JP5029291B2 - Resin composition for multilayer printed wiring board, prepreg, laminate, multilayer printed wiring board, and semiconductor device - Google Patents

Resin composition for multilayer printed wiring board, prepreg, laminate, multilayer printed wiring board, and semiconductor device Download PDF

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Description

本発明は、多層プリント配線板用樹脂組成物、プリプレグ、積層板、多層プリント配線板、及び半導体装置に関するものである。 The present invention relates to a resin composition for multilayer printed wiring boards, a prepreg, a laminated board, a multilayer printed wiring board, and a semiconductor device.

近年、前記多層プリント配線板は、電気・電子機器の小型、薄型化に伴い、様々な特性が必要とされている。
例えば、半導体搭載用パッケージ等の用途に用いられる多層プリント配線板は、黒色を基調とするものが主流となっている。多層プリント配線板を黒色にする手法の一つに、多層プリント配線板を構成する樹脂組成物に黒色の有機着色剤等を配合する手法が知られている。
しかしながら、これら有機着色剤は一般的に有機溶剤に対する溶解性が低いことから、多層プリント配線板を構成する樹脂組成物が均一な色にできない問題があった。
そのため、有機着色剤を含む樹脂組成物を用いてなるプリプレグ、又は絶縁樹脂シートは、外観に凝集物やムラが発生する問題があった。
また、近年の電気・電子機器の小型、薄型化に伴いプリプレグ、又は絶縁樹脂シートが薄くなることで、外観に凝集物やムラがより顕著に現れるようになった。
特開2001-163969
In recent years, the multilayer printed wiring board is required to have various characteristics as electric and electronic devices become smaller and thinner.
For example, multilayer printed wiring boards used for applications such as semiconductor mounting packages are mainly based on black. As one of methods for making a multilayer printed wiring board black, a method of blending a black organic colorant or the like with a resin composition constituting the multilayer printed wiring board is known.
However, since these organic colorants generally have low solubility in organic solvents, there has been a problem that the resin composition constituting the multilayer printed wiring board cannot have a uniform color.
Therefore, the prepreg or the insulating resin sheet using the resin composition containing the organic colorant has a problem that aggregates and unevenness are generated in appearance.
In addition, with the recent reduction in size and thickness of electric and electronic devices, the prepreg or the insulating resin sheet becomes thinner, and thus aggregates and unevenness appear more noticeably in the appearance.
JP 2001-163969 A

本発明は、溶剤溶解性の低い着色剤、無機充填剤を含有しても、均一な多層プリント配線板用樹脂組成物を提供するものであり、また当該多層プリント配線板用樹脂組成物を用いた凝集物が無く、外観上ムラがないプリプレグ、及び樹脂シートを提供するものである。   The present invention provides a uniform resin composition for a multilayer printed wiring board even if it contains a colorant or an inorganic filler having low solvent solubility, and uses the resin composition for a multilayer printed wiring board. The present invention provides a prepreg and a resin sheet that are free from aggregates and have no uneven appearance.

このような目的は下記[1]〜[10]により達成される。
[1](A)軟化点、又は融点が50℃以下の熱硬化性樹脂に、(B)有機着色剤を、(A)熱硬化性樹脂の軟化点、又は融点以上の温度で加熱溶融混合させてなる溶融混合物を、(C)有機溶剤と(D)無機充填剤とを混合してなるスラリーに分散させてなることを特徴とする多層プリント配線板用樹脂組成物。
[2]前記(B)有機着色剤は、260℃における昇華、又は分解による重量減少が10%以下である[1]に記載の多層プリント配線板用樹脂組成物。
[3]前記(B)有機着色剤は、アントラキノン系化合物である[1]または[2]に記載の多層プリント配線板用樹脂組成物。
]前記(D)無機充填材は、水酸化マグネシウム、水酸化アルミニウム、シリカ、タルク、焼成タルク、及びアルミナからなる群より選ばれた少なくとも1種類以上を含むものである[1]ないし[3]のいずれかに記載の多層プリント配線板用樹脂組成物。
][1]ないし[]のいずれかに記載の多層プリント配線板用樹脂組成物からなる絶縁樹脂層を熱可塑性樹脂フィルム上、または金属箔上に形成してなる絶縁樹脂シート。
][1]ないし[]のいずれかに記載の多層プリント配線板用樹脂組成物を基材に含浸させてなるプリプレグ。
][]に記載のプリプレグを1枚以上重ね合わせ加熱加圧成形してなる積層板。
][]に記載の積層板を内層回路基板に用いてなる多層プリント配線板。
][]に記載の絶縁樹脂シート、および/または[]に記載のプリプレグを用いてなる多層プリント配線板。
10][]に記載の多層プリント配線板に半導体素子を実装してなる半導体装置。
Such an object is achieved by the following [1] to [ 10 ].
[1] (A) A thermosetting resin having a softening point or melting point of 50 ° C. or less, (B) an organic colorant, and (A) heat- melt mixing at a temperature equal to or higher than the softening point of the thermosetting resin or the melting point A resin composition for a multilayer printed wiring board , wherein the molten mixture obtained is dispersed in a slurry obtained by mixing (C) an organic solvent and (D) an inorganic filler .
[2] The resin composition for a multilayer printed wiring board according to [1], wherein the organic colorant (B) has a weight loss by sublimation at 260 ° C. or decomposition of 10% or less.
[3] (B) the organic colorant, Ru anthraquinone compound der [1] or a multilayer printed wiring board resin composition according to [2].
[ 4 ] The inorganic filler (D) includes at least one selected from the group consisting of magnesium hydroxide, aluminum hydroxide, silica, talc, calcined talc, and alumina [1] to [3]. The resin composition for multilayer printed wiring boards according to any one of the above.
[ 5 ] An insulating resin sheet formed by forming an insulating resin layer made of the resin composition for multilayer printed wiring boards according to any one of [1] to [ 4 ] on a thermoplastic resin film or a metal foil.
[ 6 ] A prepreg obtained by impregnating a base material with the resin composition for a multilayer printed wiring board according to any one of [1] to [ 4 ].
[ 7 ] A laminate obtained by superposing one or more prepregs according to [ 6 ] and performing heat-press molding.
[ 8 ] A multilayer printed wiring board obtained by using the laminated board according to [ 7 ] as an inner circuit board.
[ 9 ] A multilayer printed wiring board comprising the insulating resin sheet according to [ 5 ] and / or the prepreg according to [ 6 ].
[ 10 ] A semiconductor device obtained by mounting a semiconductor element on the multilayer printed wiring board according to [ 9 ].

本発明の多層プリント配線板用樹脂組成物は、溶剤溶解性の低い着色剤、無機充填剤を含有しても、均一な多層プリント配線板用樹脂組成物であり、外観にムラの無いプリプレグ及び絶縁樹脂シートを得ることができる。 The resin composition for a multilayer printed wiring board of the present invention is a uniform resin composition for a multilayer printed wiring board, even if it contains a colorant and an inorganic filler with low solvent solubility, and has a uniform prepreg and appearance. An insulating resin sheet can be obtained.

以下、本発明の多層プリント配線板用樹脂組成物、プリプレグ、積層板、多層プリント配線板、及び半導体装置ついて説明する。 Hereinafter, the resin composition for a multilayer printed wiring board, the prepreg, the laminated board, the multilayer printed wiring board, and the semiconductor device of the present invention will be described.

本発明の多層プリント配線板用樹脂組成物は、(A)軟化点または融点が50℃以下の熱硬化性樹脂(以下、(A)熱硬化性樹脂と記載する。)に、(B)有機着色剤を、(A)熱硬化性樹脂の軟化点、又は融点以上の温度で加熱溶融混合させてなる溶融混合物を、(C)有機溶剤と(D)無機充填剤とを混合してなるスラリーに分散させてなることを特徴する。
The resin composition for a multilayer printed wiring board of the present invention includes (A) a thermosetting resin having a softening point or a melting point of 50 ° C. or less (hereinafter referred to as (A) a thermosetting resin), and (B) an organic. Slurry formed by mixing (C) an organic solvent and (D) an inorganic filler with a molten mixture obtained by heating and mixing a colorant at a temperature equal to or higher than the softening point of the thermosetting resin (A) or the melting point. dispersed in, characterized by comprising.

(A)熱硬化性樹脂に(B)有機着色剤を加熱溶融混合する際の温度は、(A)熱硬化性樹脂の軟化点、又は融点以上、120℃以下であることが好ましい。加熱温度が前記(A)熱硬化性樹脂の軟化点、又は融点以下であると溶融粘度が十分に下がらないために分散性が悪くなり、多層プリント配線板用樹脂組成物中に凝集物が存在する場合がある。120℃より高い温度であると、(B)有機着色剤の種類によっては、多層プリント配線板用樹脂組成物の硬化性に影響を及ぼし、成形性が悪化する場合がある。 (A) The temperature at which the (B) organic colorant is heated and melted and mixed with the thermosetting resin is preferably (A) the softening point or the melting point of the thermosetting resin and 120 ° C. or less. When the heating temperature is the softening point of the thermosetting resin (A) or below the melting point, the melt viscosity is not lowered sufficiently, resulting in poor dispersibility and the presence of aggregates in the resin composition for multilayer printed wiring boards. There is a case. If the temperature is higher than 120 ° C., depending on the type of (B) organic colorant, the curability of the resin composition for multilayer printed wiring boards may be affected, and the moldability may deteriorate.

また撹拌条件としては、回転数が300rpm以上で1時間以上撹拌することが好ましい。回転数や撹拌時間が前記以下でると、前記同様、分散性が悪くなる場合があり、多層プリント配線板用樹脂組成物中に凝集物が存在する場合がある。 Moreover, as stirring conditions, it is preferable to stir for 1 hour or more at a rotation speed of 300 rpm or more. When the rotation speed and the stirring time are less than the above, dispersibility may be deteriorated as described above, and aggregates may be present in the resin composition for multilayer printed wiring boards.

本発明に用いる(A)熱硬化性樹脂は、例えば、ビスフェノールA型エポキシ樹脂として、大日本インキ化学社製の商品名EPICLON840、商品名EPICLON840−S、商品名EPICLON850、商品名EPICLON850−S、商品名EPICLON850−CRP、商品名EPICLPN850−LC、商品名EPICLON860等、ジャパンエポキシレジン社製の商品名エピコート825、商品名エピコート827、商品名エピコート828、商品名エピコート828EL、商品名エピコート828XA、商品名エピコート834等が挙げられる。ビスフェノールF型エポキシ樹脂としては、大日本インキ化学社製の商品名EPICLON830、商品名EPICLON830−S、商品名EPICLON830−LVP、商品名EPICLPN835、商品名EPICLPN835−LV等、ジャパンエポキシレジン社製の商品名エピコート806、商品名エピコート806L、商品名エピコート807等が挙げられる。フェノールノボラック型エポキシ樹脂としては、大日本インキ化学社製の商品名EPICLON EXA−7240、ジャパンエポキシレジン社製の商品名エピコート152、商品名エピコート154等が挙げられ、ナフタレン型エポキシ樹脂としては、大日本インキ化学社製の商品名EPICLON HP−4032D、水添型エポキシ樹脂としては、大日本インキ化学社製の商品名EPICLON EXA−7015、ジャパンエポキシレジン社製の商品名YX−8000、商品名YX−8034、商品名RXE21などが挙げられる。ビスマレイミド樹脂としては大日本インキ化学社製の商品名EPICLON EXA−7163、シアネート樹脂としては、Lonza社製の商品名PRIMASET PT−30、商品名PRIMASET PT−15等、チバガイギー社製の商品名B−40S等が挙げられる。
これらの中の1種類を単独で用いることもできるし、異なる重量平均分子量を有する2種類以上を併用したり、1種類または2種類以上とを併用したりすることもできる。
The (A) thermosetting resin used in the present invention is, for example, a product name EPICLON 840, a product name EPICLON 840-S, a product name EPICLON 850, a product name EPICLON 850-S manufactured by Dainippon Ink and Chemicals, Inc. as a bisphenol A type epoxy resin. Product name EPICLON850-CRP, Product name EPICLPN850-LC, Product name EPICLON860, Product name Epicoat 825, Product name Epicote 827, Product name Epicoat 828, Product name Epicoat 828EL, Product name Epicoat 828XA, Product name Epicoat 834 or the like. As the bisphenol F type epoxy resin, trade names manufactured by Japan Epoxy Resins Co., Ltd. such as trade names EPICLON 830, trade names EPICLON 830-S, trade names EPICLON 830-LVP, trade names EPICLPN 835, trade names EPICLPN 835-LV, etc. Epicoat 806, trade name Epicoat 806L, trade name Epicoat 807, and the like. Examples of the phenol novolac type epoxy resin include trade name EPICLON EXA-7240 manufactured by Dainippon Ink and Chemicals, product name Epicoat 152, product name Epicoat 154 and the like manufactured by Japan Epoxy Resin Co., Ltd. Product name EPICLON HP-4032D manufactured by Nippon Ink Chemical Co., Ltd., as hydrogenated epoxy resin, product name EPICLON EXA-7015 manufactured by Dainippon Ink Chemical Co., Ltd., product name YX-8000 manufactured by Japan Epoxy Resin Co., Ltd., product name YX -8034, trade name RXE21 and the like. As bismaleimide resin, trade name EPICLON EXA-7163 manufactured by Dainippon Ink Chemical Co., Ltd., as cyanate resin, trade name PRIMASET PT-30, trade name PRIMASET PT-15 manufactured by Lonza, etc., trade name B manufactured by Ciba Geigy -40S etc. are mentioned.
One of these can be used alone, two or more having different weight average molecular weights can be used together, or one or two or more can be used together.

これらの中でも、特にシアネート樹脂のLonza社製の商品名PRIMASET PT−30、商品名PRIMASET PT−15、チバガイギー社製の商品名B−40Sが好ましい。これにより、プリプレグの熱膨張係数を小さくすることができる。さらに、プリプレグの電気特性(低誘電率、低誘電正接)、機械強度等にも優れる。 Among these, the trade name PRIMASET PT-30, the trade name PRIMASET PT-15, and the trade name B-40S, manufactured by Ciba Geigy, are particularly preferable. Thereby, the thermal expansion coefficient of a prepreg can be made small. Furthermore, the electrical properties (low dielectric constant, low dielectric loss tangent), mechanical strength, etc. of the prepreg are also excellent.

(A)熱硬化性樹脂は、さらに溶融粘度が低いことが好ましく、80℃〜150℃において0.1Pa・s以下の粘度領域が存在することが好ましい。これにより、(B)有機着色剤と加熱溶融させる際に溶融させるのが容易となる。溶融粘度は、例えば、コーンプレート(ICI)高温粘度計などで測定することができる。 (A) The thermosetting resin preferably has a lower melt viscosity, and preferably has a viscosity region of 0.1 Pa · s or less at 80 ° C to 150 ° C. This facilitates melting when heated and melted with (B) the organic colorant. The melt viscosity can be measured, for example, with a cone plate (ICI) high temperature viscometer.

本発明に用いる(B)有機着色剤は、特に限定されないが、アントラキノン系化合物が好ましい。アントラキノン系化合物としては、例えば、Kayaset Black A−N(日本化薬社製)、Kayaset Black G(日本化薬社製)、Sudan Black 141(中央合成化学社製)等が挙げられる。(B)有機着色剤は、1種類を単独で用いてもよいし、2種類以上を併用しても良い。 The organic colorant (B) used in the present invention is not particularly limited, but an anthraquinone compound is preferable. Examples of the anthraquinone compound include Kayase Black A-N (manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.), Kayase Black G (manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.), Sudan Black 141 (manufactured by Chuo Synthetic Chemical Co., Ltd.), and the like. (B) One type of organic colorant may be used alone, or two or more types may be used in combination.

前記(B)着色剤の中でも、260℃における昇華、又は分解による重量減少が10%以下であるものが好ましい。260℃における昇華、又は分解による重量減少が10%以下である着色剤としては、Kayaset Black A−N(日本化薬社製)、Kayaset Black G(日本化薬社製)が挙げられる。これにより、樹脂組成物を用い製造される積層板の高温時における重量減少を少なくでき、半田耐熱性に優れるものとなる。尚、260℃での重量減少は、TGA(熱重量測定装置)を用い、試料を10℃/分で昇温させたときの、260℃における重量減少を測定することにより確認できる。 Among the colorants (B), those having a weight loss by sublimation at 260 ° C. or decomposition of 10% or less are preferable. Examples of the colorant whose weight loss due to sublimation or decomposition at 260 ° C. is 10% or less include Kayase Black A-N (manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.) and Kayase Black G (manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.). Thereby, the weight loss at the time of the high temperature of the laminated board manufactured using a resin composition can be decreased, and it becomes excellent in solder heat resistance. The weight decrease at 260 ° C. can be confirmed by measuring the weight decrease at 260 ° C. when the sample is heated at 10 ° C./min using a TGA (thermogravimetric measuring device).

本発明に用いる(B)有機着色剤の含有量は、特に限定されないが、(A)熱硬化性樹脂に100重量部対し、0.5〜5重量部含有することが好ましく、さらに好ましくは1〜4重量部含有することである。前記重量部未満であると、得られる多層プリント配線板の外観にムラがあり、前記重量部より多いと着色剤の種類によっては硬化性に影響を及ぼし、成形性が悪化する場合がある。 The content of the organic colorant (B) used in the present invention is not particularly limited, but it is preferably 0.5 to 5 parts by weight, more preferably 1 with respect to (A) 100 parts by weight of the thermosetting resin. It is to contain ~ 4 parts by weight. If it is less than the above-mentioned parts by weight, the appearance of the resulting multilayer printed wiring board is uneven. If it is more than the above-mentioned parts by weight, the curability may be affected depending on the type of the colorant, and the moldability may deteriorate.

前記(A)熱硬化性樹脂に(B)有機着色剤を加熱溶融混合させてなる溶融混合物は、さらに(C)有機溶剤と(D)無機充填材とを混合してなるスラリーに分散させてなる多層プリント配線板用樹脂組成物であることが好ましい。 The melt mixture obtained by heating and mixing (B) the organic colorant with the (A) thermosetting resin is further dispersed in a slurry obtained by mixing (C) an organic solvent and (D) an inorganic filler. It is preferable that it is the resin composition for multilayer printed wiring boards which becomes.

前記スラリーの作製方法は、特に限定されないが、例えば無機充填剤と溶剤とを混合し、高速攪拌機、またはホモミキサーで攪拌、分散させることにより作製される。 The method for producing the slurry is not particularly limited. For example, the slurry is produced by mixing an inorganic filler and a solvent, and stirring and dispersing with a high-speed stirrer or a homomixer.

前記スラリーを作製するのに用いる(C)有機溶剤は、特に限定されないが、例えば、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノンなどのケトン系溶剤、ジメチルアセトアミド、ジメチルホルムアミドなどのアミド系溶剤、トルエン、酢酸エチル、シクロヘキサン、ヘプタン、シクロヘキサン、テトラヒドロフラン、ジメチルスルホキシド、エチレングリコール、セルソルブ系、カルビトール系、アニソールなどを挙げることができる。その中でも特にケトン系溶剤、アミド系溶剤が、(A)熱硬化性樹脂との反応性が少ないという点で好ましい。これらの中の1種類を単独で用いることもできるし、2種類以上を併用したりすることもできる。   The (C) organic solvent used for preparing the slurry is not particularly limited, and examples thereof include ketone solvents such as acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, and cyclohexanone, amide solvents such as dimethylacetamide and dimethylformamide, toluene, Examples include ethyl acetate, cyclohexane, heptane, cyclohexane, tetrahydrofuran, dimethyl sulfoxide, ethylene glycol, cellosolve, carbitol, and anisole. Of these, ketone solvents and amide solvents are particularly preferred because they have low reactivity with the (A) thermosetting resin. One of these can be used alone, or two or more can be used in combination.

前記(D)無機充填材は、特に限定されないが、例えば、タルク、焼成タルク、焼成クレー、未焼成クレー、マイカ、ガラス等のケイ酸塩、酸化チタン、アルミナ、シリカ、溶融シリカ等の酸化物、炭酸カルシウム、炭酸マグネシウム、ハイドロタルサイト等の炭酸塩、水酸化アルミニウム、水酸化マグネシウム、水酸化カルシウム等の水酸化物、硫酸バリウム、硫酸カルシウム、亜硫酸カルシウム等の硫酸塩または亜硫酸塩、ホウ酸亜鉛、メタホウ酸バリウム、ホウ酸アルミニウム、ホウ酸カルシウム、ホウ酸ナトリウム等のホウ酸塩、窒化アルミニウム、窒化ホウ素、窒化ケイ素、窒化炭素等の窒化物、チタン酸ストロンチウム、チタン酸バリウム等のチタン酸塩等を挙げることができる。これらの中の1種類を単独で用いることもできるし、2種類以上を併用したりすることもできる。これらの中でも水酸化マグネシウム、水酸化アルミニウム、シリカ、溶融シリカ、タルク、焼成タルク、アルミナが好ましく、特に溶融シリカが低熱膨張性に優れる点で好ましい。その形状は破砕状、球状があるが、繊維基材への含浸性を確保するために樹脂組成物の溶融粘度を下げるには球状シリカを使う等、その目的にあわせた使用方法が採用される。 The (D) inorganic filler is not particularly limited. For example, talc, calcined talc, calcined clay, uncalcined clay, mica, silicates such as glass, oxides such as titanium oxide, alumina, silica, and fused silica , Carbonates such as calcium carbonate, magnesium carbonate, hydrotalcite, hydroxides such as aluminum hydroxide, magnesium hydroxide, calcium hydroxide, sulfates or sulfites such as barium sulfate, calcium sulfate, calcium sulfite, boric acid Borate salts such as zinc, barium metaborate, aluminum borate, calcium borate and sodium borate, nitrides such as aluminum nitride, boron nitride, silicon nitride and carbon nitride, titanic acid such as strontium titanate and barium titanate A salt etc. can be mentioned. One of these can be used alone, or two or more can be used in combination. Among these, magnesium hydroxide, aluminum hydroxide, silica, fused silica, talc, calcined talc, and alumina are preferable, and fused silica is particularly preferable in terms of excellent low thermal expansion. The shape is crushed and spherical, but in order to reduce the melt viscosity of the resin composition in order to ensure the impregnation of the fiber substrate, a method of use that suits the purpose, such as using spherical silica, is adopted. .

また前記(D)無機充填材は、特に限定されないが、平均粒子径が単分散の無機充填材を用いることもできるし、平均粒子径が多分散の無機充填材を用いることができる。さらに平均粒子径が単分散及び/または、多分散の無機充填材を1種類または2種類以上とを併用したりすることもできる。 The (D) inorganic filler is not particularly limited, and an inorganic filler having a monodispersed average particle diameter can be used, and an inorganic filler having a polydispersed average particle diameter can be used. Furthermore, one type or two or more types of inorganic fillers having an average particle size of monodispersed and / or polydispersed can be used in combination.

前記(D)無機充填材の含有量は、特に限定されないが、(C)有機溶剤100重量部に対し、50〜300重量部が好ましく、特に100〜240重量部が好ましい。含有量が前記範囲内であると、特に低熱膨張、低吸水とすることができる。   Although content of the said (D) inorganic filler is not specifically limited, 50-300 weight part is preferable with respect to 100 weight part of (C) organic solvent, and 100-240 weight part is especially preferable. When the content is within the above range, particularly low thermal expansion and low water absorption can be achieved.

前記(D)無機充填材の平均粒子径は、特に限定されないが、0.005〜10μmが好ましく、特に0.01〜3μmが好ましい。無機充填材の粒径が前記下限値未満であると多層プリント配線板用樹脂組成物の粘度が高くなるため、プリプレグ作製時の作業性に影響を与える場合がある。また、前記上限値を超えると、多層プリント配線板用樹脂組成物中で無機充填剤の沈降等の現象が起こる場合がある。
更に平均粒子径5.0μm以下の球状シリカが好ましく、特に平均粒子径0.01〜3μmの球状溶融シリカが好ましい。これにより、無機充填材の充填性を向上させることができる。尚、平均粒子径は、例えば粒度分布計(HORIBA製、LA−500)により測定することができる。
The average particle diameter of the (D) inorganic filler is not particularly limited, but is preferably 0.005 to 10 μm, particularly preferably 0.01 to 3 μm. When the particle size of the inorganic filler is less than the lower limit value, the viscosity of the multilayer printed wiring board resin composition increases, which may affect the workability at the time of preparing the prepreg. When the upper limit is exceeded, phenomena such as sedimentation of the inorganic filler may occur in the resin composition for multilayer printed wiring boards.
Further, spherical silica having an average particle diameter of 5.0 μm or less is preferable, and spherical fused silica having an average particle diameter of 0.01 to 3 μm is particularly preferable. Thereby, the filling property of an inorganic filler can be improved. The average particle diameter can be measured, for example, by a particle size distribution meter (manufactured by HORIBA, LA-500).

本発明の多層プリント配線板用樹脂組成物は、さらに、その他熱硬化性樹脂(実質的にハロゲンを含まない)を併用することもできる。併用することもできる熱硬化性樹脂組成物は、例えば、フェノールノボラック型エポキシ樹脂、クレゾールノボラックエポキシ樹脂等のノボラック型エポキシ樹脂、ビフェニル型エポキシ樹脂、ビフェニルアラルキル型エポキシ樹脂、アリールアルキレン型エポキシ樹脂、ナフタレン型エポキシ樹脂、アントラセン型エポキシ樹脂、フェノキシ型エポキシ樹脂、ジシクロペンタジエン型エポキシ樹脂、ノルボルネン型エポキシ樹脂、アダマンタン型エポキシ樹脂、フルオレン型エポキシ樹脂等のエポキシ樹脂、ユリア(尿素)樹脂、メラミン樹脂等のトリアジン環を有する樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、ビスマレイミド樹脂、ポリウレタン樹脂、ジアリルフタレート樹脂、シリコーン樹脂、ベンゾオキサジン環を有する樹脂、シアネート樹脂等が挙げられる。
これらの中の1種類を単独で用いることもできるし、異なる重量平均分子量を有する2種類以上を併用したり、1種類または2種類以上と、それらのプレポリマーを併用したりすることもできる。これらの中でもビフェニルアラルキル型ノボラックエポキシ樹脂、ナフタレンアラルキル型ノボラックエポキシ樹脂等のようなメチレン結合を有するノボラック型エポキシ樹脂が、耐熱性、難燃性、吸水性の点で優れ、その中でもビフェニルアラルキル型ノボラックエポキシ樹脂が好ましい。これにより、吸湿半田耐熱性および難燃性を向上させることができる。
The resin composition for multilayer printed wiring boards of the present invention can be used in combination with other thermosetting resins (substantially free of halogen). Thermosetting resin compositions that can be used in combination include, for example, novolak epoxy resins such as phenol novolac epoxy resins and cresol novolac epoxy resins, biphenyl epoxy resins, biphenyl aralkyl epoxy resins, arylalkylene epoxy resins, and naphthalene. Epoxy resin, anthracene epoxy resin, phenoxy epoxy resin, dicyclopentadiene epoxy resin, norbornene epoxy resin, adamantane epoxy resin, epoxy resin such as fluorene epoxy resin, urea (urea) resin, melamine resin, etc. Resin having a triazine ring, unsaturated polyester resin, bismaleimide resin, polyurethane resin, diallyl phthalate resin, silicone resin, resin having a benzoxazine ring, cyanate resin Etc. The.
One of these can be used alone, or two or more having different weight average molecular weights can be used in combination, or one or two or more of these prepolymers can be used in combination. Among these, novolac type epoxy resins having a methylene bond such as biphenyl aralkyl type novolak epoxy resin and naphthalene aralkyl type novolak epoxy resin are excellent in heat resistance, flame retardancy and water absorption, and among them, biphenyl aralkyl type novolak. Epoxy resins are preferred. Thereby, moisture absorption solder heat resistance and a flame retardance can be improved.

本発明の多層プリント配線板用樹脂組成物では、(A)熱硬化性樹脂、(B)着色剤以外に、さらに(A)熱硬化性樹脂の硬化剤を併用しても良い。例えば、(A)熱硬化性樹脂がエポキシ樹脂やシアネート樹脂であれば、フェノール樹脂やエポキシ樹脂やシアネート樹脂の硬化促進剤を用いることができる。前記フェノール樹脂は、特に限定されないが、例えば、フェノールノボラック樹脂、クレゾールノボラック樹脂、ビスフェノールAノボラック樹脂、アリールアルキレン型ノボラック樹脂等のノボラック型フェノール樹脂、未変性のレゾールフェノール樹脂、桐油、アマニ油、クルミ油等で変性した油変性レゾールフェノール樹脂等のレゾール型フェノール樹脂等が挙げられる。これらの中の1種類を単独で用いることもできるし、異なる重量平均分子量を有する2種類以上を併用したり、1種類または2種類以上と、それらのプレポリマーを併用したりすることもできる。これらの中でも特に、アリールアルキレン型フェノール樹脂が好ましい。これにより、さらに吸湿半田耐熱性を向上させることができる。 In the resin composition for multilayer printed wiring boards of the present invention, in addition to (A) thermosetting resin and (B) colorant, a curing agent for (A) thermosetting resin may be used in combination. For example, if the thermosetting resin (A) is an epoxy resin or a cyanate resin, a curing accelerator for phenol resin, epoxy resin, or cyanate resin can be used. The phenol resin is not particularly limited. For example, a phenol novolak resin, a cresol novolak resin, a bisphenol A novolak resin, a novolak phenol resin such as an arylalkylene type novolak resin, an unmodified resole phenol resin, tung oil, linseed oil, walnut Examples include resol-type phenol resins such as oil-modified resol phenol resins modified with oil. One of these can be used alone, or two or more having different weight average molecular weights can be used in combination, or one or two or more of these prepolymers can be used in combination. Among these, arylalkylene type phenol resins are particularly preferable. Thereby, moisture absorption solder heat resistance can be improved further.

前記硬化促進剤は、特に限定されないが、例えば、ナフテン酸亜鉛、ナフテン酸コバルト、オクチル酸スズ、オクチル酸コバルト、ビスアセチルアセトナートコバルト(II)、トリスアセチルアセトナートコバルト(III)等の有機金属塩、トリエチルアミン、トリブチルアミン、ジアザビシクロ[2,2,2]オクタン等の3級アミン類、2−メチルイミダゾール、2−フェニルイミダゾール、2−フェニル−4−メチルイミダゾール、2−エチル−4−エチルイミダゾール、1−ベンジルー2−メチルイミダゾール、1−ベンジルー2−フェニルイミダゾール、2−ウンデシルイミダゾール、1−シアノエチルー2−エチルー4−メチルイミダゾール、1−シアノエチルー2−ウンデシルイミダゾール、2−フェニル−4−メチル−5−ヒドロキシイミダゾール、2−フェニル−4,5−ジヒドロキシイミダゾール、2,3−ジヒドロー1H−ピロロ(1,2−a)ベンズイミダゾール等のイミダゾール類、フェノール、ビスフェノールA、ノニルフェノール等のフェノール化合物、酢酸、安息香酸、サリチル酸、パラトルエンスルホン酸等の有機酸等、またはこの混合物が挙げられる。これらの中の誘導体も含めて1種類を単独で用いることもできるし、これらの誘導体も含めて2種類以上を併用したりすることもできる。 The curing accelerator is not particularly limited. For example, organic metals such as zinc naphthenate, cobalt naphthenate, tin octylate, cobalt octylate, bisacetylacetonate cobalt (II), trisacetylacetonate cobalt (III), and the like. Salt, triethylamine, tributylamine, tertiary amines such as diazabicyclo [2,2,2] octane, 2-methylimidazole, 2-phenylimidazole, 2-phenyl-4-methylimidazole, 2-ethyl-4-ethylimidazole 1-benzyl-2-methylimidazole, 1-benzyl-2-phenylimidazole, 2-undecylimidazole, 1-cyanoethyl-2-ethyl-4-methylimidazole, 1-cyanoethyl-2-undecylimidazole, 2-phenyl-4-methyl -5 Imidazoles such as loxyimidazole, 2-phenyl-4,5-dihydroxyimidazole, 2,3-dihydro-1H-pyrrolo (1,2-a) benzimidazole, phenolic compounds such as phenol, bisphenol A, nonylphenol, acetic acid, benzoic acid Examples thereof include acids, organic acids such as salicylic acid and p-toluenesulfonic acid, and mixtures thereof. One of these can be used alone, including derivatives thereof, or two or more of these can be used in combination.

本発明の多層プリント配線板用樹脂組成物は、特に限定されないが、更にカップリング剤を含有することが好ましい。 The resin composition for a multilayer printed wiring board of the present invention is not particularly limited, but preferably further contains a coupling agent.

前記カップリング剤は、樹脂と無機充填剤との界面の濡れ性を向上させることにより、基材に対して樹脂および充填剤を均一に定着させ、耐熱性、特に吸湿後の半田耐熱性を改良するために配合する。 The coupling agent improves the heat resistance, especially the solder heat resistance after moisture absorption, by uniformly fixing the resin and filler to the substrate by improving the wettability of the interface between the resin and the inorganic filler. To make it.

前記カップリング剤は、特に限定されないが、例えば、エポキシシランカップリング剤、カチオニックシランカップリング剤、アミノシランカップリング剤、チタネート系カップリング剤、シリコーンオイル型カップリング剤等が挙げられる。これにより、無機充填材の界面との濡れ性を高くすることができ、それによって耐熱性をより向上させることできる。   Although the said coupling agent is not specifically limited, For example, an epoxy silane coupling agent, a cationic silane coupling agent, an aminosilane coupling agent, a titanate coupling agent, a silicone oil type coupling agent etc. are mentioned. Thereby, the wettability with the interface of an inorganic filler can be made high, and thereby heat resistance can be improved more.

前記カップリング剤の添加量は、特に限定されないが、無機充填材100重量部に対して0.05〜3重量部が好ましく、特に0.1〜2重量部が好ましい。含有量が前記下限値未満であると無機充填材を十分に被覆できないため耐熱性を向上する効果が低下する場合があり、前記上限値を超えると反応に影響を与え、曲げ強度等が低下する場合がある。 Although the addition amount of the coupling agent is not particularly limited, it is preferably 0.05 to 3 parts by weight, particularly preferably 0.1 to 2 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the inorganic filler. If the content is less than the lower limit, the inorganic filler cannot be sufficiently coated, and thus the effect of improving the heat resistance may be reduced. If the content exceeds the upper limit, the reaction is affected, and the bending strength is reduced. There is a case.

本発明の多層プリント配線板用樹脂組成物は、多層プリント板製造時に多層プリント配線板用樹脂組成物からなる絶縁樹脂層を形成した際、絶縁樹脂層と導体層との密着性が向上するような成分を含有しても良い。例えば、フェノキシ樹脂、ポリビニルアルコール系樹脂、導体層を構成する金属との密着性を向上させるカップリング剤等が挙げられ、これらの中でも特に密着性に優れ、硬化反応速度に与える影響が少ないという点でフェノキシ樹脂が好ましい。前記フェノキシ樹脂は、例えばビスフェノール骨格を有するフェノキシ樹脂、ノボラック骨格を有するフェノキシ樹脂、ナフタレン骨格を有するフェノキシ樹脂、ビフェニル骨格を有するフェノキシ樹脂等が挙げられる。また、これらの骨格を複数種類有した構造のフェノキシ樹脂を用いることもできる。 The resin composition for a multilayer printed wiring board of the present invention improves the adhesion between the insulating resin layer and the conductor layer when an insulating resin layer made of the resin composition for a multilayer printed wiring board is formed during the production of the multilayer printed board. Ingredients may be included. For example, a phenoxy resin, a polyvinyl alcohol resin, a coupling agent that improves the adhesion with the metal constituting the conductor layer, and the like. Among these, the adhesion is particularly excellent, and the influence on the curing reaction rate is small. Phenoxy resin is preferred. Examples of the phenoxy resin include a phenoxy resin having a bisphenol skeleton, a phenoxy resin having a novolak skeleton, a phenoxy resin having a naphthalene skeleton, and a phenoxy resin having a biphenyl skeleton. A phenoxy resin having a structure having a plurality of these skeletons can also be used.

また、本発明の多層プリント配線板用樹脂組成物は、必要に応じて、消泡剤、レベリング剤、紫外線吸収剤、発泡剤、酸化防止剤、難燃剤、イオン捕捉剤等の上記成分以外の添加物を添加しても良い。 Moreover, the resin composition for multilayer printed wiring boards of the present invention, if necessary, other than the above components such as an antifoaming agent, a leveling agent, an ultraviolet absorber, a foaming agent, an antioxidant, a flame retardant, and an ion scavenger. Additives may be added.

次に、本発明の絶縁樹脂シートについて説明する。 Next, the insulating resin sheet of the present invention will be described.

本発明の絶縁樹脂シートは、前記多層プリント配線板用樹脂組成物よりなる絶縁樹脂層を熱可塑性樹脂フィルム上、または金属箔上に形成してなるものである。ここで、前記絶縁樹脂層を基材に形成させる方法としては特に限定されないが、例えば、多層プリント配線板用樹脂組成物を各種コーター装置を用いて熱可塑性樹脂フィルム上、または金属箔上に塗工した後、これを乾燥する方法、多層プリント配線板用樹脂組成物をスプレー装置を用いて基材に噴霧塗工した後、これを乾燥する方法、などが挙げられる。これらの中でも、コンマコーター、ダイコーターなどの各種コーター装置を用いて、多層プリント配線板用樹脂組成物をフィルム上、または金属箔上に塗工した後、これを乾燥する方法が好ましい。これにより、ボイドがなく、均一な絶縁樹脂層の厚みを有する絶縁樹脂シートを効率よく製造することができる。 The insulating resin sheet of the present invention is formed by forming an insulating resin layer made of the resin composition for a multilayer printed wiring board on a thermoplastic resin film or a metal foil. Here, the method for forming the insulating resin layer on the substrate is not particularly limited. For example, the resin composition for a multilayer printed wiring board is coated on a thermoplastic resin film or a metal foil using various coater apparatuses. And a method of drying the resin composition for a multilayer printed wiring board after spraying it onto a substrate using a spray device, and the like. Among these, a method of drying the resin composition for a multilayer printed wiring board on a film or a metal foil using various coaters such as a comma coater and a die coater is preferable. Thereby, there can be efficiently produced an insulating resin sheet having no voids and having a uniform insulating resin layer thickness.

本発明の絶縁樹脂シートに用いる熱可塑性樹脂フィルム、または金属箔としては、特に限定されないが、例えば、熱可塑性樹脂フィルムの場合、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレートなどのポリエステル樹脂、フッ素系樹脂、ポリイミド樹脂などの耐熱性を有した熱可塑性樹脂フィルムが挙げられる、また、金属箔の場合は、銅及び/又は銅系合金、アルミ及び/又はアルミ系合金、鉄及び/又は鉄系合金、銀及び/又は銀系合金、金及び金系合金、亜鉛及び亜鉛系合金、ニッケル及びニッケル系合金、錫及び錫系合金の金属箔等が挙げられる。 The thermoplastic resin film or metal foil used for the insulating resin sheet of the present invention is not particularly limited. For example, in the case of a thermoplastic resin film, a polyester resin such as polyethylene terephthalate or polybutylene terephthalate, a fluorine resin, or a polyimide resin. In the case of metal foil, copper and / or copper-based alloy, aluminum and / or aluminum-based alloy, iron and / or iron-based alloy, silver and / or Alternatively, silver alloy, gold and gold alloy, zinc and zinc alloy, nickel and nickel alloy, tin and tin alloy metal foil, and the like can be given.

前記熱可塑性樹脂フィルム、または金属箔の厚みとしては特に限定されないが、10〜100μmのものを用いると、絶縁樹脂シートを製造する際の取り扱い性が良好であり好ましい。
なお、本発明の絶縁樹脂シートを製造するにあたっては、絶縁樹脂層と接合される側の熱可塑性樹脂フィルム、または金属箔表面の凹凸は極力小さいものであることが好ましい。これにより、本発明の作用を効果的に発現させることができる。
Although it does not specifically limit as thickness of the said thermoplastic resin film or metal foil, When the thing of 10-100 micrometers is used, the handleability at the time of manufacturing an insulating resin sheet is favorable, and is preferable.
In manufacturing the insulating resin sheet of the present invention, it is preferable that the unevenness on the surface of the thermoplastic resin film or metal foil to be bonded to the insulating resin layer is as small as possible. Thereby, the effect | action of this invention can be expressed effectively.

次に、プリプレグについて説明する。 Next, the prepreg will be described.

本発明のプリプレグは、多層プリント配線板用樹脂組成物を基材に含浸させてなるものである。これにより、誘電特性、高温多湿下での機械的、電気的接続信頼性等の各種特性に優れたプリント配線板を製造するのに好適なプリプレグを得ることができる。 The prepreg of the present invention is obtained by impregnating a base material with a resin composition for multilayer printed wiring boards. Thereby, it is possible to obtain a prepreg suitable for manufacturing a printed wiring board excellent in various characteristics such as dielectric characteristics, mechanical and electrical connection reliability under high temperature and high humidity.

前記基材は、特に限定されないが、ガラス織布、ガラス不織布等のガラス繊維基材、ポリアミド樹脂繊維、芳香族ポリアミド樹脂繊維、全芳香族ポリアミド樹脂繊維等のポリアミド系樹脂繊維、ポリエステル樹脂繊維、芳香族ポリエステル樹脂繊維、全芳香族ポリエステル樹脂繊維等のポリエステル系樹脂繊維、ポリイミド樹脂繊維、フッ素樹脂繊維等を主成分とする織布または不織布で構成される合成繊維基材、クラフト紙、コットンリンター紙、リンターとクラフトパルプの混抄紙等を主成分とする紙基材等の有機繊維基材等が挙げられる。これらの中でもガラス繊維基材が好ましい。これにより、プリプレグの強度、吸水率を向上することができる。また、プリプレグの熱膨張係数を小さくすることができる。 The base material is not particularly limited, but glass fiber base materials such as glass woven fabric and glass nonwoven fabric, polyamide resin fibers, aromatic polyamide resin fibers, polyamide resin fibers such as wholly aromatic polyamide resin fibers, polyester resin fibers, Synthetic fiber substrate, kraft paper, cotton linter composed of woven or non-woven fabric mainly composed of aromatic polyester resin fiber, polyester resin fiber such as wholly aromatic polyester resin fiber, polyimide resin fiber, fluororesin fiber, etc. Examples thereof include organic fiber base materials such as paper base materials mainly composed of paper, mixed paper of linter and kraft pulp, and the like. Among these, a glass fiber base material is preferable. Thereby, the intensity | strength of a prepreg and a water absorption rate can be improved. Moreover, the thermal expansion coefficient of the prepreg can be reduced.

ガラス繊維基材を構成するガラスは、例えば、Eガラス、Cガラス、Aガラス、Sガラス、Dガラス、NEガラス、Tガラス、及びHガラス等が挙げられる。これらの中でもEガラス、またはTガラスが好ましい。これにより、ガラス繊維基材の高弾性化を達成することができ、熱膨張係数も小さくすることができる。 Examples of the glass constituting the glass fiber substrate include E glass, C glass, A glass, S glass, D glass, NE glass, T glass, and H glass. Among these, E glass or T glass is preferable. Thereby, the high elasticity of a glass fiber base material can be achieved and a thermal expansion coefficient can also be made small.

本発明の多層プリント配線板用樹脂組成物を基材に含浸させる方法は、例えば、各種コーターにより塗布する方法、スプレーにより吹き付ける方法等が挙げられる。これらの中でも、基材を多層プリント配線板用樹脂組成物に浸漬する方法が好ましい。これにより、繊維基材に対する樹脂組成物の含浸性を向上することができる。なお、繊維基材を多層プリント配線板用樹脂組成物に浸漬する場合、通常の含浸塗布設備を使用することができる。 Examples of the method for impregnating the base material with the resin composition for a multilayer printed wiring board of the present invention include a method of applying with various coaters and a method of spraying with a spray. Among these, the method of immersing a base material in the resin composition for multilayer printed wiring boards is preferable. Thereby, the impregnation property of the resin composition with respect to the fiber base material can be improved. In addition, when a fiber base material is immersed in the resin composition for multilayer printed wiring boards, a normal impregnation coating equipment can be used.

次に、積層板について説明する。 Next, a laminated board is demonstrated.

本発明の積層板は、前記プリプレグを少なくとも1枚、又は複数枚積層した積層体の上下両面に、金属箔を重ね、加熱、加圧することで積層板を得ることができる。前記加熱する温度は、特に限定されないが、120〜230℃が好ましく、特に150〜210℃が好ましい。また、前記加圧する圧力は、特に限定されないが、1〜5MPaが好ましく、特に2〜4MPaが好ましい。これにより、誘電特性、高温多湿化での機械的、電気的接続信頼性に優れた積層板を得ることができる。
前記金属箔は、例えば、銅、銅系合金、アルミ、アルミ系合金、銀、銀系合金、金、金系合金、亜鉛、亜鉛系合金、ニッケル、ニッケル系合金、錫、錫系合金、鉄、鉄系合金等の金属箔が挙げられる。
The laminated board of this invention can obtain a laminated board by laminating | stacking metal foil on the upper and lower both surfaces of the laminated body which laminated | stacked the said prepreg at least 1 sheet, or multiple sheets, and heating and pressurizing. The heating temperature is not particularly limited, but is preferably 120 to 230 ° C, particularly preferably 150 to 210 ° C. Moreover, the pressure to pressurize is not particularly limited, but is preferably 1 to 5 MPa, and particularly preferably 2 to 4 MPa. Thereby, the laminated board excellent in the dielectric property and the mechanical and electrical connection reliability in high temperature and high humidity can be obtained.
The metal foil is, for example, copper, copper alloy, aluminum, aluminum alloy, silver, silver alloy, gold, gold alloy, zinc, zinc alloy, nickel, nickel alloy, tin, tin alloy, iron And metal foils such as iron-based alloys.

次に、多層プリント配線板について説明する。 Next, a multilayer printed wiring board will be described.

多層プリント配線板は、前記積層板を用いて製造することができる。製造方法は、特に限定されないが、例えば、前記両面に銅箔を有する積層板を用い、ドリル機で所定の位置に開口部を設け、無電解めっきにより、内層回路基板の両面の導通を図る。そして、前記銅箔をエッチングすることにより内層回路を形成する。
なお、内層回路部分は、黒化処理等の粗化処理したものを好適に用いることができる。また開口部は、導体ペースト、または樹脂ペーストで適宜埋めることができる。
A multilayer printed wiring board can be manufactured using the said laminated board. Although a manufacturing method is not specifically limited, For example, the laminated board which has copper foil on the both surfaces is used, an opening part is provided in a predetermined position with a drill machine, and conduction | electrical_connection of both surfaces of an inner-layer circuit board is aimed at by electroless plating. Then, an inner layer circuit is formed by etching the copper foil.
The inner layer circuit portion can be suitably used after roughening treatment such as blackening treatment. The opening can be appropriately filled with a conductor paste or a resin paste.

次に前記本発明のプリプレグ、または熱可塑性樹脂フィルム上に絶縁樹脂層を形成した絶縁樹脂シートを用い、前記内層回路を覆うように、積層し、絶縁樹脂層を形成する。積層(ラミネート)方法は、特に限定されないが、真空プレス、常圧ラミネーター、および真空下で加熱加圧するラミネーターを用いて積層する方法が好ましく、更に好ましくは、真空下で加熱加圧するラミネーターを用いる方法である。その後、前記絶縁樹脂層を加熱することにより硬化させる。硬化させる温度は、特に限定されないが、例えば、100℃〜250℃の範囲で硬化させることができる。好ましくは150℃〜200℃で硬化させることである。 Next, using the prepreg of the present invention or an insulating resin sheet in which an insulating resin layer is formed on a thermoplastic resin film, lamination is performed so as to cover the inner layer circuit to form an insulating resin layer. The lamination method is not particularly limited, but a lamination method using a vacuum press, an atmospheric laminator, and a laminator that is heated and pressurized under vacuum is preferable, and a method using a laminator that is heated and pressurized under vacuum is more preferable. It is. Thereafter, the insulating resin layer is cured by heating. Although the temperature to harden | cure is not specifically limited, For example, it can be made to harden | cure in the range of 100 to 250 degreeC. Preferably it is made to harden | cure at 150 to 200 degreeC.

次に積層した絶縁樹脂シートの熱可塑性樹脂フィルムを剥離し、絶縁樹脂層に、レーザーを照射して、開口部を形成し、レーザー照射後の樹脂残渣等は過マンガン酸塩、重クロム酸塩等の酸化剤などにより除去することが好ましい。また、平滑な絶縁樹脂層の表面を同時に粗化することができ、続く金属メッキにより形成する外層回路の密着性を上げることができる。本発明の多層プリント配線板用樹脂組成物から形成された絶縁樹脂層は、前記粗化工程において微細な凹凸形状を均一に施すことができる。また、絶縁樹脂層表面の平滑性が高いため微細な外層回路を精度よく形成することができる。なお、金属箔上に絶縁樹脂シートの場合には、エッチングにより金属箔を外層回路として用いても良いし、前面エッチングして、熱可塑性樹脂フィルムの場合と同様の方法で外層回路形成しても良い。 Next, the thermoplastic resin film of the laminated insulating resin sheet is peeled off, and the insulating resin layer is irradiated with a laser to form an opening. Resin residues after the laser irradiation are permanganate, dichromate, etc. It is preferable to remove with an oxidizing agent such as. Further, the surface of the smooth insulating resin layer can be simultaneously roughened, and the adhesion of the outer layer circuit formed by subsequent metal plating can be improved. The insulating resin layer formed from the resin composition for a multilayer printed wiring board according to the present invention can be uniformly provided with fine irregularities in the roughening step. In addition, since the surface of the insulating resin layer is highly smooth, a fine outer layer circuit can be formed with high accuracy. In the case of an insulating resin sheet on the metal foil, the metal foil may be used as an outer layer circuit by etching, or the outer layer circuit may be formed by front etching and the same method as in the case of the thermoplastic resin film. good.

次に、絶縁樹脂層に、炭酸レーザー装置を用いて開口部を設け、電解銅めっきにより絶縁樹脂層表面に外層回路形成を行い、外層回路と内層回路との導通を図った。なお、外層回路は、半導体素子を実装するための接続用電極部を設ける。 Next, an opening was provided in the insulating resin layer by using a carbonic acid laser device, and an outer layer circuit was formed on the surface of the insulating resin layer by electrolytic copper plating to achieve conduction between the outer layer circuit and the inner layer circuit. The outer layer circuit is provided with a connection electrode portion for mounting a semiconductor element.

その後、最外層にソルダーレジストを形成し、露光・現像により半導体素子が実装できるよう接続用電極部を露出させ、ニッケル金メッキ処理を施し、所定の大きさに切断し、多層プリント配線板を得ることができる。 After that, a solder resist is formed on the outermost layer, the connection electrode part is exposed so that a semiconductor element can be mounted by exposure / development, nickel gold plating treatment is performed, and it is cut into a predetermined size to obtain a multilayer printed wiring board. Can do.

次に、半導体装置について説明する。   Next, a semiconductor device will be described.

前記で得られた多層プリント配線板に半田バンプを有する半導体素子を実装し、半田バンプを介して、前記多層プリント配線板と半導体素子とを接続する。そして、多層プリント配線板と半導体素子との間には液状封止樹脂を充填し、半導体装置を製造する。半田バンプは、錫、鉛、銀、銅、ビスマスなどからなる合金で構成されることが好ましい。半導体素子と多層プリント配線板との接続方法は、フリップチップボンダーなどを用いて多層プリント配線板上の接続用電極部と半導体素子の半田バンプとの位置合わせを行ったあと、IRリフロー装置、熱板、その他加熱装置を用いて半田バンプを融点以上に加熱し、多層プリント配線板と半田バンプとを溶融接合することにより接続する。尚、接続信頼性を良くするため、予め多層プリント配線板上の接続用電極部に半田ペースト等の比較的融点の低い金属の層を形成しておいても良い。この接合工程に先んじて、半田バンプ、及び/または多層プリント配線板上の接続用電極部の表層にフラックスを塗布することで接続信頼性を向上させることもできる。 A semiconductor element having a solder bump is mounted on the multilayer printed wiring board obtained above, and the multilayer printed wiring board and the semiconductor element are connected via the solder bump. A liquid sealing resin is filled between the multilayer printed wiring board and the semiconductor element to manufacture a semiconductor device. The solder bump is preferably made of an alloy made of tin, lead, silver, copper, bismuth or the like. The semiconductor element and the multilayer printed wiring board are connected by aligning the connection electrode portion on the multilayer printed wiring board with the solder bump of the semiconductor element using a flip chip bonder or the like, The solder bumps are heated to the melting point or higher by using a board or other heating device, and the multilayer printed wiring board and the solder bumps are connected by fusion bonding. In order to improve connection reliability, a metal layer having a relatively low melting point such as a solder paste may be formed in advance on the connection electrode portion on the multilayer printed wiring board. Prior to this joining step, the connection reliability can be improved by applying flux to the surface layers of the solder bumps and / or the connection electrode portions on the multilayer printed wiring board.

以下、本発明の内容を実施例により詳細に説明するが、本発明は、その要旨を越えない限り以下の例に限定されるものではない。 Hereinafter, the contents of the present invention will be described in detail by way of examples. However, the present invention is not limited to the following examples unless it exceeds the gist.

本発明で用いた(B)有機着色剤は以下の通りである。
B1:ペリノンおよびアントラキノン系染料
(商品名Kayaset Black A−N(日本化薬社製))
260℃における重量減少率 1.5%
B2: メチンおよびアントラキノン系染料
(商品名Kayaset Black G(日本化薬社製))
260℃における重量減少率 1.5%
B3:有機着色剤
(商品名Sudan Black 141(中央合成化学社製))
260℃における重量減少率 4.4%
The organic colorant (B) used in the present invention is as follows.
B1: Perinone and anthraquinone dyes (trade name Kayase Black A-N (manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.))
Weight reduction rate at 260 ° C 1.5%
B2: Methine and anthraquinone dye (trade name Kayase Black G (manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.))
Weight reduction rate at 260 ° C 1.5%
B3: Organic colorant (trade name Sudan Black 141 (manufactured by Chuo Synthetic Chemical))
Weight reduction rate at 260 ° C 4.4%

前記(B)有機着色剤の260℃における重量減少率は、以下の方法で求めた。 The weight reduction rate at 260 ° C. of the (B) organic colorant was determined by the following method.

着色剤の重量減少率測定
重量減少率は、TG−DTA(示差熱熱重量同時測定)により、使用した着色剤を、30℃から450℃まで10℃/分の条件で昇温させ、試料の重量変化を追跡し、((30℃の試料重量)−(260℃の試料重量))/(30℃の試料重量)×100で求まる値とした。
Measurement of weight loss rate of colorant The weight loss rate was measured by increasing the temperature of the used colorant from 30 ° C. to 450 ° C. at 10 ° C./min by TG-DTA (differential thermogravimetric simultaneous measurement). The change in weight was traced, and a value obtained by ((30 ° C. sample weight) − (260 ° C. sample weight)) / (30 ° C. sample weight) × 100 was obtained.

多層プリント配線板用樹脂組成物の作製 Fabrication of resin composition for multilayer printed wiring boards

(実施例1)
[工程A]((A)熱硬化性樹脂と(B)有機着色剤との加熱溶融混合工程)
(A)熱硬化性樹脂としてノボラック型シアネート樹脂(ロンザジャパン株式会社製 プリマセットPT−30;融点13℃、80℃において0.3〜0.75Pa・s)24.6重量部を80℃で溶融し、(B)有機着色剤としてB1:ペリノンおよびアントラキノン系染料(日本化薬社製、Kayaset Black A−N)0.6重量部を添加し、100℃で1時間加熱溶融混合し、50℃まで冷却した。尚、加熱溶融混合の際の撹拌回転数は500rpmであった。
Example 1
[Step A] ((A) Heat-melt mixing step of (A) thermosetting resin and (B) organic colorant)
(A) As a thermosetting resin, 24.6 parts by weight of novolak-type cyanate resin (Lonza Japan Co., Ltd. Primaset PT-30; melting point 13 ° C., 0.3 to 0.75 Pa · s at 80 ° C.) at 80 ° C. (B) B1: Perinone and anthraquinone dye (Nippon Kayaku Co., Ltd., Kayase Black A-N) 0.6 parts by weight as an organic colorant were added, and the mixture was heated and melted and mixed at 100 ° C. for 1 hour, 50 Cooled to ° C. In addition, the stirring rotation speed at the time of heat-melt mixing was 500 rpm.

[工程B]((C)有機溶剤中に(D)無機充填材を分散させる工程)
(C)有機溶剤としてメチルエチルケトン(MEK)を用い、(D)無機充填材として球状溶融シリカ(アドマテックス社製、SO25R、平均粒径0.5μm)49.8重量部をメチルエチルケトン(MEK)に分散させ、60重量%濃度のスラリーを得た。尚、スラリーは、室温下、回転数500rpmで、1時間撹拌して得た。
[Step B] ((C) (D) Step of dispersing inorganic filler in organic solvent)
(C) Methyl ethyl ketone (MEK) is used as the organic solvent, and (D) 49.8 parts by weight of spherical fused silica (manufactured by Admatechs, SO25R, average particle size 0.5 μm) is dispersed in methyl ethyl ketone (MEK) as the inorganic filler. To obtain a slurry having a concentration of 60% by weight. The slurry was obtained by stirring at room temperature at a rotation speed of 500 rpm for 1 hour.

[工程C]
([工程A]で得られた溶融混合物、及び[工程B]で得られたスラリーとその他の成分とを分散させる工程)
工程Aで得られた溶融混合物を前記[工程B]で得られたスラリーに加え、50℃、回転数500rpmで30分間撹拌した。
次に、エポキシ樹脂としてビフェニルアラルキル型ノボラックエポキシ樹脂(日本化薬社製、NC−3000;軟化点58℃、150℃において0.07Pa・s)14.0重量部、硬化剤としてビフェニルジメチレン型フェノール樹脂(明和化成社製、MEH−7851HHH)10.8重量部、カップリング剤(GE東芝シリコーン社製、A187)0.2重量部を添加して、常温下、回転数1000rpmで1時間撹拌し、固形分70重量%の多層プリント配線板用樹脂組成物を作製した。
[Step C]
(The step of dispersing the molten mixture obtained in [Step A] and the slurry obtained in [Step B] and other components)
The molten mixture obtained in Step A was added to the slurry obtained in [Step B] and stirred for 30 minutes at 50 ° C. and a rotation speed of 500 rpm.
Next, 14.0 parts by weight of a biphenyl aralkyl type novolak epoxy resin (manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd., NC-3000; 0.07 Pa · s at a softening point of 58 ° C. and 150 ° C.) as an epoxy resin, and a biphenyl dimethylene type as a curing agent 10.8 parts by weight of a phenol resin (Maywa Kasei Co., Ltd., MEH-7851HHH) and 0.2 parts by weight of a coupling agent (GE Toshiba Silicone Co., Ltd., A187) were added and stirred at room temperature for 1 hour at a rotation speed of 1000 rpm. A resin composition for a multilayer printed wiring board having a solid content of 70% by weight was produced.

2.プリプレグの作製
前記の多層プリント配線板用樹脂組成物をガラス織布(厚さ94μm、日東紡績製、WEA−2116)に含浸し、150℃の加熱炉で2分間乾燥して、プリプレグ中の多層プリント配線板用樹脂組成物固形分が約50重量%のプリプレグを得た。
2. Preparation of prepreg A glass woven fabric (thickness 94 μm, manufactured by Nitto Boseki Co., Ltd., WEA-2116) is impregnated with the above resin composition for a multilayer printed wiring board, dried in a heating furnace at 150 ° C. for 2 minutes, and multilayered in the prepreg. A prepreg having a resin composition solid content for a printed wiring board of about 50% by weight was obtained.

3.積層板の作製
前記のプリプレグを、両面に18μmの銅箔を重ねて、圧力4MPa、温度200℃で2時間加熱加圧成形することによって、厚さ0.1mmの銅箔を両面に有する積層板を得た。
3. Fabrication of Laminate Laminate having a copper foil with a thickness of 0.1 mm on both sides by stacking 18 μm copper foil on both sides of the above prepreg and heating and pressing at a pressure of 4 MPa and a temperature of 200 ° C. for 2 hours. Got.

4.絶縁樹脂シートの作製
前記で得られた多層プリント配線板用樹脂組成物を、厚さ25μmのPET(ポリエチレンテレフタレート)フィルムの片面に、コンマコーター装置を用いて乾燥後の絶縁フィルムの厚さが60μmとなるように塗工し、これを160℃の乾燥装置で10分間乾燥して、絶縁樹脂シートを作製した。
4). Preparation of Insulating Resin Sheet The resin composition for a multilayer printed wiring board obtained above was dried on a single side of a 25 μm thick PET (polyethylene terephthalate) film using a comma coater device, and the thickness of the insulating film was 60 μm. Then, this was dried with a drying apparatus at 160 ° C. for 10 minutes to produce an insulating resin sheet.

5.多層プリント配線板の作製
前記の両面に銅箔を有する積層板をドリル機で開口後、無電解めっきで上下銅箔間の導通を図り、前記両面の銅箔をエッチングすることにより内層回路を両面に形成した。(L/S=120/180μm、クリアランスホール1mmφ、3mmφ、スリット2mm)
次に内層回路に過酸化水素水と硫酸を主成分とする薬液(旭電化工業(株)製テックSO−G)をスプレーにて吹きつけることにより粗化処理による凹凸形成を行った。その後、前記で得られた絶縁樹脂シートを内層回路上に真空積層装置を用いて積層し、PETアフィルムを剥離し、温度170℃、時間60分間加熱し、絶縁樹脂層を半硬化させた。尚、絶縁樹脂シートを積層する条件は、温度100℃、圧力1MPa、時間30秒とした。次に、炭酸レーザー装置を用いてφ60μmの開口部(ブラインド・ビアホール)を形成し、70℃の膨潤液(アトテックジャパン社製、スウェリングディップ セキュリガント P)に10分間浸漬し、さらに80℃の過マンガン酸カリウム水溶液(アトテックジャパン社製、コンセントレート コンパクト CP)に20分浸漬後、中和して粗化処理を行った。次に脱脂、触媒付与、活性化の工程を経た後、無電解銅メッキ皮膜を約0.5μmの給電層を形成した。次にこの給電層表面に、厚さ25μmの紫外線感光性ドライフィルム(旭化成社製AQ−2558)をホットロールラミネーターにより貼り合わせ、最小線幅/線間が20/20μmのパターンが描画されたクロム蒸着マスク(トウワプロセス社製)を使用して、位置を合わせ、露光装置(ウシオ電機社製UX−1100SM−AJN01)にて露光、炭酸ソーダ水溶液にて現像し、めっきレジストを形成した。
次に、給電層を電極として電解銅めっき(奥野製薬社製81−HL)を3A/dm2、30分間行って、厚さ約25μmの銅配線を形成した。ここで2段階剥離機を用いて、前記めっきレジストを剥離した。各薬液は、1段階目のアルカリ水溶液層にはモノエタノールアミン溶液(三菱ガス化学社製R−100)、2段階目の酸化性樹脂エッチング剤には過マンガン酸カリウムと水酸化ナトリウムを主成分とする水溶液(日本マクダーミッド社製マキュダイザー9275、9276)、中和には酸性アミン水溶液(日本マクダーミッド社製マキュダイザー9279)をそれぞれ用いた。
次に、給電層を過硫酸アンモニウム水溶液(メルテックス(株)製AD−485)に浸漬処理することで、エッチング除去し、配線間の絶縁を確保した。次に絶縁樹脂層を温度200℃時間60分で最終硬化させ、最後に回路表面にソルダーレジスト(太陽インキ社製PSR4000/AUS308)を形成し、露光・現像により、半導体素子の半田バンプ配列に相当するニッケル金メッキ処理が施された接続用電極部を設け、ニッケル金メッキ処理が施し、50mm×50mmの大きさに切断し多層プリント配線板を得た。
5. Fabrication of multilayer printed wiring board After opening the laminated board having copper foil on both sides with a drilling machine, conducting conduction between upper and lower copper foils by electroless plating, etching the copper foil on both sides, Formed. (L / S = 120 / 180μm, clearance holes 1mmφ, 3mmφ, slit 2mm)
Next, the chemical | medical solution (Asahi Denka Kogyo Co., Ltd. TEC SO-G) which has a hydrogen peroxide solution and a sulfuric acid as a main component was sprayed on the inner layer circuit by the spray, and the unevenness | corrugation formation by the roughening process was performed. Thereafter, the insulating resin sheet obtained above was laminated on the inner layer circuit using a vacuum laminator, the PET film was peeled off, and heated at 170 ° C. for 60 minutes to semi-cure the insulating resin layer. The conditions for laminating the insulating resin sheets were a temperature of 100 ° C., a pressure of 1 MPa, and a time of 30 seconds. Next, a φ60 μm opening (blind via hole) is formed using a carbonic acid laser device, immersed in a swelling liquid at 70 ° C. (Swelling Dip Securigant P, manufactured by Atotech Japan) for 10 minutes, and further at 80 ° C. After immersion for 20 minutes in an aqueous potassium permanganate solution (manufactured by Atotech Japan Co., Ltd., Concentrate Compact CP), it was neutralized and roughened. Next, after passing through degreasing, catalyst application, and activation steps, an electroless copper plating film was formed with a power supply layer of about 0.5 μm. Next, a 25 μm-thick UV photosensitive dry film (AQ-2558 manufactured by Asahi Kasei Co., Ltd.) is bonded to the surface of the power feeding layer by a hot roll laminator, and a chromium having a pattern with a minimum line width / line spacing of 20/20 μm is drawn. Using a vapor deposition mask (manufactured by Towa Process Co., Ltd.), the position was adjusted, exposure was performed with an exposure apparatus (UX-1100SM-AJN01 manufactured by USHIO INC.), And development was performed with a sodium carbonate aqueous solution to form a plating resist.
Next, electrolytic copper plating (81-HL, manufactured by Okuno Pharmaceutical Co., Ltd.) was performed at 3 A / dm 2 for 30 minutes using the power feeding layer as an electrode to form a copper wiring having a thickness of about 25 μm. Here, the plating resist was peeled off using a two-stage peeling machine. Each chemical solution is mainly composed of monoethanolamine solution (R-100 manufactured by Mitsubishi Gas Chemical Co., Ltd.) in the first stage alkaline aqueous solution layer, and potassium permanganate and sodium hydroxide as the main ingredients in the second stage oxidizing resin etchant. An aqueous solution of acidic amine (Mc. Dicer 9279, manufactured by Nihon McDermid Co., Ltd.) was used for neutralization.
Next, the power feeding layer was immersed in an aqueous ammonium persulfate solution (AD-485 manufactured by Meltex Co., Ltd.) to remove it by etching and ensure insulation between the wirings. Next, the insulating resin layer is finally cured at a temperature of 200 ° C. for 60 minutes, and finally a solder resist (PSR4000 / AUS308 manufactured by Taiyo Ink Co., Ltd.) is formed on the circuit surface, which corresponds to the solder bump arrangement of the semiconductor element by exposure and development. A connecting electrode portion subjected to nickel gold plating treatment was provided, nickel gold plating treatment was performed, and cut into a size of 50 mm × 50 mm to obtain a multilayer printed wiring board.

6.半導体装置の作製
半導体装置に用いる半導体素子(TEGチップ、サイズ15mm×15mm、厚み0.8mm)は、Sn/Pb組成の共晶で形成された半田バンプを有するものを用いた。
また半導体素子の回路保護膜は、ポジ型感光性樹脂(住友ベークライト社製CRC−8300)で形成されたものを使用した。半導体装置の組み立ては、まず、前記半導体素子の半田バンプにフラックス材を転写法により均一に塗布し、次にフリップチップボンダー装置を用い、前記で得られた多層プリント配線板上に加熱圧着により搭載し、IRリフロー炉で半田バンプを溶融接合した後、液状封止樹脂(住友ベークライト社製、CRP−4152S)を充填し、液状封止樹脂を硬化させることで半導体装置を得た。尚、液状封止樹脂の硬化条件は、温度150℃、120分の条件であった。
6). Fabrication of Semiconductor Device A semiconductor element (TEG chip, size 15 mm × 15 mm, thickness 0.8 mm) used for the semiconductor device was used having a solder bump formed of a eutectic of Sn / Pb composition.
Moreover, the circuit protection film of the semiconductor element used what was formed with positive photosensitive resin (Sumitomo Bakelite Co., Ltd. CRC-8300). To assemble the semiconductor device, first apply a flux material uniformly to the solder bumps of the semiconductor element by a transfer method, and then mount it on the multilayer printed wiring board obtained above by thermocompression bonding using a flip chip bonder device. Then, after melt-bonding the solder bumps in an IR reflow furnace, a liquid sealing resin (manufactured by Sumitomo Bakelite Co., Ltd., CRP-4152S) was filled and the liquid sealing resin was cured to obtain a semiconductor device. The curing condition of the liquid sealing resin was a temperature of 150 ° C. and 120 minutes.

(実施例2)
多層プリント配線板用樹脂組成物を以下のように作製した以外は、実施例1と同様にプリプレグ、積層板、絶縁樹脂シート、多層プリント配線板、及び半導体装置を作製した。
(Example 2)
A prepreg, a laminate, an insulating resin sheet, a multilayer printed wiring board, and a semiconductor device were produced in the same manner as in Example 1 except that the resin composition for a multilayer printed wiring board was produced as follows.

[工程A]
(A)熱硬化性樹脂としてノボラック型シアネート樹脂(ロンザジャパン株式会社製、プリマセットPT−30;融点13℃、80℃において0.3〜0.75Pa・s)49.2重量部を80℃で融解し、(B)有機着色剤としてB1:ペリノンおよびアントラキノン系染料(日本化薬社製、Kayaset Black A−N)1.2重量部を添加し、80℃で1時間加熱溶融混合し、50℃まで冷却した。尚、加熱溶融混合の際の撹拌回転数は500rpmであった。
[Step A]
(A) 49.2 parts by weight of novolak-type cyanate resin (Lonza Japan Co., Ltd., Primaset PT-30; melting point 13 ° C., 0.3 to 0.75 Pa · s at 80 ° C.) as thermosetting resin at 80 ° C. (B) As an organic coloring agent, B1: Perinone and anthraquinone dye (Nippon Kayaku Co., Ltd., Kayase Black A-N) 1.2 parts by weight were added, and the mixture was heated and melted at 80 ° C. for 1 hour. Cooled to 50 ° C. In addition, the stirring rotation speed at the time of heat-melt mixing was 500 rpm.

[工程D]((C)有機溶剤中に[工程A]で得られた溶融混合物、及びその他の成分とを分散させる工程)
(C)有機溶剤としてメチルエチルケトン(MEK)を用い、工程Aで得られた混合物にメチルイソブチルケトンを加え、50℃、500rpmで30分間撹拌した。その後、エポキシ樹脂としてビフェニルアラルキル型ノボラックエポキシ樹脂(日本化薬社製、NC−3000;軟化点58℃、150℃において0.07Pa・s)28.0重量部、硬化剤としてビフェニルジメチレン型フェノール樹脂(明和化成社製、MEH−7851HHH;軟化点103℃、150℃において3.0〜5.0Pa・s)21.6重量部を添加して、50℃、回転数1000rpmで1時間撹拌して、固形分70重量%の多層プリント配線板用樹脂組成物を作製した。
[Step D] ((C) Step of dispersing the molten mixture obtained in [Step A] and other components in an organic solvent)
(C) Using methyl ethyl ketone (MEK) as an organic solvent, methyl isobutyl ketone was added to the mixture obtained in Step A, and the mixture was stirred at 50 ° C. and 500 rpm for 30 minutes. Then, 28.0 parts by weight of biphenyl aralkyl type novolak epoxy resin (manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd., NC-3000; 0.07 Pa · s at a softening point of 58 ° C. and 150 ° C.) as an epoxy resin, and biphenyldimethylene type phenol as a curing agent 21.6 parts by weight of resin (Maywa Kasei Co., Ltd., MEH-7851HHH; softening point 103 ° C., 3.0 to 5.0 Pa · s at 150 ° C.) was added and stirred at 50 ° C. for 1 hour at 1000 rpm. Thus, a resin composition for a multilayer printed wiring board having a solid content of 70% by weight was produced.

(実施例3)
多層プリント配線板用樹脂組成物を以下のように作製した以外は、実施例1と同様にプリプレグ、積層板、絶縁樹脂シート、多層プリント配線板、及び半導体装置を作製した。
(Example 3)
A prepreg, a laminate, an insulating resin sheet, a multilayer printed wiring board, and a semiconductor device were produced in the same manner as in Example 1 except that the resin composition for a multilayer printed wiring board was produced as follows.

[工程A]
(A)熱硬化性樹脂としてビスフェノールA型液状エポキシ樹脂(大日本インキ化学社製、850S;常温で液状、25℃において1100Pa・s〜1500Pa・s)24.6重量部を50℃に加熱し、(B)有機着色剤としてB1:ペリノンおよびアントラキノン系染料(日本化薬社製、Kayaset Black A−N)0.6重量部を添加、80℃、回転数500rpmで1時間溶融混合し、50℃まで冷却した。尚、加熱溶融混合の際の撹拌回転数は、500rpmであった。
[Step A]
(A) As a thermosetting resin, 24.6 parts by weight of bisphenol A type liquid epoxy resin (Dainippon Ink Chemical Co., Ltd., 850S; liquid at room temperature, 1100 Pa · s to 1500 Pa · s at 25 ° C.) is heated to 50 ° C. (B) B1: Perinone as an organic colorant and 0.6 part by weight of anthraquinone dye (manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd., Kayase Black A-N) were added, and melt mixed at 80 ° C. and a rotation speed of 500 rpm for 1 hour. Cooled to ° C. In addition, the stirring rotation speed at the time of heat-melt mixing was 500 rpm.

[工程B]
(C)有機溶剤としてメチルエチルケトン(MEK)を用い、(D)無機充填材として球状溶融シリカ(アドマテックス社製、SO25R、平均粒径0.5μm)49.8重量部をメチルイソブチルケトンに分散させ、60重量%濃度のスラリーを得た。尚、スラリーは、室温下、回転数500rpmで30分撹拌して得た。
[Step B]
(C) Methyl ethyl ketone (MEK) is used as an organic solvent, and (D) 49.8 parts by weight of spherical fused silica (manufactured by Admatechs, SO25R, average particle size 0.5 μm) is dispersed in methyl isobutyl ketone as an inorganic filler. A slurry with a concentration of 60% by weight was obtained. The slurry was obtained by stirring for 30 minutes at a rotation speed of 500 rpm at room temperature.

[工程C]
前記[工程A]得られた溶融混合物、及び前記[工程B]で得られたスラリーを混ぜ撹拌し、次にエポキシ樹脂としてビフェニルアラルキル型ノボラックエポキシ樹脂(日本化薬社製、NC−3000)14.0重量部、硬化剤としてビフェニルジメチレン型フェノール樹脂(明和化成社製、MEH−7851HHH)10.8重量部、カップリング剤(GE東芝シリコーン社製、A187)0.2重量部を添加して、高速撹拌装置を用いて常温、回転数1000rpmで1時間撹拌し、分散させ、固形分70重量%の多層プリント配線板用樹脂組成物を作製した。
[Step C]
[Step A] The molten mixture obtained in [Step A] and the slurry obtained in [Step B] were mixed and stirred, and then biphenylaralkyl type novolak epoxy resin (Nippon Kayaku Co., Ltd., NC-3000) 14 as an epoxy resin. 0.0 part by weight, 10.8 parts by weight of biphenyl dimethylene type phenol resin (Maywa Kasei Co., Ltd., MEH-7851HHH) as a curing agent, and 0.2 part by weight of coupling agent (GE Toshiba Silicone Co., Ltd., A187) were added. Then, the mixture was stirred for 1 hour at room temperature and a rotational speed of 1000 rpm using a high-speed stirrer, and dispersed to prepare a resin composition for a multilayer printed wiring board having a solid content of 70% by weight.

(実施例4)
多層プリント配線板用樹脂組成物を以下のように作製した以外は、実施例1と同様にプリプレグ、積層板、絶縁樹脂シート、多層プリント配線板、及び半導体装置を作製した。
Example 4
A prepreg, a laminate, an insulating resin sheet, a multilayer printed wiring board, and a semiconductor device were produced in the same manner as in Example 1 except that the resin composition for a multilayer printed wiring board was produced as follows.

[工程A]
(A)熱硬化性樹脂としてノボラック型シアネート樹脂(ロンザジャパン株式会社製、プリマセットPT−30;融点13℃、80℃において0.3〜0.75Pa・s)24.6重量部を80℃に溶融し、(B)有機着色剤としてB2:メチンおよびアントラキノン系染料(日本化薬社製、Kayaset Black G)0.6重量部を添加し、80℃で1時間加熱溶融混合した。尚、加熱溶融混合の際の撹拌回転数は、500rpmであった。
[Step A]
(A) As a thermosetting resin, 24.6 parts by weight of novolak type cyanate resin (Lonza Japan KK, Primaset PT-30; melting point 13 ° C., 0.3 to 0.75 Pa · s at 80 ° C.) 80 ° C. (B) 0.62 parts by weight of B2: methine and anthraquinone dye (manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd., Kayase Black G) were added as an organic colorant, and heated and melted and mixed at 80 ° C. for 1 hour. In addition, the stirring rotation speed at the time of heat-melt mixing was 500 rpm.

[工程B]
(C)有機溶剤としてメチルエチルケトン(MEK)を用い、(D)無機充填材として球状溶融シリカ(アドマテックス社製、SO25R、平均粒径0.5μm)49.8重量部をメチルエチルケトン(MEK)に分散させ、60重量%濃度のスラリーを得た。尚、スラリーは、室温下、回転数500rpmで、1時間撹拌して得た。
[Step B]
(C) Methyl ethyl ketone (MEK) is used as the organic solvent, and (D) 49.8 parts by weight of spherical fused silica (manufactured by Admatechs, SO25R, average particle size 0.5 μm) is dispersed in methyl ethyl ketone (MEK) as the inorganic filler. To obtain a slurry having a concentration of 60% by weight. The slurry was obtained by stirring for 1 hour at a rotation speed of 500 rpm at room temperature.

[工程C]
前記[工程A]で得られた溶融混合物と、前記[工程B]で得られスラリーを、50℃、回転数500rpmで30分間撹拌した。
次に、エポキシ樹脂としてビフェニルアラルキル型ノボラックエポキシ樹脂(日本化薬社製、NC−3000;軟化点58℃、150℃において0.07Pa・s)14.0重量部、硬化剤としてビフェニルジメチレン型フェノール樹脂(明和化成社製、MEH−7851HHH)10.8重量部、カップリング剤(GE東芝シリコーン社製、A187)0.2重量部を添加して、常温下、回転数1000rpmで1時間撹拌し、固形分70重量%の多層プリント配線板用樹脂組成物を作製した。
[Step C]
The molten mixture obtained in [Step A] and the slurry obtained in [Step B] were stirred at 50 ° C. and a rotation speed of 500 rpm for 30 minutes.
Next, 14.0 parts by weight of a biphenyl aralkyl type novolak epoxy resin (manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd., NC-3000; 0.07 Pa · s at a softening point of 58 ° C. and 150 ° C.) as an epoxy resin, and a biphenyl dimethylene type as a curing agent 10.8 parts by weight of a phenol resin (Maywa Kasei Co., Ltd., MEH-7851HHH) and 0.2 parts by weight of a coupling agent (GE Toshiba Silicone Co., Ltd., A187) were added and stirred at room temperature for 1 hour at a rotation speed of 1000 rpm. A resin composition for a multilayer printed wiring board having a solid content of 70% by weight was produced.

(実施例5)
多層プリント配線板用樹脂組成物を以下のように作製した以外は、実施例1と同様にプリプレグ、積層板、絶縁樹脂シート、多層プリント配線板、及び半導体装置を作製した。
[工程A]
(A)熱硬化性樹脂としてノボラック型シアネート樹脂(ロンザジャパン株式会社製、プリマセットPT−30;融点13℃、80℃において0.3〜0.75Pa・s)24.6重量部を80℃に加熱融解し、(B)B3:有機着色剤(中央合成化学社製、Sudan Black 141)0.6重量部を添加後、80℃で1時間、回転数500rpmで撹拌し、分散させた後、50℃まで冷却した。
(Example 5)
A prepreg, a laminate, an insulating resin sheet, a multilayer printed wiring board, and a semiconductor device were produced in the same manner as in Example 1 except that the resin composition for a multilayer printed wiring board was produced as follows.
[Step A]
(A) As a thermosetting resin, 24.6 parts by weight of novolak type cyanate resin (Lonza Japan KK, Primaset PT-30; melting point 13 ° C., 0.3 to 0.75 Pa · s at 80 ° C.) 80 ° C. (B) B3: After adding 0.6 parts by weight of an organic colorant (Chuo Synthetic Chemical Co., Ltd., Sudan Black 141), the mixture was stirred at 80 ° C. for 1 hour at 500 rpm and dispersed. And cooled to 50 ° C.

[工程B]
(C)有機溶剤としてメチルエチルケトン(MEK)を用い、(D)無機充填材として球状溶融シリカ(アドマテックス社製、SO25R、平均粒径0.5μm)49.8重量部をメチルエチルケトン(MEK)に分散させ、60重量%濃度のスラリーを得た。尚、スラリーは、室温下、回転数500rpmで、1時間撹拌して得た。
[Step B]
(C) Methyl ethyl ketone (MEK) is used as the organic solvent, and (D) 49.8 parts by weight of spherical fused silica (manufactured by Admatechs, SO25R, average particle size 0.5 μm) is dispersed in methyl ethyl ketone (MEK) as the inorganic filler. To obtain a slurry having a concentration of 60% by weight. The slurry was obtained by stirring for 1 hour at a rotation speed of 500 rpm at room temperature.

[工程C]
前記[工程A]で得られた溶融混合物を、前記[工程B]で得られたスラリーに加え、50℃、回転数500rpmで30分間撹拌した。
次に、エポキシ樹脂としてビフェニルアラルキル型ノボラックエポキシ樹脂(日本化薬社製、NC−3000)24.8重量部、カップリング剤(GE東芝シリコーン社製、A187)0.2重量部を添加して、常温下、回転数1000rpmで1時間撹拌し、固形分70重量%の多層プリント配線板用樹脂組成物を作製した。
[Step C]
The molten mixture obtained in [Step A] was added to the slurry obtained in [Step B] and stirred at 50 ° C. and a rotation speed of 500 rpm for 30 minutes.
Next, 24.8 parts by weight of a biphenyl aralkyl type novolak epoxy resin (Nippon Kayaku Co., Ltd., NC-3000) and 0.2 part by weight of a coupling agent (GE Toshiba Silicone Co., Ltd., A187) were added as an epoxy resin. The resin composition for multilayer printed wiring boards having a solid content of 70% by weight was prepared by stirring at room temperature and rotating at 1000 rpm for 1 hour.

(実施例6)
多層プリント配線板用樹脂組成物を以下のように作製した以外は、実施例1と同様にプリプレグ、積層板、絶縁樹脂シート、多層プリント配線板、及び半導体装置を作製した。
(Example 6)
A prepreg, a laminate, an insulating resin sheet, a multilayer printed wiring board, and a semiconductor device were produced in the same manner as in Example 1 except that the resin composition for a multilayer printed wiring board was produced as follows.

[工程A]
(A)熱硬化性樹脂としてノボラック型シアネート樹脂(ロンザジャパン株式会社製、プリマセットPT−30;融点13℃、80℃において0.3〜0.75Pa・s)24.6重量部を80℃で融解し、(B)有機着色剤としてB1:ペリノンおよびアントラキノン系染料(日本化薬社製、Kayaset Black A−N)0.6重量部添加し、80℃で1時間加熱溶融混合し、50℃まで冷却した。尚、加熱溶融混合の際の撹拌回転数は、500rpmであった。
[Step A]
(A) As a thermosetting resin, 24.6 parts by weight of novolak type cyanate resin (Lonza Japan KK, Primaset PT-30; melting point 13 ° C., 0.3 to 0.75 Pa · s at 80 ° C.) 80 ° C. (B) As an organic colorant, B1: Perinone and anthraquinone dye (Nippon Kayaku Co., Ltd., Kayase Black A-N) 0.6 parts by weight were added, and the mixture was heated, melted and mixed at 80 ° C. for 1 hour, 50 Cooled to ° C. In addition, the stirring rotation speed at the time of heat-melt mixing was 500 rpm.

[工程B]
(C)有機溶剤としてジメチルアセトアミド(DMAc)を用い、(D)無機充填材として球状溶融シリカ(アドマテックス社製、SO25R、平均粒径0.5μm)49.8重量部をジメチルアセトアミドに分散させ、60重量%濃度のスラリーを得た。尚、スラリーは、室温下、回転数500rpmで、1時間撹拌して得た。
[Step B]
(C) Dimethylacetamide (DMAc) is used as an organic solvent, (D) 49.8 parts by weight of spherical fused silica (manufactured by Admatechs, SO25R, average particle size 0.5 μm) is dispersed in dimethylacetamide as an inorganic filler. A slurry with a concentration of 60% by weight was obtained. The slurry was obtained by stirring for 1 hour at a rotation speed of 500 rpm at room temperature.

[工程C]
前記[工程A]で得られた溶融混合物を、前記[工程B]で得られたスラリーに加え、50℃、回転数500rpmで30分間撹拌した。
次に、エポキシ樹脂としてビフェニルアラルキル型ノボラックエポキシ樹脂(日本化薬社製、NC−3000)14.0重量部、硬化剤としてビフェニルジメチレン型フェノール樹脂(明和化成社製、MEH−7851HHH)10.8重量部、カップリング剤(GE東芝シリコーン社製、A187)0.2重量部を添加して、常温下、回転数1000rpmで1時間撹拌し、固形分70重量%の多層プリント配線板用樹脂組成物を作製した。
[Step C]
The molten mixture obtained in [Step A] was added to the slurry obtained in [Step B] and stirred at 50 ° C. and a rotation speed of 500 rpm for 30 minutes.
Next, 14.0 parts by weight of a biphenylaralkyl type novolak epoxy resin (Nippon Kayaku Co., Ltd., NC-3000) as an epoxy resin, and biphenyldimethylene type phenolic resin (MEH-7851HHH, manufactured by Meiwa Kasei Co., Ltd.) as a curing agent 8 parts by weight and 0.2 part by weight of a coupling agent (GE Toshiba Silicone Co., Ltd., A187) are added, and the mixture is stirred at room temperature for 1 hour at a rotation speed of 1000 rpm. A composition was prepared.

(実施例7)
[工程A]((A)熱硬化性樹脂と(B)有機着色剤との加熱溶融混合工程)
(A)熱硬化性樹脂としてノボラック型シアネート樹脂(ロンザジャパン株式会社製 プリマセットPT−30;融点13℃、80℃において0.3〜0.75Pa・s)24.6重量部を80℃で溶融し、(B)有機着色剤としてB1:ペリノンおよびアントラキノン系染料(日本化薬社製、Kayaset Black A−N)0.6重量部を添加し、100℃で1時間加熱溶融混合し、50℃まで冷却した。尚、加熱溶融混合の際の撹拌回転数は500rpmであった。
(Example 7)
[Step A] ((A) Heat-melt mixing step of (A) thermosetting resin and (B) organic colorant)
(A) As a thermosetting resin, 24.6 parts by weight of novolak-type cyanate resin (Lonza Japan Co., Ltd. Primaset PT-30; melting point 13 ° C., 0.3 to 0.75 Pa · s at 80 ° C.) at 80 ° C. (B) B1: Perinone and anthraquinone dye (Nippon Kayaku Co., Ltd., Kayase Black A-N) 0.6 parts by weight as an organic colorant were added, and the mixture was heated and melted and mixed at 100 ° C. for 1 hour, 50 Cooled to ° C. In addition, the stirring rotation speed at the time of heat-melt mixing was 500 rpm.

[工程B]((C)有機溶剤中に(D)無機充填材を分散させる工程)
(C)有機溶剤としてメチルエチルケトン(MEK)を用い、(D)無機充填材として水酸化アルミニウム(昭和電工社製、H−42M、平均粒径1.1μm)49.8重量部をメチルエチルケトン(MEK)に分散させ、60重量%濃度のスラリーを得た。尚、スラリーは、室温下、回転数500rpmで、1時間撹拌して得た。
[Step B] ((C) (D) Step of dispersing inorganic filler in organic solvent)
(C) Methyl ethyl ketone (MEK) is used as the organic solvent, (D) 49.8 parts by weight of aluminum hydroxide (Showa Denko, H-42M, average particle size 1.1 μm) as the inorganic filler is methyl ethyl ketone (MEK) To obtain a slurry having a concentration of 60% by weight. The slurry was obtained by stirring at room temperature at a rotation speed of 500 rpm for 1 hour.

[工程C]
([工程A]で得られた溶融混合物、及び[工程B]で得られたスラリーとその他の成分を分散させる工程)
工程Aで得られた溶融混合物を前記[工程B]で得られたスラリーに加え、50℃、回転数500rpmで30分間撹拌した。
次に、エポキシ樹脂としてビフェニルアラルキル型ノボラックエポキシ樹脂(日本化薬社製、NC−3000;軟化点58℃、150℃において0.07Pa・s)14.0重量部、硬化剤としてビフェニルジメチレン型フェノール樹脂(明和化成社製、MEH−7851HHH)10.8重量部、カップリング剤(GE東芝シリコーン社製、A187)0.2重量部を添加して、常温下、回転数1000rpmで1時間撹拌し、固形分70重量%の多層プリント配線板用樹脂組成物を作製した。
[Step C]
(The step of dispersing the molten mixture obtained in [Step A] and the slurry obtained in [Step B] and other components)
The molten mixture obtained in Step A was added to the slurry obtained in [Step B] and stirred for 30 minutes at 50 ° C. and a rotation speed of 500 rpm.
Next, 14.0 parts by weight of a biphenyl aralkyl type novolak epoxy resin (manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd., NC-3000; 0.07 Pa · s at a softening point of 58 ° C. and 150 ° C.) as an epoxy resin, and a biphenyl dimethylene type as a curing agent 10.8 parts by weight of a phenol resin (Maywa Kasei Co., Ltd., MEH-7851HHH) and 0.2 parts by weight of a coupling agent (GE Toshiba Silicone Co., Ltd., A187) were added and stirred at room temperature for 1 hour at a rotation speed of 1000 rpm. A resin composition for a multilayer printed wiring board having a solid content of 70% by weight was produced.

(比較例1)
多層プリント配線板用樹脂組成物の作製方法を以下のようにした以外は、実施例1と同様にプリプレグ、積層板、絶縁樹脂シート、多層プリント配線板、及び半導体装置を作製した。
(Comparative Example 1)
A prepreg, a laminate, an insulating resin sheet, a multilayer printed wiring board, and a semiconductor device were produced in the same manner as in Example 1 except that the method for producing the resin composition for a multilayer printed wiring board was as follows.

[工程E]((C)有機溶剤中、室温下で樹脂成分を分散させる工程)
(C)有機溶剤としてメチルエチルケトン(MEK)を用い、メチルエチルケトン(MEK)溶剤中にエポキシ樹脂としてビフェニルアラルキル型ノボラックエポキシ樹脂(日本化薬社製、NC−3000;軟化点58℃、150℃において0.07Pa・s)14.0重量部、硬化剤としてビフェニルジメチレン型フェノール樹脂(日本化薬株式会社製、MEH−7851HHH)10.8重量部、 ノボラック型シアネート樹脂(ロンザジャパン株式会社製、プリマセットPT−30)24.6重量部を添加し、常温下、回転数1000rpmで1時間撹拌した。
[Step E] ((C) Step of dispersing resin component in organic solvent at room temperature)
(C) Methyl ethyl ketone (MEK) is used as the organic solvent, and a biphenylaralkyl type novolac epoxy resin (Nippon Kayaku Co., Ltd., NC-3000; softening point 58 ° C., 150 ° C. is used as the epoxy resin in the methyl ethyl ketone (MEK) solvent. 07 Pa · s) 14.0 parts by weight, biphenyldimethylene type phenolic resin (manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd., MEH-7851HHH) as a curing agent, 10.8 parts by weight, novolac type cyanate resin (manufactured by Lonza Japan Co., Ltd., Primaset) 2-30 parts by weight of PT-30) was added, and the mixture was stirred at room temperature for 1 hour at 1000 rpm.

[工程F]([工程E]で得られた混合物に、他の成分を添加し、常温下で分散させる工程)
前記[工程E]で得られた混合物に、(C)無機充填材として球状溶融シリカ(アドマテックス社製・「SO−25R」、平均粒径0.5μm)49.8重量部とカップリング剤(日本ユニカー社製、A187)0.2重量部、(B)着色剤としB1:ペリノンおよびアントラキノン系染料(日本化薬社製、Kayaset Black A−N)0.6重量部を添加して、常温下、回転数1000rpmで10分間、撹拌して、固形分50重量%の多層プリント配線板用樹脂組成物を作製した。
[Step F] (Step of adding other components to the mixture obtained in [Step E] and dispersing at room temperature)
In the mixture obtained in [Step E], (C) 49.8 parts by weight of spherical fused silica (manufactured by Admatechs Co., Ltd., “SO-25R”, average particle size 0.5 μm) as an inorganic filler and a coupling agent (Nihon Unicar Co., Ltd., A187) 0.2 parts by weight, (B) as a colorant, B1: perinone and anthraquinone dye (Nippon Kayaku Co., Ltd., Kayase Black A-N) 0.6 parts by weight, The resin composition for multilayer printed wiring boards having a solid content of 50% by weight was prepared by stirring at room temperature at a rotation speed of 1000 rpm for 10 minutes.

(比較例2)
多層プリント配線板用樹脂組成物を以下のように作製した以外は、実施例1と同様にプリプレグ、積層板、絶縁樹脂シート、多層プリント配線板、及び半導体装置を作製した。
[工程G]
(軟化点、又は融点が50℃以上の熱硬化性樹脂に(B)着色剤を加熱溶融混合する工程)
ビフェニルアラルキル型ノボラックエポキシ樹脂(日本化薬社製、NC−3000;軟化点58℃、150℃において0.07Pa・s)14.0重量を80℃に加熱融解し、(B)着色剤としB1:ペリノンおよびアントラキノン系染料(日本化薬社製、Kayaset Black A−N)0.6重量部を添加し、80℃で1時間加熱溶融混合した。尚、過熱溶融混合の際の撹拌回転数500rpmであった。
(Comparative Example 2)
A prepreg, a laminate, an insulating resin sheet, a multilayer printed wiring board, and a semiconductor device were produced in the same manner as in Example 1 except that the resin composition for a multilayer printed wiring board was produced as follows.
[Step G]
(Step of heating and mixing (B) colorant into thermosetting resin having softening point or melting point of 50 ° C. or higher)
Biphenyl aralkyl type novolak epoxy resin (Nippon Kayaku Co., Ltd., NC-3000; softening point: 58 ° C., 0.07 Pa · s at 150 ° C.) 14.0 wt. : 0.6 part by weight of perinone and anthraquinone dye (Nippon Kayaku Co., Ltd., Kayase Black A-N) was added, and the mixture was melted by heating at 80 ° C. for 1 hour. In addition, it was 500 rpm of stirring rotation in the case of superheated melt mixing.

[工程B]
(C)有機溶剤としてメチルエチルケトン(MEK)を用い、(D)無機充填材として球状溶融シリカ(アドマテックス社製、SO25R、平均粒径0.5μm)49.8重量部を分散させ、60重量%濃度のスラリーを得た。尚、スラリーは、室温下、回転数500rpmで、1時間撹拌して得た。
[Step B]
(C) Methyl ethyl ketone (MEK) is used as the organic solvent, (D) 49.8 parts by weight of spherical fused silica (manufactured by Admatechs, SO25R, average particle size 0.5 μm) is dispersed as the inorganic filler, and 60% by weight A slurry of concentration was obtained. The slurry was obtained by stirring for 1 hour at a rotation speed of 500 rpm at room temperature.

[工程C]
次に、前記[工程G]で得られた混合物を前記[工程B]で得られたスラリーに加え、50℃、回転数500rpmで30分間撹拌した。
その後、シアネート樹脂としてノボラック型シアネート樹脂(ロンザジャパン株式会社製、プリマセットPT−30)24.6重量部、硬化剤としてビフェニルジメチレン型フェノール樹脂(明和化成社製、MEH−7851HHH)10.8重量部、カップリング剤(GE東芝シリコーン社製、A187)0.2重量部を添加して、常温下、回転数1000rpmで1時間撹拌し、固形分70重量%の多層プリント配線板用樹脂組成物を作製した。
[Step C]
Next, the mixture obtained in [Step G] was added to the slurry obtained in [Step B] and stirred at 50 ° C. and a rotation speed of 500 rpm for 30 minutes.
Thereafter, 24.6 parts by weight of a novolak cyanate resin (Lonza Japan Co., Ltd., Primaset PT-30) as the cyanate resin, and biphenyldimethylene type phenolic resin (Maywa Kasei Co., Ltd., MEH-7851HHH) 10.8 as the curing agent. Part by weight, 0.2 parts by weight of a coupling agent (GE 187 manufactured by Toshiba Silicone Co., Ltd.), stirred at room temperature for 1 hour at a rotational speed of 1000 rpm, and a resin composition for a multilayer printed wiring board having a solid content of 70% by weight A product was made.

(比較例3)
多層プリント配線板用樹脂組成物を以下のように作製した以外は、実施例1と同様にプリプレグ、積層板、絶縁樹脂シート、多層プリント配線板、及び半導体装置を作製した。
(Comparative Example 3)
A prepreg, a laminate, an insulating resin sheet, a multilayer printed wiring board, and a semiconductor device were produced in the same manner as in Example 1 except that the resin composition for a multilayer printed wiring board was produced as follows.

[工程A]
(A)熱硬化性樹脂としてノボラック型シアネート樹脂(ロンザジャパン株式会社製、プリマセットPT−30;融点13℃、80℃において0.3〜0.75Pa・s)24.6重量部を80℃で溶融し、(B)有機着色材として着色剤としB1:ペリノンおよびアントラキノン系染料(日本化薬社製、Kayaset Black A−N)0.6重量部を添加し、80℃で1時間加熱溶融混合し、50℃まで冷却した。尚、加熱溶融混合の際の撹拌回転数は、500rpmであった。
[Step A]
(A) As a thermosetting resin, 24.6 parts by weight of novolak type cyanate resin (Lonza Japan KK, Primaset PT-30; melting point 13 ° C., 0.3 to 0.75 Pa · s at 80 ° C.) 80 ° C. (B) As a colorant as an organic colorant, B1: Perinone and anthraquinone dye (Nippon Kayaku Co., Ltd., Kayase Black A-N) 0.6 parts by weight are added, and heated and melted at 80 ° C. for 1 hour. Mix and cool to 50 ° C. In addition, the stirring rotation speed at the time of heat-melt mixing was 500 rpm.

[工程H](蒸留水中に(D)無機充填材を分散させる工程)
(D)無機充填材として球状溶融シリカ(アドマテックス社製、SO25R、平均粒径0.5μm)49.8重量部を蒸留水に分散させ、60重量%濃度のスラリーを得た。尚、スラリーは、室温下、回転数500rpmで、1時間撹拌して得た。
[Step H] (Step of dispersing (D) inorganic filler in distilled water)
(D) As an inorganic filler, 49.8 parts by weight of spherical fused silica (manufactured by Admatechs, SO25R, average particle size 0.5 μm) was dispersed in distilled water to obtain a slurry having a concentration of 60% by weight. The slurry was obtained by stirring for 1 hour at a rotation speed of 500 rpm at room temperature.

[工程I]([工程A]で得られた溶融混合物、及び[工程H]で得られたスラリーと、その他の成分とを分散させる工程)
前記[工程A]で得られた混合物を前記[工程H]で得られたスラリーに加え、50℃、回転数500rpmで30分間撹拌した。
次に、エポキシ樹脂としてビフェニルアラルキル型ノボラックエポキシ樹脂(日本化薬社製、NC−3000)14.0重量部、硬化剤としてビフェニルジメチレン型フェノール樹脂(明和化成社製、MEH−7851HHH)10.8重量部、カップリング剤(GE東芝シリコーン社製、A187)0.2重量部を添加して、高速撹拌装置を用いて常温下、回転数1000rpmで1時間撹拌し、固形分70重量%の多層プリント配線板用樹脂組成物を作製した。
[Step I] (Step of dispersing the molten mixture obtained in [Step A] and the slurry obtained in [Step H] and other components)
The mixture obtained in [Step A] was added to the slurry obtained in [Step H] and stirred at 50 ° C. and a rotation speed of 500 rpm for 30 minutes.
Next, 14.0 parts by weight of a biphenylaralkyl type novolak epoxy resin (Nippon Kayaku Co., Ltd., NC-3000) as an epoxy resin, and biphenyldimethylene type phenolic resin (MEH-7851HHH, manufactured by Meiwa Kasei Co., Ltd.) as a curing agent 8 parts by weight and 0.2 parts by weight of a coupling agent (GE 187 manufactured by Toshiba Silicone Co., Ltd.) were added, and the mixture was stirred for 1 hour at a rotation speed of 1000 rpm at room temperature using a high-speed stirrer. A resin composition for a multilayer printed wiring board was produced.

実施例および比較例で得られた多層プリント配線板用樹脂組成物、プリプレグ、積層板、多層プリント配線板、及び半導体装置について、特性の評価を行った。結果を表1に示す。 The characteristics of the resin compositions for multilayer printed wiring boards, prepregs, laminates, multilayer printed wiring boards, and semiconductor devices obtained in the examples and comparative examples were evaluated. The results are shown in Table 1.

Figure 0005029291
Figure 0005029291

評価方法は、以下の通りである。 The evaluation method is as follows.

1.多層プリント配線板用樹脂組成物の濾過残渣
作製した多層プリント配線板用樹脂組成物を400メッシュで濾過し、無機充填剤、着色剤、その他樹脂成分の残渣の有無を目視にて確認実施した。
1. Filtration residue of resin composition for multilayer printed wiring board The produced resin composition for multilayer printed wiring board was filtered through 400 mesh, and the presence or absence of residues of inorganic filler, colorant, and other resin components was visually confirmed.

2.多層プリント配線板用樹脂組成物の粒度分布測定
粒度分布計(島津製作所社製、SALD−7000−WJA1)を用いて、作製した多層プリント配線板用樹脂組成物の粒度分布測定を屈折率1.60−0.10iの条件下にて行った。体積換算にて平均粒径および、90%粒子径の測定を行った。
2. Measurement of Particle Size Distribution of Resin Composition for Multilayer Printed Wiring Board Using a particle size distribution meter (SALD-7000-WJA1 manufactured by Shimadzu Corporation), measurement of the particle size distribution of the prepared resin composition for multilayer printed wiring board is performed with a refractive index of 1. The test was performed under the condition of 60-0.10i. The average particle size and 90% particle size were measured in terms of volume.

3.多層プリント配線板用樹脂組成物の粘度測定
E型粘度計を用いて、多層プリント配線板用樹脂組成物の粘度測定を回転数100rpmの条件下にて25℃における粘度を測定した。
3. Viscosity Measurement of Multilayer Printed Wiring Board Resin Composition Using an E-type viscometer, the viscosity of the multilayer printed wiring board resin composition was measured at 25 ° C. under the condition of a rotation speed of 100 rpm.

4.プリプレグの外観
作製したプリプレグにおいて、無機充填剤や有機化合物の凝集による外観ムラの有無を目視にて確認実施した。
4). Appearance of prepreg In the prepared prepreg, the presence or absence of appearance unevenness due to aggregation of inorganic fillers and organic compounds was visually confirmed.

5.絶縁樹脂シートの外観
作製した絶縁樹脂シートにおいて、無機充填剤や有機化合物の凝集による外観ムラの有無を目視にて確認実施した。
5. Appearance of Insulating Resin Sheet In the insulating resin sheet prepared, the presence or absence of appearance unevenness due to aggregation of inorganic fillers and organic compounds was visually confirmed.

6.絶縁樹脂シートの 粗化処理後の外観
絶縁樹脂シートを内層基板に積層し、粗化処理した際の外観を金属顕微鏡により観察し、粗化ムラや、ひび割れ等外観不良が無いか観察を行った。
6). The appearance of the insulating resin sheet after the roughening treatment was laminated on the inner layer substrate, and the appearance when the roughening treatment was performed was observed with a metallurgical microscope to observe whether there were any appearance defects such as roughening unevenness or cracks. .

7.積層板の熱膨張率
得られた積層板の熱膨張係数を、TMA装置(TAインスツルメント社製)を用いて、10℃/分で昇温して測定した。MD方向について測定を行った。
7). Thermal expansion coefficient of laminated board The thermal expansion coefficient of the obtained laminated board was measured by raising the temperature at 10 ° C./min using a TMA apparatus (TA Instruments). Measurements were made in the MD direction.

8.多層プリント配線板断面の絶縁樹脂層の分散性
上述の多層プリント配線板の中央部を切り出し、断面を金属顕微鏡で観察した。絶縁樹脂層に均一な樹脂層が形成されているか否かを確認した。
8). Dispersibility of insulating resin layer in cross section of multilayer printed wiring board The central portion of the above multilayer printed wiring board was cut out, and the cross section was observed with a metal microscope. It was confirmed whether a uniform resin layer was formed on the insulating resin layer.

9.耐湿信頼性
耐湿信頼性は、前記で得られた半導体装置を、温度85℃、湿度85%の雰囲気下で100時間放置後、260℃リフローを3回行い、超音波深傷検査装置で半導体素子裏面の剥離、および半田バンプの欠損を価した。
各符号は以下の通りである。
○:実質上問題なし アンダーフィル周辺に微小剥離のみ、バンプ欠損なし
×:実質上使用不可 10%以上の剥離およびバンプ欠損
9. Moisture resistance reliability The humidity resistance reliability is determined by leaving the semiconductor device obtained above for 100 hours in an atmosphere of 85 ° C. and 85% humidity, then performing 3 times of 260 ° C. reflow, The backside peeling and solder bump defects were valued.
Each code is as follows.
○: practically no problem Only minute peeling around the underfill, no bump defect ×: practically unusable 10% or more peeling and bump defect

10.熱衝撃性試験(温度サイクル(TC)試験)
前記の半導体装置の導通を確認後、−50℃で10分、125℃で10分を1サイクルとする温度サイクル(TC)試験を実施した。TC試験1000サイクル後の断線不良有無を評価した。
10. Thermal shock test (temperature cycle (TC) test)
After confirming the continuity of the semiconductor device, a temperature cycle (TC) test was performed in which one cycle was -50 ° C for 10 minutes and 125 ° C for 10 minutes. The presence or absence of disconnection failure after 1000 cycles of the TC test was evaluated.

実施例1〜7は、凝集物のない均一な多層プリント配線板用樹脂組成物であり、多層プリント配線板用樹脂組成物に凝集が発生せず、その結果、粘度も低く良好な結果であった。また、当該多層プリント配線板用樹脂組成物を用い作製したプリプレグ、及び絶縁樹脂シートは、良好な外観を有した。なお、実施例2については無機充填剤を添加しておらず、溶剤不溶分が存在しないため、粒度分布においてピークは現れなかった。   Examples 1 to 7 are uniform multilayer printed wiring board resin compositions having no aggregates, and no aggregation occurred in the multilayer printed wiring board resin composition, resulting in good results with low viscosity. It was. Moreover, the prepreg produced using the resin composition for multilayer printed wiring boards and the insulating resin sheet had a good appearance. In Example 2, no inorganic filler was added and no solvent-insoluble component was present, so no peak appeared in the particle size distribution.

一方、比較例1は溶融混合せずに、(B)有機着色剤を常温で添加して撹拌した例であるが、プリプレグや絶縁樹脂シートを作製した際、無機充填剤や着色剤の凝集による外観ムラが発生した。また、粒度分布についても、実施例1と比較して平均粒径が高くなり、その結果、多層プリント配線板用樹脂組成物の粘度が実施例1と比較して増粘する結果となった。また、粗化時の粗化ムラが生じた。
比較例2は、軟化点が50℃を超える熱硬化性樹脂を用いた例であるが、加熱溶融混合の際に十分粘度が下がらないために比較例1と同様、プリプレグや絶縁樹脂シートを作製した際に、凝集物が見られる結果となり、粗化処理において粗化ムラが生じる結果となった。
比較例3は有機溶剤を用いず、蒸留水を溶剤として用いた例であるが、比較例1、及び2と同様無機充填剤や着色剤の凝集による外観ムラ、粗化ムラが生じる結果となった。
On the other hand, Comparative Example 1 is an example in which (B) the organic colorant was added and stirred at room temperature without being melt-mixed. However, when a prepreg or an insulating resin sheet was produced, the inorganic filler or the colorant was aggregated. Appearance unevenness occurred. Moreover, also about the particle size distribution, the average particle diameter became high compared with Example 1, and as a result, the viscosity of the resin composition for multilayer printed wiring boards was thickened compared with Example 1. Moreover, roughening unevenness during roughening occurred.
Comparative Example 2 is an example using a thermosetting resin having a softening point exceeding 50 ° C., but a prepreg or an insulating resin sheet is produced in the same manner as Comparative Example 1 because the viscosity does not decrease sufficiently during heat-melt mixing. As a result, agglomerates were observed, resulting in roughening unevenness in the roughening treatment.
Comparative Example 3 is an example in which distilled water was used as a solvent without using an organic solvent. However, as in Comparative Examples 1 and 2, uneven appearance and roughening due to aggregation of inorganic fillers and colorants were caused. It was.

本発明の多層プリント配線板用樹脂組成物は、有機着色剤を含むにもかかわらず均一で、凝集物の無いことから、外観が良く、さらに高機能を発現できるプリプレグや樹脂シートを得ることができる。 The multilayer printed wiring board resin composition of the present invention is uniform and free of agglomerates in spite of containing an organic colorant, so that it is possible to obtain a prepreg or a resin sheet that has good appearance and can exhibit high functionality. it can.

Claims (10)

(A)軟化点、又は融点が50℃以下の熱硬化性樹脂に、(B)有機着色剤を、(A)熱硬化性樹脂の軟化点、又は融点以上の温度で加熱溶融混合させてなる溶融混合物を、(C)有機溶剤と(D)無機充填剤とを混合してなるスラリーに分散させてなることを特徴とする多層プリント配線板用樹脂組成物。 (A) A softening point or a melting point of a thermosetting resin having a melting point of 50 ° C. or less, and (B) an organic colorant is heated and melted and mixed at a temperature equal to or higher than the softening point of the (A) thermosetting resin. A resin composition for a multilayer printed wiring board , wherein a molten mixture is dispersed in a slurry obtained by mixing (C) an organic solvent and (D) an inorganic filler . 前記(B)有機着色剤は、260℃における昇華、又は分解による重量減少が10%以下である請求項1に記載の多層プリント配線板用樹脂組成物。 2. The resin composition for a multilayer printed wiring board according to claim 1, wherein the (B) organic colorant has a weight loss by sublimation at 260 ° C. or decomposition of 10% or less. 前記(B)有機着色剤は、アントラキノン系化合物である請求項1または2に記載の多層プリント配線板用樹脂組成物。 The resin composition for a multilayer printed wiring board according to claim 1, wherein the organic colorant (B) is an anthraquinone compound. 前記(D)無機充填材は、水酸化マグネシウム、水酸化アルミニウム、シリカ、タルク、焼成タルク、及びアルミナからなる群より選ばれた少なくとも1種類以上を含むものである請求項1ないし3のいずれかに記載の多層プリント配線板用樹脂組成物。 The inorganic filler (D) is magnesium hydroxide, aluminum hydroxide, silica, talc, calcined talc, and according to any one of claims 1 to 3 selected from the group consisting of alumina are those containing at least one or more Resin composition for multilayer printed wiring boards. 請求項1ないしのいずれかに記載の多層プリント配線板用樹脂組成物からなる絶縁樹脂層を熱可塑性樹脂フィルム上、または金属箔上に形成してなる絶縁樹脂シート。 An insulating resin sheet formed by forming an insulating resin layer comprising the resin composition for a multilayer printed wiring board according to any one of claims 1 to 4 on a thermoplastic resin film or a metal foil. 請求項1ないしのいずれかに記載の多層プリント配線板用樹脂組成物を基材に含浸させてなるプリプレグ。 A prepreg obtained by impregnating a base material with the resin composition for a multilayer printed wiring board according to any one of claims 1 to 4 . 請求項に記載のプリプレグを1枚以上重ね合わせ加熱加圧成形してなる積層板。 A laminated board obtained by superposing one or more prepregs according to claim 6 and heating and pressing. 請求項に記載の積層板を用いてなる多層プリント配線板。 A multilayer printed wiring board using the laminated board according to claim 7 . 請求項に記載の絶縁樹脂シート、および/または請求項に記載のプリプレグを用いてなる多層プリント配線板。 A multilayer printed wiring board comprising the insulating resin sheet according to claim 5 and / or the prepreg according to claim 6 . 請求項に記載の多層プリント配線板に半導体素子を実装してなる半導体装置。 A semiconductor device comprising a semiconductor element mounted on the multilayer printed wiring board according to claim 9 .
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