JP5028343B2 - 液晶性化合物を包含する有機無機複合体 - Google Patents
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重合モノマーとして、2−メトキシエチルアクリレート(MEA)(アクリックス C−1:東和合成株式会社製)とジメチルアクリルアミド(DMAA:興人株式会社製)を使用した。粘土鉱物は水膨潤性の合成ヘクトライト(商品名 ラポナイトXLG、日本シリカ株式会社製)を120℃で2時間真空乾燥させて用いた。溶媒は18Ωの超純水を用い、水は使用前に予め3時間以上窒素でバブリングさせて含有酸素を除去してから使用した。
純水48mL、MEA5.85g、DMAA0.5g、合成ヘクトライドを2.0g用いて、合成例1と同じようにして、35℃で撹拌し透明な均質溶液を得た。この溶液を氷浴に入れ、10分間ゆっくりと撹拌した後、予め調製した純水20gと重合開始剤(VA−057:和光純薬株式会社製)0.2gからなる重合開始剤の水溶液2mLを撹拌下で加えた。合成例1と同じゲル調製容器に同様な方法で重合液を入れ、40℃で1時間、50℃で30分間、60℃で20時間重合させた。厚さ2mmのゲル2のフィルムを調製した。得られたゲル2は白濁していたが十分な強度と伸縮性を有するゲルであった。
MEAの使用量を4.55g、DMAAの使用量を1.5gとする以外は、合成例2と同じ条件で厚さ2mmのゲル3を調製した。得られたゲル3は無色透明であり十分な強度と伸縮性を有するゲルであった。
DMAAを使用しないでMEAの使用量を6.5gとする以外は、合成例1と同じ条件で重合液を調製した。厚さ3mmのゲル調製容器に重合液を入れ、20℃で24時間重合された。ゲル3のフィルムを得た。得られたゲル3は白濁していた。
合成例1において、粘土鉱物を1.2gとする以外は、合成例1と同じ条件で重合液を調製し、同様な方法で2mm厚のゲル3のフィルムを得た。得られたゲル3は白濁していた。
合成例1において、DMAAの代わりに、N−イソプロピルアクリルアミド(NIPA)を1.13g用いて、合成例1と同じ条件で重合液を調製し、同様な方法で2mm厚のゲル3のフィルムを得た。得られたゲル3は白濁していた。
合成例1において、DMAAの代わりに、ジエチルアクリルアミド(DEAA)を1.27g用いて、合成例1と同じ条件で重合液を調製し、同様な方法で2mm厚のゲル7を得た。得られたゲル7は白濁していた。
粘土鉱物の代わりに有機架橋剤としてN,N−メチレンビスアクリルアミド(和光純薬株式会社製)77mg(0.01モル/水1L)を使用、合成例1と同じようにMEA80モル%、DMAA20モル%の有機架橋ゲル1を調製した。
合成例2において、ラジカル重合性モノマーとして、MEAを用いないで、DMAAのみを5g用いて、合成例1と同じ条件で重合液を調製し、同様な方法で2mm厚のゲル8を調製した。得られたゲル8は無色透明であった。ゲル8は10倍以上伸張させることが可能であり、強度も強いものであった。
合成例1で得られたゲル1(50×30mm2、3.1g、クレイ+ポリマー=0.4g)を500mLのメタノールに1日間浸漬させた。途中メタノールを2度交換した。4−シアノ−4’−ペンチルビフェニル(5CB、和光純薬工業株式会社製)10g、メタノール10g、アセトン1gの5CB溶液を用意し、メタノール置換したゲル1をこの中に浸漬させて、室温で1日間保持させた。5CB溶液から取り出した後、室温で1日間風乾させた後、80℃で1日間乾燥させて、高分子/液晶性化合物複合体1(1.8g)を得た。
合成例2で得られたゲル2(50×30mm2)を500mLのメタノールに1日間浸漬させた。途中メタノールを2度交換した。5CB 10g、メタノール10g、アセトン1gの5CB溶液を用意し、メタノール置換したMD10−NC5ゲルをこの中に浸漬させて、室温で1日間保持させた。5CB溶液から取り出した後、室温で1日間風乾させた後、80℃で1日間乾燥させて、高分子/液晶性化合物複合体2を得た。
合成例3で得られたゲル3(50×30mm2)を500mLのメタノールに1日間浸漬させた。途中メタノールを2度交換した。N−(4−メトキシベンジリデン)4−ブチルアニリン(MBBA、アルドリッチ株式会社製)10g、メタノール10gのMBBA溶液を用意し、メタノール置換したゲル3をこの中に浸漬させて、室温で1日間保持させた。MBBA溶液から取り出した後、室温で1日間風乾させた後、80℃で1日間乾燥させて、高分子/液晶性化合物複合体3を得た。
合成例4で得られたゲル4を乾燥させ、厚さ約0.5mmのフィルムを得た。乾燥フィルムを(50×30mm2)をMBBA10g、メタノール10gのMBBA溶液に浸漬させて、室温で1日間保持させた。MBBA溶液から取り出した後、室温で1日間風乾させた後、80℃で1日間乾燥させて、高分子/液晶性化合物複合体4を得た。高分子/液晶性化合物複合体4はオレンジ色に着色していたが、透明性に優れるものであった。
合成例3で得られたゲル3(2mm厚)を、90℃で熱プレスした。厚さ100ミクロンの薄いフィルムが得られた。該プレスフィルム(50×30mm2)を500mLのメタノールに1日間浸漬させた。途中メタノールを2度交換した。MBBA10g、メタノール10gのMBBA溶液を用意し、メタノール置換したフィルムをこの中に浸漬させて、室温で1日間保持させた。MBBA溶液から取り出した後、室温で1日間風乾させた後、80℃で1日間乾燥させて、高分子/液晶性化合物複合体5を得た。フィルムの厚みは65ミクロンであった。
合成例5で得られたゲル5(50×30mm2)を実施例5と同じように90℃でプレスし、100ミクロンの薄いフィルムを得た。該プレスフィルム(50×30mm2)を500mLのメタノールに1日間浸漬させた。途中メタノールを2度交換した。5CB 10g、メタノール10g、アセトン1gの5CB溶液を用意し、メタノール置換したプレスフィルムをこの中に浸漬させて、室温で8時間保持させた。5CB溶液から取り出した後、室温で1日間風乾させた後、80℃で1日間乾燥させて、高分子/液晶性化合物複合体6を得た。
合成例6で得られたゲル6を乾燥させて、乾燥フィルムを得た。5CB 10g、テトラヒドロフラン(THF)10gの5CB溶液を用意し、ゲル6の乾燥物をこの中に浸漬させて、室温で1日間保持させた。5CB溶液から取り出した後、室温で1日間風乾させた後、80℃で1日間乾燥させて、高分子/液晶性化合物複合体7を得た。
合成例7で得られたゲル7を乾燥させて、乾燥フィルムを得た。5CB 10g、THF10gの5CB溶液を用意し、ゲル7の乾燥物をこの中に浸漬させて、室温で1日間保持させた。5CB溶液から取り出した後、室温で1日間風乾させた後、80℃で1日間乾燥させて、高分子/液晶性化合物複合体8を得た。
合成例6、7で得たゲル6(実施例9)、7(実施例10)を乾燥させて、乾燥フィルムを得た。ネマチック性の混合液晶3323(大日本インキ化学工業株式会社製)10g、THF10gの液晶溶液をし、ゲル6、7の乾燥物をこの中に浸漬させて、室温で1日間保持させた。液晶溶液から取り出した後、室温で1日間風乾させた後、80℃で1日間乾燥させて、高分子/液晶性化合物複合体9(実施例9)、10(実施例10)を得た。
有機無機複合体9、10の質量より見積もった複合体中の液晶性化合物量はそれぞれ1.2、1.4であった。高分子/液晶性化合物複合体9、10は柔軟性と伸縮性に富み、長さ20mmを毎分100mmの速度で延伸したところ、複合体9、10はいずれも300%まで破断することなく延伸することができた。また、弛緩させたところ、伸張回復率は複合体9が約80%、複合体10が約70%であった。伸縮性に優れた液晶性化合物含有複合体が得られた。
合成例8で得られた有機架橋ゲル1を実施例1と同じようにメタノール1日間浸漬させた。次いで、実施例1と同じように5CBのメタノール溶液に1日間浸漬させた後、乾燥させて、有機高分子と液晶性化合物の複合体9を得た。複合体9の質量から見積もった複合体中の液晶性化合物量は約1.0であった。延伸を試みたが脆く、全く引き延ばすことができなかった。
合成例9で得られたゲル8を実施例1と同じようにメタノール1日間浸漬させた。次いで、実施例1と同じように5CBのメタノール溶液に1日間浸漬させた後、乾燥させて、高分子/液晶性化合物複合体10を得た。複合体の質量から見積もった複合体中の液晶性化合物量は約4.5であった。非常に固く脆いものあり、全く引き延ばすことができなかった。
Claims (4)
- 前記ラジカル重合性モノマー(A)として、構造式(1)で表されるラジカル重合性モノマー(A1)と、アミド基を有するラジカル重合性モノマー(A2)とを用いる請求項1記載の有機無機複合体。
- 前記液晶性化合物(C)が、ネマチック液晶性の液晶化合物である請求項1記載の有機無機複合体。
- 前記液晶性化合物(C)が、ビフェニル系化合物又はアゾメチン系化合物である請求項2記載の有機無機複合体。
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