JP5012681B2 - Laminated body and method for producing the same - Google Patents

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Description

本発明は、複屈折を示す位相差層を含む積層体及びその製造方法に関する。   The present invention relates to a laminate including a retardation layer exhibiting birefringence and a method for producing the same.

従来、カードやパスポートなどの認証媒体、商品券や株券等の有価証券媒体には、偽造の困難なデバイスを貼付することにより、目視若しくは検証器を用いて真偽判定をする方法が用いられている。近年では、製品の贋造品の流通が問題となり、これらの流通を防ぐため、有価証券類と同等の技術を用いることが増えている。   Conventionally, authentication methods such as cards and passports, and securities media such as gift certificates and stock certificates have been used by attaching a device that is difficult to counterfeit and visually or using a verifier. Yes. In recent years, the distribution of counterfeit products has become a problem, and in order to prevent such distribution, the use of technology equivalent to securities is increasing.

偽造防止技術には、一般のユーザが偽造防止技術と認知でき、真偽判定できるいわゆるオバート技術と、特定のユーザのみが偽造防止技術の存在を知り、真偽判定できるいわゆるコバート技術とがある。   The anti-counterfeiting technology includes a so-called overt technique in which a general user can recognize that the anti-counterfeiting technique is true, and a so-called covert technique in which only a specific user knows the existence of the anti-counterfeiting technique and can judge the authenticity.

オバート技術の代表としては、ホログラムなどの回折構造形成体、OVI(Optically Variable Ink)等の多層干渉膜等があげられる。また、コバート技術の代表としては、蛍光印刷、万線潜像等があげられ、これらの組み合わせにより製品化されることが多い。   Representative examples of the overt technique include a diffractive structure forming body such as a hologram, and a multilayer interference film such as OVI (Optically Variable Ink). Representative examples of the covert technique include fluorescent printing, line latent images, and the like, and are often commercialized by combinations thereof.

また、反射層の上に部分的に遅相軸の角度が異なる位相差層を形成した偏光潜像デバイスをコバート技術として用いる方法が提案されている。これらデバイスは、遅相軸の角度が目視では区別できないが、偏光フィルムを通して観察したときには、偏光フィルムの透過光軸と位相差層の遅相軸との成す角度により、部分的に透過率が変わり、潜像を出現させる技術である。
特開平8−15681
Further, a method has been proposed in which a polarization latent image device in which a retardation layer having partially different slow axis angles is partially formed on a reflective layer is used as a covert technique. Although these devices cannot visually distinguish the angle of the slow axis, the transmittance varies partially depending on the angle formed by the transmission optical axis of the polarizing film and the slow axis of the retardation layer when observed through the polarizing film. This is a technology that makes latent images appear.
JP-A-8-15681

しかしながら、前述した偏光潜像デバイスは、基材の位相差値及び遅相軸方向がコントロールされてないと、潜像の外乱となり、コントラストを落とすこととなる。よって、位相差値及び遅相軸方向がコントロールされている基材として、無延伸若しくは一軸延伸フィルム等を用いることになるが、これらのフィルムは熱や圧力等の物理的な刺激に弱く、転写若しくは接着する際や、反射層や回折構造を形成する際等の刺激によってシワや破断が起こる場合があり不安定であるといった問題がある。   However, in the above-described polarization latent image device, if the retardation value and slow axis direction of the substrate are not controlled, the latent image is disturbed and the contrast is lowered. Therefore, non-stretched or uniaxially stretched films are used as the substrate whose phase difference value and slow axis direction are controlled, but these films are vulnerable to physical stimuli such as heat and pressure, and transfer. Alternatively, there is a problem that wrinkles or breakage may occur due to stimulation such as bonding or forming a reflective layer or diffractive structure.

本発明は上記課題を解決するためになされたものであり、その課題とするところは、熱や圧力等の物理的な刺激に弱い、無延伸若しくは一軸延伸フィルム等を基材として用いる積層体において、転写若しくは接着する際や、反射層や回折構造を形成する際等にシワや破断が起こらず、安定に製造することが可能な積層体及びその製造方法を提供することを課題とする。   The present invention has been made to solve the above-mentioned problems, and the problem is that in a laminate using, as a base material, an unstretched or uniaxially stretched film that is vulnerable to physical stimulation such as heat and pressure. It is an object of the present invention to provide a laminate that can be stably manufactured without wrinkling or breaking when transferring or adhering, or when forming a reflective layer or a diffractive structure, and a method for manufacturing the same.

前記課題を解決するため、請求項1に係る発明は、基材と、該基材の平面方向に遅相軸を有する位相差層と、紫外線若しくは電子線硬化型樹脂からなる接着層と、反射層と剥離層とを含む転写箔と、をこの順に積層したことを特徴とする積層体となる。   In order to solve the above-mentioned problem, the invention according to claim 1 includes a base material, a retardation layer having a slow axis in the planar direction of the base material, an adhesive layer made of ultraviolet light or an electron beam curable resin, and reflection. It becomes a laminated body characterized by laminating | transferring the transfer foil containing a layer and a peeling layer in this order.

また、請求項2に係る発明は、基材と、紫外線若しくは電子線硬化型樹脂からなる接着層と、該基材の平面方向に遅相軸を有する位相差層、反射層及び剥離層を含む転写箔と、をこの順に積層したことを特徴とする積層体となる。   The invention according to claim 2 includes a base material, an adhesive layer made of an ultraviolet ray or an electron beam curable resin, a retardation layer having a slow axis in the plane direction of the base material, a reflective layer, and a release layer. The transfer foil is laminated in this order to obtain a laminated body.

請求項3に係る発明は、前記基材が、光学異方性をもたないことを特徴とする請求項1又は2に記載の積層体となる。   The invention according to claim 3 is the laminate according to claim 1 or 2, wherein the substrate does not have optical anisotropy.

請求項4に係る発明は、前記基材が、遅相軸方向及び位相差値がコントロールされた基材であることを特徴とする請求項1又は2に記載の積層体となる。   The invention according to claim 4 is the laminate according to claim 1 or 2, wherein the base material is a base material in which a slow axis direction and a retardation value are controlled.

請求項5に係る発明は、前記反射層が、回折構造を有していることを特徴とする請求項1乃至4のいずれか1に記載の積層体となる。   The invention according to claim 5 provides the laminate according to any one of claims 1 to 4, wherein the reflective layer has a diffractive structure.

請求項6に係る発明は、前記転写箔は前記剥離層を最外層とし、該剥離層側にさらに粘着層を積層してなることを特徴とする請求項1乃至5のいずれか1に記載の積層体となる。   The invention according to claim 6 is the transfer foil according to any one of claims 1 to 5, wherein the transfer foil has the release layer as an outermost layer, and an adhesive layer is further laminated on the release layer side. It becomes a laminate.

請求項7に係る発明は、請求項1乃至6のいずれか1に記載の積層体を紙材に漉き込んだ用紙となる。   The invention according to claim 7 is a sheet in which the laminate according to any one of claims 1 to 6 is rolled into a paper material.

請求項8に係る発明は、基材上に、該基材の平面方向に遅相軸を有する位相差層を形成する工程と、該基材と該位相差層からなる層のどちらか一方の面に紫外線若しくは電子線硬化型樹脂からなる接着層を塗布する工程と、該接着層を塗布した面に、反射層、剥離層及び転写基材を含む転写箔を貼り合わせる工程と、該接着層を紫外線若しくは電子線を用いて硬化する工程と、該転写基材を剥離する工程と、を含むことを特徴とする積層体の製造方法となる。   The invention according to claim 8 is the step of forming a retardation layer having a slow axis in the planar direction of the substrate on the substrate, and one of the layer comprising the substrate and the retardation layer. A step of applying an adhesive layer comprising an ultraviolet ray or an electron beam curable resin to the surface, a step of bonding a transfer foil including a reflective layer, a release layer and a transfer substrate to the surface to which the adhesive layer is applied, and the adhesive layer Is a method for producing a laminate, comprising a step of curing the substrate using ultraviolet rays or an electron beam, and a step of peeling the transfer substrate.

請求項9に係る発明は、基材上に、該基材の平面方向に遅相軸を有する位相差層を形成する工程と、反射層、剥離層及び転写基材を含む転写箔の転写面に、紫外線若しくは電子線硬化型樹脂からなる接着層を塗布する工程と、該転写箔を該接着層を介して該位相差層を形成した該基材の一方の面に貼り合わせる工程と、該接着層を紫外線若しくは電子線を用いて硬化する工程と、該転写基材を剥離する工程と、を含むことを特徴とする積層体の製造方法となる。   The invention according to claim 9 is a transfer surface of a transfer foil including a step of forming a retardation layer having a slow axis in the planar direction of the substrate on the substrate, and a reflective layer, a release layer, and a transfer substrate. A step of applying an adhesive layer made of ultraviolet or electron beam curable resin, a step of bonding the transfer foil to one surface of the substrate on which the retardation layer is formed via the adhesive layer, It becomes the manufacturing method of the laminated body characterized by including the process of hardening an contact bonding layer using an ultraviolet-ray or an electron beam, and the process of peeling this transfer base material.

請求項10に係る発明は、転写基材上に、少なくとも剥離層、反射層、及び該転写基材の平面方向に遅相軸を有する位相差層を具備する転写箔を作成する工程と、基材上に紫外線若しくは電子線硬化型樹脂からなる接着層を塗布する工程と、該基材の接着層を塗布した面に、転写箔を貼り合わせる工程と、該接着層を紫外線若しくは電子線を用いて硬化する工程と、該転写基材を剥離する工程と、を含むことを特徴とする積層体の製造方法となる。   According to a tenth aspect of the present invention, there is provided a process for producing a transfer foil comprising at least a release layer, a reflective layer, and a retardation layer having a slow axis in the plane direction of the transfer substrate on the transfer substrate, A step of applying an adhesive layer made of ultraviolet or electron beam curable resin on the material, a step of attaching a transfer foil to the surface of the substrate on which the adhesive layer is applied, and the adhesive layer using ultraviolet rays or an electron beam. And a step of curing, and a step of peeling the transfer substrate.

請求項11に係る発明は、転写基材上に、少なくとも剥離層、反射層、及び該転写基材の平面方向に遅相軸を有する位相差層を具備する転写箔を作成する工程と、該転写箔の転写面に紫外線若しくは電子線硬化型樹脂からなる接着層を塗布する工程と、該接着層を塗布した面に基材を貼り合わせる工程と、該接着層を紫外線若しくは電子線を用いて硬化する工程と、転写基材を剥離する工程と、を含む積層体の製造方法となる。   According to an eleventh aspect of the present invention, there is provided a process for producing a transfer foil comprising at least a release layer, a reflective layer, and a retardation layer having a slow axis in a plane direction of the transfer substrate on the transfer substrate; A step of applying an adhesive layer made of ultraviolet light or an electron beam curable resin to the transfer surface of the transfer foil, a step of bonding a substrate to the surface coated with the adhesive layer, and the adhesive layer using ultraviolet light or an electron beam. It becomes the manufacturing method of the laminated body including the process to harden | cure and the process to peel a transfer base material.

本発明における積層体及びその製造方法は、熱や圧力等の物理的刺激に弱い位相差を持たない若しくはコントロールされたフィルム上であっても、反射層や回折構造の形成を可能としたものである。   The laminate and the method for producing the same in the present invention enable the formation of a reflective layer and a diffractive structure even on a controlled film that does not have a phase difference that is weak against physical stimuli such as heat and pressure. is there.

以下、本発明の実施の形態を、図面を参照して詳細に説明する。   Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the drawings.

図1は、位相差層を積層した基材と、それに貼り合わせる為の転写箔との断面を示す図である。図2は、位相差層を積層した転写箔と、それを貼り合わせる基材との断面を示す図である。位相差層は、図1の如く基材側に設けておいても、図2の如く転写箔側に設けておいても良い。なお、位相差層を転写箔側に設ける場合には、転写後に反射層より視認側になる位置に設ける。基材側に位相差層を設ける場合には、基材のどちら側に設けても構わない。図3は、本発明に用いられる転写加工機の概略図である。   FIG. 1 is a view showing a cross section of a base material on which a retardation layer is laminated and a transfer foil for bonding to the base material. FIG. 2 is a view showing a cross section of a transfer foil in which retardation layers are laminated and a base material on which the transfer foil is bonded. The retardation layer may be provided on the substrate side as shown in FIG. 1, or may be provided on the transfer foil side as shown in FIG. In addition, when providing a phase difference layer in the transfer foil side, it provides in the position which becomes a visual recognition side rather than a reflection layer after transfer. When the retardation layer is provided on the substrate side, it may be provided on either side of the substrate. FIG. 3 is a schematic view of a transfer processing machine used in the present invention.

位相差層は、複屈折性物質からなる。複屈折性物質とは、軸によって屈折率が異なる物質である。複屈折性物質に光が透過するとき、屈折率の高い遅相軸を透過する異常光線e(屈折率:n)と屈折率の低い進相軸を透過する常光線o(屈折率n)の間で位相差を生じる。この異常光線と常光線の屈折率の差は、複屈折率Δnと呼ばれ、物質毎に固有の値を持ち、次の式で表される。
Δn=n−n
The retardation layer is made of a birefringent material. A birefringent material is a material having a different refractive index depending on the axis. When light passes through a birefringent material, the extraordinary ray e (refractive index: n e) that transmits a high slow axis refractive index and the ordinary ray o (refractive index n o for transmitting a low fast axis refractive index ) Between the two. The difference in refractive index between the extraordinary ray and the ordinary ray is called a birefringence Δn, has a unique value for each substance, and is expressed by the following equation.
Δn = n e -n o

また、位相差層を透過する光が受ける位相差は位相差値δとして、複屈折性物質を通過する光路長dに比例し、次の式で表される。
δ=Δn・d
Further, the phase difference received by the light transmitted through the retardation layer is proportional to the optical path length d passing through the birefringent material as a phase difference value δ, and is expressed by the following equation.
δ = Δn · d

位相差層の位相差値δは、透過させる光の波長λの1/2になるとき、特別な光学特性を持つ。λ/2位相差層は、透過した直線変更を、遅相軸を中心に反転させる。即ち、遅相軸と偏光の成す角度がθの時、透過した偏光は2θの角度を成す。   The retardation value δ of the retardation layer has special optical characteristics when it is ½ of the wavelength λ of the transmitted light. The λ / 2 retardation layer inverts the transmitted straight line change around the slow axis. That is, when the angle between the slow axis and the polarized light is θ, the transmitted polarized light forms an angle of 2θ.

本発明の積層体は、反射層を具備するため、光は位相差層を2度通ることになる故、位相差値は前記透過条件の1/2となるが、この原理を生かして、遅相軸の方向を部分的に変えておけば、位相差層を透過した変更は、場所によって異なる方向に変化する。よって、偏光フィルターを用いれば、変更フィルム上に潜像が明暗として現れ、真偽判定を行うことができるものである。   Since the laminate of the present invention includes the reflective layer, light passes through the retardation layer twice, so that the retardation value is ½ of the transmission condition. If the direction of the phase axis is partially changed, the change transmitted through the retardation layer changes in different directions depending on the location. Therefore, if a polarizing filter is used, the latent image appears as bright and dark on the modified film, and authenticity determination can be performed.

本発明で用いる基材としては、位相差を持たないフィルム若しくはシート状の材料が望ましいが、位相差を持つものもその位相差値がコントロールできる場合には、利用可能である。また、偏光子を基材とすることもできる。   As the base material used in the present invention, a film or sheet-like material having no phase difference is desirable, but those having a phase difference can also be used if the phase difference value can be controlled. Moreover, a polarizer can also be used as a base material.

位相差を持たない基材としては、TACフィルム、アクリルフィルム、ガラス板の他、無延伸のPETフィルム、PPフィルム、PEフィルム等を用いる事ができる。また、位相差を持つフィルムとしては、1軸及び2軸延伸のPETフィルム、PPフィルム、PEフィルム、ポリカーボネートフィルム、セロハンフィルム、X及びYカット水晶板等が挙げられる。偏光子とは、偏光二色性を持つデバイスの総称で、PVAにヨウ素若しくは二色性染料を含浸させ、延伸配向させた吸収型偏光子、若しくは二色性染料を配向膜の上で配向させた吸収型偏光子、若しくはコレステリック液晶を基材上で配向させた反射型偏光子、複屈折性多層フィルムを積層した反射型偏光子(3M社製)、ブルースター角でレンチキュラーレンズ状に形成したプリズム偏光子、複屈折性物質を回折格子状に形成した複屈折回折偏光子、回折構造の溝を深く形成した回折偏光子等を利用することができる。この他にも、反射光若しくは透過光にて特定偏光成分を分離若しくは抽出できる阻止であれば利用可能であり、本発明における偏光子とすることができる。   As the base material having no phase difference, TAC film, acrylic film, glass plate, unstretched PET film, PP film, PE film, and the like can be used. Examples of the phase difference film include uniaxial and biaxially stretched PET films, PP films, PE films, polycarbonate films, cellophane films, X and Y cut quartz plates, and the like. Polarizer is a general term for devices with polarization dichroism. PVA is impregnated with iodine or dichroic dye, and stretched and oriented absorption polarizer or dichroic dye is oriented on the alignment film. Absorptive polarizer, reflective polarizer with cholesteric liquid crystal aligned on a substrate, reflective polarizer with a birefringent multilayer film (manufactured by 3M), formed into a lenticular lens shape with a Brewster angle A prism polarizer, a birefringent diffractive polarizer in which a birefringent substance is formed in a diffraction grating shape, a diffractive polarizer in which a groove of a diffractive structure is deeply formed, and the like can be used. In addition to this, any blocking that can separate or extract a specific polarization component by reflected light or transmitted light can be used, and the polarizer in the present invention can be obtained.

位相差層12は、位相差性を持つ材料を切り抜き、前記基材又は転写箔に貼り合わせる方法、配向膜上で液晶材料を配向させる方法等により作製できる。   The phase difference layer 12 can be produced by a method of cutting out a material having phase difference and bonding the material to the base material or the transfer foil, a method of aligning a liquid crystal material on an alignment film, or the like.

配向膜上で液晶材料を配向させる方法は、光配向法、ラビング配向法、エンボス配向法等を用いる事ができる。   As a method of aligning the liquid crystal material on the alignment film, a photo alignment method, a rubbing alignment method, an emboss alignment method, or the like can be used.

光配向法とは、配向膜に偏光等の異方性を有する光を照射し、膜内の分子の再配列や異方的な化学反応を誘起する方法で、膜に異方性を与え、これによって液晶分子が配向することを利用したものである。光配向のメカニズムとしては、アゾベンゼン誘導体の光異性化、桂皮酸エステル、クマリン、カルコンやベンゾフェノン等の誘導体の光二量化や架橋、ポリイミド等の光分解等がある。液晶を配向させたい方向へ偏光光を向けてフォトマスク等のフィルターを通して露光することにより配向膜を得る。   The photo-alignment method is a method in which an alignment film is irradiated with light having anisotropy such as polarized light to induce rearrangement of molecules in the film and anisotropic chemical reaction. This utilizes the alignment of liquid crystal molecules. Photoalignment mechanisms include photoisomerization of azobenzene derivatives, photodimerization and crosslinking of derivatives such as cinnamic acid ester, coumarin, chalcone and benzophenone, and photolysis of polyimide and the like. An alignment film is obtained by directing polarized light in a direction in which the liquid crystal is to be aligned and exposing through a filter such as a photomask.

ラビング配向法は、基板上にポリマー溶液を塗布して作製した配向膜を布で擦る方法で、擦った方向に配向膜表面の性質が変化し、この方向に液晶分子が並ぶという性質を利用したものである。配向膜には、ポリイミド、PVA等を用いる事ができる。部分的に配向を変える方法としては、窓開きのマスクを順次切り替えながら、液晶を配向させたい方向へラビングする方法等が挙げられる。   The rubbing alignment method is a method of rubbing an alignment film produced by applying a polymer solution on a substrate with a cloth. The property of the alignment film surface changes in the rubbing direction and liquid crystal molecules are aligned in this direction. Is. For the alignment film, polyimide, PVA, or the like can be used. Examples of the method of partially changing the alignment include a method of rubbing in a direction in which the liquid crystal is to be aligned while sequentially switching the window opening mask.

また、エンボス配向法は、基材にエンボス加工により細かな溝をエンボス成型する方法で、溝に沿わせて液晶を配向させる方法である。この方法は、ポジレジスト上にXYスキャンの電子線により縞模様を描画し、現像することにより凹凸形状を作製し、この凹凸形状を樹脂フィルム上にエンボスすることにより作製可能である。   The emboss alignment method is a method of embossing fine grooves on a substrate by embossing, and aligning liquid crystals along the grooves. This method can be produced by drawing a striped pattern on a positive resist with an electron beam of XY scan and developing it to produce a concavo-convex shape and embossing this concavo-convex shape on a resin film.

これら配向膜を基材上若しくは転写箔上に形成する方法としては、グラビアコーティング法、マイクログラビアコーティング法、スピンコート法、溶融押出法等の公知の手法を用いる事ができる。   As a method for forming these alignment films on a substrate or a transfer foil, a known method such as a gravure coating method, a micro gravure coating method, a spin coating method, a melt extrusion method, or the like can be used.

これら配向膜の上に塗工する液晶は、配向性を有するポリマーであっても、アクリル基等の反応性官能基を有するモノマーであってもかまわない。配向膜の上に液晶を形成する方法としては、グラビアコーティング法、マイクログラビアコーティング法等の公知の手法を用い、λ/2の位相差値を有する厚さでコーティングする。コーティングした液晶は、熱処理することにより、配向を促進することができる。反応性官能基を有する液晶モノマーは、配向後に電子線、紫外線若しくは熱により硬化される。   The liquid crystal applied on these alignment films may be a polymer having an alignment property or a monomer having a reactive functional group such as an acrylic group. As a method for forming a liquid crystal on the alignment film, a known method such as a gravure coating method or a micro gravure coating method is used, and coating is performed with a thickness having a retardation value of λ / 2. The coated liquid crystal can be oriented by heat treatment. The liquid crystal monomer having a reactive functional group is cured by electron beam, ultraviolet light or heat after alignment.

また、配向膜自身が複屈折性を持つものを利用しても良い。この場合は、配向膜と液晶の位相差値の和が、設計地となるように液晶の膜厚をコントロールする。配向膜のみで設計値が実現できる場合には、液晶を塗布する必要はない。   Alternatively, an alignment film itself having birefringence may be used. In this case, the film thickness of the liquid crystal is controlled so that the sum of the retardation values of the alignment film and the liquid crystal becomes the design site. When the design value can be realized only with the alignment film, it is not necessary to apply liquid crystal.

転写箔は、転写基材21と反射層23との間に位置するいずれかの層で剥離若しくは凝集破壊することにより、分離される構造を有するものである。これらの分離を安定に実現させるため、基材に離型処理を施したり、剥離層22を設けたりしても良い。   The transfer foil has a structure that is separated by peeling or cohesive failure in any layer located between the transfer substrate 21 and the reflective layer 23. In order to stably realize these separations, the base material may be subjected to a release treatment or a release layer 22 may be provided.

剥離層は、アクリル、スチレン、硝化綿等を用いることができ、他の層と同様に、グラビアコーティング法やマイクログラビアコーティング法等の公知の方法を用いて形成可能である。   The release layer can be made of acrylic, styrene, nitrified cotton, or the like, and can be formed using a known method such as a gravure coating method or a micro gravure coating method, as with other layers.

反射層23は、金属若しくは高屈折率セラミックスを用いる事ができる。金属としては、Al、Sn、Ag、Cr、Ni、Au等の金属の他に、インコネル、青銅、アルミ青銅等の合金を用いる事ができる。また、セラミックスとしては、TiO、ZnS、Fe等の高屈折率材料を用いる事ができる。これらの材料を転写基材21上に蒸着、スパッタリング、イオンプレーティング等を用いて10nm〜100nm程度の厚みに形成する。また、金属箔やセラミック板を材料とすることもできる。 The reflective layer 23 can be made of metal or high refractive index ceramics. As the metal, in addition to metals such as Al, Sn, Ag, Cr, Ni, and Au, alloys such as Inconel, bronze, and aluminum bronze can be used. As the ceramic, it can be used TiO 2, ZnS, a high refractive index material such as Fe 2 O 3. These materials are formed on the transfer substrate 21 to a thickness of about 10 nm to 100 nm using vapor deposition, sputtering, ion plating, or the like. Moreover, metal foil and a ceramic board can also be used as a material.

また、反射層に回折構造を形成しても良い。回折構造としては、ホログラム、回折格子等があげられる。基材に直接回折構造が形成しにくい場合には、回折構造形成層を別途設けても良い。   Further, a diffractive structure may be formed in the reflective layer. Examples of the diffractive structure include a hologram and a diffraction grating. If it is difficult to form a diffractive structure directly on the substrate, a diffractive structure forming layer may be provided separately.

ホログラムは、光学的な撮影方法により微細な凹凸パターンからなるレリーフ型のマスター版を作製し、次にこのマスター版から電気メッキ法により凹凸パターンを複製したニッケル製のプレス版を作製し、このプレス版でホログラムを形成する層上に加熱押圧するという方法により大量複製が可能である。このタイプのホログラムは、レリーフ型ホログラムと称されている。   For holograms, a relief-type master plate consisting of fine concavo-convex patterns is produced by an optical imaging method, and then a nickel-made press plate is produced by duplicating the concavo-convex pattern by electroplating from this master plate. Large-scale replication is possible by a method in which a plate is heated and pressed on a layer forming a hologram. This type of hologram is called a relief hologram.

また、回折格子は、実際のものを撮影するホログラムとは異なり、微小なエリアに複数種類の単純な回折格子を配置して画素とし、グレーティングイメージ、ドットマトリックス(ピクセルグラム等)と呼ばれる画像を表現するものである。このような回折格子を用いた画像も、レリーフ型ホログラムと同様の方法で大量複製が可能である。   Diffractograms are different from holograms that shoot actual images, and a simple image of a grating image or dot matrix (pixelgram, etc.) is expressed by arranging multiple types of simple diffraction gratings in a small area as pixels. To do. An image using such a diffraction grating can also be mass-replicated in the same manner as a relief hologram.

反射層は、パターン状に設けることも可能である。パターン状に設けるには、パスタ加工、水洗シーライト加工、レーザー加工等が用いられる。   The reflective layer can also be provided in a pattern. For providing the pattern, pasta processing, water-washed light processing, laser processing, or the like is used.

これら反射層や回折構造を形成するためのエンボス加工は、基材に大きな熱や圧力がかかるため、本件で用いる無延伸や一軸延伸のフィルムが耐えられず、熱ジワや破断が起こることがあり、不安定な加工となる。よって、これらの加工を転写箔側で行うことにより、安定に積層体を作製することが可能となる。   Embossing to form these reflective layers and diffractive structures is subject to great heat and pressure on the base material, so the unstretched or uniaxially stretched film used in this case cannot withstand, and thermal wrinkles or breakage may occur. It becomes unstable processing. Therefore, a laminated body can be stably produced by performing these processes on the transfer foil side.

転写は、まず基材側若しくは転写箔側のいずれかに紫外線若しくは電子線硬化型樹脂からなる接着層33を塗工し、基材と転写箔とを張り合わせ、紫外線ランプもしくは電子線照射機を用いて硬化させた後、転写基材を剥離して積層体を得る。このように紫外線若しくは電子線硬化型樹脂を接着層に用いることにより、基材に用いた熱や圧力等の物理的な刺激に弱い無延伸若しくは一軸延伸フィルムにシワや破断が起こらず、安定した加工を行うことが可能になる。   For the transfer, first, an adhesive layer 33 made of ultraviolet or electron beam curable resin is applied to either the base material side or the transfer foil side, the base material and the transfer foil are bonded together, and an ultraviolet lamp or an electron beam irradiator is used. Then, the transfer substrate is peeled off to obtain a laminate. By using UV or electron beam curable resin for the adhesive layer in this way, wrinkles and breakage did not occur in the unstretched or uniaxially stretched film that is weak against physical stimuli such as heat and pressure used for the substrate, and was stable. Processing can be performed.

接着層は、紫外線若しくは電子線硬化型のアクリレート等の不飽和結合を有するモノマー若しくはオリゴマーを用いたラジカル重合型接着剤を用いる事が好ましい。また、エポキシやオキセタン等を用いたリビング重合型の接着剤を用いることも可能である。これらの接着剤を、マイクログラビア、グラビア、フレキソ等の公知のコーティング方法でコーティングし、接着層とする。また、コーティングはパターン状でも良い。また、硬化速度の遅いリビング重合型の接着剤を用いる場合には、接着層を塗工後、紫外線若しくは電子線を照射してから貼り合わせる工程で行っても良い。   For the adhesive layer, it is preferable to use a radical polymerization type adhesive using a monomer or oligomer having an unsaturated bond such as ultraviolet ray or electron beam curable acrylate. It is also possible to use a living polymerization type adhesive using epoxy, oxetane, or the like. These adhesives are coated by a known coating method such as microgravure, gravure, flexo or the like to form an adhesive layer. The coating may be a pattern. Further, when a living polymerization type adhesive having a slow curing rate is used, the adhesive layer may be applied and then bonded after being irradiated with ultraviolet rays or an electron beam.

こうして得られた積層体の背面に粘着層47を設けることにより、ステッカーを作成することができる。また、基材にカッティングを入れたり、脆性層を形成したりすることにより、貼替え防止機能を付与することが可能である。   By providing the adhesive layer 47 on the back surface of the laminate thus obtained, a sticker can be created. Moreover, it is possible to provide an anti-replacement function by cutting the base material or forming a brittle layer.

また、得られた積層体をマイクロスリットし、紙に一部が見えるように窓開きで漉き込むことで、漉き込み紙を作製することが可能である。   Moreover, it is possible to produce a paper sheet by micro slitting the obtained laminated body and winding it with a window opening so that a part of the paper can be seen.

前記で得られた積層体、ステッカー、漉き込み紙は、セキュリティ媒体若しくは商品パッケージの一部として用いることが可能であり、位相差層を部分ごとに遅相軸の方向が異なるように形成しておけば、積層体、ステッカー、漉き込み紙に偏光フィルムを重ねたとき、潜像が現れ、その物品が新製品か偽造品の判定をすることが可能である。   The laminate, sticker, and interleaving paper obtained above can be used as a part of a security medium or a product package, and the retardation layer is formed so that the direction of the slow axis is different for each part. In this case, when a polarizing film is superimposed on a laminate, a sticker, or a paper sheet, a latent image appears, and it is possible to determine whether the article is a new product or a counterfeit product.

厚さ16μmのPETフィルムにアクリル樹脂からなる剥離層及びウレタン樹脂からなる回折構造形成層をグラビアコーティング法でそれぞれ1μmの厚さでコーティングし、回折構造画像をエンボス成型し、450ÅのAl反射層を真空蒸着法で形成して、ホログラム転写箔を得た。   A 16 μm thick PET film is coated with a release layer made of acrylic resin and a diffractive structure forming layer made of urethane resin to a thickness of 1 μm each by gravure coating, embossed with a diffractive structure image, and a 450 mm Al reflective layer is formed. A hologram transfer foil was obtained by vacuum deposition.

また、40μmの厚さのTACフィルム上に、光配向剤IA−01(大日本インキ化学工業株式会社製)を0.1μmの厚さでマイクログラビアコーティング法を用いてコーティングし、光配向膜として形成した。波長が365nmの直線偏光を用いて、全面に1J/cmの照射量で露光後、フォトマスクを通して1J/cmの照射量でパターン露光した。フィルムにUVキュアラブル液晶UCL−008(大日本インキ化学工業株式会社製)を0.8μmの厚さでマイクログラビアコーティング法を用いて塗布し、熱風で1分間液晶を配向させ、窒素ガス雰囲気下で0.5mJ/cmの照度で硬化し、基材を得た。 Further, on a TAC film having a thickness of 40 μm, a photo-alignment agent IA-01 (manufactured by Dainippon Ink & Chemicals, Inc.) is coated with a thickness of 0.1 μm by using a micro gravure coating method to form a photo-alignment film. Formed. Wavelength using the a 365nm linearly polarized light, post exposure dose of the entire surface 1 J / cm 2, and pattern exposure with irradiation dose of 1 J / cm 2 through a photomask. A UV curable liquid crystal UCL-008 (manufactured by Dainippon Ink & Chemicals, Inc.) was applied to the film with a thickness of 0.8 μm using the microgravure coating method, the liquid crystal was aligned with hot air for 1 minute, and in a nitrogen gas atmosphere It hardened | cured with the illumination intensity of 0.5 mJ / cm < 2 >, and obtained the base material.

前記基材に紫外線硬化型接着剤であるUVフレキソコールドホイル接着剤KR−8をフレキソ印刷機で全面に5μmの厚さでコーティングし、転写箔を張り合わせ、200mJ/cmの光量で硬化後、転写基材を剥離して積層体を得た。 The substrate was coated with UV flexo cold foil adhesive KR-8, which is an ultraviolet curable adhesive, on the entire surface with a flexographic printing machine to a thickness of 5 μm, and a transfer foil was laminated together, and cured with a light amount of 200 mJ / cm 2 . The transfer substrate was peeled off to obtain a laminate.

得られた積層体の背面にアクリル系粘着層を15μmの厚さで塗布し、セパレーターを貼りあわせ、図4に示すステッカーを得た。   An acrylic adhesive layer was applied to the back surface of the obtained laminate with a thickness of 15 μm, and a separator was attached to obtain a sticker shown in FIG.

こうして得られたステッカーは、熱や圧力によるダメージがない良質なものであった。また、見た目はホログラムステッカーであるが、偏光フィルムを重ねた際にはコントラストの高い潜像が現れ、真偽判定が可能であった。   The sticker thus obtained was of a good quality without damage caused by heat or pressure. Moreover, although it looks like a hologram sticker, a latent image with a high contrast appeared when a polarizing film was overlaid, and it was possible to determine authenticity.

基材側に位相差層を設けた場合の基材と転写箔とを示す断面図である。It is sectional drawing which shows the base material and transfer foil at the time of providing a phase difference layer in the base material side. 転写箔側に位相差層を設けた場合の基材と転写箔とを示す断面図である。It is sectional drawing which shows the base material and transfer foil at the time of providing a phase difference layer in the transfer foil side. 本発明に用いられる転写加工機の概略図である。It is the schematic of the transfer processing machine used for this invention. 本発明の積層体を用いたステッカーの断面図である。It is sectional drawing of the sticker using the laminated body of this invention.

符号の説明Explanation of symbols

11、41基材
12、24、43 位相差層
2 転写箔
21 転写基材
22、46 剥離層
23、44 反射層
31 基材巻出
32 基材巻取
33 接着層塗工
34 転写箔巻出
35 転写箔巻取
36 UVランプ
42 接着層
45 回折構造形成層
47 粘着層
48 セパレーター
11, 41 Base material 12, 24, 43 Phase difference layer 2 Transfer foil 21 Transfer base material 22, 46 Release layer 23, 44 Reflective layer 31 Substrate unwinding 32 Base material winding 33 Adhesive layer coating 34 Transfer foil unwinding 35 Transfer foil winding 36 UV lamp 42 Adhesive layer 45 Diffraction structure forming layer 47 Adhesive layer 48 Separator

Claims (11)

基材と、
該基材の平面方向に遅相軸を有する位相差層と、
紫外線若しくは電子線硬化型樹脂からなる接着層と、
反射層と剥離層とを含む転写箔と、をこの順に積層したことを特徴とする積層体。
A substrate;
A retardation layer having a slow axis in the planar direction of the substrate;
An adhesive layer made of ultraviolet or electron beam curable resin;
A laminated body comprising a transfer foil including a reflective layer and a release layer laminated in this order.
基材と、
紫外線若しくは電子線硬化型樹脂からなる接着層と、
該基材の平面方向に遅相軸を有する位相差層、反射層及び剥離層を含む転写箔と、をこの順に積層したことを特徴とする積層体。
A substrate;
An adhesive layer made of ultraviolet or electron beam curable resin;
A laminate comprising a retardation layer having a slow axis in the planar direction of the substrate, a transfer foil including a reflective layer and a release layer, which are laminated in this order.
前記基材が、光学異方性をもたないことを特徴とする請求項1又は2に記載の積層体。   The laminate according to claim 1 or 2, wherein the substrate does not have optical anisotropy. 前記基材が、遅相軸方向及び位相差値がコントロールされた基材であることを特徴とする請求項1又は2に記載の積層体。   The laminate according to claim 1 or 2, wherein the base material is a base material in which a slow axis direction and a retardation value are controlled. 前記反射層が、回折構造を有していることを特徴とする請求項1乃至4のいずれか1に記載の積層体。   The laminate according to claim 1, wherein the reflective layer has a diffractive structure. 前記転写箔は前記剥離層を最外層とし、該剥離層側にさらに粘着層を積層してなることを特徴とする請求項1乃至5のいずれか1に記載の積層体。   The laminate according to any one of claims 1 to 5, wherein the transfer foil has the release layer as an outermost layer, and an adhesive layer is further laminated on the release layer side. 請求項1乃至6のいずれか1に記載の積層体を紙材に漉き込んだ用紙。   A paper in which the laminate according to any one of claims 1 to 6 is rolled into a paper material. 基材上に、該基材の平面方向に遅相軸を有する位相差層を形成する工程と、
該基材と該位相差層からなる層のどちらか一方の面に紫外線若しくは電子線硬化型樹脂からなる接着層を塗布する工程と、
該接着層を塗布した面に、反射層、剥離層及び転写基材を含む転写箔を貼り合わせる工程と、
該接着層を紫外線若しくは電子線を用いて硬化する工程と、
該転写基材を剥離する工程と、を含むことを特徴とする積層体の製造方法。
Forming a retardation layer having a slow axis in the planar direction of the substrate on the substrate;
Applying an adhesive layer made of an ultraviolet ray or an electron beam curable resin to either one of the base material and the phase difference layer;
Bonding the transfer foil containing the reflective layer, the release layer and the transfer substrate to the surface to which the adhesive layer is applied; and
Curing the adhesive layer using ultraviolet light or electron beam;
And a step of peeling off the transfer substrate.
基材上に、該基材の平面方向に遅相軸を有する位相差層を形成する工程と、
反射層、剥離層及び転写基材を含む転写箔の転写面に、紫外線若しくは電子線硬化型樹脂からなる接着層を塗布する工程と、
該転写箔を該接着層を介して該位相差層を形成した該基材の一方の面に貼り合わせる工程と、
該接着層を紫外線若しくは電子線を用いて硬化する工程と、
該転写基材を剥離する工程と、を含むことを特徴とする積層体の製造方法。
Forming a retardation layer having a slow axis in the planar direction of the substrate on the substrate;
Applying an adhesive layer made of ultraviolet or electron beam curable resin to the transfer surface of the transfer foil including the reflective layer, the release layer, and the transfer substrate;
Bonding the transfer foil to one surface of the substrate on which the retardation layer is formed via the adhesive layer;
Curing the adhesive layer using ultraviolet light or electron beam;
And a step of peeling off the transfer substrate.
転写基材上に、少なくとも剥離層、反射層、及び該転写基材の平面方向に遅相軸を有する位相差層を具備する転写箔を作成する工程と、
基材上に紫外線若しくは電子線硬化型樹脂からなる接着層を塗布する工程と、
該基材の接着層を塗布した面に、転写箔を貼り合わせる工程と、
該接着層を紫外線若しくは電子線を用いて硬化する工程と、
該転写基材を剥離する工程と、を含むことを特徴とする積層体の製造方法。
On the transfer substrate, creating a transfer foil comprising at least a release layer, a reflective layer, and a retardation layer having a slow axis in the planar direction of the transfer substrate;
Applying an adhesive layer made of ultraviolet or electron beam curable resin on the substrate;
Bonding the transfer foil to the surface of the substrate on which the adhesive layer is applied;
Curing the adhesive layer using ultraviolet light or electron beam;
And a step of peeling off the transfer substrate.
転写基材上に、少なくとも剥離層、反射層、及び該転写基材の平面方向に遅相軸を有する位相差層を具備する転写箔を作成する工程と、
該転写箔の転写面に紫外線若しくは電子線硬化型樹脂からなる接着層を塗布する工程と、
該接着層を塗布した面に基材を貼り合わせる工程と、
該接着層を紫外線若しくは電子線を用いて硬化する工程と、
転写基材を剥離する工程と、を含む積層体の製造方法。
On the transfer substrate, creating a transfer foil comprising at least a release layer, a reflective layer, and a retardation layer having a slow axis in the planar direction of the transfer substrate;
Applying an adhesive layer made of ultraviolet or electron beam curable resin to the transfer surface of the transfer foil;
Bonding the substrate to the surface to which the adhesive layer has been applied;
Curing the adhesive layer using ultraviolet light or electron beam;
And a step of peeling the transfer substrate.
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