JP5017190B2 - 近接場光プローブの作製方法 - Google Patents
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Description
B.L.T. Plourde and D.J. Van Harlingen, "Design of a scanning Josephson junction microscope for submicron-resolution magnetic imaging", REVIEW OF SCIENTIFIC INSTRUMENTS, 1999, Vol. 70, no. 11, p.4344-4347 T. Saiki, S. Monobe, M. Ohtsu, N. Saito and J. Kusano, "Tailoring a high-transmission fiber probe for photon scanning tunneling microscope", Appl. Phys. Lett., 1996, Vol. 68, No. 19, p.2612-2614 Kenji Yamazaki and Hideo Namatsu, "Three-Dimensional Resist-Coating Technique and Nanopatterning on a Cube Using Electron-Beam Lithography and Etching", Japanese Journal of Applied Physics, 2006, Vol. 45, No. 14, p.L403-L405 M.B. Ketchen, D.D. Awschalom, W.J. Gallagher, A.W. Kleinsasser, R.L. Sandstrom, J.R. Rozen, and B. Bumble, "DESIGN, FABRICATION, AND PERFORMANCE OF INTEGRATED MINIATURE SQUID SUSCEPTOMETERS", IEEE TRANSACTIONS ON MAGNETICS, 1989, Vol. 25, No. 2, p.1212-1215
図1は、第1の実施の形態における近接場光プローブの構成を示す斜視図であり、図2は、突起部の先端を拡大して示す斜視図である。図1,2に示す近接場光プローブ1は、クラッド径125μm、コア径約2.5μmのシングルモードファイバを用いて作製したものである。近接場光プローブ1の先端には、光ファイバのコア部を先鋭化した2段テーパー型の突起部2を備える。光ファイバの先端はAl(アルミニウム)により被覆され、突起部2の先端には、コア部が露出した開口部3を備える。開口部3近傍にNb(ニオブ)によるSQUID4が形成され、SQUID4に制御線6が接続される。
図9は、第2の実施の形態における近接場光プローブの構成を示す斜視図であり、図10は、突起部の先端を拡大して示す斜視図である。図9,10に示す近接場光プローブ1は、クラッド径125μm、コア径約2.5μmのシングルモードファイバを用いて作製したものである。近接場光プローブ1の先端には、光ファイバのコア部を先鋭化した2段テーパー型の突起部2を備える。光ファイバの先端はAlにより被覆され、突起部2の先端には、コア部が露出した開口部3を備える。開口部3近傍にNbとAl2O3によるジョセフソン接合素子7が形成され、制御線6が接続される。
2…突起部
3…開口部
4…SQUID
5…ジョセフソン接合
6…制御線
7…ジョセフソン接合素子
11…コア部
12…クラッド部
13…被覆
14,16…超伝導層
15…絶縁体
Claims (4)
- 光ファイバのコア部をエッチングして突起部を形成する工程と、
前記突起部を被覆する工程と、
被覆した前記突起部の先端を加工して開口部を形成する工程と、
前記突起部に超伝導素子を形成する工程と、を有し、
前記被覆する工程は、
金属薄膜を形成する工程と、
前記金属薄膜に絶縁層を形成する工程と、
を有することを特徴とする近接場光プローブの作製方法。 - 前記超伝導素子を形成する工程は、
前記突起部に超伝導物質を成膜する工程と、
成膜した前記超伝導物質をSQUID形状に加工する工程と、
を有することを特徴とする請求項1記載の近接場光プローブの作製方法。 - 前記超伝導素子を形成する工程は、
前記突起部に第1の超伝導層を形成する工程と、
前記第1の超伝導層を所定の形状にエッチングする工程と、
前記突起部に絶縁体層を形成する工程と、
前記絶縁体層の上に第2の超伝導層を形成する工程と、
前記絶縁体層及び前記第2の超伝導層を所定の形状にエッチングする工程と、
を有することを特徴とする請求項1記載の近接場光プローブの作製方法。 - 前記開口部近傍において前記被覆の一部を削除する工程をさらに有し、
前記超伝導素子を形成する工程は、その削除した箇所に前記超伝導素子を形成することを特徴とする請求項3記載の近接場光プローブの作製方法。
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JP2008155435A JP5017190B2 (ja) | 2008-06-13 | 2008-06-13 | 近接場光プローブの作製方法 |
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