525号 米国特許第6,380,675号 米国特許出願公開第2003/0001505号 米国特許第6,538,378号 米国特許第6,603,267号 米国特許出願公開第2003/0178942号 米国特許出願公開第2003/0184231号 米国特許出願公開第2003/0209987号 米国特許出願公開第2003/0214234号 米国特許第6,734,630号 米国特許第6,756,721号
したがって、放射線源において使用することができる、放射線を放出できる水銀非含有の放電組成物を提供することが望ましい。
一般に、本発明は、励起されると、放射線を放出できるイオン化性で水銀非含有、ナトリウム非含有の組成物、および、こうした組成物のうちの1つを組み込む放射線源を提供する。
本発明の一態様では、イオン化性で水銀非含有、ナトリウム非含有の組成物は、不活性バッファガスと、Mn、Ni、Cu、Al、Ga、In、Tl、Ge、Sn、Pb、Bi、Ti、V、Cr、Zr、Nb、Mo、Hf、Ta、W、Re、Os、およびその組合せからなる群から選択される少なくとも1つの第1金属を含む。組成物は、励起された場合に約1×10Pa未満の全蒸気圧を生じる不活性バッファガスを除く。
本発明の別の態様では、イオン化性で水銀非含有、ナトリウム非含有の組成物は、不活性バッファガスと、Mn、Ni、Cu、Al、Ga、In、Tl、Ge、Sn、Pb、Bi、Ti、V、Cr、Zr、Nb、Mo、Hf、Ta、W、Re、Os、およびその組合せからなる群から選択される少なくとも1つの第1金属を含み、但し、ハロゲン化錫が存在するときに、In、Bi、Pb、およびGaは存在しない。
本発明のさらに別の態様では、イオン化性で水銀非含有、ナトリウム非含有の組成物は、不活性バッファガスと、Mn、Ni、Cu、Al、Ga、In、Tl、Ge、Sn、Pb、Bi、Ti、V、Cr、Zr、Nb、Mo、Hf、Ta、W、Re、Os、およびその組合せからなる群から選択される少なくとも1つの第1金属と、Mn、Ni、Cu、Al、Ga、In、Tl、Ge、Sn、Pb、Bi、Ti、V、Cr、Zr、Nb、Mo、Hf、Ta、W、Re、Os、およびその組合せからなる群から選択される第2金属の少なくとも1つの化合物とを含み、但し、Seが存在するときに、Geは存在せず、ハロゲン化錫が存在するときに、In、Bi、Pb、およびGaならびにそのハロゲン化物は存在しない。金属化合物は、ハロゲン化物、酸化物、カルコゲン化物、水酸化物、水素化物、有機金属化合物、およびその組合せからなる群から選択される。
別の態様では、イオン化性で水銀非含有、ナトリウム非含有の組成物は、不活性バッファガスと、Mn、Ni、Al、Ga、Tl、Ge、Sn、Pb、Bi、Ti、V、Cr、Zr、Nb、Mo、Hf、Ta、W、Re、Os、およびその組合せからなる群から選択される金属の少なくとも1つの化合物を含む。金属化合物は、ハロゲン化物、酸化物、カルコゲン化物、水酸化物、水素化物、有機金属化合物、およびその組合せからなる群から選択される。
別の態様では、本発明は、Mn、Ni、Cu、Al、Ga、In、Tl、Ge、Sn、Pb、Bi、Ti、V、Cr、Zr、Nb、Mo、Hf、Ta、W、Re、Os、およびその組合せからなる群から選択される少なくとも1つの第1金属を含むイオン化性で水銀非含有、ナトリウム非含有の組成物を含む放射線源を提供する。動作中の放射線源内の金属の蒸気圧は、約1×10Pa未満である。
さらなる態様では、本発明は、Mn、Ni、Cu、Al、Ga、In、Tl、Ge、Sn、Pb、Bi、Ti、V、Cr、Zr、Nb、Mo、Hf、Ta、W、Re、Os、およびその組合せからなる群から選択される少なくとも1つの第1金属を含み、但し、ハロゲン化錫が存在するときに、In、Bi、Pb、およびGaは存在しない、イオン化性で水銀非含有、ナトリウム非含有の組成物を含む放射線源を提供する。
本発明のさらに別の態様では、放射線源は、Mn、Ni、Cu、Al、Ga、In、Tl、Ge、Sn、Pb、Bi、Ti、V、Cr、Zr、Nb、Mo、Hf、Ta、W、Re、Os、およびその組合せからなる群から選択される少なくとも1つの第1金属と、Mn、Ni、Cu、Al、Ga、In、Tl、Ge、Sn、Pb、Bi、Ti、V、Cr、Zr、Nb、Mo、Hf、Ta、W、Re、Os、およびその組合せからなる群から選択される第2金属の少なくとも1つの化合物とを含み、但し、Seが存在するときに、Geは存在せず、ハロゲン化錫が存在するときに、In、Bi、Pb、およびGaならびにそのハロゲン化物は存在しない、イオン化性で水銀非含有、ナトリウム非含有の組成物を含む。金属化合物は、ハロゲン化物、酸化物、カルコゲン化物、水酸化物、水素化物、有機金属化合物、およびその組合せからなる群から選択される。
本発明のさらに別の態様では、放射線源は、Mn、Ni、Al、Ga、Tl、Ge、Sn、Pb、Bi、Ti、V、Cr、Zr、Nb、Mo、Hf、Ta、W、Re、Os、およびその組合せからなる群から選択される金属の少なくとも1つの化合物を含むイオン化性で水銀非含有、ナトリウム非含有の組成物を含む。金属化合物は、ハロゲン化物、酸化物、カルコゲン化物、水酸化物、水素化物、有機金属化合物、およびその組合せからなる群から選択される。
本発明のこれらの、また、他の特徴、態様、および利点は、添付図面を参照して、以下の詳細な説明が読まれるときに、よりよく理解されるであろう。図面では、同じ指標は、図面全体を通して同じ部品を表す。
本発明の一実施形態では、本発明のイオン性で水銀非含有の組成物は、不活性バッファガスと、このような組成物を含む放射線源の動作中の金属の蒸気圧が、約1×10Pa未満となるような総量で、Mn、Ni、Cu、Al、Ga、In、Tl、Ge、Sn、Pb、Bi、Ti、V、Cr、Zr、Nb、Mo、Hf、Ta、W、Re、Os、およびその組合せからなる群から選択される少なくとも1つの第1金属を含む。動作中の金属の蒸気圧は、好ましくは、約100Pa未満であり、より好ましくは、約10Pa未満である。金属は、好ましくは、Ga、Mn、およびその組合せからなる群から選択され、より好ましくは、金属は、Gaである。
さらなる実施形態では、イオン化性で水銀非含有、ナトリウム非含有の組成物は、さらに、Mn、Ni、Cu、Al、Ga、In、Tl、Ge、Sn、Pb、Bi、Ti、V、Cr、Zr、Nb、Mo、Hf、Ta、W、Re、Os、およびその組合せからなる群から選択される少なくとも1つの第2金属の少なくとも1つの化合物を含む。この化合物は、ハロゲン化物、酸化物、カルコゲン化物、水酸化物、水素化物、有機金属化合物、およびその組合せからなる群から選択される。イオン化性組成物は、励起された場合に約1×10Pa未満、好ましくは、約100Pa未満、より好ましくは、約10Pa未満の全蒸気圧を生じる不活性バッファガスを除く。第2金属は、好ましくは、Ga、Mn、およびその組合せからなる群から選択され、より好ましくは、第1および第2金属はGaである。一実施形態では、第1および第2金属は同じである。別の実施形態では、第1および第2金属は異なる。さらなる実施形態では、金属化合物は、ハロゲン化物である。一実施形態では、ハロゲン化物は、ヨウ化物である。別の実施形態では、ハロゲン化物は、臭化物である。
本発明の第2の実施形態では、イオン化性で水銀非含有、ナトリウム非含有の組成物は、不活性バッファガスと、Mn、Ni、Cu、Al、Ga、In、Tl、Ge、Sn、Pb、Bi、Ti、V、Cr、Zr、Nb、Mo、Hf、Ta、W、Re、Os、およびその組合せからなる群から選択される少なくとも1つの金属を含み、但し、ハロゲン化錫が存在するときに、In、Bi、Pb、およびGaは存在しない。金属は、好ましくは、Ga、Mn、およびその組合せからなる群から選択され、より好ましくは、金属は、Gaである。
さらなる実施形態では、イオン化性で水銀非含有、ナトリウム非含有の組成物は、さらに、Mn、Ni、Cu、Al、Ga、In、Tl、Ge、Sn、Pb、Bi、Ti、V、Cr、Zr、Nb、Mo、Hf、Ta、W、Re、およびOsからなる群から選択される前記少なくとも1つの第2金属の少なくとも1つの化合物を含む。化合物は、ハロゲン化物、酸化物、カルコゲン化物、水酸化物、水素化物、有機金属化合物、およびその組合せからなる群から選択される。別の実施形態では、金属化合物は、ハロゲン化物である。一実施形態では、ハロゲン化物は、ヨウ化物である。別の実施形態では、ハロゲン化物は、臭化物である。
本発明の第3の実施形態では、イオン化性で水銀非含有、ナトリウム非含有の組成物は、不活性バッファガスと、Mn、Ni、Cu、Al、Ga、In、Tl、Ge、Sn、Pb、Bi、Ti、V、Cr、Zr、Nb、Mo、Hf、Ta、W、Re、Os、およびその組合せからなる群から選択される少なくとも1つの第1金属と、Mn、Ni、Cu、Al、Ga、In、Tl、Ge、Sn、Pb、Bi、Ti、V、Cr、Zr、Nb、Mo、Hf、Ta、W、Re、Os、およびその組合せからなる群から選択される第2金属の少なくとも1つの化合物とを含み、但し、Seが存在するときに、Geは存在せず、ハロゲン化錫が存在するときに、In、Bi、Pb、およびGaならびにそのハロゲン化物は存在しない。金属化合物は、ハロゲン化物、酸化物、カルコゲン化物、水酸化物、水素化物、有機金属化合物(但し、Seが存在するときに、Geは存在しない)、およびその組合せからなる群から選択される。一実施形態では、第1および第2金属は同じである。別の実施形態では、第1金属および第2金属は異なる。さらなる実施形態では、金属化合物は、ハロゲン化物である。一実施形態では、ハロゲン化物は、ヨウ化物である。別の実施形態では、ハロゲン化物は、臭化物である。
本発明の第4の実施形態では、イオン化性で水銀非含有、ナトリウム非含有の組成物は、不活性バッファガスと、Mn、Ni、Al、Ga、Tl、Ge、Sn、Pb、Bi、Ti、V、Cr、Zr、Nb、Mo、Hf、Ta、W、Re、Os、およびその組合せからなる群から選択される金属の少なくとも1つの化合物と含む。金属化合物は、ハロゲン化物、酸化物、カルコゲン化物、水酸化物、水素化物、有機金属化合物、およびその組合せからなる群から選択される。一実施形態では、金属化合物は、ヨウ化ガリウムである。別の実施形態では、金属化合物は、ヨウ化ビスマスである。
本発明の別の実施形態では、放射線源は、Mn、Ni、Al、Ga、Tl、Ge、Sn、Pb、Bi、Ti、V、Cr、Zr、Nb、Mo、Hf、Ta、W、Re、Os、およびその組合せからなる群から選択される少なくとも1つの金属を含むイオン化性で水銀非含有、ナトリウム非含有の組成物を含む。金属は、放射線源の動作中の前記少なくとも1つの金属の蒸気圧が、約1×10Pa未満であり、好ましくは、100Paより小さく、より好ましくは、10Paより小さくなるような量で存在する。
本発明のさらなる実施形態では、放射線源のイオン化性で水銀非含有、ナトリウム非含有の組成物は、さらに、Mn、Ni、Cu、Al、Ga、In、Tl、Ge、Sn、Pb、Bi、Ti、V、Cr、Zr、Nb、Mo、Hf、Ta、W、Re、Os、およびその組合せからなる群から選択される少なくとも1つの第2金属の少なくとも1つの化合物を含む。化合物は、ハロゲン化物、酸化物、カルコゲン化物、水酸化物、水素化物、有機金属化合物、およびその組合せからなる群から選択される。イオン化性組成物は、励起された場合に約1×10Pa未満、好ましくは、約100Pa未満、より好ましくは、約10Pa未満の全蒸気圧を生じる不活性バッファガスを除く。第2金属は、好ましくは、Ga、Mn、およびその組合せからなる群から選択され、より好ましくは、第1および第2金属はGaである。一実施形態では、第1および第2金属は同じである。別の実施形態では、第1金属および第2金属は異なる。さらなる実施形態では、金属化合物は、ハロゲン化物である。一実施形態では、ハロゲン化物は、ヨウ化物である。別の実施形態では、ハロゲン化物は、臭化物である。
本発明のさらなる実施形態では、放射線源は、Mn、Ni、Al、Ga、Tl、Ge、Sn、Pb、Bi、Ti、V、Cr、Zr、Nb、Mo、Hf、Ta、W、Re、Os、およびその組合せからなる群から選択される少なくとも1つの金属を含み、但し、ハロゲン化錫が存在するときに、In、Bi、Pb、およびGaは存在しない、イオン化性で水銀非含有、ナトリウム非含有の組成物を含む。
本発明のさらなる実施形態では、放射線源のイオン化性で水銀非含有、ナトリウム非含有の組成物は、さらに、Mn、Ni、Cu、Al、Ga、In、Tl、Ge、Sn、Pb、Bi、Ti、V、Cr、Zr、Nb、Mo、Hf、Ta、W、Re、およびOsからなる群から選択される前記少なくとも1つの第2金属の少なくとも1つの化合物を含む。化合物は、ハロゲン化物、酸化物、カルコゲン化物、水酸化物、水素化物、有機金属化合物、およびその組合せからなる群から選択される。別の実施形態では、金属化合物は、ハロゲン化物である。一実施形態では、ハロゲン化物は、ヨウ化物である。別の実施形態では、ハロゲン化物は、臭化物である。
本発明のさらに別の実施形態では、放射線源は、Mn、Ni、Al、Ga、Tl、Ge、Sn、Pb、Bi、Ti、V、Cr、Zr、Nb、Mo、Hf、Ta、W、Re、Os、およびその組合せからなる群から選択される少なくとも1つの第1金属と、Mn、Ni、Al、Ga、Tl、Ge、Sn、Pb、Bi、Ti、V、Cr、Zr、Nb、Mo、Hf、Ta、W、Re、Os、およびその組合せからなる群から選択される第2金属の少なくとも1つの化合物とを含み、但し、Seが存在するときに、Geは存在せず、ハロゲン化錫が存在するときに、In、Bi、Pb、およびGaは存在しない、イオン化性で水銀非含有、ナトリウム非含有の組成物を含む。金属化合物は、ハロゲン化物、酸化物、カルコゲン化物、水酸化物、水素化物、有機金属化合物、およびその組合せからなる群から選択される。第1金属は、好ましくは、Ga、Mn、およびその組合せからなる群から選択される。一実施形態では、第1および第2金属は同じである。別の実施形態では、第1金属および第2金属は異なる。好ましくは、第1金属および第2金属は、Gaである。1つの好ましい実施形態では、第1金属は、Gaであり、第2金属の化合物は、ハロゲン化ガリウムである。別の好ましい実施形態では、ハロゲン化ガリウムは、ヨウ化ガリウムである。別の実施形態では、ハロゲン化物は、臭化物である。
本発明のさらなる実施形態では、放射線源は、不活性バッファガスと、Mn、Ni、Al、Ga、Tl、Ge、Sn、Pb、Bi、Ti、V、Cr、Zr、Nb、Mo、Hf、Ta、W、Re、Os、およびその組合せからなる群から選択される金属の少なくとも1つの化合物とを含むイオン化性で水銀非含有、ナトリウム非含有の組成物を含む。金属化合物は、ハロゲン化物、酸化物、カルコゲン化物、水酸化物、水素化物、有機金属化合物、およびその組合せからなる群から選択される。一実施形態では、金属化合物は、ヨウ化ガリウムである。別の実施形態では、金属化合物は、ヨウ化ビスマスである。別の実施形態では、放射線源は、不活性バッファガスと、Mn、Ni、Al、Ga、Tl、Ge、Sn、Pb、Bi、Ti、V、Cr、Zr、Nb、Mo、Hf、Ta、W、Re、およびOsからなる群から選択される1つの金属の化合物とからなるイオン化性で水銀非含有、ナトリウム非含有の組成物を含む。さらに別の実施形態では、金属化合物は、ハロゲン化ガリウム、好ましくは、ヨウ化ガリウムである。さらに別の実施形態では、金属化合物は、ハロゲン化ビスマス、好ましくは、ヨウ化ビスマスである。
一実施形態では、金属は、非励起状態において、元素金属として存在する。別の実施形態では、金属は、水銀またはナトリウム以外の少なくとも1つの別の金属との合金の成分として存在する。
本発明の一態様では、放射線源のイオン化性組成物の金属化合物は、ハロゲン化金属である。さらなる態様では、ハロゲン化金属は、ヨウ化金属である。別の態様では、ハロゲン化金属は、臭化金属である。一実施形態では、イオン化性組成物は、少なくとも2つの金属化合物を含む。
本発明のさらなる態様では、放射線源のイオン化性組成物の金属化合物は、ハロゲン化ガリウムである。別の態様では、ハロゲン化ガリウムは、ヨウ化ガリウムである。さらに別の態様では、ハロゲン化ガリウムは、臭化ガリウムである。
不活性バッファガスは、ヘリウム、ネオン、アルゴン、クリプトン、キセノン、およびその組合せからなる群から選択される不活性ガスを含む。不活性バッファガスは、ガス放電が、より容易に点火されることを可能にする。不活性バッファガスはまた、定常状態動作を制御し、放射線源の動作を最適化するのに使用されることができる。非制限的な例では、不活性バッファガスとして、アルゴンが使用される。アルゴンは、ヘリウム、ネオン、クリプトン、キセノン、およびその組合せなどの、別の不活性ガスと、完全に、または、部分的に、置き換えられてもよい。
本発明の一態様では、動作温度における不活性ガスのガス圧は、約1Pa〜約1×10Pa、好ましくは、約100Pa〜約1×10Paの範囲になる。
本発明の範囲内で、イオン化性組成物内に2つ以上のガリウム化合物を含むことによって、放射線源の効率が改善されてもよい。効率は、動作中に放電の内圧を最適化することによって、さらに改善されてもよい。こうした最適化は、金属および/または金属化合物の分圧を制御することによって、または、不活性バッファガスの圧力を制御することによって、または、金属および/または金属化合物の分圧ならびに不活性バッファガスの圧力を制御することによって実施されることができる。さらに、放電の動作温度を制御することによって、発光効率の増加を達成することができることを、出願人は発見した。ルーメン/ワットで表現される発光効率は、特定の可視波長範囲の放射線の輝度と放射線を発生するエネルギーとの比である。
図1は、ガス放電放射線源10を概略的に示す。図1は、本発明のイオン化性組成物を収容する管状ハウジングまたは容器14を示す。ハウジング14を構成する金属は、透明または不透明であってよい。ハウジング14は、円形または非円形断面を有してもよく、真っ直ぐである必要はない。一実施形態では、放電は、望ましくは、電圧源20に接続された熱電子放出電極16によって励起される。放電はまた、組成物にエネルギーを供給する他の励起方法によって発生されてもよい。交流または直流を含む種々の電圧および電流波形が、本発明について考えられることは、本発明の範囲内である。電子の熱電子放出について十分な温度に電極を維持するのに役立つために、さらなる電圧源が存在してもよいこともまた本発明の範囲内である。
図2は、ガス放電放射線源10の別の実施形態を示す。ハウジングは、内側外囲器24と外側外囲器26を備える。2つの外囲器の間の空間は、真空にされるか、または、ガスを充填される。
あるいは、ガス放電放射線源ハウジングは、図3に示すように、外側外囲器またはバルブ26によって囲まれる複数の湾曲管または内側外囲器24であるように具体化されてもよい。
イオン化性組成物を収容する放射線源のハウジングまたは外囲器は、好ましくは、実質的に透明な材料タイプで作られる。用語「実質的に透明な」は、ハウジングまたは外囲器の表面上の任意の地点において引かれた接線に対する垂線から約10°以内の入射放射線の、少なくとも50%、好ましくは、少なくとも、約75%、より好ましくは、少なくとも約90%の総透過を可能にすることを意味する。
本発明の範囲内で、蛍光体は、放電によって放出された放射線を吸収し、可視波長領域の他の放射線を放出するのに使用されてもよい。一実施形態では、蛍光体または蛍光体の組合せは、放射線源外囲器の内側に塗布されてもよい。あるいは、外囲器が、放電によって放出される放射線のかなりの量を吸収するいずれの材料でも作られていない場合には、蛍光体または蛍光体の組合せは、放射線源外囲器の外側に塗布されてもよい。この実施形態についての適した材料は、UVスペクトル範囲においてほとんど放射線を吸収しない石英である。
イオン化性組成物を収容するハウジングが、内側外囲器および外側外囲器を有する放射線源の一実施形態では、蛍光体は、内側外囲器の外側表面および/または外側外囲器の内側表面上にコーティングされてもよい。
蛍光体の化学組成物は、放出される放射線スペクトルを決定する。蛍光体として適切に使用することができる材料は、放電によって発生する放射線の少なくともある部分を吸収し、別の適した波長範囲の放射線を放出する。たとえば、蛍光体は、UV範囲の放射線を吸収し、赤、青、および緑波長範囲内などの、可視波長範囲内で放出し、高い蛍光量子収率を達成することを可能にする。
非制限的な例では、ガリウムおよびヨウ化ガリウムを含むガス放電放射線源の場合、放射出力は、図4に示すように、約294ナノメートル、約403ナノメートル、および約417ナノメートルにおけるスペクトル遷移によって左右される。これらの波長のうちの少なくとも1つの波長を有する放射線を変換する蛍光体が使用される。
さらなる非制限的な例では、ヨウ化ビスマスを含むガス放電放射線源の場合、放射線出力は、図5に示すように、約299ナノメートル、302ナノメートル、306ナノメートル、および472ナノメートルにおけるスペクトル遷移によって左右される。
本発明の範囲内で、青波長範囲における光を発生するのに使用されてもよい、蛍光体の非制限的な例は、SECA/BECA;SPP:Eu;Sr(P,B)O:Eu;BaMgSi:Eu;BaAl13:Eu;BaMgAl1627:Eu;BaMgAl1627:Eu,Mn;SrAl1425:Eu;(Ba,Sr)MgAl1017:Eu;SrSiCl:Eu;MgWO;MgGa:Mn;YVO:Dy;(Sr,Mg)(PO:Cu,(Sr,Ba)AlSi:Eu;ZnS:Ag;Ba5SiO4Cl6:Eu、およびその混合物である。
本発明の範囲内で、緑波長範囲における光を発生するのに使用されてもよい、蛍光体の非制限的な例は、ZnSiO:Mn;YSiO:Ce,Tb;YAlO:Ce,Tb;(Y,Gd)(Al,Ga)12:Ce;TbAl1512:Ce ZnS:Au,Cu;Al;ZnS:Cu;Al,YBO:Ce,Tb、およびその混合物である。
本発明の範囲内で、赤波長範囲における光を発生するのに使用されてもよい、蛍光体の非制限的な例は、Y(V,P)O:Eu,Y(V,P)O:Dy,Y(V,P)O:In,MgFGe,YS:Eu,(Sr,Mg,Zn)(PO:Sn、およびその混合物である。
本発明の一態様では、放射線源は、ガス放電を発生し、維持する手段を装備する。ある実施形態では、放電を発生し、維持する手段は、放射線源ハウジングまたは外囲器の2つの地点に配設された電極、および、電極に電圧を供給する電圧源である。本発明の一態様では、電極は、ハウジング内に密閉される。別の態様では、放射線源は、無電極である。無電極放射線源の別の実施形態では、放電を発生し、維持する手段は、イオン化性組成物を収容する少なくとも1つの外囲器の外部または内部に存在する無線周波数エミッタである。
本発明のさらに別の実施形態では、イオン化性組成物は、高周波電界によって容量的に励起され、電極は、ガス放電容器の外部に設けられる。本発明のさらに別の実施形態では、イオン化性組成物は、高周波電界によって誘導的に励起される。
[実施例1]
UV−A放射線に対して透明で、約35cmの長さと約2.5cmの直径を有する円筒石英放電容器が設けられた。放電容器は、真空にされ、1回分の約0.6mgGaと約8.2mgGaIとアルゴンが添加された。アルゴン圧は、室温で約267Paであった。容器は、炉内に挿入され、約13.56MHzの励起周波数で外部銅電極を介して、パワーがガス媒体に容量的に結合した。放射放出および放射効率が測定された。紫外および可視出力パワーは、約110℃において入力電気パワーの約30パーセントであると推定された。紫外放射線が、適当な蛍光体混合物によって可視光に変換されるときに、発光効率は、約80ルーメン/ワットであると推定された。
[実施例2]
UV−A放射線に対して透明で、約35cmの長さと約2.5cmの直径を有する円筒石英放電容器が設けられた。放電容器は、真空にされ、1回分の約3.0mgGaと約3.7mgGaIとアルゴンが添加された。アルゴン圧は、室温で約267Paであった。容器は、炉内に挿入され、約13.56MHzの励起周波数で外部銅電極を介して、パワーがガス媒体に容量的に結合した。放射放出および放射効率が測定された。紫外および可視出力パワーは、約220℃において入力電気パワーの約32パーセントであると推定された。紫外放射線が、適当な蛍光体混合物によって可視光に変換されるときに、発光効率は、約80ルーメン/ワットであると推定された。
[実施例3]
UV−A放射線に対して透明で、約35cmの長さと約2.5cmの直径を有する円筒石英放電容器が設けられた。放電容器は、真空にされ、1回分の約3.7mgBiと約1.2mgBiIとアルゴンが添加された。アルゴン圧は、室温で約267Paであった。容器は、炉内に挿入され、約13.56MHzの励起周波数で外部銅電極を介して、パワーがガス媒体に容量的に結合した。放射放出および放射効率が測定された。紫外および可視出力パワーは、約300℃において入力電気パワーの約25パーセントであると推定された。紫外放射線が、適当な蛍光体混合物によって可視光に変換されるときに、発光効率は、約55ルーメン/ワットであると推定された。
種々の実施形態が、本明細書で述べられたが、実施形態内での要素、変形、等価物、または改善の種々の組合せが、予測でき、当業者によって行われてもよく、また、添付の特許請求項で規定される本発明の範囲内に依然として入ることが、本明細書から理解されるであろう。
本発明の一実施形態の放射線源を示す図である。 本発明の第2の実施形態の放射線源を示す図である。 本発明の第3の実施形態の放射線源を示す図である。 本発明のある実施形態の放射線源の放出スペクトルを示す図である。 本発明の別の実施形態の放射線源の放出スペクトルを示す図である。

Claims (12)

  1. 内側外囲器(24)と、
    不活性バッファガスと、
    ハロゲンと、Ga、In、TlSnBi、Ti、Zr及びこれらの組合せからなる群から選択され金属を含む水銀フリー及びナトリウムフリーのイオン化性組成物と、を含む放射線源であって、
    前記不活性バッファガス以外の前記組成物が前記内側外囲器(24)内で励起されたときに、放射線を放出でき
    前記不活性バッファガス以外の前記組成物が前記内側外囲器(24)内で、励起時に100Pa未満の全蒸気圧生じ
    前記金属と前記ハロゲンは、少なくともハロゲン化金属を形成し、
    前記金属の少なくとも一部は、ハロゲンとの化合物ではない元素態金属として存在する、放射線源。
  2. 前記不活性バッファガス以外の前記組成物が、励起時に10Pa未満の全蒸気圧を生じる、請求項1記載の放射線源。
  3. 前記ハロゲン化金属がヨウ化金属である、請求項1または2に記載の放射線源。
  4. 前記ハロゲン化金属が臭化金属である、請求項1または2に記載の放射線源。
  5. Mn、Ni、Cu、Al、Ga、In、Tl、Sn、Pb、Bi、Ti、V、Cr、Zr、Nb、Mo、Hf、Ta、W、Re、Os及びこれらの組合せからなる群から選択される1種以上の第2の金属の1種以上の化合物をさらに含んでおり、上記化合物が、ハロゲン化物、酸化物、カルコゲン化物、水酸化物、水素化物、有機金属化合物及びこれらの組合せからなる群から選択される、請求項1乃至4のいずれかに記載の放射線源。
  6. 前記1種以上の第の金属前記1種以上の化合物がハロゲン化ガリウムである、請求項5記載の放射線源。
  7. 前記内側外囲器(24)を収容する外側外囲器(26)を備える、請求項1乃至6のいずれかに記載の放射線源。
  8. 前記少なくとも1つの外囲器の内側表面に塗布された蛍光体コーティングをさらに備える、請求項記載の放射線源。
  9. 前記少なくとも1つの外囲器の外側表面に塗布された蛍光体コーティングをさらに備える、請求項記載の放射線源。
  10. 前記金属がSn、Bi及びこれらの組合せからなる群から選択される金属である、請求項1乃至9のいずれかに記載の放射線源。
  11. 前記組成物が前記内側外囲器(24)内で300℃以下の動作温度で励起される、請求項1乃至10のいずれかに記載の放射線源。
  12. 前記組成物が前記内側外囲器(24)内で110〜300℃の動作温度で励起される、請求項11に記載の放射線源。
JP2007546831A 2004-12-20 2005-12-12 水銀非含有、ナトリウム非含有の組成物およびそれを組み込む放射線源 Expired - Fee Related JP5048513B2 (ja)

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US11/015,636 US7847484B2 (en) 2004-12-20 2004-12-20 Mercury-free and sodium-free compositions and radiation source incorporating same
US11/015,636 2004-12-20
PCT/US2005/045082 WO2006068887A2 (en) 2004-12-20 2005-12-12 Mercury-free and sodium-free compositions and radiation sources incorporating same

Publications (3)

Publication Number Publication Date
JP2008524809A JP2008524809A (ja) 2008-07-10
JP2008524809A5 JP2008524809A5 (ja) 2009-02-05
JP5048513B2 true JP5048513B2 (ja) 2012-10-17

Family

ID=36570511

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2007546831A Expired - Fee Related JP5048513B2 (ja) 2004-12-20 2005-12-12 水銀非含有、ナトリウム非含有の組成物およびそれを組み込む放射線源

Country Status (5)

Country Link
US (1) US7847484B2 (ja)
EP (1) EP1831915A2 (ja)
JP (1) JP5048513B2 (ja)
CN (1) CN101124652B (ja)
WO (1) WO2006068887A2 (ja)

Families Citing this family (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7944148B2 (en) * 2004-12-20 2011-05-17 General Electric Company Mercury free tin halide compositions and radiation sources incorporating same
US20060132043A1 (en) * 2004-12-20 2006-06-22 Srivastava Alok M Mercury-free discharge compositions and lamps incorporating gallium
US7948180B2 (en) * 2005-07-08 2011-05-24 Panasonic Corporation Plasma display panel and plasma display panel device with reduced driving voltage
DE102005035191A1 (de) * 2005-07-27 2007-02-01 Patent-Treuhand-Gesellschaft für elektrische Glühlampen mbH Niederdruckgasentladungslampe mit neuer Gasfüllung
CN101449357A (zh) * 2006-05-15 2009-06-03 皇家飞利浦电子股份有限公司 具有改善的效率的低压气体放电灯
DE102006048983A1 (de) * 2006-10-17 2008-04-24 Patent-Treuhand-Gesellschaft für elektrische Glühlampen mbH Niederdruckentladungslampe
US11482394B2 (en) * 2020-01-10 2022-10-25 General Electric Technology Gmbh Bidirectional gas discharge tube

Family Cites Families (37)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US2765416A (en) 1953-09-24 1956-10-02 Westinghouse Electric Corp Vapor lamps utilizing chemical compounds
NL7107535A (ja) 1971-06-02 1972-12-05
NL7316101A (nl) 1973-11-26 1975-05-28 Philips Nv Hogedruk-tinhalogenide-ontladingslamp.
GB1502612A (en) 1974-06-07 1978-03-01 Thorn Electrical Ind Ltd Discharge lamps containing an inert gas and a metal halid
NL168367C (nl) 1975-06-20 1982-03-16 Philips Nv Lagedrukkwikdampontladingslamp en werkwijze voor de vervaardiging hiervan.
WO1980001436A1 (en) 1978-12-28 1980-07-10 Mitsubishi Electric Corp Metal-vapor discharge lamp
US4360756A (en) 1979-11-13 1982-11-23 General Electric Company Metal halide lamp containing ThI4 with added elemental cadmium or zinc
US4387319A (en) 1981-03-30 1983-06-07 General Electric Company Metal halide lamp containing ScI3 with added cadmium or zinc
JPS61165947A (ja) * 1985-01-17 1986-07-26 Mitsubishi Electric Corp 金属蒸気放電灯
US4792725A (en) * 1985-12-10 1988-12-20 The United States Of America As Represented By The Department Of Energy Instantaneous and efficient surface wave excitation of a low pressure gas or gases
JPH0732000B2 (ja) * 1987-02-09 1995-04-10 ウシオ電機株式会社 金属蒸気放電灯
NL8702123A (nl) 1987-09-08 1989-04-03 Philips Nv Lagedrukkwikdampontladingslamp.
GB8915611D0 (en) 1989-07-07 1989-08-23 Emi Plc Thorn A discharge tube arrangement
RU2027248C1 (ru) 1990-03-23 1995-01-20 Акционерное общество "Лисма" - завод специальных источников света и электровакуумного стекла Безртутная металлогалогенная лампа
JPH04332450A (ja) 1991-01-11 1992-11-19 Toshiba Lighting & Technol Corp 片封止形メタルハライドランプ
JP2775694B2 (ja) 1993-05-07 1998-07-16 ウシオ電機株式会社 放電ランプ
DE4438294A1 (de) 1994-10-26 1996-05-02 Patent Treuhand Ges Fuer Elektrische Gluehlampen Mbh Metallhalogenid-Entladungslampe für fotooptische Zwecke
JP3196647B2 (ja) * 1996-07-22 2001-08-06 松下電器産業株式会社 無電極高圧放電ランプ
DE59805403D1 (de) 1997-04-21 2002-10-10 Patent Treuhand Ges Fuer Elektrische Gluehlampen Mbh Metallhalogenid-entladungslampe mit langer lebensdauer
DE19731168A1 (de) * 1997-07-21 1999-01-28 Patent Treuhand Ges Fuer Elektrische Gluehlampen Mbh Beleuchtungssystem
EP0931330B1 (en) 1997-07-23 2003-08-13 Koninklijke Philips Electronics N.V. Mercury free metal halide lamp
JPH11102663A (ja) * 1997-09-29 1999-04-13 Toshiba Lighting & Technology Corp 金属蒸気放電ランプおよび投光装置
JPH11329352A (ja) * 1998-05-15 1999-11-30 Matsushita Electric Works Ltd メタルハライドランプおよび照明装置
DE29905662U1 (de) 1999-03-26 2000-08-10 Patent-Treuhand-Gesellschaft für elektrische Glühlampen mbH, 81543 München Metallhalogenid-Entladungslampe mit langer Lebensdauer
JP4025462B2 (ja) 1999-06-11 2007-12-19 株式会社日本フォトサイエンス 低圧水銀蒸気放電灯およびそれを使用した紫外線照射装置
DE19937312A1 (de) * 1999-08-10 2001-02-15 Patent Treuhand Ges Fuer Elektrische Gluehlampen Mbh Quecksilberfreie Metallhalogenidlampe
KR100348610B1 (ko) 2000-01-19 2002-08-13 엘지전자주식회사 금속 할로겐 무전극 램프
DE10044563A1 (de) 2000-09-08 2002-03-21 Philips Corp Intellectual Pty Niederdruckgasentladungslampe mit kupferhaltiger Gasfüllung
DE10044562A1 (de) 2000-09-08 2002-03-21 Philips Corp Intellectual Pty Niederdruckgasentladungslampe mit quecksilberfreier Gasfüllung
DE10114680A1 (de) 2001-03-23 2002-09-26 Philips Corp Intellectual Pty Hochdruck-Gasentladungslampe
DE10128915A1 (de) 2001-06-15 2002-12-19 Philips Corp Intellectual Pty Niederdruckgasentladungslampe mit quecksilberfreier Gasfüllung
JP2003016998A (ja) 2001-06-28 2003-01-17 Matsushita Electric Ind Co Ltd メタルハライドランプ
US6861808B2 (en) 2002-03-27 2005-03-01 Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. Metal vapor discharge lamp
DE10214631A1 (de) 2002-04-02 2003-10-16 Patent Treuhand Ges Fuer Elektrische Gluehlampen Mbh Metallhalogenidfüllung und zugehörige Lampe
JP3678212B2 (ja) 2002-05-20 2005-08-03 ウシオ電機株式会社 超高圧水銀ランプ
DE10242049A1 (de) 2002-09-11 2004-03-25 Philips Intellectual Property & Standards Gmbh Niederdruckgasentladungslampe mit zinnhaltiger Gasfüllung
DE10254737A1 (de) 2002-11-23 2004-06-09 Philips Intellectual Property & Standards Gmbh Niederdruckgasentladungslampe mit quecksilberfreier Gasfüllung

Also Published As

Publication number Publication date
CN101124652A (zh) 2008-02-13
WO2006068887A2 (en) 2006-06-29
WO2006068887A3 (en) 2007-05-24
JP2008524809A (ja) 2008-07-10
US20060132042A1 (en) 2006-06-22
EP1831915A2 (en) 2007-09-12
CN101124652B (zh) 2011-11-16
US7847484B2 (en) 2010-12-07

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP5048513B2 (ja) 水銀非含有、ナトリウム非含有の組成物およびそれを組み込む放射線源
US6972521B2 (en) Low-pressure gas discharge lamp having a mercury-free gas filling with an indium compound
JP2002124211A5 (ja)
JPH09320518A (ja) 水銀を含まない放電紫外線源
US20060132043A1 (en) Mercury-free discharge compositions and lamps incorporating gallium
US3778662A (en) High intensity fluorescent lamp radiating ionic radiation within the range of 1,600{14 2,300 a.u.
EP1803145B1 (en) Mercury-free compositions and radiation sources incorporating same
EP1547125B1 (en) Low pressure mercury vapour fluorescent lamps
JP2002093367A (ja) 低圧ガス放電ランプ
JP2003007248A (ja) 低圧ガス放電ランプ
EP1626078B1 (en) Quantum-splitting fluoride-based phosphors, method of producing, and devices incorporating the same
US4099089A (en) Fluorescent lamp utilizing terbium-activated rare earth oxyhalide phosphor material
US7825598B2 (en) Mercury-free discharge compositions and lamps incorporating Titanium, Zirconium, and Hafnium
US20070222389A1 (en) Low Pressure Discharge Lamp Comprising a Discharge Maintaining Compound
US7944148B2 (en) Mercury free tin halide compositions and radiation sources incorporating same
JP2008500691A (ja) メタルハライドを有する低圧放電ランプ
JP3196647B2 (ja) 無電極高圧放電ランプ
JP2007501996A (ja) 電子エミッタ材料としてアルカリ土類カルコゲナイドを有する低圧ガス放電ランプ
JP2005538523A (ja) 電子放出物質としてアルカリ土類酸化物の混合物を有する低圧気体放電ランプ
JPH10294080A (ja) メタルハライドランプおよびその点灯装置
JPH09115481A (ja) 無電極放電灯

Legal Events

Date Code Title Description
A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20081211

A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20081211

RD04 Notification of resignation of power of attorney

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7424

Effective date: 20110117

RD02 Notification of acceptance of power of attorney

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7422

Effective date: 20110214

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20110708

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20110719

A601 Written request for extension of time

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601

Effective date: 20110914

A602 Written permission of extension of time

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A602

Effective date: 20111003

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20120113

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20120703

A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20120719

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20150727

Year of fee payment: 3

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees