JP5017832B2 - Electro-optical device, method of manufacturing electro-optical device, and electronic apparatus - Google Patents

Electro-optical device, method of manufacturing electro-optical device, and electronic apparatus Download PDF

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Description

本発明は、滴下封入方式を採用した大板組立方式に好適な電気光学装置、電気光学装置の製造方法及び電子機器に関する。   The present invention relates to an electro-optical device suitable for a large plate assembling method adopting a dropping sealing method, a method for manufacturing the electro-optical device, and an electronic apparatus.

一般に電気光学装置、例えば、電気光学物質に液晶を用いて所定の表示を行う液晶装置は、一対の基板間に液晶が挟持された構成となっている。アクティブマトリクス駆動方式の液晶装置においては、一対の基板のうちの一方は、縦横に夫々配列された多数の走査線(ゲート線)及びデータ線(ソース線)の各交点に対応して、画素電極及びスイッチング素子が配列されたアクティブマトリクス基板であり、他方は、共通電極が形成された対向基板である。   In general, an electro-optical device, for example, a liquid crystal device that performs predetermined display using liquid crystal as an electro-optical material has a configuration in which liquid crystal is sandwiched between a pair of substrates. In an active matrix liquid crystal device, one of a pair of substrates has a pixel electrode corresponding to each intersection of a large number of scanning lines (gate lines) and data lines (source lines) arranged vertically and horizontally. And an active matrix substrate on which switching elements are arranged, and the other is a counter substrate on which a common electrode is formed.

TFT素子等のスイッチング素子は、ゲート線に供給されるオン信号によってオンとなり、ソース線を介して供給される画像信号を画素電極(透明電極(ITO))に書込む。これにより、画素電極と共通電極相互間の液晶層に画像信号に基づく電圧を印加して、液晶分子の配列を変化させる。こうして、画素の透過率を変化させ、画素電極及び液晶層を通過する光を画像信号に応じて変化させて画像表示を行う。   A switching element such as a TFT element is turned on by an on signal supplied to the gate line, and an image signal supplied via the source line is written to the pixel electrode (transparent electrode (ITO)). As a result, a voltage based on the image signal is applied to the liquid crystal layer between the pixel electrode and the common electrode to change the arrangement of the liquid crystal molecules. In this way, the transmittance of the pixel is changed, and light passing through the pixel electrode and the liquid crystal layer is changed according to the image signal to perform image display.

TFT基板と、TFT基板に対向配置される対向基板とは、別々に製造される。両基板は、パネル組立工程において高精度に貼り合わされた後、液晶が封入される。パネル組立工程においては、先ず、各基板工程において夫々製造されたTFT基板と対向基板との対向面、即ち、対向基板及びTFT基板の液晶層と接する面上に配向膜が形成され、次いでラビング処理が行われる。   The TFT substrate and the counter substrate disposed opposite to the TFT substrate are manufactured separately. Both substrates are bonded together with high accuracy in the panel assembling process, and then liquid crystal is sealed therein. In the panel assembly process, first, an alignment film is formed on the opposing surfaces of the TFT substrate and the counter substrate manufactured in each substrate process, that is, on the surface in contact with the liquid crystal layer of the counter substrate and the TFT substrate, and then the rubbing process. Is done.

次に、一方の基板上の端辺に接着剤となるシール部が形成される。TFT基板と対向基板とをシール部を用いて貼り合わせ、アライメントを施しながら圧着硬化させるのである。   Next, a seal portion serving as an adhesive is formed on the edge of one substrate. The TFT substrate and the counter substrate are bonded together using a seal portion, and are pressure-cured and cured while being aligned.

ところで、TFT基板と対向基板との間に液晶を封入する方式として、滴下封入方式が採用されることがある。滴下封入方式においては、例えばTFT基板上の周縁に、接着剤となるシール材を枠状に形成した後、このシール材の内側の基板上の領域(以下、液晶充填領域という)に、規定量の液晶を滴下する。   By the way, as a system for encapsulating liquid crystal between the TFT substrate and the counter substrate, a drop encapsulating system may be adopted. In the drop encapsulating method, for example, a seal material serving as an adhesive is formed in a frame shape on the periphery of the TFT substrate, and then a prescribed amount is placed in a region on the substrate inside the seal material (hereinafter referred to as a liquid crystal filling region). Drop the liquid crystal.

次に、真空下において、TFT基板に対向基板を対向配置して、シール材を介して貼り合わせる。そして、TFT基板と対向基板とを圧着硬化させると共に、大気開放する。このような滴下封入方式については、特許文献1に開示されている。
特開2005−91493公報
Next, under vacuum, the counter substrate is disposed opposite to the TFT substrate, and is bonded through a sealing material. Then, the TFT substrate and the counter substrate are cured by pressure and released to the atmosphere. Such a dropping enclosure method is disclosed in Patent Document 1.
JP 2005-91493 A

ところで、このような液晶装置の製造方法として、生産性に優れたアレイ製造方式が採用されることがある。アレイ製造方式においては、1枚のマザーガラス基板(素子マザー基板)から複数のTFT基板(アクティブマトリクス基板)を切り出す。更に、高い生産性を得るために、貼り合せの方式として、多数の素子基板を形成した素子マザー基板と多数の対向基板を形成した対向マザー基板同士を貼り合せる方法がある。この場合には、滴下封入方式を採用することで、生産性を更に一層向上させることができる。   By the way, as a manufacturing method of such a liquid crystal device, an array manufacturing method with excellent productivity may be adopted. In the array manufacturing method, a plurality of TFT substrates (active matrix substrates) are cut out from one mother glass substrate (element mother substrate). Furthermore, in order to obtain high productivity, as a bonding method, there is a method in which an element mother substrate on which a large number of element substrates are formed and an opposing mother substrate on which a large number of counter substrates are formed are bonded to each other. In this case, the productivity can be further improved by adopting the dropping enclosure method.

組立工程終了後のマザー基板を分断することで、単体の液晶基板を得ることができる。この場合、分断工程を簡単にするためには、貼り合わされた素子基板と対向基板とを同一寸法に切り出すことが望ましい。例えば、素子基板の端子部が形成される1辺を除く他の3辺については、対向基板の対応する3辺と同一寸法に形成されることが多い。   A single liquid crystal substrate can be obtained by dividing the mother substrate after completion of the assembly process. In this case, in order to simplify the dividing step, it is desirable to cut the bonded element substrate and counter substrate to the same size. For example, the other three sides excluding one side where the terminal portion of the element substrate is formed are often formed to have the same dimensions as the corresponding three sides of the counter substrate.

しかしながら、3辺において素子基板と対向基板との寸法が同一であることから、組立工程以降の製造工程中において、素子基板と対向基板との見分けが付きにくく、また、向きも分かりにくく、作業性が悪化するという問題点があった。   However, since the dimensions of the element substrate and the counter substrate are the same on the three sides, it is difficult to distinguish between the element substrate and the counter substrate during the manufacturing process after the assembly process, and the orientation is also difficult to understand. There was a problem of getting worse.

なお、近年、基板の小型化が促進されており、端子部が形成される1辺においても、素子基板と対向基板との寸法差は僅かであり、基板の向きや種類の判別は一層困難となっている。   In recent years, downsizing of the substrate has been promoted, and even on one side where the terminal portion is formed, the dimensional difference between the element substrate and the counter substrate is slight, and it is more difficult to determine the orientation and type of the substrate. It has become.

本発明は、パネルの上下左右表裏の向きや種類を簡単に判別可能にすることができる電気光学装置、電気光学装置の製造方法及び電子機器を提供することを目的とする。   An object of the present invention is to provide an electro-optical device, a method for manufacturing the electro-optical device, and an electronic apparatus that can easily determine the orientation and type of the upper, lower, left, and right sides of the panel.

本発明に係る電気光学装置は、第1の基板上に形成された枠状のシール材の内側に電気光学物質を滴下する滴下封入方式によって、前記第1の基板と第2の基板との間に前記電気光学物質が介在されて構成される電気光学装置であって、前記第1及び第2の基板の少なくとも一方の基板上の前記シール材の内側に、画素領域を囲むように設けられた遮光膜と、前記シール材と重なる位置に、前記遮光膜と同一材料からなる識別表示とを具備し、前記識別表示は、当該電気光学装置の上下左右及び表裏を識別するための非対称な形状を有することを特徴とする。
また、前記一方の基板は、端子部に沿う第1辺と、前記第1辺と対向する第2辺と、前記第1辺及び第2辺と交差する第3辺とを有し、前記識別表示は、前記一方の基板の前記第2辺及び第3辺が交差する前記一方の基板の隅部に設けられることを特徴とする。
The electro-optical device according to the present invention is provided between the first substrate and the second substrate by a dropping encapsulation method in which an electro-optical material is dropped inside a frame-shaped sealing material formed on the first substrate. The electro-optical device is configured by interposing the electro-optical material on the inside of the sealing material on at least one of the first and second substrates so as to surround a pixel region. A light-shielding film and an identification display made of the same material as the light-shielding film at a position overlapping with the sealing material, and the identification display has an asymmetric shape for identifying the top, bottom, left, right and front and back of the electro-optical device. It is characterized by having .
The one substrate has a first side along the terminal portion, a second side facing the first side, and a third side intersecting the first side and the second side, and the identification The display is provided at a corner of the one substrate where the second side and the third side of the one substrate intersect.

このような構成によれば、識別手段は、前記第1及び第2の基板の少なくとも一方の所定位置に形成される。識別手段の位置が特定されれば、観察時の識別手段の第1,第2の基板に対する位置から、第1,第2の基板の上下左右表裏を判断することができる。これにより、組立工程後の工程における作業性を向上させることができる。   According to such a configuration, the identification unit is formed at a predetermined position of at least one of the first and second substrates. If the position of the identification means is specified, the top, bottom, left, right, and back of the first and second substrates can be determined from the positions of the identification means with respect to the first and second substrates at the time of observation. Thereby, the workability | operativity in the process after an assembly process can be improved.

また、前記識別表示は、前記第1及び第2の基板の4隅部の1箇所に設けられることを特徴とする。   The identification display may be provided at one of the four corners of the first and second substrates.

このような構成によれば、第1及び第2の基板の特定の角部に識別表示が形成されるので、識別表示を視認することで、容易に第1,第2の基板の上下左右表裏を把握することができる。   According to such a configuration, since the identification display is formed at specific corners of the first and second substrates, the top, bottom, left, right, and back of the first and second substrates can be easily seen by visually recognizing the identification display. Can be grasped.

前記識別表示は、前記第1又は第2の基板に形成される遮光膜と同一材料によって形成されることを特徴とする。   The identification display is formed of the same material as the light shielding film formed on the first or second substrate.

このような構成によれば、遮光膜と同時に識別表示を形成することができ、製造工程が増加することはない。   According to such a configuration, the identification display can be formed simultaneously with the light shielding film, and the manufacturing process does not increase.

また、本件の参考発明に係る電気光学装置は、第1の基板上に形成された枠状のシール材によって区画された電気光学物質充填領域に電気光学物質を滴下する滴下封入方式によって、前記第1の基板と第2の基板との間に液晶が介在されて構成される電気光学装置であって、前記第1及び第2の基板の少なくとも一方の基板に設けられる識別手段を具備し、前記識別手段は、前記第1及び第2の基板の少なくとも一方の基板の外形を変形させることで得られる所定形状の識別部であることを特徴とする。
In addition, the electro-optical device according to the reference invention of the present application uses the dropping and sealing method in which the electro-optical material is dropped into the electro-optical material filling region partitioned by the frame-shaped sealing material formed on the first substrate. An electro-optical device configured by interposing a liquid crystal between a first substrate and a second substrate, comprising: identification means provided on at least one of the first and second substrates, The discriminating means is a discriminating portion having a predetermined shape obtained by deforming the outer shape of at least one of the first and second substrates.

このような構成によれば、外形を観察することで、第1及び第2の基板の上下左右表裏を判断することができる。   According to such a configuration, the top, bottom, left, and right sides of the first and second substrates can be determined by observing the outer shape.

このような構成によれば、第1及び第2の基板の表面及び裏面のいずれの面側から識別部を視認した場合でも、識別部の見え方によって、容易に第1,第2の基板の上下左右表裏を把握することができる。   According to such a configuration, even when the identification unit is visually recognized from any one of the front and back surfaces of the first and second substrates, the first and second substrates can be easily formed depending on how the identification unit is seen. You can grasp the top, bottom, left, and right sides.

本発明に係る電気光学装置の製造方法は、第1の基板と第2の基板とが貼り合わされてなる電気光学装置の製造方法であって、前記第1の基板上に、画素領域を囲む遮光膜及び識別表示を同一材料から形成する工程と、前記遮光膜の外側に前記識別表示と重なるように枠状のシール材を形成する工程と、前記シール材の内側に電気光学物質を滴下する工程と、前記第1の基板と第2の基板とを前記電気光学物質を介在させて貼り合わせる工程とを具備し、前記遮光膜及び識別表示を形成する工程において、前記識別表示は、当該電気光学装置の上下左右及び表裏を識別できるよう非対称な形状にパターニングされることを特徴とする。
また、第1マザー基板から分断された第1の基板と第2マザー基板から分断された第2の基板とが貼り合わされてなる電気光学装置の製造方法であって、前記第1マザー基板の前記第1の基板となる領域に、画素領域を囲む遮光膜及び識別表示を同一材料から形成する工程と、前記第1の基板となる領域において、前記遮光膜の外側に前記識別表示と重なるように枠状のシール材を形成する工程と、前記シール材の内側に電気光学物質を滴下する工程と、前記第1マザー基板と前記第2マザー基板とを前記電気光学物質を介在させて貼り合わせる工程と、前記第1及び第2マザー基板から前記第1及び第2基板を分断する工程とを具備し、前記遮光膜及び識別表示を形成する工程において、前記識別表示は、当該電気光学装置の上下左右及び表裏を識別できるよう非対称な形状にパターニングされることを特徴とする。

A method for manufacturing an electro-optical device according to the present invention is a method for manufacturing an electro-optical device in which a first substrate and a second substrate are bonded to each other. The light-shielding surrounds a pixel region on the first substrate. Forming a film and an identification display from the same material ; forming a frame-shaped sealing material on the outside of the light shielding film so as to overlap the identification display; and dropping an electro-optical material on the inside of the sealing material When the first substrate and the second substrate; and a step of bonding by interposing the electro-optical material, in the step of forming the light shielding film and identification, the identification is the electro-optical characterized in that it is patterned vertically and horizontally and the front and back of the device to asymmetric shape so that it can be identified.
A method of manufacturing an electro-optical device in which a first substrate separated from a first mother substrate and a second substrate separated from a second mother substrate are bonded to each other. Forming a light-shielding film and an identification display surrounding the pixel region in the region to be the first substrate from the same material , and overlapping the identification display on the outside of the light-shielding film in the region to be the first substrate A step of forming a frame-shaped sealing material, a step of dropping an electro-optical material inside the sealing material, and a step of bonding the first mother substrate and the second mother substrate together with the electro-optical material interposed And the step of separating the first and second substrates from the first and second mother substrates, and in the step of forming the light shielding film and the identification display , the identification display is provided above and below the electro-optical device. Left and right and It characterized in that it is patterned in an asymmetrical shape so as to identify the back.

このような構成によれば、第1の基板上に識別表示が形成される。第1の基板又は第2の基板には枠状のシール材が形成され、このシール材によって区画された電気光学物質充填領域に電気光学物質が滴下される。この電気光学物質を介在させた状態で、第1の基板と第2の基板とが貼り合わされる。第1の基板には、識別表示が形成されており、識別表示によって、組立工程後の第1及び第2の基板の上下左右表裏を用意に認識することができる。   According to such a configuration, an identification display is formed on the first substrate. A frame-shaped sealing material is formed on the first substrate or the second substrate, and the electro-optical material is dropped onto the electro-optical material filling region partitioned by the sealing material. The first substrate and the second substrate are bonded together with the electro-optical material interposed. An identification display is formed on the first substrate, and the identification display can easily recognize the top, bottom, left, and right and back of the first and second substrates after the assembly process.

本発明に係る電子機器は、上記電気光学装置を具備したことを特徴とする。   An electronic apparatus according to the present invention includes the electro-optical device.

このような構成によれば、電気光学装置の製造に際して作業性が向上しており、製造時に誤りのない装置が得られやすい。   According to such a configuration, workability is improved when the electro-optical device is manufactured, and a device that is free from errors in manufacturing is easily obtained.

以下、図面を参照して本発明の実施の形態について詳細に説明する。図1は本発明の第1の実施の形態に係る電気光学装置を示す平面図である。本実施の形態は電気光学装置として液晶装置に適用したものである。図2は図1のH−H'線の位置で切断して示す断面図であり、素子基板と対向基板とを貼り合わせて液晶を封入する組立工程終了後の液晶装置を示している。また、図3は識別マークを説明するための斜視図であり、図4は識別マークの形成方法を説明するためのフローチャートである。   Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the drawings. FIG. 1 is a plan view showing an electro-optical device according to a first embodiment of the invention. The present embodiment is applied to a liquid crystal device as an electro-optical device. FIG. 2 is a cross-sectional view taken along the line HH ′ of FIG. 1 and shows the liquid crystal device after the assembly process in which the element substrate and the counter substrate are bonded together to enclose the liquid crystal. FIG. 3 is a perspective view for explaining the identification mark, and FIG. 4 is a flowchart for explaining the method of forming the identification mark.

液晶装置1は、図1及び図2に示すように、例えば、石英基板、ガラス基板、シリコン基板を用いた素子基板10と、これに対向配置される、例えばガラス基板や石英基板を用いた対向基板20との間に液晶50を封入して構成される。対向配置された素子基板10と対向基板20とは、シール材52によって貼り合わされている。   As shown in FIGS. 1 and 2, the liquid crystal device 1 includes, for example, a quartz substrate, a glass substrate, an element substrate 10 using a silicon substrate, and an opposing substrate, for example, a glass substrate or a quartz substrate. A liquid crystal 50 is sealed between the substrate 20 and the substrate 20. The element substrate 10 and the counter substrate 20 that are arranged to face each other are bonded to each other by a sealing material 52.

図1及び図2に示すように、素子基板10及び対向基板20の平面形状は、相互に略同一サイズの長方形状である。素子基板10の1辺には、端子部102が設けられている。対向基板20はこの端子部102が形成された部分を露出させるように、端子部102に相当する部分だけ素子基板10よりも小さいサイズに構成されている。即ち、素子基板10と対向基板20とは、端子部102が形成された辺を除く3辺は同一寸法に形成されて、この3辺では側面同士は面一に形成される。   As shown in FIGS. 1 and 2, the planar shapes of the element substrate 10 and the counter substrate 20 are rectangular shapes having substantially the same size. A terminal portion 102 is provided on one side of the element substrate 10. The counter substrate 20 is configured to have a size smaller than that of the element substrate 10 only at a portion corresponding to the terminal portion 102 so that a portion where the terminal portion 102 is formed is exposed. That is, the element substrate 10 and the counter substrate 20 are formed to have the same dimensions on the three sides except the side where the terminal portion 102 is formed, and the side surfaces are formed flush with each other on the three sides.

シール材52は対向基板20の縁辺部に形成されている。液晶装置1の中央には、画素領域10aが設けられる。   The sealing material 52 is formed on the edge portion of the counter substrate 20. A pixel region 10 a is provided at the center of the liquid crystal device 1.

素子基板10上には画素を構成する画素電極(ITO)9a等がマトリクス状に配置される。また、対向基板20上には全面に対向電極(ITO)21が設けられる。素子基板10の画素電極9a上には、液晶50に接して、ラビング処理が施された配向膜16が設けられている。一方、対向基板20側においても、液晶50に接して、全面に渡って、ラビング処理が施された配向膜22が設けられている。各配向膜16,22は、例えば、ポリイミド膜等の透明な有機膜からなる。   On the element substrate 10, pixel electrodes (ITO) 9a constituting pixels are arranged in a matrix. A counter electrode (ITO) 21 is provided on the entire surface of the counter substrate 20. On the pixel electrode 9 a of the element substrate 10, an alignment film 16 subjected to a rubbing process is provided in contact with the liquid crystal 50. On the other hand, on the counter substrate 20 side, an alignment film 22 that is rubbed is provided over the entire surface in contact with the liquid crystal 50. The alignment films 16 and 22 are made of a transparent organic film such as a polyimide film, for example.

素子基板10上には、画素領域10aにおいて、複数本の図示しない走査線とデータ線とが交差するように配線され、走査線とデータ線とで区画された領域に画素電極9aがマトリクス状に配置される。そして、走査線とデータ線の各交差部分に対応して図示しないスイッチング素子が設けられ、このスイッチング素子に画素電極9aが接続される。   On the element substrate 10, in the pixel region 10a, a plurality of scanning lines and data lines (not shown) are wired so as to cross each other, and the pixel electrodes 9a are arranged in a matrix in the region partitioned by the scanning lines and the data lines. Be placed. A switching element (not shown) is provided corresponding to each intersection of the scanning line and the data line, and the pixel electrode 9a is connected to the switching element.

走査線にON信号を供給することで、スイッチング素子はオンとなり、これにより、データ線に供給された画像信号がスイッチング素子を介して画素電極9aに供給される。この画素電極9aと対向基板20に設けられた対向電極21との間の電圧が液晶50に印加される。こうして、画像信号に応じて液晶50が駆動され、各画素毎に光の透過率が変化して、画像表示が行われる。   By supplying the ON signal to the scanning line, the switching element is turned on, whereby the image signal supplied to the data line is supplied to the pixel electrode 9a via the switching element. A voltage between the pixel electrode 9 a and the counter electrode 21 provided on the counter substrate 20 is applied to the liquid crystal 50. In this way, the liquid crystal 50 is driven according to the image signal, and the light transmittance is changed for each pixel, so that image display is performed.

また、図1及び図2に示すように、対向基板20には画素領域10aを区画する額縁としての遮光膜53が設けられている。また、対向基板20上には、画素領域10aにおいて、素子基板10側のデータ線及び走査線に対応して、遮光膜54が形成されている。   As shown in FIGS. 1 and 2, the counter substrate 20 is provided with a light shielding film 53 as a frame for partitioning the pixel region 10a. On the counter substrate 20, a light shielding film 54 is formed in the pixel region 10 a so as to correspond to the data lines and scanning lines on the element substrate 10 side.

本実施の形態においては、対向基板20の画素領域10a以外の領域であって、対向基板20の左右方向の中央又は上下方向の中央を除く所定位置に、識別表示としての識別マーク55が設けられている。図1の例では、識別マーク55は、対向基板20の1角部に設けられている。図1の例では識別マーク55は、四角形状を有しているが、いずれの形状で構成してもよく、例えば文字であってもよい。   In the present embodiment, an identification mark 55 serving as an identification display is provided in a region other than the pixel region 10a of the counter substrate 20, excluding the center in the horizontal direction or the center in the vertical direction of the counter substrate 20. ing. In the example of FIG. 1, the identification mark 55 is provided at one corner of the counter substrate 20. In the example of FIG. 1, the identification mark 55 has a quadrangular shape, but may be formed in any shape, for example, a character.

本実施の形態においては、識別マーク55は、遮光膜53,54と同層に、遮光膜53,54と同一材料によって形成されている。   In the present embodiment, the identification mark 55 is formed in the same layer as the light shielding films 53 and 54 by using the same material as the light shielding films 53 and 54.

また、素子基板10には、画素領域10a以外の領域において、走査線及びデータ線を駆動する図示しないドライバが形成されており、ドライバには端子部102を介して信号が供給されるようになっている。また、素子基板10と対向基板20とは図示しない上下導通材によって電気的な導通がとられている。   The element substrate 10 is provided with a driver (not shown) for driving the scanning lines and the data lines in the region other than the pixel region 10a, and a signal is supplied to the driver via the terminal portion 102. ing. The element substrate 10 and the counter substrate 20 are electrically connected by a vertical conductive material (not shown).

次に、図3及び図4を参照して対向基板の製造方法について説明する。   Next, a manufacturing method of the counter substrate will be described with reference to FIGS.

先ず、図4のステップS11において、ガラス基板等が用意される。次に、ガラス基板上に、遮光膜材料が形成される(ステップS22)。遮光膜材料は、例えば、金属クロムをスパッタリングすることによって得ることができる。次に、成膜した遮光膜材料をフォトリソグラフィ及びエッチング工程においてパターニングする。   First, in step S11 of FIG. 4, a glass substrate or the like is prepared. Next, a light shielding film material is formed on the glass substrate (step S22). The light shielding film material can be obtained, for example, by sputtering metal chromium. Next, the formed light shielding film material is patterned in a photolithography and etching process.

本実施の形態においては、このパターンニング時に、遮光膜53,54を形成すると共に、識別マーク55も形成するようになっている(ステップS23)。なお、これらの遮光膜53,54及び識別マーク55は、導電性を有する必要はなく、Cr、Ni、AL等の金属材料のほか、カーボンやTiをフォトレジストに分散した樹脂ブラック等の材料から形成してもよい。   In the present embodiment, at the time of patterning, the light shielding films 53 and 54 are formed, and the identification mark 55 is also formed (step S23). The light shielding films 53 and 54 and the identification mark 55 do not need to have conductivity, and are made of a metal material such as Cr, Ni, or AL, or a material such as resin black in which carbon or Ti is dispersed in a photoresist. It may be formed.

次に、ステップS24において、対向基板20の全面にスパッタ処理等により、ITO等の透明導電性膜を、約50〜200nmの厚さに堆積することにより、対向電極21を形成する。さらに、対向電極21の全面にポリイミド系の配向膜の塗布液を塗布した後、所定のプレティルト角をもつように、かつ所定方向でラビング処理を施すこと等により、配向膜22を形成する(ステップS25)。   Next, in step S24, the counter electrode 21 is formed by depositing a transparent conductive film of ITO or the like to a thickness of about 50 to 200 nm on the entire surface of the counter substrate 20 by sputtering or the like. Further, after applying a polyimide alignment film coating solution over the entire surface of the counter electrode 21, the alignment film 22 is formed by performing a rubbing process in a predetermined direction so as to have a predetermined pretilt angle (step) S25).

こうして製造された対向基板20を、組立工程において、素子基板10とシール材52により貼り合わせる。図3は貼り合わせ前の基板10,20を示している。図3に示すように、対向基板20の素子基板10側の面(貼り合わせ面)に、遮光膜53及び識別マーク55が形成されている。対向基板20は透明基板であり、図3の矢印A方向から基板20を観察することで、対向基板20の表面側から貼り合わせ面側に形成された識別マーク55を視認することが可能である。また、識別マーク55は画素領域10aを区画する遮光膜53の外側の領域に形成されており、表示を阻害することはない。   The counter substrate 20 manufactured in this way is bonded to the element substrate 10 by the sealing material 52 in the assembly process. FIG. 3 shows the substrates 10 and 20 before bonding. As shown in FIG. 3, a light shielding film 53 and an identification mark 55 are formed on the surface (bonding surface) of the counter substrate 20 on the element substrate 10 side. The counter substrate 20 is a transparent substrate, and by observing the substrate 20 from the direction of arrow A in FIG. 3, it is possible to visually recognize the identification mark 55 formed on the bonding surface side from the surface side of the counter substrate 20. . Further, the identification mark 55 is formed in a region outside the light shielding film 53 that partitions the pixel region 10a, and does not hinder display.

識別マーク55は対向基板20の4隅部の1箇所に形成されており、識別マーク55の位置を確認することで、組立後の液晶装置1の向きを判断することができる。例えば、組立終了後の液晶装置1については、識別マーク55が視認可能な面を観察者側に向けて、且つ、識別マーク55が基板の左上の隅に位置するように液晶装置1を配置することで、液晶装置1が図1と同様の状態に配置されていることが認識可能である。   The identification mark 55 is formed at one of the four corners of the counter substrate 20, and by confirming the position of the identification mark 55, the orientation of the assembled liquid crystal device 1 can be determined. For example, for the liquid crystal device 1 after assembly, the liquid crystal device 1 is disposed so that the surface on which the identification mark 55 can be viewed is directed toward the viewer and the identification mark 55 is positioned at the upper left corner of the substrate. Thus, it can be recognized that the liquid crystal device 1 is arranged in the same state as in FIG.

従って、本実施の形態のように、素子基板10と対向基板20とが略同一寸法で、いずれの基板が素子基板であるか対向基板であるかの識別が困難な場合でも、識別マーク55の位置を確認することで、いずれの基板が素子基板又は対向基板であるかを認識すると共に、装置の上下方向及び左右方向についても確実に認識することが可能である。   Therefore, even if the element substrate 10 and the counter substrate 20 have substantially the same dimensions as in the present embodiment and it is difficult to identify which substrate is the element substrate or the counter substrate, the identification mark 55 By confirming the position, it is possible to recognize which substrate is an element substrate or a counter substrate, and also reliably recognize the vertical and horizontal directions of the apparatus.

ところで、液晶装置において、液晶注入方式によって液晶を封止する場合には、シール材に注入口が設けられており、この注入口を利用して装置の向きを判別可能である。しかし、液晶を滴下封入方式によって封入する場合には、シール材には注入口が設けられていないことから、このような識別マークの有用性は高い。   By the way, in the liquid crystal device, when the liquid crystal is sealed by the liquid crystal injection method, an injection port is provided in the sealing material, and the orientation of the device can be determined using this injection port. However, when the liquid crystal is sealed by the dropping sealing method, since the sealing material is not provided with an injection port, the usefulness of such an identification mark is high.

図5は滴下封入方式を採用した場合における組立工程を説明するための斜視図であり、図6は組立工程のフローチャートである。なお、図1乃至図3の液晶装置は図5及び図6の滴下封入方式によって製造可能である。   FIG. 5 is a perspective view for explaining an assembling process in the case of adopting a dropping sealing method, and FIG. 6 is a flowchart of the assembling process. Note that the liquid crystal device of FIGS. 1 to 3 can be manufactured by the dropping sealing method of FIGS.

図5はアレイ製造方式によって製造した素子マザー基板74及び対向マザー基板75を示している。アレイ製造方式においては、製造時に投入したマザー基板を分断することなく成膜及びフォトリソグラフィ工程を繰返して、複数の液晶基板を構成する各素子をマザー基板上に同時に形成する。そして、マザー基板を分断することで、各液晶基板を得る。   FIG. 5 shows the element mother substrate 74 and the counter mother substrate 75 manufactured by the array manufacturing method. In the array manufacturing method, the elements forming the plurality of liquid crystal substrates are simultaneously formed on the mother substrate by repeating the film forming and photolithography processes without dividing the mother substrate that is input at the time of manufacturing. Then, each liquid crystal substrate is obtained by dividing the mother substrate.

また、図5では、貼り合せの方式として、多数の素子基板を形成したマザー基板と多数の対向基板を形成したマザー基板同士を貼り合せる方式(以下、大板組立方式という)を採用する。   In FIG. 5, as a bonding method, a method of bonding a mother substrate on which a large number of element substrates are formed and a mother substrate on which a large number of counter substrates are formed (hereinafter referred to as a large plate assembly method) is adopted.

本実施の形態においては、対向マザー基板75については、各対向基板77の例えば角部に相当する位置に識別マーク78が形成されている。識別マーク78としては、例えば、図4のステップS23と同様の工程において形成した識別マーク55(図1参照)と同様のものであってもよい。即ち、この場合には、識別マーク78は遮光材料によって形成される。   In the present embodiment, for the counter mother substrate 75, an identification mark 78 is formed at a position corresponding to, for example, a corner portion of each counter substrate 77. For example, the identification mark 78 may be the same as the identification mark 55 (see FIG. 1) formed in the same process as step S23 in FIG. That is, in this case, the identification mark 78 is formed of a light shielding material.

図6のステップS1において、素子がアレイ状に形成されている素子マザー基板74が投入される。一方、ステップS6では、対向基板が複数形成された対向マザー基板75が投入される。素子マザー基板74上には図2及び図3に示す素子基板10と同様の素子基板が、組立工程の前工程である素子基板工程において複数形成されている。   In step S1 of FIG. 6, an element mother substrate 74 in which elements are formed in an array is loaded. On the other hand, in step S6, the counter mother substrate 75 on which a plurality of counter substrates are formed is loaded. On the element mother substrate 74, a plurality of element substrates similar to the element substrate 10 shown in FIGS. 2 and 3 are formed in an element substrate process which is a pre-process of the assembly process.

これらの素子マザー基板74及び対向マザー基板75には、夫々全面に配向膜が形成され(ステップS2,S7)、ラビング処理が施される(ステップS3,S8)。ステップS4,S9の洗浄工程は、素子基板のラビング処理によって生じた塵埃を除去するためのものである。   An alignment film is formed on the entire surface of the element mother substrate 74 and the counter mother substrate 75 (steps S2 and S7), and a rubbing process is performed (steps S3 and S8). The cleaning processes in steps S4 and S9 are for removing dust generated by rubbing the element substrate.

素子マザー基板74には、ステップS5において、各素子基板の領域毎にシール材が形成される。滴下封入方式では、シール材は、連続的且つ枠状に形成される。各シール材によって囲まれた領域が液晶充填領域となる。   In step S5, a sealing material is formed on the element mother substrate 74 for each element substrate region. In the dropping enclosure method, the sealing material is formed continuously and in a frame shape. A region surrounded by each sealing material is a liquid crystal filling region.

次のステップS10では、液晶充填領域への液晶の滴下が行われる。次に、真空チャンバ等の真空雰囲気下で、素子マザー基板74と対向マザー基板75との貼り合わせが行われる。素子マザー基板74と対向マザー基板75とは、アライメントを施しながら、貼り合わされる(ステップS11,S12)。この場合には、素子マザー基板74と対向マザー基板75とを相互に加圧して圧着させる。この加圧量は、ギャップ長を所定値に維持するように設定される。   In the next step S10, the liquid crystal is dropped onto the liquid crystal filling region. Next, the element mother substrate 74 and the counter mother substrate 75 are bonded together in a vacuum atmosphere such as a vacuum chamber. The element mother substrate 74 and the counter mother substrate 75 are bonded together while performing alignment (steps S11 and S12). In this case, the element mother substrate 74 and the counter mother substrate 75 are pressed against each other and bonded together. The amount of pressurization is set so as to maintain the gap length at a predetermined value.

次に、真空チャンバを大気開放して、貼り合わた基板74,75に大気圧を加える。そして、シール材を硬化させる。最後に、ステップS13において、パネルを分断して、各液晶装置を得る。   Next, the vacuum chamber is opened to the atmosphere, and atmospheric pressure is applied to the bonded substrates 74 and 75. Then, the sealing material is cured. Finally, in step S13, the panel is divided to obtain each liquid crystal device.

図5に示すように、基板74,75には、各素子毎に分断するためのスクライブラインLsが形成されている。このスクライブラインLsに沿って、図示しないブレイクバーを配置し、基板表面から印圧する。そうすると、ブレイクバーによる静圧又は衝撃によって、ブレイクバー下方に形成されたスクライブラインLsを起点として、素子マザー基板74及び対向マザー基板75の双方に亀裂が入り、スクライブラインLsに沿って素子マザー基板74及び対向マザー基板75の双方が分断される。   As shown in FIG. 5, scribe lines Ls for dividing each element are formed on the substrates 74 and 75. A break bar (not shown) is arranged along the scribe line Ls, and printing pressure is applied from the substrate surface. Then, due to the static pressure or impact by the break bar, both the element mother substrate 74 and the counter mother substrate 75 are cracked starting from the scribe line Ls formed below the break bar, and the element mother substrate along the scribe line Ls. 74 and the opposing mother substrate 75 are both divided.

なお、素子基板に対して対向基板が若干小さいので、図5の例では、対向基板側に設けたスクライブラインLsを用いて、分断された液晶装置から更に対向基板の一辺をスクライブする。   Since the counter substrate is slightly smaller than the element substrate, in the example of FIG. 5, one side of the counter substrate is further scribed from the divided liquid crystal device using a scribe line Ls provided on the counter substrate side.

滴下封入方式によって組み立てられ液晶装置については、上述したように、封入口が設けられていない。しかし、識別マーク78を視認することで、装置の上下左右表裏を認識可能である。   As described above, the liquid crystal device assembled by the dropping sealing method is not provided with a sealing port. However, by visually recognizing the identification mark 78, it is possible to recognize the top, bottom, left and right sides of the apparatus.

このように、本実施の形態においては、滴下封入方式で製造された液晶装置であっても、基板の所定位置に設けられた敵別マークの位置を確認することで、容易に装置の上下左右及び表裏を把握することができる。これにより、組立工程以降の製造工程における作業性を著しく向上させることができる。   As described above, in the present embodiment, even in a liquid crystal device manufactured by the dropping and encapsulating method, the position of the enemy mark provided at a predetermined position on the substrate can be easily confirmed, and the device can be easily moved up, down, left and right. And you can grasp the front and back. Thereby, the workability | operativity in the manufacturing process after an assembly process can be improved significantly.

なお、上記実施の形態においては、識別マークを、遮光膜と同層で、遮光膜と同一材料によって形成した例について説明した。しかし、識別マークは、基板表面(又は裏面)側から視認可能なものであればよく、必ずしも遮光材料を用いる必要はなく、また、遮光膜と同一工程で形成しなくてもよい。例えば、識別マーク形成のための単独の工程を追加してもよく、また、遮光材料以外の視認性を有する材料を用いた工程と同一工程で形成してもよい。   In the above embodiment, the example in which the identification mark is formed in the same layer as the light shielding film and made of the same material as the light shielding film has been described. However, the identification mark only needs to be visible from the front surface (or back surface) side of the substrate, and it is not always necessary to use a light shielding material, and it does not have to be formed in the same process as the light shielding film. For example, a single process for forming the identification mark may be added, or the process may be performed in the same process as the process using a material having visibility other than the light shielding material.

また、上記実施の形態においては、対向基板に識別マークを形成する例を示したが、素子基板側に形成してもよい。例えば、素子基板側には、アルミニウム材料等による配線層が形成されており、この配線層と同一工程で、識別マークをパターニングしてもよい。この場合でも、識別マークを画素領域以外の領域で、上下又は左右方向の中央以外の位置に設けることで、同様の効果を得ることができる。また、対向基板と素子基板の両方に識別マークを形成してもよいことは明らかである。   Moreover, in the said embodiment, although the example which forms an identification mark in a counter substrate was shown, you may form in an element substrate side. For example, a wiring layer made of an aluminum material or the like is formed on the element substrate side, and the identification mark may be patterned in the same process as this wiring layer. Even in this case, the same effect can be obtained by providing the identification mark in a region other than the pixel region at a position other than the center in the vertical or horizontal direction. Obviously, the identification mark may be formed on both the counter substrate and the element substrate.

更に、識別マークとして液晶装置の種別毎に異なる形状、模様のマークを採用することで、液晶装置の種別の認識も可能である。   Furthermore, by using a mark having a different shape or pattern for each type of liquid crystal device as an identification mark, the type of liquid crystal device can be recognized.

ところで、第1の実施の形態においては、識別マーク55とシール材52とは平面的には重なる領域に形成されている。また、素子基板10には縁辺部において図示しない配線も形成されており、素子基板10側からの識別マーク55の視認性は不良であり、識別マーク55を容易に視認することができるか否かによって、素子基板10側から観察しているか対向基板20側から観察しているかを把握することができる。   By the way, in the first embodiment, the identification mark 55 and the sealing material 52 are formed in a region overlapping in plan view. Further, the element substrate 10 is also provided with wiring (not shown) at the edge portion, and the visibility of the identification mark 55 from the element substrate 10 side is poor, and whether or not the identification mark 55 can be easily visually recognized. Thus, it is possible to grasp whether the observation is performed from the element substrate 10 side or the counter substrate 20 side.

これに対し、素子基板の構成によっては、対向基板側に形成した識別マークを素子基板側から容易に視認することができる場合もある。この場合には、識別マークを素子基板側から観察しているか対向基板側から観察しているかを認識可能とする識別マークを選択する必要がある。   On the other hand, depending on the configuration of the element substrate, the identification mark formed on the counter substrate side may be easily visible from the element substrate side. In this case, it is necessary to select an identification mark that can recognize whether the identification mark is observed from the element substrate side or the counter substrate side.

図7は第2の実施の形態に係り、このように表裏いずれの方向からでも識別マークを視認することができる場合でも、装置の上下左右表裏を認識可能にした電気光学装置を示す平面図である。図7において図1と同一の構成要素には同一符号を付して説明を省略する。   FIG. 7 relates to the second embodiment, and is a plan view showing an electro-optical device that can recognize the upper, lower, left, and right front and back of the device even when the identification mark can be visually recognized from any direction. is there. In FIG. 7, the same components as those in FIG.

本実施の形態は識別マーク55に代えて識別マーク65を採用した点が第1の実施の形態と異なる。識別マーク65は、平面形状のみが識別マーク55と異なる。識別マーク65は、左右及び上下に非対称な形状を有する。図7の例ではこのような識別マーク65として、文字「F」を用いている。   This embodiment is different from the first embodiment in that an identification mark 65 is used instead of the identification mark 55. The identification mark 65 is different from the identification mark 55 only in the planar shape. The identification mark 65 has an asymmetric shape on the left and right and top and bottom. In the example of FIG. 7, the letter “F” is used as such an identification mark 65.

このように構成された実施の形態においては、識別マーク65の見え方によって装置の上下左右表裏を把握することができる。例えば、図7の例では、識別マーク65を、通常の向きの文字「F」として視認した場合に、対向基板20側から観察していること及び端子部102を下方に向けた状態であることを認識することができる。   In the embodiment configured as described above, the top, bottom, left, and right sides of the apparatus can be grasped based on the appearance of the identification mark 65. For example, in the example of FIG. 7, when the identification mark 65 is visually recognized as a letter “F” in a normal direction, the identification mark 65 is observed from the counter substrate 20 side and the terminal portion 102 is directed downward. Can be recognized.

なお、識別マークの形状だけでなく、識別マークの配置位置を規定することによって、左右非対称又は上下非対称の形状であっても、装置の上下左右表裏を把握可能である。例えば、図7の「F」に代えて「C」の文字を用いた場合であっても、装置の左上に「C」の文字を観察することができるか否かによって、装置の上下左右表裏を認識することができる。   In addition, by defining not only the shape of the identification mark but also the arrangement position of the identification mark, it is possible to grasp the top, bottom, left, and right sides of the apparatus even in a laterally asymmetrical or vertical asymmetrical shape. For example, even when the character “C” is used instead of “F” in FIG. 7, depending on whether or not the character “C” can be observed on the upper left of the device, the upper, lower, left, and right sides of the device Can be recognized.

なお、上記各実施の形態はマイクロレンズを採用した対向基板にも適用可能である。図8はこの場合の例を示しており、図2に対応したものである。図8においては、対向基板20’は、レンズ形状を有するガラス基板67のレンズ形状部分に樹脂層68を配置し、カバーガラス69を設けて構成される。この場合においても、対向基板20’の1縁辺近傍に識別マーク70を配置している。   Each of the above embodiments can also be applied to a counter substrate employing a microlens. FIG. 8 shows an example of this case and corresponds to FIG. In FIG. 8, the counter substrate 20 ′ is configured by disposing a resin layer 68 on a lens-shaped portion of a glass substrate 67 having a lens shape and providing a cover glass 69. Also in this case, the identification mark 70 is arranged in the vicinity of one edge of the counter substrate 20 '.

図9は本発明の第3の実施の形態を示す斜視図である。   FIG. 9 is a perspective view showing a third embodiment of the present invention.

素子基板81と対向基板82とは、図示しない液晶を介在させて、貼り合わされている。素子基板81及び対向基板82の構成は、識別マークを除き第1の実施の形態における素子基板10及び対向基板20と同様である。   The element substrate 81 and the counter substrate 82 are bonded together with a liquid crystal (not shown) interposed therebetween. The configurations of the element substrate 81 and the counter substrate 82 are the same as those of the element substrate 10 and the counter substrate 20 in the first embodiment except for the identification mark.

本実施の形態においては、第1の実施の形態の識別マークに代えて、識別部83が形成されている。識別部83は基板81,82の4隅部の1つを斜めに切り落として形成される。なお、識別部83は、第1の実施の形態と同様に、画素領域以外の部分に設けられる。また、識別部83は、基板81,82の表示面(観察面)の左右方向の中央又は上下方向の中央を除く部位に設ければよい。   In the present embodiment, an identification portion 83 is formed in place of the identification mark of the first embodiment. The identification unit 83 is formed by obliquely cutting one of the four corners of the substrates 81 and 82. In addition, the identification part 83 is provided in parts other than a pixel area similarly to 1st Embodiment. Moreover, the identification part 83 should just be provided in the site | part except the center of the left-right direction or the center of an up-down direction of the display surface (observation surface) of the board | substrate 81,82.

このような構成によれば、識別部83の位置を規定すれば、観察時に識別部83が装置のいずれの位置に位置するかによって、装置の上下左右表裏を認識することができる。   According to such a configuration, if the position of the identification unit 83 is defined, the top, bottom, left, and right sides of the apparatus can be recognized depending on the position of the identification unit 83 at the time of observation.

ところで、図9の実施の形態においては、基板81,82の平面形状が長方形である場合を示した。仮に、基板の平面形状が正方形である場合には、図9の識別部83だけでは、上下左右表裏を判定することができないことがある。   By the way, in the embodiment of FIG. 9, the case where the planar shape of the substrates 81 and 82 is rectangular is shown. If the planar shape of the substrate is a square, it may not be possible to determine the top / bottom / left / right and front / back only by the identification unit 83 of FIG. 9.

図10はこの場合を考慮した変形例を示す斜視図である。図10において素子基板85及び対向基板86の構成は、識別部を除き図9の素子基板81及び対向基板82と同様である。   FIG. 10 is a perspective view showing a modification in consideration of this case. 10, the configurations of the element substrate 85 and the counter substrate 86 are the same as those of the element substrate 81 and the counter substrate 82 of FIG.

図10の例では、素子基板85及び対向基板86は、相互に端部の形状が異なる。即ち、端部に設けられた識別部87は、基板85,86のうち、一方の基板85の4隅部の1つを斜めに切り落として形成される。なお、図10の例では素子基板85の一隅部を切り欠いた例を示したか、対向基板86側を切り欠いてもよいことは明らかである。   In the example of FIG. 10, the element substrate 85 and the counter substrate 86 have different end shapes. That is, the identification part 87 provided at the end is formed by obliquely cutting one of the four corners of one of the substrates 85 and 86. In the example of FIG. 10, an example in which one corner portion of the element substrate 85 is cut out is shown, or it is obvious that the counter substrate 86 side may be cut out.

このような構成によれば、識別部87を構成する切り欠きの位置を規定すれば、観察時に識別部87を構成する切り欠きの位置が装置のいずれに位置するかによって、装置の上下左右表裏を認識することができる。   According to such a configuration, if the position of the notch constituting the identification unit 87 is defined, the top, bottom, left, right, and back of the device is determined depending on which position of the notch that constitutes the identification unit 87 during observation. Can be recognized.

なお、図9及び図10の実施の形態においては、切り欠きの形状は限定されるものではないことは明らかである。   In the embodiment of FIGS. 9 and 10, it is obvious that the shape of the notch is not limited.

(電子機器)
次に、以上詳細に説明した電気光学装置をライトバルブとして用いた電子機器の一例たる投射型カラー表示装置の実施形態について、その全体構成、特に光学的な構成について説明する。ここに、図11は、投射型カラー表示装置の説明図である。
(Electronics)
Next, an overall configuration, particularly an optical configuration, of an embodiment of a projection color display device as an example of an electronic apparatus using the electro-optical device described in detail as a light valve will be described. FIG. 11 is an explanatory diagram of a projection type color display device.

図11において、本実施形態における投射型カラー表示装置の一例たる液晶プロジェクタ1100は、駆動回路がTFTアレイ基板上に搭載された液晶装置を含む液晶モジュールを3個用意し、それぞれRGB用のライトパルブ100R、100G及び100Bとして用いたプロジェクタとして構成されている。液晶プロジェクタ1100では、メタルハライドランプ等の白色光源のランプユニット1102から投射光が発せられると、3枚のミラー1106及び2枚のダイクロックミラー1108によって、RGBの三原色に対応する光成分R、G及びBに分けられ、各色に対応するライトバルブ100R、100G及び100Bにそれぞれ導かれる。この際特に、B光は、長い光路による光損失を防ぐために、入射レンズ1122、リレーレンズ1123及び出射レンズ1124からなるリレーレンズ系1121を介して導かれる。そして、ライトバルブ100R、100G及び100Bによりそれぞれ変調された三原色に対応する光成分は、ダイクロックプリズム1112により再度合成された後、投射レンズ1114を介してスクリーン1120にカラー画像として投射される。   In FIG. 11, a liquid crystal projector 1100, which is an example of a projection type color display device according to the present embodiment, prepares three liquid crystal modules including a liquid crystal device having a drive circuit mounted on a TFT array substrate, and each has a light bulb 100R for RGB. , 100G and 100B. In the liquid crystal projector 1100, when projection light is emitted from a lamp unit 1102 of a white light source such as a metal halide lamp, the light components R, G, and R corresponding to the three primary colors of RGB are obtained by three mirrors 1106 and two dichroic mirrors 1108. The light is divided into B and led to the light valves 100R, 100G and 100B corresponding to the respective colors. In particular, the B light is guided through a relay lens system 1121 including an incident lens 1122, a relay lens 1123, and an exit lens 1124 in order to prevent light loss due to a long optical path. The light components corresponding to the three primary colors modulated by the light valves 100R, 100G, and 100B are synthesized again by the dichroic prism 1112 and then projected as a color image on the screen 1120 via the projection lens 1114.

本発明は、上述した実施形態に限られるものではなく、請求の範囲及び明細書全体から読み取れる発明の要旨、あるいは思想に反しない範囲で適宜変更可能であり、そのような変更を伴う電気光学装置及びその製造方法並びに電子機器もまた、本発明の技術的範囲に含まれるものである。電気光学装置としては、電気泳動装置やEL(エレクトロルミネッセンス)装置等に適用できる。   The present invention is not limited to the above-described embodiments, and can be appropriately changed without departing from the spirit or idea of the invention that can be read from the claims and the entire specification, and an electro-optical device with such a change. In addition, the manufacturing method thereof and the electronic device are also included in the technical scope of the present invention. The electro-optical device can be applied to an electrophoresis device, an EL (electroluminescence) device, and the like.

また、本発明の電気光学装置は、パッシブマトリクス型の液晶表示パネルだけでなく、アクティブマトリクス型の液晶パネル(例えば、TFT(薄膜トランジスタ)やTFD(薄膜ダイオード)をスイッチング素子として備えた液晶表示パネル)にも同様に適用することが可能である。また、液晶表示パネルだけでなく、エレクトロルミネッセンス装置、有機エレクトロルミネッセンス装置、プラズマディスプレイ装置、電気泳動ディスプレイ装置、電子放出を用いた装置(Field Emission Display 及び Surface-Conduction Electron-Emitter Display 等)、DLP(Digital Light Processing)(別名DMD:Digital Micromirror Device)等の各種の電気光学装置においても本発明を同様に適用することが可能である。   The electro-optical device of the present invention is not limited to a passive matrix type liquid crystal display panel but an active matrix type liquid crystal panel (for example, a liquid crystal display panel including a TFT (thin film transistor) or a TFD (thin film diode) as a switching element). It is possible to apply to the same. In addition to liquid crystal display panels, electroluminescence devices, organic electroluminescence devices, plasma display devices, electrophoretic display devices, devices using electron emission (such as Field Emission Display and Surface-Conduction Electron-Emitter Display), DLP ( The present invention can be similarly applied to various electro-optical devices such as Digital Light Processing (aka DMD: Digital Micromirror Device).

また、本発明は、半導体基板に素子を形成する表示用デバイス、例えばLCOS(Liquid Crystal On Silicon)等にも適用可能である。   The present invention is also applicable to display devices that form elements on a semiconductor substrate, such as LCOS (Liquid Crystal On Silicon).

LCOSでは素子基板として単結晶シリコン基板を用い、画素や周辺回路に用いるスイッチング素子としてトランジスタを単結晶シリコン基板に形成する。また、画素には反射型の画素電極を用い、画素電極の下層に画素の各素子を形成する。   In LCOS, a single crystal silicon substrate is used as an element substrate, and a transistor is formed on a single crystal silicon substrate as a switching element used for a pixel or a peripheral circuit. In addition, a reflective pixel electrode is used for the pixel, and each element of the pixel is formed under the pixel electrode.

本発明の第1の実施の形態に係る電気光学装置を示す平面図。1 is a plan view showing an electro-optical device according to a first embodiment of the invention. 図1のH−H'線の位置で切断して示す断面図。Sectional drawing cut | disconnected and shown in the position of the HH 'line | wire of FIG. 識別マークを説明するための斜視図。The perspective view for demonstrating an identification mark. 識別マークの形成方法を説明するためのフローチャート。The flowchart for demonstrating the formation method of an identification mark. 滴下封入方式を採用した場合における組立工程を説明するための斜視図。The perspective view for demonstrating the assembly process in the case of employ | adopting a dripping enclosure system. 組立工程のフローチャート。The flowchart of an assembly process. 第2の実施の形態に係る電気光学装置を示す平面図。FIG. 6 is a plan view showing an electro-optical device according to a second embodiment. 第2の実施の形態の変形例を示す断面図。Sectional drawing which shows the modification of 2nd Embodiment. 本発明の第3の実施の形態を示す斜視図。The perspective view which shows the 3rd Embodiment of this invention. 第2の実施の形態の変形例を示す斜視図。The perspective view which shows the modification of 2nd Embodiment. 投射型カラー表示装置の説明図。Explanatory drawing of a projection type color display apparatus.

符号の説明Explanation of symbols

1…液晶装置、10…素子基板、10a…画素領域、20…対向基板、52…シール材、53…遮光膜、55…識別マーク。     DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Liquid crystal device, 10 ... Element board | substrate, 10a ... Pixel area | region, 20 ... Opposite substrate, 52 ... Sealing material, 53 ... Light-shielding film, 55 ... Identification mark.

Claims (5)

第1の基板上に形成された枠状のシール材の内側に電気光学物質を滴下する滴下封入方式によって、前記第1の基板と第2の基板との間に前記電気光学物質が介在されて構成される電気光学装置であって、
前記第1及び第2の基板の少なくとも一方の基板上の前記シール材の内側に、画素領域を囲むように設けられた遮光膜と、
前記シール材と重なる位置に、前記遮光膜と同一材料からなる識別表示とを具備し、
前記識別表示は、当該電気光学装置の上下左右及び表裏を識別するための非対称な形状を有することを特徴とする電気光学装置。
The electro-optical material is interposed between the first substrate and the second substrate by a dropping and enclosing method in which the electro-optical material is dropped inside a frame-shaped sealing material formed on the first substrate. An electro-optical device comprising:
A light shielding film provided inside the sealing material on at least one of the first and second substrates so as to surround a pixel region;
In a position overlapping with the sealing material, comprising an identification display made of the same material as the light shielding film,
The electro-optical device is characterized in that the identification display has an asymmetric shape for identifying the top, bottom, left, right, and front and back of the electro-optical device.
前記一方の基板は、端子部に沿う第1辺と、前記第1辺と対向する第2辺と、前記第1辺及び第2辺と交差する第3辺とを有し、
前記識別表示は、前記一方の基板の前記第2辺及び第3辺が交差する前記一方の基板の隅部に設けられることを特徴とする請求項1に記載の電気光学装置。
The one substrate has a first side along the terminal portion, a second side facing the first side, and a third side intersecting the first side and the second side,
The electro-optical device according to claim 1, wherein the identification display is provided at a corner of the one substrate where the second side and the third side of the one substrate intersect .
第1の基板と第2の基板とが貼り合わされてなる電気光学装置の製造方法であって、
前記第1の基板上に、画素領域を囲む遮光膜及び識別表示を同一材料から形成する工程と、
前記遮光膜の外側に前記識別表示と重なるように枠状のシール材を形成する工程と、
前記シール材の内側に電気光学物質を滴下する工程と、
前記第1の基板と第2の基板とを前記電気光学物質を介在させて貼り合わせる工程とを具備し、
前記遮光膜及び識別表示を形成する工程において、前記識別表示は、当該電気光学装置の上下左右及び表裏を識別できるよう非対称な形状にパターニングされることを特徴とする電気光学装置の製造方法。
A method for manufacturing an electro-optical device in which a first substrate and a second substrate are bonded to each other,
Forming a light-shielding film surrounding the pixel region and an identification display on the first substrate from the same material ;
Forming a frame-shaped sealing material on the outside of the light-shielding film so as to overlap the identification display ;
Dropping electro-optic material inside the sealing material;
Bonding the first substrate and the second substrate with the electro-optic material interposed therebetween,
In the light shielding film and forming the identification, the identification is a method of manufacturing an electro-optical apparatus characterized by being patterned into asymmetric shape so that it can identify the vertical and horizontal and the front and back of the electro-optical device.
第1マザー基板から分断された第1の基板と第2マザー基板から分断された第2の基板とが貼り合わされてなる電気光学装置の製造方法であって、
前記第1マザー基板の前記第1の基板となる領域に、画素領域を囲む遮光膜及び識別表示を同一材料から形成する工程と、
前記第1の基板となる領域において、前記遮光膜の外側に前記識別表示と重なるように枠状のシール材を形成する工程と、
前記シール材の内側に電気光学物質を滴下する工程と、
前記第1マザー基板と前記第2マザー基板とを前記電気光学物質を介在させて貼り合わせる工程と、
前記第1及び第2マザー基板から前記第1及び第2基板を分断する工程とを具備し、
前記遮光膜及び識別表示を形成する工程において、前記識別表示は、当該電気光学装置の上下左右及び表裏を識別できるよう非対称な形状にパターニングされることを特徴とする電気光学装置の製造方法。
A method for manufacturing an electro-optical device in which a first substrate separated from a first mother substrate and a second substrate separated from a second mother substrate are bonded together,
Forming a light shielding film surrounding the pixel region and an identification display from the same material in a region to be the first substrate of the first mother substrate;
Forming a frame-shaped sealing material on the outside of the light-shielding film so as to overlap the identification display in the region to be the first substrate;
Dropping electro-optic material inside the sealing material;
Bonding the first mother substrate and the second mother substrate with the electro-optic material interposed therebetween;
Separating the first and second substrates from the first and second mother substrates,
In the light shielding film and forming the identification, the identification is a method of manufacturing an electro-optical apparatus characterized by being patterned into asymmetric shape so that it can identify the vertical and horizontal and the front and back of the electro-optical device.
請求項1又は請求項2に記載の電気光学装置を具備したことを特徴とする電子機器。 An electronic apparatus comprising the electro-optical device according to claim 1 .
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