JP5027415B2 - プラスチックレンズおよびプラスチックデバイス用フルオロポリマー低反射層 - Google Patents
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Description
本発明は、フルオロポリマーでコートされたプラスチックに関する。より詳細には、本発明は、良好な接着力、低反射性、および撥水撥油性を有するフルオロポリマーコートプラスチックに関する。
低反射プラスチック、特にプラスチックレンズおよび光学デバイスについて多くの研究がなされてきた。用いられているひとつの方法は、プラスチック表面への酸化金属の蒸着（ｖａｐｏｒ ｄｉｓｐｏｓｉｔｉｏｎ）である。この方法はしかしながらバッチ法を用いるもので、基板が大きい場合、生産性が低くなる。もうひとつの方法は、フルオロポリマー溶液のコーティングを施す方法である。このコーティングはディッピング法により行われ、大きな基板に対しても高い生産性で適用可能である。フルオロポリマーの屈折率は低いが、プラスチック基板との接着力も非常に低い。フルオロポリマーと基板プラスチックとの間の接着力の改善は長い間探索されてきた。
本発明の目的は、フルオロポリマー溶液を用いた、低屈折率と良好な接着力の技術を提供することである。
本発明により提供される一層コーティングシステムは、式ＶＦ２／ＴＦＥ／ＨＦＰで表されるフッ素化コポリマーからなり、この場合そのテトラフルオロエチレン（ＴＦＥ）対ヘキサフルオロプロピレン（ＨＦＰ）のモル比が０．１〜１．９であり、そのＶＦ２含有量が４７〜６０モル％であることを特徴とする。好ましくはこのＶＦ２含有量は５０〜６０モル％である。より好ましいのは、ＴＦＥ対ＨＦＰのモル比が０．９〜１．９であり、ＶＦ２含有量が、好ましくは、ポリメチルメタアクリレート（ＰＭＭＡ）基板に対しては４７〜６０モル％であり、ポリカーボネート（ＰＣ）基板、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）基板、ポリスルホン（ＰＳ）基板およびガラス基板に対しては４７〜５０モル％である場合である。
ＶＦ２含有量が５０モル％〜６０モル％である場合も好ましい。より好ましいのは、基板がＰＭＭＡ、ＰＣ、ＰＥＴ、ＰＳまたはガラスである場合である。
本発明により、式ＶＦ２／ＨＦＰで表されるフッ素化コポリマーを含む一層コーティングシステムも提供され、この場合そのＶＦ２含有量が約４０〜８０％であることを特徴としている。好ましくは、このＶＦ２含有量は約４０〜５０モル％であり、その基板はＰＭＭＡである。好ましくはまた、このＶＦ２含有量は約７０〜８０モル％であり、その基板はガラスである。
本発明により、式ＶＦ２／ＴＦＥ／ＰＭＶＥで表されるフッ素化コポリマーを含む一層コーティングシステムも提供され、この場合、そのＶＦ２含有量が約１８〜６０モル％であり、そのＴＦＥ／ＰＭＶＥモル比が０．１〜１．９であることを特徴とする。好ましくはこのＶＦ２含有量は約３０〜３５モル％であり、そのＴＦＥ／ＰＭＶＥモル比は約０．２〜０．３であり、その基板はＰＭＭＡである。
本発明の一層コーティングシステムでは、コーティングの厚さは好ましくは１０〜１０００ｎｍ、より好ましくは約３０〜１２０ｎｍ、そして最も好ましくは約７０〜１２０ｎｍである。
良好な接着力を有する光学的に透明なプラスチック基板に低反射コーティングをもたらす一層システムを見出した。好ましい基板はＰＭＭＡ、ＰＣ、ＰＥＴおよびＰＳならびにガラスである。
本発明により提供される一層コーティングシステムは、式ＶＦ２／ＴＦＥ／ＨＦＰで表されるフッ素化コポリマーからなり、この場合、ＴＦＥ対ＨＦＰのモル比が０．１〜１．９であり、ＶＦ２含有量が４７〜６０モル％、好ましくは５０〜６０モル％であることを特徴とする。これらの組成では、低反射に必要とされる高フッ素含有量、光学透明性に必要とされる高ＨＦＰ含有量、および基板への良好な接着力をもたらすための十分なＶＦ２含有量のバランスをとっている。より好ましいのは、そのＴＦＥ対ＨＦＰのモル比が０．９〜１．９であり、そのＶＦ２含有量が好ましくはＰＭＭＡ基板に対しては４７〜６０モル％であり、ＰＣ基板、ＰＥＴ基板、およびガラス基板に対しては４７〜５０モル％である場合である。
本一層システムのもう一つの実施形態は、式ＶＦ２／ＨＦＰで表されるフッ素化コポリマーを含み、この場合ＶＦ２含有量が約４０〜８０モル％であることを特徴としている。本システムは前記２種のモノマーから本質的になり、他のモノマーは、ほとんど、またはまったく組み込まれない。好ましくは、そのＶＦ２含有量は約４０〜５０％であり、その基板はＰＭＭＡである。好ましくはまた、このＶＦ２含有量は約７０〜８０％であり、その基板はガラスである。
本一層システムのもう一つの実施形態は、式ＶＦ２／ＴＦＥ／ＰＭＶＥで表されるフッ素化コポリマーを含み、この場合そのＶＦ２含有量が約１８〜６０モル％であり、そのＴＦＥ／ＰＭＶＥモル比が約０．１〜１．９であることを特徴としている。好ましくはこのＶＦ２含有量は約３０〜３５モル％であり、そのＴＦＥ／ＰＭＶＥモル比は約０．２〜０．３であり、その基板はＰＭＭＡである。
本発明の一層コーティングシステムでは、コーティングは、反射性において大きな低下を得るために約１０ｎｍ未満の厚さとする必要がある。１０ｎｍより厚い厚さはうまく働くが、コーティングを厚くしていくと、実用上の問題が最終的に生じる。例えば、約１０００ｎｍより上では、厚さの変化が問題となることがあり、コーティングポリマーが高価である場合は、経済性が法外なものとなり始める。つまり、本発明の一層コーティングシステムでは、コーティングの厚さは好ましくは約１０〜１０００ｎｍ、より好ましくは約３００〜１２０ｎｍ、最も好ましくは約７０〜１２０ｎｍである。
コーティングは、当技術分野で知られているどの方法を用いても調製することができる。コーティングを調製するのに用いられる好適な溶媒は、コーティング組成物を溶解させるがコートされる基板に対して不活性であるものである。好ましい溶媒としては、フルオロ溶媒、例えばフルオリナート（Ｆｌｕｏｒｉｎｅｒｔ）（登録商標）（３Ｍ・エレクトロニック・マテリアルズ、セントポール、ミネソタ（３Ｍ Ｅｌｅｃｔｒｏｎｉｃ Ｍａｔｅｒｉａｌｓ，Ｓｔ．Ｐａｕｌ，Ｍｉｎｎｅｓｏｔａ））、バートレル（Ｖｅｒｔｒｅｌ）（登録商標）（本願特許出願人）またはノーベック（Ｎｏｖｅｃ）（登録商標）（３Ｍ・エレクトロニック・マテリアルズ、セントポール、ミネソタ（３Ｍ Ｅｌｅｃｔｒｏｎｉｃ Ｍａｔｅｒｉａｌｓ，Ｓｔ．Ｐａｕｌ，Ｍｉｎｎｅｓｏｔａ））、およびケトン溶媒、例えばメチルイソブチルケトンまたはアセトン、酢酸イソブチル、ならびにこれらの２つ以上の組み合せが挙げられる。
上記した組成物のいずれかまたは全てには、ほかの成分を加えてもよい。上記で述べた構成成分に加えて、本発明の組成物には、合成ポリマーで一般に用いられる添加剤、例えば着色剤、抗酸化剤、強化剤（ｔｏｕｇｈｎｅｒｓ）、造核剤、紫外線安定剤、熱安定剤、共助剤、架橋剤などが入っていてもよい。これらの成分は、それぞれ典型的には１％未満の割合で用いられる。
以下の非限定的実施例は本発明を説明するものであるが、いずれにしろ、形はどうあれ本発明を限定するものではない。
（材料および方法）
以下の定義が本明細書では使用されており、特許請求の範囲を解釈するのにもこれが参照されるべきである。
ＡＰＳ−過硫酸アンモニウム
ＨＦＩＢ−ヘキサフルオロイソブチレン、（ＣＦ３）２Ｃ＝ＣＨ２
ＨＦＰ−ヘキサフルオロプロピレン、ＣＦ２＝ＣＦ−ＣＦ３
ＰＣ−ポリカーボネート
ＰＥＴ−ポリエチレンテレフタレート
ＰＭＭＡ−ポリメチルメタアクリレート
ＰＭＶＥ−パーフルオロメチルビニルエーテル
ＰＶＯＨ−ポリビニルアルコール
ＰＳ−ポリスルホン
Ｔｅｆｌｏｎ（登録商標）ＡＦ−ＴＦＥ／ペルフルオロ−２，２−ジメチルジオキソールコポリマー
ＴＦＥ−テトラフルオロエチレン、ＣＦ２＝ＣＦ２
ＶＡｃ−酢酸ビニル、ＣＨ３−Ｃ（Ｏ）−ＯＣＨ＝ＣＨ２
ＶＦ−フッ化ビニル、ＣＨ２＝ＣＨＦ
ＶＦ２−フッ化ビニリデン、ＣＦ２＝ＣＨ２
以下の定義が本明細書では使用されており、特許請求の範囲を解釈するのにもこれが参照されるべきである。
ＡＰＳ−過硫酸アンモニウム
ＨＦＩＢ−ヘキサフルオロイソブチレン、（ＣＦ３）２Ｃ＝ＣＨ２
ＨＦＰ−ヘキサフルオロプロピレン、ＣＦ２＝ＣＦ−ＣＦ３
ＰＣ−ポリカーボネート
ＰＥＴ−ポリエチレンテレフタレート
ＰＭＭＡ−ポリメチルメタアクリレート
ＰＭＶＥ−パーフルオロメチルビニルエーテル
ＰＶＯＨ−ポリビニルアルコール
ＰＳ−ポリスルホン
Ｔｅｆｌｏｎ（登録商標）ＡＦ−ＴＦＥ／ペルフルオロ−２，２−ジメチルジオキソールコポリマー
ＴＦＥ−テトラフルオロエチレン、ＣＦ２＝ＣＦ２
ＶＡｃ−酢酸ビニル、ＣＨ３−Ｃ（Ｏ）−ＯＣＨ＝ＣＨ２
ＶＦ−フッ化ビニル、ＣＨ２＝ＣＨＦ
ＶＦ２−フッ化ビニリデン、ＣＦ２＝ＣＨ２
特に断らない限り、以下の試験方法を用いた。
（透過率の測定法）
光透過率は、シマヅＵＶ−３１００スペクトルメーター（Ｓｈｉｍａｄｚｕ ＃ＵＶ−３１００ Ｓｐｅｃｔｒｏｍｅｔｅｒ）を用いて５００ｎｍで測定した。この機器は分割ビームの連続比較を測定するもので、分割ビームの一部がサンプルを通過するものである。
光透過率は、シマヅＵＶ−３１００スペクトルメーター（Ｓｈｉｍａｄｚｕ ＃ＵＶ−３１００ Ｓｐｅｃｔｒｏｍｅｔｅｒ）を用いて５００ｎｍで測定した。この機器は分割ビームの連続比較を測定するもので、分割ビームの一部がサンプルを通過するものである。
（接着力試験法）
１ｍｍの距離で離されている１０枚のカミソリ刃をもつ工具を用いて、コーティングを、プラスチック基板に至るまで切り込み、カミソリ刃工具を先ずひとつの方向に引き、そのあと２回目は直角方向に引く。これにより、１００個のクロスハッチ正方形がカットされる。このクロスハッチ部にスコッチテープを適度の圧で当て、そして素早く引き離した。接着力を、１００個ある正方形のうちなお基板に付いている正方形の数として記録した。
１ｍｍの距離で離されている１０枚のカミソリ刃をもつ工具を用いて、コーティングを、プラスチック基板に至るまで切り込み、カミソリ刃工具を先ずひとつの方向に引き、そのあと２回目は直角方向に引く。これにより、１００個のクロスハッチ正方形がカットされる。このクロスハッチ部にスコッチテープを適度の圧で当て、そして素早く引き離した。接着力を、１００個ある正方形のうちなお基板に付いている正方形の数として記録した。
特に断らない限り、入手された他の全てのポリマーおよびモノマーは市販されている。
３０モル％を越えるＨＦＰ含有量を有するＶＦ２／ＴＦＥ／ＨＦＰターポリマーおよびＴＦＥ／ＨＦＰジポリマーは、米国特許公報（特許文献１）および米国特許公報（特許文献２）に記載のようにして、１４，０００ｐｓｉ、２００〜４００℃における重合により、おそらく最も簡単に作られる。低ＨＦＰ含有量を有するＴＦＥ／ＨＦＰジポリマーおよびＴＦＥ／ＨＦＰならびにＶＦ２／ＴＦＥ／ＰＭＶＥターポリマーは、当技術分野で知られている通常のエマルジョン重合法およびバルク重合法で行うことができる。例えば、（非特許文献１）を参照されたい。このあと、優れた光学透明性と容易な溶液コート性（ｅａｓｙ ｓｏｌｕｔｉｏｎ ｃｏａｔａｂｉｌｉｔｙ）を示した非結晶性の組成を本発明に対して選んだ。
（参考例１〜９）
（比較例１〜３）
ＰＭＭＡへのワンコートポリ（ＶＦ2／ＴＦＥ／ＨＦＰ）
好ましい厚さの範囲
フルオリナート（Ｆｌｕｏｒｉｎｅｒｔ）（登録商標）ＦＣ−７５中２重量％ポリ（ＶＦ2／ＴＦＥ／ＨＦＰ）溶液を、ポリマーの塊りを溶媒と一緒に数日間室温にて撹拌することで作った。寸法２．５ｃｍ×５．０ｃｍ×厚さ３ｍｍのＰＭＭＡプレートを試験に使用した。このＰＭＭＡプレートを前記ポリマー溶液の中へ速度３００ｍｍ／分で下げていき、次いで３０秒後、プレートを溶液から２．５〜１０００ｍｍ／分で引き上げることで、プレートをコートした。５〜１０分、空気中で乾燥させた後、プレートを水平にして１００℃のエアーオーブン中で６０分間乾燥させた。参考例は、コーティングの厚さが厚くなる順になっている。
（比較例１〜３）
ＰＭＭＡへのワンコートポリ（ＶＦ2／ＴＦＥ／ＨＦＰ）
好ましい厚さの範囲
フルオリナート（Ｆｌｕｏｒｉｎｅｒｔ）（登録商標）ＦＣ−７５中２重量％ポリ（ＶＦ2／ＴＦＥ／ＨＦＰ）溶液を、ポリマーの塊りを溶媒と一緒に数日間室温にて撹拌することで作った。寸法２．５ｃｍ×５．０ｃｍ×厚さ３ｍｍのＰＭＭＡプレートを試験に使用した。このＰＭＭＡプレートを前記ポリマー溶液の中へ速度３００ｍｍ／分で下げていき、次いで３０秒後、プレートを溶液から２．５〜１０００ｍｍ／分で引き上げることで、プレートをコートした。５〜１０分、空気中で乾燥させた後、プレートを水平にして１００℃のエアーオーブン中で６０分間乾燥させた。参考例は、コーティングの厚さが厚くなる順になっている。
コートなしＰＭＭＡは９２．１％の透過率を示した。２０．０ ｎｍより厚く、１０００ ｎｍより薄いコーティングは、コートなしＰＭＭＡと比較して向上した透過率（＞９３％）を与えた。最も高い透過率（＞９６％）は、約３０〜１２０ ｎｍ厚のコーティングが示した。
（参考例１０〜１３）
（比較例４〜５）
ＰＭＭＡへのワンコートポリ（ＶＦ2／ＴＦＥ／ＨＦＰ）
好ましいＶＦ2含有量
参考例１〜９と同様にしてポリマー膜を調製した。透光度および接着力を測定し、以下の表２の結果を得た。この表には参考例と比較例が、ＶＦ2含有量が多くなっていく順で掲載されている。
（比較例４〜５）
ＰＭＭＡへのワンコートポリ（ＶＦ2／ＴＦＥ／ＨＦＰ）
好ましいＶＦ2含有量
参考例１〜９と同様にしてポリマー膜を調製した。透光度および接着力を測定し、以下の表２の結果を得た。この表には参考例と比較例が、ＶＦ2含有量が多くなっていく順で掲載されている。
ＶＦ２が１２〜５０モル％のＶＦ２／ＴＦＥ／ＨＦＰポリマーについては、コートなしＰＭＭＡと比較して、良好な接着力（＞９６／１００）と同時に向上した透過率（＞９７％）が認められた。
(参考例１４）
バートレル［Ｖｅｒｔｒｅｌ］（登録商標）ＸＦ中２重量％ポリ（ＶＦ2／ＴＦＥ／ＨＦＰ＝４６．９／１３．５／３９．６モル％）の溶液を、ポリマーの塊りを溶媒と一緒に数日間室温にて撹拌することで作った。寸法２．５ｃｍ×５．０ｃｍ×厚さ３ｍｍのＰＭＭＡプレートを試験に使用した。このＰＭＭＡプレートを前記ポリマー溶液の中へ速度３００ｍｍ／分で下げていき、次いで３０秒後、プレートを溶液から５０ｍｍ／分で引き上げることでプレートをコートした。５〜１０分間空気中で乾燥させた後、プレートを水平にして１００℃のエアーオーブン中で６０分間乾燥させた。透光度と接着力を測定した。結果を以下の表に示す。この表には参考例が掲載されている。
バートレル［Ｖｅｒｔｒｅｌ］（登録商標）ＸＦ中２重量％ポリ（ＶＦ2／ＴＦＥ／ＨＦＰ＝４６．９／１３．５／３９．６モル％）の溶液を、ポリマーの塊りを溶媒と一緒に数日間室温にて撹拌することで作った。寸法２．５ｃｍ×５．０ｃｍ×厚さ３ｍｍのＰＭＭＡプレートを試験に使用した。このＰＭＭＡプレートを前記ポリマー溶液の中へ速度３００ｍｍ／分で下げていき、次いで３０秒後、プレートを溶液から５０ｍｍ／分で引き上げることでプレートをコートした。５〜１０分間空気中で乾燥させた後、プレートを水平にして１００℃のエアーオーブン中で６０分間乾燥させた。透光度と接着力を測定した。結果を以下の表に示す。この表には参考例が掲載されている。
ＶＦ２／ＴＦＥ／ＨＦＰ＝４６．９／１３．５／３９．６モル％ターポリマーについて、コートなしＰＭＭＡと比較して、良好な接着力（１００／１００）と同時に向上した透過率（＞９７％）が認められた。
（参考例１５〜１７）
（比較例６〜９）
ポリカーボネートへのワンコートポリ（ＶＦ2／ＴＦＥ／ＨＦＰ）
好ましいＶＦ2含有量
参考例１４の方法により、ＶＦ2含有量が異なるポリ（ＶＦ2／ＴＦＥ／ＨＦＰ）ターポリマーのサンプルをポリカーボネート（ＰＣ）シートにコートした。このポリカーボネートは、京都樹脂精工株式会社（Ｋｙｏｔｏ−Ｊｕｓｈｉ Ｓｅｉｋｏ Ｃｏ．，Ｌｔｄ．）で製造されたものである。このポリカーボネートシートは、寸法２．５ｃｍ×５．０ｃｍ×厚さ３ｍｍであった。
（比較例６〜９）
ポリカーボネートへのワンコートポリ（ＶＦ2／ＴＦＥ／ＨＦＰ）
好ましいＶＦ2含有量
参考例１４の方法により、ＶＦ2含有量が異なるポリ（ＶＦ2／ＴＦＥ／ＨＦＰ）ターポリマーのサンプルをポリカーボネート（ＰＣ）シートにコートした。このポリカーボネートは、京都樹脂精工株式会社（Ｋｙｏｔｏ−Ｊｕｓｈｉ Ｓｅｉｋｏ Ｃｏ．，Ｌｔｄ．）で製造されたものである。このポリカーボネートシートは、寸法２．５ｃｍ×５．０ｃｍ×厚さ３ｍｍであった。
透過率と接着力を測定した。結果を以下の表４に示す。この表には参考例と比較例がＶＦ2含有量が多くなる順で掲載されている。
ＶＦ２含有量が約１８〜４０モル％のものは、ＨＦＰ／ＴＦＥコポリマー（０／１００）と比較して向上した接着力（＞７０／１００）、コートなしＰＣ（８７．２％）と比較して向上した透過率（＞９２％）を示した。
（参考例１８）
（比較例１０〜１１）
ＰＥＴへのワンコートポリ（ＶＦ2／ＴＦＥ／ＨＦＰ）
参考例１〜９と同様にしてコーティングを調製した。寸法２．５×５．０ｃｍ×厚さ０．１２ｍｍのＰＥＴシートを基板として用いた。透光度と接着力を測定し、結果を以下の表に示す。この表には参考例と比較例が掲載されている。
（比較例１０〜１１）
ＰＥＴへのワンコートポリ（ＶＦ2／ＴＦＥ／ＨＦＰ）
参考例１〜９と同様にしてコーティングを調製した。寸法２．５×５．０ｃｍ×厚さ０．１２ｍｍのＰＥＴシートを基板として用いた。透光度と接着力を測定し、結果を以下の表に示す。この表には参考例と比較例が掲載されている。
コートなしＰＥＴは透過率８５．０％を示した。コートなしＰＥＴと比較して、良好な接着力（＞９９／１００）と同時に向上した透過率（＞９６％）が認められた。
（参考例１９）
（比較例１２〜１３）
ポリスルホンへのワンコートポリ（ＶＦ2／ＴＦＥ／ＨＦＰ）
参考例１〜９と同様にしてコーティングを調製した。寸法２．５ｃｍ×５．０ｃｍ×厚さ０．０５ｍｍのポリスルホンシートを基板として用いた。透光度と接着力の結果を以下の表に示す。この表には参考例と比較例が掲載されている。
（比較例１２〜１３）
ポリスルホンへのワンコートポリ（ＶＦ2／ＴＦＥ／ＨＦＰ）
参考例１〜９と同様にしてコーティングを調製した。寸法２．５ｃｍ×５．０ｃｍ×厚さ０．０５ｍｍのポリスルホンシートを基板として用いた。透光度と接着力の結果を以下の表に示す。この表には参考例と比較例が掲載されている。
コートなしポリスルホンは透光度８８．５％を示した。コートなしポリスルホン（８８．５％）と比較して、良好な接着力（＞９７／１００）と同時に向上した透過率（＞９５％）が認められた。
（参考例２０〜２３）
（比較例２０〜２３）
ノーベック（Ｎｏｖｅｃ）（登録商標）ＨＦＥ−７１００（３Ｍ・エレクトロニック・マテリアルズ、セントポール、ミネソタ（３Ｍ Ｅｌｅｃｔｒｏｎｉｃ Ｍａｔｅｒｉａｌｓ，Ｓｔ．Ｐａｕｌ，Ｍｉｎｎｅｓｏｔａ））中２．５重量％ポリ（ＶＦ2／ＴＦＥ／ＨＦＰ）溶液、およびフルオリナート（Ｆｌｕｏｒｉｎｅｒｔ］（登録商標）（３Ｍ・エレクトロニック・マテリアルズ、セントポール、ミネソタ（３Ｍ Ｅｌｅｃｔｒｏｎｉｃ Ｍａｔｅｒｉａｌｓ，Ｓｔ．Ｐａｕｌ，Ｍｉｎｎｅｓｏｔａ））ＦＣ−７５中ポリ（ＴＦＥ／ＨＦＰ）溶液を、ポリマーの塊りを溶媒と一緒に数日間室温にて撹拌することで作った。寸法２．５ｃｍ×５．０ｃｍ×厚さ３ｍｍのＰＭＭＡプレートおよびＰＣプレート、寸法２．５ｃｍ×５．０ｃｍ×厚さ１２０ミクロンメーターのＰＥＴフィルム、ならびに２．５ｃｍ×５．０ｃｍ×厚さ１ｍｍのガラスプレートを試験に使用した。プレートをポリマー溶液の中へ速度３００ｍｍ／分で下げていき、次いで３０秒後、プレートを溶液から１２５ｍｍ／分で引き上げることでプレートをコートした。５〜１０分空気中で乾燥させたあと、プレートをエアーオーブン中で１０分間乾燥させた。温度は、ＰＭＭＡについては１００℃、ＰＣについては１２０℃、そしてガラスプレートについては３００℃であった。ＰＥＴフィルムは、１００℃エアーオーブン中で６０分間乾燥させた。透光度、接着力およびコーティング厚さを測定し、結果を表７に示す。
（比較例２０〜２３）
ノーベック（Ｎｏｖｅｃ）（登録商標）ＨＦＥ−７１００（３Ｍ・エレクトロニック・マテリアルズ、セントポール、ミネソタ（３Ｍ Ｅｌｅｃｔｒｏｎｉｃ Ｍａｔｅｒｉａｌｓ，Ｓｔ．Ｐａｕｌ，Ｍｉｎｎｅｓｏｔａ））中２．５重量％ポリ（ＶＦ2／ＴＦＥ／ＨＦＰ）溶液、およびフルオリナート（Ｆｌｕｏｒｉｎｅｒｔ］（登録商標）（３Ｍ・エレクトロニック・マテリアルズ、セントポール、ミネソタ（３Ｍ Ｅｌｅｃｔｒｏｎｉｃ Ｍａｔｅｒｉａｌｓ，Ｓｔ．Ｐａｕｌ，Ｍｉｎｎｅｓｏｔａ））ＦＣ−７５中ポリ（ＴＦＥ／ＨＦＰ）溶液を、ポリマーの塊りを溶媒と一緒に数日間室温にて撹拌することで作った。寸法２．５ｃｍ×５．０ｃｍ×厚さ３ｍｍのＰＭＭＡプレートおよびＰＣプレート、寸法２．５ｃｍ×５．０ｃｍ×厚さ１２０ミクロンメーターのＰＥＴフィルム、ならびに２．５ｃｍ×５．０ｃｍ×厚さ１ｍｍのガラスプレートを試験に使用した。プレートをポリマー溶液の中へ速度３００ｍｍ／分で下げていき、次いで３０秒後、プレートを溶液から１２５ｍｍ／分で引き上げることでプレートをコートした。５〜１０分空気中で乾燥させたあと、プレートをエアーオーブン中で１０分間乾燥させた。温度は、ＰＭＭＡについては１００℃、ＰＣについては１２０℃、そしてガラスプレートについては３００℃であった。ＰＥＴフィルムは、１００℃エアーオーブン中で６０分間乾燥させた。透光度、接着力およびコーティング厚さを測定し、結果を表７に示す。
ＶＦ２が４０〜６０モル％のＶＦ２／ＴＦＥ／ＨＦＰポリマーに対して、良好な接着力（＞９６／１００）と同時に向上した透光度（＞９５％）が認められた。
（参考例２７〜２８）
バートレル［Ｖｅｒｔｒｅｌ］（登録商標）ＸＦ（本願特許出願人）中２．５重量％ポリ（ＶＦ2／ＨＦＰ＝４３／５７モル％）溶液およびＭＩＢＫ中ポリ（ＶＦ2／ＨＦＰ＝７８／２２モル％）溶液を、ポリマーの塊りを溶媒と一緒に数日間室温にて撹拌することで作った。寸法２．５ｃｍ×５．０ｃｍ×厚さ３ｍｍのＰＭＭＡプレートおよび２．５ｃｍ×５．０ｃｍ×厚さ１ｍｍのガラスプレートを試験に使用した。参考例１９〜２５と同様にして厚さが９０ｎｍのポリマー膜を調製した。引き上げ速度は２００ｍｍ／分であった。透光度と接着力を測定し、結果を表８に示す。
バートレル［Ｖｅｒｔｒｅｌ］（登録商標）ＸＦ（本願特許出願人）中２．５重量％ポリ（ＶＦ2／ＨＦＰ＝４３／５７モル％）溶液およびＭＩＢＫ中ポリ（ＶＦ2／ＨＦＰ＝７８／２２モル％）溶液を、ポリマーの塊りを溶媒と一緒に数日間室温にて撹拌することで作った。寸法２．５ｃｍ×５．０ｃｍ×厚さ３ｍｍのＰＭＭＡプレートおよび２．５ｃｍ×５．０ｃｍ×厚さ１ｍｍのガラスプレートを試験に使用した。参考例１９〜２５と同様にして厚さが９０ｎｍのポリマー膜を調製した。引き上げ速度は２００ｍｍ／分であった。透光度と接着力を測定し、結果を表８に示す。
ＶＦ２が４０〜８０モル％のＶＦ２／ＨＦＰポリマーに対して、コートなしのＰＭＭＡおよびガラスと比較して、良好な接着力（＞９６／１００）と同時に向上した透光度（＞９５％）が認められた。
（実施例１）
ノーベック（Ｎｏｖｅｃ）（登録商標）ＨＦＥ−７２００（３Ｍ・エレクトロニック・マテリアルズ、セントポール、ミネソタ（３Ｍ Ｅｌｅｃｔｒｏｎｉｃ Ｍａｔｅｒｉａｌｓ，Ｓｔ．Ｐａｕｌ，Ｍｉｎｎｅｓｏｔａ））中３重量％ポリ（ＶＦ2／ＴＦＥ／ＰＭＶＥ＝３２／１５／５３モル％）溶液を、ポリマーの塊りを溶媒と一緒に数日間室温にて撹拌することで作った。寸法２．５ｃｍ×５．０ｃｍ×厚さ３ｍｍのＰＭＭＡプレートを試験に使用した。参考例１〜７と同様にしてポリマー膜を調製した。引き上げ速度は７５ｍｍ／分であった。透光度と接着力を測定し、結果を表９に示す。
ノーベック（Ｎｏｖｅｃ）（登録商標）ＨＦＥ−７２００（３Ｍ・エレクトロニック・マテリアルズ、セントポール、ミネソタ（３Ｍ Ｅｌｅｃｔｒｏｎｉｃ Ｍａｔｅｒｉａｌｓ，Ｓｔ．Ｐａｕｌ，Ｍｉｎｎｅｓｏｔａ））中３重量％ポリ（ＶＦ2／ＴＦＥ／ＰＭＶＥ＝３２／１５／５３モル％）溶液を、ポリマーの塊りを溶媒と一緒に数日間室温にて撹拌することで作った。寸法２．５ｃｍ×５．０ｃｍ×厚さ３ｍｍのＰＭＭＡプレートを試験に使用した。参考例１〜７と同様にしてポリマー膜を調製した。引き上げ速度は７５ｍｍ／分であった。透光度と接着力を測定し、結果を表９に示す。
コートなしＰＭＭＡと比較して、良好な接着力（＞９６／１００）と同時に向上した透光度（＞９５％）が認められた。
本発明は以下の実施の態様を含むものである。
１．式ＶＦ ２ ／ＴＦＥ／ＨＦＰで表されるフッ素化コポリマーを含む、基板をコーティングするための一層コーティングシステムであって、前記ＴＦＥ対ＨＦＰのモル比が０．１〜１．９であり、前記ＶＦ ２ 含有量が４７〜６０モル％であることを特徴とするコーティングシステム。
２．前記ＶＦ ２ 含有量が５０〜６０モル％である前記１に記載のコーティングシステム。
３．前記基板が、ＰＭＭＡ、ＰＣ、ＰＥＴ、ＰＳおよびガラスからなる群から選択される前記２に記載のコーティングシステム。
４．前記ＶＦ ２ 含有量が４７〜６０モル％であり、前記ＴＦＥ対ＨＦＰのモル比が０．１〜１．９であり、前記基板がＰＭＭＡである前記１に記載のコーティングシステム。
５．前記ＶＦ ２ 含有量が４７〜５０モル％であり、前記ＴＦＥ対ＨＦＰのモル比が０．９〜１．９であり、前記基板が、ＰＥＴ、ＰＣおよびガラスからなる群から選択される前記１に記載のコーティングシステム。
６．前記コーティングの厚さが１０ｎｍ〜１０００ｎｍである前記１に記載のコーティングシステム。
７．前記コーティングの厚さが７０ｎｍ〜１２０ｎｍである前記６に記載のコーティングシステム。
８．式ＶＦ ２ ／ＨＦＰで表されるフッ素化コポリマーから本質的になる基板をコーティングするための一層コーティングシステムであって、前記ＶＦ ２ 含有量が約４０〜８０モル％であることを特徴とするコーティングシステム。
９．前記ＶＦ ２ 含有量が約４０〜５０モル％であり、前記基板がＰＭＭＡである前記８に記載のコーティングシステム。
１０．前記ＶＦ ２ 含有量が約７０〜８０モル％であり、前記基板がガラスである前記８に記載のコーティングシステム。
１１．前記コーティングの厚さが１０ｎｍ〜１０００ｎｍである前記８に記載のコーティングシステム。
１２．前記コーティングの厚さが７０ｎｍ〜１２０ｎｍである前記１１に記載のコーティングシステム。
１３．式ＶＦ ２ ／ＴＦＥ／ＰＭＶＥで表されるフッ素化コポリマーを含む基板をコーティングするための一層コーティングシステムであって、前記ＶＦ ２ 含有量が約１８〜６０モル％であり、前記ＴＦＥ／ＰＭＶＥモル比が約０．１〜１．９であることを特徴とするコーティングシステム。
１４．前記ＶＦ ２ 含有量が約３０〜３５モル％であり、前記ＴＦＥ／ＰＭＶＥモル比が約０．２〜０．３であり、前記基板がＰＭＭＡである前記１３に記載のコーティングシステム。
１５．前記コーティングの厚さが１０ｎｍ〜１０００ｎｍである前記１３に記載のコーティングシステム。
１６．前記コーティングの厚さが７０ｎｍ〜１２０ｎｍである前記１５に記載のコーティングシステム。
本発明は以下の実施の態様を含むものである。
１．式ＶＦ ２ ／ＴＦＥ／ＨＦＰで表されるフッ素化コポリマーを含む、基板をコーティングするための一層コーティングシステムであって、前記ＴＦＥ対ＨＦＰのモル比が０．１〜１．９であり、前記ＶＦ ２ 含有量が４７〜６０モル％であることを特徴とするコーティングシステム。
２．前記ＶＦ ２ 含有量が５０〜６０モル％である前記１に記載のコーティングシステム。
３．前記基板が、ＰＭＭＡ、ＰＣ、ＰＥＴ、ＰＳおよびガラスからなる群から選択される前記２に記載のコーティングシステム。
４．前記ＶＦ ２ 含有量が４７〜６０モル％であり、前記ＴＦＥ対ＨＦＰのモル比が０．１〜１．９であり、前記基板がＰＭＭＡである前記１に記載のコーティングシステム。
５．前記ＶＦ ２ 含有量が４７〜５０モル％であり、前記ＴＦＥ対ＨＦＰのモル比が０．９〜１．９であり、前記基板が、ＰＥＴ、ＰＣおよびガラスからなる群から選択される前記１に記載のコーティングシステム。
６．前記コーティングの厚さが１０ｎｍ〜１０００ｎｍである前記１に記載のコーティングシステム。
７．前記コーティングの厚さが７０ｎｍ〜１２０ｎｍである前記６に記載のコーティングシステム。
８．式ＶＦ ２ ／ＨＦＰで表されるフッ素化コポリマーから本質的になる基板をコーティングするための一層コーティングシステムであって、前記ＶＦ ２ 含有量が約４０〜８０モル％であることを特徴とするコーティングシステム。
９．前記ＶＦ ２ 含有量が約４０〜５０モル％であり、前記基板がＰＭＭＡである前記８に記載のコーティングシステム。
１０．前記ＶＦ ２ 含有量が約７０〜８０モル％であり、前記基板がガラスである前記８に記載のコーティングシステム。
１１．前記コーティングの厚さが１０ｎｍ〜１０００ｎｍである前記８に記載のコーティングシステム。
１２．前記コーティングの厚さが７０ｎｍ〜１２０ｎｍである前記１１に記載のコーティングシステム。
１３．式ＶＦ ２ ／ＴＦＥ／ＰＭＶＥで表されるフッ素化コポリマーを含む基板をコーティングするための一層コーティングシステムであって、前記ＶＦ ２ 含有量が約１８〜６０モル％であり、前記ＴＦＥ／ＰＭＶＥモル比が約０．１〜１．９であることを特徴とするコーティングシステム。
１４．前記ＶＦ ２ 含有量が約３０〜３５モル％であり、前記ＴＦＥ／ＰＭＶＥモル比が約０．２〜０．３であり、前記基板がＰＭＭＡである前記１３に記載のコーティングシステム。
１５．前記コーティングの厚さが１０ｎｍ〜１０００ｎｍである前記１３に記載のコーティングシステム。
１６．前記コーティングの厚さが７０ｎｍ〜１２０ｎｍである前記１５に記載のコーティングシステム。
Claims (2)
- 式フッ化ビニリデン／テトラフルオロエチレン／パーフルオロメチルビニルエーテルで表されるフッ素化コポリマーを含む基板をコーティングするための一層コーティング層であって、前記フッ化ビニリデン含有量が３０〜３５モル％であり、前記テトラフルオロエチレン／パーフルオロメチルビニルエーテル比が０．２〜０．３であり、前記基板がポリメチルメタアクリレートであり、前記コーティングの厚さが２０ｎｍ〜５７２．１ｎｍであることを特徴とするコーティング層。
- 前記コーティングの厚さが７０ｎｍ〜１２０ｎｍである請求項１に記載のコーティング層。
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