JP5034333B2 - 電子部品及び電子部品の製造方法 - Google Patents

電子部品及び電子部品の製造方法 Download PDF

Info

Publication number
JP5034333B2
JP5034333B2 JP2006166914A JP2006166914A JP5034333B2 JP 5034333 B2 JP5034333 B2 JP 5034333B2 JP 2006166914 A JP2006166914 A JP 2006166914A JP 2006166914 A JP2006166914 A JP 2006166914A JP 5034333 B2 JP5034333 B2 JP 5034333B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
cavity
getter
electronic component
deformed
portions
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Fee Related
Application number
JP2006166914A
Other languages
English (en)
Other versions
JP2007335695A (ja
Inventor
誠 岩島
正樹 廣田
最実 太田
康弘 福山
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Nissan Motor Co Ltd
Original Assignee
Nissan Motor Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Nissan Motor Co Ltd filed Critical Nissan Motor Co Ltd
Priority to JP2006166914A priority Critical patent/JP5034333B2/ja
Publication of JP2007335695A publication Critical patent/JP2007335695A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP5034333B2 publication Critical patent/JP5034333B2/ja
Expired - Fee Related legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L23/00Details of semiconductor or other solid state devices
    • H01L23/16Fillings or auxiliary members in containers or encapsulations, e.g. centering rings
    • H01L23/18Fillings characterised by the material, its physical or chemical properties, or its arrangement within the complete device
    • H01L23/26Fillings characterised by the material, its physical or chemical properties, or its arrangement within the complete device including materials for absorbing or reacting with moisture or other undesired substances, e.g. getters
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/0001Technical content checked by a classifier
    • H01L2924/0002Not covered by any one of groups H01L24/00, H01L24/00 and H01L2224/00

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Photometry And Measurement Of Optical Pulse Characteristics (AREA)

Description

本発明は、検出素子その他の素子が真空環境のキャビティ内に実装された電子部品及び電子部品の製造方法に関し、特に、加熱処理を行うことなくゲッターのガス吸着機能を発揮させる電子部品及び電子部品の製造方法に関する。
電子機器等を真空環境に保たれた筐体内にパッケージ収納する場合、パッケージ内を真空に保つ必要がある。この種の技術に関し、「ヒーター内蔵型」と呼ばれるゲッターを電力供給用のピン上に固定し、真空排気時或いは真空封止後に通電加熱してゲッターを活性化することにより、ガス吸着を行う技術が知られている(特許文献1参照)。また、シート型のゲッターをパッケージ内に配設し、真空封止時に加熱して活性化してからキャップ内に挿入する技術が知られている(特許文献2参照)。
しかしながら、特許文献1の技術に用いられるヒーター内蔵型のゲッターを用いる場合、一般に、ゲッター活性化に必要となる高温で5〜10分程度加熱を行わなければならず、素子、特に熱に弱い窓材の反射防止コーティングや半導体チップに熱障害を与えてしまうという問題があった。また、特許文献2の技術に用いられるシート型ゲッターの加熱による活性化は、真空中において行う必要があるため、真空パッケージの封止工程が複雑となり、長時間を要するという問題があった。
特開平9−229765号公報 特開2003−4524号公報
本発明は、加熱を行わずにゲッターの活性化が可能な電子部品及び電子部品の製造方法を提供することを目的とする。
<第1実施形態>
本発明の第1実施形態を図面に基づいて説明する。図1は、本発明の第1実施形態に係る電子部品100の構成を説明する図である。図1(A)は電子部品100の平面方向から見た概要図、図1(B)は、図1(A)に示すA−Aの断面概要図である。図1(A)に示すように、本実施形態の電子部品100は、素子20と、素子20が配置又は装着される筐体10とを有する。筐体10は、素子20が配置又は装着されるステム12とステム12とともにキャビティCを形成するキャップ11とを有する。本実施形態の筐体10は長方形の形状としたが、形状は特に限定されず、円筒形等であってもよい。
真空パッケージ内に配置される半導体素子は特に限定されないが、本実施形態では赤外線検出素子を用いる。本実施形態の素子20は赤外線検出素子20であり、ステム12に配置又は装着される。図1(B)に示すように、キャップ11には、赤外線検出素子20に対向する位置に赤外線透過窓6が設けられている。赤外線透過窓6は低融点ガラス等によりキャップ11に気密接合される。また、ステム12には、導電性のある端子4が貫設され、赤外線センサ(素子)20は、ステム12の平面に配置又は装着された状態で導電性のワイヤ3により電気的に接続されている。端子4はステム12に低融点ガラス等により気密接合される。
本実施形態の筐体10は、外力を与えると変形する変形部を有する。本実施形態の筐体10のキャップ11は、外力を与えると変形する変形部13A〜13Dを有する。図1(A)及び(B)に示すように、本実施形態の変形部13A〜13Dは、筐体10のキャップ11を形成する一般面に対してキャビティCの外側に向かって凸状に形成された部分である。この変形部13A〜13Dに、キャビティCの外側から内側に向かう方向の外力を加えると、凸形状の変形部13A〜13DはキャビティCの内側に凹んで変形する。変形部13A〜13Dが変形すると、変形部13のキャビティ内側の表面に外力が作用してその表面状態は変化する。特にキャビティCの外側に向かって凸状に形成された変形部13A〜13DがキャビティCの内側に向かって凸状に変形した場合は、変形部13A〜13DのキャビティC側の内壁側の表面が引き伸ばされる力が加わり、筐体10内部の応力により変形部13A〜13Dの内壁側の表面に亀裂や裂け目が生じるなどの表面状態の変化が生じる。ちなみに、変形部13は、本実施形態のように複数設けることが好ましいが、筐体10のどこかに1つの変形部13を設けてもよい。特に限定されないが、変形部13A〜13Dは、これらが設けられるキャップ11の一般面の板厚よりも薄くすることが好ましい。これにより、与えられた外力を変形部13A〜13Dに比較的集中させて、変形部13A〜13Dの変化を促し、表面状態の変化量を増大させることができる。
変形部13A〜13Dの少なくとも一部は、気体吸着機能を有するゲッターを含む材料で形成される。ゲッターは、気体吸着機能を備えた物質であればよく、例えばCa,Sr,Ba,Ni,Co、Rh,Pd,Al,Mn,Cu,またはKを含む金属材料を用いることができる。本実施形態では、これらの気体吸着機能を備えた金属を含む金属材料で変形部13A〜13Dの少なくとも一部を形成する。変形部13A〜13Dがキャップ11に設けられる場合には、キャップ11の変形部13A〜13Dの一部分又はキャップ11の全体をゲッター含有材料で作成してもよいし、変形部13A〜13Dがステム12に設けられる場合には、ステム12の変形部の一部分又はステム12の全体をゲッター含有材料で作成してもよいし、キャップ11及びステム12の全体をゲッター含有材料で作成してもよい。本実施形態では、キャップ11及びステム12の全体をゲッター含有材料で作成する。
本実施形態の変形部13A〜13DのキャビティC側の内壁側の表面には、1又は2以上の溝Gが形成されている。これにより、外力が変形部13A〜13Dに加わった場合に、内壁面の表面に亀裂や裂け目が生じやすくなる。溝Gの深さ及び幅は、特に限定されず、亀裂や裂け目の発生が補助できる深さ及び幅であることが好ましい。また、溝Gの深さ及び幅は、亀裂や裂け目により露出する未反応のゲッター含有材料の面積、露出する未反応のゲッター量、キャビティCの体積、キャビティC内に含まれる気体量に基づいて設定することが好ましい。また、溝Gの形成態様は特に限定されないが、図2(A)に示すように変形部13Aの略中心に対して同心円状及び放射状の溝を形成することが好ましい。これにより、変形部13Aに与えられた外力が均等に伝わり、亀裂や裂け目を広く発生させることができる。
また、溝Gの形状は、図2(A)に示すような複数の同心円の形状に設けてもよいし、図2(B)に示すような同心の多角形(16角形)の形状に設けてもよい。
次に、本実施形態の電子部品100の製造方法を図3に基づいて説明する。まず、ステップ1において、筐体10を構成するキャップ11及びベース12を準備する。少なくともキャップ11の変形部13A〜13Dが気体吸着機能を有するゲッター含有の材料で形成されるようにキャップ11を作成する。本実施形態ではキャップ11全体を、ゲッター含有材料で形成する。キャップ11は、図1(A)(B)に示す4つの変形部13A〜13Dと、赤外線透過窓6とを有する。ゲッターを含む金属板をプレス成形し、変形部13A〜13Dを有するキャップ11を得た後に、赤外線透過窓6を形成する。変形部13A〜13Dは真空封止後に外力を与えると変形するように、与える外力、筐体の構造を考慮して、形状、大きさ、位置、板厚を決定することが好ましい。同様に、ベース12はプレス成形して得る。その後ベースには端子4を挿設する。これらのキャップ11及びベース12の作成工程は大気中で行う。
ステップ2において、端子4が設けられたステム12上に、赤外線検出素子20をシリコン樹脂等のダイボンド剤でダイボンディング(接着)する。その後ステップ3において、赤外線検出素子20と端子4とを、アルミニウム等の導電性ワイヤ3でワイヤボンディング(配線)する。これらの工程は大気中で行われる。ステップ4では、赤外線検出素子6が実装されたステム12に赤外線透過窓6付きのキャップ11との間にキャビティCが形成されるように、キャップ11でステム12をキャッピングする。ステップ5では、真空中にて、赤外線検出素子6が実装されたステム12と赤外線透過窓6付きのキャップ11とを溶接等により真空封止する。続くステップ6では、再び大気中において、キャップ11に設けられた変形部13A〜13Dの凸部(外部側に凸形状となっている部分)に、キャビティC外側からキャビティC内側へ向かう(図中の矢印方向参照)外力を加える。この外力は機械的な外力であってもよいし、気圧差のよって生じる外力であってもよい。外力の付与手法は特に限定されないが、変形部13A〜13Dの凸部をポンチを介してキャビティCの外側から内側へ向けて押してもよいし、真空中において真空封止された筐体10を、所定の(相対的な)加圧雰囲気に置くことにより変形部に外力を与えてもよい。
外力が付与された筐体10の変形部13A〜13Dは変形する。たとえば、本実施形態の筐体10に設けられた変形部13A〜13Dは、与えられた外力により図4に示すようにキャビティC内部側へ向かって凸状に変形する。変形部13A〜13Dの変形により、変形部13A〜13DのキャビティC側の内壁側の表面が引き伸ばされる力が加わり、筐体10内部の応力により変形部13A〜13Dの内壁側の表面に亀裂や裂け目が生じるなどの表面状態の変化が生じる。
特に、変形部13A〜13Dの内壁側の表面に1又は2以上の溝が予め形成されている場合、変形部13A〜13Dに生じた引っ張り方向の応力の働きによって、これらの溝が深さ方向に裂かれ(拡開され)、この裂け目にゲッター含有材料(金属材料)の気体吸着機能を有する部分が表出する(キャビティC内に露出する)。この変化を図5に模式化して示した。図5の左側には加圧前の変形部13A〜13Dの断面模式図を示し、同図の右側には加圧後の13A〜13Dの断面模式図を示した。同図の左側に示す模式図のように、加圧前においては、変形部13A〜13Dの内壁側(キャビティC側)の表面に設けられた溝は、閉じられているか微小な角度で開いている。この変形部13A〜13DにキャビティC外側からキャビティC内側へ向かう(図中の矢印F方向参照)外力を加えると、変形部13A〜13Dの変形に伴い、溝Gの幅は同図右側に示す模式図のように拡開する。このように広げられた溝の表面には、気体に晒されていない(未反応の)気体吸着機能を有するゲッターが活性状態として露出する。露出した未反応の活性ゲッターは、キャビティC内の残留ガスを吸着するため、キャビティC内の真空度を維持することができる。ちなみに、溝Gを設けない場合であっても、変形部13A〜13Dの変形に伴い、変形部13A〜13Dのキャビティ側表面には亀裂や裂け目が生じるため、気体に晒されていない(未反応の)気体吸着機能を有するゲッターが活性状態として露出し、キャビティC内の残留ガスを吸着する。
このように、本発明の第1実施形態によれば、気体吸着機能を有するゲッターを含有する材料で形成されるとともに外力を与えると変形する変形部、たとえば一般面に対してキャビティCの外側に向かって凸状の変形部13を筐体10に設けたため、外力を付与することによりキャビティC内側に未反応の(気体吸着機能を有する)ゲッターを露出させることができ、加熱処理を必要とせずにゲッターを活性化することができる。
加熱処理を行うことなくゲッターを活性化できるため、電子部品の低価格化、電子部品の工程時間の短縮化を実現することができる。
また、本実施形態では別体のゲッターをキャビティC内に配置する必要がないため、電子部品100の筐体10の内部のレイアウトの自由度が向上する。特に、赤外線検出素子のように受光経路を確保する必要がある場合、すなわち、赤外線透過窓6から赤外線検出素子の受光面に至る空間に何も配置できない場合、本実施形態はゲッターをキャビティ内に配置する必要がないため、広い受光面を確保することができる。
<第2実施形態>
本発明の第2実施形態では、筐体に設けられた変形部の板厚が、筐体の他の面の板厚よりも薄い点、つまり、筐体の一般面の板厚よりも板厚が薄い変形部を筐体10に設けた点を特徴とする。以下、重複した説明を避けるため第1実施形態と共通する点については説明を省略し、異なる点を中心に説明する。
本発明の第2実施形態を図面に基づいて説明する。図6は、本発明の第2実施形態に係る電子部品100´の構成を説明する図である。図6(A)は電子部品100´の平面方向から見た概要図、図6(B)は、図6(A)に示すA−Aの断面概要図である。図6(A)及び(B)に示すように、本実施形態の電子部品100´は、素子20と、素子20が配置又は装着される筐体10´とを有する。筐体10´は、素子20が配置又は装着されるステム12´とステム12´とともにキャビティCを形成するキャップ11´とを有する。
第1実施形態と同様に、本実施形態の素子20も赤外線検出素子20であり、ステム12´に配置又は装着され、キャップ11´には、赤外線検出素子20に対向する位置に赤外線透過窓6が設けられている。赤外線透過窓6、キャップ11´、ステム12´、端子4、導電性ワイヤ3は、第1実施形態と同様に構成される。
本実施形態の筐体10´は、外力を与えると変形する変形部を有する。本実施形態の筐体10のキャップ11´は、外力を与えると変形する変形部13E〜13Hを有する。図6(A)及び(B)に示すように、本実施形態の変形部13E〜13Hの板厚は、キャップ11´の一般面の板厚よりも薄く形成されている。本実施形態の変形部13E〜13Hは、キャップ11´の壁面に対して平坦に形成されているが、第1実施形態のように筐体10´のキャップ11´を形成する一般面に対してキャビティCの外側に向かって凸状に形成してもよい。板厚が薄く形成された変形部13E〜13Hに、キャビティCの外側から内側に向かう方向の外力を加えると、変形部13E〜13HはキャビティCの内側に凹んで変形する。変形部13E〜13Hが変形すると、変形部13のキャビティC内側の表面に外力が作用してその表面状態は変化する。変形部13E〜13HがキャビティCの内側に向かって凸状に変形した場合、変形部13E〜13HのキャビティC側の内壁側の表面が引き伸ばされる力がより大きく加わり、筐体10´内部の応力により変形部13E〜13Hの内壁側の表面に亀裂や裂け目が生じるなどの表面状態の変化が生じる。ちなみに、変形部13は、本実施形態のように複数設けることが好ましいが、筐体10´のどこかに1つの変形部13を設けてもよい。
変形部13E〜13Hの少なくとも一部は、気体吸着機能を有するゲッターを含む材料で形成される。ゲッターは、第1実施形態と同様のものを利用し、同様に変形部及び筐体を形成することができる。また、変形部13E〜13HのキャビティC側の内壁側の表面には、第1実施形態と同様に、図2(A)及び(B)に示すものと同様の、1又は2以上の溝Gを形成することが好ましい。
本実施形態の電子部品100´の製造方法を図7に基づいて説明する。基本的な手順は図3に示した第1実施形態の製造方法と共通する。まず、ステップ1において、筐体10´を構成するキャップ11´及びベース12´を準備する。少なくともキャップ11´の変形部13E〜13Hは気体吸着機能を有するゲッター含有の材料を用いる。キャップ11´は、図6(A)(B)に示す4つの変形部13E〜13Hと、赤外線透過窓6とを有する。ゲッターを含む金属板を所定の金型を用いてプレス成形し、変形部13E〜13Hを有するキャップ11´を得た後に、赤外線透過窓6を形成する。変形部13E〜13Hの板厚は他の一般面の板厚よりも薄い。変形部13E〜13Hは真空封止後に外力を与えると変形するように、与える外力、筐体の構造を考慮して、形状、大きさ、位置、板厚を決定することが好ましい。同様にプレス成形したベース12´に端子4を挿設し、このステム12´上に、赤外線検出素子20をシリコン樹脂等のダイボンド剤でダイボンディング(接着)する(ステップ2)。その後赤外線検出素子20と端子4とを導電性ワイヤ3でワイヤボンディング(配線)する(ステップ3)。これらの工程は大気中で行われる。ステップ4では、赤外線検出素子6が実装されたステム12´を赤外線透過窓6付きのキャップ11でキャッピングする。ステップ5では、真空中にて、ステム12´とキャップ11´とを溶接等により真空封止する。続くステップ6では、再び大気中において、キャップ11´に設けられた変形部13E〜13Hに、キャビティC外側からキャビティC内側へ向かう(図中の矢印方向参照)外力を加える。この外力は機械的な外力であってもよいし、気圧差のよって生じる外力であってもよい。外力の付与手法は特に限定されないが、変形部13E〜13Hの凸部をキャビティCの外側から内側へ向けて押してもよいし、真空中において真空封止された筐体10´を、所定の加圧雰囲気の状態に置くことにより変形部に外力を与えてもよい。外力が付与された筐体10´の変形部13E〜13Hは変形する。たとえば、本実施形態の筐体10´に設けられた変形部13A〜13Dは他の一般面よりも薄い板厚であるため、与えられた外力により図8に示すようにキャビティC内部側へ向かって凸状に変形する。変形部13E〜13Hの変形により、変形部13E〜13HのキャビティC側の内壁側の表面が引き伸ばされる力が加わり、筐体10´内部応力により変形部13E〜13Hの内壁側の表面に亀裂や裂け目が生じるなどの表面状態の変化が生じる。
特に、変形部13E〜13Hの内壁側の表面に1又は2以上の溝が予め形成されている場合、変形部13E〜13Hに生じた引っ張り方向の応力の働きによって、これらの溝が深さ方向に裂かれ(拡開され)、この裂け目にゲッター含有材料(金属材料)の気体吸着機能を有する部分が表出する(キャビティC内に露出する)。この変化を図9に模式化して示した。図9の左側には加圧前の変形部13E〜13Hの断面模式図を示し、同図の右側には加圧後の13E〜13Hの断面模式図を示した。同図の左側に示す模式図のように、加圧前においては、変形部13E〜13Hの内壁側(キャビティC側)の表面に設けられた溝は、閉じられているか微小な角度で開いている。この変形部13E〜13HにキャビティC外側からキャビティC内側へ向かう(図中の矢印F方向参照)外力を加えると、変形部13E〜13Hの変形に伴い、溝Gは同図右側に示す模式図のように拡開する。このように広げられた溝の表面には、気体に晒されていない(未反応の)気体吸着機能を有するゲッターが活性状態として露出する。露出した未反応の活性ゲッターは、キャビティC内の残留ガスを吸着するため、キャビティC内の真空度を維持することができる。
このように、本発明の第2実施形態によれば、気体吸着機能を有するゲッターを含有する材料で形成されるとともに外力を与えると変形する変形部13、たとえば、板厚が筐体10´の一般面よりも薄い変形部13E〜13Hを筐体10´に設けたため、外力を付与することによりキャビティC内側に未反応の(気体吸着機能を有する)ゲッターを露出させることができ、加熱処理を必要とせずにゲッターを活性化することができる。これにより、第1実施形態と同様の効果を得ることができる。
<第3実施形態>
本実施形態は、外力を与えると変形する第1実施形態のような変形部13A〜13D又は第2実施形態のような変形部13E〜13Hのキャビティ内側面の少なくとも一部に、気体吸着機能を有するゲッターを含む材料からなるゲッター層Lが形成されている点を特徴とする。ゲッター層Lは、キャビティ内側面の気体吸着機能を有するゲッターを含む部分であり、層の厚さや、ゲッターの分布などは限定されない。本実施形態では、変形部13A〜13Dのキャビティ内部側面の少なくとも一部にゲッター層Lを形成するため、筐体10全体、キャップ11´全体、又はステム12´全体をゲッター含有材料で形成しなくてもよく、製造コストを低減させることができる。ゲッター層Lの製造手法は特に限定されず、既知の物理蒸着法(PVD法)、化学蒸着法(CVD法)その他の気相蒸着法を用いて形成することができる。
ゲッター層Lは、図1に示す第1実施形態の変形部13A〜13Dのキャビティ内部側面又は図6に示す第1実施形態の変形部13E〜13Hのキャビティ内部側面に形成する。図10(A)(B)に、変形部13A〜13D又は変形部13E〜13Hのキャビティ内側面に形成したゲッター層Lを模式的に示した。図10(A)(B)に示すように、本実施形態では、ゲッター層LのキャビティC側の表面に溝を形成することが好ましい。この溝は、第1実施形態及び第2実施形態において形成する溝と同様に、図10(A)に示すような複数の同心円の形状であってもよいし、図10(B)に示すような同心の多角形(16角形)の形状であってもよい。
キャビティCの外側に凸状の変形部(図1に示す変形部13A〜13D)のキャビティ内側にゲッター層L及び溝Gを設けた場合の変形部13の変化を図11(A)に示した。図11(A)の左側には加圧前の変形部13A〜13Dの断面模式図を示し、同図の右側には加圧後の変形部13A〜13Dの断面模式図を示した。同図の左側に示す模式図のように、加圧前においては、変形部13A〜13Dの内壁側(キャビティC側)に形成されたゲッター層Lの表面に設けられた溝は、閉じられているか微小な角度で開いている。この変形部13A〜13DにキャビティC外側からキャビティC内側へ向かう(図中の矢印F方向参照)外力を加えると、変形部13A〜13Dの変形に伴い、溝Gは同図右側に示す模式図のように拡開する。このように広げられたゲッター層Lの溝の表面には、気体に晒されていない(未反応の)気体吸着機能を有するゲッターが活性状態として露出する。露出した未反応の活性ゲッターは、キャビティC内の残留ガスを吸着するため、キャビティC内の真空度を維持することができる。
その板厚が筐体10の一般面の板厚よりも薄い変形部(図6に示す変形部13E〜13H)のキャビティ内側にゲッター層L及び溝Gを設けた場合の変形部の変化を図11(B)に示した。図11(B)の左側には加圧前の変形部13E〜13Hの断面模式図を示し、同図の右側には加圧後の変形部13E〜13Hの断面模式図を示した。同図の左側に示す模式図のように、加圧前においては、変形部13E〜13Hの内壁側(キャビティC側)に形成されたゲッター層Lの表面に設けられた溝は、閉じられているか微小な角度で開いている。この変形部13E〜13HにキャビティC外側からキャビティC内側へ向かう(図中の矢印F方向参照)外力を加えると、変形部13E〜13Hの変形に伴い、溝Gは同図右側に示す模式図のように拡開する。このように広げられたゲッター層Lの溝の表面には、気体に晒されていない(未反応の)気体吸着機能を有するゲッターが活性状態として露出する。露出した未反応の活性ゲッターは、キャビティC内の残留ガスを吸着するため、キャビティC内の真空度を維持することができる。
このように、本発明の第3実施形態によれば、に外力を与えると変形する変形部13を設けるとともに、変形部13のキャビティC内側の表面に気体吸着機能を有するゲッターを含有するゲッター層Lを形成したため、外力を付与することによりキャビティC内側に未反応の(気体吸着機能を有する)ゲッターを露出させることができ、加熱処理を必要とせずにゲッターを活性化することができる。これにより、第1実施形態、第2実施形態と同様の効果を得ることができる
なお、以上説明した実施形態は、本発明の理解を容易にするために記載されたものであって、本発明を限定するために記載されたものではない。したがって、上記の実施形態に開示された各要素は、本発明の技術的範囲に属する全ての設計変更や均等物をも含む趣旨である。
図1(A)は第1実施形態の電子部品の平面図、図1(B)は第1実施形態の電子部品のA−A断面概要図である。 図2(A)は変形部のキャビティ内側の表面に設けられた溝の一例を示す図であり、図2(B)は他の例を示す図である。 第1実施形態の電子部品の製造方法を説明する図である。 第1実施形態の筐体に外力を付与した場合の状態を示す図である。 第1実施形態の変形部に外力を付与する前の溝の状態と、外力を付与した後の溝の状態を説明するための図である。 図6(A)は第2実施形態の電子部品の平面図、図6(B)は第2実施形態の電子部品のA−A断面概要図である。 第2実施形態の電子部品の製造方法を説明する図である。 第2実施形態の筐体に外力を付与した場合の状態を示す図である。 第2実施形態の変形部に外力を付与する前の溝の状態と、外力を付与した後の溝の状態を説明するための図である。 図10(A)はゲッター層、及びゲッター層のキャビティ内側の表面に設けられた溝の一例を示す図であり、図10(B)はそれらの他の例を示す図である。 図11(A)は第1実施形態の変形部にゲッター層を形成し外力を付与する前の溝の状態と、外力を付与した後の溝の状態を説明するための図である。
符号の説明
100,100´…電子部品
20,20´…素子
10,10´…筐体
11,11´…キャップ
12,12´…ステム
13A〜13H…変形部
3…導電性ワイヤ
4…端子
6…赤外線透過窓
G…溝
L…ゲッター層

Claims (7)

  1. 素子と、
    前記素子が配置又は装着される略真空雰囲気のキャビティを形成する筐体とを有し、
    前記筐体は、外力を与えると変形する変形部を有し、当該変形部のキャビティ内部側面の少なくとも一部には、気体吸着機能を有するゲッターを含む材料のゲッター層が形成され
    前記ゲッター層のキャビティ側の表面には1又は2以上の溝が形成されている電子部品。
  2. 前記溝は、前記変形部の略中心に対して同心円状又は放射状に形成されている請求項1に記載の電子部品。
  3. 前記変形部は、前記筐体の一般面に対して前記キャビティの外側に向かって凸状である請求項1又は2に記載の電子部品。
  4. 前記変形部の板厚は、前記筐体の一般面の板厚よりも薄い請求項1〜3の何れか一項に記載の電子部品。
  5. 前記変形部は、与えられた外力により前記キャビティ内部側に向かって凸状に変形する請求項1〜4の何れか一項に記載の電子部品。
  6. 素子を準備し、
    略真空雰囲気のキャビティが形成可能であって、外力を与えると変形する変形部を有する筐体を準備し、
    前記変形部のキャビティ内部側面の少なくとも一部に、気体吸着機能を有するゲッターを含む材料のゲッター層を形成するとともに、前記ゲッター層のキャビティ側の表面に1又は2以上の溝を形成し、
    前記筐体に前記素子を配置又は装着し、
    前記素子が配置又は装着されたキャビティ内部を略真空雰囲気とし、
    外力を与えて前記変形部を変形させる電子部品の製造方法。
  7. 前記溝は、前記変形部の略中心に対して同心円状又は放射状に形成されている請求項6に記載の電子部品の製造方法。

JP2006166914A 2006-06-16 2006-06-16 電子部品及び電子部品の製造方法 Expired - Fee Related JP5034333B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2006166914A JP5034333B2 (ja) 2006-06-16 2006-06-16 電子部品及び電子部品の製造方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2006166914A JP5034333B2 (ja) 2006-06-16 2006-06-16 電子部品及び電子部品の製造方法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2007335695A JP2007335695A (ja) 2007-12-27
JP5034333B2 true JP5034333B2 (ja) 2012-09-26

Family

ID=38934860

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2006166914A Expired - Fee Related JP5034333B2 (ja) 2006-06-16 2006-06-16 電子部品及び電子部品の製造方法

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP5034333B2 (ja)

Family Cites Families (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS60194544A (ja) * 1984-03-16 1985-10-03 Nec Corp 半導体装置
JP3201180B2 (ja) * 1994-10-21 2001-08-20 株式会社村田製作所 電子部品のシール構造
JP4483112B2 (ja) * 2001-03-22 2010-06-16 アイシン精機株式会社 パッケージの真空封止方法

Also Published As

Publication number Publication date
JP2007335695A (ja) 2007-12-27

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US7358106B2 (en) Hermetic MEMS package and method of manufacture
JP5781288B2 (ja) ゲッタ材料からなる接着界面を備えるキャビティ構造
EP3172547B1 (en) Cmos pressure sensor with getter using ti-w wire embedded in membrane
US8999762B2 (en) Process for encapsulating a micro-device by attaching a cap and depositing getter through the cap
JP5293655B2 (ja) ウェハレベルパッケージ構造体、センサエレメント、センサデバイス、及びそれらの製造方法
US7595223B2 (en) Process for bonding and electrically connecting microsystems integrated in several distinct substrates
TW201018640A (en) Encapsulation, mems and encapsulation method
JP4844322B2 (ja) 真空封止デバイスの製造方法
JP2008139315A (ja) 放射線センサ
US20100051810A1 (en) Micromechanical component and corresponding production method
JP5034333B2 (ja) 電子部品及び電子部品の製造方法
US9988261B2 (en) Micromechanical device and method for manufacturing a micromechanical device
WO2011118786A1 (ja) ガラス埋込シリコン基板の製造方法
JP2007509320A5 (ja)
CN102556944B (zh) Mems装置的制作方法
JP2016008935A (ja) 半導体装置およびその製造方法
US20170152137A1 (en) Method for encapsulating a microelectronic device with a release hole of variable dimension
CN112047295A (zh) 产生具有玻璃盖的mems装置和mems装置
JP5444783B2 (ja) 微小デバイス
CN112456431A (zh) 一种微机电系统装置的封装系统及其加工方法
JP5982972B2 (ja) 真空パッケージ、センサ、および真空パッケージの製造方法
KR101073560B1 (ko) 마스크 및 이를 이용한 표시 장치의 제조 방법
JP2013254916A (ja) 電子部品およびその製造方法
JP6036113B2 (ja) 気密封止構造の製造方法
EP2736071B1 (en) Wafer level package with getter

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20090325

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20090828

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20111122

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20111228

RD02 Notification of acceptance of power of attorney

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7422

Effective date: 20111228

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20120605

A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20120618

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20150713

Year of fee payment: 3

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees