JP5025627B2 - シリコーンゴム硬化物中の低分子シロキサン濃度をリアルタイムで評価できる乾燥機システム及び評価方法 - Google Patents
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(特許文献1)。しかし、シリコーンゴム硬化物の一部を切り出す必要があり、製品としては使用できなくなってしまう問題がある。
シリコーンゴム硬化物のポストキュアを行う乾燥機と、
該乾燥機由来の排出ガスが導入され、該排出ガス中の低分子シロキサン濃度をリアルタイムに測定する測定装置と、
を備える乾燥機システムを提供する。
(a)上記乾燥機システム中の乾燥機によりシリコーンゴム硬化物のポストキュアを行い、該乾燥機システム中の測定装置により該乾燥機由来の排出ガス中の低分子シロキサン濃度をリアルタイムに測定する工程、および
(b)予め作成した、該乾燥機によりポストキュアを行ったシリコーンゴム硬化物中の低分子シロキサン濃度と該ポストキュアを行ったときに該測定装置で測定した該乾燥機由来の排出ガス中の低分子シロキサン濃度との関係を示す検量線を用いて、工程(a)で測定した低分子シロキサン濃度から工程(a)でポストキュアを行ったシリコーンゴム硬化物中の低分子シロキサン濃度を決定する工程
を含んでなるシリコーンゴム硬化物中の低分子シロキサン濃度をリアルタイムで評価する方法を提供する。
本発明の乾燥機システムは、
シリコーンゴム硬化物のポストキュアを行う乾燥機と、
該乾燥機由来の排出ガスが導入され、該排出ガス中の低分子シロキサン濃度をリアルタイムに測定する測定装置と、
を備える乾燥機システムである。
前記乾燥機から延びる主排気ラインと、
該主排気ラインから分岐して前記測定装置に接続する分岐排気ラインと、
を更に備えることが好ましい。この場合、該乾燥機由来の排出ガスは、主排気ラインと分岐排気ラインとを経由して、該測定装置に導入される。また、本発明の乾燥機システムは、前記乾燥機に接続する吸気ラインを有してもよい。
シリコーンゴム硬化物のポストキュアを行う前記乾燥機は、シリコーンゴム硬化物をポストキュアに適した温度、例えば、180〜300℃、好ましくは200〜250℃に加熱することができるものであれば特に限定されず、その例としては、熱風乾燥機等が挙げられる。本発明で用いる乾燥機は、乾燥機内の空気交換率を上げ、有効にシリコーンゴム硬化物中の低分子シロキサンを除去するために、吸気ファンと排気ファンがついていることが好ましい。
シリコーンゴム硬化物としては、硬化性シリコーンゴム組成物を室温で又は必要に応じ加熱下で硬化させて得られるものであれば特に制限されないが、典型的には、該組成物を所定の形状に成形し、室温で又は必要に応じ加熱下で硬化させて得られるシリコーンゴム成形物が用いられる。該組成物としては、ケイ素原子に結合した水素原子(即ち、SiH基)含有化合物及び白金族金属系触媒を硬化剤として用いる付加反応硬化型シリコーンゴム組成物、ならびに、有機過酸化物を硬化剤として用いる有機過酸化物硬化型シリコーンゴム組成物が一般的である。該組成物の形態(性状)は、ミラブルタイプ(即ち、室温で流動性のない半固体状)でも液状タイプでもよい。
前記乾燥機由来の排出ガスが導入される前記測定装置は、該排出ガス中の低分子シロキサン濃度をリアルタイムに測定することができるものであれば特に限定されない。該測定装置としては、例えば、赤外線シロキサン分析装置等が挙げられるが、リアルタイムでの測定を簡便かつ正確に行うことができる点で、赤外線シロキサン分析装置が好ましい。
本発明の乾燥機システムが前記主排気ラインと前記分岐排気ラインとを備える場合、乾燥機由来の排出ガスは該主排気ラインを経て、又は該主排気ラインと該分岐排気ラインとを経て大気中に放出される。該分岐排気ラインは開閉可能であることが好ましい。分岐排気ラインの開閉には、例えば、二方コック、三方コック等を用いることができる。二方コックであれば、例えば、分岐排気ライン上に設置することにより、分岐排気ラインの開閉を行うことができる。また、三方コックであれば、例えば、主排気ラインと分岐排気ラインとの分岐点に設置することにより、分岐排気ラインの開閉を行うことができる。また、分岐排気ラインには流量計が設置されていることが好ましい。これにより、測定装置に供給される排出ガスの流量を調整して該測定装置による低分子シロキサン濃度の測定に適したものとすることができる。バルブ付フローメーターを用いると、分岐排気ラインの開閉と流量測定とを同時に行うことができる。
図1は本発明の乾燥機システムの一例を示す概略図である。図1に基づいて、本発明の乾燥機システムの好ましい実施形態を説明する。
本発明の評価方法は、工程(a)および(b)を含んでなるシリコーンゴム硬化物中の低分子シロキサン濃度をリアルタイムで評価する方法である。
(1)本発明の乾燥機システム中の乾燥機によりポストキュアを行ったシリコーンゴム硬化物中の低分子シロキサン濃度と
(2)該ポストキュアを行ったときに本発明の乾燥機システム中の測定装置で測定した該乾燥機由来の排出ガス中の低分子シロキサン濃度と
の関係を示すものである。上記(1)の低分子シロキサン濃度は、例えば、ポストキュアを行ったシリコーンゴム硬化物をn−テトラデカン含有アセトン等の溶剤に浸漬して低分子シロキサンを抽出し、抽出された低分子シロキサン量をキャピラリーガスクロマトグラフにて測定することにより測定することができる。
2 乾燥機
3 シリコーンゴム硬化物
4 吸気ライン
5 主排気ライン
6 冷却水循環装置
7 分岐点
8 分岐排気ライン
9 バルブ付きフローメーター
10 測定装置
Claims (9)
- シリコーンゴム硬化物のポストキュアを行う乾燥機と、
該乾燥機由来の排出ガスが導入され、該排出ガス中の低分子シロキサン濃度をリアルタイムに測定する測定装置と、
を備える乾燥機システム。 - 前記測定装置が赤外線シロキサン分析装置である請求項1に係る乾燥機システム。
- 前記乾燥機から延びる主排気ラインと、
該主排気ラインから分岐して前記測定装置に接続する分岐排気ラインと、
を更に備える請求項1又は2に係る乾燥機システム。 - 前記分岐排気ラインが開閉可能である請求項1〜3のいずれか1項に係る乾燥機システム。
- 前記分岐排気ラインに流量計が設置されている請求項3又は4に係る乾燥機システム。
- 前記赤外線シロキサン分析装置が、波数1250〜770cm-1の赤外線の吸収を検出する装置および波数850〜770cm-1の赤外線の吸収を検出する装置を有してなる請求項2に係る乾燥機システム。
- 前記測定装置に導入される前記排出ガスの温度が40℃以下に制御される請求項1〜6のいずれか1項に係る乾燥機システム。
- 前記測定装置に導入される前記排出ガスがポアサイズ10μm以下の浮遊微粒子除去用ガスフィルターを通過したガスである請求項1〜7のいずれか1項に係る乾燥機システム。
- (a)請求項1〜8のいずれか1項に記載の乾燥機システム中の乾燥機によりシリコーンゴム硬化物のポストキュアを行い、該乾燥機システム中の測定装置により該乾燥機由来の排出ガス中の低分子シロキサン濃度をリアルタイムに測定する工程、および
(b)予め作成した、該乾燥機によりポストキュアを行ったシリコーンゴム硬化物中の低分子シロキサン濃度と該ポストキュアを行ったときに該測定装置で測定した該乾燥機由来の排出ガス中の低分子シロキサン濃度との関係を示す検量線を用いて、工程(a)で測定した低分子シロキサン濃度から工程(a)でポストキュアを行ったシリコーンゴム硬化物中の低分子シロキサン濃度を決定する工程
を含んでなるシリコーンゴム硬化物中の低分子シロキサン濃度をリアルタイムで評価する方法。
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