JP4274096B2 - Electro-optical device manufacturing apparatus and method - Google Patents
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本発明は、アレイ製造された素子基板を用いて電気光学装置の組立を行う電気光学装置の製造装置及び製造方法に関する。 The present invention relates to an electro-optical device manufacturing apparatus and a manufacturing method for assembling an electro-optical device using an arrayed element substrate.
液晶装置は、ガラス基板、石英基板等の2枚の基板間に液晶を封入して構成される。液晶装置では、一方の基板に、例えば薄膜トランジスタ(Thin Film Transistor、以下、TFTと称す)等の能動素子をマトリクス状に配置し、他方の基板に対向電極を配置して、両基板間に封止した液晶層の光学特性を画像信号に応じて変化させることで、画像表示を可能にする。 The liquid crystal device is configured by sealing liquid crystal between two substrates such as a glass substrate and a quartz substrate. In a liquid crystal device, active elements such as thin film transistors (hereinafter referred to as TFTs), for example, are arranged in a matrix on one substrate, and a counter electrode is arranged on the other substrate and sealed between the two substrates. An image can be displayed by changing the optical characteristics of the liquid crystal layer according to the image signal.
即ち、TFT素子によってマトリクス状に配列された画素電極(ITO)に画像信号を供給し、画素電極と対向電極相互間の液晶層に画像信号に基づく電圧を印加して、液晶分子の配列を変化させる。これにより、画素の透過率を変化させ、画素電極及び液晶層を通過する光を画像信号に応じて変化させて画像表示を行う。 That is, an image signal is supplied to pixel electrodes (ITO) arranged in a matrix by TFT elements, and a voltage based on the image signal is applied to the liquid crystal layer between the pixel electrode and the counter electrode to change the arrangement of liquid crystal molecules. Let As a result, the transmittance of the pixel is changed, and light passing through the pixel electrode and the liquid crystal layer is changed according to the image signal to perform image display.
電圧無印加時の液晶分子の配列を規定するために、一方の基板(アクティブマトリクス基板(素子基板ともいう))及び他方の基板(対向基板)の液晶層に接する面上に配向膜を形成し、配向膜にラビング処理を施す。 In order to define the alignment of liquid crystal molecules when no voltage is applied, an alignment film is formed on the surface of one substrate (active matrix substrate (also referred to as element substrate)) and the other substrate (counter substrate) in contact with the liquid crystal layer. The alignment film is rubbed.
TFTを配置したTFT基板と、TFT基板に対向配置される対向基板とは、別々に製造される。両基板は、パネル組立工程において高精度に貼り合わされた後、液晶が封入される。 The TFT substrate on which the TFT is disposed and the counter substrate disposed to face the TFT substrate are manufactured separately. Both substrates are bonded together with high accuracy in the panel assembling process, and then liquid crystal is sealed therein.
パネル組立工程においては、先ず、各基板工程において夫々製造されたTFT基板と対向基板との対向面、即ち、対向基板及びTFT基板の液晶層と接する面上に配向膜が形成され、次いでラビング処理が行われる。次に、一方の基板上の端辺に接着剤となるシール部が形成される。TFT基板と対向基板とをシール部を用いて貼り合わせ、アライメントを施しながら圧着硬化させる。シール部の一部には切り欠きが設けられており、この切り欠きを介して液晶を封入する。 In the panel assembly process, first, an alignment film is formed on the opposing surfaces of the TFT substrate and the counter substrate manufactured in each substrate process, that is, on the surface in contact with the liquid crystal layer of the counter substrate and the TFT substrate, and then the rubbing process. Is done. Next, a seal portion serving as an adhesive is formed on the edge of one substrate. The TFT substrate and the counter substrate are bonded together using a seal portion, and are cured by pressure bonding while performing alignment. A part of the seal part is provided with a notch, and the liquid crystal is sealed through the notch.
ところで、スループットを向上させるために、組立工程終了まではマザーガラス基板投入時のサイズのままで処理を進めて、マザーガラス基板に複数のTFT基板を同時に作成するアレイ製造が採用されることがある。アレイ製造では、複数のTFT基板が形成されたマザーガラス基板のままで組立工程に投入され、組立工程中の最初に行われる洗浄工程から最後に行われる検査工程までを流動させる。液晶注入・封止後の検査工程終了後に、各液晶セルを分断して以後のセル工程に移行する。 By the way, in order to improve the throughput, there is a case where an array manufacturing in which a plurality of TFT substrates are simultaneously formed on the mother glass substrate by proceeding with the size of the mother glass substrate until the end of the assembly process is sometimes employed. . In array manufacturing, a mother glass substrate on which a plurality of TFT substrates are formed is put into an assembling process, and flows from the first cleaning process to the last inspection process in the assembling process. After the completion of the inspection process after liquid crystal injection / sealing, each liquid crystal cell is divided and the process proceeds to the subsequent cell process.
このような液晶装置を投写型表示装置のライトバルブとして採用することがある。投射型表示装置においては、液晶パネルの画面上の画像をスクリーンに拡大投射する。従って、液晶パネルの画面上にゴミが付着すると、ゴミの影響によって表示画像の画質の劣化が著しい。そこで、ゴミの影響等を低減するために、液晶パネルの少なくとも入射面に防塵ガラスを取付けて、デフォーカス作用によってゴミの影響を無くすようになっている。
ところで、防塵ガラスは、TFT基板と対向基板とによって構成される液晶パネルの完成後に、手作業によって貼り合わされる。この場合、液晶パネルと防塵ガラスとの間への塵の付着等を防止するための洗浄の工程を必要とする点、比較的小さい液晶パネルを貼り合わせる作業性や精度の点が問題となる。 By the way, the dust-proof glass is bonded by hand after completion of the liquid crystal panel constituted by the TFT substrate and the counter substrate. In this case, there are problems in that a cleaning process is required to prevent dust from adhering between the liquid crystal panel and the dust-proof glass, and workability and accuracy of attaching a relatively small liquid crystal panel.
そこで、特許文献1においては、分断前のマザーガラス基板(大板ともいう)の状態で大板の防塵ガラスを貼り合わせた後に分断して、防塵ガラスが貼り付けられた液晶パネルを製造する方法を開示している。大板状態のTFT基板と大板の防塵ガラスとを貼り合わせることから、組立工程中の洗浄工程を利用した洗浄や、組立工程におけるアライメント作業を利用することができ、工程数の削減、貼り合わせ精度の向上を期待することができる。
Therefore, in
しかしながら、大板の同士を貼り合わせた状態で、精度良く分断する技術については開示されておらず、特許文献1においては、液晶パネルの端面の加工精度、特に、大板周縁部に形成された液晶パネルの加工精度が低いという問題点があった。
However, there is no disclosure of technology for accurately dividing the large plates together, and in
本発明はかかる問題点に鑑みてなされたものであって、端面の加工精度を向上させることができる電気光学装置の製造装置及び製造方法を提供することを目的とする。 The present invention has been made in view of such problems, and an object thereof is to provide an electro-optical device manufacturing apparatus and a manufacturing method capable of improving the processing accuracy of an end face.
本発明に係る電気光学装置の製造装置は、電気光学装置の表示領域を構成する画素が各々形成された第1の基板に分断可能な第1のマザー基板と、前記第1のマザー基板の前記第1の基板毎に各々対向配置される複数の第2の基板と、前記第1のマザー基板の前記第2の基板配置面の反対側の面に貼り付けられる第3のマザー基板とによって構成される電気光学装置基板が載置され、前記第2の基板表面と接する保持板と、前記第1のマザー基板上の前記第2の基板を配置する領域外の前記第1のマザー基板の周縁部において、前記第1のマザー基板と前記保持板との間に介装されて前記第1のマザー基板の周縁部を支持する受け治具と、前記第1のマザー基板を分断する手段とを具備したことを特徴とする。 An electro-optical device manufacturing apparatus according to the present invention includes a first mother substrate that can be divided into a first substrate on which pixels that form a display area of the electro-optical device are formed, and the first mother substrate. A plurality of second substrates that are arranged to face each other for each first substrate, and a third mother substrate that is attached to a surface of the first mother substrate opposite to the second substrate arrangement surface. A holding plate in contact with the surface of the second substrate, and a peripheral edge of the first mother substrate outside the region where the second substrate is disposed on the first mother substrate. A receiving jig that is interposed between the first mother substrate and the holding plate and supports a peripheral portion of the first mother substrate, and means for dividing the first mother substrate. It is characterized by having.
このような構成によれば、電気光学装置基板は、第1のマザー基板の一方面に第2の基板を配置し他方面に第3のマザー基板を貼り合わせて構成される。この電気光学装置基板を保持板に載置する際には、受け治具が第1のマザー基板の周縁部に介装される。これにより、第1のマザー基板の周縁部は受け治具によって支持される。例えば、第1のマザー基板に形成したスクライブライン上の第3のマザー基板の表面を印圧することで、第1のマザー基板は分断される。第1のマザー基板の周縁部においては、第2の基板と受け治具とによって第1のマザー基板が支持されていることから、第1のマザー基板の最外周近傍のスクライブライン上で第3のマザー基板の表面を印圧を加えた場合でも、第1のマザー基板を容易に分断することができる。 According to such a configuration, the electro-optical device substrate is configured by arranging the second substrate on one surface of the first mother substrate and bonding the third mother substrate on the other surface. When the electro-optical device substrate is placed on the holding plate, a receiving jig is interposed on the peripheral portion of the first mother substrate. Thereby, the peripheral part of the first mother substrate is supported by the receiving jig. For example, the first mother substrate is divided by applying pressure to the surface of the third mother substrate on the scribe line formed on the first mother substrate. Since the first mother substrate is supported by the second substrate and the receiving jig at the peripheral portion of the first mother substrate, the third mother substrate is positioned on the scribe line near the outermost periphery of the first mother substrate. Even when printing pressure is applied to the surface of the mother substrate, the first mother substrate can be easily divided.
また、前記受け治具は、前記第2の基板を配置する領域に相当する開口部を有する平板状の部材であることを特徴とする。 Further, the receiving jig is a flat plate member having an opening corresponding to a region where the second substrate is arranged.
このような構成によれば、第1のマザー基板の第2の基板の配置領域を受け治具の開口部内に配置するだけで、第1のマザー基板の周縁部を保持板上に支持することができる。 According to such a configuration, the peripheral portion of the first mother substrate is supported on the holding plate only by receiving the arrangement region of the second substrate of the first mother substrate within the opening of the jig. Can do.
また、前記受け治具の開口部は、前記第2の基板を配置する領域に沿った形状を有することを特徴とする。 Further, the opening of the receiving jig has a shape along a region where the second substrate is disposed.
このような構成によれば、第1のマザー基板に形成したスクライブラインから第2の基板までの距離と受け治具までの距離とを均一にすることができ、第1のマザー基板の分断を一層容易にすることができる。 According to such a configuration, the distance from the scribe line formed on the first mother substrate to the second substrate and the distance to the receiving jig can be made uniform, and the first mother substrate can be divided. It can be made easier.
また、前記保持板は、印圧された部分を中心に撓む構造となっていることを特徴とする。 In addition, the holding plate has a structure that bends about a pressed portion.
このような構成によれば、第1のマザー基板に形成したスクライブライン上の第3のマザー基板の表面を印圧した場合には、第1のマザー基板がスクライブラインを中心として、中心側と周縁側とで逆向きに傾斜しやすくなり、分断を一層容易にすることができる。 According to such a configuration, when the surface of the third mother substrate on the scribe line formed on the first mother substrate is pressed, the first mother substrate is centered around the scribe line. It becomes easy to incline in the opposite direction on the peripheral edge side, and the division can be further facilitated.
また、前記第1のマザー基板を分断する手段は、先端が角形状又は曲面形状のブレイクバーであることを特徴とする。 Further, the means for dividing the first mother substrate is a break bar having a square or curved end.
このような構成によれば、第1のマザー基板はブレイクバーによって分断される。ブレイクバーは先端が角形状又は曲面形状となっており、圧力を集中させやすく、分断が容易である。 According to such a configuration, the first mother substrate is divided by the break bar. The break bar has a square or curved tip at the tip, and it is easy to concentrate the pressure and easy to cut.
また、前記第1のマザー基板を分断するためのスクライブを前記第1のマザー基板に形成する手段を設けたことを特徴とする。 Further, there is provided means for forming a scribe for dividing the first mother substrate on the first mother substrate.
このような構成によれば、第1のマザー基板にはスクライブが形成されるので、このスクライブを利用することで、容易に第1のマザー基板の分断が可能である。 According to such a configuration, since the scribe is formed on the first mother substrate, the first mother substrate can be easily divided by using this scribe.
また、本発明に係る電気光学装置の製造方法は、電気光学装置の表示領域を構成する画素が各々形成された複数の第1の基板に分断可能な第1のマザー基板上に、前記第1の基板毎に複数の第2の基板を各々対向配置して貼り合わせる工程と、前記第1のマザー基板の前記第2の基板配置面の反対側の面に第3のマザー基板を貼り付けて電気光学装置基板を形成する工程と、前記第1のマザー基板上の前記第2の基板を配置する領域外の前記第1のマザー基板の周縁部において、前記第1のマザー基板の周縁部を支持する受け治具を介装して、前記第2の基板が保持板に接するように前記電気光学装置基板を保持板上に載置する工程と、前記第3のマザー基板の表面から印圧することで、少なくとも前記第1のマザー基板を分断する工程と具備したことを特徴とする。 In the electro-optical device manufacturing method according to the present invention, the first mother substrate can be divided into a plurality of first substrates on which pixels constituting the display area of the electro-optical device are formed. A step of arranging and bonding a plurality of second substrates facing each other, and a third mother substrate being attached to a surface of the first mother substrate opposite to the second substrate arrangement surface. In the step of forming the electro-optical device substrate and the peripheral portion of the first mother substrate outside the region where the second substrate is disposed on the first mother substrate, the peripheral portion of the first mother substrate is A step of placing the electro-optical device substrate on the holding plate so that the second substrate is in contact with the holding plate through a receiving jig to support, and printing pressure from the surface of the third mother substrate And a step and a tool for dividing at least the first mother substrate. Characterized in that it was.
このような構成によれば、第1のマザー基板上の一方面に、第2の基板を配置して貼り合わせ、他方面に第3のマザー基板を貼り付けて電気光学装置基板を形成する。第2の基板を配置する領域外の第1のマザー基板の周縁部において、第1のマザー基板の周縁部を支持する受け治具を介装しながら、電気光学装置基板を保持板上に載置する。この状態で第3のマザー基板の表面を印圧する。第1のマザー基板の周縁部においては、第1のマザー基板に形成したスクライブラインは、第2の基板と受け治具との間に形成されることになり、第1のマザー基板が容易に分断される。 According to such a configuration, the second substrate is disposed and bonded to one surface of the first mother substrate, and the third mother substrate is bonded to the other surface to form the electro-optical device substrate. The electro-optical device substrate is mounted on the holding plate at the peripheral portion of the first mother substrate outside the region where the second substrate is disposed, with a receiving jig supporting the peripheral portion of the first mother substrate interposed. Put. In this state, the surface of the third mother substrate is pressed. At the peripheral portion of the first mother substrate, the scribe line formed on the first mother substrate is formed between the second substrate and the receiving jig, and the first mother substrate can be easily formed. Divided.
また、前記第1及び第3のマザー基板にはスクライブが予め形成されており、前記第3のマザー基板において前記スクライブに対応する箇所にブレイクバーを当接させることで、前記第1及び第3のマザー基板を分断することを特徴とする。 In addition, scribes are formed in advance on the first and third mother substrates, and a break bar is brought into contact with the portion corresponding to the scribes on the third mother substrate, whereby the first and third mother substrates are contacted. The mother substrate is divided.
このような構成によれば、第1のマザー基板にはスクライブが形成されており、このスクライブを利用することで、容易に第1のマザー基板の分断が可能である。 According to such a configuration, a scribe is formed on the first mother substrate, and the first mother substrate can be easily divided by using this scribe.
また、前記第3のマザー基板の前記第1のマザー基板との貼り合せ面に前記スクライブが設けられており、前記ブレイクバーは前記貼り合わせ面と反対側の面に当接させることを特徴とする。 Further, the scribe is provided on a bonding surface of the third mother substrate with the first mother substrate, and the break bar is brought into contact with a surface opposite to the bonding surface. To do.
このような構成によれば、第1のマザー基板の貼り合わせ面に形成されたスクライブを利用して、ブレイクバーにより容易に第1のマザー基板の分断が可能である。 According to such a configuration, the first mother substrate can be easily divided by the break bar using the scribe formed on the bonding surface of the first mother substrate.
以下、図面を参照して本発明の実施の形態について詳細に説明する。図1乃至図7は本発明の第1の実施の形態に係り、図1は本実施の形態に係る電気光学装置の製造装置を示す正面図である。図2は電気光学装置としての液晶装置を構成するTFT基板等の素子基板をその上に形成された各構成要素と共に対向基板側から見た平面図である。図3は素子基板と対向基板とを貼り合わせて液晶を封入する組立工程終了後の液晶装置を、図3のH−H'線の位置で切断して示す断面図である。図4は図1中のブレイク受け治具の平面形状を示す平面図である。図5はブレイクバーの他の例を示す説明図である。図6は組立工程を説明するためのフローチャートである。図7は大板状態での貼り合わせを説明するための説明図であり、図8は貼り合わせ工程及び分断工程を示す工程図である。図9は図6中の貼り合わせ・分断工程を説明するためのフローチャートである。図10はブレイク方法を説明するための説明図である。 Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the drawings. 1 to 7 relate to a first embodiment of the present invention, and FIG. 1 is a front view showing an electro-optical device manufacturing apparatus according to the present embodiment. FIG. 2 is a plan view of an element substrate such as a TFT substrate constituting a liquid crystal device as an electro-optical device, as viewed from the counter substrate side together with each component formed thereon. FIG. 3 is a cross-sectional view of the liquid crystal device after the assembly process for sealing the liquid crystal by adhering the element substrate and the counter substrate cut along the line HH ′ in FIG. 3. FIG. 4 is a plan view showing a planar shape of the break receiving jig in FIG. FIG. 5 is an explanatory view showing another example of a break bar. FIG. 6 is a flowchart for explaining the assembly process. FIG. 7 is an explanatory diagram for explaining the bonding in the large plate state, and FIG. 8 is a process diagram showing the bonding process and the dividing process. FIG. 9 is a flowchart for explaining the bonding and dividing step in FIG. FIG. 10 is an explanatory diagram for explaining the breaking method.
本実施の形態は電気光学装置としての液晶装置を製造するものに適用したものである。先ず、図2及び図3を参照して、完成した液晶装置の構造について説明する。 This embodiment is applied to a device for manufacturing a liquid crystal device as an electro-optical device. First, the structure of the completed liquid crystal device will be described with reference to FIGS.
液晶パネルは、図2及び図3に示すように、第1の基板であるTFT基板等の素子基板10と対向基板20との間に液晶50を封入して構成される。素子基板10及び対向基板20としてはガラスや石英等が用いられる。素子基板10上には画素を構成する画素電極9a等が図示しないスイッチング素子と共にマトリクス状に配置される。画素電極9a上にはポリイミド系の高分子樹脂からなる配向膜16が積層され、所定方向にラビング処理されている。
As shown in FIGS. 2 and 3, the liquid crystal panel is configured by enclosing a
一方、対向基板20には表示領域を区画する額縁としての遮光膜53が設けられている。対向基板20の全面には、上述したように、ITO等の透明導電性膜が対向電極21として形成され、更に、対向電極21の全面にはポリイミド系の配向膜22が形成される。配向膜16,22は、液晶分子に所定のプレティルト角を付与するように、所定方向にラビング処理されている。
On the other hand, the
遮光膜53の外側の領域には液晶を封入するシール材52が、TFT基板10と対向基板20間に形成されている。シール材52は対向基板20の輪郭形状に略一致するように配置され、TFT基板10と対向基板20を相互に固着する。シール材52は、TFT基板10の1辺の一部において欠落しており、液晶50を注入するための液晶注入口108が形成される。貼り合わされた素子基板10及び対向基板20相互の間隙には、液晶注入口108より液晶が注入される。液晶注入後に、液晶注入口108を封止材109で封止するようになっている。
In a region outside the
シール材52の外側の領域には、図示しないデータ線に画像信号を所定のタイミングで供給することにより該データ線を駆動するデータ線駆動回路101及び外部回路との接続のための外部接続端子102がTFT基板10の一辺に沿って設けられている。この一辺に隣接する二辺に沿って、図示しない走査線及びゲート電極に走査信号を所定のタイミングで供給することによりゲート電極を駆動する走査線駆動回路104が設けられている。走査線駆動回路104は、シール材52の内側の遮光膜53に対向する位置においてTFT基板10上に形成される。また、TFT基板10上には、データ線駆動回路101、走査線駆動回路104、外部接続端子102及び上下導通端子107を接続する配線105が、遮光膜53の3辺に対向して設けられている。
In an area outside the sealing
上下導通端子107は、シール材52のコーナー部の4箇所のTFT基板10上に形成される。そして、TFT基板10と対向基板20相互間には、下端が上下導通端子107に接触し、上端が対向電極21に接触する上下導通材106が設けられており、上下導通材106によって、TFT基板10と対向基板20との間で電気的な導通がとられている。
The
各画素のスイッチング素子がオンになると、画像信号が各画素毎に画素電極9aに供給される。この画素電極9aと対向基板20に設けられた対向電極21との間の電圧が液晶50に印加される。書き込まれた画素電極9aと対向電極21との電位差に応じて液晶50の分子集合の配向や秩序が変化して、光を変調し、階調表示を可能にする。
When the switching element of each pixel is turned on, an image signal is supplied to the pixel electrode 9a for each pixel. A voltage between the pixel electrode 9 a and the
素子基板10と対向基板20とによって構成される液晶パネル120の素子基板10の表面には、第3のマザー基板としての防塵ガラス30が貼り付けられて液晶装置1が構成されている。防塵ガラス30のデフォーカス作用によって、液晶装置1を投射装置のライトバルブとして用いた場合でも、塵の影響を回避することができる。
On the surface of the
本実施の形態においては、図2及び図3の液晶装置の製造には、組立工程終了まで大板状態(マザー基板)で製造するアレイ製造を採用する。図1の装置はアレイ製造中の分断工程に用いるものである。 In the present embodiment, the manufacture of the liquid crystal device shown in FIGS. 2 and 3 employs array manufacturing in which the liquid crystal device is manufactured in a large plate state (mother substrate) until the end of the assembly process. The apparatus shown in FIG. 1 is used for a dividing step during array manufacturing.
図1において、テーブル71上には、保持板72が設けられている。保持板72は金属板等によって構成される。なお、保持板72は、樹脂やゴム材料によって構成してもよい。保持板72は所定の厚み、所定の硬度を有して、印圧されることによって撓む構造となっている。
In FIG. 1, a holding
例えば、十分なたわみ量を確保するために、保持板72を、比較的薄い2枚の金属板とこれらの金属板相互間に介装するクッション材の3層構造によって構成してもよい。
For example, in order to secure a sufficient amount of deflection, the holding
本実施の形態においては、この保持板72上に防塵ガラスが貼り合わせされた大板状態の液晶パネル(以下、液晶装置基板という)77を載置するようになっている。即ち、電気光学装置基板としての液晶装置基板77は、複数の素子基板(図2及び図3の素子基板10に相当)が作り込まれた第1のマザー基板としてのTFTマザー基板74の一方面に複数の対向基板75(図2及び図3の対向基板20に相当)が貼り合わされ、更に、他方面に大板状態の防塵ガラス76が貼り合わされた構造となっている。
In the present embodiment, a large-sized liquid crystal panel (hereinafter referred to as a liquid crystal device substrate) 77 in which dustproof glass is bonded to the holding
保持板72は、分断工程中において液晶装置基板77を固定的に支持するように、吸着機構を有している。例えば、保持板72は、適宜の間隔で配置された図示しない複数の吸着孔を有しており、この吸着孔を介して液晶装置基板77を真空吸着する。
The holding
真空吸着が容易なように、例えば、液晶装置基板77の保持板72への載置面、即ち、第2の基板としての対向基板75の表面には、フィルム状のシート80を貼り付けるようになっている。液晶装置基板77に貼り付けられたシート80を保持板72に真空吸着することで、液晶装置基板77を固定するようになっている。
In order to facilitate vacuum suction, for example, a film-
なお、シート80を用いない場合には、保持板72の吸着孔を対向基板75に対向する位置に配置すればよい。
When the
図1に示すように、液晶装置基板77を対向基板75側を保持板72側に向けて、保持板72上に載置する。この場合において、本実施の形態においては、TFTマザー基板74の周縁部を支持するために、TFTマザー基板74と保持板72との間にブレイク受け治具73を配置するようになっている。図4(a),(b)は図1中のブレイク受け治具73の平面形状の例を示している。
As shown in FIG. 1, the liquid
ブレイク受け治具73は、例えば図4(a)に示すように、矩形状の外形を有して構成され、中央は開口している。中央の開口部85はTFTマザー基板74上の対向基板75の配置領域に応じた形状を有している。この形状によって、TFTマザー基板74上の対向基板75の配置領域をブレイク受け治具73の開口部85内に配置するだけで、TFTマザー基板74を保持板72上に支持することができる。なお、ブレイク受け治具73の外形状は、円形状等であってもよい。
For example, as shown in FIG. 4A, the
ブレイク受け治具73の肉厚は、対向基板の厚さと略同様であり、ブレイク受け治具73の厚みをBtとし、対向基板75の厚みをTcとすると、例えば、
−1mm≦Bt−Tc<0.4mm
の範囲に設定する。
The thickness of the
−1 mm ≦ Bt−Tc <0.4 mm
Set to the range.
ブレイク受け治具73の肉部分86は、裏面においてシート80表面に当接し、表面において液晶装置基板77のTFTマザー基板74の表面に当接する。この場合には、好ましくは、TFTマザー基板74の全周縁部がブレイク受け治具73に当接するようになっている。更に、対向基板75端面と分断位置(後述する切り込みライン)との距離をLとし、液晶装置基板77の最外周近傍の対向基板75端面とブレイク受け治具73の肉部分端面87との距離をLcBとすると、
LcB<2L …(1)
を満足するように、ブレイク受け治具73の肉部分86の形状及びサイズを決定する。
The
LcB <2L (1)
The shape and size of the
なお、好ましくは、隣接する対向基板75の端面同士の距離をLとすると、距離LcBは、0〜3Lcの範囲に設定する。
また、本実施の形態においては、上記(1)式を満足させるために、肉部分86の形状を、対向基板75の配置領域の形状に一致させたが、素子基板の全周縁部がブレイク受け治具73に当接するのであれば、上記(1)式を必ずしも満足させる必要はなく、図4(b)に示すように、開口部85の平面形状を円形状とすることも可能である。
Preferably, the distance LcB is set in the range of 0 to 3Lc, where L is the distance between the end surfaces of the
In the present embodiment, in order to satisfy the above expression (1), the shape of the
また、ブレイク受け治具73としては、種々の材料を用いることができるが、好ましくは、TFTマザー基板74よりも柔らかい材料、例えばピッカース硬度が800以下の材料を用いた方がよい。これにより、TFTマザー基板74が損傷を受けることを防止することができる。
Various materials can be used as the
TFTマザー基板74には、対向基板75形成面側に、各素子基板を分断するためのスクライブ78が形成されている。各素子基板の分断はスクライブ78が形成されたライン(切り込みライン(以下、スクライブラインともいう))に沿って行われる。即ち、分断時においては、図1に示すように、液晶装置基板77を保持板72及びブレイク受け治具73上に配置した状態で、ブレイクバー79をスクライブライン上又はその近傍の防塵ガラス76の表面に配置して、上方から衝撃又は静圧を印圧する。これにより、切り込みライン位置において、液晶装置基板77のみ又は液晶装置基板77及び防塵ガラス76の双方を同時に、分断することができる。
On the
なお、ブレイクバー79は、切り込みラインに沿って線状に印圧可能な先端形状を有し、断面形状は例えば、30°〜150°の角の先端を有する角形状に形成される。また、断面形状として、図5に示すように、R2.5mm〜100mm程度のR形状(曲面形状)の先端を有するR形状に形成したブレイクバー81を採用してもよい。更に、防塵ガラス76の上面から切り込みライン又はその近傍に沿って印圧可能な形状であれば、必ずしも先端は鋭角でなくてもよく、先端はある程度の面積を有して防塵ガラス76上面に接するようになっていてもよい。
The
次に、図6乃至図10を参照して貼り合わせ工程及び分断工程を含むパネル組立工程について説明する。
TFT基板と対向基板とは、別々に製造される。上述したように、本実施の形態においては、TFT基板はマザーガラス基板投入時のサイズのまま処理を行うアレイ製造によって製造される。図7に示すように、TFTマザー基板74上には図2及び図3に示す素子基板10と同様の素子基板(図示せず)が複数作り込まれている。一方、対向基板75については、図2及び図3の対向基板20と同様の分断された基板が投入される。
Next, a panel assembly process including a bonding process and a dividing process will be described with reference to FIGS.
The TFT substrate and the counter substrate are manufactured separately. As described above, in the present embodiment, the TFT substrate is manufactured by array manufacturing in which processing is performed in the same size as when the mother glass substrate was loaded. As shown in FIG. 7, a plurality of element substrates (not shown) similar to the
対向基板75については、図6のステップS6で用意された対向基板75に対して、次のステップS7では、配向膜22に相当するポリイミドを塗布する。次に、ステップS8において、対向基板75表面の配向膜に対して、ラビング処理を施す。そして、ステップS9において洗浄を行う、ステップS9の洗浄工程は、対向基板75のラビング処理によって生じた塵埃を除去するためのものである。
For the
一方、TFTマザー基板74については、ステップS1で用意されたTFTマザー基板74に対して、次のステップS3において、配向膜16に相当するポリイミドを塗布する。次に、ステップS3において、TFTマザー基板74表面の配向膜に対して、ラビング処理を施す。次に、ステップS4において洗浄を行う。
On the other hand, for the
次に、TFTマザー基板74の各素子基板の位置に対応させて夫々対向基板75を貼り合わせる。即ち、ステップS5において、シール材52、及び導通材106(図2参照)を形成する。シール材52は、例えば、ディスペンス塗布によって形成する。なお、シール材をスクリーン印刷法によって形成してもよい。
Next, the
シール材52を形成した後、次に、ステップS10で、各TFTマザー基板74上の各素子位置に夫々対向基板75を貼り合わせ、ステップS11でアライメントを施しながら圧着し、シール材52を硬化させる。
After the sealing
次に、ステップS12において、シール材52の一部に設けた切り欠きから液晶を封入し、切り欠きを塞いで液晶を封止する。図8(a)はTFTマザー基板74上に複数の対向基板75が貼り合わされた状態を示している。本実施の形態においては、次のステップS13では、防塵ガラスを貼り合わせた後に、各素子基板を分断する。
Next, in step S <b> 12, liquid crystal is sealed from a notch provided in a part of the sealing
図9は図6中の貼り合わせ・分断工程の具体的な手順を示すフローチャートである。 FIG. 9 is a flowchart showing a specific procedure of the bonding and dividing step in FIG.
図9のステップS21において、大板状態のTFTマザー基板74に大板状態の防塵ガラス76を貼り付ける。これらのTFTマザー基板74と防塵ガラス76との貼り合わせの前後で、TFTマザー基板74のみ又はTFTマザー基板74及び防塵ガラス76の双方に、分断位置に沿ったスクライブを形成する。
In step S21 in FIG. 9, a large-plate-state dust-
図7の例はTFTマザー基板74及び防塵ガラス76の双方に、スクライブLs,Lpを形成した例を示している。なお、TFTマザー基板74と防塵ガラス76との貼り合わせの前にスクライブを形成した場合には、貼り合わせ工程の前にスクライブ形成後の洗浄工程が必要である。また、TFTマザー基板74のみにスクライブLsを形成する場合には、貼り合わせ工程後にスクライブLsを形成すればよい。
The example of FIG. 7 shows an example in which scribes Ls and Lp are formed on both the
こうして、大板状態でTFTマザー基板74と防塵ガラス76とを貼り合わせて形成した液晶装置基板77を、図1の保持板72上に載置する。この場合には、好ましくは、ステップS22において対向基板75表面にシート80を貼り付ける。次いで、液晶装置基板77と保持板72(シート80)との間にブレイク受け治具73を介装して(ステップS23)、液晶装置基板77を保持板72上に載置する(ステップS24)。
Thus, the liquid
次いで、ステップS25において、真空吸着を行って、液晶装置基板77を保持板72上に固定する。次のステップS26では、TFTマザー基板74のみ又はTFTマザー基板74及び防塵ガラス76の双方をブレイクする。即ち、図10に示すように、防塵ガラス76表面の各スクライブライン上又はその近傍にブレイクバー79を配置し、防塵ガラス76表面から印圧する。
Next, in step S <b> 25, vacuum suction is performed to fix the liquid
ブレイクバー79による静圧又は衝撃によって、ブレイクバー79下方に形成されたスクライブ78(図7のLs,Lpに相当)を起点として、TFTマザー基板74又はTFTマザー基板74及び防塵ガラス76の双方に亀裂が入り、スクライブラインに沿ってTFTマザー基板74又はTFTマザー基板74及び防塵ガラス76の双方が分断される。なお、図10はTFTマザー基板74及び防塵ガラス76の双方にスクライブ78を形成した例であり、この場合には、TFTマザー基板74及び防塵ガラス76の双方が同時に分断される。
Starting from a scribe 78 (corresponding to Ls and Lp in FIG. 7) formed under the
なお、保持板72が撓むようになっていることから、ブレイク時には、ブレイクバー79の防塵ガラス76表面からの印圧によって、液晶装置基板77及びブレイク受け治具73がスクライブラインを中心に傾斜する。即ち、ブレイクラインを中心に液晶装置基板77の中心側と外周側とで、傾斜が逆向きになって、分断が容易となる。
Since the holding
また、この際、最初はTFTマザー基板74のみにスクライブラインを形成して、TFTマザー基板74を分断した後、防塵ガラス76にスクライブラインを形成して、防塵ガラス76を分断してもよい。
At this time, first, a scribe line may be formed only on the
以後、左右方向及び上下方向の全てのスクライブLs,Lpに沿ってブレイクバーの印圧を繰返すことで、液晶装置基板77から各液晶装置1を分断することができる。図8(c)は分断後の液晶装置1を示している。
Thereafter, each
液晶装置基板77の最外周近傍のスクライブLs,Lpを用いたブレイク工程については、ブレイクバー79下方の位置では、液晶装置基板77内周側において最外周に配置された対向基板75がTFTマザー基板74と保持板72との間に介在しており、外周側においてはブレイク受け治具73がTFTマザー基板74と保持板72との間に介在している。また、この最外周の対向基板75のスクライブライン側の端面は、スクライブラインに平行であり、同様に、この対向基板75の近傍位置のブレイク受け治具73も、端面87がスクライブラインに平行である。更に、ブレイクバー79下方の位置と最外周に配置された対向基板75端面までの距離とこの位置近傍のブレイク受け治具73端面までの距離とは略々等しい。従って、液晶装置基板77最外周のスクライブLsについては、そのラインの両側の適宜の距離においてTFTマザー基板74が対向基板75及びブレイク受け治具73によって、両側から支持されることになり、ブレイクバー79の印圧がスクライブ78に集中しやすく、スクライブラインにおける分断を容易にする。
In the breaking process using the scribes Ls and Lp in the vicinity of the outermost periphery of the liquid
このように本実施の形態においては、大板のTFTマザー基板74と大板の防塵ガラス76とを貼り合わせた後に分断する場合であっても、TFTマザー基板74の周縁部を支持するブレイク受け治具73を用いていることから、最外周のスクライブラインに沿ったブレイクであっても、確実にスクライブラインに沿った分断が可能であり、素子基板の端面の加工精度を向上させることができる。
As described above, in the present embodiment, even when the large
(電子機器)
次に、以上詳細に説明した電気光学装置の製造装置を用いて構成した電気光学装置である液晶装置をライトバルブとして用いた電子機器の一例たる投射型カラー表示装置の実施形態について、その全体構成、特に光学的な構成について説明する。ここに、図11は、投射型カラー表示装置の説明図である。
(Electronics)
Next, an overall configuration of an embodiment of a projection color display device as an example of an electronic apparatus using a liquid crystal device, which is an electro-optical device configured using the electro-optical device manufacturing apparatus described in detail above, as a light valve. In particular, an optical configuration will be described. FIG. 11 is an explanatory diagram of a projection type color display device.
図11において、本実施形態における投射型カラー表示装置の一例たる液晶プロジェクタ1100は、駆動回路がTFTアレイ基板上に搭載された液晶装置を含む液晶モジュールを3個用意し、それぞれRGB用のライトバルブ100R、100G及び100Bとして用いたプロジェクタとして構成されている。液晶プロジェクタ1100では、メタルハライドランプ等の白色光源のランプユニット1102から投射光が発せられると、3枚のミラー1106及び2枚のダイクロックミラー1108によって、RGBの三原色に対応する光成分R、G及びBに分けられ、各色に対応するライトバルブ100R、100G及び100Bにそれぞれ導かれる。この際特に、B光は、長い光路による光損失を防ぐために、入射レンズ1122、リレーレンズ1123及び出射レンズ1124からなるリレーレンズ系1121を介して導かれる。そして、ライトバルブ100R、100G及び100Bによりそれぞれ変調された三原色に対応する光成分は、ダイクロックプリズム1112により再度合成された後、投射レンズ1114を介してスクリーン1120にカラー画像として投射される。
In FIG. 11, a
また、本発明の電気光学装置は、パッシブマトリクス型の液晶表示パネルだけでなく、アクティブマトリクス型の液晶パネル(例えば、TFT(薄膜トランジスタ)やTFD(薄膜ダイオード)をスイッチング素子として備えた液晶表示パネル)にも同様に適用することが可能である。また、液晶表示パネルだけでなく、エレクトロルミネッセンス装置、有機エレクトロルミネッセンス装置、プラズマディスプレイ装置、電気泳動ディスプレイ装置、電子放出を用いた装置(Field Emission Display 及び Surface-Conduction Electron-Emitter Display 等)、DLP(Digital Light Processing)(別名DMD:Digital Micromirror Device)等の各種の電気光学装置においても本発明を同様に適用することが可能である。 The electro-optical device of the present invention is not limited to a passive matrix type liquid crystal display panel but an active matrix type liquid crystal panel (for example, a liquid crystal display panel including a TFT (thin film transistor) or a TFD (thin film diode) as a switching element). It is possible to apply to the same. In addition to liquid crystal display panels, electroluminescence devices, organic electroluminescence devices, plasma display devices, electrophoretic display devices, devices using electron emission (such as Field Emission Display and Surface-Conduction Electron-Emitter Display), DLP ( The present invention can be similarly applied to various electro-optical devices such as Digital Light Processing (aka DMD: Digital Micromirror Device).
72…保持板、73…ブレイク受け治具、74…TFTマザー基板、75…対向基板、76…防塵ガラス、77…液晶装置基板、78…スクライブ、79…ブレイクバー。 72 ... Holding plate, 73 ... Break receiving jig, 74 ... TFT mother substrate, 75 ... Counter substrate, 76 ... Dust-proof glass, 77 ... Liquid crystal device substrate, 78 ... Scribe, 79 ... Break bar.
Claims (9)
前記第1のマザー基板上の前記第2の基板を配置する領域外の前記第1のマザー基板の周縁部において、前記第1のマザー基板と前記保持板との間に介装されて前記第1のマザー基板の周縁部を支持する受け治具と、
前記第1のマザー基板を分断する手段とを具備したことを特徴とする電気光学装置の製造装置。 A first mother substrate that can be divided into a first substrate on which pixels that constitute a display area of the electro-optical device are formed, and a plurality of the first mother substrates that are arranged to face each other on the first substrate. An electro-optical device substrate comprising: the second substrate; and a third mother substrate attached to a surface of the first mother substrate opposite to the second substrate arrangement surface; A holding plate in contact with the second substrate surface;
The peripheral edge of the first mother substrate outside the region where the second substrate is disposed on the first mother substrate is interposed between the first mother substrate and the holding plate. A receiving jig for supporting a peripheral portion of one mother substrate;
An electro-optical device manufacturing apparatus, comprising: means for dividing the first mother substrate.
前記第1のマザー基板の前記第2の基板配置面の反対側の面に第3のマザー基板を貼り付けて電気光学装置基板を形成する工程と、
前記第1のマザー基板上の前記第2の基板を配置する領域外の前記第1のマザー基板の周縁部において、前記第1のマザー基板の周縁部を支持する受け治具を介装して、前記第2の基板が保持板に接するように前記電気光学装置基板を保持板上に載置する工程と、
前記第3のマザー基板の表面から印圧することで、少なくとも前記第1のマザー基板を分断する工程と具備したことを特徴とする電気光学装置の製造方法。 A plurality of second substrates are arranged to face each of the first substrates on a first mother substrate that can be divided into a plurality of first substrates each having a pixel that forms a display area of the electro-optical device. And pasting together,
Attaching a third mother substrate to a surface of the first mother substrate opposite to the second substrate arrangement surface to form an electro-optical device substrate;
At the periphery of the first mother substrate outside the region where the second substrate is disposed on the first mother substrate, a receiving jig for supporting the periphery of the first mother substrate is interposed. Placing the electro-optic device substrate on the holding plate so that the second substrate is in contact with the holding plate;
A method for manufacturing an electro-optical device, comprising: a step of cutting at least the first mother substrate by applying a printing pressure from the surface of the third mother substrate.
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