JP5036323B2 - Method for manufacturing glass substrate for magnetic disk, method for manufacturing magnetic disk, and glass substrate holder - Google Patents

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Description

本発明は、化学強化工程および冷却工程を含む磁気ディスク用ガラス基板の製造方法、磁気ディスクの製造方法およびガラス基板ホルダに関する。   The present invention relates to a method for manufacturing a glass substrate for a magnetic disk including a chemical strengthening step and a cooling step, a method for manufacturing a magnetic disk, and a glass substrate holder.

近年、情報化技術の高度化に伴い、情報記録技術、特に磁気記録技術は著しく進歩している。このような磁気記録媒体のひとつであるHDD(ハードディスクドライブ)等の磁気記録媒体用基板としては、アルミニウム基板が広く用いられてきた。しかし、磁気ディスクの小型化、薄板化、および高密度記録化に伴い、アルミニウム基板に比べ基板表面の平坦性及び基板強度に優れたガラス基板の需要が高まっている。   In recent years, with the advancement of information technology, information recording technology, particularly magnetic recording technology, has made remarkable progress. As a substrate for a magnetic recording medium such as an HDD (Hard Disk Drive) which is one of such magnetic recording media, an aluminum substrate has been widely used. However, with the miniaturization, thinning, and high-density recording of magnetic disks, there is an increasing demand for glass substrates that have superior substrate surface flatness and substrate strength compared to aluminum substrates.

また、磁気記録技術の高密度化に伴い、磁気ヘッドも薄膜ヘッドから磁気抵抗型ヘッド(MRヘッド)、大型磁気抵抗型ヘッド(GMRヘッド)へと推移してきており、磁気ヘッドの基板からの浮上量も小さくなってきている。   As the magnetic recording technology increases in density, the magnetic head has been changed from a thin film head to a magnetoresistive head (MR head) and a large magnetoresistive head (GMR head). The amount is getting smaller.

詳細に説明すると、LMR(水平磁気記録)型やPWR(垂直磁気記録)型のHDDでは、当該HDDが起動された後、磁気ヘッドが磁気ディスク上で完全浮上或いは擬似接触走行し、磁気ヘッドへの漏洩磁束を利用して、情報の読み書きを行う。即ち、情報を書き込む場合には、磁気ヘッドの誘導コイルに電流を流して生じる漏洩磁束によりディスク上の磁性膜を磁化し、また情報を読み出す場合には、磁化されている磁気ディスクからの漏洩磁束を磁気ヘッドの誘導コイル或いはMR/GMR/TMR素子が信号を感知して誘起電流へ変換する。   More specifically, in an LMR (horizontal magnetic recording) type or PWR (perpendicular magnetic recording) type HDD, after the HDD is activated, the magnetic head travels completely on the magnetic disk or travels in a pseudo-contact manner to the magnetic head. Read and write information using the leakage flux of That is, when writing information, the magnetic film on the disk is magnetized by the leakage magnetic flux generated by passing a current through the induction coil of the magnetic head, and when reading information, the leakage magnetic flux from the magnetized magnetic disk is read. Is detected by a magnetic head induction coil or MR / GMR / TMR element and converted into an induced current.

近年における高記録密度化の要求を達成するためには、この磁気ヘッドの磁気ディスクに対する浮上量をより小さくすることが必須課題である。即ち、磁気ヘッドと磁気ディスクとの間にある漏洩磁束の広がりを小さく抑えることで磁気ディスク上に形成される磁化領域を小さくすることができ、単位面積あたりに存在する磁化領域の数を増やすことが可能となる。こうして高記録密度化が達成される。   In order to achieve the demand for higher recording density in recent years, it is essential to make the flying height of the magnetic head with respect to the magnetic disk smaller. In other words, by suppressing the spread of the leakage magnetic flux between the magnetic head and the magnetic disk, the magnetization area formed on the magnetic disk can be reduced, and the number of magnetization areas existing per unit area can be increased. Is possible. In this way, high recording density is achieved.

しかし、HDDにおいては磁気ヘッドと磁気ディスクを数十m/secという高速度で相対運動させる必要があり、数十nm以下まで狭小化されている浮上量を如何にそのような高速相対運動の環境下で保持するかが一つの大きな解決課題となっている。   However, in HDDs, it is necessary to move the magnetic head and magnetic disk relative to each other at a high speed of several tens of m / sec, and how the flying height is reduced to several tens of nanometers or less. One big solution is to hold it below.

その解決課題項目の一つとして挙げられるのが、表面うねりに代表される磁気ディスク表面形状を表す評価指標である。その因子が部分的な不均一性を有すると、磁気ヘッドの浮上や擬似浮上が阻害され、磁気ディスク間との浮上量を安定維持することが困難となる。   One of the problems to be solved is an evaluation index representing the surface shape of the magnetic disk represented by surface waviness. If the factor has partial non-uniformity, the flying or pseudo-flying of the magnetic head is hindered, and it becomes difficult to stably maintain the flying height between the magnetic disks.

上記MR/GMR/TMRのような磁気抵抗効果型素子を搭載した磁気ヘッドには固有の障害としてサーマルアスペリティ障害を引き起こす場合がある。サーマルアスペリティ障害は、磁気ディスク面上の微小な凸或いは凹形状上を磁気ヘッドが浮上飛行しながら通過するときに、空気の断熱圧縮または接触により磁気抵抗効果型素子が加熱され、読み出しエラーを生じる障害である。高記録密度化には浮上量の低減は欠かせないが、磁気ディスクに表面うねりがあると、サーマルアスペリティ障害を回避するため浮上量を小さくできないという問題がある。   A magnetic head equipped with a magnetoresistive element such as MR / GMR / TMR may cause a thermal asperity failure as an inherent failure. Thermal asperity failure is caused when a magnetoresistive element is heated by adiabatic compression or contact of air when a magnetic head passes over a minute convex or concave shape on the surface of a magnetic disk, causing a read error. It is an obstacle. To increase the recording density, it is essential to reduce the flying height. However, if the magnetic disk has surface waviness, there is a problem that the flying height cannot be reduced in order to avoid thermal asperity failure.

従って、このような磁気ヘッドに対して、磁気ディスクの表面は極めて高度な平滑度および平坦度が求められる。また塵埃や異物が付着したまま磁性層を形成すると凸部が形成されてしまうため、ガラス基板には、塵埃や異物を完全に除去する高度な洗浄も求められている。   Therefore, for such a magnetic head, the surface of the magnetic disk is required to have extremely high smoothness and flatness. Further, if the magnetic layer is formed with dust and foreign matters attached, convex portions are formed. Therefore, the glass substrate is also required to be highly cleaned to completely remove dust and foreign matters.

このような磁気ディスク用のガラス基板は、複数の工程を経由して形成される。まず、1枚のウェハを円盤状に切削し、さらに内孔を開けてガラス基板の形を形成する。その後、切削したガラス基板の外周端面および内周端面の面取りを行い、両端面を研磨する。続いて、ガラス基板の主表面も研磨され、最後に研磨が完了したガラス基板に化学強化処理を施す。   Such a glass substrate for a magnetic disk is formed through a plurality of processes. First, a single wafer is cut into a disk shape, and an inner hole is formed to form a glass substrate. Thereafter, the outer peripheral end surface and the inner peripheral end surface of the cut glass substrate are chamfered, and both end surfaces are polished. Subsequently, the main surface of the glass substrate is also polished, and finally the glass substrate that has been polished is subjected to a chemical strengthening treatment.

この化学強化処理を行う化学強化工程は、例えば、アルカリ塩の溶融塩を加熱溶融し、処理対象のガラス基板をガラス基板ホルダに収納、保持した状態で上記溶融塩(化学強化処理液)中に浸漬し、イオン交換させることによって行われる。ここでガラス基板ホルダを利用しているのは、ガラス基板の表面全体を満遍なく化学強化処理液に浸すためである。   The chemical strengthening step for performing this chemical strengthening treatment is performed by, for example, heating and melting a molten salt of an alkali salt, and storing and holding the glass substrate to be treated in a glass substrate holder in the molten salt (chemical strengthening treatment liquid). It is performed by dipping and ion exchange. Here, the glass substrate holder is used because the entire surface of the glass substrate is uniformly immersed in the chemical strengthening treatment liquid.

そしてガラス基板の化学強化工程が完了すると、ガラス基板は、ガラス基板ホルダに保持された状態のままで冷却される。しかし、上記化学強化処理液の温度は400°C程度の高温であるためガラス基板ホルダに保持したまま単に冷却工程を行うとガラス基板に歪みや反りが生じていた。かかる問題を解決するため、化学強化処理液の凝固点を下げ、ガラス基板に生じる反りを低減する技術が知られている(例えば、特許文献1)。
特開2001−192239号公報
And if the chemical strengthening process of a glass substrate is completed, a glass substrate will be cooled in the state hold | maintained at the glass substrate holder. However, since the temperature of the chemical strengthening treatment liquid is as high as about 400 ° C., the glass substrate is distorted or warped when it is simply cooled while being held on the glass substrate holder. In order to solve such a problem, a technique is known in which the freezing point of the chemical strengthening treatment liquid is lowered and the warpage generated in the glass substrate is reduced (for example, Patent Document 1).
JP 2001-192239 A

一方、最近では、記録密度をより一層向上させるために、垂直磁気記録方式が採用されつつある。この垂直磁気記録媒体の場合には、面内磁気記録方式の場合と比べて、ガラス基板の加工精度の影響がより顕著に現れやすい。このため、ガラス基板としては、より一層の低粗さと平坦度、形状の精度が求められている。   On the other hand, recently, a perpendicular magnetic recording method is being adopted in order to further improve the recording density. In the case of this perpendicular magnetic recording medium, the influence of the processing accuracy of the glass substrate tends to appear more conspicuously than in the case of the in-plane magnetic recording method. For this reason, the glass substrate is required to have lower roughness, flatness, and shape accuracy.

上述したように、ガラス基板ホルダにガラス基板が保持されたまま冷却された場合、ガラス基板の局部、および化学強化処理液がガラス基板内で局所的に留まっている部分は他の部分と比べて冷却速度が異なってしまい(温度分布が異なり)、それが反作用という形で物理的な力をガラス基板に与える結果となり、局所的に抗力が生じ、歪みや反り、さらには、カケやワレが生じてしまう。   As described above, when the glass substrate holder is cooled while being held by the glass substrate holder, the local portion of the glass substrate and the portion where the chemical strengthening treatment liquid remains locally in the glass substrate are compared with other portions. The cooling rate is different (temperature distribution is different), which gives a physical force to the glass substrate in the form of reaction, resulting in local drag, distortion and warpage, and also chipping and cracking. End up.

このような冷却速度が異なる領域ができるのは、ガラス基板ホルダの保持部とガラス基板との熱容量の違いに基づいた、ガラス基板における、ガラス基板ホルダと接している部分とそれ以外の部分との間の温度変化の違いに起因している。従って、表面積の割合が相対的に高い、即ち、板厚が薄いガラス基板ほど、歪みや反りが顕著に現れることとなる。   Such a region with a different cooling rate can be formed between the portion in contact with the glass substrate holder and the other portion in the glass substrate based on the difference in heat capacity between the holding portion of the glass substrate holder and the glass substrate. This is due to the difference in temperature change. Therefore, a glass substrate having a relatively high surface area ratio, i.e., a thinner plate thickness, exhibits more pronounced distortion and warpage.

また、化学強化処理液が基板上に付着したままの状態で固まり、その固まった部分を後の洗浄工程で洗浄しきれず一部が残ったままになると、ガラス基板の平坦度を著しく悪化させる原因となる。   Moreover, if the chemical strengthening treatment solution is solidified while adhering to the substrate and the solidified portion cannot be cleaned in the subsequent cleaning process, and the portion remains, the cause is that the flatness of the glass substrate is significantly deteriorated. It becomes.

このような冷却工程に基づくガラス基板の平坦度の悪化は従来許容される範囲であったが、近年の磁気ディスクの小型化によってガラス基板も薄くなってきていること、および垂直磁気記録方式ではガラス基板の表面の凹凸が磁性層などの表層によって増大されてしまうことなどから、従来よりもさらに厳密に平坦度が求められるようになってきている。   The deterioration of the flatness of the glass substrate based on such a cooling process has been an allowable range in the past, but the glass substrate has become thinner due to the recent miniaturization of the magnetic disk, and in the perpendicular magnetic recording system, the glass substrate has become thinner. Since unevenness on the surface of the substrate is increased by a surface layer such as a magnetic layer, flatness is required more strictly than in the past.

本願発明者らは、上記の課題について鋭意検討した結果、ガラス基板の特に主表面上に局所的に残存する化学強化処理液を速やかに取出できるようにガラス基板ホルダを構成することで、主表面から化学強化処理液を迅速かつ確実に除去できることを見出し、本発明を完成するに至った。   As a result of earnestly examining the above problems, the inventors of the present application have configured the glass substrate holder so that the chemical strengthening treatment liquid remaining locally on the main surface, in particular, the glass substrate can be quickly taken out. Thus, the present inventors have found that the chemical strengthening treatment liquid can be removed quickly and reliably, and have completed the present invention.

本発明は、従来のガラス基板の冷却工程が有する上記問題点に鑑みてなされたものであり、本発明の目的は、ガラス基板に歪みや反りさらにはワレやカケが生じるのを防止し、低粗さおよび平坦度に優れた、新規かつ改良された磁気ディスク用ガラス基板の製造方法、磁気ディスクの製造方法およびガラス基板ホルダを提供することである。   The present invention has been made in view of the above-mentioned problems of the conventional glass substrate cooling process, and the object of the present invention is to prevent the glass substrate from being distorted, warped, cracked, and chipped, and has a low A novel and improved method for producing a magnetic disk glass substrate, a method for producing a magnetic disk, and a glass substrate holder that are excellent in roughness and flatness.

上記課題を解決するために、本発明のある観点によれば、化学強化塩を加熱溶解した化学強化処理液に円板状のガラス基板を浸漬しイオン交換させてガラス基板の化学強化を行う化学強化工程と、化学強化工程によって熱を帯びたガラス基板をガラス基板ホルダに保持した状態で冷却する冷却工程と、を含む磁気ディスク用ガラス基板の製造方法であって、ガラス基板ホルダの保持部は、弾性を有するように複数の糸を略V字形状に張架することで形成され、糸がガラス基板の主表面と外周面取面との境界部に当接し、点接触によってガラス基板を両側から保持することによって、冷却工程におけるガラス基板全体の温度変化を均一化することを特徴とする、磁気ディスク用ガラス基板の製造方法が提供される。 In order to solve the above-described problems, according to one aspect of the present invention, a chemical strengthening of a glass substrate is performed by immersing a disk-shaped glass substrate in a chemical strengthening treatment solution in which a chemically strengthened salt is dissolved by heating and performing ion exchange. A method of manufacturing a glass substrate for a magnetic disk, comprising: a strengthening step; and a cooling step of cooling the glass substrate heated by the chemical strengthening step in a state where the glass substrate holder is held by the glass substrate holder. The yarn is formed by stretching a plurality of yarns in a substantially V shape so as to have elasticity, and the yarn contacts the boundary portion between the main surface and the outer peripheral chamfer of the glass substrate, and the glass substrate is placed on both sides by point contact. The temperature change of the whole glass substrate in a cooling process is equalized by hold | maintaining from the above, The manufacturing method of the glass substrate for magnetic discs characterized by the above-mentioned is provided.

かかる構成により、ガラス基板と保持部との接触面積を最小限に留め、ガラス基板と保持部との間で化学強化処理液が固化するのを防止でき、ガラス基板全体の温度変化を均一化することが可能となる。従って、ガラス基板に歪みや反りが生じるのを防止することができる。保持部は、ガラス基板を点接触のみで保持することも可能である。   With this configuration, the contact area between the glass substrate and the holding unit can be minimized, the chemical strengthening treatment liquid can be prevented from solidifying between the glass substrate and the holding unit, and the temperature change of the entire glass substrate can be made uniform. It becomes possible. Therefore, it is possible to prevent the glass substrate from being distorted or warped. The holding unit can also hold the glass substrate only by point contact.

ガラス基板ホルダの保持部は、弾性によってガラス基板を押圧固定するとよい。The holding part of the glass substrate holder is preferably pressed and fixed by elasticity.

少なくとも糸をガラス基板外周の最下部の主表面と外周面取面との境界部に当接させてもよい。At least the yarn may be brought into contact with the boundary between the lowermost main surface of the outer periphery of the glass substrate and the outer peripheral chamfer.

ラス基板の主表面と糸とのなす角が45°未満であってもよい。 Angle between the main surface and the thread of the glass substrate may be less than 45 °.

面取面は主表面に対して45°の傾きを有して形成される。従って、主表面と糸とのなす角を45°未満とすることで、ガラス基板と糸とが、面取面もしくは主表面に面もしくは線接触することなく、境界部のみに点接触するので、ガラス基板と保持部との接触面積を最小限に維持することが可能となる。   The chamfered surface is formed with an inclination of 45 ° with respect to the main surface. Therefore, by setting the angle formed by the main surface and the thread to less than 45 °, the glass substrate and the thread do not make a surface contact or a line contact with the chamfered surface or the main surface, but only point contact with the boundary portion. It is possible to keep the contact area between the glass substrate and the holding portion to a minimum.

ガラス基板の主表面と糸とのなす角が、両側均等になっているとよい。The angle formed between the main surface of the glass substrate and the thread is preferably equal on both sides.

糸は、金属ワイヤであってもよい。金属ワイヤは、耐環境性に強く、熱膨張率が低いため、化学強化における高温においても変形しない。また、経年による劣化が少ないため、適切な弾性(張力)を維持できる。従って、煩雑なメンテナンスの回数を削減でき、安定して低粗さおよび平坦度に優れたガラス基板を供給することが可能となる。   The yarn may be a metal wire. Since the metal wire is strong in environmental resistance and has a low coefficient of thermal expansion, it does not deform even at high temperatures in chemical strengthening. In addition, since there is little deterioration over time, appropriate elasticity (tension) can be maintained. Therefore, the number of complicated maintenance operations can be reduced, and a glass substrate excellent in low roughness and flatness can be supplied stably.

境界部は曲面にて形成され、保持部は境界部の曲面に点接触してもよい。かかる構成により、ガラス基板が少し傾いて保持部に当接したとしても境界部との点接触が維持され、ガラス基板と保持部との接触面積を最小限に維持することが可能となる。   The boundary part may be formed of a curved surface, and the holding part may be in point contact with the curved surface of the boundary part. With such a configuration, even if the glass substrate is slightly inclined and contacts the holding portion, the point contact with the boundary portion is maintained, and the contact area between the glass substrate and the holding portion can be kept to a minimum.

また、当該磁気ディスク用ガラス基板の製造方法により得られたガラス基板の表面に、少なくとも磁性層を形成する工程を含む磁気ディスクの製造方法も提供される。   Also provided is a method of manufacturing a magnetic disk including a step of forming at least a magnetic layer on the surface of a glass substrate obtained by the method of manufacturing a glass substrate for a magnetic disk.

上記課題を解決するために、本発明の他の観点によれば、化学強化塩を加熱溶解した化学強化処理液に円板状のガラス基板を浸漬しイオン交換させてガラス基板の化学強化を行った後に、化学強化において熱を帯びたガラス基板を冷却するために用いられるガラス基板ホルダであって、当該ガラス基板ホルダは、弾性を有するように複数の糸を略V字形状に張架することで形成される保持部を備え、保持部は、糸がガラス基板の主表面と外周面取面との境界部に当接し、点接触によってガラス基板を両側から保持することによって、冷却工程におけるガラス基板全体の温度変化を均一化することを特徴とする、ガラス基板ホルダが提供される。 In order to solve the above-mentioned problems, according to another aspect of the present invention, a glass-like glass substrate is immersed in a chemical-strengthening treatment solution in which a chemically strengthened salt is dissolved by heating, and ion exchange is performed to chemically strengthen the glass substrate. After that, a glass substrate holder used for cooling a glass substrate heated in chemical strengthening, wherein the glass substrate holder stretches a plurality of threads in a substantially V shape so as to have elasticity. The holding part is formed of the glass in the cooling process by holding the glass substrate from both sides by point contact with the yarn contacting the boundary between the main surface of the glass substrate and the outer peripheral chamfered surface. A glass substrate holder is provided, characterized in that the temperature change of the entire substrate is made uniform .

保持部は、長手方向に向かって波状になるように薄板を湾曲させ、波状の薄板の膨出側の突部間のU字溝部に複数の糸を略V字形状に張架することで形成されるとよい。なお、上述した磁気ディスク用ガラス基板の製造方法における技術的思想に対応する構成要素やその説明は、磁気ディスクの製造方法やガラス基板ホルダにも適用可能である。 The holding part is formed by curving a thin plate so as to be wavy in the longitudinal direction, and stretching a plurality of threads in a substantially V shape between U-shaped groove portions between the protruding portions of the undulating thin plate It is good to be done. It should be noted that the components corresponding to the technical idea in the method for manufacturing a glass substrate for magnetic disk described above and the description thereof can be applied to the method for manufacturing a magnetic disk and a glass substrate holder.

以上説明したように本発明によれば、ガラス基板と保持部との接触面積を最小限に留めることでガラス基板全体の冷却速度を均一に保ち、ガラス基板に歪みや反りが生じるのを防止でき、優れた平坦度を維持することが可能となる。   As described above, according to the present invention, it is possible to keep the cooling rate of the entire glass substrate uniform by minimizing the contact area between the glass substrate and the holding portion, and to prevent the glass substrate from being distorted or warped. It is possible to maintain excellent flatness.

以下に添付図面を参照しながら、本発明の好適な実施の形態について詳細に説明する。なお、本明細書及び図面において、実質的に同一の機能構成を有する構成要素については、同一の符号を付することにより重複説明を省略する。   Exemplary embodiments of the present invention will be described below in detail with reference to the accompanying drawings. In addition, in this specification and drawing, about the component which has the substantially same function structure, duplication description is abbreviate | omitted by attaching | subjecting the same code | symbol.

磁気ディスク用ガラス基板は、複数の工程を経由して形成される。そして、その最終段階では、化学強化工程および冷却工程が遂行される。ガラス基板は、化学強化工程および/または冷却工程の間、ガラス基板ホルダに保持されている。以下、本発明の実施形態の理解を容易にするため、その前提となる化学強化工程および冷却工程を詳細に説明する。   The glass substrate for magnetic disks is formed through a plurality of processes. In the final stage, a chemical strengthening process and a cooling process are performed. The glass substrate is held by the glass substrate holder during the chemical strengthening process and / or the cooling process. Hereinafter, in order to facilitate understanding of the embodiment of the present invention, the chemical strengthening process and the cooling process which are the premise thereof will be described in detail.

(化学強化工程)
化学強化工程において、化学強化処理槽は、化学強化塩を加熱溶解した化学強化処理液にガラス基板を浸漬し、ガラス基板(Liイオンを含むアルミノシリケートガラス)の一部のイオン、例えば、LiイオンおよびNaイオン等の一価の金属イオンを化学強化処理液中の上記イオンより大きなイオン径を有する一価のイオン、例えば、Naイオン、Kイオン、Agイオン等に置換する。かかるイオン交換法によりガラス基板表面には圧縮応力層が形成され、割れやクラックが生じにくい大きな機械的強度を得ることができる。
(Chemical strengthening process)
In the chemical strengthening step, the chemical strengthening treatment tank immerses the glass substrate in a chemical strengthening treatment solution in which the chemically strengthened salt is dissolved by heating, and a part of ions of the glass substrate (aluminosilicate glass containing Li ions), for example, Li ions And monovalent metal ions such as Na ions are substituted with monovalent ions having a larger ion diameter than the above ions in the chemical strengthening treatment liquid, such as Na ions, K ions, Ag ions, and the like. By such an ion exchange method, a compressive stress layer is formed on the surface of the glass substrate, and it is possible to obtain a large mechanical strength in which cracks and cracks are unlikely to occur.

このようなNaイオン、Kイオンを含む上記化学強化処理液(処理溶融塩)としては、硝酸ナトリウム、硝酸カリウム、硝酸銀およびその混合溶融塩を用いるのが好ましいが、硝酸塩に限定されるものではなく、硫酸塩、重硫酸塩、炭酸塩、ハロゲン化物などを用いてもよい。   As the chemical strengthening treatment liquid (treated molten salt) containing such Na ions and K ions, sodium nitrate, potassium nitrate, silver nitrate and mixed molten salts thereof are preferably used, but are not limited to nitrates. Sulfates, bisulfates, carbonates, halides and the like may be used.

かかる化学強化処理液の温度は、ガラス基板の材質の歪点よりも好ましくは50〜150°C程度低く設定し、より好ましくは化学強化処理液自体の温度が350〜400°C程度に設定される。これは、ガラス基板の材質の歪点よりも150°Cより低く設定すると、化学強化が十分に行われず、50°Cより高く設定すると、化学強化工程においてガラス基板に歪みが生じやすくなるからである。   The temperature of the chemical strengthening treatment liquid is preferably set to be about 50 to 150 ° C. lower than the strain point of the material of the glass substrate, and more preferably the temperature of the chemical strengthening treatment liquid itself is set to about 350 to 400 ° C. The This is because when the temperature is set lower than 150 ° C. than the strain point of the glass substrate material, chemical strengthening is not sufficiently performed, and when set higher than 50 ° C., the glass substrate is likely to be distorted in the chemical strengthening process. is there.

このような化学強化によってガラス基板の表面および端面には圧縮応力層が形成される。端面、特に内周端面に形成される圧縮応力層が本実施形態における内周端面の変形を招き、その膨張(伸び)量が変化量として把握される。この圧縮応力層の厚みは、その化学強化の化学強化処理条件を調整して20〜250μmとするのが好ましい。これは、20μm未満では、ガラス基板の強度が低下する恐れがあり、250μmを超える場合、その製造効率が不必要に悪くなるからである。   By such chemical strengthening, a compressive stress layer is formed on the surface and end face of the glass substrate. The compressive stress layer formed on the end face, particularly the inner peripheral end face, causes deformation of the inner peripheral end face in the present embodiment, and the amount of expansion (elongation) is grasped as the amount of change. The thickness of the compressive stress layer is preferably 20 to 250 μm by adjusting the chemical strengthening treatment conditions for the chemical strengthening. This is because if it is less than 20 μm, the strength of the glass substrate may be reduced, and if it exceeds 250 μm, the production efficiency is unnecessarily deteriorated.

(冷却工程)
化学強化処理液を用いた化学強化工程が終了した後、化学強化処理液から引き上げられたガラス基板ホルダには複数枚のガラス基板が保持されている。この冷却工程では、ガラス基板の主表面上に化学強化処理液がない状態で冷却することが好ましいが、ガラス基板とガラス基板を保持する保持部との接触点には表面張力により多くの溶融液が残存してしまう場合がある。そして、冷却工程において溶解液が凝固すると、ガラス基板の保持部との接触点とそうでない部分(非接触部分)とで熱膨張差が起き、保持部との接触点のみで膨張した状態が維持され他の部分より遅れて凝縮されるので、歪みや反りを生じてしまう。
(Cooling process)
After the chemical strengthening process using the chemical strengthening treatment liquid is completed, a plurality of glass substrates are held on the glass substrate holder pulled up from the chemical strengthening treatment liquid. In this cooling step, it is preferable to cool the glass substrate without the chemical strengthening treatment liquid on the main surface, but a large amount of molten liquid is caused by the surface tension at the contact point between the glass substrate and the holding portion for holding the glass substrate. May remain. When the solution is solidified in the cooling process, a difference in thermal expansion occurs between the contact point with the holding part of the glass substrate and the non-contact part (non-contact part), and the expanded state is maintained only at the contact point with the holding part. Since it is condensed later than the other parts, distortion and warping are caused.

図1は、このような歪みや反りの原因を説明するための説明図である。ここでは、ガラス基板ホルダ100の複数の保持部110で形成されるスロットに、ガラス基板10が保持されている。歪みや反りは、ガラス基板の面内における温度分布が原因であり、その温度分布は、ガラス基板10と保持部110との温度変化の差から生じる。この温度変化の差は、筐体の体積(熱容量)と表面積とによる周囲媒体への熱の放出量(移動量)の違いがら生じ、従って、体積に対して表面積が大きいガラス基板の方が、所定の筐体強度を要し必然的に体積が大きくなるガラス基板ホルダと比較して冷却され易いこととなる。このようにしてガラス基板と保持部との間に温度変化の差が生じる。   FIG. 1 is an explanatory diagram for explaining the cause of such distortion and warpage. Here, glass substrate 10 is held in a slot formed by a plurality of holding portions 110 of glass substrate holder 100. The distortion and warpage are caused by the temperature distribution in the plane of the glass substrate, and the temperature distribution is caused by the difference in temperature change between the glass substrate 10 and the holding unit 110. This difference in temperature change is caused by the difference in the amount of heat released to the surrounding medium (amount of movement) due to the volume (heat capacity) and surface area of the housing. Therefore, the glass substrate having a larger surface area with respect to the volume, Compared with a glass substrate holder that requires a predetermined housing strength and inevitably increases in volume, it is easier to be cooled. In this way, a difference in temperature change occurs between the glass substrate and the holding part.

上記のような温度変化の差が生じると、今度は、ガラス基板ホルダ100からガラス基板10に保持部110を介して熱エネルギーの移動が生じる。従って、ガラス基板10の保持部110との接触領域112においては、冷却を妨げる方向に熱エネルギーが働き、ガラス基板10の接触点周辺の接触部分114では他の部分である非接触部分116より遅れて温度が低くなる。従って、ガラス基板10面内の温度分布や温度変化推移は不均一となる。   When the difference in temperature change as described above occurs, the heat energy is transferred from the glass substrate holder 100 to the glass substrate 10 via the holding unit 110. Accordingly, in the contact region 112 of the glass substrate 10 with the holding portion 110, thermal energy acts in a direction that hinders cooling, and the contact portion 114 around the contact point of the glass substrate 10 lags behind the other non-contact portion 116. Temperature decreases. Accordingly, the temperature distribution and the temperature change transition in the surface of the glass substrate 10 are not uniform.

図2は、ガラス基板10の底面を保持するように配置された保持部110の接触状態を説明するための図1AA’線における縦断面図である。ガラス基板10は、保持部110に載置されているに過ぎず、何ら固定されていないので、保持部110内で、ガラス基板主表面に直交する方向に遊びを有している。しかし、本実施形態によるV字溝が形成された保持部110には重力の働きによりガラス基板10の底面と2つの接触領域112で当接し、かつ、周囲には化学強化処理液118が充填される。従って、ガラス基板10の底面に配置された保持部110では、ガラス基板10との接触面積が非常に大きくなり、それに伴って冷却工程における熱エネルギーの移動が増大する。このような保持部110との温度変化の差が、ガラス基板10の面内における熱膨張差を生み、歪みや反りを起こす原因となる。   FIG. 2 is a longitudinal sectional view taken along the line AA ′ of FIG. 1 for explaining a contact state of the holding unit 110 arranged to hold the bottom surface of the glass substrate 10. Since the glass substrate 10 is merely placed on the holding unit 110 and is not fixed at all, the glass substrate 10 has play in the direction perpendicular to the main surface of the glass substrate in the holding unit 110. However, the holding part 110 formed with the V-shaped groove according to the present embodiment abuts on the bottom surface of the glass substrate 10 at the two contact areas 112 due to the action of gravity, and is filled with the chemical strengthening treatment liquid 118 around the periphery. The Therefore, in the holding part 110 arrange | positioned at the bottom face of the glass substrate 10, a contact area with the glass substrate 10 becomes very large, and the movement of the thermal energy in a cooling process increases in connection with it. Such a difference in temperature change with the holding unit 110 causes a difference in thermal expansion within the surface of the glass substrate 10 and causes distortion and warpage.

図3は、ガラス基板10の側面を保持するように配置された保持部110の接触状態を説明するための図1BB’線における横断面図である。この場合も、ガラス基板10は、保持部110に固定されていないので、保持部110の片側にのみ傾いて当接する。従って、接触領域112も片側一点となる。このような側面に配置された保持部110では、化学強化処理液118が重力により残留することもなく、図3に示すように表面張力による微少の化学強化処理液118のみが残存する。   FIG. 3 is a cross-sectional view taken along the line BB ′ of FIG. 1 for explaining the contact state of the holding unit 110 arranged to hold the side surface of the glass substrate 10. Also in this case, since the glass substrate 10 is not fixed to the holding unit 110, the glass substrate 10 is inclined and contacts only one side of the holding unit 110. Therefore, the contact area 112 is also one point on one side. In the holding part 110 arranged on such a side surface, the chemical strengthening treatment liquid 118 does not remain due to gravity, but only a minute chemical strengthening treatment liquid 118 due to surface tension remains as shown in FIG.

この場合、保持部110との接触面積が小さく、残存する化学強化処理液118の量も少ないので、一見歪みや反りも低減されるように思われる。しかし、歪みや反りは、温度変化がガラス基板10の表裏で相異する場合にも生じ得る。これは、保持部110との接触部分とその他の部分との熱膨張差による歪みのメカニズムと等しく、その対象が、ガラス基板10の外周端面の表側と裏側とに置き換わっただけである。   In this case, since the contact area with the holding part 110 is small and the amount of the remaining chemical strengthening treatment liquid 118 is also small, it seems that distortion and warping at first glance are reduced. However, distortion and warpage can also occur when temperature changes differ between the front and back surfaces of the glass substrate 10. This is equivalent to the mechanism of distortion due to the difference in thermal expansion between the contact portion with the holding portion 110 and other portions, and the object is merely replaced by the front side and the back side of the outer peripheral end surface of the glass substrate 10.

図4は、表裏の温度変化差でガラス基板10が歪むことを説明するための横断面図である。ガラス基板10は面120と面122とを有し、図4では、ガラス基板10の外周端面の面122側が保持部110に接触している。従って、面122側は、面120側に比べて冷却速度が遅れ、熱膨張された状態が維持されるので、図4のように面122側のみが基板半径方向に延伸し、面120方向に凹形状となる反りが発生する。干渉縞を測定するオプティカルフラットを通じてこの反りによる起伏を測定したところ、その値は、8nmにも及んでいる。従って、歪みや反りを防止するためには、ガラス基板10と保持部110との温度変化差と同様に、ガラス基板10の表裏面での温度変化差も考慮しなければならないことが理解できる。   FIG. 4 is a cross-sectional view for explaining that the glass substrate 10 is distorted due to a temperature change difference between the front and back sides. The glass substrate 10 has a surface 120 and a surface 122. In FIG. 4, the surface 122 side of the outer peripheral end surface of the glass substrate 10 is in contact with the holding unit 110. Accordingly, the surface 122 side has a slower cooling rate than the surface 120 side and maintains a state of thermal expansion. Therefore, only the surface 122 side extends in the substrate radial direction as shown in FIG. Warpage that becomes a concave shape occurs. When the undulation due to this warp is measured through an optical flat for measuring interference fringes, the value reaches 8 nm. Therefore, in order to prevent distortion and warpage, it can be understood that the temperature change difference between the front and back surfaces of the glass substrate 10 must be taken into account as well as the temperature change difference between the glass substrate 10 and the holding unit 110.

本願発明者は、歪みや反りの原因が、ガラス基板と保持部との大きな接触領域による熱の移動から生じていることに着目し、ガラス基板の特に主表面上に局所的に残存する化学強化処理液を速やかに取出できるようにガラス基板ホルダを構成することで、主表面から化学強化処理液を迅速かつ確実に除去できることを見出し、ガラス基板と保持部との接触面積を最小限に抑えることで、ガラス基板の歪みや反りを解消することを可能にした。ここでは、まず、化学強化工程後の冷却工程に用いる本実施形態のガラス基板ホルダ200を説明する。   The inventor of the present application pays attention to the fact that the cause of distortion and warpage is caused by the movement of heat due to the large contact area between the glass substrate and the holding part, and the chemical strengthening locally remaining on the main surface of the glass substrate. By configuring the glass substrate holder so that the processing liquid can be quickly removed, the chemical strengthening processing liquid can be quickly and reliably removed from the main surface, and the contact area between the glass substrate and the holding part can be minimized. This makes it possible to eliminate distortion and warpage of the glass substrate. Here, the glass substrate holder 200 of this embodiment used for the cooling process after a chemical strengthening process is demonstrated first.

(ガラス基板ホルダ200)
図5は、ガラス基板ホルダ200の構成を示した斜視図である。かかるガラス基板ホルダ200は、保持部210と、固定部220と、を含んで構成され、少なくとも冷却工程の間、ガラス基板10を保持する。
(Glass substrate holder 200)
FIG. 5 is a perspective view showing the configuration of the glass substrate holder 200. The glass substrate holder 200 includes a holding unit 210 and a fixing unit 220, and holds the glass substrate 10 at least during the cooling process.

かかるガラス基板ホルダ200は、冷却工程前段の化学強化工程にも併用されてもよいし、冷却工程のみ用いられるとしてもよい。換言すると、当該ガラス基板ホルダ200にガラス基板10を保持した状態で化学強化し、その後、そのガラス基板10が保持された状態を維持したまま冷却工程を行うとしてもよいし、化学強化工程後に、加熱されたガラス基板10を当該ガラス基板ホルダ200に移し替えて冷却工程を行うとしてもよい。かかる化学強化工程は、ガラス基板10全体を化学強化することを想定しているが、ガラス基板10の一部分、例えば、端面(面取り面も含む)のみ化学強化する場合や、主表面のみ化学強化することもできる。   Such a glass substrate holder 200 may be used in combination with a chemical strengthening process preceding the cooling process, or only the cooling process may be used. In other words, chemical strengthening may be performed while the glass substrate 10 is held in the glass substrate holder 200, and then the cooling process may be performed while maintaining the state where the glass substrate 10 is held. The heated glass substrate 10 may be transferred to the glass substrate holder 200 to perform the cooling process. The chemical strengthening process assumes that the entire glass substrate 10 is chemically strengthened. However, when only a part of the glass substrate 10, for example, an end face (including a chamfered surface) is chemically strengthened, only the main surface is chemically strengthened. You can also.

上記保持部210は、土台となる板材212を板状の薄板を湾曲させて形成し、膨出側の表面には突部が長手方向に向かって波状になるように複数形成され、膨出側の突部間に形成されたU字溝部に糸214をV字形状に張架して形成する。そして、かかるV字形状の糸214にガラス基板10を載置する。   The holding part 210 is formed by bending a plate-like thin plate 212 as a base, and a plurality of protrusions are formed on the surface of the bulging side so that the protrusions are wavy in the longitudinal direction. A thread 214 is stretched in a V shape in a U-shaped groove formed between the protrusions. Then, the glass substrate 10 is placed on the V-shaped thread 214.

上記糸214は、金属ワイヤで形成されてもよい。金属ワイヤは、耐環境性に強く、熱膨張率が低いため、化学強化における高温においても変形しない。また、経年による劣化が少ないため、長期間に渡って適切な弾性(張力)を維持できる。従って、煩雑なメンテナンスの回数を削減でき、安定して低粗さおよび平坦度に優れたガラス基板を供給することが可能となる。   The thread 214 may be formed of a metal wire. Since the metal wire is strong in environmental resistance and has a low coefficient of thermal expansion, it does not deform even at high temperatures in chemical strengthening. In addition, since there is little deterioration due to aging, appropriate elasticity (tension) can be maintained over a long period of time. Therefore, the number of complicated maintenance operations can be reduced, and a glass substrate excellent in low roughness and flatness can be supplied stably.

図6および図7は、保持部210がガラス基板10を保持する構造を詳細に示した縦断面図である。ここで、図6の(a)は、ガラス基板ホルダ200の底面における保持部210を、図7は、側面における保持部210を示している。図6(a)に示すように、板材212に張架されて形成された糸214は、ガラス基板10の主表面12と、主表面12と端面14との間に形成された面取面16との2つの境界部18における接触点を含む断面形状が略V字になるように形成される。このような保持部210の構造は側面においても同様に形成される(図7参照)。   6 and 7 are longitudinal sectional views showing in detail the structure in which the holding unit 210 holds the glass substrate 10. Here, FIG. 6A shows the holding unit 210 on the bottom surface of the glass substrate holder 200, and FIG. 7 shows the holding unit 210 on the side surface. As shown in FIG. 6A, the thread 214 formed by being stretched on the plate material 212 is composed of the main surface 12 of the glass substrate 10 and the chamfered surface 16 formed between the main surface 12 and the end surface 14. Are formed so that the cross-sectional shape including the contact point at the two boundary portions 18 is substantially V-shaped. Such a structure of the holding portion 210 is similarly formed on the side surface (see FIG. 7).

かかる構成により、ガラス基板10の特に主表面12上に局所的に残存する化学強化処理液を速やかに取出でき、主表面12から化学強化処理液を迅速かつ確実に除去することが可能となる。従って、ガラス基板10と保持部210とがより確実に点のみで接触することとなる。   With this configuration, the chemical strengthening treatment liquid remaining locally on the glass substrate 10, particularly on the main surface 12, can be quickly taken out, and the chemical strengthening treatment liquid can be quickly and reliably removed from the main surface 12. Accordingly, the glass substrate 10 and the holding unit 210 are more reliably in contact with each other only with a point.

また、図6(a)のように糸214を略V字形に形成することで、ガラス基板10が保持部210に垂直な方向から少し傾いたとしても境界部18との点接触が維持されるので、当該ガラス基板ホルダ200にガラス基板10を適当に配置したとしてもガラス基板10と保持部210との接触面積を最小限に維持することが可能となる。   Further, by forming the thread 214 in a substantially V shape as shown in FIG. 6A, even if the glass substrate 10 is slightly tilted from the direction perpendicular to the holding part 210, the point contact with the boundary part 18 is maintained. Therefore, even if the glass substrate 10 is appropriately arranged on the glass substrate holder 200, the contact area between the glass substrate 10 and the holding unit 210 can be kept to a minimum.

また、略V字形状に張架された糸214と境界部18との接触点における主表面12と糸214とのなす角20は45°未満であってもよい。   Further, the angle 20 formed by the main surface 12 and the yarn 214 at the contact point between the yarn 214 stretched in a substantially V shape and the boundary portion 18 may be less than 45 °.

本実施形態の面取面16は主表面12に対して45°の傾きを有して形成される。従って、主表面12と糸214とのなす角20を45°未満とすることで、ガラス基板10と糸214とが、面取面16もしくは主表面12に面もしくは線接触することなく境界部18のみに点接触する。   The chamfered surface 16 of the present embodiment is formed with an inclination of 45 ° with respect to the main surface 12. Therefore, by setting the angle 20 formed between the main surface 12 and the yarn 214 to be less than 45 °, the glass substrate 10 and the yarn 214 do not face or line contact with the chamfer 16 or the main surface 12. Only point contact.

さらに言えば、主表面12と糸214とのなす角20は、図6(b)に示すように22.5°とすることが望ましい。主表面12と糸214とのなす角20を22.5°とすることで、面取面16と糸214とのなす角22も22.5°となり、主表面12および面取面16と糸214との接触角が均等になる。従って、主表面12および面取面16と糸214との表面張力を最小限に抑えることができるので、残留する化学強化処理液を低減することができる。   Furthermore, it is desirable that the angle 20 formed by the main surface 12 and the thread 214 is 22.5 ° as shown in FIG. By setting the angle 20 formed between the main surface 12 and the thread 214 to 22.5 °, the angle 22 formed between the chamfered surface 16 and the thread 214 is also 22.5 °, and the main surface 12 and the chamfered surface 16 and the thread are aligned. The contact angle with 214 becomes uniform. Accordingly, since the surface tension between the main surface 12 and the chamfered surface 16 and the yarn 214 can be minimized, the remaining chemical strengthening treatment liquid can be reduced.

このようにガラス基板10の主表面12上に局所的に残存する化学強化処理液を速やかに取出することで、主表面12から化学強化処理液を迅速かつ確実に除去し、ガラス基板と保持部との間で化学強化処理液が固化するのを防止できる。また、接触面積を低減することで、ガラス基板10と保持部210との熱の移動を抑制する。こうして、ガラス基板10全体の温度変化を均一化することが可能となり、ガラス基板10に歪みや反りが生じるのを防止することができる。   In this way, the chemical strengthening treatment liquid locally remaining on the main surface 12 of the glass substrate 10 is quickly taken out, so that the chemical strengthening treatment liquid can be quickly and reliably removed from the main surface 12. It is possible to prevent the chemical strengthening treatment liquid from being solidified. Moreover, the movement of the heat | fever between the glass substrate 10 and the holding | maintenance part 210 is suppressed by reducing a contact area. Thus, it is possible to make the temperature change of the entire glass substrate 10 uniform, and it is possible to prevent the glass substrate 10 from being distorted or warped.

ここで、もし、ガラス基板10の面取面16と端面14との境界で保持した場合、糸214が浅い角度で交差することになるので、その表面張力により化学強化処理液が取出できず、多くの化学強化処理液が残留して固化することとなる。従って、糸214を、上述したように主表面12と面取面16との境界部18に当接することは本実施形態において非常に重要な意味を有している。   Here, if held at the boundary between the chamfered surface 16 and the end surface 14 of the glass substrate 10, the yarn 214 intersects at a shallow angle, so the chemical strengthening treatment liquid cannot be taken out due to its surface tension, Many chemical strengthening processing liquids remain and solidify. Therefore, it is very important in the present embodiment that the yarn 214 abuts on the boundary portion 18 between the main surface 12 and the chamfered surface 16 as described above.

また、糸214は、弾性を有するように張架していてもよい。保持部210に弾性を持たせることで、従来の剛体の保持部と比較して剛性が低減され、ガラス基板10の伸縮を吸収することが可能となり、ガラス基板10にかかる反作用力が低減される。   Further, the thread 214 may be stretched so as to have elasticity. By giving elasticity to the holding part 210, the rigidity is reduced as compared with the conventional rigid holding part, the expansion and contraction of the glass substrate 10 can be absorbed, and the reaction force applied to the glass substrate 10 is reduced. .

また、ガラス基板10をガラス基板ホルダ200に配する際の衝撃や、ガラス基板ホルダ200の移動等による振動がガラス基板10に伝達するのを緩和することが可能となり、ガラス基板10に不要な荷重をかけなくて済む。さらに、ガラス基板10の側面においては、図7に示すように保持部210の弾性によってガラス基板10が押圧固定され、ガラス基板ホルダ200内における遊びによって振動するのを防止することができる。   In addition, it is possible to mitigate the transmission of the glass substrate 10 to the glass substrate 10 due to the impact when the glass substrate 10 is arranged on the glass substrate holder 200, the movement of the glass substrate holder 200, and the like. No need to spend Furthermore, on the side surface of the glass substrate 10, as shown in FIG. 7, the glass substrate 10 is pressed and fixed by the elasticity of the holding portion 210, and it can be prevented from vibrating due to play in the glass substrate holder 200.

また、境界部18は、曲率半径(1/R)が5(=1/0.200mm)〜200(=1/0.005mm)の曲面にて形成され、糸214は境界部18の曲面に点接触してもよい。かかる構成により、ガラス基板10が少し傾いて糸214に当接したとしても境界部18との点接触が維持され、ガラス基板10と保持部210との接触面積を最小限に維持することが可能となる。   The boundary portion 18 is formed of a curved surface having a radius of curvature (1 / R) of 5 (= 1 / 0.200 mm) to 200 (= 1 / 0.005 mm), and the yarn 214 is formed on the curved surface of the boundary portion 18. You may make point contact. With this configuration, even if the glass substrate 10 is slightly tilted and abuts against the thread 214, the point contact with the boundary portion 18 is maintained, and the contact area between the glass substrate 10 and the holding portion 210 can be kept to a minimum. It becomes.

上記固定部220は、保持部210を固定する2枚の保持固定部222と、その保持固定部222の強度を高めるため、保持固定部222に連結される4枚の補強板224とから構成される。   The fixing part 220 includes two holding fixing parts 222 for fixing the holding part 210 and four reinforcing plates 224 connected to the holding fixing part 222 in order to increase the strength of the holding fixing part 222. The

以上説明したように、本実施形態の磁気ディスク用ガラス基板の製造方法では、ガラス基板ホルダ200の保持部210にガラス基板10を保持させた状態で、ガラス基板10を冷却する。このとき、ガラス基板10主表面に付着していた化学強化処理液は、糸214を辿って速やかに取出され、主表面12から化学強化処理液が迅速かつ確実に除去される。   As described above, in the method for manufacturing a magnetic disk glass substrate according to this embodiment, the glass substrate 10 is cooled in a state where the glass substrate 10 is held by the holding portion 210 of the glass substrate holder 200. At this time, the chemical strengthening treatment liquid adhering to the main surface of the glass substrate 10 is quickly taken out along the yarn 214, and the chemical strengthening treatment liquid is quickly and reliably removed from the main surface 12.

かかる構成により、ガラス基板10全体の冷却速度を均一化することが可能となり、ガラス基板に歪みや反りが生じるのを防止することができる。従って、優れた平坦度を有する磁気ディスク用ガラス基板を生成することができ、歩留まりを上げ、安定して高い生産性を得ることが可能となる。   With this configuration, the cooling rate of the entire glass substrate 10 can be made uniform, and distortion and warpage of the glass substrate can be prevented. Therefore, a magnetic disk glass substrate having excellent flatness can be produced, yield can be increased, and high productivity can be stably obtained.

また、上述した冷却工程のみならず、その前工程の化学強化工程においても、ガラス基板ホルダ200と接触している部分と、他の接触していない部分とで加熱速度の差が生じ、やはり、局所的な歪みや反りが発生する。このような歪みや反りは、磁気ディスク面上の微小な凸或いは凹形状となり、上述したサーマルアスペリティ障害を引き起こす原因となる。   Further, not only in the cooling step described above, but also in the chemical strengthening step in the previous step, a difference in heating rate occurs between the portion in contact with the glass substrate holder 200 and the other non-contact portion, Local distortion and warping occur. Such distortion or warpage becomes a minute convex or concave shape on the magnetic disk surface and causes the above-described thermal asperity failure.

化学強化工程においても、本実施形態のガラス基板ホルダ200を利用しガラス基板10と保持部210との接触面積を最小化することで、ガラス基板10と保持部210とを断熱し、ガラス基板10全体の温度変化を均一化することが可能となる。従って、化学強化工程においてもガラス基板に歪みや反りが生じるのを防止することができる。また、ここでは、ガラス基板10全体を化学強化することを前提にしているが、ガラス基板10を部分的に、例えば、端面14(面取面16を含んでもよい)のみを化学強化対象とすることもできる。   Also in the chemical strengthening step, the glass substrate 10 and the holding unit 210 are insulated by minimizing the contact area between the glass substrate 10 and the holding unit 210 by using the glass substrate holder 200 of the present embodiment. It becomes possible to make the whole temperature change uniform. Accordingly, it is possible to prevent the glass substrate from being distorted or warped even in the chemical strengthening step. Here, it is assumed that the entire glass substrate 10 is chemically strengthened, but the glass substrate 10 is partially targeted for chemical strengthening, for example, only the end surface 14 (which may include the chamfered surface 16). You can also.

こうして、LMR(水平磁気記録)ならびPWR(垂直磁気記録)型HDDにおける磁気ヘッドスライダーの浮上や擬似浮上走行特性に対する阻害を緩和し、さらに高い記録密度を実現することが可能となる。   In this way, it is possible to alleviate the obstruction of the magnetic head slider's flying and pseudo-levitation running characteristics in LMR (horizontal magnetic recording) and PWR (perpendicular magnetic recording) type HDDs, and to realize a higher recording density.

以下、上述した化学強化を行う化学強化工程や冷却工程の実施例を説明する。   Hereinafter, examples of the chemical strengthening process and the cooling process for performing the above-described chemical strengthening will be described.

[実施例1]
本実施例においては、以下の工程を経て、磁気ディスク用ガラス基板および磁気ディスクを製造した。特に、(6)化学強化工程および冷却工程では、本実施形態による化学強化工程および冷却工程が適用されている。
[Example 1]
In this example, a glass substrate for magnetic disk and a magnetic disk were manufactured through the following steps. In particular, in (6) the chemical strengthening step and the cooling step, the chemical strengthening step and the cooling step according to the present embodiment are applied.

(1)形状加工工程及び第1ラッピング工程
まず、溶融させたアルミノシリケートガラスを上型、下型、胴型を用いたダイレクトプレスによりディスク形状に成型し、アモルファスの板状ガラスを得た。なお、アルミノシリケートガラスとしては、化学強化用のガラスを使用した。ダイレクトプレス以外に、フュージョン法、ダウンドロー法、またはフロート法で形成したシートガラスから研削砥石で切り出して円盤状の磁気ディスク用ガラス基板を得てもよい。なお、アルミノシリケートガラスとしては、SiO:58〜75重量%、Al:5〜23重量%、LiO:3〜10重量%、NaO:4〜13重量%を主成分として含有する化学強化ガラスを使用した。また、上記ガラスとしてアルミノシリケートガラス以外にもソーダライムガラス等を用いることもできる。
(1) Shape processing step and first lapping step First, the melted aluminosilicate glass was molded into a disk shape by direct pressing using an upper die, a lower die, and a barrel die to obtain an amorphous plate glass. In addition, the glass for chemical strengthening was used as aluminosilicate glass. In addition to direct pressing, a disk-shaped glass substrate for a magnetic disk may be obtained by cutting a sheet glass formed by a fusion method, a downdraw method, or a float method with a grinding wheel. As the aluminosilicate glass, SiO 2: 58 to 75 wt%, Al 2 O 3: 5~23 wt%, Li 2 O: 3 to 10 wt%, Na 2 O: 4 to 13 principal component weight% Chemically strengthened glass contained as In addition to aluminosilicate glass, soda lime glass can be used as the glass.

次に、この板状ガラスの両主表面をラッピング加工し、ディスク状のガラス母材とした。このラッピング加工は、遊星歯車機構を利用した両面ラッピング装置により、アルミナ系遊離砥粒を用いて行った。具体的には、板状ガラスの両面に上下からラップ定盤を押圧させ、遊離砥粒を含む研削液を板状ガラスの主表面上に供給し、これらを相対的に移動させてラッピング加工を行った。このラッピング加工により、平坦な主表面を有するガラス母材を得た。   Next, both main surfaces of the plate glass were lapped to form a disk-shaped glass base material. This lapping process was performed using alumina free abrasive grains with a double-sided lapping apparatus using a planetary gear mechanism. Specifically, the lapping platen is pressed on both sides of the plate glass from above and below, the grinding liquid containing free abrasive grains is supplied onto the main surface of the plate glass, and these are moved relative to each other for lapping. went. By this lapping process, a glass base material having a flat main surface was obtained.

(2)切り出し工程(コアリング、フォーミング)
次に、ダイヤモンドカッタを用いてガラス母材を切断し、このガラス母材から、円盤状のガラス基板を切り出した。次に、円筒状のダイヤモンドドリルを用いて、このガラス基板の中心部に円孔を形成し、ドーナツ状のガラス基板とした(コアリング)。そして内周端面および外周端面をダイヤモンド砥石によって研削し、所定の面取り加工を施した(フォーミング)。
(2) Cutting process (coring, forming)
Next, the glass base material was cut using a diamond cutter, and a disk-shaped glass substrate was cut out from the glass base material. Next, using a cylindrical diamond drill, a circular hole was formed in the center of the glass substrate to obtain a donut-shaped glass substrate (coring). Then, the inner peripheral end face and the outer peripheral end face were ground with a diamond grindstone and subjected to predetermined chamfering (forming).

(3)第2ラッピング工程
次に、得られたガラス基板の両主表面について、第1ラッピング工程と同様に、第2ラッピング加工を行った。この第2ラッピング工程を行うことにより、前工程である切り出し工程や端面研磨工程において主表面に形成された微細な凹凸形状を予め除去しておくことができ、後続の主表面に対する研磨工程を短時間で完了させることができるようになる。
(3) Second Lapping Step Next, a second lapping process was performed on both main surfaces of the obtained glass substrate in the same manner as in the first lapping step. By performing this second lapping step, it is possible to remove in advance the fine unevenness formed on the main surface in the cutting step and end surface polishing step, which are the previous steps, and shorten the subsequent polishing step on the main surface. Will be able to be completed in time.

(4)端面研磨工程
次に、ガラス基板の端面について、ブラシ研磨方法により、鏡面研磨を行った。このとき、研磨砥粒としては、酸化セリウム砥粒を含むスラリー(遊離砥粒)を用いた。この端面研磨工程により、ガラス基板の端面は、パーティクル等の発塵を防止できる鏡面状態に加工された。
(4) End surface polishing process Next, the end surface of the glass substrate was mirror-polished by a brush polishing method. At this time, as the abrasive grains, a slurry (free abrasive grains) containing cerium oxide abrasive grains was used. By this end surface polishing step, the end surface of the glass substrate was processed into a mirror surface state capable of preventing generation of particles and the like.

(5)主表面研磨工程
主表面研磨工程として、まず第1研磨工程を施した。この第1研磨工程は、前述のラッピング工程において主表面に残留したキズや歪みの除去を主たる目的とするものである。この第1研磨工程においては、遊星歯車機構を有する両面研磨装置により、硬質樹脂ポリッシャを用いて、主表面の研磨を行った。研磨液としては、酸化セリウム砥粒を用いた。
(5) Main surface polishing step As the main surface polishing step, first, a first polishing step was performed. This first polishing step is mainly intended to remove scratches and distortions remaining on the main surface in the lapping step described above. In the first polishing step, the main surface was polished using a hard resin polisher by a double-side polishing apparatus having a planetary gear mechanism. As the polishing liquid, cerium oxide abrasive grains were used.

この第1研磨工程を終えたガラス基板を、中性洗剤、純水、IPA(イソプロピルアルコール)の各洗浄槽に順次浸漬して、洗浄した。   The glass substrate which finished this 1st grinding | polishing process was immersed in each washing tank of neutral detergent, a pure water, and IPA (isopropyl alcohol) one by one, and was wash | cleaned.

次に、主表面研磨工程として、第2研磨工程を施した。この第2研磨工程は、主表面を鏡面状に仕上げることを目的とする。この第2研磨工程においては、遊星歯車機構を有する両面研磨装置により、軟質発泡樹脂ポリッシャを用いて、主表面の鏡面研磨を行った。研磨液としては、第1研磨工程で用いた酸化セリウム砥粒よりも微細な酸化セリウム砥粒を用いた。   Next, a second polishing step was performed as the main surface polishing step. The purpose of this second polishing step is to finish the main surface into a mirror surface. In the second polishing step, mirror polishing of the main surface was performed using a soft foamed resin polisher by a double-side polishing apparatus having a planetary gear mechanism. As the polishing liquid, cerium oxide abrasive grains finer than the cerium oxide abrasive grains used in the first polishing step were used.

この第2研磨工程を終えたガラス基板を、中性洗剤、純水、IPAの各洗浄槽に順次浸漬して、洗浄した。なお、各洗浄槽には、超音波を印加した。   The glass substrate which finished this 2nd grinding | polishing process was immersed in each washing | cleaning tank of neutral detergent, a pure water, and IPA sequentially, and was wash | cleaned. Note that ultrasonic waves were applied to each cleaning tank.

(6)化学強化工程および冷却工程
次に、前述のラッピング工程及び研磨工程を終えたガラス基板に、化学強化を施した。このように化学強化を行うことにより、磁気ディスク基板の表層部に高い圧縮応力を生じさせることができ、耐衝撃性を向上させることができる。
(6) Chemical strengthening process and cooling process Next, the glass substrate which finished the above-mentioned lapping process and polishing process was chemically strengthened. By performing chemical strengthening in this way, a high compressive stress can be generated in the surface layer portion of the magnetic disk substrate, and the impact resistance can be improved.

化学強化は、硝酸カリウム(60%)と硝酸ナトリウム(40%)を混合した化学強化溶液を準備し、この化学強化溶液を400°Cに加熱しておくとともに、洗浄済みのガラス基板を300°Cに予熱し、化学強化溶液中に約3時間浸漬することによって行った。この浸漬の際には、本実施形態におけるガラス基板ホルダを適用した。かかるガラス基板ホルダは複数のガラス基板を端面で保持している。従って、ガラス基板の表面全体を化学強化させることができる。   For chemical strengthening, a chemical strengthening solution prepared by mixing potassium nitrate (60%) and sodium nitrate (40%) is prepared, and the chemically strengthened solution is heated to 400 ° C. and the cleaned glass substrate is heated to 300 ° C. The sample was preheated and immersed in a chemical strengthening solution for about 3 hours. In the immersion, the glass substrate holder in the present embodiment was applied. Such glass substrate holders hold a plurality of glass substrates at their end faces. Therefore, the entire surface of the glass substrate can be chemically strengthened.

このように、化学強化溶液に浸漬処理することによって、ガラス基板の表層のリチウムイオン及びナトリウムイオンが、化学強化溶液中のナトリウムイオン及びカリウムイオンにそれぞれ置換され、ガラス基板が強化される。ガラス基板の表層に形成された圧縮応力層の厚さは、約100μm〜200μmであった。   Thus, by immersing in a chemical strengthening solution, the lithium ion and sodium ion of the surface layer of a glass substrate are each substituted by the sodium ion and potassium ion in a chemical strengthening solution, and a glass substrate is strengthened. The thickness of the compressive stress layer formed on the surface layer of the glass substrate was about 100 μm to 200 μm.

かかる化学強化工程に本実施形態によるガラス基板ホルダを利用した場合、化学強化溶液中に浸漬されたガラス基板とガラス基板ホルダとの間に熱移動が生じないので、平坦度が良好なガラス基板が生成される。   When the glass substrate holder according to the present embodiment is used in such a chemical strengthening process, no heat transfer occurs between the glass substrate immersed in the chemical strengthening solution and the glass substrate holder, so that a glass substrate with good flatness is obtained. Generated.

続いて、化学強化工程を終えたガラス基板を、本実施形態のガラス基板ホルダに保持したまま、20°Cの水槽に浸漬して冷却し、約10分間維持した。そして、冷却を終えたガラス基板を、約40°Cに加熱した濃硫酸に浸漬して洗浄を行った。さらに、硫酸洗浄を終えたガラス基板を、純水、IPAの各洗浄槽に順次浸漬して洗浄した。なお、各洗浄槽には超音波を印加した。   Subsequently, the glass substrate after the chemical strengthening step was cooled by being immersed in a 20 ° C. water bath while being held in the glass substrate holder of the present embodiment, and maintained for about 10 minutes. And the glass substrate which finished cooling was immersed in the concentrated sulfuric acid heated at about 40 degreeC, and was wash | cleaned. Furthermore, the glass substrate that had been subjected to the sulfuric acid cleaning was sequentially immersed and cleaned in each of pure water and IPA cleaning tanks. In addition, ultrasonic waves were applied to each cleaning tank.

本実施形態によるガラス基板ホルダは、このような冷却工程においても、ガラス基板とガラス基板ホルダとの間に熱移動を生じさせないので、さらに平坦度が良好なガラス基板が生成される。   Since the glass substrate holder according to the present embodiment does not cause heat transfer between the glass substrate and the glass substrate holder even in such a cooling process, a glass substrate with a better flatness is generated.

[比較]
ここで、本実施形態により生成された磁気ディスクと、従来の比較例(本発明のガラス基板ホルダを用いることなく、冷却したもの)とを比較してワレやカケ・反り等により不良品と判定されたものの発生率を比較した。かかるワレやカケ・不良品は、サンプル数100,000に対して目視または測定器を用いて測定される。

Figure 0005036323
[Comparison]
Here, the magnetic disk generated according to the present embodiment is compared with a conventional comparative example (one that has been cooled without using the glass substrate holder of the present invention), and determined as defective due to cracks, chipping, warping, or the like. The incidence of those that were made was compared. Such cracks, chips, and defective products are measured visually or using a measuring device with respect to 100,000 samples.
Figure 0005036323

上記の如く、第1ラッピング工程、切り出し工程、第2ラッピング工程、端面研磨工程、主表面研磨工程、化学強化工程を施すことにより、平坦、かつ、平滑な、高剛性の磁気ディスク用ガラス基板を得た。   As described above, a flat, smooth, high-rigidity glass substrate for a magnetic disk is obtained by performing the first lapping step, the cutting step, the second lapping step, the end surface polishing step, the main surface polishing step, and the chemical strengthening step. Obtained.

(7)精密洗浄工程
次に、テクスチャーを形成した磁気ディスク用ガラス基板の精密洗浄を行った。これはヘッドクラッシュやサーマルアスペリティ障害の原因となる研磨剤残渣や外来の鉄系コンタミなどを除去し、表面が平滑で清浄なガラス基板を得るためのものである。精密洗浄工程としては、アルカリ性水溶液による洗浄の後に、水リンス洗浄、IPA洗浄工程を行った。
(7) Precision cleaning process Next, the glass substrate for magnetic disks in which the texture was formed was precisely cleaned. This is to remove abrasive residues and foreign iron-based contaminants that cause head crush and thermal asperity failure, and to obtain a glass substrate with a smooth surface and a clean surface. As a precision cleaning process, a water rinse cleaning and an IPA cleaning process were performed after cleaning with an alkaline aqueous solution.

(8)磁気ディスク製造工程
上述した工程を経て得られたガラス基板の両面に、ガラス基板の表面にCr合金からなる付着層、CoTaZr基合金からなる軟磁性層、Ruからなる下地層、CoCrPt基合金からなる垂直磁気記録層、水素化炭素からなる保護層、パーフルオロポリエーテルからなる潤滑層を順次成膜することにより、垂直磁気記録ディスクを製造した。なお、本構成は垂直磁気ディスクの構成の一例であるが、面内磁気ディスクとして磁性層等を構成してもよい。
(8) Magnetic disk manufacturing process On both surfaces of the glass substrate obtained through the above-described processes, an adhesion layer made of a Cr alloy, a soft magnetic layer made of a CoTaZr-based alloy, an underlayer made of Ru, and a CoCrPt group on the surface of the glass substrate A perpendicular magnetic recording disk was manufactured by sequentially forming a perpendicular magnetic recording layer made of an alloy, a protective layer made of hydrogenated carbon, and a lubricating layer made of perfluoropolyether. Although this configuration is an example of a configuration of a perpendicular magnetic disk, a magnetic layer or the like may be configured as an in-plane magnetic disk.

得られた磁気ディスクについて異物により磁性層等の膜に欠陥が発生していないことを確認した。また、グライドテストを実施したところ、ヒット(ヘッドが磁気ディスク表面の突起にかすること)やクラッシュ(ヘッドが磁気ディスク表面の突起に衝突すること)は認められなかった。さらに、磁気抵抗型ヘッドで再生試験を行ったところ、サーマルアスペリティによる再生の誤動作は認められなかった。   The obtained magnetic disk was confirmed to be free from defects in the film such as the magnetic layer due to foreign matter. In addition, when the glide test was performed, no hit (the head bited against the protrusion on the surface of the magnetic disk) or crash (the head collided with the protrusion on the surface of the magnetic disk) was not recognized. Furthermore, when a reproduction test was conducted with a magnetoresistive head, no malfunction of reproduction due to thermal asperity was found.

また、このように本実施形態のガラス基板ホルダを用いて磁気ディスク用ガラス基板を製造した場合と、比較例の方法にて製造されたガラス基板とをそれぞれ、磁気ディスクとした場合には、本実施形態によって製造されたガラス基板を用いて製造された磁気ディスクのほうがヘッドクラッシュ率が小さいことがわかった。   Further, when the glass substrate for the magnetic disk is manufactured using the glass substrate holder of the present embodiment and the glass substrate manufactured by the method of the comparative example is each a magnetic disk, It was found that the magnetic disk manufactured using the glass substrate manufactured according to the embodiment has a smaller head crash rate.

以上、添付図面を参照しながら本発明の好適な実施形態について説明したが、本発明は係る例に限定されないことは言うまでもない。当業者であれば、特許請求の範囲に記載された範疇内において、各種の変更例または修正例に想到し得ることは明らかであり、それらについても当然に本発明の技術的範囲に属するものと了解される。   As mentioned above, although preferred embodiment of this invention was described referring an accompanying drawing, it cannot be overemphasized that this invention is not limited to the example which concerns. It will be apparent to those skilled in the art that various changes and modifications can be made within the scope of the claims, and these are naturally within the technical scope of the present invention. Understood.

なお、本明細書の磁気ディスク用ガラス基板の製造方法における各工程は、必ずしも明細書中に記載された順序に沿って時系列に処理する必要はなく、並列的あるいは個別に実行される処理(例えば、並列処理あるいはオブジェクトによる処理)も含むとしても良い。   In addition, each process in the manufacturing method of the glass substrate for magnetic disks of this specification does not necessarily need to process in time series along the order described in the specification, and the process (in parallel or separately performed ( For example, parallel processing or object processing) may be included.

本発明は、化学強化工程またはその後の冷却工程を含む磁気ディスク用ガラス基板の製造方法、磁気ディスクの製造方法およびガラス基板ホルダに適用可能である。   The present invention is applicable to a method for manufacturing a glass substrate for a magnetic disk including a chemical strengthening step or a subsequent cooling step, a method for manufacturing a magnetic disk, and a glass substrate holder.

歪みや反りの原因を説明するための説明図である。It is explanatory drawing for demonstrating the cause of distortion and curvature. ガラス基板の底面を保持するように配置された保持部の接触状態を説明するための図1AA’線における縦断面図である。It is a longitudinal cross-sectional view in FIG. 1 AA 'line for demonstrating the contact state of the holding | maintenance part arrange | positioned so that the bottom face of a glass substrate may be hold | maintained. ガラス基板の側面を保持するように配置された保持部の接触状態を説明するための図1BB’線における横断面図である。It is a cross-sectional view in FIG. 1BB 'line for demonstrating the contact state of the holding part arrange | positioned so that the side surface of a glass substrate may be hold | maintained. 表裏の温度変化差でガラス基板が歪むことを説明するための横断面図である。It is a cross-sectional view for explaining that a glass substrate is distorted by a temperature change difference between the front and back sides. ガラス基板ホルダの構成を示した斜視図である。It is the perspective view which showed the structure of the glass substrate holder. 保持部がガラス基板を保持する構造を詳細に示した縦断面図である。It is the longitudinal cross-sectional view which showed in detail the structure where a holding | maintenance part hold | maintains a glass substrate. 保持部がガラス基板を保持する構造を詳細に示した縦断面図である。It is the longitudinal cross-sectional view which showed in detail the structure where a holding | maintenance part hold | maintains a glass substrate.

符号の説明Explanation of symbols

10 …ガラス基板
100 …ガラス基板ホルダ
110、210 …保持部
112 …接触領域
114 …接触部分
116 …非接触部分
118 …化学強化処理液
200 …ガラス基板ホルダ
214 …糸
DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 ... Glass substrate 100 ... Glass substrate holder 110, 210 ... Holding part 112 ... Contact area 114 ... Contact part 116 ... Non-contact part 118 ... Chemical strengthening process liquid 200 ... Glass substrate holder 214 ... Yarn

Claims (10)

化学強化塩を加熱溶解した化学強化処理液に円板状のガラス基板を浸漬しイオン交換させて該ガラス基板の化学強化を行う化学強化工程と、該化学強化工程によって熱を帯びたガラス基板をガラス基板ホルダに保持した状態で冷却する冷却工程と、を含む磁気ディスク用ガラス基板の製造方法であって、
前記ガラス基板ホルダの保持部は、弾性を有するように複数の糸を略V字形状に張架することで形成され、
前記糸が前記ガラス基板の主表面と外周面取面との境界部に当接し、点接触によって該ガラス基板を両側から保持することによって、前記冷却工程における前記ガラス基板全体の温度変化を均一化することを特徴とする、磁気ディスク用ガラス基板の製造方法。
A chemical strengthening step of chemically strengthening the glass substrate by immersing a disc-shaped glass substrate in a chemical strengthening treatment solution in which a chemically strengthened salt is dissolved by heating, and ion exchange, and a glass substrate heated by the chemical strengthening step A cooling step of cooling in a state of being held in a glass substrate holder, and a manufacturing method of a glass substrate for a magnetic disk comprising:
The holding part of the glass substrate holder is formed by stretching a plurality of threads in a substantially V shape so as to have elasticity,
The yarn comes into contact with the boundary between the main surface of the glass substrate and the outer chamfered surface, and the glass substrate is held from both sides by point contact, thereby uniformizing the temperature change of the entire glass substrate in the cooling step. A method for producing a glass substrate for a magnetic disk, comprising:
前記ガラス基板ホルダの保持部は、前記弾性によって前記ガラス基板を押圧固定することを特徴とする、請求項1に記載の磁気ディスク用ガラス基板の製造方法。The method of manufacturing a glass substrate for a magnetic disk according to claim 1, wherein the holding portion of the glass substrate holder presses and fixes the glass substrate by the elasticity. 少なくとも前記糸を前記ガラス基板外周の最下部の主表面と前記外周面取面との境界部に当接させることを特徴とする、請求項1または2に記載の磁気ディスク用ガラス基板の製造方法。  3. The method of manufacturing a glass substrate for a magnetic disk according to claim 1, wherein at least the yarn is brought into contact with a boundary portion between a lowermost main surface of the outer periphery of the glass substrate and the outer peripheral chamfered surface. . 記ガラス基板の主表面と前記糸とのなす角が45°未満であることを特徴とする、請求項1から3のいずれかに記載の磁気ディスク用ガラス基板の製造方法。 Wherein the angle between the yarn and the main surface of the front Symbol glass substrate is less than 45 °, the manufacturing method of the glass substrate according to any one of claims 1 to 3. 前記ガラス基板の主表面と前記糸とのなす角が、両側均等になっていることを特徴とする請求項4に記載の磁気ディスク用ガラス基板の製造方法。5. The method of manufacturing a glass substrate for a magnetic disk according to claim 4, wherein the angle formed between the main surface of the glass substrate and the yarn is equal on both sides. 前記糸は、金属ワイヤであることを特徴とする、請求項1〜5のいずれかに記載の磁気ディスク用ガラス基板の製造方法。 The method of manufacturing a glass substrate for a magnetic disk according to claim 1, wherein the yarn is a metal wire. 前記境界部は曲面にて形成され、前記保持部は該境界部の曲面に点接触することを特徴とする、請求項1〜のいずれかに記載の磁気ディスク用ガラス基板の製造方法。 The boundary portion is formed by a curved surface, the holding unit is characterized in that in point contact with the curved surface of the boundary portion, it claims 1-6 or method of manufacturing a glass substrate for a magnetic disk according to the. 当該磁気ディスク用ガラス基板の製造方法により得られたガラス基板の表面に、少なくとも磁性層を形成する工程を含むことを特徴とする、請求項1〜7のいずれかに記載の磁気ディスクの製造方法。   The method for producing a magnetic disk according to claim 1, comprising a step of forming at least a magnetic layer on the surface of the glass substrate obtained by the method for producing a glass substrate for a magnetic disk. . 化学強化塩を加熱溶解した化学強化処理液に円板状のガラス基板を浸漬しイオン交換させて該ガラス基板の化学強化を行った後に、該化学強化において熱を帯びたガラス基板を冷却するために用いられるガラス基板ホルダであって、
当該ガラス基板ホルダは、弾性を有するように複数の糸を略V字形状に張架することで形成される保持部を備え、
前記保持部は、前記糸が前記ガラス基板の主表面と外周面取面との境界部に当接し、点接触によって該ガラス基板を両側から保持することによって、前記冷却工程における前記ガラス基板全体の温度変化を均一化することを特徴とする、ガラス基板ホルダ。
In order to cool a glass substrate heated in the chemical strengthening after chemical strengthening of the glass substrate by immersing a disk-shaped glass substrate in a chemical strengthening treatment solution in which a chemically strengthened salt is dissolved by heating and exchanging ions. A glass substrate holder used for
The glass substrate holder includes a holding portion formed by stretching a plurality of threads in a substantially V shape so as to have elasticity,
The holding portion is configured such that the yarn contacts the boundary portion between the main surface and the outer peripheral chamfer of the glass substrate, and holds the glass substrate from both sides by point contact, so that the entire glass substrate in the cooling step is A glass substrate holder characterized by uniformizing temperature changes .
前記保持部は、長手方向に向かって波状になるように薄板を湾曲させ、該波状の薄板の膨出側の突部間のU字溝部に前記複数の糸を略V字形状に張架することで形成されることを特徴とする、請求項9に記載のガラス基板ホルダ。The holding portion bends the thin plate so as to have a wave shape in the longitudinal direction, and the plurality of threads are stretched in a substantially V shape in a U-shaped groove portion between the protruding portions on the bulging side of the wavy thin plate. The glass substrate holder according to claim 9, wherein the glass substrate holder is formed.
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