JP5030944B2 - マイクロリソグラフィ露光装置のための照明システム - Google Patents
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Description
本出願は、2005年4月26日に出願された米国特許仮出願第60/674691号の米国特許法第119条(e)の(1)の下での利益を主張するものである。
sin(α)=p/((1+Δx)・f)
で定義される。ここで、fは集光装置601の焦点距離であり、αは視野平面62内の任意の照明結像点に入射する光線の入射角度であり、pは集光装置の光軸26と光線が瞳平面54を通過する瞳点との間の距離である。瞳平面54内の軸上の点についてはp=0であり、結果として直角入射につながる。瞳の直径上の瞳点についてはp=pmaxであり、αもまたその最大値αmaxを有する(図3参照)。理想では、すべての入射角度について、およびすべての結像点についてもやはり正弦条件が完全に満たされる(すなわちΔx=0)。
Claims (24)
- マイクロリソグラフィ投影露光装置(10)の照明システム(12)であって、
a)瞳平面(54)と、
b)視野平面(62)と、
c)前記瞳平面(54)を前記視野平面に変換する集光装置(606)と、
d)前記視野平面(62)をマスク平面(68)上に結像させる視野絞り対物レンズ(666;666’)とを有し、前記視野絞り対物レンズ(666;666’)が少なくとも部分的に前記集光装置(606)の残存瞳収差を補正し、
前記視野絞り対物レンズ(666;666’)の瞳平面(67)内または密接した近傍に位置付けられる、二重反射光を遮蔽するための隔膜(69)を更に有する
照明システム。 - a)前記集光装置(606)が最大テレセントリック誤差角度αcを有し、
b)前記視野絞り対物レンズ(666;666’)が像側の最大テレセントリック誤差角度αo<0.8・αcを有する請求項1に記載の照明システム(12)。 - αo<0.5・αcである請求項2に記載の照明システム。
- αo<0.3・αcである請求項3に記載の照明システム。
- αo<0.5mradである請求項2から4のいずれかに記載の照明システム。
- 前記視野絞り対物レンズ(666;666’)がhmax・NAi>15mmである像側開口数NAiおよび最大像高さhmaxを有する請求項1から5のいずれかに記載の照明システム。
- 前記集光装置(606)が少なくとも4個のメニスカス・レンズ(L62、L63、L64、L65)を有する請求項1から6のいずれかに記載の照明システム。
- 散乱光を遮蔽するための隔膜(69a;69b;69c;69d)を有する請求項1から7のいずれかに記載の照明システム。
- 投影光が沿って伝搬する伝搬方向で見ると前記隔膜(69a;69b;69c)が、前記投影光の角度分布を変えるために調節可能であるいずれの光学素子(118、50、52)よりも前の位置に配置される請求項8に記載の照明システム。
- 前記調節可能な光学素子(118、50、52)が光軸(26)に沿って移動可能である請求項9に記載の照明システム。
- 前記調節可能な光学素子がズーム対物レンズ(46)のうちのレンズ(118)である請求項10に記載の照明システム。
- 前記照明システム(12’)が、幾何光学的線束を増大させる第1の光学素子である光学的ラスタ素子(34)を含み、前記投影光が沿って伝搬する伝搬方向で見ると前記隔膜(69c)が前記光学的ラスタ素子(34)の前段に位置付けられる請求項8から11のいずれかに記載の照明システム。
- 投影光を偏光するための偏光器(116)を有し、前記投影光が沿って伝搬する伝搬方向で見ると前記隔膜(69a;69b)が前記偏光器(116)の前段に位置付けられる請求項8から12のいずれかに記載の照明システム。
- 投影光を偏光解消するための偏光解消器(116)を有し、前記投影光が沿って伝搬する伝搬方向で見ると前記隔膜(69a;69b)が前記偏光解消器(116)の前段に位置付けられる請求項8から12のいずれかに記載の照明システム。
- 前記隔膜(69a;69d)が可変の開口を有する請求項8から14のいずれかに記載の照明システム。
- 前記隔膜(69a;69d)の開口を変えるための調節メカニズムを有する請求項15に記載の照明システム。
- 前記隔膜(69b;69c)が、投影光にとって不透明であり、かつ投影光が通って伝搬するかまたは反射される光学素子(116;34)に貼付される層によって形成される請求項8から14のいずれかに記載の照明システム。
- a)前記集光装置(606)が、前記視野平面(62)の直ぐ隣に配置されてd1<r1<2.5・d1で曲率半径r1と前記視野平面からの軸方向距離d1を有する第1の凹面光学面を有し、
b)前記視野絞り対物レンズ(666;666’)が、前記視野平面(62)の直ぐ隣に配置されてd2<r2<2.5・d2で曲率半径r2と前記視野平面からの軸方向距離d2とを有する第2の凹面光学面を有する請求項1から17のいずれかに記載の照明システム。 - 前記視野平面(62)からの前記視野絞り対物レンズ(666;666’)の作動距離が10mmと90mmの間である請求項18に記載の照明システム。
- 前記曲率半径r1が80mmよりも大きい請求項18または19に記載の照明システム。
- 前記曲率半径r2が80mmよりも大きい請求項18から20のいずれかに記載の照明システム。
- a)前記集光装置(606)が、前記瞳平面(54)に入るコリメートされた光束を1.2mm未満のスポット径を有する前記視野平面(62)内のスポットに焦点を合わせ、 b)前記視野絞り対物レンズ(64)が前記視野平面(62)内の点を0.4mm未満のスポット径を備えたスポットとしてマスク(16)上に結像させる請求項1から21のいずれかに記載の照明システム。
- 請求項1から22のいずれかに記載の照明システム(12)を有する、マイクロリソグラフィ投影露光装置。
- 微細構造のデバイスを製作するマイクロリソグラフィ方法であって、
a)感光層(22)を担持する基板(24)を供給する工程と、
b)前記感光層(22)上に結像させられるべき構造(18)を有するマスク(16)を供給する工程と、
c)請求項1から23のいずれかに記載の照明システム(12)を有する投影露光装置(10)を供給する工程と、
d)前記マスク(16)の少なくとも一部を前記感光層(22)上に投影する工程とを含む方法。
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